激光刻蚀机

传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩模板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩模板的设计通常需要经常改变。激光直写光刻技术通过以软件设计电子掩模板的方法，克服了这一问题。与通过物理掩模板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑软件控制，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案，无需掩膜工序。绝大多数利用电子束刻蚀制造的器件只有很小的一部分结构需要用到电子束刻蚀的高分辨率，而大部分曝光时间都浪费在了如电极连接等大面积结构的生成上。Microtech可以被用在混合模式刻蚀工艺上：只用费用昂贵、速度缓慢的电子束刻蚀加工细小的结构，用成本低廉的Microtech加工大面积部分。Microtech先进的对准机制可以使两部工序完美结合。因此Microtech也适用于已经拥有电子束刻蚀的实验环境。Microtech是直写刻蚀领域畅销品牌，其创新技术和稳定系统源自美国麻省理工林肯国家实验室，LW405D系列转为科研实验室和小型超净室设计开发的多功能光刻系统，适用于快速微纳米加工和小规模生产，除了可达高分辨的线宽外，其稳定性和多功能性也得到业界的一致认可和好评。Microtech做为世界上很早研发激光光刻技术的供应商，打破了以往的激光直写设备高昂价格壁垒，使得研究人员可以理工与传统光刻机相当的成本完成更具灵活性的激光直写光刻工艺。

高速瑜伽垫激光刻花机 毯子毛巾激光雕　　新型的瑜伽垫激光刻花机，不同于常规的激光雕刻机，武汉三工激光高速瑜伽垫激光刻花机采用全封闭光路、进口CO2射频激光器、严格多重保护控制设计，保证设备整体的稳定性。专用控制软件可兼容AutoCAD、 CorelDRAW、Photoshop等多种软件输出，能实现文字符号、图形图象、条形码、二维码、序列号自动递增等的自动编排和修改，支持PLT、PCX、DXF、BMP、JPG等多种文件格式，可直接使用TTF字库。可适用于多种瑜伽垫、健身垫、地毯、毛巾毯子等材料的雕花等，用途广设备稳定易操作。高速瑜伽垫激光刻花机 毯子毛巾激光雕刻机。　　健身瑜伽垫采用激光雕刻的辅助线条以及图形，在传统瑜伽垫的基础上进行改革，运用正位瑜伽系统，把专业而又精确的标尺雕刻在瑜伽垫面上，帮助修行者自己练习正确的瑜伽体式，同时也有利于导师更好的指导修行者的错误体式，它即拥有传统瑜伽垫所有的功能，还拥有辅助引导的功能。瑜伽垫激光打标机机是利用激光的热效应，无接触的对瑜伽垫进行烧灼刻蚀，并形成凸凹有致的花型图案。图形可通过计算机随意输出、可自由排版、可多层次填充雕刻；出版快、可定制性强、灵活性强。高速瑜伽垫激光刻花机设备参数高速瑜伽垫激光刻花机适用行业及材料1、适用行业：瑜伽垫、家居家纺、体育健身器材、装饰、地毯等2、适用材料：发泡瑜伽垫、PU、橡胶、化纤等材料表面的激光刻花工艺。高速瑜伽垫激光刻花机优点1、采用动态飞行雕刻系统，雕刻幅面内激光能量均匀，光斑一致性好，配置飞行传输自动定位系统，上下料操作简便，工作效，加工效果优良；2、全封闭免维护激光光学系统，无损耗件，经久耐用；3、激光器及振镜系统采用高端进口配置。激光器功率稳定。质量可靠，使用寿命2万小时以上。进口振镜系统性能优良，高速度，高精度，免维护，使用寿命长；4、专业恒温激光冷却系统，整机多重保护控制设计，可使用与广泛的环境温度，保证设备24小时连续可靠的工作；5、Windows界面下的应用系统，完美兼容AutoCAD,CorelDraw,Photoshop，Illustrator等平面设计软件的文件格式，如DXF,PLT,AI,BMP,JPG等；6、设备操作简单，即学即会。　　随着越来越多的人意识到健康的重要性，健身房以及各种便捷的锻炼方式深受欢迎。其中瑜伽正式这样一种广受女性欢迎的健身方式。在健身运动的过程中，我们需要不同造型以及材质的健身垫来缓冲、防滑或者保护我们，所以健身垫必须还是健康环保而又美观的。健身瑜伽垫激光雕刻机，是一种新型的激光雕刻技术在健身垫加工行业的应用。激光雕刻属于无接触式加工，无需耗材，健康高效又美观！

设备简介 该设备是利用激光的热效应，无接触的对地毯面料进行烧灼刻蚀，并形成凸凹有致的花型图案。加工面料范围广泛、切割平滑无飞边、自动收口、无变形、图形可通过计算机随意输出、可自由排版、可多层次填充雕刻；出版快、可定制性强、灵活性强。 适用材料 适用于家居、酒店、广告、会展装饰、汽车装饰等行业的拉绒方块、绒布等材料表面的激光刻花工艺。地毯是具有悠久历史的工艺品之一，广泛的应用在住酒店、展览厅、等场景，地毯的作用不仅限于装饰，在减噪、隔热、防滑等方面，表现也非常突出。引入了激光加工技术，结合传统的工艺，完美解决地毯复杂图案、纹路的提花效果。

