紫外光刻机

各位兄弟姐妹， 我们实验室买了一台紫外光刻机，但是没有买配的真空泵，我需要采购一台用来吸掩膜板和基片的吸气泵，请问买什么类型，多大力量的合适。有没有在用的告知一下效果？

各位老师，同学。文献介绍说金属粉末颗粒分散在photo-resist solution AZ135O中，80℃+5h的加加热条件，然后凝结，光刻胶可以包裹颗粒。用于制备微米级粉末的TEM试样。在网上查了一下，紫外光刻胶，说AZ系列是国外的，所以请问各位，为了实现我的目的，是否有同类型的国产的紫外光刻胶可以代替AZ135O。谢谢

[b]微流控芯片光刻机[/b]专业为[b]微流控芯片制作[/b]而设计，用于[b]刻画制作微结构[/b]表面，全自动化和可编程操作，适合几乎所有常用材料。[b]微流控芯片光刻机[/b]采用多功能一体化设计理念，一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能，而且不需要无尘环境，用户安装使用不再需要单独建设超净间，从而大大提高用户的使用经济性和方便性。[b][url=http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/lithography.html]微流控芯片光刻机[/url]特色[/b]可以根据用户的芯片衬底基片尺寸，形状和厚度进行调节。是一种无掩模光刻系统，具有两个易操作的软件，用户可以创建个人微结构图案，从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。具有技术突破性设计和灵活性优势，非常适合加工微纳结构用于MEMS，BioMEMS，微流控系统，传感器，光学元件，MicroPatterning微图案化，实验室单芯片，CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。[img=微流控芯片光刻机]http://www.f-lab.cn/Upload/photolithography-MS10.JPG[/img]无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构，从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管（波长405纳米- 50毫瓦），光学扫描器和F-θ透镜（405纳米）。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用，较好的再现性和较高的质量，焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用，修改或其他用户使用。[img=微流控芯片光刻机]http://www.f-lab.cn/Upload/microcontact-printing.JPG[/img]微流控芯片光刻机：[url]http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/lithography.html[/url]

光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图（即芯片）。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。现在最先进的芯片有30多层。http://www.whchip.com/upload/201608/1471850877761920.png 上图是一张光刻机的简易工作原理图。下面，简单介绍一下图中各设备的作用。测量台、曝光台：承载硅片的工作台，也就是本次所说的双工作台。光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。遮光器：在不需要曝光的时候，阻止光束照射到硅片。能量探测器：检测光束最终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。掩膜台：承载掩模版运动的设备，运动控制精度是nm级的。物镜：物镜由20多块镜片组成，主要作用是把掩膜版上的电路图按比例缩小，再被激光映射的硅片上，并且物镜还要补偿各种光学误差。技术难度就在于物镜的设计难度大，精度的要求高。硅片：用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，产率越高。题外话，由于硅片是圆的，所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系，根据缺口的形状不同分为两种，分别叫flat、notch。内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力。

横向赛曼石墨炉原子吸收光谱法在紫外正型光刻胶中的应用摘 要：随着电子技术的飞速发展，对紫外正型光刻胶的质量提出了极高的要求。因为紫外正型光刻胶中钙、铬、铜、铁、钾、镁、钠、镍、铅、锌的存在将严重影响器件的成品率、可靠性和电化学性。因此建立准确、快速的分析方法有一定的意义。对于光刻胶中金属的检测方法，有电感耦合等离子体-质谱法（ICP-MS）、电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-AES），但是这两种方法光刻胶都需要经过湿法消解或者干法灰化后才可以进样。湿法消解或者干法灰化容易引起易挥发元素的损失，同时存在容器污染，酸基体或者其他试剂的污染，本底较高等问题。本文提出了用石墨炉原子吸收法（GFAA）直接测定紫外正型光刻胶中十种金属元素的方法，本方法不经任何化学处理和富集，减少了中间过程，避免了样品被污染。详细描述了仪器最佳条件选择、控制空白，建立标准曲线、加标回收、测定检出限的方法。钙、铬、铜、铁、钾、镁、钠、镍、铅、锌的检出限分别为0.07ng/ml、0.03ng/ml、0.15ng/ml、0.15ng/ml、0.01ng/ml、0.03ng/ml、0.05ng/ml、0.36ng/ml、0.14ng/ml、0.02ng/ml。石墨炉原子吸收法（GFAA）需要选择合适的溶剂稀释光刻胶，考虑到试剂对光刻胶的溶解性，试剂本身空白值的大小等因素，我们最终选择丙二醇甲醚醋酸脂（PGMEA）做稀释剂，稀释样品后直接进样。关键字：紫外正型光刻胶、金属、石墨炉原子吸收绪 论：光刻胶(又称光致抗蚀剂)是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。主要用于集成电路和半导体分立器件的微细加工，同时在平板显示、LED、倒扣封装、磁头及精密传感器等制作过程中也有着广泛的应用。由于光刻胶具有光化学敏感性，可利用其进行光化学反应，将光刻胶涂覆在半导体、导体和绝缘体上，经曝光、显影后留下的部分对底层起保护作用，然后采用蚀刻剂进行蚀刻就可将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工的衬底上。因此光刻胶是微细加工技术中的关键性化工材料。随着集成电路（IC）存储容量的逐渐增大，存储器电池的蓄电量需要尽能的增大，因此氧化膜变得更薄，而紫外正型光刻胶中的碱金属杂质(Na、[/size

