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离子束抛光机
仪器信息网离子束抛光机专题为您提供2024年最新离子束抛光机价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括离子束抛光机参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的离子束抛光机您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合离子束抛光机相关的耗材配件、试剂标物,还有离子束抛光机相关的最新资讯、资料,以及离子束抛光机相关的解决方案。
离子束抛光机相关的方案
FIB-SEM双束电镜应用之样品的截面抛光
截面抛光是FIB主要用途之一。所谓截面抛光就是利用离子束将样品剖开观察内部的结构,从而分析样品内部的微观组织或缺陷。如下图所示,为了分析焊接界面处的产物,需要将焊接处剖开,从而可以对界面进行成份和晶体结构进行研究。
离子束研磨金属样品观察电子通道衬度图像
使用Leica EM TIC 3X三离子束切割仪的平面旋转抛光台抛光大概90分钟后,整片数毫米的样品在电镜下已经看不到划痕,无论在二次电子图像还是背散射电子图像下都非常平整。
钛合金的EBSD制样方法之机械抛光+离子束抛光
钛合金具备强度高、韧性强、密度低、耐蚀性好、耐热性高等优异性能,因此被广泛应用于航天航空、汽车、医疗器械、海洋工程等重要行业。随着各行各业科技的发展,对钛合金的性能要求也不断提高,使得钛合金的研发、制造技术能够日渐改进,当然对钛合金性能的检测技术也随之精进。其中EBSD技术是研究钛合金微观组织和织构的重要手段,然而EBSD对样品的制样要求十分严苛,尤其对于强韧性的钛合金。
新型扫描电镜样品制备系统在不同领域的应用
它就是GATAN Ilion II 697氩离子束抛光系统,该款设备是在Gatan公司经典的691离子减薄仪技术上发展而来。它的问世改变了此前人们用手动或机械研磨的方法对样品进行研磨抛光的局限性。利用氩离子精密抛光装置,可以获得平滑的截面和平面,而不会对样品造成机械损害,是扫描电镜样品制备的新型手段,目前已经广泛应用于全球各大高校科研院所。
低合金钢金相样品的研磨抛光方法
合金总量低于5%时称为低合金钢,其金相样品制备过程中,从切割、镶嵌到研磨抛光,每一道工序都需要选择合适的耗材,诸如切割应选择金属粘结剂的金刚石刀片,采用黑色粉末酚醛树脂进行热镶嵌更为合适,使用碳化硅砂纸研磨,抛光使用金刚石抛光膏等细节做到了,自然可以制备出高品质的金相样品。
EBSD样品制备新方法——氩离子抛光技术
您还在为得到一个优秀的 EBSD样品而进行各类电解液的配方调制而发愁吗?您还在为得到一个优秀的 EBSD样品,而花费大量时间泡在实验室进行各类机械抛光处理而苦恼吗?您还在为使用 FIB技术得到的优秀小面积 EBSD样品所花费的高额费用而担心吗?
使用SALD-2300测试抛光粉的粒度
本文利用岛津激光粒度仪SLAD-2300,建立了测定3种类型抛光粉(氧化铝、金刚石和氧化铈)粒径大小和分布的测定方法,可为了解抛光粉的粒度信息提供重要参考。实验表明,样品制备简单,测试速度快,重复性优良,本法满足此类抛光粉的粒度测试要求。
机械+化学作用下的抛光应用
越软、延展性越好的材料,在机械抛光作用下,划痕越难去除,越容易被掩盖。在机械+化学作用下抛光理论的提出,才使得这些疑难逐渐被破解。本文主要介绍一些常见的使用机械+化学作用抛光的应用。
抛光陶瓷材料上金膜形貌粗糙度测量
同时测量了空白抛光陶瓷材料和覆盖金膜的形貌像和粗糙度,可以清晰的分析单个陶瓷颗粒和粗糙度的差别,覆盖金膜区域的粗糙度比抛光陶瓷高出50%。使用标准样品托和Nanosensor探针。
KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用
上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, IBSD 离子束溅射沉积 和 IBD 离子束沉积是其典型的应用.