灯芯绒激光雕花机 服装面料激光刻花任意花型无耗材满足时尚定制灯芯绒激光雕花机的应用 　　灯芯绒是割纬起绒、表面形成纵向绒条的棉织物。因绒条象一条条灯草芯，所以称为灯芯绒。灯芯绒质地厚实，保暖性好，适宜制作秋冬季外衣、鞋帽面料和幕布、窗帘、沙发面料等装饰用品。采用纬二重组织织制、再经割绒整理，布面呈灯芯状绒条的织物，又称条绒布。　　面料激光刻花指利用激光雕刻技术对面料表面进行雕刻，使得材料表面的质地、颜色和反射率发生变化，使面料表面形成一定的花纹图案。具有类似印花或压花的效果，颜色可以同一深度，也可有深浅层次的变化。　　激光加工技术在服装面料上的运用可以增强服装设计的原创性，对于服装品牌来说亦可增强品牌识别度。激光加工技术可以使服装廓形产生层次感；使平淡的肌理产生光影感和动感，起到强调、夸张、引导视线的作用。经过合理的激光工艺处理后的面料，会产生高于其原面料本身价值的附加值。　　传统的服饰面料的图案，主要是通过多种印染加工技术，使不同的染料通过花版在面料的纤维上着色形成图案。但是大量的还是纺织面料传统的印花方式，生产工艺流程较长，图案单一、变化程序复杂，生产过程更加涉及环保方面的限制，尤其不能实现人们日益增长的对于服饰面料个性化艺术效果的需求。而武汉三工激光根据面料加工行业的技术需求研发的面料激光刻花机，可以满足任意图案的雕刻，无需耗材，智能高效。灯芯绒激光雕花机简介　　激光刻花机是利用激光的热效应，无接触的对面料进行烧灼刻蚀，并形成凸凹有致的花型图案。适用于服装、箱包、纺织、家居、酒店、广告、会展装饰、汽车装饰等行业。适用于超柔面料、植绒面料、艺术墙纸、牛仔面料、灯芯绒、天鹅绒等多种面料.服装面料激光刻花机参数详细介绍服装面料激光刻花机设备优势1、雕刻范围大：2200mmX无限长，整卷面料可一次雕刻完；2、适用材料广泛：超柔面料、植绒面料、艺术墙纸、牛仔面料、 灯芯绒、天鹅绒等多种面料；3、速度超快：激光雕刻速度高达12000mm/s，根据图形雕刻复杂程度不同，1600mm宽度的面料最快每小时可雕刻一百米；4、雕刻效果精致、无飞边、不毛边、不焦边、不糊边；5、自主操作软件：自由排版、随时出样、不拼接、无限循环雕刻；6、支持多种软件格式：AI、DWG、DXF、PLT 、BMP、JPG等多种矢量图和位图。

μMLA桌面式无掩膜激光直写机 / 光刻机The Table-Top Maskless Aligner适合科研领域的实验室与学术研究所μMLA是新一代桌面式激光直写仪的技术，在科研微结构的应用领域中是一台入门级的工具。μMLA具有灵活性和可定制性，可支持毫米大小范围的样品。主要产业应用有：半导体芯片、微机电、微流体、微光学、传感器、掩膜版以及其它有微纳米结构需求的科研领域。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备 / 光刻机HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

VIL系列纳米图形系统（激光干涉光刻机）具有快速可重构光束传输、主动图形稳定和精确样品定位等强大功能。该系统可以通过使用标准2cm×2cm正方形或用户定义形状的图案场进行重复曝光，在8英寸大面积上产生各种纳米结构，例如1D光栅线和2D柱/孔图案，周期从240 nm到1500 nm。1、 可实现同一晶圆上不同纳米结构的分区光刻；2、 制作各种一维、二维纳米图案；3、 最小线宽低于50nm；4、 与其他同类设备的功能对比图如下： 电子束直写激光直写紫外光刻机激光干涉光刻机设备示例 代表厂商德国的Raith和Vistec, 日本的JEOL和Elionix海德堡和RaithEulithaInterLitho代表性产品型号RaithEBPG Plus海德堡DWL 66+EulithaPhableR 100VIL1000 主要用途高分辨率掩模版制造和纳米结构的制备对分辨率要求不高的掩模版制造和纳米结构制备分辨率适中的纳米结构制备大面积、低成本、高通量制备高分辨率周期性纳米结构，用于微纳光学、生物芯片等新兴应用 刻写的最小物理线宽10nm~300nm60nm40nm价格和维护成本高中中较低自动化程度全自动全自动部分手动全自动设备效率低低高高需要掩模否否是否特征尺寸调制难度难，样品需要重新刻写难，样品需要重新刻写难，需要重新刻写模板容易，几分钟可实现

