离子束抛光机

【Gatan】697 Ilion II Datasheet 宽束氩离子抛光系统 品牌： GATAN 名称型号：氩离子抛光系统Ilion II 697制造商： GATAN公司经销商：欧波同有限公司产品综合介绍 产品功能介绍氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面，集成电路焊点，多层薄膜截面，颗粒、纤维断面，复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的SEM、EBSD样品。品牌介绍美国Gatan公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。Gatan公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。作为世界领先的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商，其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学，能源科学等领域， 客户范围涵盖全球的科研院所，高校，各类检测机构及大型工业企业实验室，并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。经销商介绍欧波同有限公司是中国领先的微纳米技术服务供应商，是一家以外资企业作为投资背景的高新技术企业，总部位于香港，分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、Gatan扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在中国地区最重要的战略合作伙伴，公司秉承“打造国内最具影响力的仪器销售品牌”的经营理念，与蔡司，Gatan品牌强强联合，正在为数以万计的中国用户提供高品质的产品与国际尖端技术服务。 产品主要技术特点氩离子抛光系统采用两支具有低能聚集的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果，用于样品的终极抛光。新型低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持恒定。每个枪都可准确独立地将离子束对中在样品上，从而产生极高的离子抛光速率。在操作过程中，可随时改变枪的角度。通过控制气体流量可将枪电流变化范围控制在0~100mA之间。在触摸屏上通过手动或者自动方式调节气体流量使每个枪的工作电流得到最优化。 集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对Ilion II的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方，调用配方可获得高精度重复实验。 涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。Gatan专利的气动控制Whisperlock技术能实现快速样品交换（ 1分钟），省去了换样过程中必须完全泄真空至大气的烦恼。1. 气锁装置实现快速样品交换、始终保持洁净的高真空状态2. 10英寸触摸屏可对系统进行完全控制与监测3. 配方模式的控制界面，用于一键操作4. 质量流量控制器提供精确和可重复的氩离子电流的控制5. 枪电压范围为100V到8000V的三元（阴极、阳极与聚焦极）构造潘宁离子枪6. 每个枪的抛光角度可调范围为-10度~10度，增量为0.1度7. 扇形抛光角度可变且可程序化，范围从10度~90度8. 离子枪无需零件更换，寿命超过30,000小时9. Gatan专利的样品/挡板配置，装样简单，再次抛光位置准确10. 独特的离子束调制功能，可进行扇形抛光和平面抛光11. 洁净的真空系统，分子泵与隔膜泵搭配12. 操作简单，维护方便 抛光前- 俯视SEM图CuInSe2样品 抛光90S后SEM 图 CuInSe样品 产品主要技术参数： 1、 离子枪：两个配有稀土磁铁的三元构造（阴极、阳极与聚焦极）潘宁离子枪，聚焦离子束设计,高性能无耗材2、 抛光角度： +10° 到 -10° ，每个离子枪可独立调节3、 离子束能量：100 V 到 8.0 kV4、 离子束流密度：10 mA/cm2 峰值5、 抛光速度：300 μm/h（8.0 kV条件下对于硅试样）4.2样品台6、 样品装载： Ilion专利的样品挡板, 装样简单，再次抛光位置准确，可重复使用，配合Sample Stub可直接转至SEM中观察 7、样品旋转：0.5到6 rpm连续可调8、束流调制：独特的离子束调制功能，可进行扇形截面抛光（扇形角度为10到90度可调）和平面抛光。9、样品观察：数码变焦显微镜，配有PC及Digital Micrograph软件采集图像，通过Gatan Digital Micrograph软件可进行实时成像（300x–2,200x）与图像存储和分析10、液氮冷台：配置液氮冷台，样品最低温度可达-120°C,有效减少离子束对样品造成的损伤 4.3真空系统11、干泵系统：两级隔膜泵支持80升/秒的涡轮分子泵12、压力：5x10-6 托基本压力，8.5x10-5托工作压力13、真空规：冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵14、样品空气锁： 独特的Whisperlok设计，样品更换时间1Min，无需破样品室真空4.4用户界面15、10 英寸触摸屏： 操作简单，且能够完全程序化控制所有参数可进行配方操作。16、配方操作模式：自定义不同的加工参数组合，实现一键操作。 产品主要应用领域： EBSD样品制备截面样品制备金属材料（合金，镀层）石油地质岩石矿物光电材料化工高分子材料新能源电池材料电子半导体器件PCB电路版截面抛光SEM图镀锌钢板截面抛光Zn晶粒 Fe晶粒

德国NTG公司有30年的离子束设备研发和生产经验，是专业的离子束抛光机制造商，在世界范围拥有众多的知名用户。产品型号IBF100，IBF200，IBF300，IBF450，IBF500，IBF700以及超大型IBF1500，IBF2000等。加工精度PV值最高达1/100波长，RMS 1nm,最大加工直径2000mm.详细信息：0216148208013501902109w.zhang@oec-shangh.com

价格货期电议KRI 考夫曼离子源典型应用 IBF 离子束抛光工艺 离子束抛光加工 Ion Beam Figuring, IBF 已逐渐成为光学零件表面超精加工常用的最后一道工艺, 离子源是离子束抛光机的核心部件. 上海伯东美国 KRI 直流电源式考夫曼离子源 KDC 系列成功应用于光学镀膜离子束抛光机 IBF Optical coating 及晶体硅片离子束抛光机 IBF Clrystalline )工艺.考夫曼离子源通过控制离子的强度及浓度, 使抛光刻蚀速率更快更准确, 抛光后的基材上获得更平坦, 均匀性更高的薄膜表面. KDC 考夫曼离子源内置型的设计更符合离子源于离子抛光机内部的移动运行. 上海伯东是美国 KRI 考夫曼离子源中国总代理.KRI 离子源离子束抛光实际案例一:1. 基材: 100 mm 光学镜片2. 离子源条件: Vb: 800 V ( 离子束电压 ), Ib: 84 mA ( 离子束电流 ) , Va: -160 V ( 离子束加速电压 ), Ar gas ( 氩气 ).离子束抛光前平坦度影像呈现图离子束抛光后平坦度影像呈现图KRI 离子源离子束抛光实际案例二:1. 基材: 300 mm 晶体硅片2. 离子源条件: Vb: 1000 V ( 离子束电压 ), Ib: 69 mA ( 离子束电流 ), Va: -200 V ( 离子束加速电压 ) Ar gas ( 氩气 )离子束抛光前平坦度影像呈现图离子束抛光后平坦度影像呈现图 KRI 离子源实际安装案例一: KDC 10 使用于光学镀膜离子束抛光机KRI 离子源实际安装案例二: KDC 40 使用于晶体硅片离子束抛光机上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 系列根据客户离子抛光工艺条件提供如下型号:型号KDC 10KDC 40KDC 75KDC 100KDC 160电压DC magnetic confinement- 阴极灯丝11222- 阳极电压0-100V DC电子束电子束- 栅极专用,自对准- 栅极直径1 cm4 cm7.5 cm12 cm16 cm 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 考夫曼离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

