纳米联用系统

布鲁克TI 980高精度纳米力学测试系统是布鲁克公司研制的自动化、高通量的测试仪器，可以用来表征材料多项纳米力学性能，包括硬度、弹性模量、摩擦系数、磨损率、破裂韧性、失效、蠕变、粘附力（结合力）等力学数据。高性能的样品加载系统和工艺领先的专利技术三板电容传传感技术赋予仪器超高的稳定性和广泛的应用领域，支持多种类型的不同形状和尺寸的样品。在薄膜、陶瓷、复合物、聚合物、微机电系统、生物和金属等领域都有广泛应用。后续可选择升级模块有高温台、电学性能测试、湿度控制模块、冷台、与拉曼连用等，TI980是最多样化的纳米力学表征工具，是高校、研究所及工业界用户的最佳选择。

首创、独有的纳米红外功能和性能Bruker公司推出的Dimension IconIR是一款集合了纳米级红外光谱（nanoIR）技术和扫描探针显微镜（SPM）技术的系统。它整合了数十年的技术创新和研究成果，可以在单一平台上提供无与伦比的纳米级红外光谱、物理和化学性能表征。该系统具有超高的单分子层灵敏度和化学成像分辨率，在保留DimensionIcon最佳的AFM测量能力的同时，还提供了极大的样品尺寸灵活性。Dimension IconIR利用Bruker独有的PeakForce Tapping纳米级物性表征技术和专利的纳米红外光谱技术，使得它能够在纳米尺度下对样品进行纳米化学、纳米电学和纳米力学的关联性表征。只有Dimension IconIR具备：与FTIR完全吻合的红外光谱，优于10 nm的空间分辨率和单分子层灵敏度的高性能纳米红外光谱化学成像可与Peakforce Tapping纳米力学和纳米电学属性表征相关联高性能的AFM成像功能和极大的样品尺寸灵活性广泛适用的应用配件和AFM功能模式专利技术保证真实的红外吸收光谱AFM-IR通过采集样品的热膨胀信号（PTIR）还原样品的红外吸收光谱。由于检测区域的热膨胀只与样品在该波长下的吸收强度有关，而常规的傅里叶红外光谱（FTIR）检测的也是样品在该波长下的吸收强度，因此AFM-IR获得的红外吸收光谱与传统的红外吸收光谱高度吻合。红外吸收成像除采集指定区域的红外吸收光谱外，Dimension IconIR同时提供了固定红外脉冲波长，检测样品表面某一区域在该波长下吸收强度的功能。在该工作模式下，Dimension IconIR会将红外脉冲激光固定在研究者所选的波长，用AFM探针扫描需要检测的表面，记录探针针尖在每个位置检测到的红外吸收强度，并同时给出AFM形貌和该波长下的红外吸收成像。专利保护的接触共振技术专利保护的共振增强技术将测量灵敏度提高到单分子层级别，达到最高的光谱检测灵敏度。因为基于原子力系统的红外技术是以探针来检测样品表面在红外激光作用下的机械振动，随着厚度的减小，这种位移量变得极其微小，超出了原子力显微镜的噪音极限。我们利用专利保护的可调频激光优化脉冲信号频率，使之与探针和样品的接触共振频率吻合，那么这种单谐振子共振模式就能把微弱信号放大两个数量级。。智能光路优化调整，保证实验效率红外激光和AFM联用系统的最大挑战在于光路的优化，为了得到最佳的信号，在实验过程中光斑中心应该始终跟随探针针尖位置并保持良好的聚焦。但是在调频过程中，激光光束的发射角度会随着波长的变化而改变，进而改变光斑位置，聚焦状态也会变化。布鲁克采用全自动软件控制automatic beam steering和自动聚焦系统来修正光斑位置的偏移和聚焦，大大改善了传统联用系统需要手动调节的不便和低效率。同时全自动动态激光能量调整保证信号的稳定性，避免红外信号受激光不均匀功率的影响。

布鲁克Hysitron TI Premier高精度纳米力学测试系统是布鲁克公司研制的自动化、高通量测试仪器，通过纳米级位成像，可实现压痕、划痕和磨损过程的纳米尺度原位可视化表征。Hysitron（海思创）应用其工艺领先的专利技术“三板电容传导”，从源头上保证了仪器稳定性和灵敏度。使用Hysitron（海思创）纳米力学材料检测系统通过探针可以获得材料微区的硬度、弹性模量、摩擦系数、磨损率、断裂刚度、失效、蠕变、粘附力（结合力）等力学数据。后续可选择升级模块有高温台、电学性能测试、湿度控制模块、冷台、与拉曼连用等。不仅在微纳米水平上开展力学行为特性的研究，还可以进行纳米尺寸上的机械加工。

Hysitron BioSoft生物型纳米压痕仪 布鲁克的Hysitron BioSoft纳米压痕仪是专门设计用于生物材料和软质（如水凝胶）多尺度定量机械测试的仪器。BioSoft 同步强大的力学和光学表征技术，以全面了解生物材料的力学性能。此便携式系统与现有的倒置光学显微镜联用，将先进的生物力学测试功能引入实验室。定量力学性能测量提供独特的力灵敏度和位移范围组合，专门设计用于测量从亚细胞到组织水平的生物样品。兼容性测试灵活性轻松与倒置显微镜集成，以表征各种生物材料。先进生物力学控制模块在单个测试中实现不同控制，包括载荷、位移和开环控制。

产品简介：布鲁克的海思创TI 980 TriboIndenter同时具有最高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。基于海思创几十年的技术创新，它为纳米力学表征带来了更高水平的性能、功能和易用性。TI 980达到了一台优异纳米力学测试仪器所需的所有要求，实现了控制上突出的先进性和高效性，试验上的灵活度与可实现性，测量稳定性，以及系统设计的模块化。产品参数：TI 980xSol环境控制腔与载台环境控制腔实现了定量纳米力学性能和纳米摩擦学特征随着温度、气氛和湿度的变化。nanoECR纳米压痕测试的原位导电特性可以和纳米力学性能,材料形变行为和接触电阻等同步研究。xProbe基于MEMS传感器的探针可以实现原子力显微镜级别的超低力和位移噪音水平。iTE专利的原位薄膜力学性能分析包提供了排除基底效应影响的薄膜和多层膜结构的定量力学性能。3D OmniProbe和多量程NanoProbe通过扩展力和位移测量量程实现微米尺度的力学和摩擦学特性表征。同步拉曼光谱原位研究力学性能和摩擦学特性与材料结构和化学成分的相关性。模量成像动态扫描纳米压痕模式提供材料表面的定量、高分辨模量分布。荧光显微镜联用集成荧光显微镜可实现荧光共定位纳米力学测试等。电化学模块实现氧化和还原环境下的原位定量纳米力学和纳米摩擦学行为研究。自动探针更换模块按钮操作的自动探针更换模块。样品台多尺度的磁性、机械和真空固定方式可以固定几乎所有待测样品，包括300mm晶圆。TriboAE TM声音传感器能通过针尖原位监测纳米压痕过程中的断裂和形变产生的声音信号。Tribolmage TM纳米尺度划痕/磨损的实时表征。产品特点：简洁、高速的自动控制针尖面积函数自动校正 传感器自动校正 压针和光学系统校正自动测试程序快速、多样品自动测试功能实现高通量表征 智能化自动程序确保用户选择正确的针尖 高分辨多尺度成像结合全尺寸样品的光学搜索，极大简化测试流程实现真正纳米尺度表征从微米到几个纳米的多尺度测量 纳牛级别的力噪音水平和小于90%原子直径的位移测量能力，实现几乎任何材料的定量表征 系统可实现超过6个数量级的力测量和10个数量级的位移测量 力和位移噪音水平保证在客户现场安装时实现精准控制测试过程实现最大精度、可信度和重复性的真正定量纳米力学和纳米摩擦学表征 特殊的力和位移反馈控制方法用于海思创的传感器-专门针对海思创传感器物理特性开发的力与位移反馈控制算法 每隔0.013毫秒实现一次完整反馈控制，使得系统能测量快速瞬态过程，并对其作出反馈，真正实现用户的测试意图-每隔0.013毫秒实现一次完整的感知-分析-控制的循环，使得系统能对瞬态过程进行测量与反馈，以此重现用户定义的测试方式强大的测试模块配置