据商务部网站消息，3月27日，商务部部长王文涛在京会见来访的荷兰外贸与发展合作大臣范吕文，[b]双方重点就光刻机输华和加强半导体产业合作等议题深入交换意见。[/b]王文涛表示，今年是中荷建立开放务实的全面合作伙伴关系十周年。在两国领导人战略引领下，中荷经贸关系稳步发展。[b]中方赞赏荷方坚持自由贸易，视荷方为可信赖的经贸伙伴，希望荷方秉持契约精神，支持企业履行合同义务，确保光刻机贸易正常进行。[/b]要防止安全泛化，共同维护全球半导体产业链供应链稳定，推动双边经贸关系持续健康发展。范吕文表示，荷兰以贸易立国，主张自由贸易，高度重视对华经贸合作。[b]中国是荷兰最重要的经贸伙伴之一，荷兰愿继续做中国可靠的合作伙伴。[/b]荷兰出口管制不针对任何国家，所做决定基于独立自主的评估，并在安全可控前提下尽可能降低对全球半导体产业链供应链的影响。期待两国进一步拓展绿色转型、养老服务等领域合作。[来源：仪器信息网] 未经授权不得转载[align=right][/align]

各位，有谁用过上海精科759（s）或其他型号的紫外光度计啊？机子性能如何？售后如何？求使用心得！！谢谢！

光刻工艺光刻是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ,工艺如下 :(a)仔细地将基片洗净;(b)在干净的基片表面镀上一层阻挡层 ,例如铬、二氧化硅、氮化硅等;(c) 再用甩胶机在阻挡层上均匀地甩上一层几百 A厚的光敏材料——光刻胶。光刻胶的实际厚度与它的粘度有关 ,并与甩胶机的旋转速度的平方根成反比;(d) 在光掩模上制备所需的通道图案。将光掩模复盖在基片上,用紫外光照射涂有光刻胶的基片,光刻胶发生光化学反应;(e)用光刻胶配套显影液通过显影的化学方法除去经曝光的光刻胶。这样，可用制版的方法将底片上的二维几何图形精确地复制到光刻胶层上；(f) 烘干后 ,利用未曝光的光刻胶的保护作用 ,采用化学腐蚀的方法在阻挡层上精确腐蚀出底片上平面二维图形。掩模制备用光刻的方法加工微流控芯片时 ,必须首先制造光刻掩模。对掩模有如下要求：a.掩模的图形区和非图形区对光线的吸收或透射的反差要尽量大;b.掩模的缺陷如针孔、断条、桥连、脏点和线条的凹凸等要尽量少;c.掩模的图形精度要高。通常用于大规模集成电路的光刻掩模材料有涂有光胶的镀铬玻璃板或石英板。用计算机制图系统将掩模图形转化为数据文件，再通过专用接口电路控制图形发生器中的爆光光源、可变光阑、工作台和镜头，在掩模材料上刻出所需的图形。但由于设备昂贵，国内一般科研单位需通过外协解决，延迟了研究周期。由于微流控芯片的分辨率远低于大规模集成电路的要求，近来有报道使用简单的方法和设备制备掩模，用微机通过CAD软件将设计微通道的结构图转化为图象文件后，用高分辨率的打印机将图象打印到透明薄膜上，此透明薄膜可作为光刻用的掩模，基本能满足微流控分析芯片对掩模的要求。湿法刻蚀在光刻过的基片上可通过湿刻和干刻等方法将阻挡层上的平面二维图形加工成具有一定深度的立体结构。近年来，使用湿法刻蚀微细加工的报道较多，适用于硅、玻璃和石英等可被化学试剂腐蚀的基片。已广泛地用于电泳和色谱分离。湿法刻蚀的程序为 :(a) 利用阻挡层的保护作用，使用适当的蚀刻剂在基片上刻蚀所需的通道 ;(b) 刻蚀结束后 ,除去光胶和阻挡层，即可在基片上得到所需构型的微通道；(c)在基片的适当位置(一般为微通道的端头处)打孔，作为试剂、试样及缓冲液蓄池。刻有微通道的基片和相同材质的盖片清洗后，在适当的条件下键合在一起就得到微流控分析芯片。玻璃和石英湿法刻蚀时，只有含氢氟酸的蚀刻剂可用，如HF/HNO3，HF/ NH4。由于刻蚀发生在暴露的玻璃表面上，因此，通道刻的越深，通道二壁的不平行度越大 ,导至通道上宽下窄。这一现象限制了用湿法在玻璃上刻蚀高深宽比的通道。等离子体刻蚀等离子体刻蚀是一种以化学反应为主的干法刻蚀工艺，刻蚀气体分子在高频电场作用下，产生等离子体。等离子体中的游离基化学性质十分活泼，利用它和被刻蚀材料之间的化学反应，达到刻蚀微流控芯片的目的。等离子体刻蚀已应用于玻璃、石英和硅材料上加工微流控芯片 , 如石英毛细管电泳和色谱微芯片。先在石英基片上涂上一层正光胶 (爆光后脱落的光胶)，低温烘干后，放置好掩模，用紫外光照射后显影，在光胶上会产生微结构的图象。然后用活性CHF3等离子体刻蚀石英基片 ,基片上无光胶处会产生一定的深度通道或微结构。这样可产生高深宽比的微结构。近来，也有将等离子体刻蚀用于加工聚合物上的微通道的报道。http://www.whchip.com/upload/201610/1477271936108203.jpg

