真空紫外仪

产品描述 荧光光谱仪是发光材料、生物探针、化学标记的标准研究检测手段，随着研究的深入和拓宽，研究者对荧光光谱仪的光谱检测范围和与其它常规光谱检测手段的联用提出更多的要求。HORIBA Scientific多功能真空紫外荧光光谱仪的推出正是填补了这一空白。 HORIBA Scientific多功能真空紫外荧光光谱仪为需要强大光谱表征能力的研究人员和分析测试中心设计研制开发。和传统光谱仪设计思路不同，HORIBA Scientific多功能真空紫外荧光光谱仪基于模块化设计思路，荧光激发部分、样品室和荧光探测部分均可以提供灵活的解决方案，拓展系统的功能性和应用的针对性。 基于这一设计思路，HORIBA Scientific多功能真空紫外荧光光谱仪可将激发光谱和发射光谱拓展至120-200nm真空紫外波段。并可提供高增益PMT和快速采谱CCD的双探测器采谱模式。与此同时，基于对样品室的定制化设计，我们可以将光谱检测中常用方法例如：反射光谱、透射光谱和激光光致发光光谱轻松接入系统，并提供制冷机和多样品夹具等附件进一步增强该光谱系统的光谱表征能力。 应用领域基本功能：荧光光谱、反射光谱、透射光谱、激光光致发光光谱、上转换光谱研究材料 LED荧光粉，BN、AlN、ZnO等半导体材料的发光特性 新材料，天然矿石钙化物的荧光特性 MgF2、LiF3镀膜、增透膜、高反膜反射率研究技术特点： 基于模块化设计，易拓展、易升级、易维护 将激发和发射光谱拓展到真空紫外波段120-200nm 可将反射谱、透射谱、激光光致发光光谱和荧光光谱无缝整合 消像差光学设计，优化真空紫外光谱范围的能量传输效率 大功率水冷氘灯光源，提高激发强度和稳定度 可提供PMT+CCD双探测器模式，兼顾高精度和高速度 丰富的附件可选：变温台、多样品夹具、真空泵 真正订制化，可接入更多用户要求的功能

产品描述荧光光谱仪是发光材料、生物探针、化学标记的标准研究检测手段，随着研究的深入和拓宽，研究者对荧光光谱仪的光谱检测范围和与其它常规光谱检测手段的联用提出更多的要求。HORIBA Scientific多功能真空紫外荧光光谱仪的推出正是填补了这一空白。HORIBA Scientific多功能真空紫外荧光光谱仪为需要强大光谱表征能力的研究人员和分析测试中心设计研制开发。和传统光谱仪设计思路不同，HORIBA Scientific多功能真空紫外荧光光谱仪基于模块化设计思路，荧光激发部分、样品室和荧光探测部分均可以提供灵活的解决方案，大程度拓展系统的功能性和应用的针对性。基于这一创新设计思路，HORIBA Scientific多功能真空紫外荧光光谱仪可将激发光谱和发射光谱拓展至120-200nm真空紫外波段。并可提供高增益PMT和快速采谱CCD的双探测器采谱模式。与此同时，基于对样品室的定制化设计，我们可以将光谱检测中常用方法例如：反射光谱、透射光谱和激光光致发光光谱轻松接入系统，并提供制冷机和多样品夹具等附件进一步增强该光谱系统的光谱表征能力。应用领域基本功能：荧光光谱、反射光谱、透射光谱、激光光致发光光谱、上转换光谱研究材料 LED荧光粉，BN、AlN、ZnO等半导体材料的发光特性 新材料，天然矿石钙化物的荧光特性 MgF2、LiF3镀膜、增透膜、高反膜反射率研究技术特点： 基于模块化设计，易拓展、易升级、易维护 将激发和发射光谱拓展到真空紫外波段120-200nm 可将反射谱、透射谱、激光光致发光光谱和荧光光谱无缝整合 消像差光学设计，优化真空紫外光谱范围的能量传输效率 大功率水冷氘灯光源，提高激发强度和稳定度 可提供PMT+CCD双探测器模式，兼顾高精度和高速度 丰富的附件可选：变温台、多样品夹具、真空泵 真正订制化，可接入更多用户要求的功能

HORIBA Scientific多功能真空紫外荧光光谱仪为需要强大光谱表征能力的研究人员和分析测试中心设计研制开发。和传统光谱仪设计思路不同，HORIBA Scientific多功能真空紫外荧光光谱仪基于模块化设计思路，荧光激发部分、样品室和荧光探测部分均可以提供灵活的解决方案，较大程度的拓展系统的功能性和应用的针对性。 基于这一创新设计思路，HORIBA Scientific多功能真空紫外荧光光谱仪可将激发光谱和发射光谱拓展至120-200nm真空紫外波段。并可提供高增益PMT和快速采谱CCD的双探测器采谱模式。与此同时，基于对样品室的定制化设计，我们可以将光谱检测中常用方法例如：反射光谱、透射光谱和激光光致发光光谱轻松接入系统，并提供制冷机和多样品夹具等附件进一步增强该光谱系统的光谱表征能力。应用领域荧光光谱反射光谱透射光谱激光光致发光光谱上转换光谱 研究材料LED荧光粉，BN、AlN、ZnO等半导体材料的发光特性新材料，天然矿石钙化物的荧光特性MgF2、LiF3镀膜、增透膜、高反膜反射率研究技术特点：基于模块化设计，易拓展、易升级、易维护将激发和发射光谱拓展到真空紫外波段120-200nm可将反射谱、透射谱、激光光致发光光谱和荧光光谱无缝整合消像差光学设计，优化真空紫外光谱范围的能量传输效率大功率水冷氘灯光源，提高激发强度和稳定度可提供PMT+CCD双探测器模式，兼顾高精度和高速度丰富的附件可选：变温台、多样品夹具、真空泵真正订制化，可接入更多用户要求的功能

真空紫外辐射环境效应主要表现为：辐照造成非金属材料分子链的断裂，增大了出气速率；当太阳紫外线照射到材料出气形成污染云时，污染云内的分子键断裂，容易在敏感表面发生“定影”， 真空紫外辐照硅橡胶、聚酰亚胺等非金属材料的穿透深度仅为微米级，光子能量集中作用在材料表面，使材料表面产生解吸与化学反应等过程，加剧了材料出气，从而为航天器光学敏感表面造成了严重的污染效应, 真空紫外辐照非金属材料可引起污染效应或增强效应.北京领宇天际科技提供空间紫外辐照试验测试服务：真空-紫外辐照试验波长范围115-200nm辐照剂量根据太阳照射ESH时长进行真空紫外试验试验的紫外辐照强度一般为太阳真空紫外辐照强度的5-10倍并在试验过程中保持恒定。空间紫外辐照试验一般会持续进行1-3个月，根据试验对象和试验要求的不同试验时间略微有变化010-6140-6740