neaSCOPE纳米光谱与成像系统neaSCOPE是德国neaspec公司推出的全新一代散射式近场光学显微镜（简称s-SNOM），加载了全新技术，拓展了产品功能，以满足客户多样的实验需求。基于化的散射式核心设计技术，neaSCOPE大地提高了光学分辨率，并且不依赖于入射激光的波长，能够在可见、红外和太赫兹光谱范围内，提供优于10 nm空间分辨率的光谱和近场光学图像。neaSCOPE同时支持s-SNOM功能与纳米红外（FTIR）、针增强拉曼（TERS）、超快光谱（Ultrafast）和太赫兹光谱（THz）进行联用，实现高分辨光谱和成像。由于其高度的可靠性和可重复性，neaSCOPE已成为纳米光学领域热点研究方向的选科研设备，在等离子激元、二维材料声子化、半导体载流子浓度分布、生物材料红外表征、电子激发及衰减过程等众多研究方向得到了许多重要科研成果。设备特点：行业的针增强技术，高质量的纳米分析实验数据。功能多样、可靠性高，已得到大量发表文章的印证，在纳米光学领域有很深的影响力，是国内外实验室的头号选择。软件使用方便，提供交互式用户引导功能，新用户也能快速上手。流程化的软件界面，逐步引导用户轻松完成实验操作。采用模块化设计，针对用户的实验需求量身定制配置，同时兼顾未来的升需求，无需重复购置主机。s-SNOM基本原理：一个被照明的颗粒会在其周围形成增强的光场，而这个近场会被其附近的样品改变，这种近场互相作用会导致在远场接受到的散射光带有样品局部的光学性质。当一束激光（可见，红外、太赫兹）聚焦到一个标准金属涂层AFM针上时，会在针点形成一个比激发波长小几千倍，尺寸只由针曲率半径决定的纳米焦点。这个纳米焦点别用来局部探测样品，通过记录探针扫描样品过程中的散射光可以获得近场光学成像。设备型号：所有产品都包含支持红外、太赫兹和可见光波长范围的纳米尺度成像和光谱的化订制AFMIR-neaSCOPE基于AFM 针的激光诱导光热膨胀（PTE+）的纳米红外成像和光谱。VIS-neaSCOPE+s局部电磁场偏振分辨的近场成像（振幅和相位）。IR-neaSCOPE+s探测商用AFM针的弹性散射光，实现纳米红外成像和光谱。cryo-neaSCOPE+xs低温环境下的纳米尺度光学成像和光谱THz-neaSCOPE+xs纳米尺度太赫兹(THz)近场成像和光谱平台IR-neaSCOPE+fs10fs 时间分辨率和 10nm 空间分辨率的超快泵浦光谱。IR-neaSCOPE+TERsnano-FTIR与nano-PL和TERS相结合，突破性的纳米尺度光谱探测技术。Comparison Table参考不同型号功能，选择适合您研究需求的neaSCOPE。标准原子力显微镜功能光热膨胀功能轻敲式原子力红外吸收光谱散射式近场光学成像与光谱近场透射模式纳米傅里叶红外光谱与成像近场泵浦-探测高速全息成像纳米太赫兹时域光谱针增强拉曼/纳米光致发光开尔文探针力、导电力、压电力、探针力显微功能Available for all room-T systems共聚焦显微功能Upgrade Available

首创、独有的纳米红外功能和性能Bruker公司推出的Dimension IconIR是一款集合了纳米级红外光谱（nanoIR）技术和扫描探针显微镜（SPM）技术的系统。它整合了数十年的技术创新和研究成果，可以在单一平台上提供无与伦比的纳米级红外光谱、物理和化学性能表征。该系统具有超高的单分子层灵敏度和化学成像分辨率，在保留DimensionIcon最佳的AFM测量能力的同时，还提供了极大的样品尺寸灵活性。Dimension IconIR利用Bruker独有的PeakForce Tapping纳米级物性表征技术和专利的纳米红外光谱技术，使得它能够在纳米尺度下对样品进行纳米化学、纳米电学和纳米力学的关联性表征。只有Dimension IconIR具备：与FTIR完全吻合的红外光谱，优于10 nm的空间分辨率和单分子层灵敏度的高性能纳米红外光谱化学成像可与Peakforce Tapping纳米力学和纳米电学属性表征相关联高性能的AFM成像功能和极大的样品尺寸灵活性广泛适用的应用配件和AFM功能模式专利技术保证真实的红外吸收光谱AFM-IR通过采集样品的热膨胀信号（PTIR）还原样品的红外吸收光谱。由于检测区域的热膨胀只与样品在该波长下的吸收强度有关，而常规的傅里叶红外光谱（FTIR）检测的也是样品在该波长下的吸收强度，因此AFM-IR获得的红外吸收光谱与传统的红外吸收光谱高度吻合。红外吸收成像除采集指定区域的红外吸收光谱外，Dimension IconIR同时提供了固定红外脉冲波长，检测样品表面某一区域在该波长下吸收强度的功能。在该工作模式下，Dimension IconIR会将红外脉冲激光固定在研究者所选的波长，用AFM探针扫描需要检测的表面，记录探针针尖在每个位置检测到的红外吸收强度，并同时给出AFM形貌和该波长下的红外吸收成像。专利保护的接触共振技术专利保护的共振增强技术将测量灵敏度提高到单分子层级别，达到最高的光谱检测灵敏度。因为基于原子力系统的红外技术是以探针来检测样品表面在红外激光作用下的机械振动，随着厚度的减小，这种位移量变得极其微小，超出了原子力显微镜的噪音极限。我们利用专利保护的可调频激光优化脉冲信号频率，使之与探针和样品的接触共振频率吻合，那么这种单谐振子共振模式就能把微弱信号放大两个数量级。。智能光路优化调整，保证实验效率红外激光和AFM联用系统的最大挑战在于光路的优化，为了得到最佳的信号，在实验过程中光斑中心应该始终跟随探针针尖位置并保持良好的聚焦。但是在调频过程中，激光光束的发射角度会随着波长的变化而改变，进而改变光斑位置，聚焦状态也会变化。布鲁克采用全自动软件控制automatic beam steering和自动聚焦系统来修正光斑位置的偏移和聚焦，大大改善了传统联用系统需要手动调节的不便和低效率。同时全自动动态激光能量调整保证信号的稳定性，避免红外信号受激光不均匀功率的影响。

布鲁克Hysitron TI Premier高精度纳米力学测试系统是布鲁克公司研制的自动化、高通量测试仪器，通过纳米级位成像，可实现压痕、划痕和磨损过程的纳米尺度原位可视化表征。Hysitron（海思创）应用其工艺技术“三板电容传导”，从源头上保证了仪器稳定性和灵敏度。使用Hysitron（海思创）纳米力学材料检测系统通过探针可以获得材料微区的硬度、弹性模量、摩擦系数、磨损率、断裂刚度、失效、蠕变、粘附力（结合力）等力学数据。后续可选择升级模块有高温台、电学性能测试、湿度控制模块、冷台、与拉曼连用等。不仅在微纳米水平上开展力学行为特性的研究，还可以进行纳米尺寸上的机械加工。