MicroMaster 激光直写光刻机MicroMaster 是一款多功能的紫外激光写入器，具有高精度的组件，专为用户在感光层上设计创建最高自由度的微结构。 MicroMaster 是一个完整的操作系统。它拥有405纳米波长光学模块，能够在光阻层中写入最小0.8微米的结构。这个用户友好的工具支持高达4095级的灰度或纯二进制模式，并允许3D光学结构，表面结构以及掩模项目。 激光控制的实时自动对焦和激光强度控制，确保整个曝光过程中的高质量成像。 MicroMaster 广泛应用于半导体光刻, LED芯片, 微流控芯片, 微纳结构, 灰度光刻, 三维加工, 全息影像等多个领域。MicroMaster 无掩模激光直写系统性能规格

PicoMaster ATE-200无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率（375纳米激光源）●300纳米分辨率（405纳米激光源）●4095灰阶●业界最具实力的成套全息设计软件●最大230x230毫米基板尺寸 PicoMaster 200 是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器，专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。系统的光栅化工作原理，搭配上高速扫描以及可调螺距步进激光头，确保了整个曝光制程在感光层表面准确而稳定地完成。PicoMaster 200 广泛应用于半导体光刻，LED芯片，微流控芯片，微纳结构，灰度光刻 ，三维加工全息影像等多个领域。系统优点：√ 系统支持高达4095级的灰度、纯二进制模式；√ 系统对准精度最高小于250纳米，线宽均匀性小于50纳米；√ 系统最大支持9英寸基版，400毫米/秒扫描速度，200x200毫米曝光面积；√ 系统采取全封闭结构设计，必需的部件、控制架构和真空泵都在外壳内，便于快速安装；√ 统连接到空气温度调节器机组开始供应空调空气时，内置堆式过滤器将产生干净的交叉气流； √ 系统运动平台由机械缓振系统支撑，它将过滤掉绝大多数的噪音振动，以确保工作时的振动最小激光直写：√ 系统使用405纳米（可升级375纳米）激光源在感光层上曝光，不需订购或制作掩模，图案可随用户设计而改变；√ 系统不使用掩模版，只需在基版上涂胶后用紫外激光聚焦进行曝光，激光在靶区被连续地调制到规定的剂量； √ 光刻胶在激光照射下会改变其化学结构，曝光后很容易溶解在显影剂中，只需暴露部分区域就可以形成目标的图案。 无掩模激光直写系统性能规格：

PicoMaster ATE-100 无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率（375纳米激光源）●300纳米分辨率（405纳米激光源）●4095灰阶●业界最具实力的成套全息设计软件●最大125x125毫米基板尺寸PicoMaster 100 采用波长405纳米二极管激光器，它拥有市场上最小的300纳米激光分辨率。升级375纳米激光源，可以更好地兼容市面上I-line光刻胶材，从而满足更高级别的应用需求。备用光学模块，将大大的降低机器停机时间。更为人性化的软件设计，大大提升了用户实际操作效率，它将是您科学研究、实验开发、设计创新，理想的光学伙伴。PicoMaster 100广泛应用于半导体光刻, LED芯片,微流控芯片,微纳结构,灰度光刻,三维加工,全息影像等多个领域。PicoMaster 100 无掩模激光直写系统性能规格

晶圆刻号打码机产品介绍是专业化的晶圆激光刻号打码专用设备，适用于2-8英寸晶圆的软打标、硬打标作业。支持OCR字符和点阵字符，适用于Si, GaAs, Ge, SiC, GaP, InP, Sapphire, Quartz等的软打标、硬打标。全自动生产 可加工2〞- 6〞、4〞- 8〞、8〞- 12〞晶圆工业级激光器，稳定可靠，免维护光束质量好，标识精细，可读性好操作界面友好，使用方便 ，无需外接水冷机应用范围：2-8英寸晶圆的软打标、硬打标适用于Si, GaAs, Ge, SiC, GaP, InP, Sapphire, Quartz等的刻号、打码。技术规格 项目 单位 数值最大加工尺寸 晶圆尺寸 inch 6英寸激光器功率 激光器出口处 w 20瓦激光器波长 红外光纤激光器 nm 1064纳米 定位精度 mm 0.05毫米 重复精度 mm 0.02毫米振镜 最大扫描速度 mm/s 7000毫米/秒 振镜类型 数字/模拟 高速数字式振镜 最大负载 Kg 1.5千克协作机械手 最大臂长 mm 400毫米 重复精度 mm 正负0.03毫米 Z向行程 mm 210微米 电源 AC 两相220~240V 50HZ 最大耗电量 Kw 1.5千瓦 单独接地电阻 Ω 小于4欧 共用接地电阻 Ω 小于1欧 压缩空气供给压力 MPa 0.5~0.8兆帕 厂务真空供给 Kpa -0.6千帕其他规格 排风口口径 mm 50毫米