产品简介HORIBA Jobin Yvon是全球著名的科研级光栅制造商，在真空紫外光栅研发生产中始终保持着领先的地位，产品光谱范围覆盖1-200nm，广泛应用于真空紫外光谱研究。 技术特点 高衍射效率 低杂散光 优异的镀膜技术 优异的消像差技术 参数规格 面型：平面，球面，超环面 类型：单色仪光栅，摄谱仪光栅 消像差：变刻线间距(VLS) 镀膜：金，铂，氟化镁 基底：硅，二氧化硅原子力显微镜下的层状光栅形貌图 我们可以根据用户要求定制各项参数。

真空紫外 ～ 软X射线光谱仪总览 McPherson可提供掠入射极紫外光谱仪,C-T，S-N，正入射，平场掠入射，掠入射C-T等多种结构的光谱仪，满足不同的应用，覆盖红外 - 可见 - 紫外 - 真空紫外 - 极紫外 - 软X射线全波段。大多数光谱仪可以和Andor 真空紫外CCD相机配合使用，成为该波段的摄谱仪。同时，McPherson提供范围极为宽广的VUV - XUV 光源、真空内光学器件、真空快门、真空狭缝等等，并可组建完整的真空紫外光谱系统。 波长范围(nm)分辨率(nm)焦距(mm)型号结构扫描功能CCD/MCP适配成像超高真空（选项）30 - 2,2000.1200234/302像差矫正S-N●●●30 - 1,2000.05500235S-N●●●105 - 20,0000.04670207VC-T●●●●30 - 1,2000.0151,000205自动聚焦正入射●●●●30 - 1,2000.0251,000231S-N●●●105 - 20,0000.011,330209VC-T●●●●30 - 2500.0053,0002253自动聚焦正入射●●●●30 - 2500.0026,650265离面正入射●●●●1 - 3100.0181,000248/310罗兰圆掠入射●●●1 - 800.025,650251MX平场变栅距光栅掠入射●●8 - 1200.08800OP-XCT离面掠入射C-T●●●●8 - 1200.12,000XCT掠入射 C-T●●●●10 - 1700.05292251平场轮胎面光栅掠入射●●●离面掠入射C-T结构光谱仪234/302 S-N 结构光谱仪 XUV空心阴极光源真空紫外光谱测试系统

加拿大Resonance公司的VS7550光谱仪，是一种微型的便携真空紫外光谱仪，其具有极好的速度、很宽的光谱范围和极高的光谱分辨率，且具有对缝隙大小的软件控制，输入f、顺序分拣滤波器、光栅角度和暗曝光。对于VUV的操作，光谱仪有一个超高真空窗口和层流净化系统，它允许对窗口短波长的切割(MgF2)进行操作。VS7550光谱仪很小，便携，可以装在你的手上，有5米的电缆，自由操作。附件包括一个光谱校准灯的建筑，一个多光谱场的平面光源和一些其他配件，如望远镜，真空适配器，和流量控制器等。 如想了解更详细的信息，请直接致电我司，谢谢。

台式真空紫外光谱仪 与市场上传统的真空紫外光谱仪相比，我们的KV-202台式真空光谱仪凭借独特的清洗单色仪(KV200) 达到了更高的分辨率和更高的稳定性，光源主要是氘灯，氘灯通过聚光系统发射紫外光进入单色仪(KV200) ，在聚光系统的光被分为单色光. 然后用半双光照射法将光分裂成两条光路, 其中一个去监控补偿光源的波动，而另一个照射样品, 该系统能够实现高稳定的传输光谱测量。1、在120到130的波长范围内进行透射光谱测量（真空紫外线辐射范围）2、实现高分辨率和稳定性与氮净化单色仪3、适用于特殊的电影和特殊底材的评估技术参数型号：KV-202台式真空紫外光谱仪光源：氘灯30W波长范围：120～300nm测量重复性：±0.3%T *1波长可重复性：Within 0.1nm形状示例：尺寸(最小.3×3mm~最大12×12mm) 厚度(最小.1mm~最大.3mm)*2测量方法：半双光照射检测器：光电倍增管与水杨酸钠视窗显示设置：规模（Y 轴、X 轴）〃跟踪（移动光标）覆盖的光谱〃光谱显示删除数据处理：平滑、计算、1 ~ 3 的导数，峰值加工（峰高、峰面积、数据转储）

真空紫外光谱仪特点：波长范围从105nm到LWIR有专利权的十字交叉型光路设计光栅系统中的SNAP专利技术紧凑、轻量的铸铝结构Operates in any attitudeModel 218在真空紫外领域应用的非常成熟。当用在真空环境或者内部充气体时，218在IR波段的应用中也是非常有用的。全球范围内已有数千台这样的单色仪应用在实验室中。独一无二的十字交叉型光路设计，使得光学系统非常的紧凑。Mcpherson的这项专利技术使得入射光和衍射光间的夹角较小。用户可以得到改进的光谱线形和分辨率。入射和出射狭缝间的44°的大夹角，也保证了足够的操作空间。 通过数字扫描控制器Model 789A-3，以及相关的软件，可以控制光栅的扫描。现有的使用同步驱动系统的仪器，也可以升级成由步进电机控制。通过安装升级包，可以将旧型号218s升级到最新的波长控制方式。 Model 218可用作扫描单色仪，也可以与CCD探测器配合使用。此时焦平面的宽度和安装就会有些限制，请与厂家沟通具体事宜。对于广泛使用的旧型号Model 218s，厂家也可以提供光栅、步进电机和探测器等部件的升级服务。Model 218技术参数焦距300mm, 十字交叉型Czerny Turner 结构入射和出射光束夹角44°f /#.f/5.3光栅尺寸50 x 50mm波长精度+/-0.10 nm (on mechnical counter with 1200 G/mm grating)波长重复性+/- 0.005 nm (使用1200 G/mm光栅)焦平面最大宽度17mm 波长范围根据所选的光栅而定