徕卡三离子束切割仪您是否需要制备硬的，软的，多孔，热敏感，脆性和/或非均质多相复合型材料，获得高质量样品表面，以适宜于扫描电子显微镜(SEM)分析和原子力显微镜(AFM)检测。 Leica EM TIC 3X 的宽场离子束研磨系统非常适合能谱分析EDS、波谱分析WDS、俄歇分析Auger、背散射电子衍射分析EBSD。离子束研磨技术是一个适用于任何材质样品，获得高质量切割截面或抛光平面的解决方案。使用该技术对样品进行处理，样品受到形变或损伤的可能性低，可暴露出样品内部真实的结构信息。徕卡三离子束切割仪 可以灵活选择多种样品台，不仅适用于高通量实验，也适合于特定制样需求实验室。依据您具体需求，每一台Leica EM TIC 3X都可装配多种可切换样品台，如标准样品台、三样品台、旋转样品台或冷冻样品台，应用于常规样品制备，高通量样品制备，以及某些高分子聚合物，橡胶或生物材料等温度极敏感样品制备。其与Leica EM VCT环境传输系统相连接，可以实现将冷冻的生物样品表面受保护地被真空冷冻传输进入镀膜仪或冷冻扫描电镜(Cryo-SEM中，或者应用于地质或工业材料样品，实现真空传输。操控性能方面创新特点：★★★ 可获得高质量切割截面，区域尺寸可达4x1mm★★★ 多样品台设计可一次运行容纳三个样品★★★ 可容纳大样品尺寸为50x50x10mm或直径38mm★★★ 可简易准确地完成将样品安装到载台上以及调节与挡板相对位置的校准工作★★★ 通过触摸屏进行简单操控，不需要特别的操作技巧★★★ 样品处理过程可实时监控，可以通过体视镜或HD-TV摄像头观察★★★ LED4分割照明，便于观察样品和位置校准★★★ 内置式，解耦合设计的真空泵系统，提供一个无振动的观察视野★★★ 可在制备好的平整的切割截面上可再进行衬度增强作用，即离子束刻蚀处理★★★ 几乎适用于任何材质样品，使用冷冻样品台，挡板和样品温度可降至-160℃★★★ 通过USB即可进行参数和程序的上传或下载★★★ 一体化解决方案，大大节约用户的干预时间高效所谓真正的高效是一台离子束研磨仪既可以获得高质量结果，又可高通量制样。除了散焦三离子束超越传统，使样品制备结果优化并有效缩减工作时间，我们将离子束研磨速率提高至原来的2倍。一次运行可容纳三个样品。使用一款样品台就既可实现离子束切割又可离子束抛光。一体化解决方案确保样品被安全而高效地转移至后续制备设备或分析仪器中。灵活：装配您的系统现在的科研实验室往往寻求快速简单的样品制备方法同时又不放弃高质量高标准要求。Leica EM TIC 3X三离子束切割仪的创新技术正为这一类有着高期望值的实验室提供解决方案，以实现你们的目标。根据应用需求，Leica EM TIC 3X可以由您装配用于标准类型样品制备，高通量样品制备以及特殊的热敏感型样品在低温下样品制备（如聚合物、橡胶，甚至生物材料等）。样品可被真空冷冻传输进入冷冻扫描电镜Cryo-SEM为满足个性化应用需求，共提供五种可切换样品台:★★ 旋转样品台 ★★ 三样品台 ★★ 标准样品台 ★★ 冷冻样品台 ★★ 真空冷冻传输对接台与制样流程的兼容性使用一款样品载台，样品可以从Leica EM TXP精研一体机中机械预制备，Leica EM TIC 3X中离子束研磨，再到SEM中检测都保持原位。另外，Leica EM TIC 3X可以用来制备环境敏感型样品，例如将Leica EM VCM放置于手套箱中，这类预制备好的样品可以不更换样品载台，通过Leica EM VCT传输舱被直接传输进入带有VCT接口的离子研磨仪Leica EM TIC 3X中。经过离子束加工后，样品可以不暴露到空气环境中，再直接被转移进入后续步骤技术手段。例如进Leica EM ACE600进行镀膜，和/或SEM检测。可复制的结果Leica EM TIC 3X 三离子束切割仪可制备横切面和抛光表面，用于扫描电子显微镜 (SEM)、微观结构分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研工作。使用 Leica EM TIC 3X，您几乎可以在室温或冷冻条件下，对任何材料实现高品质的表面处理，尽可能显示样品近自然状态下的内部结构。

IMP220离子减薄抛光仪配置两把宽束氩离子枪，可为透射电镜样品制备离子减薄样品，也可对平整表面样品进行直径20mm以上的大面积离子束抛光，去除表面污染、机械划痕和应力损伤层。两把宽束氩离子枪，更低的样品热损伤和非晶化损伤Long Scope IMP220 的宽束氩离子枪对样品进行离子减薄，可获得比聚焦型离子枪更低损伤和更大可观察面积的薄区，选配冷冻台附件可高质量加工热敏感材料样品。大样品仓和样品台移动范围，兼顾离子减薄和离子抛光Long Scope IMP220配置多种样品台，适用常温或冷冻条件下的离子减薄，和用于扫描电镜样品的大面积离子束抛光，兼顾广泛类型的材料电镜样品。配置真空冷冻样品转移仓，真空或保护气氛条件下转移样品Long Scope IMP220通过真空冷冻样品转移仓装载、转移或卸载样品，维持样品仓处于高真空洁净状态，样品离子加工之后可在真空或保护气氛条件下转移至电镜仓内。

