金属工艺液

1. 系统特性Kessel® Pishow® M 金属刻蚀设备是面向8英寸集成电路制造的量产型设备设备由电感耦合等离子体刻蚀腔（ICP etch chamber）、去胶腔（stripchamber）、冷却腔（cooling chamber）、传输模块（transfer module）构成适用于0.11微米及其它技术代的铝垫刻蚀及钨回刻（W Recess）工艺也可换用6英寸ESC。2. 工艺数据铝垫刻蚀铝线工艺钨塞刻蚀 3. 详细介绍Kessel&trade Pishow® M 金属刻蚀设备为可用于8英寸的IC产线铝金属工艺的量产型机台，基于自有开发的优化设计，保证了优异的刻蚀均匀性（片内8%，片间5%）和颗粒控制。在4微米厚铝刻蚀工艺中，可以提供8000片/月的产能。该设备高性价比的解决方案和优秀的空间利用率，可为客户产能升提供帮助。

仪景通（原奥林巴斯）手持合金光谱仪VANTA　　近期很多客户咨询赢洲科技客服人员，能否用奥林巴斯光谱仪进行检测艺术品的真伪？其实奥林巴斯XRF光谱仪可以用来鉴别古代人工制品或珍贵艺术品的真伪。使用X射线荧光（XRF）分析和热致发光（ Thermo-Luminescence）（TL）技术来评估艺术品和人工制品（包括考古陶器，珠宝和合金）的真伪。　　热致发光技术可以通过测量物体中累积的辐射剂量来测算考古陶器的年龄。为了使热致发光更好地测算年龄，必须知道待测物粘土的成分，尤其是存在于粘土中的β发光体（钾K，铀U和钍Th）的含量，而XRF作为一种无损分析技术，是完成这项工作的理想方法。这些化学成分信息有助于他们确定陶器和其他文物的更准确年龄。选择奥林巴斯Vanta光谱仪作为XRF分析工具。仪景通（原奥林巴斯）手持合金光谱仪VANTA　　以下是使用XRF光谱仪的几种情况：　　粘土分析：XRF光谱仪可以进行全面分析，提供粘土矿物的重要信息，可以帮助确定它们是假的还是已修复的。例如，造假者经常用石膏代替粘土进行修复，XRF快速扫描识别是否为石膏。　　粘土中的颜料分析：现代颜料与古代颜料所含元素不同。例如曾经分析过前哥伦布时期、印加时期和莫希时期（公元500年）的文物。但是经过XRF分析后，发现白色颜料是公元1900年才被发现的氧化钛。说明这些颜料是现代的，这意味着该文物是复制品。　　金属分析：使用Vanta XRF光谱仪的Alloy Plus模式来快速分析金属工艺品的元素组成，从而能够确定其大致的年龄区间（不同时期的金属工艺品的元素组成存在明显区别）。例如，黄铜的冶炼技术是近代才发展起来的。1500年以前，黄铜中锌含量不超过28％，这意味着所谓罗马时期的含有35%或40%锌的黄铜文物是不可能出现的。　　使用XRF光谱仪评估了各种材料，以鉴别真正的艺术品和人工制品，服务了各种艺术博物馆，美术馆，私人收藏家，拍卖和交易商。想要了解更多奥林巴斯光谱仪信息欢迎咨询赢洲科技（上海）有限公司。

近期很多客户咨询赢洲科技客服人员，能否用奥林巴斯光谱仪进行检测艺术品的真伪？其实奥林巴斯XRF光谱仪可以用来鉴别古代人工制品或珍贵艺术品的真伪。使用X射线荧光（XRF）分析和热致发光（ Thermo-Luminescence）（TL）技术来评估艺术品和人工制品（包括考古陶器，珠宝和合金）的真伪。　　热致发光技术可以通过测量物体中累积的辐射剂量来测算考古陶器的年龄。为了使热致发光更好地测算年龄，必须知道待测物粘土的成分，尤其是存在于粘土中的β发光体（钾K，铀U和钍Th）的含量，而XRF作为一种无损分析技术，是完成这项工作的理想方法。这些化学成分信息有助于他们确定陶器和其他文物的更准确年龄。选择奥林巴斯Vanta光谱仪作为XRF分析工具。　　以下是使用XRF光谱仪的几种情况：　　粘土分析：XRF光谱仪可以进行全面分析，提供粘土矿物的重要信息，可以帮助确定它们是假的还是已修复的。例如，造假者经常用石膏代替粘土进行修复，XRF快速扫描识别是否为石膏。　　粘土中的颜料分析：现代颜料与古代颜料所含元素不同。例如曾经分析过前哥伦布时期、印加时期和莫希时期（公元500年）的文物。但是经过XRF分析后，发现白色颜料是公元1900年才被发现的氧化钛。说明这些颜料是现代的，这意味着该文物是复制品。　　金属分析：使用Vanta XRF光谱仪的Alloy Plus模式来快速分析金属工艺品的元素组成，从而能够确定其大致的年龄区间（不同时期的金属工艺品的元素组成存在明显区别）。例如，黄铜的冶炼技术是近代才发展起来的。1500年以前，黄铜中锌含量不超过28％，这意味着所谓罗马时期的含有35%或40%锌的黄铜文物是不可能出现的。　　使用XRF光谱仪评估了各种材料，以鉴别真正的艺术品和人工制品，服务了各种艺术博物馆，美术馆，私人收藏家，拍卖和交易商。想要了解更多奥林巴斯光谱仪信息欢迎咨询赢洲科技（上海）有限公司。

茂金属催化剂聚合工艺条件优化分析通过采用我公司的CFC仪器对茂金属催化剂聚合得到的聚烯烃材料微观结构的表征，可以判断聚合工艺条件是否达到最优化条件，从而生产出客户需要的产品，对指导催化剂研发和聚合工艺的优化提供依据。

水德——无人船测深仪产品介绍T200U测深仪是由我司自主研发生产的无人船版单波束测深仪，采用国际领先的底检测核心算法及多轴数控加工工艺打造而成，T200U 测深仪可任意搭配标准计算机系统及无人水上水下载体，极大地提高了数据准确度和系统集成度。配有专业而人性化的测量软件，测深数据和图像可实时显示、存储、回放和打印；同时，仪器内置智能数字转换技术（专利）模块，实现任意计算机系统一键切换，确保应急处理万无一失。主要特点Ø 进口浮点数字信号处理器，声信号处理强大核心Ø 国际领先的声信号处理算法，工程经验超过30年Ø 智能数字转换技术（专利）[实用新型专利号：ZL201920859486.2]确保野外测量万无一失Ø 超宽直流输入：10～36V，可用不同船电（如 12V\24V）Ø 匠心设计，防水、防尘接口Ø 软件不设注册码，信赖源于自信Ø 产品提供 3 年质保期，承诺因为可靠Ø 采用多轴数控机床（CNC）加工技术及 SUS304 激光成型技术参数工作频率200KHz最大发射功率800W测深范围0.2～300mPing 率40Hz功耗10W测深精度1cm±0.1%h (h 为水深) 1cm 水深分辨率材质金属工艺多轴数控机床（CNC）加工技术重量1.95Kg工作温度-30～60°C电源DC10～36V/AC220V 适配器外形尺寸212mm X 165mm X54mm外部接口LAN、电源接口、换能器接口 搭配无人船--水域地形测量显控软件 采集与后处理软件 更多关键词：无人船测深仪,测深仪

紫外荧光手电筒TQC紫外荧光手电筒可距离产品表面约38cm以15000μW的功率进行检查。可用于检测在紫外光源下反应的污染物和不能用肉眼观察的污染如有机脂肪酸、碱性污染物等。如：上漆前对钢进行清洁度检查，结果会比较理想。仪器放置在一个坚固的塑料手提箱中，并配有设置为对比度的黄色防护眼镜。紫外荧光手电筒符合标准ISO 802-3紫外荧光手电筒产品特点配备了的450mW高功率紫外LED灯，波长约为365nm输出的紫外光强1500μW/c㎡(38cm)可充电离子电池，可提供180分钟的连续检查使用寿命20000小时单波长，无热量，远紫外光电镀铝灯体，抗腐蚀和经久耐用紫外荧光手电筒适用行业紫外荧光手电筒应用领域-矿物检测-金属裂纹探测-无损检测紫外荧光手电筒技术参数紫外荧光手电筒注意事项1.虽然仪器设计得很牢固，但此设备属于精密仪器，杜绝跌落和敲打 2.仪器不使用的时候请将保存在箱子里 3.虽然紫外光我们肉眼看不见，但隐形的紫外光却大量发出,因此使用的时候切勿直视紫外光光束。金属清洁度检测仪器TQC紫外荧光手电筒适合于涂层、涂料检测使用， 相对于TQC LD7220紫外荧光手电筒SITA CleanoSpector表面清洁度仪更加适合于金属、玻璃表面的清洁度检测处理，SITA CleanoSpector表面清洁度仪是以荧光法为原理的，可用于检测金属表面的油脂、油污、冷却液、清洗剂等残留污染物，适合于金属工艺处理、真空开关行业等行业使用。粉尘颗粒物检测仪器德国RJL公司的microquick 颗粒物检测仪器可用于粉尘、颗粒物的检测，最小可检测25μm大小的污染物，符合VDA 19、ISO 16232等汽车行业的清洁度检测要求。