紫外光老化机，哪个厂家的比较好，适合实验室使用？

是否可以将普通光度计中的钨灯换成氘灯就可以做成紫外光度计了?换一个氘灯多少钱?

用高效液相色谱-紫外检测器检测某物质。紫外光谱是因为分子电子能级发生跃迁产生的，我的理解是：电子吸收能量，从基态到激发态，吸收了光谱，但激发态不稳定，应该又回到基态，又会发射光谱，这两个过程应该都是很短的，ns至ms级的，而且应该是不断循环的过程（即只要有紫外光照射，改分子就一直处于基态到激发态，再从激发态到基态，如此循环），也就是说该物质及吸收了紫外光，又发射了紫外光，那检测器搜集到的的发射的紫外光能量基本可以认为是不变的？这种理解对吗？

进口紫外光谱与国产紫外光谱价格相差多少？

紫外光谱图和分光光度计全波段扫描是一回事？不是的话有何区别？紫外光谱用何种仪器做？液体如何制样？未知化合物是否可做紫外图谱？谢谢大家，不胜感激！

记得中学时看过一本书，说红外光是一位学者使用温度计通过热效应发现的；那么紫外光是怎么发现的？附：　　紫外光，紫外辐射 　　ultraviolet light, ultraviolet radiation 　　紫外光波长比可见光短，但比X射线长的电磁辐射。紫外光在电磁波谱中范围波长为10-400 nm。这范围内开始于可见光的短波极限，而与长波X 射线的波长相重叠。紫外光被划分为A 射线、B 射线和C 射线(简称UVA、UVB 和UVC)，波长范围分别为400-315nm，315-280nm，280-190nm。

我单位想买一台紫外光度计,没有用过紫外请问哪一家的紫外好些,性能好些,和实际应用中与光度计相比有哪些优势?

紫外杀菌消毒的紫外光强度紫外光的强度高低是紫外光杀菌效果的主要因素。紫外线灯使用过程中其辐照强度会逐渐降低，为了保证紫外线灯的消毒效果，更有效地预防院内感染的发生，定期检测紫外线灯的强度是非常必要的。检测紫外光强度需要使用紫外线辐射照度计。 紫外线消毒和灭菌常用方法 适用范围：用于室内空气、物体表面和水及其它液体的消毒。 紫外线消毒灯和紫外线消毒器 消毒使用的紫外线是C波紫外线，其波长范围是200－275nm，杀菌作用最强的波段是250－270nm， 消毒用的紫外线光源必须能够产生辐照值达到国家标准的杀菌紫外线灯。 制备紫外线消毒灯，应采用等级品的石英玻璃管，以期得到满意的紫外线辐照强度。 紫外线消毒灯可以配用对紫外线反射系数高的材料（如抛光铝板）制成的反射罩。 要求用于消毒的紫外线灯在电压为220V、环境相对湿度为60％、温度为20℃时，辐射的253.7nm紫外线强度不得低于70uW/cm2。 普通30W直管紫外线灯在距灯管1米处测定，特殊紫外线灯在使用距离处测定，使用的紫外线测强仪必须经过标定。 紫外线灯使用过程中其辐照强度逐渐降低，故应经常测定消毒紫外线的强度，一旦降到要求的强度以下时；应及时更换。 紫外线消毒灯的使用寿命，即由新灯的强度降低到70uW/cm2的时间（功率≥30w)的灯，或降低到原来新灯强度的70%（功率30W灯，≥90uW/cm；功率＞20W灯，≥60uW/cm2 ；功率150W灯，≥20uW/cm2。由于这种灯在辐射253.7nm紫外线的同时，也辐射一部分184．9nm紫外线。故可产生臭氧。 高强度紫外线消毒灯：要求辐射253.7nm紫外线的强度（在距离1米处测定）为：功率30W灯，＞180uW／cm2；11w灯，＞30 uW／cm2。 低臭氧紫外线消毒灯：也是热阴极低压汞灯，可为直管型或H型；由于采用了特殊工艺和灯管材料，故臭氧产量很低，要求臭氧产量＜1mg/h。 高臭氧紫外线消毒灯：由于采取了特殊工艺，这种灯产生较大比例的波长184.9nm的紫外线，故臭氧产量较大。