——纳米力学和纳米摩擦学测试系统，加速纳米力学研究进入更高阶段。布鲁克的海思创TI 980 TriboIndenter同时具有良好的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。基于海思创几十年的技术创新，它为纳米力学表征带来了更高水平的性能、功能和易用性。TI 980达到了一台优异纳米力学测试仪器所需的所有要求，实现了控制上突出的先进性和高效性，试验上的灵活度与可实现性，测量稳定性，以及系统设计的模块化。先进的Performech II控制模块和电子设计高性能的高速闭环控制业界噪音控制集成的带输入/输出信号的多参数控制五百倍于前代产品的力学测试速度多维度测量耦合充分优化各个传感器的特质适用不同测量需要，通过多维传感器的选择实现不同测量间的无缝耦合多种有效的测试模块配置，包括纳米/微米压痕、纳米划痕、纳米摩擦磨损、高分辨原位扫描探针显微镜成像、动态纳米压痕和高速力学性能成像等。丰富的系统控制和数据分析软件TriboScan(TM) 10提供了创新性的控制功能，包括XPM超快纳米压痕，SPM+原位扫描探针显微镜成像，动态表面搜索，全自动系统校准和创新的测试程序。Tribo iQ (TM)提供了强大的数据处理、分析和画图功能，并具有可编程数据分析模块和自动生成的定制测试报告功能。极大的灵活性和具有前瞻性的表征潜质布鲁克纳米压痕仪Ti 980提供了多级别的防护罩提供了超强环境隔绝能力，并具有用于将来的升级可扩展接口样品台提供了机械、磁性和真空固定方式，适用于各种样品。始终处于材料研究和开发的最前沿海思创从1992年起就在全球范围内处于纳米力学和纳米摩擦学表征的位置。通过与研究人员和工程师的持续合作，布鲁克理解您的独特需求，通过创新的技术帮助您解决当下和将来面临的材料挑战。海思创TI 980 TriboIndenter是这些努力的集大成者。它提供了卓越的性能，能满足您持续更新的材料表征需求。简洁、高速的自动控制——系统自动校正使得每次测试都无懈可击针尖面积函数自动校正传感器自动校正压针和光学系统校正自动测试程序快速、多样品自动测试功能实现高通量表征智能化自动程序确保用户选择合适的针尖高分辨多尺度成像结合全尺寸样品的光学搜索，极大简化测试流程低的噪音水平，实现真正纳米尺度表征从微米到几个纳米的多尺度测量纳牛级别的力噪音水平和小于90%原子直径的位移测量能力，实现几乎任何材料的定量表征系统可实现超过6个数量级的力测量和10个数量级的位移测量力和位移噪音水平保证在客户现场安装时实现最快的反馈控制速率布鲁克纳米压痕仪Ti 980精确控制测试过程实现精度、可信度和重复性的真正定量纳米力学和纳米摩擦学表征特殊的力和位移反馈控制方法用于海思创的传感器-专门针对海思创传感器物理特性开发的力与位移反馈控制算法每隔0.013毫秒实现一次完整反馈控制，使得系统能测量快速瞬态过程，并对其作出反馈，真正实现用户的测试意图-每隔0.013毫秒实现一次完整的感知-分析-控制的循环，使得系统能对瞬态过程进行测量与反馈，以此重现用户定义的测试方式强大的测试模块配置，放大化您的表征潜能自下而上的先进设计提供了世界zui xian jin的纳米力学测试系统实现最丰富的潜在测试能力Performech II高级控制模块精确控制纳米力学测试过程力和位移噪音水平实现测量精度和重复性超快反馈控制算法提供整个测试过程的精确控制专为各种不同测试而开发的一整套高性能传感器多达24个通道的数据采集能力，每个通道都能同时达到1.2MHz采样率多个测试头的耦合——一整套传感器适用于各种测试任务任意两个测头之间无缝连接标配二维传感器和nanoDMA III传感器实现系统的多种测试功能和高性能多种有效的测试模块配置纳米压痕：硬度，模量，蠕变，应力弛豫，断裂韧性、高速力学性能成像纳米摩擦：薄膜结合力，摩擦系数，抗划擦性能，磨损扫描探针显微镜成像：形貌和梯度成像，纳米级别定位精度，摩擦力成像动态纳米压痕：随着深度连续测量硬度和模量，存储模量，损失模量，损耗角正切布鲁克纳米压痕仪Ti 980nanoDMA III：动态纳米压痕布鲁克的nanoDMA III是强大的动态纳米压痕技术。它提供了弹/塑性和粘弹性随着压入深度、频率和时间的变化关系。全面表征各种材料的普适性方法，从较软的聚合物到硬质镀层都能适用；集成直流和交流调制使得从初始接触点开始就能实现纳米尺度动态性能的可靠、定量表征；原位参考频率法校正温漂使得长时间测试的精度大大提高。XPM：快速力学性能成像不论是测量分辨率和精度，还是测量速度，XPM都是纳米力学测试的业界新标杆。有了XPM，原来可能需要一整年才能获得的数据，现在只需要一个下午就能获得。这些性能是通过以下三个技术实现的。1）高带宽静电激励传感器；2）快速控制和数据采集电子系统；3）自上而下的原位扫描探针显微镜成像。这些技术联用能实现每秒六次纳米压痕测试，从而获得全面的定量纳米力学性能图谱以及性能分布的统计数据。更少时间测量更多参数超高速定量力学性能测量（每秒6次测量）快速、高分辨空间硬度和模量分布统计一分钟内可靠完成针尖函数自动校正；比传统纳米压痕测试快500倍的数据采集速率 xSol 环境控制腔及载台，可实现极端环境条件下高通量测量。SPM+实现纳米力学测试前后的准确原位成像布鲁克首创的扫描纳米压痕技术使用同一根探针实现样品表面形貌成像和纳米压痕测试。这种方法实现了定位精度，并且可以在纳米压痕测试后立即对样品塑性形变进行成像，加快测试速度。高定位精度（+/-10nm）——可以从64x64到4096x4096范围内设定扫描分辨率，可以对各种高长宽比的特征形貌进行不同X-Y分辨率成像，纳米力学性能成像分辨率和调色板，可以和摩擦力成像，nanoDMA III，nanoECR和xSol环境控制腔等联用强大的系统控制和分析TriboScan 10：强大的测试灵活性提供了无限的测试可能性将布鲁克纳米压痕全套测试技术集成到一个直观的软件内，基于标签页架构的软件设计使得用户可以方便的使用软件功能，灵活的测试过程分段定义方法提供了适用于所有测试模式的优异控制TriboIQ: 可编程数据分析程序易用的操作界面，从简单到复杂的可定制数据分析包直观的数据组织和分析流程，简单点击即可生成数据报告直观可自定义的数据处理和分析模块开放式架构使得多用户合作更加容易海思创TI980升级选项xSol环境控制腔与载台环境控制腔实现了定量纳米力学性能和纳米摩擦学特征随着温度、气氛和湿度的变化。nanoECR纳米压痕测试的原位导电特性可以和纳米力学性能，材料形变行为和接触电阻等同步研究。xProbe基于MEMS传感器的探针可以实现原子力显微镜级别的超低力和位移噪音水平。iTF专利的原位薄膜力学性能分析包提供了排除基底效应影响的薄膜和多层膜结构的定量力学性能。3D OmniProbe和多量程通过扩展力和位移测量量程实现微米尺度的力学和摩擦学特性表征。NanoProbe同步拉曼光谱原位研究力学性能和摩擦学特性与材料结构和化学成分的相关性。模量成像动态扫描纳米压痕模式提供材料表面的定量、高分辨模量分布。荧光显微镜联用集成荧光显微镜可实现荧光共定位纳米力学测试等。电化学模块实现氧化和还原环境下的原位定量纳米力学和纳米摩擦学行为研究。自动探针更换模块按钮操作的自动探针更换模块。样品台多尺度的磁性、机械和真空固定方式可以固定几乎所有待测样品，包括300mm晶圆。TriboAE&trade 声音传感器能通过针尖原位监测纳米压痕过程中的断裂和形变产生的声音信号。TriboImage&trade 纳米尺度划痕/磨损的实时表征。

科研用CNI v3.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型；&bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光；&bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准；&bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

美国K-T公司是全球微纳米力学测试设备技术的开创者，全球第一台纳米力学测试系统于上世纪80年代初在公司前身诞生，多种测量方法和物理模型来自该公司。经过近40年不断努力和改进，该公司微纳米力学测试不仅实现了静态到动态的测试，同时实现了与光学、电学等设备连用的原位材料力学、微结构学甚至成份学的多手段原位测试功能。当前国标已经引入该公司专利的CSM连续刚度技术，在该领域具有很高的权威性。K-T在连续刚度（CSM）、高分辨、扫描成像、快速测试方面拥有独特技术。K-T是该领域著名跨国公司，中国设有地区总部，拥有最专业的技术支持和售后服务人员。更多信息，请联系我们以探讨您的需求。