Model 234/302 真空紫外单色仪特点：1.带像差校正的光学系统2.配CCD或者MCP做紫外成像光谱仪3. 高光通量，F/4.54.可选项－多端口5.可选项－超高真空度6.结构紧凑、重量轻、成本低234/302是一款紧凑的多功能真空紫外单色仪。13" x 13" x 10"的尺寸，25磅的重量，使这款仪器可以固定在一个真空等离子物理装置上，也可以装到一个更大的设备上用做可变滤波器。234/302既可做VUV扫描单色仪，也可做光谱仪，配上CCD相机或者MCP又可做光谱成像。配上多端口的选项，甚至可以同时作为扫描单色仪和成像光谱仪使用。234/302的光路设计是基于Seya-Namioka结构，通过旋转光栅即可改变输出波长。标准配置采用一个IV型的带像差校正的1200g/mm凹面光栅，以获得最优的光学性能。另有一系列光栅可选：从2400g/mm到300g/mm。光栅的旋转是通过数字步进电机Model 789A-3来控制的。用户可将仪器直接安装到样品室上。狭缝处的固定装置可以支撑整个仪器的重量。因为有紧凑的结构、高的光通量和高的分辨率等一系列优点，234/302在相关领域应用的非常广泛。Model 234/302 技术参数（200mm焦距， f/4.5）焦距200-mm, 改进的Seya-Namioka 光路结构狭缝间工作距离9’’ (229mm)出入射光束间夹角64°或者180°可选f / #.4.5光栅尺寸40 x 45mm波长精度+/-0.10 nm (使用1200 G/mm光栅)波长重复性+/- 0.05 nm(使用1200 G/mm光栅)焦平面最宽25mm，倾斜角约 30°波长范围跟所选光栅有关Model 234/302性能（选用不同光栅）光栅刻线 (G/mm) (其它亦可提供)240018001200600300波长范围从30nm 到275nm365nm550nm1,100um2,200um分辨率@313.1nm0.060.080.10.20.3线色散倒数(nm/mm)234816操作模式 CCD探测/焦平面阵列。234/302使用的像差校正光栅会产生一个焦平面，可配合MCP或者直接探测的CCD相机使用。焦平面位于法线的25°角方向。请联系厂家了解如何配置一个深紫外或者真空紫外的成像光谱仪。234/302保证了一个洁净的无污染的操作环境。类似的真空紫外系统用于激光闪烁体，以及其它的荧光或磷光材料。也可以用于等离子体诊断以及高次谐波实验中。 超高真空&无污染。234/304全金属密封的结构可以提供10-10Torr的真空度。装运前会进行残余气体分析。这些超高真空的设备污染级别可降到最低。 双色散&低杂散光。234/302可做为双单色仪。机械上相连的结构有助于实现最优的光栅扫描。在真空度10^-6Torr和超高真空（全金属密封）10^-10Torr的型号中都有这种双单色仪结构。

英国Raptor Photonics公司的Eagle XV真空腔内X射线相机紫外成像仪是专门为真空特殊工作环境设计的，可以直接放置在真空腔室内使用。相机采用了Teledye e2v公司的背照式CCD芯片，100%的填充因子，可直接探测从真空紫外(极紫外)到软X-ray波段(12eV-20keV能量范围)。主要特性相机放置在真空腔室内使用来自Teledyne e2v的背照式CCD芯片可直接探测能量范围12eV-20keV制冷温度-80℃，暗电流0.0005e-/p/s提供完整真空馈通的解决方案真空度兼容性10-5至10-8mbar技术参数典型应用EUV X射线光谱软X射线显微镜VUV/EUVIXUV光刻X射线行射成像(XRD)X射线荧光成像(XRF)X射线相衬成像X射线等离子体诊断X射线源特性分析

极紫外光谱仪采用变栅距曲面光栅，在大角度（~87°）掠入射的情况下实现平面像场，可配合软X射线CCD相机、MCP等平面探测器，适用于1nm（1.2keV) ~ 200nm（6eV）光谱测量。创谱仪器CP-EFlat系列极紫外平场光栅光谱仪采用经过多年验证的经典设计，基于创谱仪器丰富的短波光学、超高真空、精密机械设计制造经验而精工制作；同时还考虑EUV诊断用户的多样化需求而设计了多种便利功能：波长定标、可见激光导引对靶、整体多维姿态调节、光栅切换、滤片装载等。“即装即用”、功能丰富的的通用型EUV光谱仪的推出，显著地节省了等离子体物理、强场激光、高次谐波、极紫外光刻等领域用户在光谱仪调试上所花费的时间。 特性与优势 l 可见激光指引，方便谱仪与光源对准；l 标配滤片支架，用于滤除可见光；l 全方位姿态调节（选件），可订制光轴高度；l 可切换光栅（选件）；l 超高真空，适配CCD、MCP等探测器；l 出厂波长定标；l 可选配前置光学系统，实现最佳的收集效率/分辨率组合；l 可选单色仪方式输出； 主要技术参数 l 光学设计：掠入射凹面变栅距平场光栅光谱仪l 入射狭缝：0.05 ~ 0.5mm连续可调l 零级挡板：标配l 滤光片支架：标配l 平场范围：25mml 探测器装载：光栅尺电动反馈调节（可选）l 真空度：10-4Pa（可选UHV）l 光栅选配表*：刻划密度 (g/mm)12030012002400零级衍射角(°)170170170174.4分辨率 (nm)~ 0.3~ 0.12~ 0.028~ 0.01平场范围 (mm)25252520光谱范围 (nm)50 ~ 20020 ~ 805 ~ 201 ~ 5光谱范围 (eV)25 ~ 665 ~ 15248 ~ 621240 ~ 248 *可支持装载2片光栅，支持真空状态切换；其他规格光栅请垂询 测试示例 潘宁灯光谱测试；上：原始图像；下：标定后的光谱 主要应用l 高次谐波与阿秒l 高能与高能量密度物理l 激光等离子体l 放电等离子体l EUV光源表征l EUV光学器件及探测器标定

加拿大Resonance公司从20世纪70年代就开始和加拿大空间局（CSA）专业研发生产紫外光源，并在80-90年代和NASA有着密切的合作，现在生产的真空紫外光源是基于Ar,He,Xe的高功率高通量的三种型号紫外光源，波长从范围117~172nm。现在广发用于土壤成分检测、气体检测、工业、石油业等。

仪器简介：真空紫外光栅光谱仪 该系列光栅光谱仪主要应用于大约30nm至可见光区波段，部分型号的仪器可以将应用范围扩展到红外波段。光路设计主要以标准/改良型Czerny-Turner型、正入射型、Seya Namioka型为主，针对不同的实验需求做设计上的优化。 除主机部分外，还提供各种周边附件，以构成各种完整的测量系统。技术参数： 波长范围光谱 分辨率焦距长度 产品型号扫描 功能多道探测功能光路结构30nm to 550nm 0.1nm200mm234/302有有Corrected Concave Holographic 105nm to 78µ m 0.06nm300mm218有有Criss Cross Czerny Turner105nm to 78µ m 0.04nm500mm219有有Corrected Czerny Turner30nm to 1200nm 0.04nm500mm235有有Seya Namioka105nm to 78µ m 0.03nm670mm207V 有有Czerny Turner105nm to 78µ m 0.017nm1000mm2061V有有Czerny Turner30nm to 1200nm0.015nm1000mm225有有Autofocus Normal Incidence30nm to 1200nm 0.025nm1000mm231有有Seya Namioka105nm to 78µ m 0.012nm1330mm209V有有Czerny Turner30nm to 1200nm0.007nm2000mm2252有有Autofocus Normal Incidence30nm to 1200nm 0.005nm3000mm2253有有Autofocus Normal Incidence30nm to 1200nm 0.003nm5000mm2255有有 Autofocus Normal Incidence30nm to 1200nm 0.00256500mm265 有有Off Plane Eagle Normal Incidence