产品介绍：TQC污染度荧光手电筒可距离产品表面约38cm以15000μW的功率进行检查。可用于检测在紫外光源下反应的污染物和不能用肉眼观察的污染如有机脂肪酸、碱性污染物等。如：上漆前对钢进行清洁度检查，结果会比较理想。仪器放置在一个坚固的塑料手提箱中，并配有设置为尽可能佳对比度的黄色防护眼镜。紫外荧光手电筒符合标准： ISO 802-3紫外荧光手电筒产品特点 配备了最新的450mW高功率紫外LED灯，波长约为365nm 输出的紫外光强1500μW/c㎡(38cm) 可充电离子电池，可提供180分钟的连续检查 使用寿命20000小时 单波长，无热量，远紫外光 电镀铝灯体，抗腐蚀和经久耐用紫外荧光手电筒应用领域 -矿物检测 -金属裂纹探测 -无损检测紫外荧光手电筒技术参数金属清洁度检测仪器：TQC污染度荧光手电筒适合于涂层、涂料检测使用， 相对于TQC LD7220污染度荧光手电筒SITA CleanoSpector表面清洁度仪更加适合于金属、玻璃表面的清洁度检测处理，SITA CleanoSpector表面清洁度仪是以荧光法为原理的，可用于检测金属表面的油脂、油污、冷却液、清洗剂等残留污染物，适合于金属工艺处理、真空开关行业等行业使用粉尘颗粒物检测仪器：颗粒物清洁度检测仪器可用于粉尘、颗粒物的检测，尽可能小可检测25μm大小的污染物，符合VDA 19、ISO 16232等汽车行业的清洁度检测要求。

仪器简介：GPCMA箱式炉配有一个金属工艺内腔，可在可控气氛环境下提供良好的均温区体积。炉型为落地式设计平行导向炉门。根据所选内腔材料的不同，最高温度范围为1000℃到1150℃。内腔的有效工作体积从34升到245升。根据不同应用要求，氧含量可低至30ppm。是通过DMLS成型的增材制造部件消除应力的完美解决方案。该系列炉型可定制符合Nadcap AMS2750F 一级炉，满足航空航天应用。性能特点：&bull 不同内腔材料对应的最高温度: 310不锈钢内腔最高温度1000°C 314不锈钢内腔最高温度1050°C Inconel合金内腔最高温度1100°C Haynes230内腔最高温度1150°C&bull 可编程3508P1控制器&bull 2区串级控制&bull 超温保护&bull 37,56,117,174,208，或245升的内腔体积&bull 带有模拟流量计的氮气半自动供气系统&bull 加热丝分布于炉膛两侧，炉顶和炉底，自由辐射热量（37升:两侧和炉底)&bull 低蓄热量保温材料，加热高能效，快速升温&bull 平行导向炉门，使操作者远离热源，保护用户远离高温热量&bull R型控制温电偶&bull 内部内腔热电偶：最高1100°C为K型热电偶，高于1100℃为N型&bull 硅胶水冷炉门密封圈&bull 炉门安全联锁选配件：&bull 真空选项(10-2mbar)，可快速置换内部气氛，仅适用于室温。此选项必须订购真空工艺内腔。&bull 半自动氩气模拟流量计供气系统&bull 带有数字流量计的半自动供气系统(如果选配了数据记录仪，将会记录数据)&bull 全自动供气系统，带有气体监测和质量流量计&bull 配3504控制器的氧气监测系统&bull 自动强制冷却系统&bull 尾气燃烧选项(与真空选项不兼容)&bull 冷水机组，5升/分钟，1千瓦。&bull 一系列具有数字通讯选项的精密数字控制器，多段编程器和数据记录，以及数字通讯接口（请参见第100页）&bull 可满足AMS2750F Nadcap标准&bull 各种装料卸料配件技术参数：

金属热处理专用深冷处理设备 液氮深冷炉型号:CDW-196系列 品牌:汇富 产地：山东济南 汇富热处理专用深冷处理设备,以液氮为冷却介质,低温可达-196℃,降温速度快,可用于金属热加工工艺的冷却过程.CDW-196系列深冷设备有多种规格型号可供选择,可满足不同尺寸金属材料的深冷处理,支持定做.欢迎广大新老客户洽谈合作。 金属热处理专用深冷处理设备产品概述：金属热处理是指材料在固态下，通过加热、保温和冷却的手段，以获得预期组织和性能的一种金属热加工工艺。很多金属材料在完成热处理工艺之后，其硬度及机械性能均大大提高，但依然残存很多问题，如：残余奥氏体，组织晶粒粗大，材料碳化物固溶过饱和，残余内应力等，会影响到材料的硬度、耐磨性以及尺寸的稳定性等。经过国内外许多研究者的不懈研究，深冷及超深冷处理工艺被认为是解决这些问题的zui优方法。汇富热处理专用液氮深冷处理设备主要用于消除残留的奥氏体，完全转换成马氏体，提高材料耐磨性，长时间的冲击疲劳强度，缩小材料的延展性和内部变形，提高使用寿命。金属热处理专用深冷处理设备产品结构：汇富深冷处理设备采用人机界面+PLC+模块可编程控制方式，实时监kong箱内温度变化，具备手动和自动双操作功能。设备以液氮为冷却介质，不锈钢机箱美观耐用，采用优质高密度聚氨酯发泡保温层隔热。系统结构合理，制造工艺规范，部件布置紧凑，操作简单功能强大，人性化交流界面；低温可以达到-196℃，降温速度快。汇富金属热处理专用深冷处理设备采用液氮分散制冷技术和控温技术，使产品的恒温、降温各过程均匀稳定。金属热处理专用深冷处理设备优越性： 提升工件的硬度及强度保证工件的尺寸精度提高工件的耐磨性提高工件的冲击韧性改善工件内应力分布，提高疲劳强度提高工件的耐腐蚀性能。金属热处理专用深冷处理设备技术指标：控温范围：室温—-196℃降温速度：1—50℃温度均匀度：±2℃控制方式：触摸屏+PLC的控制方式，保温结束自动关机制冷剂： 液氮低温箱形式：卧式、井式保温材料：聚氨酯低温箱内壁：不锈钢电源： AC 380V 售后服务：汇富所售设备质量三包，免费保修期限为一年，终身维护。在三包期，供货方对设备出现各类故障及时免费维修服务。对非人为造成的各类零部件损坏，及时免费更换。保修期外设备在使用过程中发生故障，供货方及时到订货方服务，及时高效协助用户解决安装使用过程中出现的问题。

陶瓷纤维制品是用低导热的陶瓷纤维棉为原材料，通过真空吸滤工艺加工制成具有重量轻、耐高温、热稳定性好、导热率低、比热小及耐机械振动等特性的纤维制品。现开发有坩埚、舀勺、保温冒口、烧嘴、全纤维炉膛、电炉炉衬等陶瓷纤维异型制品。该产品主要用于铸造、冶金、有色金属、铝等行业各种高温金属溶液的取样、转运、浇注，选用耐温不同的陶瓷纤维原棉，采用真空吸滤工艺和专业成型模具制作，根据客户要求制做不同规格、不同形状的产品。 产品特性 ◎ 高温使用有较低的热收缩率和低热导率◎ 高温环境中有防护隔热、蓄热保温效果◎ 抗磨损、风蚀、冲击、剥落，而且不被大多数熔融金属所腐蚀◎ 根据使用工况产品密度和强度可以调整◎ 产品轻便好用，循环使用