科正600A等离子电桨抛光机去毛刺设备主要用于眼镜、卫浴、手表、饰品、精密五金等产品的加工。等离子抛光技术主要是针对上前市场上不锈钢，锌合金，铜合金及铝合金等抛光的难题耐研发的，该技术可以去除产品表面毛刺，不锈钢产品可达到表面镜面抛光效果。抛光样品图：等离子抛光去毛刺设备特点如下：一、等离子电浆抛光机适合6种以上金属材质抛光传统的设备只能抛光不锈钢材质产品，但是如今，不仅仅可以抛光不锈钢产品，还可以抛光铜，镁合金，锌合金，不锈铁，铝合金，金银等金属材质产品。一台设备就可以完成多种材质产品的抛光处理。为企业剩下了高昂的购机成本。二、等离子抛光去毛刺设备应用行业广泛1、卫浴餐具行业2、眼镜行业3、钟表行业/五金饰品行业4、手机电子行业5、小家电行业6、航天航空行业7、等其他要求精度高标准的行业 三、抛光去毛刺设备机8大优势技术突破后的等离子抛光设备效率极高。传统人工抛光的方式对于小五金件，一个熟手一天也难处理好100件，但是，本设备一分钟即可抛光100多件产品。优势一、抛光效果镜面高亮精度可达0.002mm，粗糙度（RMS)可达0.01微米优势二、生产效率100件/分钟优势三、低耗电70度/小时优势四、一机多用可抛光：锌合金，镁合金，黄铜，不锈钢，金银等材质产品优势五、三重 保障1. 电压电流过载预警保护2. 温度实时检测和补偿保护3. 防漏电触电门保护优势六、环保 无污染优势七、不伤产品不会伤害产品优势八：生产效率有很大的提升1台设备每天产量超过100个人工作产量咨询：13724587140设备图供参考：

PG-2型金相试样抛光机　　PG-2抛光机是采集多方面使用人员的意见和要求设计而成的，它具有造型美、结构合理、传动平稳、噪音小、操作维修方便等优点。该机可供双人同时操作，抛光盘直径与传递功率均大于国内同类产品，能适合更多种材料的抛光要求，是试样抛光的理想设备。本产品分落地式(PG-2)和台式(PG-2A)两种，供用户选择。 PG-2金相试样抛光机主要参数：抛盘直径：200mm带胶抛光布直径：200mm转　　速：900r/min（可改为1400r/min）电 动 机：YS7116 0.2kW电 源：380V 50Hz外形尺寸：PG-2：81×40×92cmPG-2A：81×40×35cm重　　量：PG-2型26Kg；PG-2A型23Kg

化学机械抛光机CP-6概述RTEC化学机械抛光机CP-6采用专业的方式研究和表征CMP工艺。 除了抛光晶圆和基板外，测试仪还配有在线表面轮廓仪。这种组合提供了有关表面、摩擦、磨损等变化的原因和方式的信息。测试仪还可以测量几个内联参数，如摩擦力、表面粗糙度、磨损量等，以便详细了解过程。特点l集成的共聚焦3D显微镜，可以用nm分辨率表征抛光垫表面l内联摩擦、声发射研究抛光过程l内联温度传感器l可安装多种晶圆尺寸l可控制的下压力和速度 标准配置有X、Y平台，可在抛光和成像位置之间移动压板。此外，XY平台有助于在抛光过程中振荡晶圆。使用带有XY驱动器的压板允许多轴驱动组合来创建自定义运动，以模拟接近现实生产环境的测试条件。内联传感器扭矩 - 高分辨率内联扭矩传感器可实现端点定位，并实时表征表面；声学 - 声音信号，允许定性终点或帮助检测抛光过程中的碎片、缺陷。温度 - 焊盘和靠近晶圆抛光表面的区域的在线温度监控有助于研究去除机制。 可编程负载、速度 为了优化过程，CP-6允许使用基于配方的软件控制和改变力、速度、流速。 易于使用 摩擦测量仪配有快换载体，可轻松安装晶圆和焊盘。该软件带有预定义的测试标准配方，或者可以轻松创建新的自定义配方。集成在线3D轮廓仪 Rtec化学机械抛光机配有内联集成的3D轮廓仪。经过优化，可以表征具有nm分辨率的抛光垫表面。探测器配有共焦模式+干涉仪模式+暗场和明场模式。 这允许以nm分辨率研究表面变化与时间的关系。该测试仪允许在大表面积上自缝合，以进行体积磨损，粗糙度计算。

一、性能：l 为数字控制的8"盘研磨抛光机；l 性价比高、耐用性好，是一款适用于中小型实验室的理想产品；l 设计用于金属、陶瓷及地质样品及断面的专业研磨抛光；l 快速换盘系统，适合从粗研磨到最后抛光的所有研磨抛光程序；l 含研磨用给排水装置；l 外壳由单块防腐增强玻璃纤维聚酯制造；l 配备强力1/3HP马达；配有固定转速150、300 rpm，使大多数样品均能得到最佳结果；数字控制转速范围为50至600 rpm。 二、技术参数：盘大小8" (203mm)盘数量1盘型快速更换, drop-in型转速固定： 150 / 300 rpm 可变： 50-600 rpm控制数字式马达250W功率230V ，2A总尺寸345 x 585 x 295mm重量30kg