产品简介：布鲁克Hysitron TI Premier高精度纳米力学测试系统是布鲁克公司研制的自动化、高通量测试仪器，通过纳米级位成像，可实现压痕、划痕和磨损过程的纳米尺度原位可视化表征。Hysitron（海思创）应用其工艺技术“三板电容传导”，从源头上保证了仪器稳定性和灵敏度。使用Hysitron（海思创）纳米力学材料检测系统通过探针可以获得材料微区的硬度、弹性模量、摩擦系数、磨损率、断裂刚度、失效、蠕变、粘附力（结合力）等力学数据。后续可选择升级模块有高温台、电学性能测试、湿度控制模块、冷台、与拉曼连用等。不仅在微纳米水平上开展力学行为特性的研究，还可以进行纳米尺寸上的机械加工。产品参数：TI Premier纳米压痕正常负载范围： 75 nN至10 mN（可选 30 mN）正常位移范围:0.2 nm至5μmNanowear正常负载范围:100nN至1 mN磨损盒尺寸:4µ m - 60µ m原位SPM成像成像力： ＜100 nN最大扫描体积 ：＞60 µ m x 60 µ m x 4 µ m电动平台行程：50mm x 150 mm分辨率 50 nm纳米刮痕通过法向力和侧向力/位移监测，量化耐刮性/损伤性、薄膜附着力和摩擦系数xSol环境控制腔与载台400°C和600°C阶段，用于在非环境温度和可定制气氛下进行材料研究nanoDMA III动态力学分析，能够连续测量作为接触深度、频率和时间函数的弹塑性和粘弹性特性nanoECR原位导电纳米压痕，以关联纳米机械性能、材料变形行为和电接触电阻xProbe刚性探针MEMS换能器，可提供通常与AFM相关的超低力和位移噪声基底多量程纳米探针力和位移测试范围扩大的传感器，用于深度感应微压痕模量成像动态扫描纳米压痕模式提供材料表面的定量、高分辨模量分布电化学模块实现氧化和还原环境下的原位定量纳米力学和纳米摩擦学行为研究样品台多尺度的磁性、机械和真空固定方式可以固定几乎所有待测样品TriboAE&trade 声音传感器能通过针尖原位监测纳米压痕过程中的断裂和形变产生的声音信号产品特点：含针对特定应用的特性分析包准静态纳米压痕软件包优化薄膜和非均质材料的纳米力学表征和非均质材料动态特性分析软件包准静态和动态机械性能从超软到超硬的各种材料进行表征高温特性分析软件包研究机械性能和随时间变化的随温度变化的变形行为多种长度秤组件纳米和微米长度尺度上的深度传感压痕

桌面型纳米印系统，优异的设计理念，专门针对大学实验室、研究所微纳米加工研究设计，配备温度控制和低压控制系统，使用方便，性能稳定可靠；同时配合专业设计的压印模板，可实现各种微纳米图形加工，特征线宽小于20nm；主要特点：1.桌面型设计；2.热压印技术；3.UV压印技术；3.模板整合温度控制；4.快速升温、快速降温，大大缩短热循环加工周期；5.低压控制技术；6.自动压入、脱模设计；7.适用于各种微纳米加工研究（2inch~4inch，其他定制）；8.特征线宽小于20nm；安装要求：1.真空0.4 to 0.8 bar（实验室真空要求），流速至少1mL/min；2.压缩空气或压缩氮气6-10 bar；3.电源：110-240V (50-60 Hz, larger than 200W)；

v 兼容基底尺寸：直径≤100mmv 支持基底材料：硅片、玻璃、石英、塑料、金属等v 纳米压印技术：旋涂胶基底高精度压印&点胶自动找平压印、旋涂胶基底压印、点胶自动找平压印模式v 压印精度：优于10nmv 结构深宽比：优于10：1v 残余层控制：可小于10nm 微米级TTV控制精度v 紫外固化光源：紫外LED（365nm）面光源，光强300mW/cm2v 自动压印/自动脱模/自动工作模具复制/主动找平压印/模自动点胶：支持v 模具基底对位系统：手动对位（选配）v 上下片方式：手动上下片随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构、微透镜阵列、匀光片结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平

先进的设计 所有的纳米压痕试验都取决于精确的加载和位移数据，要求对加载到样品上的载荷有精确的控制。是德科技最新的第五代G200型纳米压痕仪采用电磁驱动的载荷装置，从而保证测量的精确度，独特的设计避免了横向位移的影响。 是德科技最新的第五代G200型纳米压痕仪的杰出设计带来很多的便利性，包括方便的测试到整个样品台，精确的样品定位，方便的确定样品位置和测试区域，简便的样品高度调整，以及快速的测试报告输出。模块化的控制器设计为今后的升级带来极大的方便。 此外，最新的第五代G200型纳米压痕仪完全符合各种国际标准，保证了数据的完整性。客户可以通过每个力学传感器自主设计试验，在任何时候对其进行切换，同时整个设备占地面积小，适合各种实验室环境。NanoSuite的特点和优势 经过近40年的发展，NanoSuite已经成为业内公认的界面友好、操作简便、功能齐全的数据采集和处理软件包，NanoSuite不仅可以自动测试，也可以使用户利用网络远程遥控进行实验控制，NanoSuite不仅能够做到压入过程中硬度和弹性模量等力学性能的实时计算和显示，同时允许用户根据自己的研究需求以及提出的新模型随时添加新的软件通道，此外，根据实验参量的变化快慢能够自动调整数据的采集速率，实现了智能化的数据采集功能，从而既获得您真正需要的数据，又可避免不必要的垃圾数据。– 极其灵活、精确的数据采集和控制– 不断更新的测试方法– 最新的批处理测试功能– 新型的2D 图形输出功能– 测试数据更有效的分析功能– PDF测试数据的直接输出– 优越的自我定制测试模型的建立– 非常方便的个性化测试方法的建立– 功能齐全完善的图像处理功能– 用户可轻松便捷的编辑自己的测试方法已满足特殊的应用与需求– 定制化的测试方法同样可满足ISO 14577国际标准– 可提供专业的建模和仿真软件，帮助用户实现特殊的离线研究需要– Windows 10操作系统增强的载荷加载系统新一代G200型纳米压痕仪是具有从纳牛到牛顿最为完整的加载力范围，并且不同的加载装置可自动软件切换，整个测试流程都是全自动的，极大的提高了测试数据的可靠性和可重复性，避免了可能的人为因素的影响，确保每个测试都是合理、一致、精确。标准的加载装置G200型纳米压痕仪标准配置是XP加载系统（最大为500mN）, 位移分辨率 0.01纳米，最大压入深度 500微米,该装置可应用到所有的测试功能。压头更换轻松完成，非常好的机架刚度极大的减少了系统对测试的影响。高精度加载装置DCM II 是高分辨的纳米纳牛力加载模块，它既可以单独工作，也可以作为一个附件与G200协同工作。由于其惯性质量很低，使得纳米压痕中的初始表面的选取更加灵敏、精确， DCM II 在超低载荷下的纳米压痕测试具有极高的精确度和可重复性，由于它自身的空载共振频率远高于一般建筑物的振动频率，这就使得一般的环境振动对它几乎没有影响，DCM II 具有很宽的动态频率范围(0.1 Hz 到 300 Hz)，所有这些特点使得 DCM II 可以提供同类设备不可比拟的高信噪比和高可靠性的试验数据，例如右图所示的蓝宝石上三个纳米深度的压痕测试，在几个纳米的压痕深度范围内获得了非常可靠的弹性模量。大载荷加载装置是德科技的大载荷加载选件，大大强化了G200型纳米压痕仪的应用范围。这个选件可以用于标准的XP加载模块，将G200型纳米压痕仪的加载能力扩展至10N，可对陶瓷、金属块材和复合材料进行力学表征。大载荷选件的巧妙设计，使得G200既避免了在低载荷的情况下牺牲仪器的载荷和位移精度，同时又保证了用户在需要大加载力的测试时，通过鼠标操作就可以在测试实验中进行无缝加载装置切换。