金属热处理专用深冷处理设备 -196度液氮深冷箱型号:CDW-196系列 品牌:汇富 产地：山东济南 汇富热处理专用深冷处理设备,可用于金属热加工工艺的冷却过程.设备采用液氮分散制冷技术和控温技术，使产品的恒温、降温各过程均匀稳定。CDW-196系列深冷设备有多种规格型号可供选择,可满足不同尺寸金属材料的深冷处理,支持定做.欢迎广大新老客户洽谈合作。 金属热处理专用深冷处理设备产品概述：金属热处理是指材料在固态下，通过加热、保温和冷却的手段，以获得预期组织和性能的一种金属热加工工艺。很多金属材料在完成热处理工艺之后，其硬度及机械性能均大大提高，但依然残存很多问题，如：残余奥氏体，组织晶粒粗大，材料碳化物固溶过饱和，残余内应力等，会影响到材料的硬度、耐磨性以及尺寸的稳定性等。经过国内外许多研究者的不懈研究，深冷及超深冷处理工艺被认为是解决这些问题的zui优方法。汇富热处理专用液氮深冷处理设备主要用于消除残留的奥氏体，完全转换成马氏体，提高材料耐磨性，长时间的冲击疲劳强度，缩小材料的延展性和内部变形，提高使用寿命。金属热处理专用深冷处理设备产品结构：汇富深冷处理设备采用人机界面+PLC+模块可编程控制方式，实时监kong箱内温度变化，具备手动和自动双操作功能。设备以液氮为冷却介质，不锈钢机箱美观耐用，采用优质高密度聚氨酯发泡保温层隔热。系统结构合理，制造工艺规范，部件布置紧凑，操作简单功能强大，人性化交流界面；低温可以达到-196℃，降温速度快。金属热处理专用深冷处理设备技术指标：控温范围：室温—-196℃降温速度：1—50℃温度均匀度：±2℃控制方式：触摸屏+PLC的控制方式，保温结束自动关机制冷剂： 液氮低温箱形式：卧式、井式保温材料：聚氨酯低温箱内壁：不锈钢电源： AC 380V 售后服务：汇富所售设备质量三包，免费保修期限为一年，终身维护。在三包期，供货方对设备出现各类故障及时免费维修服务。对非人为造成的各类零部件损坏，及时免费更换。保修期外设备在使用过程中发生故障，供货方及时到订货方服务，及时高效协助用户解决安装使用过程中出现的问题。

防爆型液体金属浮子流量计采用全金属结构，具有体积小、精度高、测量范围广、使用方便的特点，相对比与玻璃转子流量计更能承受较高的温度和压力，是工业自动化过程控制常用的一种变面积式流量仪表，可用于液体和气体的流量测量，尤其适用于小口径、低流速、小流量、高温高压介质的测量。按用途可分为就地指示、远传型、防腐型、夹套型、防爆型、卫生型等满足不同工艺场合的测量需求。广泛应用于石油、化工、冶金、制药制水、电力、环保、工程和轻工等行业领域的液体、气体的流量计量和过程控制。防爆型液体金属浮子流量计结构及原理（1）结构主要由传感器和指示器两部分组成。传感器主要组成：法兰、测量管、锥管或孔板、浮子和上下导向器。指示器主要组成：磁耦合系统、电远传系统、指示盘、指针和外壳。 测量原理：流体自下而上流经测量管时，浮子受到浮力和流体的推力会逐渐上升，当浮子自身的重力和浮力、流体的推力平衡时，浮子会稳定在测量管中的某一个位置上。当流体的流量越大，推力也就越大，浮子的位移也会增加，浮子位移增加后与孔板或锥管的环隙也会增大，从而会通过更大的流量，所以说金属浮子流量计是一种变面积流量仪表。浮子内嵌一根磁钢，指示器中有磁耦合系统与之形成磁关联，当浮子在测量管中上下移动时，磁场随浮子的移动而变化，指示器中的磁耦合系统会带动指针移动。利用磁传感器检测位移并转换成电信号，经电路板处理后显示瞬时和累计流量，指针在指示盘上指示瞬时流量。 金属管浮子流量计特点 （1）远传型可任意设置上下限报警，方便报警点更改。（2）液晶背光恒高亮，方便观测。（3）液晶显示无死角，从各个角度都可以清晰观测数据。（4）同时显示瞬时流量、累计流量和百分比光柱。（5）支持所有标准Hart协议软件及手操器。（6）具有数据存储备份和恢复，可随时恢复出厂状态。（7）各种形式的安装及连接方式满足不同需求。（8）一次性滚压成型传感器，精度高、重复性好。（9）卫生型传感器光洁度高、无死角使用无残留。主要技术参数口径15、25、50、80、100、150、200（标准型）10、20、32、40、65、125（非标型）测量范围水：1~200000L/h空气：0.03~4000m3/h（20℃，0.1013MPa）量程比10：1，20：1（特殊型）连接方式法兰连接：GB/T9112，HG20592，DIN2501，ANSI，JIS，SH3406卡箍连接：SMS Tri-clamp其他连接：螺纹连接、卡套连接、软管连接精度等级1.5级，1.0级（特殊）压力等级法兰连接：DN10~DN50≤4.0MPa（zui大32MPa）DN65~DN150≤1.6MPa（zui大16MPa）DN200≤1.0MPa（zui大10Ma）介质温度常温型：-20℃~100℃高温型：100℃~450℃PTFE型：0℃~80℃环境温度就地型：-30℃~120℃远传型：-20℃~80℃PTFE型：0℃~80℃介质粘度DN15：η＜5mPa.sDN25：η＜250mPa.sDN50~DN150：η＜300mPa.s电源12~36VDC，4~20mA（两线制）220VAC,50Hz（交流供电）电池供电，可连续使用输出负载500Ω（24V供电时）电缆借口M20×1.5，1/2NPT，G1/2防护等级IP65卫生型表面光滑度Ra≤0.8μm夹套型标准夹套连接为法兰连接，连接标准为：GB/T9119-2000、DN15、PN16、RF其他连接根据客户要求定制。安装方式（1）垂直安装垂直安装在金属管浮子流量计的安装方式中应用最为广泛。使用此方式安装，其被测介质流量大多为下进上出，也有极少部分为上进下出。 （2）水平安装水平安装是金属管浮子流量计常见的安装方式，可以分为水平弹簧安装和水平T型安装。（3）其他安装方式（需定制）安装注意事项（1）安装流量计之前要将管道内的杂物清理干净。（2）金属管浮子流量计进口端处应有10DN直管段，出口端应当有5DN直管段，以保证仪表测量精度，测量时调节阀必须安装在流量计的下游。（3）流量计必须垂直于地面安装，其倾斜度不得超过2°，否则会影响测量准确度。（4）若被测介质为大的脉动流或两相流，应在流量计的上游安装缓冲器来消除或减弱脉动，保证介质的流动是单相稳定的，同时，建议选择阻尼型的流量计更好。（5）若被测介质含有较多杂质或含有导磁颗粒时，应在流量计的上游安装过滤器或磁过滤器。（6）流量计尽量安装在振动不影响测量精度的直管段，增加固定流量计的支撑，消除振动带来的影响干扰 。（7）为了避免由于管道引起的流量计变形，工艺管线的法兰必须与流量计的法兰同轴并且相互平行，适当地管道支撑以避免管道振动和减小流量计的轴向负荷。（8）安装在工艺管线上的金属管浮子流量计应加旁路，方便处理故障或吹洗时不影响生产。（9）当被测介质为气体时，应保证管道内的工作压力不少于5倍流量计的压力损失，使流量计能够稳定正常的工作。（10）如果被测介质的温度高于220℃或流体温度过低易发生结晶时，需采取隔热保护措施时，应选用夹套型，以便进行冷却或保温。 （11）由于仪表是通过磁耦合传递信号的，所以为了保证仪表的性能，安装周围至少10cm处，不允许有铁磁性物质存在。 （12）测量气体的仪表，是在特定压力下校准的，如果气体在仪表的出口直接排放到大气，将会在浮子处产生气压降，并引起数据失真。如果是这样的工况条件，应在仪表的出口安装一个阀门。 （12）安装PTFE衬里的仪表时，要特别小心。由于在不均匀压力的作用下，PTFE会变形，所以法兰螺母均匀拧紧对称； （13）带有液晶显示的仪表，安装时要尽量避免阳光直射显示器，以免降低液晶使用寿命。（14）把现场的介质参数换算成标定时的标准流量。因为作为流量测量使用的金属转子流量计一般都是根据用户提供的现场的介质参数，进行计算选型，制作。因为每个现场的介质和环境多少都会有些差距，多以一般没有标准表，而都是根据每个现场参数定做。液体用仪表通常以水标定流量，气体仪表用空气标定，定值在工程标准状态。使用条件的流体密度、气体压力温度与标定不一致时，要做必要换算。换算公式和方法参照各制造厂的说明书。金属管浮子流量计的分类：（1）按流量计功能分类：可分为现场指示、气动远传信号输出、电动远传信号输出、报警等。远传信号输出型仪表的转换部分将浮子位移量转换成电流或气压模拟量信号输出，分别成为气远传浮子流量计和电远传浮子流量计。 （2）按与管道连接方式分类：法兰连接、螺纹连接。金属管浮子流量计通常为法兰连接，个别型号用螺纹连接。 （3）按被测流体分类：可分为液体用、气体用、蒸汽用。大部分浮子流量计同一仪表既可测液体也可测气体。测量蒸汽只能用专门设计的金属管浮子流量计，或在标准型仪表上加装附加构件，如增加带散热片的液体阻尼件，与指示转换部分连接处加装散热片等。 （4）按用途分类：可分为普通、远传型、防爆型、耐腐型。A）普通型：不锈钢材质，就地指针指示，应用非常的广泛。B）远传型：带液晶显示，带4-20mA信号输出金属管转子流量计，可以把信号接到其他地方，PCL系统中，实现远程监控。 C）夹套保温型：金属管浮子流量计，管路中温度高于环境温度的液体流过仪表，因散热表面增加而温度下降，会产生凝固或结晶引起浮子动作不良；或因温度下降而使流体粘度显著变化影响测量值时，应选用夹套保温型。有时为了防止流体从外部吸热，也有将夹套抽真空，达到隔热的效果。 D）防爆型：金属管浮子流量计的电远传浮子流量计用于有爆炸性气体或粉尘时，要选用防爆型仪表。国内已有隔爆型设计结构和本质安全防爆设计结构两种类型。这个防爆也主要实现在远传金属管转子流量计上 E）耐腐型：金属管浮子流量可以分为几种材质，304、316L、不锈钢内衬四氟，耐腐型金属管浮子流量计采用 F4 零件和 F40 F46 塑料包衬金属零件结构设计。（5）被测流体通过方式分类：可分为全流型、分流型。全流型指被测流体全部流过浮子流量计的仪表。分流型指只有部分被测流体流过浮子等流量检测部分，分流型浮子流量计由装在主管道上标准孔板和较小口径浮子流量计组合而成，应用于管径大于50mm的较大流量和只要就地指示的场所。