[color=#444444]关于紫外光谱分析仪器的问题。紫外光谱分析仪器在发出紫外光后，被吸收池吸收，那么检测仪器是检测透过吸收池的紫外光对吧。我想问的是，吸收池中的物质吸收紫外光后发生跃迁，但这种跃迁会马上辐射出能量返回原来状态对吧，那这种辐射会不会对透射光的检测造成影响？如果会它的影响与透射光相比是否有较大影响？感谢大家的帮助。[/color]

分享一篇紫外的文献，希望对大家有所帮助崔芙红(兰州石化职业技术学院应用化学工程系，甘肃兰州)水性紫外光固化涂料结合了传统水性涂料和紫外光固化涂料的优点，成为环保型涂料研究的一个主要方向。本文综述了水性紫外光固化涂料的特点，主要组成部分以及其最前沿的发展方向，并介绍了这种涂料的应用情况和面临的挑战。水性紫外光固化涂料；组成；研究进展TQ A 1007-1865(2013)10-0099-02由于水性涂料对环境无污染，对人体健康影响小，粘度易调节，挥发度低使之适合于喷涂,但它仍存在不抗碱、不抗水、干燥慢、易造成基材收缩等弊病。紫外光(UV)固化涂料的优点之一是涂料的固化时间短而且可以控制，因其不含溶剂，从而大大消除了有机挥发分(VOC)对环境的污染。但其主要成分低聚物一般均具有较高的粘度，在涂布时必须加入稀释剂以调节其粘度和流变性。传统的丙烯酸酯类活性稀释剂对眼睛有较强的刺激作用，影响人体健康。因此，UV光固化涂料技术总的发展趋势是以水代替反应性稀释剂，一方面可以消除因挥发分导致的污染、刺激等问题，另一方面也为水性涂料提供了一种新的固化手段。因而综合了两者优点的水性紫外光固化涂料，成为极具开发和应用前景的新的涂料技术。1·特点与传统的油性紫外光固化涂料相比，水性紫外光固化涂料具有以下优点。(1)用水替代活性稀释剂，黏度更方便调节。(2)减少活性稀释剂的使用，使其毒性和刺激性大大降低。(3)以水为稀释剂可降低固化膜的收缩率，有利于提高固化膜对底材的黏附性。(4)可以得到超薄型固化膜。(5)涂装设备和装置可用水进行清洗。(6)可以使用相对分子质量高的预聚物，克服了传统紫外光固化涂料不能兼顾高硬度和高柔韧性两者的问题。2·组成2.1 低聚物水性低聚物是水性光固化材料最重要的组成部分，它决定固化膜的力学性能，如硬度、柔韧性、耐磨性、耐化学药品性等，也影响紫外光固化的灵敏度。水性低聚物在结构上要有参与UV固化反应的不饱和基团，如丙烯酰氧基、乙烯基等，由于丙烯酰氧基反应活性高，固化速度最快，所以各类丙烯酸树脂的为其主要品种；另外分子链上需含有一定数量的亲水基团，如羧基、羟基、氨基、磺酸基等。按低聚物的化学结构，目前最常用的水性紫外光固化树脂主要包括环氧丙烯酸酯(EA)、聚氨酯丙烯酸酯(PUA)、聚丙烯酸酯(Acrylatedacrylic oligomer)和聚酯丙烯酸酯(PEA)。表1列出了这些常用水性紫外光固化涂料低聚物的性能。表1 常用水性紫外光固化涂料低聚物的性能2.1.1 环氧丙烯酸酯环氧丙烯酸酯是一种广泛使用的低聚物，原料价格便宜，机械性能优良。环氧树脂分子链上的羟基赋予它良好的极性，促使其对金属材料表面有良好的粘附力。并且环氧树脂聚合物链含有稳定的C-C键和醚键，这使得它耐化学药品性优良。此外，可以通过环氧树脂的环氧基和羟基将甲基/丙烯酸单体接入从而引入反应双键，来提高其固化活性。而且环氧树脂中的羟基也可以作为接入酸酐的反应点而引入羧基，用碱中和便可得到具有亲水性的树脂。2.1.2 聚氨酯丙烯酸酯聚氨酯丙烯酸酯的制备方法是将带有羟基的丙烯酸酯类单体与异氰酸酯基团反应，引入C=C双键，使之具有UV活性；再用带有羧基的扩链剂对聚氨酯分子链进行扩链；最后经碱中和得到可UV固化的水性聚氨酯丙烯酸酯树脂。聚氨酯分子链上除了含有大量氨基甲酸酯链段外，还含有醚键、酯键、脲键等活性基团，这些结构赋予了聚氨酯材料良好的物理机械性能，优异的弹性、耐寒性、耐有机溶剂及良好的温度适应性，是近年来发展较快的高分子材料。2.1.3 聚丙烯酸酯水性UV固化聚丙烯酸酯体系一般由多种丙烯酸(酯)类单体共聚，并利用共聚物侧链的活性基团，如：羟基、羧基等，与丙烯酸(酯)类单体反应，获得具有不饱和双键的聚丙烯酸酯树脂。这种方法环保且无需分散可直接得到水乳液，但是通常其接枝率比较低，涂膜固化后性能提高，其另一个缺点是此类树脂丙烯酸所含的双键在共聚反应中被消耗，其光固化活性较差。2.1.4 聚酯丙烯酸酯聚酯丙烯酸酯可由聚酯端羟基与丙烯酸酯化或由聚酯端羧基与甲基丙烯酸缩水甘油醚反应而得。其双键位于分子链末端，活性相对较高，同时较低分子量使其易于进行流变调节。在超支化聚酯的末端可以接入丙烯酸酯或聚氨酯丙烯酸酯，得到水基超支化UV固化树脂，可以稳定的分散在水中。2.2 光引发剂光引发剂是光固化涂料的重要组成，是决定紫外光固化涂料是否能够迅速交联固化的关键。