产品简介MML公司的纳米力学性能测试系统NanoTest&trade Vantage可以提供新型材料和特种材料开发和优化的大量信息。是世界上最灵活、功能最强大的纳米力学测试系统。它可以为用户提供高精度的纳米压痕测试，同时提供相关的全面综合测试：如纳米划痕和磨损测试、纳米冲击和疲劳测试、以及在高温、液体环境中的测试。这些纳米水平上的测试可以为我们提供材料表面局部的定量信息，数据可靠、测试省时。这些因数使得NanoTest&trade Vantage在世界范围内成为大学、工业实验室和标准机构中很多表征和优化项目的最关键设备。自1988年以来，我们一直走在纳米力学创新的前沿： ► 第一个商用高温纳米压痕平台 ► 第一台商用纳米冲击试验机 ► 第一个商用液体池 ► 第一台用于高真空、高温纳米力学的商用仪器产品优势：► 无与伦比的技术多样性 无纳米压痕，纳米划痕，纳米冲击，纳米微震动磨损，纳米磨损 ► 高精度的多种载荷纳米（至500mN）和微米（至30N） ► 引领市场的环境兼容能力 引高温（至850°C）、低温（至-20°C）、液体和湿度环境 ► 真正测量多 真 样性动态、静态、电气和多种成像模式技术指标1、加载框架 花岗岩复合材料设计专门用于计量应用 2、加载应用 电磁 标准头最大载荷 500 mN 位移传感器 线性电容 负载分辨率 3 nN 位移分辨率 0.002 nm 重复定位精度 0.4 µ m 可测试区域 50 mm x 100 mm 样品处理 手动控制并点击显微镜图像 热漂移 0.005 nm/s 接触力 1 µ N 显微镜– 4个物镜 x5, x10, x20 和 x40 屏幕放大率 x410, x825, x1650, x3300 隔振 负K，机械被动 压头交换时间 1 min 符合标准 完全符合ISO 14577和ASTM 2546 3、划痕模块 最大摩擦力 250 mN 摩擦载荷分辨率 10 µ m 最大划痕距离 10 mm 划痕速度 100 nm/s 至 0.1 mm/s 4、冲击模块 加速距离 高达20 µ m 接触应变率 高达104 s-1 微动磨损模块 轨道长度 ≤20 µ m 频率 ≤20 Hz 最大磨损次数 10 5、SPM纳米定位平台 XY扫描范围 100 µ m x 100 µ m Z扫描范围 20 μm 定位精度 ≤2 nm 闭环线性 99.97% 6、AFM XY扫描范围 110 µ m x 110 µ m Z范围 22 µ m 7、高温选项 温度 850 °C 主动，独立的样品和压头加热 是 压头材料 金刚石，氮化硼，蓝宝石 8、高负载头 最大载荷 30 N 摩擦载荷分辨率 300 μN 应用范围航空航天、汽车工业、半导体、生物医学、MEMS、高分子、薄膜和涂层，以及太阳能/燃料电池等

Hysitron TI 980 TriboIndenter加速纳米力学研究进入更高阶段 布鲁克的海思创TI 980 TriboIndenter同时具有最 高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。基于海思创几十年的技术创新，它为纳米力学表征带来了高水平的性能、功能和易用性。TI 980达到了一台优 异纳米力学测试仪器所需的所有要求，实现了控制上突出的先进性和高效性，试验上的灵活度与可实现性，测量稳定性，以及系统设计的模块化。 先进的Performech II控制模块和电子设计。 最 高性能的高速闭环控制。 业界领 先的噪音控制。集成的带输入/输出信号的多参数控制。 五百倍于前代产品的力学测试速度 多维度测量耦合。充分优 化各个传感器的特质适用不同测量需要，通过多维传感器的选择实现不同测量间的无缝耦合。 多种有效的测试模块配置，包括纳米/微米压痕、纳米划痕、纳米摩擦磨损、高分辨原位扫描探针显微镜成像、动态纳米压痕和高速力学性能成像等 丰富的系统控制和数据分析软件。TriboScan(TM) 10提供了创新的控制功能，包括XPM超快纳米压痕，SPM+原位扫描探针显微镜成像，动态表面搜索，全自动系统校准和创新的测试程序。Tribo iQ (TM)提供了强大的数据处理、分析和画图功能，并具有可编程数据分析模块和自动生成的定制测试报告功能。 极大的灵活性和具有前瞻性的表征潜质。多级别的防护罩提供了超强环境隔绝能力，并具有用于将来的升级可扩展接口。万 能样品台提供了机械、磁性和真空固定方式，适用于各种样品 保持处于材料研究和开发的最 前沿海思创从1992年起就在全球范围内处于纳米力学和纳米摩擦学表征的领 先位置。通过与研究人员和工程师的持续合作，布鲁克理解您的独特需求，通过创新的技术帮助您解决当下和将来面临的材料挑战。海思创TI 980 TriboIndenter是这些努力的集大成者。它提供了卓越的性能，能满足您持续更新的材料表征需求。 简洁、高速的自动控制系统自动校正使得每次测试都无懈可击。 针尖面积函数自动校正。 传感器自动校正。压针和光学系统校正 自动测试程序。快速、多样品自动测试功能实现高通量表征。 智能化自动程序确保用户选择正确的针尖。 高分辨多尺度成像结合全尺寸样品的光学搜索， 极大简化测试流程最 低的噪音水平，实现真正纳米尺度表征。从微米到几个纳米的多尺度测量。 纳牛级别的力噪音水平和小于90%原子直径的位移测量能力，实现几乎任何材料的定量表征。系统可实现超过6个数量级的力测量和10个数量级的位移测量。力和位移噪音水平保证在客户现场安装时实现 最 快的反馈控制速率精确控制测试过程。实现最 大精度、可信度和重复性的真正定量纳米力学和纳米摩擦学表征。 特殊的力和位移反馈控制方法用于海思创的传感器-专门针对海思创传感器物理特性开发的力与位移反馈控制算法。每隔0.013毫秒实现一次完整反馈控制，使得系统能测量快速瞬态过程，并对其作出反馈，真正实现用户的测试意图-每隔0.013毫秒实现一次完整的感知-分析-控制的循环，使得系统能对瞬态过程进行测量与反馈，以此重现用户定义的测试方式 在纳米力学测试上领 先一步nanoDMA III：动态纳米压痕布鲁克的nanoDMA III是强大的动态纳米压痕技术。它提供了弹/塑性和粘弹性随着压入深度、频率和时间的变化关系。。 全面表征各种材料的普适性方法，从较软的聚合物到硬质镀层都能适用。 集成直流和交流调制使得从初始接触点开始就能实现纳米尺度动态性能的可靠、定量表征。 原位参考频率法校正温漂使得长时间测试的精度大大提高 XPM：快速力学性能成像不论是测量分辨率和精度，还是测量速度，XPM都是纳米力学测试的业界新标杆。有了XPM，原来可能需要一整年才能获得的数据，现在只需要一个下午就能获得。这些领 先的性能是通过以下三个业界领 先的技术实现的。1）高带宽静电激励传感器；2）快速控制和数据采集电子系统；3）自上而下的原位扫描探针显微镜成像。这些技术联用能实现每秒六次纳米压痕测试，从而获得全面的定量纳米力学性能图谱以及性能分布的统计数据。 更少时间测量更多参数。 超高速定量力学性能测量（每秒6次测量）。 快速、高分辨空间硬度和模量分布统计。 一分钟内可靠完成针尖函数自动校正。 比传统纳米压痕测试快500倍的数据采集速率。 xSol 环境控制腔及载台，可实现极端环境条件下高通量测量 SPM+实现纳米力学测试前后的准确原位成像布鲁克首创的扫描纳米压痕技术使用同一根探针实现样品表面形貌成像和纳米压痕测试。这种方法实现了最 高的定位精度，并且可以在纳米压痕测试后立即对样品塑性形变进行成像，加快测试速度。。 高定位精度（+/-10nm）。 可以从64x64到4096x4096范围内设定扫描分辨率。 可以对各种高长宽比的特征形貌进行不同X-Y分辨率成像。 业界领 先的纳米力学性能成像分辨率和调色板。 可以和摩擦力成像，nanoDMA III，nanoECR和xSol环境控制腔等联用 强大的系统控制和分析TriboScan 10：强大的测试灵活性提供了无限的测试可能性。 将布鲁克纳米压痕全套测试技术集成到一个直观的软件内。 基于标签页架构的软件设计使得用户可以方便的使用软件功能。灵活的测试过程分段定义方法提供了适用于所有测试模式的优 异控制 TriboIQ: 可编程数据分析程序。易用的操作界面，从简单到复杂的可定制数据分析包。 直观的数据组织和分析流程，简单点击即可生成数据报告。 直观可自定义的数据处理和分析模块。 开放式架构使得多用户合作更加容易