用Leica EM TIC3X三离子束切割仪解剖太阳能电池
这种复合型材料要获得有效截面,机械切割磨抛方式很难保证切割面的平整,也无法避免样品剖面的污染和边缘损伤;如果采用聚焦离子束FIB加工,应对几百微米的加工区域,将耗费大量时间和带来极高的使用成本。因此,氩离子束切割仪几乎成为高效率、低成本的获取无应力损伤和无污染的平整剖面的唯一的选择。
LC-MS/MS法分析抛光液中的烷基酚聚氧乙烯醚成分
本文建立了三重四极杆液质联用仪检测抛光液中烷基酚聚氧乙烯醚(APnEO,n=3~16)成分的方法。烷基酚聚氧乙烯醚(APnEO,n=3~16)主要指辛基酚聚氧乙烯醚(OPnEO)和壬基酚聚氧乙烯醚(NPnEO),以各成分的保留时间、定性离子进行定性检验,并基于选定的定量离子采用MRM模式进行组校准定量分析,在5~800 µg/L浓度范围内标准曲线线性良好,相关系数均在0.99以上。各组分在5 µg/L浓度下信噪比均大于10.0,灵敏度良好。对50.0 µg/L和500.0 µg/L标准品溶液,连续进样6次,其峰面积重复性结果分别为1.24%和0.73%,精密度良好。50 µg/L和100 µg/L的加标样回收率考察,其回收率分别在90.2%~109.2%之间和107.6%~118.4%之间。本方法适用于抛光液中烷基酚聚氧乙基醚成分的测定,也可为相关从业人员分析检测提供参考。
热裂解-气相色谱质谱法定性分析抛光液中的有机成分
本文使用热裂解-气相色谱质谱联用仪对抛光液样品分别进行裂解气模式(EGA)分析和双步裂解模式(Double-Shot)分析,通过谱库检索功能可获得样品中大分子聚合物和低沸点小分子的信息。该方法样品用量少,操作简单,结果可靠,可较全面地定性抛光液中的有机成分。
电位滴定法测定电化学抛光液中混酸含量
目前,对于混酸的分析主要用滴定法,其中传统的人工滴定方法需要根据指示剂颜色变化判断终点,对操作人员的技术要求较高;利用自动电位滴定仪进行常规分析时,有操作简单,分析准确度高等优点。本文主要利用电位滴定法,对混酸含量进行测定,为科研及生产提供了电化学抛光液中混酸组成比例的检测方法。
上海伯东IBE离子束刻蚀用于铌酸锂LiNbO3薄膜刻蚀
随着基于铌酸锂LN的光源、光调制、光探测等重要器件的实现,铌酸锂LN光子集成芯片有望像硅基集成电路一样,成为高速率、高容量、低能耗光学信息处理的重要平台,在光量子计算、大数据中心、人工智能及光传感激光雷达等领域彰显其应用价值。由于铌酸锂LN的特殊化学性能,IBE离子束刻蚀+EBL电子束曝光是最优的解决方案。
抛光陶瓷板形貌像
抛光陶瓷板形貌像,该陶瓷材料可用于牙科医学。瑞士Nanosurf公司,全球知名的专业研发扫描探针显微镜制造商和技术服务供应商,在扫描探针显微镜领域有超过15年的研发经验,一直致力于新型扫描探针显微镜的创新性研发和制造。目前已推出新一代低噪音-快速扫描-超高稳定性的AFM 和大扫描范围Nanite AFM系统。瑞士Nanosurf公司承诺提供最高品质的服务和客户支持,同时还提供纳米技术的OEM 客户定制,外包等业务。
瑞士万通:电位滴定法测定电化学抛光液中混酸含量
目前,对于混酸的分析主要用滴定法,其中传统的人工滴定方法需要根据指示剂颜色变化判断终点,对操作人员的技术要求较高;利用自动电位滴定仪进行常规分析时,有操作简单,分析准确度高等优点。本文主要利用电位滴定法,对混酸含量进行测定,为科研及生产提供了电化学抛光液中混酸组成比例的检测方法。
伯东NS 10 IBE离子束刻蚀机用于物理量传感器(MEMS)加工
上海伯东某科研客户的研究方向是物理量传感器,用于监测土壤的力学结构变化,一般用于山体、岩石和冻土等环境研究。这种传感器通过镀膜、沉积、刻蚀等工艺多次循环来加工,Au 和 Pt 是传感器加工中常用的涂层,在完成镀膜(溅镀 Sputter 或者电子束蒸镀 E-beam)用传统的湿法刻蚀、ICP 刻蚀和 RIE 刻蚀等工艺无法有效的刻蚀出所需的图形。离子束刻蚀 IBE 作为最有效的刻蚀方案可以解决这个问题,刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料。
徕卡电镜样品制备之IC芯片篇
本文采用徕卡三离子束切割仪TIC 3X的旋转抛光样品台制备IC芯片。
低场核磁弛豫技术用于CMP抛光液的原位分散性检测
低场核磁弛豫技术以水分子(溶剂)为探针,可以实时检测悬浮液体系中水分子的状态变化。低场核磁弛豫技术可以区分出纳米颗粒与溶剂的固液界面间那一层薄薄的表面溶剂分子,当颗粒尺寸或颗粒分散性发生变化时,颗粒表面的溶剂分子也会发生相应的变化。低场核磁弛豫技术可以灵敏的检测到这这种变化状态和变化过程,从而可以快速地评价例如抛光液以及相关悬浮液样品的分散性和悬浮液中颗粒尺寸的变化过程。
上海伯东 IBE离子束刻蚀(离子铣)基本原理与应用介绍