与传统油性紫外光固化涂料不同的是用于水性体系的光引发剂必须要与水性环境有一定的相容性，而且挥发性较低，按其产生活性中间体的不同，可分为自由基光引发剂和阳离子型光引发剂两类。自由基光引发剂根据产生自由基的机理不同，又可分为裂解型自由基光引发剂和夺氢型自由基光引发剂两类。裂解型自由基光引发剂从结构上看，多是芳基烷基酮类化合物，主要有安息香及其衍生物、苯偶酰及其衍生物、苯乙酮及其衍生物、酰基膦氧化物等。夺氢型自由基光引发剂多为芳香酮类。阳离子光引发剂包括芳香重氮盐、二芳基碘翁盐、三芳基硫翁盐、二茂铁盐、烷基翁盐、三芳基硅氧醚、磺酰基酮等，其优点是不受O2的影响。较先进的光引发剂固化方式可采用双重固化体系，即通过两个独立的体系完成交联聚合，一个阶段是光固化反应，另一个阶段是暗反应，暗反应包括湿气固化、热固化、氧化固化或厌氧固化反应等。2.3 功能助剂在涂料的实际应用中，为达到应用要求，还需加入各种功能助剂。常见的有助溶剂、润湿剂、分散剂、消泡剂、成膜助剂。助剂可以改变涂料的某些性能，但在使用时不能破坏涂料的稳定性和其耐水性，要控制其用量达到性能平衡和低VOC含量。近年来由于纳米无机粒子其独特的表面界面效应，使纳米复合材料呈现出许多新颖的特点，成为紫外光固化涂料的一个研究热点。刘红波等在紫外光固化涂料中加入无机纳米抗菌剂，制得了抗菌型的木器漆。3·发展方向3.1 超支化体系采用超支化技术可制备多官能度树脂。超支化树脂不仅低熔点、低黏度、易溶解且支链上可含有更多的官能基团，是作为水性光固化树脂的理想材料。超支化低聚物可利用端羟基超支化聚合物与丙烯酸通过酯化反应，或与二异氰酸酯和丙烯酸羟基酯半加成物反应，引入丙烯酸基团，成为光固化超支化低聚物。也可利用端羧基超支化聚合物与甲基丙烯酸缩水甘油酯反应，引入甲基丙烯酸基团制得。3.2 双重固化体系为了改善水性紫外光固化涂料在不透明介质、形状较复杂的部件上的固化性能，可利用杂化的方式合成含有两种不同活性基团的低聚物，开发出兼有两者优良特性的体系。汪存东等以聚氨酯丙烯酸酯为乳化剂制成了紫外光固化的水性环氧丙烯酸酯/聚氨酯丙烯酸酯复合涂料。一方面，通过聚氨酯丙烯酸酯与环氧丙烯酸酯复合改善了涂膜性能；另一方面，由于阴离子型聚氨酯丙烯酸酯本身为一种高分子乳化剂，加入后可使疏水性的环氧丙烯酸酯形成一种稳定的水分散体系。3.3 有机-无机复合体系有机/无机杂化体系在保持有机高分子成膜性、透明性的同时又具有耐溶剂、高硬度及耐磨性的优点，是水性紫外光固化涂料很有前景的一个发展方向。水性紫外光固化体系可以通过直接分散、插层或溶胶/凝胶等手段引入纳米SiO2、蒙脱土等无机粒子，来改善涂层的硬度、耐磨性、耐热性或光学性能等。4·结语随着人们环保意识的不断增强，水性紫外光固化涂料越来越多的进入到人们的生活当中。在国外，已广泛应用于建筑涂料、体育用品、电子通讯等不同领域；在我国它每年都以20%～30%的速度增长，在纸张、木器、塑料、金属、光盘和光纤等基材上获得了很好的应用。当前水性紫外光固化涂料技术不足之处主要包括涂料水分散体系的长期稳定性有待提高，光引发剂品种不多，对于颜料着色涂料，选择余地更小，增设干燥除水装置对该技术的推广应用有不利影响。针对上述问题，我们应加大基础性研究，进一步完善相关技术，使它更大程度的应用到我们的生活当中。参考文献金养智，洪啸吟．紫外光固化涂料的进．涂料工业，1999，29(12)：30-33．姚伯龙，罗侃，杨同华．国内外水性紫外光固化涂料的研究进展．涂料技术与文摘，2007，28(11)：1-4．李红强，曾幸荣．紫外光固化涂料及其研究进展．涂料技术与文摘，2007，28(4)：8-11．殷海龙，卿宁．水性聚氨酯丙烯酸酯紫外光固化低聚物研究进展．化工新型材料，2011，39(4)：51-54．周钢，陈建山，奚海，等．紫外光固化光引发剂研究进展．精细化工中间体，2003，33(2)：6-8．姚桃花．紫外光固化涂料用光引发剂的研究进展．甘肃石油和化工，2007，(3)：8-13．李海燕，谢川．阳离子光引发剂研究进展．信息记录材料，2004，5(4)：35-39．丁立朋，李拥军，马兴法．阳离子聚合光引发剂及其阳离子反应机理．热固性树脂，1997(2)：47-54．戴洪义，王少君，高学明．用于辐射固化的特种丙烯酸酯单体及其发展动向．山东化工，2000，29(1)：25-26．刘红波，李荣先，缪国元．紫外光固化纳米抗菌木器漆．涂料工业，2007，37(5)：14-16．汪存东，王久芬．紫外光固化环氧-丙烯酸酯/聚氨酯-丙烯酸酯复合型水性涂料的研制．涂料工业，2005，35(2)，1-4．张高文，褚衡，李纯清．水性紫外光固化涂料的研究进展．现代涂料与涂装，2008，11(1)：16-19．王坚，苟小青，沈雪峰．水性UV涂料在塑料上的应用．涂料工业，2009，39(11)：49-52．何京．UV固化涂料及其发