超环面光栅单色仪(TGM)系列是专为研究真空紫外光谱而开发设计。通过与单通道探测器相连，TGM300能分析软X射线、极紫外、远紫外光谱。结合紫外光源，TGM300可充当可调谐紫外单色光源。TGM300真空度高达10-9mbar, 是分析10-300nm光谱的理想工具。 技术特点 单片式光学结构确保光高通量，高光学稳定性 HJY超环面光栅技术，全光谱范围内好的消像差能力 光谱覆盖可到10nm 支持超高真空度10-9mbar，可接入同步辐射装置 典型应用 极紫外反射测量 紫外可调滤波/光源 激光高次谐波 等离子体物理研究 技术指标三块标准光栅可选550 gr/mm光谱范围: 10 – 50 nm中心波长: 15 nm550 gr/mm光谱范围: 15 – 150 nm中心波长: 35 nm275 gr/mm光谱范围: 50 – 300 nm中心波长: 55 nm光学设计HJY超环面消像差光栅焦距320 mm孔径f/10分辨率0.4 nm (*)波长驱动手动高真空10-6 mbar真空泵法兰DN100LF真空计法兰DN40KF入射/出射狭缝嵌入式可选项:波长驱动步进电机自动驱动，USB2接口狭缝测微或者自动手动光栅滑块真空中实现2块光栅切换超高真空10-9 mbar(*) 采用550gr/mm光栅计算 附件 前镜腔，配备两块超环面镜，实现光源和单色仪之间的光学匹配 后镜腔，配备两块超环面镜，实现单色仪和样品室之间的光学匹配 样品室，可搭载4块直径不大于25mm的样品 偏振插片 制冷机，温度可至4K 真空泵

▼概要美国国家标准技术研究所（National Institute of Standards and Technology）NIST发表了CaF2等的氟化物双折射对于实现光刻的高解像度是很大的障碍。现在虽然确立了补偿方法，克服这种问题，但是为验证这个方法是否可行，需要用到在真空紫外波长区域具有高灵敏度的双折射计。本装置是日本分光多年来积累的偏光测定技术在真空紫外领域的扩展，高灵敏度双折射测量的解决方案。根据偏光变调法，在真空紫外波长区域进行氟化物等的双折射测量。为排除氧以及水的吸收所有的光路都进行氮气吹扫。◆规格▼BRV-100BRV-100波长范围140nm～320nm光刻灵敏度0.05nm（157nm）稳定性1count／h（157nm）检测下限0.17 nm（157nm）

H20-UVL真空紫外单色仪在真空环境下覆盖100-400nm（3-12.4eV），在大气环境下覆盖190nm-400nm（3-6.5eV）。结合真空紫外光源和蜗轮驱动实现快速光谱扫描，可作为一个真空紫外单色光源使用。在分辨率要求不高的情况下，配备单通道探测器，H20-UVL还是一个高性价比的真空紫外光谱分析系统。 技术特点 单片式光学结构确保高光通量，高光学稳定性 配备4型消像差单色仪光栅，全光谱范围线色散均匀 全自动蜗轮高速驱动光栅 光栅表面镀氟化镁膜，优化120nm以上波长的输出典型应用 透射反射测量 荧光激发 可调滤波/光源 激光谐波滤波 技术指标光学设计HJY4型消像差单色仪光栅焦长200 mm孔径f/4.2刻线密度1200 gr/mm光学镀膜针对121nm优化的MgF2膜偏转角64°色散100nm处3.6 nm/mm驱动高速蜗轮驱动最小步进0.06 nm速度400 nm/s精度+/- 0.2 nm或+/-0.06 nm (*)可重复性+/-0.06 nm 分辨率优于0.5 nm (**)高真空10-5 mbar (***)真空泵法兰DN40 KF入射/出射接口测微狭缝(10 um 至 2 mm)入射/出射法兰DN25 KF电脑接口USB2.0可选项超高真空10-9 mbar狭缝高度调节器2, 4, 6 mm(*)使用我们固件中的软件驱动矫正可以提高单色仪的精度(**)使用宽10微米，高2mm的狭缝在121nm处测量(***)H20-UVL不含真空泵和真空计附件 前镜腔，配备两块超环面镜，实现光源和单色仪之间的光学匹配 后镜腔，配备两块超环面镜，实现单色仪和样品室之间的光学匹配 样品室，可搭载4块直径不大于25mm的样品 偏振插片 制冷机，温度可至4K 真空泵

真空紫外——近红外小型光谱仪 VS7550是一种微型的车尔尼特纳光谱仪，具有极好的速度、很宽的光谱范围和很高的光谱分辨率，具有对缝隙大小的软件控制，输入f、顺序分拣滤波器、光栅角度和暗曝光。对于VUV的操作，光谱仪有一个超高真空窗口和层流净化系统，它允许对窗口短波长的切割(MgF2)进行操作。光谱仪很小，便携，可以装在你的手上，有5米的电缆，自由操作。附件包括一个光谱校准灯的建筑，一个多光谱场的平面光源和一些其他配件，如望远镜，真空适配器，和流量控制器等。Features 最高为f/3.2的高速Czerny Turner光源 (at CCD)分辨率超过0.2纳米，每毫米光栅3600槽用户可更换的光栅，每毫米600到4200个凹槽波长104 to 1030 NM 的 1200 g/mm光栅计算机控制的缝隙大小从25到400微米计算机控制的输入孔从 f/3.2 到f/8.4计算机控制顺序分拣滤波器计算机控制光栅的角度意味着可以使用全范围的光栅来创建全景光谱层流净化系统允许操作下降到104纳米UHV接口与视窗的接口可以在烘烤时从UHV室中取出使用磷涂层来消除VUV中变薄探测器的稳定的探测器，灵敏度范围从100到1000纳米简单的USB接口，用于光谱采集和光谱仪控制，电缆长度可达10米可以远程操作配件包括校准灯，平场的LED灯可选NIST可追踪进行校准