自动金相抛光机METPOL-A性能：◆ METPOL–A是一款全自动金相抛光机，可使用手动模式◆ 超大彩色触摸屏，清晰，易于操作◆ 可以预设/存储5组*12个步骤/组的程序，方便多种材料的研究◆ 动力头可气动限位设定，在自动模式下，使砂纸、抛光布的利用率更高◆ 磨盘转速可调，转向可顺时针或逆时针◆ 动力头转速可调，转向可顺时针或逆时针◆ 动力头卡具有180°旋转功能，方便装、取样品◆ 研磨、抛光后动力头可自动复位◆ 冷却水喷嘴可转向、可伸缩◆ 有自动清洗功能◆ 兼容自动给液系统，自动给液系统有抛光液回流功能，防止给液管堵塞◆ 简洁、方便的排水系统◆ 卡具可卡持6个样品，可选配变径环调节直径◆ 防腐处理的碗型内衬◆ 防腐处理的钢体机身，坚固耐用◆ 自带防溅罩、防尘盖自动金相抛光机METPOL-A技术参数： 磨盘尺寸 10in(254mm)，12in(305mm)，单盘 电源 220V，单相，50Hz 磨盘电机功率 1Hp(735W) 动力头电机功率 0.5Hp(370W) 磨盘/动力头转向 顺时针或逆时针，可调 磨盘转速 手动10-600rpm/min，自动10-700rpm/min，可调 动力头转速 30-150rpm/min，可调 动力头加载力值 单点力：10N-90N 加载模式 气动 升降模式 电动，限位控制 样品卡持能力 6个 压缩空气压力 1-4bar，可调 进气口尺寸 8mm 上水口尺寸 8mm 下水口尺寸 内径32mm 显示屏 对角线7in彩色触摸屏 预设程序 5组，每组12个步骤 自动给液系统 3个抛光液+1个冷却液 卡具尺寸 in：1，1.25，1.5，2；mm：25，30，40，50，可选配变径环调节 尺寸（W×D×H） 470×845×560mm 重量 104kg订货信息： 产品编号产品描述 37 03-A-1010in自动金相抛光机METPOL-A 37 03-A-1212in自动金相抛光机METPOL-A 37 03-AD自动给液系统 37 03-A-SH单点力卡具 6×40mm 37 03-A-DR变径环 1in, 1.25in, 1.5in, 25mm, 30mm可选 GPA-1010in工作铝盘 GPM-1010in磁性盘 GPI-1010in铁盘 GPR-1010in橡胶盘 GPA-1212in工作铝盘 GPM-1212in磁性盘 GPI-1212in铁盘 GPR-1212in橡胶盘

该研磨抛光机经济实用，是小型实验室的理想工具。其结构紧凑，非常适合包埋样品使用压敏胶PSA（Pressure Sensitive Adhesive）研磨和抛光。机箱采用耐腐蚀性坚固塑料制造。耐用的1/4 HP马达转速范围为80-2000 rpm，可为研磨与抛光选择最佳转速。XP 8含灵巧的研磨用水喉。 功率1/4 Hp, 230V, 1A盘尺寸8" (203mm)盘型同旋钮型(1/4"-20)转速控制80-2000 rpm总尺寸 381 x 445 x 241mm重量8.8kg

产品名称：振动抛光机产品型号：KHG-250产品介绍：KHG-250型振动抛光机采用高频微量振动方式，对样件表层进行轻量精细抛光，尽量减少在抛光过程中的机械应力；适用于在各种材料上制备高质量的抛光表面，包括电子背散射衍射分析 (EBSD) 应用、原子力显微镜（AFM）分析、电镜（SEM）分析等前序样品制备有效。同时，振动抛光因其优异的机械-化学抛光效果，适合大部分材料的精抛和终抛，尤其适用于软质和韧性材料，如纯钛及钛合金、纯铝及铝合金、纯铜及铜合金、镍基合金、高温合金等。与传统的振动抛光机不同，本机通过弹簧板及磁吸合电机来产生左右方向的振动，由于弹簧板与振动盘之间是有角度的，因而可以让试样在抛光盘内作圆周运动。该结构可以产生几乎完全水平方向的振动，大限度地提高了样品接触抛光布的时间，在抛光过程对样品没有产生附加损伤层和变形层，可以有效地去除和避免浮凸、嵌入和塑性流变等缺陷。该机外观新颖美观，操作简单，振动频率和振动电压可随着振动强度自动适应，可一次放置多个试样，无需人员值守，用户设定好参数后就可以离开，等待试样自动完成振动抛光，广泛应用于各大企业事业单位和科研院校。产品特点：1.手动自动一键切换2.自适应工件自动搜频3.超长设置时间、一键满足多种需求4.整体机构振动平稳，噪音低，寿命长5.无极调速加四挡定速，方便快捷满足各种需求6.强度范围宽50-600任意设置，满足多种零部件7.充分利用悬浮液，清洗方便8.夹持样品范围大可调节技术参数：名称规格抛盘直径φ250抛布直径φ250振动电压10-220V振动强度50-600振动频率25-400HZ设置时间30000分钟样品直径φ20-50mm输入电源电压：220V 频率：50HZ功率1KW外形尺寸 500X610X365mm重量85kg

西恩士仪器提供自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S报价，同时包括自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S图片、自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S参数、自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S使用说明书、自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S价格、自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S经销商价格等信息，自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S维修、为您购买自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S提供有价值的产品本机采用了先进的微处理器控制系统，使得磨抛盘、磨抛头的转速实现无级可调，制样压力、时间设定直观、便捷。操作者只需更换磨抛盘或者金相砂纸和抛光织物即可完成磨、抛工序的操作，从而使本机展现了更加广泛的应用性。本机具备磨抛盘旋转方向可任意选择、磨抛盘可快速更换；多试样夹持器和气动单点加载；磨料自动配送（分液器可选配）等功能，还具有转动平稳、安全可靠、噪音低及采用铸铝底座增加了磨抛的刚性等特点。本机带有水冷却装置和磨粒冲刷喷嘴，可以在研磨时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相组织并随时将磨粒冲刷排走；再配以ABS外壳和不锈钢标准件，在外观上更加美观大方，并提高了防腐、防锈性能且易清洁。技术参数：项目规格 SINPOL 4000S研磨盘数单盘研磨直径200mm/250mm/300mm底盘 50-1000r/min（无级调速）研磨转速研磨头50-150r/min电机250W/250W/370W研磨方向顺时针，逆时针研磨试样数量4个试样规格Φ20/25/30/32/40mm可选其中一种加载方式气压自动加压操作界面/程序数显显示，可设定研磨转速，时间，转向运转中提示：运转转速,时间倒数计时环境温度5-40°C / 41-104°F电压/频率单相AC220V 50Hz自来水水压1-10 bar / 14.5-145 psi尺寸单盘790×566×677（mm）质量重量73kg