http://img3.17img.cn/bbs/upfile/images/20100518/201005181701392921.gif真空紫外光谱技术及其应用讲座时间：2014年09月25日 10:00 主讲人：毛峥乐现任光学光谱技术主管，负责OEM、光栅、光谱系统、真空紫外技术咨询和系统应用支持。http://img3.17img.cn/bbs/upfile/images/20100518/201005181701392921.gif【简介】真空紫外光谱技术专指为1-200nm光学光谱研究设计、开发的技术和光学系统。相对于200nm以上，真空紫外光谱系统对光学元件、光路设计，尤其是光谱仪核心元件——光栅，提出了极其苛刻的要求。真空紫外光谱技术作为一种经典技术，早已为同步辐射装置广泛使用。同时作为一种新兴技术，它也越来越多地应用于独立实验室，如1-200nm的荧光、光致发光、材料吸收谱反射谱、高次谐波、等离子体发射、极紫外激光表征、探测器表征等前沿科学应用领域之中。真空紫外光谱技术作为一种经典技术，早已为同步辐射装置广泛使用。同时作为一种新兴技术，它也越来越多地应用于独立实验室，如1-200nm的荧光、光致发光、材料吸收谱反射谱、高次谐波、等离子体发射、极紫外激光表征、探测器表征等前沿科学应用领域之中。-------------------------------------------------------------------------------1、报名条件：只要您是仪器网注册用户均可报名参加。2、报名并参会用户有机会获得100元手机充值卡一张哦~3、报名截止时间：2014年09月25日 9:304、报名参会：http://simg.instrument.com.cn/meeting/images/20100414/baoming.jpg