真空紫外——近红外小型光谱仪 VS7550是一种微型的车尔尼特纳光谱仪，具有极好的速度、很宽的光谱范围和很高的光谱分辨率，具有对缝隙大小的软件控制，输入f、顺序分拣滤波器、光栅角度和暗曝光。对于VUV的操作，光谱仪有一个超高真空窗口和层流净化系统，它允许对窗口短波长的切割(MgF2)进行操作。光谱仪很小，便携，可以装在你的手上，有5米的电缆，自由操作。附件包括一个光谱校准灯的建筑，一个多光谱场的平面光源和一些其他配件，如望远镜，真空适配器，和流量控制器等。Features 最高为f/3.2的高速Czerny Turner光源 (at CCD)分辨率超过0.2纳米，每毫米光栅3600槽用户可更换的光栅，每毫米600到4200个凹槽波长104 to 1030 NM 的 1200 g/mm光栅计算机控制的缝隙大小从25到400微米计算机控制的输入孔从 f/3.2 到f/8.4计算机控制顺序分拣滤波器计算机控制光栅的角度意味着可以使用全范围的光栅来创建全景光谱层流净化系统允许操作下降到104纳米UHV接口与视窗的接口可以在烘烤时从UHV室中取出使用磷涂层来消除VUV中变薄探测器的稳定的探测器，灵敏度范围从100到1000纳米简单的USB接口，用于光谱采集和光谱仪控制，电缆长度可达10米可以远程操作配件包括校准灯，平场的LED灯可选NIST可追踪进行校准

英国Raptor Photonics公司的 FalconⅢXV真空腔内X射线相机紫外成像仪是可以直接放置在真空腔室内的高速X射线相机，帧频可达31帧/秒。相机采用电子倍增EMCCD芯片，高达5000倍的EMGain，实现对采集信号的放大，探测能量范围覆盖12eV到20keV，可实现对真空紫外VUV、软X射线的直接探测。主要特性 相机放置在真空腔室内使用 EMCCD芯片，分辨率1024x1024 满分辨率帧频31fps 可直接探测能量范围12eV-20keV 制冷温度-70℃，暗电流0.001e-/p/s 提供完整真空馈通的解决方案技术参数 典型应用EUV X射线光谱 软X射线显微镜 VUV/EUV/XUV光刻 X射线衍射成像(XRD) X射线荧光成像(XRF) X射线相衬成像 X射线等离子体诊断 X射线源特性分析

VHR光谱仪专为需要高精度快速分析的科研人员设计开发。双入口双出口，双光栅塔轮，探测范围从远紫外延伸到近红外。VHR光谱仪一体化机身设计消除由外界温度变化引起的应力和膨胀带来的波长漂移和信号损失，保证光学光谱性能。光栅驱动速度高达300nm/s，大大缩短实验时间，提高工作效率。VHR系列光谱仪使用灵活，配备单通道探测器作为单色仪，配备CCD作为摄谱仪。 技术特点 一台光谱仪实现真空紫外至近红外全覆盖 C-T式光路设计，低像差 配备高刻线密度光栅实现高分辨率 高速光栅马达驱动 双入射双出射 一体化设计，热稳定性好 典型应用 荧光 光致发光 等离子体物理研究 技术指标型号VHR 640 VHR 1000焦距640 mm1000 mm入射孔径(单光栅模式)f/5.4f/9.0光栅尺寸单光栅模式110 mm x 110 mm双光栅模式80 mm x 110 mm扫描范围0 – 1500 nm光谱范围100nm – 15μm (取决于选择的光栅)扫描速度 300 nm/s光谱色散1.2 nm/mm0.8 nm/mm光谱分辨率 (10um狭缝)0.016 nm0.010 nm波长位置精度± 0.03 nm波长可重复性± 0.015 nm入射接口测微狭缝0 – 2 mm出射接口测微狭缝或CCD双出射狭缝，或25mm平像场可选，搭配转折镜使用真空度优于10-5mbar法兰DN25KF狭缝接口DN63LF，VHR机身真空泵接口DN25KF，VHR机身真空计接口DN100LF，CCD法兰PC接口RS232 – USB尺寸长740 mm1160 mm宽350 mm430 mm高350 mm350 mm质量65 kg70 kg附件 前镜腔，配备两块超环面镜，实现光源和单色仪之间的光学匹配 后镜腔，配备两块超环面镜，实现单色仪和样品室之间的光学匹配 样品室，可搭载4块直径不大于25mm的样品 偏振插片 制冷机，温度可至4K 真空泵

真空紫外分光光度计V1000大规模集成电路（Large Scale Integrated circuit）LSI的高集成化使制造过程的微型化进一步发展，伴随这个趋势光刻使用光源的波长向短波长推移，现在ArF激光(193nm)是主流。为了对应微细化线宽0.07μm，研究了F2激光(157nm)实用化。因此，有必要对光刻机上使用的镜头以及反光镜等光学部件在真空紫外领域的光学特性进行正确的评价。 V-1000用于115nm～300nm波长范围的光学特性评价。在真空紫外领域，因为氧气的原因有很强的吸收，以前都是将光路做成真空测量，但是V-1000采用吹扫性能好的机箱，可以进行氮气吹扫后测量，样品设置到测量开始可在短时间内完成。另外，因为要双单色器所以除去杂射光，监控双光束方式提高测光再现性。因此，在157nm实现0.03%的测光再现性。◆规格▼V-1000V-1000光源氘灯(D2)分光器凹面回折格子 双单色器、双光束方式入射角度透过率5°、45°入射反射率 （标准）波长范围115～300 nm测光再现性157nm附近、标准偏差:σ=0.03%以下 (对于70%以上透过材料)选项测量测量绝对反射率、测量偏光