产品型号：Unipol-1502产品简介：Unipol-1502型精密研磨抛光机可用于加工制备各种晶体材料、陶瓷材料及金属材料而设计的新一代产品。该机配有直径381毫米的研磨抛光盘和三个加工工位。可研磨抛光直径&ge 100毫米或矩形的平面。采用UNIPOL1502型精密研磨抛光机及选购的附件，可自动批量生产高质量的平面磨抛产品。主要特点：1、超平抛光盘（平面度为每25毫米× 25毫米小于0.3微米） 2、超精旋转轴（托盘端跳小于8微米） 3、三个加工工件 4、带有数字式显示的无级调速 5、可自动停止工作的定时器 6、可配备自动送液的滴料器或循环泵技术参数：电源：交流110V或220V 速度：无级调速 定时器：定时范围为1分钟～99.99小时 外形尺寸：650mm× 510mm× 300mm（长× 宽× 高） 重量：95千克尺寸：810mm x 800mm x800mm 200kgs产品附件：150× 200&ldquo 00&rdquo 级精密花岗岩测厚仪； 自动混料及送液的滴料器； 搅拌循环泵； 各种配重块，以调整抛光和研磨的压力（100克-2000克）； 用于精细研磨抛光的铜及锡合金抛光盘； 易粘贴的抛光垫； 可根据客户要求设计载料块的大小。可选配件：二个直径381毫米的研磨抛光盘（铸铁盘和铸铝盘各一个） 三个修整环 三个载料块 三个支持修整环的支架 一本操作规程手册具体信息请点击查看：

v 半导体研磨抛光机是一款操作简单的桌面型单面抛光设备，可搭配铜盘、锡盘、玻璃盘、不锈钢盘等，配合不同类型的抛光液，适用于各种半导体材料的研磨抛光，满足科研院校、企业的研发及小批量生产v 抛光盘规格：380mmv 陶瓷盘规格：139mmv 抛光头数量：2v 抛光盘转速范围：0~ 70RPM摆动幅度：±5mm

自动抛光机 AP 250简介AP 250可同时无缝抛光四个薄片。其电机转速（50-600RPM），可进行多种抛光程序，包括最后的用氧化抛光悬浮液的抛光步骤。参数转速：10-600RPM岩样尺寸：30x45mm/1x1.5”/60x45mm/1x3”抛光盘直径：250mm尺寸：526x589x380mm重量：50kg电源：220V，50/60Hz

UNIPOL-830金相研磨抛光机是我公司主要为各大院校及研究所、各金相实验室设计研发的一款手动研磨抛光机，不仅可以研磨抛光金属材料，也可以研磨抛光其它各类非金属材料，如晶体、陶瓷、玻璃、PCB板、岩样、矿样、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料及有机高分子材料等。UNIPOL-830金相研磨抛光机研磨抛光速度无极可调，压力大小手动控制，操作简单，使用方便，研磨过程中可直接接自来水进行冷却。砂纸或抛光垫的安装可以使用压圈装卡，也可以使用磁力吸附的方式安装，装卸方便，可根据个人需要，选择不同的安装方式。本机可选用压圈装卡或磁力吸附的方式安放砂纸与抛光垫，工作运行更加稳定。磁力吸附主要是为了克服传统装卡抛光织物打褶的缺点，将贴有压敏胶的抛光织物粘贴在研抛底片上，然后再吸附在磁力片上；其次，更便于砂纸及抛光垫的更换。产品名称 UNIPOL-830金相研磨抛光机产品型号 UNIPOL-830安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：出口标准设备：AC110/230V 50/60Hz 三极插座 10A 国内标准设备：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A （插座必须有良好安全保护接地线）4、冷却水：设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水管线。5、气源：标配设备无需求6、工作台：建议在承重 100kg 以上操作台或桌面使用7、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求8、辅助设备（需另行购买）：推荐：1、SKCH-1 型精密测厚仪 2、SZKD-2 型自动搅拌滴料器、SKZD-3 型悬浮液滴料器 3、SKCS-1 型吹干机主要参数 1、设备供电端口：AC110/220V 转换 （国内 AC110V 无效）2、总功率：180W3、研抛盘直径：Φ203 mm4、研抛盘转速：50-600rpm（可调）5、抛光盘工位：1 工位6、主轴驱动电机：DC110V 165W7、控制方式：单片机+按键备注：1、设备供电有出口和国内两种供电区分，实际供电参数以产品后部粘贴标牌为准。 2、可按用户要求定制各种研抛盘，特殊卡具，专用零部件等。产品规格 8、产品规格：尺寸：L400×W580×H350mm净重：≈24kg序号名称数量图片链接1磁力片2片2研抛底片5片3砂纸8片4抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片5金刚石抛光膏1支序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5磁性树脂金刚石研磨抛光盘（可选）6UNIPOL-01型TEM楔形磨抛夹具（可选）

UNIPOL-1210金相研磨抛光机是我公司主要为各大院校及研究所、各金相实验室设计研发的一款手动研磨抛光机，主要用于研磨抛光各种金相试样，也可以研磨抛光其它各类非金属材料，如陶瓷、玻璃、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、岩样、矿样、耐火材料、复合材料及有机高分子材料等。UNIPOL-1210金相研磨抛光机采用了Ø 300mm的铝质研磨抛光盘，不仅具有优良的刚性、内复式性，而且在同样转速的情况下，可以获得较高的线速度，提高试样制作的效率。研磨抛光速度无极可调，压力大小手动控制，操作简单，使用方便，研磨过程中可直接接自来水进行冷却。砂纸或抛光垫的安装可以使用压圈装卡，也可以使用磁力吸附的方式安装，装卸方便，可根据个人需要，选择不同的安装方式。本机可选用压圈装卡或磁力吸附的方式安放砂纸或抛光垫，工作运行更加稳定。磁力吸附主要是为了克服传统装卡抛光织物打褶的缺点，将贴有压敏胶的抛光织物粘贴在研抛底片上，然后再吸附在磁力片上；其次，更便于砂纸及抛光垫的更换。无级调速，数字显示转数，操作方便。外形美观，运转平稳，噪音低。产品名称 UNIPOL-1210金相研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1210安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：出口标准设备：AC110/230V 50/60Hz 三极插座 10A 国内标准设备：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A （插座必须有良好安全保护接地线）4、冷却水：设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水管线。5、气源：标配设备无需求6、工作台：建议在承重 100kg 以上操作台或桌面使用7、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求8、辅助设备（需另行购买）：推荐：1、SKCH-1 型精密测厚仪 2、SZKD-2 型自动搅拌滴料器、SKZD-3 型悬浮液滴料器 3、SKCS-1 型吹干机主要参数 1、设备供电端口：AC110/220V 转换 （国内 AC110V 无效）2、总功率：180W3、研抛盘直径：Φ300 mm4、研抛盘转速：50-600rpm（可调）5、抛光盘工位：1 工位6、主轴驱动电机：DC110V 165W7、控制方式：单片机+按键备注：1、设备供电有出口和国内两种供电区分，实际供电参数以产品后部粘贴标牌为准。 2、可按用户要求定制各种研抛盘，特殊卡具，专用零部件等。产品规格 8、产品规格：尺寸：L650×W500×H250mm净重：≈33kg序号名称数量图片链接1磁力片2片2研抛底片5片3砂纸8片4抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片5金刚石抛光膏1支序号名称功能类别图片链接1UNIPOL-01型TEM楔形磨抛夹具（可选）