双光子聚合激光直写3D纳米光刻机MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术，兼容多种高分子材料，包括生物材料。MicroFAB-3D 3D纳米光刻机帮助您以亚微米的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件，MicroFAB-3D的zui小特征尺寸可低至0.2um宽，为微流体、微光学、细胞培养、微机器人或元材料领域开辟了新的前景。MicroFAB-3D具有开放性和适应性，可以满足您的个性需求。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机关键特性：较高的直写精度和分辨率(可达0.2um)（已有客户使用此设备实现低至67nm分辨率的结构）直写速度快兼容任何CAD模型和文件兼容广泛的聚合物，以及生物材料紧凑的设计适用于层流架适用于无菌、无尘室以及工业环境双光子聚合激光直写3D纳米光刻机核心优势：新的TPP切片工具复杂的3D结构下高直写速度三维微零件无形状限制适用于微部件、微流体、超材料、细胞培养、微机器人、微力学、组织工程、表面结构或任何你可能拥有的微制造理念的技术。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机规格指标：双光子聚合激光直写3D纳米光刻机适用材料：我们为我们的双光子聚合激光直写3D纳米光刻机提供了10种zhuanli光刻胶，这些树脂的各种性能允许您探索许多应用领域。我们的系统可与各种商业上可用的光刻胶兼容，如Ormocomp, SU8, FormLabs树脂，NOA-line树脂，甚至水凝胶或蛋白质等。这些光刻胶可能是生物兼容的，甚至已被认证实现微型医疗设备。如果您想使用定制的、自制的聚合物，我们也可以帮助您调整系统以适应您的工艺。关于昊量光电昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致 力于引 进国 外创 新性的光电技术与可 靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知 名光电产品制造商建立了紧 密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前 沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精 密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国 防及前沿的细分市场比如为量 子光学、生物显微、物联传感、精 密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前 沿科研与工业领域提 供完 整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优 质服务，助力中国智 造与中国创 造! 为客户提供适合的产品和提 供完 善的服务是我们始终秉承的理念！

是一个高价值的直写激光光刻机系统，面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西，从光掩模到基础科学或应用科学的研究原型，集成相机可以用来调整现有的功能写。我们对其进行了优化，以便于使用和简单维护，最大限度地利用现成的部件，而不牺牲书写质量或功能。直接激光书写光刻直接激光光刻技术通过消除光掩模生产对外部供应商的依赖，大大降低了微流体、微电子、微机械和材料科学研究等领域的成本和执行时间。其控制软件在PC上提供。它允许您从GDSII文件的单元格或直接从PNG图像导入要写入的设计。一切都是通过一个用户友好的图形界面来完成的，它允许您在执行之前预览要编写的设计。除了对每个设计应用旋转、反射、反转或比例调整等变换外，还可以在单个过程中组合多个设计。在确定了设计方案后，采用了所包含的工作台控制模块和共焦显微镜。使用它们，您可以设置基片上工艺的原点位置和感光表面上的焦平面。接下来执行该过程并将设计写在表面上。技术指标：XY工作台典型写入速度：100-120 mm/s最大面积：100x92 mm^2最小面积：没有最小面积单向定位台阶：X=0.16µ m，Y=1.00µ m慢速X轴上的机械噪声：1µ m快速Y轴上的机械噪声：1µ m多层对准精度：5-10µ m（可选旋转台，便于对准）实际最小特征尺寸：6-15µ m，取决于特征（示例见下图） 软件支持的格式：PNG、GDSII在软件转换：，旋转、反射、反转、重缩放、添加边框-可以在一个进程中编写来自不同文件的多个设计-通过3点线性或4点双线性聚焦测量进行倾斜/翘曲基板补偿-全床曲率补偿的网格型标定 光学-激光波长：405nm（可选375nm）-激光聚焦、对准和检测用共焦显微镜-二次独立黄色照明-激光光斑尺寸可以使用工业标准显微镜物镜改变 精度：-精细：0.8µ m-介质：2µ m-粗粒：5µ m 大面积包含目标的有效书写速度（单向书写）：-精细：1.7 mm^2/min-中等：4.25 mm^2/min-粗糙度：10.6 mm^2/min在双向写入模式下速度加倍。