PGS/PGM 1000光谱仪凭借消像差设计，可实现一机两用，配合单通道探测器作为单色仪，配合CCD使用作为摄谱仪。光路由一片消像差平面光栅和一片超环面镜组成，为极紫外光谱分析优化设计。掠入射光路设计将可探测波长拓展到软X射线，与此同时，摄谱仪模式下焦平面垂直于出射光轴，使CCD可接受高光通量。技术特点 HJY消像差平面光栅结合超环面镜，同时兼顾高分辨率和低像差。 在轴设计，光路易准直。 出射光直射CCD表面，光通量大。 只需更换出射狭缝和法兰，即可实现单色仪和摄谱仪之间的切换，一机两用。 支持超高真空10-9mbar，可接入同步辐射装置。 光谱范围覆盖到4nm，4-16nm具有超高分辨率典型应用 紫外可调滤波/光源 激光高次谐波 等离子体物理研究 X射线光电子能谱 EUV光源表征技术指标三块标准光栅可选54403130(仅提供母光栅)3600gr/mm 光栅，光谱范围：4-16nm (77-310 eV)出射端线色散: 0.2-0.5nm/mm平均分辨率: 0.05nm544021301800gr/mm 光栅，摄谱仪模式下光谱范围：8-32nm(39-155eV) 或 7-32.5nm出射端线色散：0.04-0.1nm/mm平均分辨率：0.1nm54401130550gr/mm 光栅，摄谱仪模式下光谱范围：30-125nm (10-41eV)或26-126nm出射端线色散：0.08-0.3nm/mm平均分辨率：0.3nm光学设计HJY平面光栅加超环面镜光路设计焦长1000 mm孔径f/48分辨率低至0.02nm波长驱动步进电机，USB2.0接口高真空10-6 mbar真空泵法兰DN63 LF狭缝测微狭缝阵列探测器法兰DN100CF/ICF152可选项:狭缝固定或内置可切换狭缝超高真空10-9 mbar配备DN100CF真空泵法兰和DN40CF真空计法兰 附件 前镜腔，配备两块超环面镜，实现光源和单色仪之间的光学匹配 后镜腔，配备两块超环面镜，实现单色仪和样品室之间的光学匹配 样品室，可搭载4块直径不大于25mm的样品 偏振插片 制冷机，温度可至4K 真空泵

详细信息仪器简介：Novascan 生产的PSD/ PSDP 系列数控紫外臭氧产品。产品具有很高的通用性，其使用已超越分子清洗范畴，包括紫外固化、表面图形化、臭氧腐蚀、增加表面润湿性、AFM探针及样品的清洗、磨合等。 技术参数：PSD和PSDP可去除有机污染产生185nm和254nm的紫外线产生臭氧和激发有机污染物在空气或氧气的大气压下操作多个气体引入端口样品和灯的距离可以调节安全开关 – 防止紫外辐射操作简单，设计紧凑一流的技术支持和客户服务 应用领域： 可处理表面：AFM探针清洗/尖削硅玻璃两侧和盖面清洗砷化镓细胞培养和细胞粘附表面处理玻璃力学光谱制备备石英半导体表面氧化和制备云母硅片清洗蓝宝石LED显示屏清洗金属光学镜片清洗陶瓷改善表面润湿性能聚合物提高油漆/涂料/胶水/粘合剂的附着力光刻胶石英和陶瓷表面清洗半导体晶片薄膜沉积的准备硅片紫外固化LED显示屏表面紫外图形化载玻片及盖玻片臭氧腐蚀和表面氧化金表面有效/可控的真空等离子体清洗珀表面烷烃硫醇/APTES/硅烷化/表面化学制备微流体表面紫外臭氧热处理PDMS硅胶

公司介绍：成立于2008年的greateyes，是以德国柏林洪堡大学的技术为基础，迅速发展成为国际知名的先进探测器生产企业。如今，其科研与工业客户群体已遍布多个国家。greateyes开发、生产并销售高性能科学相机。其作为精确探测器，被广泛应用于成像与谱学应用领域。同时，greateyes公司也生产用于太阳能产业的电致荧光与光致荧光检测系统。出身于柏林的LOTTE是德国greateyes公司研发，应用于极紫外，真空紫外和X射线能段的光谱及影像内真空相机。LOTTE集成了目前最前沿的低噪声电子系统和超低温制冷技术，同时保持了紧凑小巧的设计。全新的设计允许从50 kHz至5 MHz灵活地选择所需读出速度。18-bit 的模数转换能够利用CCD传感器的全动态范围，以达到更好表现和更高的信噪比。为匹配不同应用的需求，该相机包括多种类型的传感器可供用户选择。同时LOTTE的低噪声使之成为极弱信号条件下所需的理想相机，它将给您的光谱学和影像研究带来前所未有的可能性。主要特点密封设计及超高真空兼容性高达 98% 的量子效率深度制冷至 -100 °C18 位动态范围kHz - MHz 灵活读出频率设计紧凑相机规格表读出频率50 kHz, 250kHz, 1 MHz, 3 MHz（5 MHz 用于查看模式 频率可定制）AD 转换分辨率18-bit线性度优于 99%CCD 外延层厚度标准15 μm, 深耗尽类型40 μm真空馈通法兰CF DN100法兰，其上配有D-sub接口及6 mm水冷进/出口真空兼容性刀口封接法兰: 10-9 mbar (超高真空)烘烤温度Max. +80 °C法兰距6 mm (法兰距可订制)CCD传感器制冷100 ° C to 20 °C (仅支持水冷)温度监控于CCD 传感器上，及半导体制冷的热端数据传输千兆以太网GigE软件greateyes Vision 软件（Windows 7 / 10）SDK 和驱动DLL for Windows LabVIEW, EPICS, Linux, Python以及Tango驱动 (可选)TTL 接口信号1 Exposure out, 1 trigger in供电80-264 VAC (typ. 115/230), 47-63 Hz (typ. 50/60), max. 1.1 A (230 V) / 1.9 A (115 V)认证CE尺寸9.0 cm (3.54?) × 9.0 cm (3.54?) × 23.5 cm (9.25?)重量5.0kg相机型号LOTTE-s SeriesLOTTE-s 1k256LOTTE-s 2k512型号代码FIFI DDBI UV1FIBIBI UV1有效像素（列 × 行）1024 × 2552048 × 515感光区域26.6 mm × 6.7 mm27.6 mm × 6.9 mm像素尺寸26 μm × 26 μm13.5 μm × 13.5 μm最大像素阱容500 keˉ / 700 keˉ (DD)100 keˉ寄存器阱容 1 000 keˉ / 1 400 keˉ (DD)400 keˉ读出噪声典型值 (eˉ) @ 50 kHz @ 1 MHz @ 3 MHzFI BI DD4.2 6.0 5.4 12.0 13.1 12.325.0 26.0 25.0 3.56.810.7暗电流 (eˉ/pixel/s)@ -100 °C0.0004 / 0.005 (DD)@ -100 °C0.00025增益（counts/eˉ）标准模式高容量模式0.4 counts/eˉ1 counts/e0.34 counts/eˉˉCCD传感器类型前照式 (FI), 背照式 (BI), 深耗尽条纹抑制 (DD)，增强型背照式（BI UV1）缺陷等级Grade 0 或 grade 1 (标配)量子效率曲线