SinPOL 9000振动抛光机是一款9英寸的金相振动抛光机。为抛光多种类型及尺寸样品提供频率及电压方面的便利。SinPOL 9000能十分温和地抛光最难抛光的材料实现十分抛光。通过设置频率，致使样品振动来完成抛光。抛光速度通过电压的调节来控制。SinPOL 9000的特色在于：有不同种类的样品夹及压重物，纤维增强塑料机罩，耐用铸铝基座，可调频率及电压振动系统保证可靠性。技术性能：1.新一代变频控制，试样表面抛光更完美。数字化显示运行参数。2.抛光速度可调。通过调整电压高低和频率，实现设备运行的高效化。3.无需操作者参与的全自动抛光。运行时间可设定，实现无人值守全自动抛光，提高人员工作效率，降低企业成本4.输入电压：软件设置110/220V，全球范围通用5.高强度玻璃钢外壳，防腐蚀，防冲撞6.透明防尘罩可保证抛光盘的洁净7.可承载镶嵌样品或者较大的无需镶嵌的样品8.不同规格样品夹持器可选：1, 1.25, 1.5, 2英寸，32mm，50mm可选，特殊规格可定制主要特点：对于较难制备的材料以及需要充分去除应力和整体不允许有任何破坏的精密元器件等样品的表面抛光工作非常适合，从而充分的满足材料样品微观分析（尤其是EBSD分析）的需要。应用：1、较软材料，如：铝、铜、镍等；2、通用金属材料；高温合金；硬质合金3、高科技超合金；复合材料；4、表面镀层；5、半导体；6、玻璃；陶瓷；矿物质；7、塑料；8、整体不允许做任何破损的精密元器件；9、岩相超薄片样品的制备：抛光后的样品厚度可达至5-10微米应用说明：对于多相（基体+其他相）的材料（不限于多相材料），如果通过观察检验，变形层还存在，那么，就需要利用振动抛光机再进行20~30分钟的振动抛光以充分的去除变形层，从而获取符合高品质的EBSD实验图形要求的样品制备结果。所有的金属材料，即使是硬质合金材料，皆可通过振动抛光来充分的去除残余变形，从而提高EBSD实验图形的品质。

UNIPOL-820金相研磨抛光机主要用于金属材料的研磨抛光，也用于其它各类非金属材料的研磨抛光，如陶瓷、玻璃、PCB板、岩样、矿样、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料及有机高分子材料等。UNIPOL-820金相研磨抛光机可选用压圈装卡或磁力吸附的方式安放砂纸与抛光垫，工作运行更加稳定。磁力吸附主要是为了克服传统装卡抛光织物打褶的缺点，将贴有压敏胶的抛光织物粘贴在研抛底片上，然后再吸附在磁力片上；其次，更便于砂纸及抛光垫的更换。UNIPOL-820金相研磨抛光机采用双研磨盘的结构，双盘可以同时开或单开，可以同时进行不同样品的研磨抛光操作而不会相互污染1、精密旋转，噪音低。2、双盘结构，使用更方便。3、数字显示速度。4、可配备自动滴料器或循环泵。产品名称 UNIPOL-820金相研磨抛光机产品型号 UNIPOL-820安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：出口标准设备：AC110/230V 50/60Hz 三极插座 10A 国内标准设备：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A （插座必须有良好安全保护接地线）4、冷却水：设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水管线。5、气源：标配设备无需求6、工作台：建议在承重 100kg 以上操作台或桌面使用7、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求8、辅助设备（需另行购买）：推荐：1、SKCH-1 型精密测厚仪 2、SZKD-2 型自动搅拌滴料器、SKZD-3 型悬浮液滴料器 3、SKCS-1 型吹干机主要参数 1、设备供电端口：AC110/220V 转换 （国内 AC110V 无效）2、总功率：360W3、研抛盘直径：Φ203 mm4、研抛盘转速：50-600rpm（可调）5、抛光盘工位：2 工位6、主轴驱动电机：DC110V 165W7、控制方式：单片机+按键备注：1、设备供电有出口和国内两种供电区分，实际供电参数以产品后部粘贴标牌为准。 2、可按用户要求定制各种研抛盘，特殊卡具，专用零部件等。产品规格 8、产品规格：尺寸：L720×W530×H320mm净重：≈44Kg序号名称数量图片链接6磁力片4片7研抛底片5片8砂纸（240#、400#、800#、1500#）各2片9抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片10金刚石抛光膏（W2.5）1支序号名称功能类别图片链接1UNIPOL-01型TEM楔形磨抛夹具（可选）

手动单盘金相抛光机METPOL-1V性能：◆ METPOL系列手动单盘金相抛光机以经济实用著称◆ 简明的设计，使安装、维修和操作变得非常简单◆ 单磨盘，有8in、10in和12in三款机型◆ 单盘优选12in机型，有更大的研磨抛光面积，性价比突出◆ 磨盘转向顺时针或逆时针可调，适应不同操作人员的习惯◆ 触摸按键，液晶显示，操作简单，一目了然◆ 冷却水喷嘴可转向、可伸缩； 简洁、方便的排水系统◆ 防腐处理碗型内衬、钢体机身，既美观、耐腐蚀、易清洁又坚固耐用◆ 自带防溅罩、防尘盖◆ 适用于各种材料的研磨、抛光，是实验室装备的基本机型手动单盘金相抛光机METPOL-1V技术参数： 磨盘尺寸 8in(203mm)、10in(254mm)、12in(305mm） 电源 220V，单相，50Hz 电机功率 0.5Hp(370W) 磨盘转速 0-600rpm/min，无级变速 磨盘转向 顺时针或逆时针，可调 操作方式 手动 显示屏 触摸控制，液晶显示 上水口尺寸 8mm 下水口尺寸 内径32mm 尺寸（W×D×H） 432×695×324mm 重量 32kg订货信息： 产品编号产品描述 37 03手动单盘金相抛光机METPOL-1V GPA-088in工作铝盘 GPM-088in磁性盘 GPI-088in铁盘 GPR-088in橡胶盘 GPA-1010in工作铝盘 GPM-1010in磁性盘 GPI-1010in铁盘 GPR-1010in橡胶盘 GPA-1212in工作铝盘 GPM-1212in磁性盘 GPI-1212in铁盘 GPR-1212in橡胶盘