紫外光耐气候试验设备是一种模拟光照的光老化试验设备，它主要模拟阳光中的紫外光。同时它还可以再现雨水和露水所产生的破坏。设备通过将待测材料曝晒放在经过控制的阳光和湿气的交互循环中，同时提高温度的方式来进行试验。设备采用紫外线荧光灯模拟阳光，同时还可以通过冷凝或喷淋的方式模拟湿气影响。 只需要几天或几周时间，设备可以再现户外需要数月或数年所产生的破坏。所造成的损害主要包括退色、变色、亮度下降、粉化、龟裂、变模糊、脆化、强度下降及氧化。设备提供的测试数据在对新材料的选择、对现有材料的改进或评估影响产品耐用性的组成变化等方面有极大的帮助。设备可以极好地预测产品将在户外遭遇的变化。 尽管紫外光（UV）只占阳光的5％，但是它却是造成户外产品耐用性下降的主要光照因素。这是因为阳光的光化学反应影响随着波长的减少而增加。因此在模拟阳光对材料物理性质的破坏影响时，不需要再现整个阳光光谱。在大多数情况下，只需要模拟短波的UV光即可。紫外光加速耐候试验机之所以采用UV灯的原因在于它们比其他的灯管更为稳定，并且能更好的再现试验结果。采用荧光UV灯模拟阳光对物理性质的影响，例如亮度下降、龟裂、剥落等方面，是最好的方法。有几种不同的UV灯可供选择。大多数的这些UV灯主要产生紫外光，而不是可见光和红外光。灯的主要差别体现在它们在各自波长范围内产生的UV总能量上的不同。不同的灯会产生不同的测试结果。实际的曝晒应用环境可以提示应选用哪种类型的UV灯。 UVA-340，模拟阳光紫外线的最佳选择 UVA-340，可极好地模拟临界短波波长范围的阳光光谱，即波长范围为295-360nm的光谱，UVA-340只产生在阳光中能找到的UV波长的光谱。 UVB-313，用于最大程度的加速试验 UVB-313可以很快地提供试验结果。它们所采用的短波长UV比目前地球上通常找到的UV光波更为强烈。尽管这些比自然波长短许多的UV光能够最大程度地加速试验，但它同时也会对某些材料造成不符和实际的退化破坏。 标准定义发射300nm以下的光能低于总输出光能2％的一种荧光紫外灯，通常称为UV-A灯；发射300nm以下的光能大于总输出光能10％的一种荧光紫外灯，通常称为UV-B灯；紫外区分UV-A波长范围为315-400nm；UV-B波长范围为280-315nm； 在户外的材料与湿气接触的时间，每天可以长达12小时，研究结果表明造成这种户外潮湿的主要原因是露水，而不是雨水。紫外光加速耐候试验机通过一系列独特的冷凝原理来模拟户外的湿气影响。在设备的冷凝循环圈中，在箱体的底部有一蓄水箱，并对其进行加热来产生水汽。热蒸汽使试验箱内的相对湿度维持在100％，并且保持一个相对高温。产品的设计确保测试试件实际上构成试验箱的侧壁，从而试件的背面则暴露在室内环境空气中。室内空气的冷却效用导致试件表面温度下降到低于蒸汽温度几度的水平。这一温差的出现导致试件在整个冷凝循环过程中，其表面始终有冷凝生成的液态水。这种冷凝产物是很稳定的纯净蒸馏水。这种纯净水提高了试验的再现率，而同时避免了水渍问题。 由于户外曝晒接触潮湿的时间每天可以长达12小时，因此紫外光加速耐候试验机的潮湿周期一般持续几小时。我们建议每一冷凝周期至少持续4小时。注意到设备中的UV曝晒和冷凝曝晒是分别进行的，与实际气候条件是一致的。 对于某些应用过程而言，水喷淋能更好的模拟最终使用的环境条件。水喷淋在模拟由于温度剧变和由于雨水冲刷所造成的机械侵蚀是极其有用的。紫外光加速耐候试验机/喷淋型就是为再现这种条件而专门设计的。 由于经常遭到来自雨水的冲刷，木材的涂料层，包括油漆和着色剂，会出现相应的侵蚀现象。近期研究结构表明，这种雨水冲刷动作可以将材料表面有防降解作用的涂料层冲刷掉，从而将材料本身直接曝晒在UV和水分的破坏性影响之下。这一过程可以重复多次，从而导致一种材料退化现象，而单靠冷凝方式是无法再现的。 荧光灯的优点在于：快速获得试验结果；简化的光照度控制；稳定的光谱；只需很少的维护；价格便宜，运行费用合理。 地球上的陆地只有很少一部分，一大半的面积是海洋，因此海洋气候是对人类生活和材料产品影响很大的一种气候环境。