在半导体制程工艺中,刻蚀(Etch)是指将晶圆上没有被光刻胶覆盖或保护的部分,以化学反应或物理作用的形式加以去除,完成将图形转移到晶圆片表面上的工艺过程。刻蚀分为湿刻蚀(Wet Etching)和干刻蚀(Dry Etching)。干刻蚀则泛指采用气体进行刻蚀的所有工艺,即在晶圆上叠加光刻胶或金属掩模后,将其裸露于刻蚀气体中的工艺。干法刻蚀分为三种:PE等离子体刻蚀、IBE离子束刻蚀和RIE反应离子体刻蚀。
通过密度和粘度在线监测进行半导体 CMP(化学机械抛光)浆料质量控制
半导体行业的关键在于整个工艺过程中保持严格的质量控制。在多掩模工艺中,CMP 浆料定义了后续层沉积的表面纹理。尺寸较小的电子元件需要更复杂的 CMP 工艺,浆料质量标准也变得更加严格。虽然浆料在制造点 (POM) 可能受到严格控制,但随后的操作,如运输、处理、混合、过滤和分配在抛光垫上可能会改变其化学性质(例如,影响氧化剂或添加剂)。更改此类参数可能会影响工艺性能并导致晶圆级缺陷,从而影响产能。为了防止出现这种不良影响,必须在使用时连续监测浆料的化学性质。
采用电气比例阀串级控制法实现化学机械抛光(CMP)的超高精密压力控制解决方案
为大幅度提高现有CMP工艺设备中压力控制的稳定性,在现有电气比例阀这种单回路PID压力调节技术的基础上,本文提出了升级改造方案,即采用串级控制法(双回路PID控制,也称级联控制),通过在现有电气比例阀回路中增加更高精度的压力传感器和PID控制器,可以将研磨抛光压力的稳定性提高一个数量级,从1~2%的稳定性提升到0.1~0.2%。
瑞士万通:电位滴定法测定电化学抛光液中混酸(HNO3/H2SO4/CrO3)
目前,对于混酸的分析主要用滴定法,其中传统的人工滴定方法需要根据指示剂颜色变化判断终点,对操作人员的技术要求较高;利用自动电位滴定仪进行常规分析时,有操作简单,分析准确度高等优点。本文主要利用电位滴定法,对混酸含量进行测定,为科研及生产提供了电化学抛光液中混酸组成比例的检测方法。
用Leica EM TIC3X三离子束切割仪解剖半导体芯片
1.独特的三离子束系统,可获得最佳的截面处理质量,并可高效获得宽且深的切割区域,大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室,徕卡EM TIC 3X是最佳解决方案。2.可装配系统,根据您的样品制备需要,可以有针对性地在徕卡EM TIC 3X上装配一体化设计样品台-标准样品台,多样品台或冷冻样品台。3.冷冻样品台针对温度敏感型样品如橡胶或水溶性高分子聚合纤维等,可以使用冷冻样品台对样品进行低温下处理,获得高质量处理结果。样品托和挡板的温度都可达到-150摄氏度。
50nm超纯水液体颗粒计数器解决纯水抛光线上纯水的颗粒管控方案
检测仪器:50nm超纯水液体颗粒计数器应运而生。它的诞生,象征着纯水技术领域的一次革命性飞跃。它的核心功能,在于能够精确检测并计数出纯水中直径达到50纳米及以上的颗粒,为纯水抛光线的颗粒管控提供了强有力的技术支持。
赛智科技推出【丙二酸】高效液相HPLC检测方案
丙二酸 又称缩苹果酸,分子式HOOCCH2COOH。以钙盐形式存在于甜菜根中,甜菜制糖的浓缩罐里沉积的水垢即丙二酸钙。丙二酸及其酯主要用于香料、粘合剂、树脂添加剂、医药中间体、电镀抛光剂、爆炸控制剂、热焊接助熔添加剂等方面。以下是赛智科技利用10Tvp高效液相色谱仪对【丙二酸】进行的HPLC检测方案。
使用石蜡镶嵌法解决薄片样品金相抛光后还要完好取出的问题!
薄片样品,要求磨抛之后,能取出来进行下一步实验。采用石蜡镶嵌法对薄片样品进行镶嵌,简单、易用,满足技术需要,是很好的解决方案。
用于SEM(EBSD)分析的大面积样品制备新手段
GATAN 第二代精密刻蚀镀膜仪(PECS II)是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。PECSII是一款完全独立、结构紧凑的台式设备。采用两个宽束氩离子源对样品表面进行抛光,去除损伤层,从而得到高质量样品,用于在SEM,光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC或其它分析。
用于SEM(EBSD)分析的大面积样品制备新手段
GATAN 第二代精密刻蚀镀膜仪(PECS TMII)是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。PECSII是一款完全独立、结构紧凑的台式设备。采用两个宽束氩离子源对样品表面进行抛光,去除损伤层,从而得到高质量样品,用于在SEM,光镜或者 扫 描 探 针 显 微 镜 上 进 行 成 像 、 EDS、 EBSD、 CL、 EBIC或其它分析。
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