P-2型金相试样抛光机P-2型金相试样抛光机是一款经典的抛光设备，它具有传动平稳，噪音小，操作、维修方便等优点，能适合更多种材料的抛光要求。在金相试样制备过程中，试样的抛光是一道主要工序，经过磨光的试样，在抛光机上抛光后，可获得光亮如镜的表面，该机适用于厂矿企业、大专院校、科研单位的金相试验室。本机由开关键控制抛光盘运行，开关键处于“开”时，抛光盘运行，可得到1400r/min的转速。开关键处于“关”时，抛光盘停止运行。技术规格：结 构： 双盘、落地式抛光盘直径： φ200mm、φ230mm（定制）抛 光 转速 ：1400r/min、900r/min（定制）电 动 机 ：YS7116、 0.12kW 、220V 50HZ外 形 尺寸： 900*500*915（mm）净 重： 30kg毛 重： 36kg常见金相耗材：名称规格用途图片金相切割片250*2*32mm、300*2*32mm等用于金相试样的切割金相镶嵌料黑*、透明等用于微小、薄片型等工件的镶嵌金相砂纸（干湿两用）320#、600#、800#、1200#等各种黑*和有*金属的金相试样的研磨抛光绒布平绒、真丝、呢绒等各种金相试样及仪器、仪表灯零件的精密抛光高效金刚石喷雾抛光剂W0.5um、W1um、W2.5um等用于不同材料、硬度的样品研磨抛光

P-1金相试样抛光机 P-1型金相试样抛光机是一款经典的抛光设备，它具有传动平稳，噪音小，操作、维修方便等优点，能适合更多种材料的抛光要求。在金相试样制备过程中，试样的抛光是一道主要工序，经过磨光的试样，在抛光机上抛光后，可获得光亮如镜的表面，该机适用于厂矿企业、大专院校、科研单位的金相试验室。 控制系统：本机由开关键控制抛光盘运行，开关键处于“开”时，抛光盘运行，可得到1400r/min的转速。 开关键处于“关”时，抛光盘停止运行。技术规格：结构 ：单盘台式抛光盘直径： φ200mm抛光转速 ：1400r/min电动机： 180W，220V 50HZ外形尺寸： 360*300*320（mm）净重 ：16kg毛重 ：21kg常见金相耗材：名称规格用途图片金相切割片250*2*32mm、300*2*32mm等用于金相试样的切割金相镶嵌料黑*、透明等用于微小、薄片型等工件的镶嵌金相砂纸（干湿两用）320#、600#、800#、1200#等各种黑*和有*金属的金相试样的研磨抛光绒布平绒、真丝、呢绒等各种金相试样及仪器、仪表灯零件的精密抛光高效金刚石喷雾抛光剂W0.5um、W1um、W2.5um等用于不同材料、硬度的样品研磨抛光

P-1型金相试样抛光机产品介绍： P-1型金相试样抛光机(以下简称抛光机)适用于对经磨光后的金属材料进行抛光，可获得光亮如镜的金属表面，供在显微镜下观察与测定金相组织。技术参数：1.抛盘直径：Φ200mm 2.抛盘转速：1400r/min 900r/min（订制）3.电源：220v、50Hz4.外型尺寸：360×300×320mm5.净重：16Kg售后服务：免费保修一年，终身维护

振动抛光机UniPOL V0900 UniPOL V0900是全新设计金相岩相振动抛光机，能充分去除样品表面的变形层，消除表面应力，提高样品表面光洁度，对于SEM扫描电镜EBSD分析用样品的制备非常有效，广泛应用于各大企事业单位和科研院校。 产品特点● 新一代变频控制，试样表面抛光更完美。数字化显示运行参数● 无需操作者参与的全自动抛光。运行时间可设定，实现无人值守全自动 抛光，提高人员工作效率，降低企业成本● 高强度玻璃钢外壳，防腐蚀，防冲撞。透明防尘罩可保证抛光盘的洁净● 可承载镶嵌样品或者较大的无需镶嵌的样品● 不同规格样品夹持器可选：1, 1.25, 1.5, 2英寸，32mm，50mm 可选，特殊规格可定制 技术参数产品名称UniPOL V0900工作盘直径(mm)228.6电压110/220V，50/60Hz功率350W整机尺寸(WxDxH)430*530*440重量(kg)821.25英寸夹具、配重块● 各3个1.25英寸夹平器、防尘盖● 各1个抛光布● 1张夹具，配重块，夹平器○ 1英寸 ○ 1.5英寸 ○ 2英寸，其他可定制●标配 ○选配 产品细节 负载夹具 样品求平器 多种悬浮液可选

KMP-2型金相试样抛光机概述： KMP-2型金相试样抛光机是一款经典的抛光设备，它具有传动平稳，噪音小，操作、维修方便等优点，能适合更多种材料的抛光要求。在金相试样制备过程中，试样的抛光是一道主要工序，经过磨光的试样，在抛光机上抛光后，可获得光亮如镜的表面，该机适用于厂矿企业、大专院校、科研单位的金相试验室。控制系统：本机由开关键控制抛光盘运行，开关键处于“开”时，抛光盘运行，可得到1400r/min的转速。开关键处于“关”时，抛光盘停止运行。KMP-2金相试样抛光机参数表：结构双盘落地式抛光盘直径φ200mm抛光转速1400r/min电动机220V 50HZ外形尺寸900*500*915（mm）净重30kg毛重36kgKMP-2金相试样抛光机装箱单：名 称规 格数 量单 位主机KMP-21台抛光绒布φ200mm2张抛光盘φ200mm2个防尘盖2个排水管2根产品说明书、合格证、装箱单 各1份