上海伯东日本 Atonarp Aston™质谱仪设备与工艺协同优化 EPCO: 380亿美元的制造优化机会先进的工艺需要设备和工艺协同优化 EPCO. 麦肯锡公司 McKinsey & Co. 在2021年发表的一篇论文表明, 利用人工智能 AI 和机器学习 ML 进行半导体制造优化, 通过提高产量和吞吐量, 有望节省380亿美元的成本.麦肯锡强调, 帮助企业实现这些好处的干预点是调整工具参数, 使用当前和以前步骤的实时工具传感器数据, 使 AI/ML 算法优化工艺操作之间的非线性关系.成功部署 AI/ML 的关键是可操作的实时数据. 上海伯东 Aston™ 质谱仪的原位实时分子诊断和云连接数据是实现这一能力的关键技术, 从而解锁半导体设备与工艺协同优化的潜力.问题随着工艺节点的缩小, 影响工艺良率的新变量出现, 挑战了已建立的 Copy Exactly！ 方法论. 其中一些可能影响工艺性能的关键变量包括局部虚拟真空泄漏, 细微的反应气体分压变化, 由于泵送性能变化导致的晶片表面饱和, 由于晶片温度变化导致的表面反应性, 腔室清洁终点和腔室老化曲线.其他挑战, 如层间粘附, 300mm 晶圆机械应力, 新的原子级沉积和蚀刻化学, 特殊的低电阻接触和填充金属, 严格的交叉污染协议和提高吞吐量, 都需要更深入地了解工艺和设备的相互作用, 优化诸如此类的先进工艺现在需要更高精度的计量工具, 增加了 Copy Exactly! 方法学协议的原位分子复杂性.上海伯东日本 Atonarp Aston™质谱仪提供设备与工艺协同优化解决方案: 原位,实时数据半导体过程控制 FAB 环境中的数据主要分为三种类型:1. 在工艺工具上实时获取的现场数据2. 处理步骤后测量结果的在线数据（通常立即）3. 参数或 Fab 后数据（用于晶圆生产线良率和晶圆出货验收标准）此外, 这三个主要数据可以进一步分为三个子类型1. 目标数据, 即作为配方一部分的工具所针对的目标, 例如, 目标温度: 327 °C, 目标 SiF4 摩尔浓度: 100 mol/l2. 测量数据, 即在给定情况下测量的数据, 例如, 测量温度 9 °C, 实际 CF4 摩尔浓度: 0.097 mol/l3. 信息数据, 例如晶圆批号: 8F2342G, 设备序列号和腔室: 32FF4567-4在分子水平上测量原位实时数据可以真正洞察过程是如何设置和进行的, 提供丰富, 可操作和有影响力的数据. 反应物, 副产物和分压浓度可以被识别和量化, 允许动态过程控制, 以确保对给定过程模块在运行到运行, 腔室到腔室, 工具到工具之间进行严格的平均和标准偏差控制 -工具, 甚至站点到站点. 管理整体复杂的半导体工艺控制和生产线良率首先要严格控制各个工艺步骤, 并确保低可变性和严格的统计工艺控制 SPC.上海伯东日本 Atonarp Aston™质谱的设计初衷是为了满足原位分子分析的需求, 从而实现 EPCO, Aston 强大的实时原位分子传感器解决方案具有许多先进的性能优势, 包括:• 准确的实时终点检测• 逐次运行和实时 EPCO• 参数调整• 机器学习, 人工智能、• 过程统计过程控制和偏差识别• 生产线良率根本原因分析• 优化的预防性维护• 跟踪重要工具或流程Aston™ 质谱仪特点应用1. 耐腐蚀性气体2. 抗冷凝3. 实时, 可操作的数据4. 云连接就绪5. 无需等离子体6. 功能: 稳定性, 可重复性, 传感器寿命, 质量范围, 分辨率, 最小可检测分压, 最小检测极限 PP,灵敏度 ppb, 检测速率.1. 介电蚀刻: Dielectric Etch2. 金属蚀刻: Metal Etch EPD3. CVD 监测和 EPD: CVD Monitoring and EPD4. 腔室清洁 EPD: Chamber Clean EPD5. 腔室指纹: Chamber Fingerprinting6. 腔室匹配: Chamber Matching7. 高纵横比蚀刻: High Aspect Ratio Etch8. 小开口面积 0.3% 蚀刻: Small Open Area 0.3% Etch9. ALD10. ALE若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