如何校正紫外光度计的波长，具体的步骤，谢谢大家

想问问大家的紫外分光光度计，是如何做基线扫描或者是噪声扫描的？？还有就是紫外光度计开机时，不是会弹出：定点扫描，波长扫描，时间扫描，就是那个时间扫描的用途是什么？？好象很少用到。希望知道的朋友能否回个萜，在此谢谢了！！

请问液相色谱里面使用深紫外光源吗？使用260多纳米的深紫外LED是否可以进行替代？

[size=6][b][size=5][font=宋体]我要投稿摘[/font][font='Times New Roman','serif'] [/font][font=宋体]要：[/font][font='Times New Roman','serif'][/font][/size][/b][/size][size=4][font=宋体]随着电子技术的飞速发展，对紫外正型光刻胶的质量提出了极高的要求。因为紫外正型光刻胶中钙、铬、铜、铁、钾、镁、钠、镍、铅、锌的存在将严重影响器件的成品率、可靠性和电化学性[/font][/size][sup][size=4][font='Times New Roman','serif'][1][/font][/size][/sup][size=4][font=宋体]。因此建立准确、快速的分析方法有一定的意义。对于光刻胶中金属的检测方法，有电感耦合等离子体[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']-[/font][/size][size=4][font=宋体]质谱法（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif'][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url][/font][/size][size=4][font=宋体]）[/font][/size][sup][size=4][font='Times New Roman','serif'][2,3][/font][/size][/sup][size=4][font=宋体]、电感耦合等离子体发射光谱法（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']ICP-AES[/font][/size][size=4][font=宋体]），但是这两种方法光刻胶都需要经过湿法消解或者干法灰化后才可以进样。湿法消解或者干法灰化容易引起易挥发元素的损失，同时存在容器污染，酸基体或者其他试剂的污染，本底较高等问题。本文提出了用石墨炉[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]法（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']GFAA[/font][/size][size=4][font=宋体]）直接测定紫外正型光刻胶中十种金属元素的方法，本方法不经任何化学处理和富集，减少了中间过程，避免了样品被污染。详细描述了仪器最佳条件选择、控制空白，建立标准曲线、加标回收、测定检出限的方法。钙、铬、铜、铁、钾、镁、钠、镍、铅、锌的检出限分别为[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.07ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.03ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.15ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.15ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.01ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.03ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.05ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.36ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.14ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.02ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]。[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif'][/font][/size][size=4][font=宋体]石墨炉[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]法（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']GFAA[/font][/size][size=4][font=宋体]）需要选择合适的溶剂稀释光刻胶，考虑到试剂对光刻胶的溶解性，试剂本身空白值的大小等因素，我们最终选择丙二醇甲醚醋酸脂（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']PGMEA[/font][/size][size=4][font=宋体]）做稀释剂，稀释样品后直接进样。[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif'][/font][/size]

光照、高温和潮湿是造成车油漆涂层失光、褪色、黄变、粉化的主要原因，油漆涂层的耐候性优劣与涂料组分的光谱敏感性有关。汽车涂料主树脂主要由环氧树脂、氨基树脂、聚酯树脂等组成，含有碳氧双键，碳碳单键等官能团。不同材料因为性能不同，因而对光的敏感性不同，产生耐候性差异。对于汽车涂料，紫外线是造成涂料老化的主要原因。紫外光耐气候试验箱可模拟太阳光中的紫外部分对油漆涂层的破坏作用，用数天或数周的时间重现户外数月乃至数年出现的危害。可帮助选择新材料以及评价材料配方对耐久性的影响，达到验证涂料性能的目的。 紫外光耐气候试验箱行业著名品牌是雅士林（YASELINE），其生产的紫外光耐气候试验箱采用紫外线荧光灯模拟阳光，同时还可以通过冷凝或喷淋的方式模拟湿气影响。只需要几天或几周时间，设备可以再现户外需要数月或数年所产生的破坏。所造成的损害主要包括退色、变色、亮度下降、粉化、龟裂、变模糊、脆化、强度下降及氧化。

生色团：在紫外光谱分析中，在紫外光区内能产生紫外吸 收的基团。红移：在紫外光谱分析中，由于共轭等效应的影响而使吸 收带的λmax变大的现象。λmax :在紫外光谱中，吸收带比较宽，用λmax表示吸 收带的位置。助色团:在紫外光谱中，本身不吸收紫外光，当其和生色 团相连时，通过P-π共轭效应，影响生色团吸收 带的λmax和摩尔吸光系数。增色:在紫外光谱中，吸收带摩尔吸光系数变大的现象。