KMP-1型金相试样抛光机概述： KMP-1型金相试样抛光机是一款经典的抛光设备，它具有传动平稳，噪音小，操作、维修方便等优点，能适合更多种材料的抛光要求。在金相试样制备过程中，试样的抛光是一道主要工序，经过磨光的试样，在抛光机上抛光后，可获得光亮如镜的表面，该机适用于厂矿企业、大专院校、科研单位的金相试验室。控制系统：本机由开关键控制抛光盘运行，开关键处于“开”时，抛光盘运行，可得到1400r/min的转速。开关键处于“关”时，抛光盘停止运行。KMP-1金相试样抛光机参数表： 结构单盘台式抛光盘直径φ200mm抛光转速1400r/min电动机180W，220V 50HZ外形尺寸360*300*320（mm）净重16kg毛重21kgKMP-1金相试样抛光机装箱单：名 称规 格数 量单 位主机KMP-11台抛光绒布φ200mm1张金相抛光盘φ200mm1个防尘盖1个排水管1根产品说明书、合格证、装箱单各1份

1.用途： 对于大多数材料，尤其是较难制备的材料以及需要充分去除应力和整体不允许有任何破坏的精密元器件等样品的表面抛光工作非常适合，从而充分的满足材料样品微观分析（尤其是EBSD分析）的需要。包括，并不限于以下应用：1) 较软材料，如：铝、铜、镍等；2) 表面镀层；3) 整体不允许做任何破损的精密元器件；4) 高科技超合金；5) 岩相超薄片样品的制备：抛光后的样品厚度可达至5~10微米 EBSD应用说明：对于大多数材料，经过正常的样品制备后，如果通过观察检验，变形层还存在，那么，就需要利用振动抛光机（Buehler VibroMet 2 Vibratory Polisher）再进行20~30分钟的振动抛光以充分的去除变形层，从而获取符合高品质的EBSD实验图形要求的样品制备结果。所有的金属材料，即使是硬质合金材料，皆可通过振动抛光来充分的去除残余变形，从而提高EBSD实验图形的品质。2.技术性能：1) 防腐蚀、防冲撞的整体设计；2) 前置触摸式液晶显示屏：操作简单，易行，操作包括：启/停显示（灯）和振动速度控制；3) 数字式液晶屏可清晰地显示振动电流变化的柱状曲线；4) 透明的抛光盘防尘罩可保证抛光盘的洁净；5) 可快速更换的抛光盘；6) 宽大的抛光盘（12英寸直径）可承载多至18个镶嵌样品或较大的无需镶嵌的样品；7) 无需操作者参与的全自动工作过程；8) 可调节电流的水平振动驱动系统，转速可达7200转/分。9) 有不同尺寸的样品卡持器供选择：用于镶嵌好的直径为：1”、11/4”、11/2” 的样品的卡持器及配重；

LaboSystem快速实现可靠且可调节的研磨和抛光LaboSystem 事实锥盘系统椭圆状的防溅环和碗持久耐用性方便操作人员可满足您不断变化的需求LaboSystem 旨在在实验室或生产线旁实现快速且可靠的手动和半自动研磨和抛光，可随时执行检测操作。LaboSystem 是一种组装式研磨和抛光系统，有三种 LaboPol 抛光机、三种 LaboForce 移动盘和两种 LaboDoser 配料装置供选择。这三种装置有七种不同的组合，因此可充分满足要求苛刻的生产环境中不断变化的需求。Struers LaboSystem 还具备连续生产所需的耐用性和速度，有助于更加快速可靠的制备样品。可靠LaboPol 是由耐腐蚀和抗冲击的材料制造而成。全新的 LaboSystem 产品均已通过 40,000 次循环的耐用性测试以及在四个不同国家开展的为期六个月的现场测试。快速LaboSystem 是一款易于学习的系统，即使是没有操作经验的操作人员，也可在数分钟内完全掌握操作要领，实现全速制备。适应性强LaboSystem 的模块化设计允许用户根据自己的需求自由定制制备或研磨/抛光设备。可随时更新 LaboSystem，以满足新的要求。机型号LaboSystem 有许多型号，详细信息请参见规格。LaboPol-20：LaboPol-20： 可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径为 200 毫米的盘。配置手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘 要单独订购。可以安装试样移动盘 LaboForce-50。LaboPol-30：LaboPol-30： 可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径为 230、250 或 300 毫米的盘。配置手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘需要单独订购。可以安装试样移动盘 LaboForce-50/-100/Mi。LaboPol-60：LaboPol-60： 可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径 250 或 300 毫米的 2 种盘。每个盘均配有自动水阀、手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘需要单独订购。可以安装一个试样移动盘 LaboForce-50/-100。详情也可 点击此处 进入官网了解更多。

LaboSystem快速实现可靠且可调节的研磨和抛光LaboSystem 事实锥盘系统椭圆状的防溅环和碗持久耐用性方便操作人员可满足您不断变化的需求LaboSystem 旨在在实验室或生产线旁实现快速且可靠的手动和半自动研磨和抛光，可随时执行检测操作。 LaboSystem 是一种组装式研磨和抛光系统，有三种 LaboPol 抛光机、三种 LaboForce 移动盘和两种 LaboDoser 配料装置供选择。这三种装置有七种不同的组合，因此可充分满足要求苛刻的生产环境中不断变化的需求。Struers LaboSystem 还具备连续生产所需的耐用性和速度，有助于更加快速可靠的制备样品。可靠LaboPol 是由耐腐蚀和抗冲击的材料制造而成。全新的 LaboSystem 产品均已通过 40,000 次循环的耐用性测试以及在四个不同国家开展的为期六个月的现场测试。快速LaboSystem 是一款易于学习的系统，即使是没有操作经验的操作人员，也可在数分钟内完全掌握操作要领，实现全速制备。适应性强LaboSystem 的模块化设计允许用户根据自己的需求自由定制制备或研磨/抛光设备。可随时更新 LaboSystem，以满足新的要求。机型号LaboSystem 有许多型号，详细信息请参见规格。LaboPol-20：LaboPol-20：可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径为 200 毫米的盘。配置手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘要单独订购。可以安装试样移动盘 LaboForce-50。LaboPol-30：LaboPol-30：可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径为 230、250 或 300 毫米的盘。配置手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘需要单独订购。可以安装试样移动盘 LaboForce-50/-100/Mi。LaboPol-60：LaboPol-60：可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径 250 或 300 毫米的 2 种盘。每个盘均配有自动水阀、手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘需要单独订购。可以安装一个试样移动盘 LaboForce-50/-100。