手持重金属检测仪器是目前土壤分析中必不可少的仪器设备，能够及时快速简单的测量，解决了传统方法的弊端，实现了实地测量、快速出结果的判定。　　一、应用领域　　1、污染水、废水中污染金属成份、污染模式、污染边界的迅速调查与测量。　　2、现场监测RCRA所涉及的金属和优先控制的污染金属。　　3、原土地、污染水、废水、等有害物质的现场处置最小化处理并给污染控制、补救方法的深度分析提供理论依据。　　4、因环境污染而导致的疾病与很多重金属元素有关，如：癌症(Ni, Cr)、 肾病(As, Pb)、肝病(As, Cu)、肺尘症(Fe)、哮喘(Ni)帕金森氏综合症( Mn )。　　5、环境监测与疾病预防：土地现场的污染金属成分、污染模式、污染边界的迅速调查与测量。　　6、W8000在土壤中金属成份检测方面符合EPA Method6200。　　7、考古业与艺术品鉴定：XRF在过去的50年来一直被用来勘测考古材料和历史材料，尽管有多种光谱设备可选择，但是只有便携式工具才可以真正达到无损检测，找也是XRF技术最吸引人的地方，由于可在现场工作，事实上它适应任何类型和形状的物体进行检测。　　二、技术参数　　【重量】基本上重量:1.4kg，上电池后:1.5kg　　【尺寸(高x宽x长)】300mm x 90mm x 220mm　　【激发源】射线管靶材4种可选择 金(Au)、银(Ag)、钨(W)、钯(Pd)　　【电压电流与功率】大功率微型X射线管50KV、100MA、4W　　【滤波器】六种可选择的滤波器根据不同的实物自动调节　　【探测器制冷温度】 Peltier效应半导体制冷,制冷温度-35　　【标准片】外置316标准帽 带有测试窗口保护功能 　　【解析度】180ev　　【电源】8小时/2块锂电源及交流电源　　【处理器】Intel 400MHz StrongArm处理器　　【操作系统】移动Windows CE系统　　【兼容性】蓝牙　　【软件标准模式】土壤重金属　　【数据处理】8G大容量数据存储卡：≥40, 000组数据及光谱图。　　【数据分析】多种分析模式，包括基本参数，Compton归一化，经验校准模式。　　【数据显示】集中于ppm与百分比(%)显示，光谱或峰强度(计数率)或用户定的单位　　【数据传输】RS232串行电缆，蓝牙，EXCEL输出。　　【显示屏】彩色，高分辨率3.5寸TFT工业级触摸屏，大图标图形界面，任何光线条件下清晰可见 　　【外形设计】一体化机身设计，坚固，防水防尘防冻，有效防振，适合野外、潮湿或低温等环境使用。　　【安全操作】一触式“扳机”，软件自动定时锁扳机或自动停止测试防护功能 判断测试窗前方没有样品后2秒内自动关闭X射线　　【分析元素】可分析Ti(钛)到U(铀)之间所有元素。本机标配元素：　　Cr(铬)、Hg(汞)、Pb(铅)、Cd(镉)、Br(溴)、Se(硒)、As(砷)、Sb(锑)、Ba(钡)、Mn(锰)、Fe(铁)、Ni(镍)、Cu(铜)、Zn(锌)、Co(钴)、 Mo(钼)、Ag(银)、Sn(锡)、Ti(钛)、Au(金)、Bi(铋)、Br(溴)、Ca(钙)、Cl(氯)、Sr(锶)、Rb(铷)等元素 　　【测试环境条件】温度-35～+50℃，湿度80%RH。　　【校正】仪器出厂前已经校正 但仪器仍具有可建立有针对性的校正曲线功能， 适用于特定样品的精确测试　　【结果报告】仪器配有标准USB接口及蓝牙无线传输，可直接向电脑或网络存储设备传输数据，可直接以定制EXCEL格式下载测量数据及其X射线谱图。可设置用户权限、生成定制报告和打印分析报告　　【防辐射功能】仪器把手和距仪器外壳的10～100㎝的空间范围内，辐射剂量率2.5μSv/h。　　【元素含量分析范围】1 PPm到99.99% 　　三、主要特征　　1、真正实现了现场快速，准确的检测，直接显示元素的ppm含量或者百分比　　2、在全球现有分析仪中体积最小，速度最快，精度更高。　　3、只需直接接触待测物表面，即可现场确定矿石等级、元素种类。　　4、可以检测样品：矿石、岩石、矿渣、碎片、土壤、泥土、泥浆等固体和液体物质。　　5、探测器-35℃的超低温工作状态，卓越的解析度。自动电压、滤波器的选择，确保仪器拥有实验室级别的分析精度。　　6、密封超大屏幕彩色TFT显示，无LCD高原反应，防湿防尘。　　7、一键式按钮设计(用户在测试过程中无需一直压住按钮)。　　8、不规则或者很小样品的智能探测，及时是很小样件也可测试辨认。　　9、自动停止功能，窗口前无被测物是，启动仪器会在5秒后自动停止测试。　　10、超大规模的储存系统，可储存高达32万组以上的测试数据及图谱。　　11、自动诊断与故障报告功能，可通过INTERNET远程诊断机器故障及软件升级。　　四、产品优势　　1、采用一代高性能的Si-Pin探测器，具有更高的检测精度及检测下限。　　2、采用50KV、100mA的X射线管技术使仪器兼备更好检测下限及辐射安全保证。　　3、更低的探测器温度，-35℃的超低温工作状态，使仪器具有卓越的解析度。　　4、更高的检测精度，多次测试的平均值统计功能可有效地提高仪器的检测精度。　　5、不规则或者很小样品的智能探测，如头发丝(0.06MM)细的丝也能立即测试辨认。　　6、自动停止功能，窗口前无被测物体，启动仪器会自动停止测试，确保不会辐射安全。　　7、仪器自带高清分辨率显示屏幕，可在现场随意指定、查看、编辑测试信息及结果。。　　8、无需借助电脑，可在现场添加、编辑、删除合金牌号。　　9、仪器采用铝合金具有更强的散热能力、抗震动能力、自动防幅射保险装置。　　10、采用人性化一键式按钮设计，用户在测试过程中无需一直压住按钮。　　11、测试结果可以连接电脑输出打印，仪器具有标准测试结果版本，极大方便客户编辑、打印结果信息。　　12、仪器可以实现远程监控功能，维修工程师可以通过互联网远程进行仪器软件安装、维修功能，24小时确保客户机器不宕机。　　13、仪器采用Windows CE操作系统，确保仪器操作系统更稳定、功能更强大。　　14、仪器自带标准块，每次开机仪器自动标准化，标准化通过，仪器才能正常使用。如标准化不通过，仪器则不能使用。确保仪器每次使用都是处于正常精度保证范围内。　　15、仪器采用基本参数法(FP Method)，测试之前不需要了解测试样品的种类，不需要选定测试曲线。　　16、测试结果可转成Excel 输出，也可至个人电脑或者是利用蓝牙直接传输至笔记型电脑列印输出，归档。　　17、仪器采用一键开关机，具有更加优化的人机操作界面 　　18、仪器可以实现待机时非工作时刻自动关闭X射线管，提高仪器使用寿命 　　19.仪器可以实现长时间不工作，自动关闭仪器，确保仪器安全 　　五、工作条件　　● 工作温度：-35～+50℃　　● 相对湿度：≤80%　　六、产品配置　　(1) X荧光光谱分析仪主机一台 　　(2) 土壤重金属分析专用测试软件一套 　　(3) 锂电池(两块) 　　(4) 锂电池充电器一套 　　(5) 专用数据下载USB数据线一套 　　(6) 316标准帽一块 　　(7) 用户手册一份 　　(8) 仪器出厂检验合格证书 　　(9)窗口保护膜二片 　　(10) 防水主机保护箱一个

产品简介:高温热分解喷雾干燥法原理是在高温炉内将混合物料液(如硝酸盐等金属盐溶液 )雾化 ,使其瞬间进行热分解、反应、合成或焙烧,从而得到粉体产品(一般是金属氧化物粉末 )的方法应用领域:电池材料、磁性材料、超导材料及特殊材料领域 应用行业:锂电、电料、国防、轨道运输、科研院所、新材料等设备概述:采用多种加热方式能促进产品有效地热分解,可使喷雾热分解装置实现生产规模化 炉内温度约可达600 ~ 1100℃ 条件下运转,喷嘴将溶液及浆料雾化后瞬间进行热分解体积紧凑、占地面积小 操作简单,热效率高常州仁科干燥设备有限公司是一家专业从事干燥设备生产的重点制造企业,积累了十余年制药机械生产经验,依托原有生产力量,不断引进专业人才,吸收先进制造技术。近年来,公司围绕国家产业政策,不断增加技改投入,自主开发多款新型节能环保设备,满足不同客户需求。公司发展至今,已从众多的干燥设备厂家中脱颖而出,成为较具规模的干燥设备制造企业。公司坚持“技术创新、品质^”的创业理念,弘扬“朴实严谨,精益求精”的工作作风,崇尚“企业诚信,贴心服务”,视产品质量为生命,尊四方客人为朋友。公司将进一步完善管理,控制产品质量,充分利用现有技术装备,为用户提供更多新工艺,新设备 公司将进一步建好供需双方合作平台,为客户真诚提供技术协作、价格咨询及设备选型等服务。 公司位于风景秀丽的江南工业明星城市——常州,地处长江三角洲沪、宁经济开发带腹地。本公司热忱欢迎新老客户莅临指导,共同协作,共谋发展。