产品信息Micro Materials 产品纳米力学综合性能测试系统NanoTest Xtreme可以实现真空环境下的纳米力学测试！ 为了更加准确、可靠地预测材料的性质，研究学者们对测试条件模拟真实环境程度的要求越来越高。Micro Materials 公司的NanoTest Vantage 产品可以提供最全面的纳米力学测试功能。现在Micro Materials 公司的最新产品NanoTest Xtreme 可以实现真空环境下-40℃至1000℃这一温度范围内的纳米级力学测试， 并且没有氧化和结霜的影响。自1988年以来，我们一直处于纳米力学创新的前沿： ► 第一个商用高温纳米压痕平台 ► 第一台商用纳米冲击测试仪器 ► 第一个商用液体池 ► 第一台用于高真空、高温纳米力学的商用仪器更适合以下极端环境条件的研究：1、 航空发动机部件的高温 2、 用于高速加工的工具涂层 3、 电站蒸汽管的高温4、核反应堆覆层中的辐射效应 5、低温对油气管道焊缝修复的影响 NanoTest Xtreme 特点：a、500 mN加载头在真空下最高测试温度：1000°Cb、30 N加载头在真空下的最高测试温度：800°C c、真空下的最低测试温度：-40°C d、极限真空度：10-7 mbar e、与真空下所有标准纳米测试技术兼容（纳米压痕、纳米划痕、纳米磨损、纳米冲击、纳米微动） f、可选配第二个加载头，最大负载从500mN增加到30 N g、填充功能可在非空气环境中进行测试 h、高分辨率光学显微镜 i、可选配在整个温度范围内均可使用的SPM 成像/纳米定位平台 NanoTest Xtreme 优点：1、 将高温能力扩展到1000°C，超出NanoTest Vantage提供的850°C 2、 将低温能力提高至-40°C，且无样品结霜 3、超低的热漂移归因于与NanoTestVantage相同的仪器设计原理 4、 完整的纳米力学测试(例如压痕、划痕、磨损、摩擦、冲击) 5、能够填充气体以匹配材料操作环境参数指标1、加载框架 高度抛光的铝，用于快速脱气 加载应用：电磁 标准压头最大负载 500 mN 最大负载，可选高负载头 30 N 位移传感器 ：电容式 负载分辩率 3 nN 位移分辨率 0.002 nm 重新定位精度 0.4 µ m 样品处理 ：手动控制，网格压痕，特定位置选择，多个同时安装的样本 热漂移 0.005 nm/s 符合标准 ：符合ISO 14577和ASTM 2546标准 2、高温平台 最高温度 1000 º C 压头尖端加热 ：是 可测试样本区 16 mm x 16 mm 温度控制 ：反馈和恒定功率 温度精度 0.1 º C 3、低温平台 最低温度 -40 º C 4、SPM纳米定位平台 扫描范围 100 µ m x 100 µ m X Y定位精度 2 nm 5、真空 工作模式 ：真空或气体吹扫 真空度 ：极限10-7 (标准10-6 )mbar 6、选件 纳米划痕，纳米磨损，纳米冲击，动态硬度 应用NanoTest&trade Xtreme可以广泛应用于：航空航天、汽车工业、半导体、生物医学、MEMS、高分子、薄膜和涂层，以及太阳能/燃料电池等。

仪器简介：The MML NanoTestTM 系统是一台多功能的纳米性能测试系统, 提供全面的纳米机械和纳米摩擦测量。 高温 划痕和摩擦学 压痕 液体池 疲劳测试 多功能测量： 纳米材料压痕 纳米材料划痕和摩擦学 纳米材料疲劳和冲击体系 粘结强度测量 液体池 纳米材料高温性能测试 纳米材料动态机械性能测试 纳米材料2D,3D表面表征体系 纳米材料测试客户化配置技术参数：漂移速率 0.1 nm/s = 6 nm in 60sNano (10 mN-500 mN) Indentation Micro (0.5-20 N) Scratch纳米压痕和纳米划痕, 测试温度up to 750oC 最小温度漂移 (under 0.01 nm/s at 500oC) 主要特点： 纳米压痕测试:576 聚合物样品 / 仅仅在 24 hr之内 快速的纳米压痕测量,没有损失任何精度 Nano- and micro-mapping成为可能 MIT 评估光交联和可降解的聚合物,被应用于药物输送和组织工程 支架The NanoTest由于其独特的设计，具有最低的温度漂移 &ndash 水平施加载荷 和 高热质量的部件the pendulum[摆锤]的优势,包括 &hellip 开放的平台 水平加载力 大样品 校准的接触力 高温样品台 样品振动 (impact冲击) 在高硬度方向上的划痕 容易互换压头 独特的测试能力

微流控纳米药物制造系统纳米颗粒制造技术，是纳米技术领域的技术前沿，其尺寸依赖特性，使这些材料在许多领域表现出了优势。此项技术已应用于诸多行业，如药物输送、能源和电子等。纳米颗粒合成技术是实现纳米颗粒应用的步骤之一。与传统的批处理合成方法相比，PreciGenome 搭建的纳米颗粒合成系统表现出了极大的优势，其通过微流控技术，在纳米颗粒尺寸均一性和形状控制方面都表现出其优势。有效载体DNA/mRNA/siRNA小分子药物 Small molecule drugs蛋白质和多肽 Proteins and peptides其它有效载体 Other payloads应用领域药物输送核酸脂质纳米颗粒合成聚合物纳米颗粒合成，如PLGA，PLGA-PEG脂质/脂质体合成凝胶颗粒合成Flex-S产量为0.1-1ml的产品已经上市，非常适合昂贵的mRNA。纳米颗粒合成原理脂质试剂：更多产品详情，请联系哲本仪器：

科研用CNI v4.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型；&bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光；&bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准；&bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

NX-B100/B200整片基板纳米压印系统经过了大量的实时实地验证,质量可 靠,性能优越稳定。具备全部压印模式:热固化、紫外固化和压印。基于独 特保护的Nanonex气垫软压技术(ACP),不论模版或基板背面粗糙程 度如何,或是模版或基板表面波浪和弧形结构,NX-B100/B200均可对其校 正补偿从而获得无与伦比的压印均匀性, ACP消除了基板与模版之间侧向偏 移,有效地延长了模版使用寿命。通过微小热容设计可获得快速的热压印周 期,zui终得到快速的工艺循环。主要特点：所有形式的纳米压印热塑化紫外固化 (NX-B200)热压与紫外压印同时进行(NX-B200)热固化 气垫软压技术(ACP)Nanonex技术完美的整片基板纳米压印均匀性高通量低于10nm分辨率 快速工艺循环时间(小于60秒) 灵活性最大75毫米直径压印面积各种尺寸及不规则形状模板与基板均可压印方便用户操作基于超过12年、15代产品开发 经验的自动化压印操作Nanonex压印系统经过大量实 时实地验证,质量可靠,性 能优越稳定全自动纳米压印系统参数：热塑压印模块(NX-B100/B200) 温度范围0~250℃加热速度200℃/分钟制冷速度60℃/分钟压力范围0 ~ 3.45 MPa(500 psi)紫外固化模块(NX-B200)58mW/cm2紫外LED光源365纳米或395纳米波长可选全自动化控制模版装载功能最大3英寸模板可用于标配纳米压印系统基板装载标配纳米压印系统可装载3英寸基 板 各种尺寸及不规则形状模板与 基板均可压印 独特保护ACP技术可最大限度保护模板和基板,特别对于象磷化铟(InP)等极易碎模 板和基板给予最大限度。其他参数：配有微软Windows的电脑控制系统 用户友好的控制软件 程序化控制压印温度、压力和时间 真空和压缩空气操作由电脑控制 手动装载/拆卸基板 自动化压印操作 设备占地面积:32 × 34 英寸(810 mm × 860 mm) 应用领域:纳米电子和光电子、显示器、数据存储介质、先进材料、生物科技、纳米流道等。

纳米薄膜热导率测试系统-TCN-2ω— 薄膜材料的热导率评价将变得为简便日本Advance Riko公司推出的纳米薄膜热导率测试系统是使用2ω方法测量纳米薄膜厚度方向热导率的商用系统。与其他方法相比，样品制备和测量为简单。纳米薄膜热导率测试系统特点：1. 在纳米尺度衡量薄膜的热导率开发出的监测周期加热过程中热反射带来的金属薄膜表面温度变化的方法，通过厚度方向上的一维热导模型计算出样品表面的温度变化，为简便的衡量厚度方向上热导率。（日本：5426115）2. 样品制备简单不需要光刻技术即可将金属薄膜（1.7mm×15mm×100nm）沉积在薄膜样品上。纳米薄膜热导率测试系统应用：1. 热设计用薄膜热导率评价的优先选择。low-k薄膜，有机薄膜，热电材料薄膜2. 可用于评价热电转换薄膜纳米薄膜热导率测试系统测量原理：当使用频率为f的电流周期加热金属薄膜时，热流的频率将为电流频率的2倍（2f）。如果样品由金属薄膜（0）-样品薄膜（1）-基体（s）组成（如图），可由一维热导模型计算出金属薄膜上表面的温度变化T(0)。假设热量全部传导到基体，则T(0)可由下式计算：（λ/Wm-1K-1，C/JK-1m-3，q/Wm-3，d/m，ω（=2πf）/s-1）式中实部（同相振幅）包含样品薄膜的信息。如热量全部传导到基体，则同相振幅正比于(2 ω)0.5，薄膜的热导率（λ1）可由下式给出：（m：斜率，n：截距）纳米薄膜热导率测试系统参数：1. 测试温度：室温2. 样品尺寸：长10～20mm，宽10mm 厚0.3～1mm（含基体）3. 基体材料：Si（推荐） Ge，Al2O3（高热导率）4. 样品制备：样品薄膜上需沉积金属薄膜（100nm） （推荐：金）5. 薄膜热导率测量范围：0.1～10W/mK6. 测试氛围：大气设备概念图样品准备纳米薄膜热导率测试系统测试数据：Si基底上的SiO2薄膜（20-100nm）测量结果d1 / nm 19.9 51.0 96.8 λ1/ W m-1 K-1 0.82 1.03 1.20 发表文章1. K. Mitarai et al. / J. Appl. Phys. 128, 015102 (2020) 2. M. Yoshiizumi et al. / Trans. Mat. Res. Soc. Japan 38[4] 555-559 (2013)