DALI是由Aresis、CENN Nano center 和 LPKF 联合研发的高精度无掩膜纳米光刻机，是一款性能稳定，操作简单，对环境要求低，界面友好，零维护的桌面型高精度激光直写设备。其采用的是AOD声光调制器来控制激光进行高精度光刻，可以实现优于80nm平滑的边缘结构，100-150nm最小结构间距，最高400nm套刻精度，是实验室级微纳加工与器件制作不二选择。DALI凭借优异的性能，目前已广泛应用到微电子、微器件、纳米光学、材料科学、自旋电子学等研究领域。先进的AOD技术，定位分辨率优于0.1nmA. 可以获得任意平滑、锐利的结构边缘B. 可高分辨调整特征结构间的距离C. 可以实现亚微米级精细结构的构建主要特点：# 最小特征结构小于1μm# 针对I-line光刻胶进行优化（SU-8，AZ，……）# 超快与超高精度定位，光斑定位分辨率＜1nm# 可构建高深宽比结构（可达10:1）# 12nm-1μm光斑间距调节以获得超高平滑度# 100-150nm最小结构间距# 最高400nm套刻精度# 适用于从CAD设计到各种结构的快捷构建# 具备非平表面直写能力产品优势1. 超稳定，长寿命375nm激光器相对于其它各种光源，在精密光学仪器应用中，激光光源在光束质量，稳定性，耐用性等方面具有无与伦比的优越性。DaLI无掩膜纳米光刻机采用最优的激光光源，以保证超一流的性能和用户体验。2. 广泛的适应性DaLI无掩膜纳米光刻机广泛适用于各种I-line光刻胶，AZ系列正胶，SU-8系列负胶等，在各种厚胶与薄胶应用中有着出色的表现。3. 非平表面直写功能4. 整机恒温系统，保证最佳的性能DaLI无掩膜纳米光刻机采用了超越光刻技术极限的亚纳米级AOD激光操控技术，光斑定位精度可达0.1nm。为充分发挥AOD技术的优势，我们建立了整机恒温系统，控温精度可达±0.1℃，将设备所有部件和温差形变和热漂移降到最低，从而实现真正的高精度光刻。5. 准确的图形结构6. 工作范围与曝光拼接大光斑直写工具单个工作区域 为 900μm X 900μm；小光斑直写工具单个工作区域为 300μm X 300μm工作区域100mm X 100mm 工作区域间的平滑过渡机制（软拼接与硬拼接）；DaLI的软拼接可以将曝光扫描线延伸到临近区域，并梯度降低激光强度（红线）。在临近区域，激光强度梯度增加（蓝线），从而获得干净均一的拼接图案7. 用户友好的操作软件DaLI控制软件通过USB接口与设备快速通讯，可以对设计图中的区块和每一个微结构的曝光参数进行设置，对图形设计的预览和快速栅格化，对样品的观察、准直、调平等。该软件具备图形设计和展示功能，可选用多种绘图工具，支持对 dxf, gerber, bm 等格式文件的导入与修改。8. 更好的深宽比

PicoMaster ATE-150 PicoMaster ATE-150是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器，专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。系统的光栅化工作原理，搭配上高速扫描以及可调螺距步进激光头，确保了整个曝光制程在感光层表面准确而稳定地完成。系统优点v系统支持高达4095级的灰度、纯二进制模式；v系统对准精度最高小于250纳米，线宽均匀性小于50纳米；v系统最大支持6英寸基版，200毫米/秒扫描速度，150x150毫米曝光面积；v系统采取全封闭结构设计，必需的部件、控制架构和真空泵都在外壳内，便于快速安装；v系统连接到空气温度调节器机组开始供应空调空气时，内置堆式过滤器将产生干净的交叉气流； v系统运动平台由机械缓振系统支撑，它将过滤掉绝大多数的噪音振动，以确保工作时的振动最小v紧凑型光学模块，将整个光路包含其内，这使得光路尽可能地缩短，与传统光学装置相比，其指向稳定性将大大提高； v为获得最佳的光斑形状，光学模块设计了光束整形光学元件，配合长寿命的405纳米氮化镓激光二极管进行光刻制程； v搭配拥有自主专利的高数值孔径物镜，这使得市场上最小的高质量激光束光斑成为现实；v光学模组中，650纳米红色激光控制自动对焦系统可自动校正高度变化。v选项：可根据要求提供375纳米波长的光学模块替换405纳米光学模组。 v选项：对于要求较低的任务，可通过使用全自动数值孔径开关来选择较大的光斑大小。此开关允许系统使用更大的光斑尺寸来提高直写速度。 v选项：系统配备375 纳米光学模块后，将支持用户使用仅适用于I-line光源的光阻，而光斑尺寸会减小到270纳米，这将允许系统以更高的分辨率写入线条。 光学系统直写激光405纳米或375纳米激光寿命超过10000个工时，5年以上；激光强度光斑强度最大3毫瓦，可由软件控制；灰度控制4095级直写模式直写精度0.3微米, 0.6微米, 0.9微米曝光区域最大150x150毫米基版尺寸最小5x5毫米, 最大160x160毫米直写表征线宽尺寸最小0.3微米