Centrotherm 快速退火炉/快速热工艺设备-c.RAPID 150/RTP 150 Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150一、产品简介德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。 Centrotherm测温系统适用于从室温至高温的广泛区间。Centrotherm优化的多区温控系统结合可以独立控制的加热灯，提供了出色的控温精度和控温重复性。此款设备配置手动装载系统，适用于研发以及小型的量产。成熟的真空操作和气体管理系统为多种应用提供了可控的气体环境。出色的性能和高度的灵活性，结合小的占地面积，低的客户拥有成本，使c.RAPID 150成为一款最佳的手动RTP设备。 二、典型应用退火：一般退火、接触层（Contact）退火、源/漏退火、势垒金属退火硅化氧化掺杂活化三、产品特性可在常压或者真空（控压）下工作高度灵活性：适用于最大6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盘升温速率约150 K/s出色的温度均匀性精确的环境控制高的设备可靠性可以并排安装 Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150一、产品简介德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速热工艺设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。 RTP 150型快速热反应设备，采用紧凑型的真空腔室设计满足多种工艺需要，是一款可用于生产和研发用的单晶圆工艺设备。RTP 150型设备包括一个带集成压力学习控制压力范围在1mbar至50mbar的真空腔室。采用灯管加热系统提供了可调节的加热均匀性控制，采用了CENTROTHERM公司专利技术的温度控制系统。RTP系统可用于6寸晶圆和5寸石墨基板的加热。可在15分钟内更换基板的尺寸和类型。设备用于高性能、小占地面积、低成本高工艺灵活性的工艺场合。 设备特点：压力可控的真空或大气环境下工作高灵活性：最大6寸硅片或其他材料温度范围：20℃~1150℃不限时加热的工艺温度可达 750℃升温速率可达150k/s（即150℃/秒）每个加热灯管独立控制，极高的温度均匀性±0.5℃温度一致性长寿命加热灯管，低维护成本 典型应用：金属接触退火掺杂物活化源极/漏极退火干氧化薄晶圆退火 设备参数：应用： 生产或研发基板材料： 硅片、GaAs、石墨、碳化硅、氮化镓、蓝宝石晶圆尺寸： 最大6寸加热系统： 24组加热灯，PWM控制冷却水： 20 L/分钟排 风： 250 m3/小时 可选件：用于温度曲线调整的温度测量系统用于全自动操作的双机械手臂

Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150一、产品简介德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速热工艺设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。 RTP 150型快速热反应设备，采用紧凑型的真空腔室设计满足多种工艺需要，是一款可用于生产和研发用的单晶圆工艺设备。RTP 150型设备包括一个带集成压力学习控制压力范围在1mbar至50mbar的真空腔室。采用灯管加热系统提供了可调节的加热均匀性控制，采用了CENTROTHERM公司专利技术的温度控制系统。RTP系统可用于6寸晶圆和5寸石墨基板的加热。可在15分钟内更换基板的尺寸和类型。设备用于高性能、小占地面积、低成本高工艺灵活性的工艺场合。 设备特点：压力可控的真空或大气环境下工作高灵活性：最大6寸硅片或其他材料温度范围：20℃~1150℃不限时加热的工艺温度可达 750℃升温速率可达150k/s（即150℃/秒）每个加热灯管独立控制，极高的温度均匀性±0.5℃温度一致性长寿命加热灯管，低维护成本 典型应用：金属接触退火掺杂物活化源极/漏极退火干氧化薄晶圆退火 设备参数：应用： 生产或研发基板材料： 硅片、GaAs、石墨、碳化硅、氮化镓、蓝宝石晶圆尺寸： 最大6寸加热系统： 24组加热灯，PWM控制冷却水： 20 L/分钟排 风： 250 m3/小时 可选件：用于温度曲线调整的温度测量系统用于全自动操作的双机械手臂