德国Coatema R2R纳米压印系统-R2R生物微流控压印系统

Hysitron TI 980 TriboIndenter加速纳米力学研究进入更高阶段 布鲁克的海思创TI 980 TriboIndenter同时具有最高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。基于海思创几十年的技术创新，它为纳米力学表征带来了高水平的性能、功能和易用性。TI 980达到了一台优异纳米力学测试仪器所需的所有要求，实现了控制上突出的先进性和高效性，试验上的灵活度与可实现性，测量稳定性，以及系统设计的模块化。 先进的Performech II控制模块和电子设计。 最高性能的高速闭环控制。 业界领先的噪音控制。集成的带输入/输出信号的多参数控制。 五百倍于前代产品的力学测试速度 多维度测量耦合。充分优化各个传感器的特质适用不同测量需要，通过多维传感器的选择实现不同测量间的无缝耦合。 多种有效的测试模块配置，包括纳米/微米压痕、纳米划痕、纳米摩擦磨损、高分辨原位扫描探针显微镜成像、动态纳米压痕和高速力学性能成像等 丰富的系统控制和数据分析软件。TriboScan(TM) 10提供了重要的控制功能，包括XPM超快纳米压痕，SPM+原位扫描探针显微镜成像，动态表面搜索，全自动系统校准和创新的测试程序。Tribo iQ (TM)提供了强大的数据处理、分析和画图功能，并具有可编程数据分析模块和自动生成的定制测试报告功能。 极大的灵活性和具有前瞻性的表征潜质。多级别的防护罩提供了超强环境隔绝能力，并具有用于将来的升级可扩展接口。万能样品台提供了机械、磁性和真空固定方式，适用于各种样品 保持处于材料研究和开发的最前沿海思创从1992年起就在全球范围内处于纳米力学和纳米摩擦学表征的领先位置。通过与研究人员和工程师的持续合作，布鲁克理解您的独特需求，通过创新的技术帮助您解决当下和将来面临的材料挑战。海思创TI 980 TriboIndenter是这些努力的集大成者。它提供了卓越的性能，能满足您持续更新的材料表征需求。 简洁、高速的自动控制系统自动校正使得每次测试都无懈可击。 针尖面积函数自动校正。 传感器自动校正。压针和光学系统校正 自动测试程序。快速、多样品自动测试功能实现高通量表征。 智能化自动程序确保用户选择正确的针尖。 高分辨多尺度成像结合全尺寸样品的光学搜索， 极大简化测试流程最低的噪音水平，实现真正纳米尺度表征。从微米到几个纳米的多尺度测量。 纳牛级别的力噪音水平和小于90%原子直径的位移测量能力，实现几乎任何材料的定量表征。系统可实现超过6个数量级的力测量和10个数量级的位移测量。力和位移噪音水平保证在客户现场安装时实现 最快的反馈控制速率精确控制测试过程。实现最大精度、可信度和重复性的真正定量纳米力学和纳米摩擦学表征。 特殊的力和位移反馈控制方法用于海思创的传感器-专门针对海思创传感器物理特性开发的力与位移反馈控制算法。每隔0.013毫秒实现一次完整反馈控制，使得系统能测量快速瞬态过程，并对其作出反馈，真正实现用户的测试意图-每隔0.013毫秒实现一次完整的感知-分析-控制的循环，使得系统能对瞬态过程进行测量与反馈，以此重现用户定义的测试方式 在纳米力学测试上领先一步nanoDMA III：动态纳米压痕布鲁克的nanoDMA III是强大的动态纳米压痕技术。它提供了弹/塑性和粘弹性随着压入深度、频率和时间的变化关系。。 全面表征各种材料的普适性方法，从较软的聚合物到硬质镀层都能适用。 集成直流和交流调制使得从初始接触点开始就能实现纳米尺度动态性能的可靠、定量表征。 原位参考频率法校正温漂使得长时间测试的精度大大提高 XPM：快速力学性能成像不论是测量分辨率和精度，还是测量速度，XPM都是纳米力学测试的业界新标杆。有了XPM，原来可能需要一整年才能获得的数据，现在只需要一个下午就能获得。这些领先的性能是通过以下三个业界领先的技术实现的。1）高带宽静电激励传感器；2）快速控制和数据采集电子系统；3）自上而下的原位扫描探针显微镜成像。这些技术联用能实现每秒六次纳米压痕测试，从而获得全面的定量纳米力学性能图谱以及性能分布的统计数据。 更少时间测量更多参数。 超高速定量力学性能测量（每秒6次测量）。 快速、高分辨空间硬度和模量分布统计。 一分钟内可靠完成针尖函数自动校正。 比传统纳米压痕测试快500倍的数据采集速率。 xSol 环境控制腔及载台，可实现极端环境条件下高通量测量 SPM+实现纳米力学测试前后的准确原位成像布鲁克首创的扫描纳米压痕技术使用同一根探针实现样品表面形貌成像和纳米压痕测试。这种方法实现了最高的定位精度，并且可以在纳米压痕测试后立即对样品塑性形变进行成像，加快测试速度。。 高定位精度（+/-10nm）。 可以从64x64到4096x4096范围内设定扫描分辨率。 可以对各种高长宽比的特征形貌进行不同X-Y分辨率成像。 业界领先的纳米力学性能成像分辨率和调色板。 可以和摩擦力成像，nanoDMA III，nanoECR和xSol环境控制腔等联用 强大的系统控制和分析TriboScan 10：强大的测试灵活性提供了无限的测试可能性。 将布鲁克纳米压痕全套测试技术集成到一个直观的软件内。 基于标签页架构的软件设计使得用户可以方便的使用软件功能。灵活的测试过程分段定义方法提供了适用于所有测试模式的优异控制 TriboIQ: 可编程数据分析程序。易用的操作界面，从简单到复杂的可定制数据分析包。 直观的数据组织和分析流程，简单点击即可生成数据报告。 直观可自定义的数据处理和分析模块。 开放式架构使得多用户合作更加容易

仪器简介：If smallest parts or samples have to be moved or positioned with nanometer precision in the millimetre range, nanopositioning systems with piezo inertial drive are used. Very compact actors with appropriate control units are available for rotational and linear movements. The compatibility to each other allows the assembly of multi-axes combinations for complex movements. All the nanopositioning system have a piezo inertialdrive. With a travel in the millimetre range and steos in the nano meter range or with large adjustment range and steps in the &mu rad range, they are suitable for manifold applications. The basic components of the gonimeter are made of high strength aluminium. Due to a black anodized coating, the surface is protected and reflexion-poor. For the mounting of the nanopositioners, the mounting plate NMP 50is recommend. It is available as a ccessory. In order to operate the nanopositioners,the manual control unit NHS06 has to be used. The complete system is pluggable and ready for connection.技术参数：仪器名称,型号/参数行程最小步长最大步长负载 (N)重复定位精度(双向)倾斜力矩(Mx,My,Mz)(Nm)速度 纳米旋转位移台 NDT 24-30无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.2 max.0.1max.100mrad/s 纳米旋转位移台 NDT 24-30-MSI无限旋转角度40 &mu rad100&mu radmax.240&mu radmax.0.1max.300mrad/s 纳米角度位移台 NAGO P 24－8± 3.3 度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米角度位移台 NAGO T 24－8± 4度2 &mu rad6 &mu radmax.2 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24－66mm100nm300nmmax.3 max.0.1 纳米升降位移台 NHV 24－6－MSI6mm50nm700nmmax.3400 nmmax.0.1 纳米线性位移台 NLV 24-77mm200nm300nmmax.2 max.0.1max.0.3mm/s 纳米线性位移台 NLV 24-7-MSI7mm50nm700nmmax.2400nmmax.0.1max.0.7mm/s 纳米线性位移台 PT 30-54.8mm300nm800nmmax.30 max.0.5max.0.8mm/s 纳米线性位移台 PT 30-5-MSI4.8mm100nm2000nmmax.30400nmmax.0.5max.2mm/s 主要特点：&bull high power density on little space &bull 纳米量级或&mu rad量级可调 &bull 停止是无摆动或振荡 &bull 由高强度的铝制成，黑色阳极氧化 &bull with ceramic guide for high life time Option &bull version for use in cacuum