公司介绍：成立于2008年的greateyes，是以德国柏林洪堡大学的技术为基础，迅速发展成为国际知名的先进探测器生产企业。如今，其科研与工业客户群体已遍布多个国家。greateyes开发、生产并销售高性能科学相机。其作为精确探测器，被广泛应用于成像与谱学应用领域。同时，greateyes公司也生产用于太阳能产业的电致荧光与光致荧光检测系统。产品介绍出身于柏林的LOTTE是德国greateyes公司研发，应用于极紫外，真空紫外和X射线能段的光谱及影像内真空相机。LOTTE集成了目前最前沿的低噪声电子系统和超低温制冷技术，同时保持了紧凑小巧的设计。全新的设计允许从50 kHz至5 MHz灵活地选择所需读出速度。18-bit 的模数转换能够利用CCD传感器的全动态范围，以达到更好表现和更高的信噪比。为匹配不同应用的需求，该相机包括多种类型的传感器可供用户选择。同时LOTTE的低噪声使之成为极弱信号条件下所需的理想相机，它将给您的光谱学和影像研究带来前所未有的可能性。主要特点密封设计及超高真空兼容性高达 98% 的量子效率深度制冷至 -100 °C18 位动态范围kHz - MHz 灵活读出频率设计紧凑相机规格表读出频率50 kHz, 250kHz, 1 MHz, 3 MHz（5 MHz 用于查看模式 使用多读出头频率可达20MHZ）AD 转换分辨率18-bit线性度优于 99%CCD 外延层厚度标准15 μm, 深耗尽类型40 μm真空馈通法兰CF DN100法兰，其上配有D-sub接口及6 mm水冷进/出口真空兼容性刀口封接法兰: 10-9 mbar (超高真空)烘烤温度Max. +80 °C法兰距1k1k系列: 6 mm 2k2k, 2k2k plus 和 4k4k 系列: 5 mm (注：所有法兰距均可订制)CCD传感器制冷100 ° C to 20 °C (仅支持水冷)温度监控于CCD 传感器上，及半导体制冷的热端数据传输千兆以太网GigE软件greateyes Vision 软件（Windows 7 / 10）SDK 和驱动DLL for Windows LabVIEW, EPICS, Linux, Python以及Tango驱动 (可选)TTL 接口信号1 Exposure out, 1 trigger in供电1k1k & 2k2k: 80-264 VAC (typ. 115/230), 47-63 Hz (typ. 50/60), max. 1.1 A (230 V) / 1.9 A (115 V) 2k2k plus & 4k4k: 85-264 VAC (typ. 115/230), 47-63 Hz (typ. 50/60), max. 1.9 A (230 V) / 3.8 A (115 V)认证CE尺寸9.0 cm (3.54?) × 9.0 cm (3.54?) × 23.5 cm (9.25?) (W × H × L, 1k1k, 2k2k & 2k2k plus) 10.0 cm (3.94?) × 11.0 cm (4.33?) × 28.0 cm (11.0?) (W × H × L, 4k4k)重量4.5kg相机型号LOTTE-i SeriesLOTTE-i 1k1kLOTTE-s 2k512LOTTE-i 2k2k plusLOTTE-i 4k4k型号代码FI BI BI DD BI UV1 FI BI DD BI BI UV1BIBI BI DD BIUV1有效像素（列 × 行）1024 × 1024 (FI) 1056 × 1027 (others)2048 × 20522048 × 20644096 × 4112感光区域13.3 mm × 13.3 mm27.6 mm × 27.6 mm30.7 mm × 30.7 mm61.4 mm × 61.4 mm像素尺寸13 μm × 13 μm13.5 μm × 13.5 μm15 μm × 15 μm15 μm × 15 μmCCD传感器制冷-100°C to 20 °C-80°C to 20 °C-80°C to 20 °C-80°C to 20 °C最大像素阱容100 keˉ / 120 keˉ100 keˉ / 150 keˉ150 keˉ150 keˉ / 350 keˉ寄存器 / 输出节点阱容 400 keˉ /-400 keˉ/- 600 keˉ/- -/ 900 keˉ-/ 900 keˉ -/ 600 keˉ读出噪声典型值 (eˉ) @ 50 kHz @ 1 MHz @ 3 MHz2.86.410.9 3.47.013.64.68.517.04.6 2.88.5 5.817.0 10.4暗电流 (eˉ/pixel/s)@ -80 °C0.0003 / 0.015@ -80 °C0.0003 / 0.015@ -80 °C0.0001@ -80 °C0.0001 / 0.006增益（counts/eˉ）标准模式高容量模式1 -1 0.34 0.60.20.6 10.2 0.34CCD传感器类型前照式 (FI), 背照式 (BI), 深耗尽条纹抑制 (DD)，增强型背照式（BI UV1）缺陷等级Grade 0 或 grade 1 (标配)量子效率曲线

OAI 超过35年的历史按照您的具体规格设计和制造紫外线仪器和曝光系统在世界范围内亨有声誉无论复杂还是简单，OAI都有最聪明的解决方案。OAI 200型光刻机和紫外曝光系统 OAI系统可以处理各种常规和不规则形状的宽范围的基材。 高效光源在各种光谱上提供均匀的紫外线照射。. OAI 200型光刻机和紫外线曝光系统是一种经济高效的高性能工具，采用行业验证的模块化组件进行设计，使OAI成为MEMS，纳米技术和半导体设备行业的领先者。200型是台式机型，需要最小的洁净室空间。它为研发，试验或小批量生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴承/真空卡盘校平系统，基板被快速和平缓地平整以用于平行光掩模对准和在接触暴露期间在晶片上的均匀接触。该系统具有微米分辨率和对准精度。对准模块具有掩模插入件组和快速更换晶片卡盘，其允许使用各种衬底和掩模，而不需要对机器重新设定。对准模块包含X，Y和θ轴（微米）。200型对准器可以广泛地安装进对准光学仪器，包括背面IR。 IR照明真空吸盘可以被配置用于整个或或部分晶片的对准。 OAI 200型可配置OAI纳米压印模块，使其成为最低成本的NIL工具。 OAI还提供了一个模块，设计用于使用液体光引物进行快速成型或生产微流体器件。 Model 200具有可靠的OAI光源，在近紫外或深紫外线下使用200至2000瓦功率的灯提供准直的紫外光。双传感器，光学反馈回路与恒定强度控制器相关联，以提供在所需强度的±2％内的曝光强度的控制。可以简单快速地改变UV波长。 型号200是一个高度灵活的， 经济的解决方 案，适合任何 入门级掩模对准和紫外线照射应用。 特点:&bull 高效，均匀，曝光系统与强度控制电源&bull 近，中，深紫外线能力可用&bull 亚微米套印和逐层校准&bull 易于互换的掩膜架和掩膜&bull 用户可设置，“基板到掩膜”间的压力&bull 软接触，硬接触，真空接触，接近曝光模式&bull 暴露可用时氮气N2吹扫&bull 超精确的卡盘运动&bull 可变速率电子操纵杆(可选)&bull 红外对准能力(型号200IR)(可选)&bull 顶部侧对齐以及背面对齐选项&bull 系统隔振具有四(4)象限独立调节(可选)&bull 高可靠性和低维护设计与优秀的文件应用MEMSNIL微流体纳米技术II-VI和III-V器件制造多级抗蚀剂处理LCD和FED显示器MCM’S薄膜器件太阳能电池SAW器件 选项提供单或双相机和屏幕（双相机/双屏版本如照片所示）可以安装NIL的Nano Imprint模块可安装微流体模块 OAI 200型台式光刻机和紫外线曝光系统 OAI 200型掩模对准器和UV曝光系统 特征 规格 体积小 基板平台 X, Y TravelZ TravelMicrometerGraduationsRotation ± 10mm 真空吸盘 1,500 microns.001" .0001"or .01mm .001mm± 3.5? 精密对准模块 可互换的面罩架和基板卡盘 掩膜 大小 Up to 14" x 14" 好处 光源 光束尺寸灯功率 Up to 12" square200, 350, 500, 1,000, and2,000 Watt NUV I 需要最小的洁净室空间 500, 1,000 and 2,000 Watt DUV I 对易碎基材材料造成损坏降至最低 快门定时器设施 定时器 0.1 to 99.0 sec. at 0.1second incrementsor 1 to 999 sec. at 1second increments I 精确对准至1微米 I 可轻松容纳各种基材和面罩 电压 110或220 / 400vac（或根据其他国家电源要求） I IR透明晶片的背面掩模对准，精度高达3-5微米 真空 20 - 28” Hg. I 高度准直，均匀的紫外线 空气和氮气 CDA at 60 PSI andN2at 40 PSI 排气 .35“至.5”水 I 快速更改UV光波长 I 曝光控制强度为±2％ 尺寸 高度宽度深度运输重量 37” (200mm), 45” (300mm)31” (200mm) , 60” (300mm)25” (200mm), 70” (300mm)250 Lbs. (200mm), 400lbs (300mm) I 可以配置为NIL的Nano Imprint工具