上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪无等离子体设计,可以实现快速, 化学特定的原位定量气体分析, 与光学发射光谱 OES 对比, Aston™ 质谱仪 的 OA% 灵敏度显示为 0.25%, 适用于半导体工艺中蚀刻计量控制, ALD, 3D-NAND 和新兴的堆叠式 DRAM.半导体蚀刻工艺挑战日益增加蚀刻是半导体制造中常用的工艺之一. 介电蚀刻用于形成绝缘结构, 触点和通孔, 多晶硅蚀刻用于在晶体管中创建栅极, 金属蚀刻去除材料以显示电路连接图案并钻穿硬掩模.连续蚀刻铝 Al, 钨, 铜 Cu,钛 Ti 和氮化钛 TiN 等工艺金属具有挑战性, 因为许多金属会形成非挥发性金属卤化物副产品（例如六氯化钨 WCl6）, 这些副产品会重新沉积在蚀刻侧壁上, 导致成品率降低（通过微粒污染或沉积材料导致短路）.随着半导体行业不断缩小关键特征尺寸并采用垂直扩展 (如 3D-NAND 存储器和全环绕栅极先进技术节点), 各种新的蚀刻挑战已经出现. 这些包括在晶圆上蚀刻更小的特征, 高展弦比 HAR 沟槽蚀刻 (具有小的开放面积百分比- OA%), 以及在新兴的非挥发性存储器和高 k介质中蚀刻金属闸极, 稀土金属等新材料. 对于先进的纳米级工艺, 如蚀刻到硅介质和金属薄膜, 选择性处理, 如原子层蚀刻 ALE 一次去除材料的几个原子层. ALE 提供了比传统蚀刻技术更多的控制. 对于 3D-NAND 和先进 DRAM 来说, 向批量生产过渡的重大挑战包括解决导体蚀刻困难的要求, 满足积极的生产斜坡和实现所需的吞吐量, 以推动成本效益.上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪提供高性能, 嵌入式和可靠的原位定量分子气体计量已经成为验证工艺室和持续监测工艺化学过程的关键工具, 确保生产环境中的高产率和更大吞吐量.Aston™ 质谱分析仪提供全腔室解决方案使用上海伯东 Atonarp Aston™ 质谱仪通过实时, 定量和精确的分子传感器来解决半导体新兴蚀刻工艺技术相关的关键挑战. 通过解决传感器耐久性, 灵敏度, 匹配, 系统集成和易用性等方面的挑战, 日本 Atonarp Aston™ 质谱仪升级了传统的气体分析计量方法. Aston 是一种全室解决方案, 用于在各种工艺步骤中实时监测前体, 反应物和副产物.这些包括基准室和过程指证, 腔室清洁, 过程监测 (包括存在腐蚀性气体), 颗粒沉积和气体污染物凝结. 小的占地面积和灵活的通信接口允许在室内安装和集成到过程设备控制系统. 为了集成到半导体工艺工具中, Aston 质谱分析仪的高性能和可靠性设计用于生产晶圆的大批量生产过程控制.Aston™ 质谱分析仪半导体蚀刻计量控制半导体行业正从二维结构的扩展转向复杂三维结构的挑战性要求. 传统的离线晶圆测量已不足以实现性能和良率目标, 原位蚀刻测量传统上缺乏生产所需的鲁棒性和可重复性. Aston™ 质谱分析仪的结构中嵌入了专利技术, 使其具有卓越的分析和操作性能. 为了满足过程控制和跨工厂生产工具匹配的严格要求, Aston 从头开始设计, 高运行时间和低维护的吞吐量, 长期信号稳定性和可重复性.为了承受腐蚀和沉积过程的恶劣环境, Aston™ 引入了两个的功能: 等离子电离和自清洁 (ReGen™模式). 等离子体电离消除了由于与腐蚀性气体(如NF3, CF4, Cl2)的反应而导致的灯丝降解. 此外, 除去(正硅酸四乙酯) TEOS 等颗粒和蒸汽污染物沉积, 同时定期进行室内清洁循环, 延长了 Aston™ 质谱仪的使用寿命. ReGenTM 模式使仪器能够使用高能等离子离子清洗自身, 通过去除在膜沉积过程中可能发生在传感器和腔室壁上的沉积. 结合这两个功能, 传感器的灵敏度可维持在数百个RF(射频)小时的操作. Aston质谱仪支持的基于测量的控制, 有可能延长清洗间隔 MTBC 的平均时间. MTBC 的增加意味着工具可用性和长期吞吐量的增加. 除了等离子电离器(用于工艺), 传感器还配备了传统的电子冲击 EI 灯丝电离器, 用于基线和校准.分子传感器的分析级是使用微米级精密双曲电极的四极杆. 由高度线性射频(RF)电路驱动, Aston 质谱的HyperQuad 传感器在 2到300 amu的质量范围内具有更高的分析性能.Aston™ 质谱分析仪技术参数参数值质量分辨率0.8u质量数稳定性0.1u灵敏度(FC / SEM)5x10-6 / 5x10-4 A/Torr最低可检测的部分压力(FC / SEM)10-9 / 10-11 Torr检测极限10 ppb最大工作压力1X10-3 Torr每 u 停留时间40 ms每u扫描更新率37 ms发射电流0.4 mA发射电流精度0.05 %启动时间5mins离子电流稳定 ±1%浓度的准确性 1%浓度稳定±0.5%电力消耗350w重量13.7kg尺寸400 x 297 x 341mm高展弦比 HAR 3D 蚀刻随着多模式技术和 3D器件结构的出现, 高度密集的蚀刻和沉积过程驱动了计量需求. 3D多层膜栈, 如 NAND 存储架构, 代表复杂的, 具有挑战性的蚀刻过程, 具有关键的蚀刻角度, 统一的通道直径和形状要求, 尽管高蚀刻纵横比通道 100:1 是常见的. 对于 3D-NAND, 关键导体蚀刻过程包括阶梯蚀刻(下图)和用于垂直通道和狭缝的 HAR 掩模打开. 通过硝酸硅和氧化硅交替层蚀刻需要高速定量终点检测. 对于 DRAM, 蚀刻过程包括 HAR 门, HAR 沟槽和金属隐窝. 对于阶梯蚀刻, 关键是在整个 3D堆栈的每个介质膜对的边缘创建等宽的“步骤”, 以形成阶梯形状的结构. 在器件加工过程中, 这些步骤的大量重复要求蚀刻高吞吐量和严格的过程控制.多功能现场气体计量需要在一个工具中执行多种监测功能:• 检测和量化污染, 交叉污染, 气体杂质和工艺室内的工艺化学• 评估已开发的蚀刻过程在生产工具 / 运行的复杂功能上的性能• 测量刻蚀后的清洁 (包括先进的无晶圆自动清洁 WAC) 作为腔条件对于消除工艺漂移和确保可重复性性能是至关重要的• 快速准确的蚀刻端点检测 EPD, 通过等离子体或气体监测, 因为这是一个关键的控制功能. 举例包括一氧化碳 CO 副产物在介电蚀刻中下降或氯 Cl 反应物在多晶硅和金属蚀刻端点上升.• 全面的实时计量数据, 允许过程等离子体和反应物的动态腐蚀控制, 以管理要求的腐蚀剖面Aston™ 质谱分析仪无等离子体终点检测虽然光学发射光谱 OES 已被广泛用于蚀刻 EPD, 但低开放面积 OA 和 HAR 设计的趋势使其在许多蚀刻任务中无效. OES 技术需要等离子体'开'和发光物种. 随着昏暗和远程等离子体越来越多地用于 3D设备和原子水平蚀刻 ALE 工艺, 需要更多敏感的数据和分析技术来实现迅速和确定的 EPD. 此外, 脉冲等离子体通常用于管理 HAR 和 低 OA% 工艺的蚀刻剖面, 这使得 OES 对于 EPD 来说是一个不切实际的解决方案. 在3D 结构中, 多层薄膜和多个接触深度阻碍了每一行触点到达底部时端点的光学发射信号的急剧步进变化其他 OES 限制包括:• 在电介质蚀刻中, 在 OA 5% 的模式上进行 EPD一直具有挑战性, 因为 OES 在低浓度下具有低信噪比.在高压Si深蚀刻(例如博世工艺)中, 要求 OA% 的 EPD低于 0.3%, OES 中较大的背景噪声水平抑制了对发射种数量的任何变化的检测.• 在金属蚀刻中, OA% 可能低于10%, 这取决于所涉及的互连尺寸. 对于接触和通过蚀刻, OA 可以在0.1-0.5%之间或更低, 这取决于所涉及的特征的大小. 在钨 W 蚀刻的情况下, 随着 OA的减小, 氯 Cl 反应物的消耗减少, 由于材料运输到 HAR 蚀刻特征, 蚀刻趋于放缓. 这两个因素都降低了反应气的消耗率. 因此, 由于等离子体中反应物的耗尽, 很难看到在终点处 OES信号的显著变化.Aston™ 质谱仪可以利用蚀刻反应物和 EPD 的副产物. 此外, Aston 能够在小的, 有限体积的传感器上运行周期性清洗, 以保持其性能(灵敏度), 在延长晶圆运行次数的情况下获得更大的正常运行时间. 然而, OES 要求在腔室上有一个需要保持清洁的访问窗口，以获得足够强度的稳定信号。通常，加热石英窗用于减缓工艺产品的堆积. 使用 Aston™质谱分析仪，在低浓度下的检测不受等离子体发射的背景光谱的影响, 也不受射频功率脉冲期间等离子体强度波动的影响.图 3a/3b 显示了 CO+和 SiF3 +的副产物 OA%下降到0.25%的电介质腐蚀EPD数据数据清楚地显示了线性行为和在低浓度下的检测不受等离子体发射的背景光谱影响. Aston 质谱的 ppb 灵敏度是针对 0.1%以下的 OA性能.原子级蚀刻 ALE在三维结构中, ALE 过程中的逐层去除需要脉冲射频电源来控制自由基密度和较低的离子能量, 以减少表面损伤和保持方向性. 在这样的光源中, 等离子体的整体光强较低, 并表现出波动幅度. 通常等离子体离晶圆区很远(距晶圆区25厘米), 而且等离子体激发的副产物很少, 使得光学测量不切实际.在 ALE中, 由于每个周期都是自我限制的, 端点检测可能不那么重要. 然而, 在缺乏气体分析的情况下, 工艺工程师对监测腔室和工艺健康状况“视而不见”, 因为无法看到化学状态, 特别是在工艺步骤 (吸附/净化/反应/净化) 之间过渡时的动态状态, ALE 的自限性并不能使它不受过程漂移的影响. 此外, 由于 ALE 不是基于等离子体的, 因此过程中的化学变化不一定可以通过等离子体监测检测到.有一种误解, 认为 ALE 技术实际上是一次一个原子层 相反, 它们每循环的去除/沉积量可能比单分子膜多一点(或少一点). 由于真空泵性能, 晶圆温度或离子轰击能量 (电压) 的变化分别导致表面饱和度和表面反应性的变化, 工艺移位(Å/周期的变化)可能发生.在 ALE (下图)中,由于等离子体的使用不一致, 化学监测方面的差距就不那么明显了. 在这种情况下, Aston™ 质谱仪具有以下优点:• 在每个工艺步骤中建立一个腔室化学状态的指证. 这可以参照其自身的正常行为, 也可以参照标准腔• 描述和监控与化学变化相关的动态过程中, 从一个步骤过渡到下一个步骤• 监测在 ALE 循环第一步之后从系统中清除吸附物质的时间. 等离子体通常用于产生吸附物质(自由基), 但它是在远离晶圆片的地方产生的• 监测 ALE 循环第二步反应产物的变化. 等离子体光强通常较低, 因为它使用了低占空比的脉冲射频• 监测反应产物和反应物在ALE循环第二步后被净化的时间结论原子级蚀刻只能使用像上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱仪这样的分子传感器进行真正的测量和监测. 它的高灵敏度, 速度和对等离子体强度变化的低敏感性产生可靠的定量测量, 即使在低浓度的反应物和副产物, 具有低于1% 水平的高精度, 可以监测微妙的过程漂移和过程变化效应, 提供了可用于机器学习模型的见解.利用其高扫描速度, 通过监测反应产物减少的时间来实现步进时间优化, 因为它是表面反应活性变化的指示, 增加了总体吞吐量.ALE 是先进的蚀刻技术, 上海伯东 Aston 质谱仪为 ALE 提供了先进的化学计量技术, 可以测量和控制反应及其持续时间, 为大批量生产提供了可靠的解决方案.若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

随着变压吸附制氧技术的不断创新，在更多的领域得到了广泛应用，比如在有色冶金行业，所谓富氧助燃，即增加空气中氧气的浓度并使之充分燃烧。通过在以气、油、煤为燃料的不同场合进行富氧应用试验，得到了如下结论：用23%的富氧助燃可节能10%~25%；用25%的富氧助燃可节能20%~40%；用27%的富氧助燃可节能30%~50%等。VPSA制氧设备在有色金属冶炼过程中采用富氧空气助燃，可节能、降排、减排，符合环保要求，综合效益显著。