MLA300批量生产高效能数字光刻解决方案 The Maskless Aligner for Volume Production批量生产高效能数字光刻解决方案批量生产能力，并且实现2μm线宽高分辨率，高产速及高效能。MLA300的特点是搭配全自动硅片自动装取片装置，以及操作软件提供简易的自动化工作流程。在全球半导体产业中，MLA300运用在IC传感器，分立器件，微机电设备(MEMS)，集成电路(ASIC)，OLED显示器，Mirco LED及封装应用的生产领域。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来*的综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

德国海德堡 激光直写光刻机DWL 66+科研用激光直写系统具有多种直写模块，实现不同精度直写需求能于结构上进行灰度曝光 DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器，适用于小批量掩模板制作和直写需求。该系统的功能和灵活性使其成为Life Science, Advanced Packaging, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor以及所有其他需要微结构应用的刻研工具。DWL 66+的客户群包括全球200多所顶尖大学和研究机构，许多系统功能是与这些机构合作开发，及先进技术不断改进以增加高分办率：DWL 66+的最小结构尺寸为300 nm，提供了极高的分辨率，优于或等于研发领域中最强大的光学光刻系统。 基本的DWL 66+包含创造和分析微结构所需的所有功能。它可以用于掩模板制作或直写在任何涂有光刻胶的平坦材料上，多样化选择可提高灵活性，使系统适用于更多应用领域。

基恩士 MD-F3100/5100系列 三轴光纤激光刻印机 特点： &bull 50 W/30 W 超高功率输出 &bull 耐环境的超小型无风扇刻印头 &bull 三轴控制 &bull 按不同用途的扫描仪优化控制 &bull 内置热电式功率监视器三轴光纤激光刻印机的优势：更快： 50 W/30 W 超高功率输出。显著提升刻印速度、提高生产效率及刻印品质。更灵活： 采用了基恩士首创的三轴控制&ldquo 3-AXIS&rdquo 。自由控制焦距，在任何形状上均可高精度刻印。弥补传统激光刻印机固定焦距的不足，成为了如今必备的功能。不仅可应对各种阶梯面，还可实现各种形状的无差别刻印。更强： 耐环境超小型无风扇刻印头，高功率输出，且机身紧凑。 由基恩士开发的自然风冷系统具有完全无缝的无风扇结构。不受灰尘或污垢、水滴或油雾等环境影响，具有即使在恶劣环境中也可以稳定运行的环境耐抗性能。【外壳防护等级 IP64】更轻松： 只要通过简单设定就可以编写出所需要的刻印程序。无论何物、无论何处都可刻印。

Super Lithography 3D 纳米光刻系统提供纳米级高精度的无掩膜光刻和纳米级3D 微纳结构打印，配合定制的软件系统，可以智能完成高精度无掩膜光刻的制造和其它纳米级 3D 器件的激光直写光刻。

立陶宛Workshop of Photonics公司从2003年进入飞秒激光微加工领域，成为全球领先的飞秒激光微加工设备以及解决方案提供商。WOP主要业务包括：飞秒激光微加工可行性分析，定制飞秒激光系统和光学组件，激光微加工车间，激光微加工自动化软件，定制激光系统和设备控制电路。3D激光光刻机 nSCULPTORnSCULPTOR是用于纳米结构加工的3D激光光刻系统，基于多光子聚合（mPP）技术，适用于市场上常见光阻材料。可以加工和生产纳米精度和分辨率的三维结构。系统将整个加工过程整合到一起，包括3D模型的创建和制备，激光直写，后期处理。产品特点：●一体化解决方案●100nm-10um分辨率●复杂3D物体●不同的聚合物●占地面积小产品应用：●纳米光子器件（3D光子晶体）●微流控●微光学器件（透镜，光纤结构）●微型机械●微型光机电系统（MOEMS）●生物医学