美国K-T公司是全球微纳米力学测试设备技术的开创者，全球第一台纳米力学测试系统于上世纪80年代初在公司前身诞生，多种测量方法和物理模型来自该公司。经过近40年不断努力和改进，该公司微纳米力学测试不仅实现了静态到动态的测试，同时实现了与光学、电学等设备连用的原位材料力学、微结构学甚至成份学的多手段原位测试功能。当前国标已经引入该公司专利的CSM连续刚度技术，在该领域具有很高的权威性。K-T在连续刚度（CSM）、高分辨、扫描成像、快速测试方面拥有独特技术。K-T是该领域著名跨国公司，中国设有地区总部，拥有最专业的技术支持和售后服务人员。更多信息，请联系我们以探讨您的需求。

Hysitron PI 89 扫描电镜联用纳米压痕仪利用扫描电子显微镜（SEM、FIB/SEM）的卓越成像能力，可以在成像的同时进行定量纳米力学测试。这套全新系统搭载 Bruker的电容传感技术，继承了引领市场的一批商业化原位 SEM 纳米力学平台的优良功能。该系统可实现包括纳米压痕、拉伸、微柱压缩、微球压缩、悬臂弯曲、断裂、疲劳、动态测试和力学性能成像等功能。特点独有的可互换传感技术，实现了更大范围(10mNx500 mN、3.5N和150μ.m)的原位纳米力学测试和微尺度力学测试独有的载荷和位移控制测试模式,可进行纳米压痕、压缩、 拉伸、疲劳或弯曲测试采用全新编码样品台技术(1 nm分辨率)，可以在纳米晶粒 内部进行压痕操作提供旋转/倾斜台两种配置，从而在进行纳米力学测试、二次电子成像、原位FIB加工和分析成像等操作时，样品定位能力进一步提高采用永不过时的模块化设计,原位测试相关技术得以不断升级，包括800℃加热、划痕测试、电特性、扫描探针显微镜 (SPM)成像、力学性能成像(XPM)及动态疲劳测试等技术配备PerformechII先进控制模块，反馈频率达到78 kHz, 数据采集频率达到39 kHz,可以捕捉断裂引发等瞬时事件功能齐全Hysitron PI 89可以轻松安装到扫描电子显微镜台上,不需 要一直固定在显微镜上。其设计小巧，大幅增加物台倾斜 度、缩短工作距离,确保测试期间实现佳成像。PI89平台经过改装，在系统的样品位置增加了一个滑移台。该设计可方便快速地调整样品相对于传感器的位置,并可配置可更换压头、样品和其它附加装置。同时扩大了可用空间，可以容纳更大的样品、附加样品台和新的配件。此外,选用新的直线编码样品台,可以提高自动运动中的 重复性，同时扩大行程范围。通过重新设计机械载荷架轴，提升了框架刚度。

Hysitron PI 89 扫描电镜联用纳米压痕仪利用扫描电子显微镜（SEM、FIB/SEM）的卓越成像能力，可以在成像的同时进行定量纳米力学测试。这套全新系统搭载 Bruker的电容传感技术，继承了引领市场的一批商业化原位 SEM 纳米力学平台的优良功能。该系统可实现包括纳米压痕、拉伸、微柱压缩、微球压缩、悬臂弯曲、断裂、疲劳、动态测试和力学性能成像等功能。特点独有的可互换传感技术，实现了更大范围(10mNx500 mN、3.5N和150μ.m)的原位纳米力学测试和微尺度力学测试独有的载荷和位移控制测试模式,可进行纳米压痕、压缩、 拉伸、疲劳或弯曲测试采用全新编码样品台技术(1 nm分辨率)，可以在纳米晶粒 内部进行压痕操作提供旋转/倾斜台两种配置，从而在进行纳米力学测试、二次电子成像、原位FIB加工和分析成像等操作时，样品定位能力进一步提高采用永不过时的模块化设计,原位测试相关技术得以不断升级，包括800℃加热、划痕测试、电特性、扫描探针显微镜 (SPM)成像、力学性能成像(XPM)及动态疲劳测试等技术配备PerformechII先进控制模块，反馈频率达到78 kHz, 数据采集频率达到39 kHz,可以捕捉断裂引发等瞬时事件功能齐全Hysitron PI 89可以轻松安装到扫描电子显微镜台上,不需 要一直固定在显微镜上。其设计小巧，大幅增加物台倾斜 度、缩短工作距离,确保测试期间实现佳成像。PI89平台经过改装，在系统的样品位置增加了一个滑移台。该设计可方便快速地调整样品相对于传感器的位置,并可配置可更换压头、样品和其它附加装置。同时扩大了可用空间，可以容纳更大的样品、附加样品台和新的配件。此外,选用新的直线编码样品台,可以提高自动运动中的 重复性，同时扩大行程范围。通过重新设计机械载荷架轴，提升了框架刚度。

产品信息将光谱学与QCM-D相结合。同时使用纳米等离子体光谱技术（NPS）和耗散监测型石英晶体微天平技术（QCM-D）进行实时测量。 主要特征a、同时获得相同表面上相同样品的干质量（折射率RI）、湿质量（声学）和黏弹性的实时变化。b、使用Insplorion的纳米等离子体光谱技术（NPS）和Q-Sense的耗散监测型石英晶体微天平技术（QCM-D）在完全相同的实验条件下同时测量。c、非常容易使用当配备Q-Sense窗口模块时，Insplorion Acoulyte直接安装在Q-sense Explorer（E1）和Analyzer（E4）仪器上。Insplorion Acoulyte传感器是具有NPS结构的Q-Sensor。技术指标传感器 尺寸直径 14 mm 衬底 SiO2涂层的QCM-D传感器 表面 纳米结构金 标准涂层 Si3N4, SiO2, Al2O3, TiO2 测量特征 光源 卤钨灯 灵敏度* 0.03单分子层 测量点直径 3 mm 时间分辨率 每秒10个采样点 典型噪音 0.01 nm 波长范围 450-1000 nmQCM-D的测量不受Acoulyte的影响。 尺寸(宽度x深度x高度) Acoulyte模块 8x5x3 cm Insplorion光学单元 25x27x9 cm 软件 兼容软件 Insplorer 操作系统 兼容Microsoft Windows操作系统 数据输出格式 ASCII码文本文件格式，直接使用的任何绘图软件都兼容此格式 分析的参数 分析的参数多参数输出(比如：LSPR峰处的共振波长和消光)应用领域NPS和QCM-D的互补性测量 感应深度 NPS干质量 30 nmQCM-D湿质量 300 nmAcoulyte干质量和湿质量深度分析InsplorionNPS技术在纳米等离子体光谱技术（NPS）中，纳米结构传感器的局域表面等离激元共振技术（LSPR）用于探测邻近传感器表面（30 nm）的折射率（与光/干质量有关）的微小变化。它能够极其灵敏地检测发生在传感器/样品界面处的变化过程。分子解吸附（吸附） 时间和深度分辨测量厚膜（~1 mm）的分子解吸附（吸附）。Acoulyte也可以辨别溶胀和吸附/解吸附事件。检测到什么？ NPS 邻近表面（30 nm）的折射率变化QCM-D 整个膜的质量变化。 脂质双层膜 Acoulyte能够更详细地阐释表面薄膜的形成过程。检测到什么？ NPS 囊泡吸附时折射率增大囊泡坍塌时折射率增大QCM-D 囊泡吸附时质量增大囊泡坍塌时质量减小气体吸附/解吸附 通过QCM-D技术和NPS技术的联用，就可以实现深度分析以及研究表面支撑膜内的扩散时间和机制。检测到什么？ NPS传感器/样品界面的折射率变化。QCM-D 整个膜和膜的顶部的质量变化。