概述KV-200真空紫外光谱仪是一种氮气净化光谱仪。用于波长120~300nm下的光谱测量(透射可用于反射率测定)和分光照射等。特点波长120~300nm(真空紫外区)的各种光谱应用采用氮气净化型分光器，实现高分辨率和高稳定性通过波长线性扫描搭载波长计数器测试案例1、不同厚度合成石英（SiO2）的透过率测定测量了厚度为1mm和40mm的合成石英(Si02)。通过本公司独有的光学系统，可准确测量因厚度不同而引起的透射率差异。2、氟化钙(CaF)的透射率测定了用于光学结晶和抗蚀剂评价的氟化钙(CaF2)3、食品包装用薄膜透射率 测量了厚度约10um的薄膜。还可以轻松测量薄样品，例如聚合物。搭配普通紫外可见分光度计可实现难以测量的真空紫外区域到紫外区域连续测量。4、空气（O2）的高分解测定以0.1nm分解空气进行测量。空气中的氧气Schumann-Runge吸收带的细微结构也清晰地被测量出来

仪器简介：紫外透射仪:可用于核酸（DNA,RNA）凝胶电泳和蛋白质及同功酶凝胶电泳区带的检测和照像。因此其在生物工程,分子遗传学,分子生物学,生物化学、医药卫生、生物制品、制药厂,科研单位,大专院校等部门具有广泛的用途。 技术参数：紫外线灯: 4X12w 312nm高效U形紫外灯 可选配254nm或 365nm高效U形紫外灯 透紫外滤光片 :200mmX200mm 254nm透光率≮68%, 365nm透光率≮86% 仪器尺寸:300*300*90mm主要特点：ZD 紫外-日光透射仪,既可作紫外透射荧光分析, 又可作日光透射分析. 紫外线灯:3X12w 312nm高效U形紫外灯 可选配254nm或 365nm高效U形紫外灯 透紫外滤光片 :200mmX150mm 254nm透光率≮68%, 365nm透光率≮86% 日光灯:3X12w 380nm-700nm高效U形日光灯 瓷白玻璃片 : 200mmX150mm 仪器尺寸:400*300*90mm

一,SK010PA 紫外/近红外偏振分析仪 UV/UVIS/VIS/NIR/IRSK010PA 偏振分析仪是自由光束应用和具有保偏光纤的光源的通用测量和测试系统。是从实践经验中开发出来的产品，优点是高可用性。它是即插即用的设备，配备了直接连接 Windows 的 USB2.0 接口，通过 USB 供电，可轻松集成到现有设备中进行快速地校准并对 Stokes 参数（偏振度、椭圆度）进行实时测量，并在一个描述 Poincaré球体极化状态的交互式显示器中显示。产品特点● SK010PA系列偏振分析仪是用于将激光束源耦合到保偏光缆中的通用测量和测试系统。● 使用所有四个Stokes parameters，PER（极化消光比），极化度（DOP），椭圆率等确定极化状态（SOP）。● USB 2.0供电的设备（控制，数据传输和电源）● 在Poincaré球上或偏振椭圆上显示SOP● 用于PM光纤评估和偏振对准的特殊程序● 兼容微平台系统，用于自由光束应用的导轨或笼式系统，随附用于光纤应用的FC APC适配器技术参数接口USB2.0供电通过USB标准接口FC/APC（其他可选）光斑直径最大4mm功率范围0.01-50mw采样速率15HZSOP精度± 0.4°PER精度0.5dBDOP精度5%预热时间5min封装尺寸40 x 70 x 82 mm (WxLxH)工作温度10 - 36°CPC系统要求WINDOWS 10/7/VISTA/XP (32/64 Bit)测试案例其他可选型号：型号波长范围SK010PA-UV370 - 450 nmSK010PA-UVIS400 - 700 nmSK010PA-VIS450 - 800 nmSK010PA-NIR700 - 1100 nmSK010PA-IR1100 - 1660 nm二, 用于宽带深紫外 (DUV) 和 EUV / XUV 光的旋光仪深紫外和极紫外范围内的旋光仪具有科学应用。我们提供的旋光仪系统可提供数百个垂直取向偏振方向的消光比。旋光仪可根据您的应用需求进行定制。旋光仪系统设计紧凑，完全符合 UHV 等级。用于宽带深紫外 (DUV) 和 EUV / XUV 光的旋光仪,用于宽带深紫外 (DUV) 和 EUV / XUV 光的旋光仪产品特点深紫外、极紫外和软 X 射线波长的旋光法宽带宽上的高消光为您的应用定制设计多通道设计真空兼容（UHV 级）占地面积紧凑产品应用宽带EUV辐射源的偏振测量，如飞秒IR激光脉冲（HHG）或激光等离子体EUV源的高次谐波EUV椭圆测量或双折射磁性纳米结构的研究旋光仪可用作起偏器和检偏器==