中药饮片包装袋撕开线激光刻线机 包装膜易撕线激光打虚线不透中药饮片包装袋撕开线激光刻线机的应用　　如今众多的商品都需要包装来装扮，不仅是为了美观，更是为了提高商品的使用率，保证商品可以长时间的储存使用，商品的质量不受时间和空间的影响而发生变质现象。种子食品塑料复合包装将商品严密的包装起来，隔绝外界空气的进入，起到防潮、防污的效果，让我们可以随时都用到新鲜的商品。这样商品的质量就有了保证，其次，也为商品进行了改造，将形态各异的产品都包装出具有一定规格的商品，满足人们的日常生活需求。　　激光打孔刻线方法是利用激光器产生的光束，通过聚焦在设计好的实线、虚线、波浪线、易撕线处均匀的切割出一条深仅若干微米的细线，由于激光在聚焦上的优点,聚焦点可小到亚微米数量级,从而对材料的微处理更具优势,切割、打标、划线、打孔深度可控。即使在不高的脉冲能量水平下,也能得到较高的能量密度,有效地进行材料加工。可将激光设备装置在分切机或者复卷机上，应用激光技术在OPP、BOPP、PE、PET（聚酯）、铝箔、纸等软包装材料上切割、划线、打孔、层切。　　随着激光应用领域越来越广泛，激光对薄膜包装行业应用也得到进一步提升，激光加工成为了PE、PVC、PET薄膜加工行业新的工艺标准。武汉三工激光是国内首家针对薄膜包装行业提出激光代替机械加工工艺的企业，专为薄膜易撕线、定量透气孔设计，打标速度快，设备易操作，性能稳定，使用寿命长等。SCM-55集合了激光技术、光学技术、精密机械、电子技术、计算机软件技术以及制冷等学科于一体的高科技产品，与传统的机械齿轮压孔相比速度更快，孔径孔距大小可调更加均匀，可实现多个方向、形状，多条易撕线标刻。包装袋撕开线激光刻线机参数表包装膜易撕线激光打虚线有什么优点1、速度快设备在线飞行标刻易撕线速度280-300m/min（根据工艺而定）2、加工幅面大幅面300×300mm范围内实现标刻、切割任意图形3、稳定性好设备采用全封闭光路、原装进口CO2射频激光器、均配装有高速扫描振镜和扩束聚焦系统、严格多重保护控制设计（电网电压欠压保护，工作电流过流保护，冷却循环水流量、水位、水温保护），保证设备整体的稳定，高稳定抗干扰工业计算机智能控制，实现24小时连续稳定可靠运转。4、操作简单专用控制软件，实现任意形状标刻5、设备小巧设备占地约为1.5m2，大限度减少空间占用6、高精度传感器旋转模拟编码器（国产） 检测流水线速度RGB传感器(日本进口) 精确高速定位飞行打标位置　　包装膜易撕线激光打虚线广泛应用于医药、食品、化工等产品自动化包装，使其成为了包装的好帮手。虽然我国的包装行业起步比国外要晚很多，尽管现在已经取得了初步的发展，但是我们仍然还有很大的空间需要去开拓，技术的革新只是暂时的，科技的力量也从未止步，先进的设计理念层出不穷，我们有自己的想法，同时还要结合国外的先进设计理念来发展全自动激光打孔机，这样才能实现全方位的发展，才能不断的研习发展。

Keyence 远心激光刻印机MD-T系列，配备远心镜头，超精细激光刻印机。

DWL66+多功能无掩膜激光直写机 / 光刻机The Maskless Aligner for Volume Production多种直写模块及灰度光刻 实现各种精度需求DWL66+ 激光光刻系统是具经济效益、具有高分辨率的图形发生器。适用于小批量掩膜版制作和直写需求。DWL66+拥有多种选配模块,例如:正面和背面对准系统；405nm和375nm波长的激光发生器；进阶选配：精度校准和自动上下板加载系统。DWL66+的高度灵活和可定制的解决方案，专门为您的应用量身定做，已成为生命科学、先进封装、MEMS、微光学、半导体和所有其他需要微结构的应用中必不可缺少的光刻研究工具。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

VPG+200 / VPG+400多功能超快速圖形發生器The Multi-Purpose Volume Pattern Generators光学系统上的创新与突破-平行化曝光制程技术制版系统VPG+系列分为中小尺寸和大尺寸曝光系统，专业服务中小型和大型版面的光刻制程。VPG+200和VPG+400为先进的中小型快速光刻机，采用VPG+800以上的大型平台的运作原理，拥有光刻领域的先进技术。应用包括如MEMS、先进封装、3D集成、LED生产及化合物半导体等的领域。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

PicoMaster XF ATE-500 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直写设备，它具有每毫米超过1200条线的输出能力，特别适合用户在光敏层上自由地创造微结构。独有的全息设计软件，提供了许多预先安装的全息效果及其光栅、结构的运算方法，它们可以很轻松地将把这些效果组合起来，十分利于用户的产品开发。同时软件也允许用户添加自己的算法和结构，来定制数据库、完善产品设计。系统优点v使用GLV （Grating Light Valve）技术，可实现高达1000个单位像素的激光束高速并行直写；v构建独立设计库，可完成最高自由度的3D光刻，并支持标准图像源、个性化的3D设计源；v支持最大 0.5米 x 0.5米的激光直写面积，低规格条件下，直写只需55个小时；v选择关闭灰度写入功能，直写相同曝光面积，其直写速度将提升2倍；v可定制更大幅面的无掩模激光直写系统解决方案.大幅面无掩模激光直写系统应用效果性能规格

PicoMaster XF ATE-800 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直写设备，它具有每毫米超过1200条线的输出能力，特别适合用户在光敏层上自由地创造微结构。独有的全息设计软件，提供了许多预先安装的全息效果及其光栅、结构的运算方法，它们可以很轻松地将把这些效果组合起来，十分利于用户的产品开发。同时软件也允许用户添加自己的算法和结构，来定制数据库、完善产品设计。系统优点使用GLV （Grating Light Valve）技术，可实现高达1000个单位像素的激光束高速并行直写；构建独立设计库，可完成最高自由度的3D光刻，并支持标准图像源、个性化的3D设计源；支持最大 0.8米 x 0.8米的激光直写面积，低规格条件下，整幅面激光直写只需48个小时；选择关闭灰度写入功能，直写相同曝光面积，其直写速度将提升2倍；可定制更大幅面的无掩模激光直写系统解决方案；

德国海德堡Heidelberg激光直写光刻机DWL 2000/4000科研型与量产型兼具的激光直写设备高速、高灵活度与高精度的光学系统4096阶灰阶光刻功能DWL2000和DWL4000激光光刻系统为快速、灵活的高分辨率图形产生器，用于制作光罩和直写。这些系统的写入面积高达200x200mm2与400x400mm2，是MEMS、BioMEMS、Micro Optics、ASICs、Micro Fluidics、Sensors，CGH以及所有其他微结构应用里，需快速构图于光罩和硅片的完美方案。除了高分辨率的2D图形之外，还提供灰度光刻曝光模式，可在厚光刻胶中创建复杂的3D结构。与其他技术相较，此光刻技术能够在大面积中产出3D微结构。优化评估灰度曝光的特殊软件工具，减少新图像设计的循环时间。为了确保最低的表面粗糙度和形状一致性，该系统支持高达4096灰度级，在业界中具备无与伦比的性能。常见的应用包括部份大型的跨国公司制造用于电信或照明产业的晶圆级光学器件，其他新应用包括显微镜制造以及生物学和生命科学领域的器件制造。

小型台式无掩膜光刻机- MA1200小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3是英国公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。MA1200 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。 产品特点 Focus Lock自动对焦功能Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，以保证曝光分辨率。光学轮廓仪MicroWriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。标记物自动识别点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。直写前预检查软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确。简单的直写软件MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。Clewin 掩膜图形设计软件● 可以读取多种图形设计文件（DXF, CIF, GDSII, 等）● 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式● 书写范围只由基片尺寸决定

德国海德堡Heidelberg激光直写光刻机 MLA150德国高精密激光直写绘图机非接触式曝光可支持高效数位光刻与灰度光刻MLA150专为便于操作而设计，涵盖过去30年中开发的激光直写设备的所有技术知识。它提供了单层和多层应用所需的所有功能，由于MLA150曝光是非接触式的，因此它可以克服无光罩曝光技术的局限性。与其他图形产生器不同的地方不仅在于MLA150易于使用，还有极快的曝光速度。使用小至1微米的结构曝光100x100mm2的区域仅需要不到10分钟。透过使用三个不同分辨率的集成摄像头，可在2分钟内完成多层应用中的套刻对位，套刻对准精度优于500nm。MLA150无光罩激光直写设备直接曝光图形的灵活性能，可提升在Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene及任何其他需要微结构等领域的工作效率。 功能基板到9 x 9”标准版:1μm结构高分辨率版本:结构可达600纳米2暴露面积150 x 150毫米(200 x 200平方毫米可选)非接触式曝光光源为405 nm和375 nm基于SLM光引擎多种数据输入格式校准精度为500纳米背面对齐实时自动对焦抵制数据库自动标记和序列化

德国海德堡 Heidelberg 激光直写光刻机 MLA150 德国高精密激光直写绘图机非接触式曝光可支持高效数位光刻与灰度光刻 MLA150专为便于操作而设计，涵盖过去30年中开发的激光直写设备的所有技术知识。它提供了单层和多层应用所需的所有功能，由于MLA150曝光是非接触式的，因此它可以克服无光罩曝光技术的局限性。与其他图形产生器不同的地方不仅在于MLA150易于使用，还有极快的曝光速度。使用小至1微米的结构曝光100x100mm2的区域仅需要不到10分钟。透过使用三个不同分辨率的集成摄像头，可在2分钟内完成多层应用中的套刻对位，套刻对准精度优于500nm。MLA150无光罩激光直写设备直接曝光图形的灵活性能，可提升在Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene及任何其他需要微结构等领域的工作效率。 功能基板到9 x 9”标准版:1μm结构高分辨率版本:结构可达600纳米暴露面积150 x 150毫米(200 x 200平方毫米可选)非接触式曝光光源为405 nm和375 nm基于SLM光引擎多种数据输入格式校准精度为500纳米背面对齐实时自动对焦抵制数据库自动标记和序列化

MLA150先进无掩膜激光直写机 / 光刻机The Advanced Maskless Aligner适合研发团队与中小批量生产的客户MLA150专属为研发型以及中小批量生产的客户而设计的激光直写解决方案。区别于过去传统的工艺技术而开发的无掩膜激光直写技术，将设计图形直接曝光到涂覆有光刻胶的衬底材料上；曝光后，如果需要修改图形结构，可以直接通过CAD软件修改原始图形，然后重新曝光即可，无需花费重新制版的时间。主要产业应用有：生命科学、微流体、MEMS、微光学、传感器、材料研究等有微纳米结构需求的科研领域。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备 / 光刻机HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。