1. 反应器芯片原材料为亚微米级高纯碳化硅,纯度99.5%以上,采用无压烧结工艺烧制；①　单组反应器芯片为多片式结构,采用专有技术高温键合成一个整体,消除了泄露风险。芯片自带温度探头,实时监控反应温度变化；②　反应器芯片采用“反应/换热一体式”设计,一面是反应通道,一面是换热通道,两种功能集成在一块碳化硅板上,极大的提高了换热效率；③　换热系统的冷热媒介可直接注入反应器芯片的换热通道内,通道采用流线型设计并安装扰流散器,既满足了媒介的快速流动,不会产生明显压降,又可使媒介与芯片本体充分接触,有利于控制反应温度；④　反应器模块单元带有保温隔热层,使用特殊保温材料将碳化硅反应器芯片充分包裹，碳化硅芯片与外部金属大部分无接触,保温隔热性能大大提高,节约能耗,同时增加了设备使用中的安全性；⑤　本反应器体积紧凑、结构清晰,可方便进行串联或并联操作,满足各种不同需求；⑥　反应路径无仼何金属接触,进岀液口使用锥形连接器,便于快速连接PTFE管线,另外也可根据具体需求定制进出口接头；⑦　反应器芯片可灵活定制。公司具备碳化硅制品生产加工线,可根据用户具体需求定制加工。

Atonarp 质谱分析仪 Aston™ 半导体 CVD / ALD 应用上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 为半导体生产而设计, 作为一个强大的平台, Aston™ 可以取代多种传统工具, 提供半导体制程中 ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断并在一系列应用中提供更高的控制水平, 适用于光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.Aston™ 质谱分析仪耐受腐蚀性气体和气化污染物冷凝液, 能够在半导体生产遇到的恶劣工况下可靠运行, 与传统质量分析仪相比, 使用 Aston™ 的维修间隔更长. 它包括自清洁功能, 尽可能的清除由于某些工艺中存在的冷凝物沉积而导致的污垢积累.Aston™ 质谱分析仪典型应用: 保护 CVD 工艺免受干泵故障的影响真空泵是半导体加工厂中应用广泛的设备之一. 真空泵对于在真空环境操作下的各种化学气相沉积工艺至关重要, 这些工艺在真空下运行, 以确保在较低的加工温度下获得均匀, 保形的沉积涂层. 干泵通常是惰性且可靠的, 但在苛刻的半导体制造工艺中进行泵送时, 干泵可能会出现意外故障.灾难性故障电介质沉积冷凝液和苛刻的工艺气体 (如 NF3) 可能会导致性能下降或突然失效模式, 包括沉积物突然吸入, 排气堵塞, 沉积导致干泵卡死以及干泵部件的腐蚀退化. 干泵故障通常会对 10片甚至 100片在加工中的晶圆造成不可修复的损坏. 此外, 工具停机和清理可能会导致大量开支和收入损失.CVD 工艺过程中, 已污染的干泵上海伯东 Aston™ 质谱分析仪提供解决方案通过在故障前, 提前更换或使干泵离线, 可以减轻灾难性的真空损失, 从而提高生产线良率.数据驱动干泵故障预测. 通过测量进入 (进气) 和排出 (排气) 干泵的气体的分子类型和质量 (分压), 可以对破坏性腐蚀或沉积物堆积进行建模. 仅气体压力和体积仅部分指示气流的腐蚀性或堵塞性. 至关重要的是流经干泵的气体成分. Aston™ 质谱分析仪通过对干泵暴露在气体浓度下的情况进行建模, 并将模型与实际泵故障相关联, 可以较准确的预测干泵的预期运行寿命.在恶劣的 CVD 环境中, Aston™ 利用可操作的数据预测和预防因 PV-CVD 干泵引起的灾难性故障, 能够对破坏性腐蚀或沉积进行预测建模, 优化氮气吹扫成本.适用场景: 多个腔室连接到 1个干泵, 高浓度的电介质会导致灾难性的泵故障 (一次损失 10-100 片的晶圆)通过使用上海伯东 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 可以提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 此款质谱仪可以在新工艺腔室的组装过程中进行安装, 也可将其加装到已运行的现有腔室, 可在短时间内实现晶圆更高产量! Atonarp 质谱由统一的软件平台, 光学和质谱技术的突破性创新提供支持, 可提供实时, 可操作, 全面的分子谱分析数据.Atonarp Aston™ 质谱仪半导体行业应用1. 介电蚀刻: Dielectric Etch2. 金属蚀刻: Metal Etch EPD3. CVD 监测: CVD Monitoring4. 腔室清洁 EPD: Chamber Clean EPD5. 腔室指纹: Chamber Fingerprinting6. 腔室匹配: Chamber Matching7. 高纵横比蚀刻: High Aspect Ratio Etch8. 小开口面积 0.3% 蚀刻: Small Open Area 0.3% Etch9. ALD10. ALE若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

全新的密闭系统设计,Integral XT系列是主要应用于现场工艺实验和小型工艺生产的专业液体温度控制系统。在加热、制冷控温范围，控温响应速度，友好界面等方面都有很明显的优势。在每一个要求得到快速温度变化及迅速反应时间的实验中都可以发挥很大的作用。在化学及药物学的研究领域，这款设备多用于对玻璃或金属反应釜进行控温。在聚合化学反应及生物技术领域，它也常为合成器，生物反应器和发酵罐提供温度控制。技术参数：LAUDA Integral XT 反应釜专用-工艺过程恒温系统温度范围:-90~300℃,控温精度: ± 0.05℃~0.3℃加热功率:3.5~10.4KW 多种规格可选冷量输出:1.5~18.5KW 多种规格可选泵压: 2.9 bar, 5.8Bar泵流量:45L/min, 90L/min LAUDA Integral XT 加热/制冷功率强大，温度变化快捷最大制冷功率高达18.5KW，最大加热功率10.4KW5.8bar 最大输出压力，90L/min 流速保证有效的热交换过程Command console 大屏幕液晶多参数实时显示远程控制器可程序升/降温，5组独立控温程序，150 个温度循环/时间段8 级变速循环智能压力泵和吸入泵可调节的压力控制系统保障了对压力敏感的玻璃容器的安全控温无需频繁更换液体介质RS232/485数据接口，模块化设计，提供各种配套信号接口操作及外观设计紧凑、人性化，维护方便简单 主要特点： 1.德国LAUDA是惟一一家在液体恒温领域提供实验室及工业级别的专业生产厂家，长达50年的专业设计经验，是唯一能为用户提供小试、中试以及工业生产全套液体恒温解决方案的专业厂家；2.Integral XT 系列Lauda 采用其工业密闭液体恒温系统的专业经验，使其密闭系统更为完善；3.Integral XT 系列主要应用于石油化工和生物制药现场工艺实验及实验室中试实验的快速温度控制，可提供更宽的温度范围-90~300℃及更强大的制冷加热功率，该系列提供更为强劲的高压泵，最大压力及流速高达5.8bar及90L/min，能保证较远传输距离的最佳热传递过程。由于目前化工合成及生物合成领域的快速发展，对其温度控制要求越来越严格，该系列及其后续系列的推出满足了该类用户的使用要求；4.Integral XT 系列在同类型产品中结构最为紧凑；5.独特控制界面再一次印证LAUDA "Easy to Use"的宗旨，操作简便，信息清晰明了，所有实验反应过程在大屏幕液晶屏上一目了然，该界面再一次受到广大用户的称赞；6.设备自动化程度大大降低劳动强度，提高工作效率，提高实验安全性，设备所有信息均由内嵌智能化系统统一控制；7.采用最新的比例式智能制冷技术, 有效节能70％，有效控制设备的噪音，大大延长设备的使用寿命；8.所有设备控制及设备信息均可由中央控制软件集中控制，最多可同是控制64套Integral XT；9.简易的操作界面，降低了对操作者的要求，独特的系统设计，有效地降低了实验成本；10.符合最新的欧洲安全标准 DIN EN 61010-1 Standard,minimum 25 K

皮革激光雕花机厂家 可做各种复杂工艺三工激光旗下一款经济型的大幅面三轴动态激光打标机。采用原装进口CO2射频激光器，光斑质量好，性能优良。配上业界知名品牌外光路传输系统，具有高速、稳定、光束整形效果好等特点。优良的封闭式设计和流体学设计，使人体免收激光辐射影响，使加工粉尘有效清除。武汉三工激光打标机作为一种自动化和精密加工设备，集雕刻、镂空、打孔、烧花、切割等工艺为一体，适用于皮革、橡胶、塑料、布料、木板、亚克力等多种非金属材料加工。由于采用无接触性加工，所以不会对皮革产生任何外力变形，具有雕刻精度高、镂空无毛边、任意选形等多种优势。一款机，带给多种材料不同的加工快感！设备概述：随着激光应用领域越来越广泛，激光对皮革加工行业应用也得到进一步提升，激光加工成为了皮革加工领域发展的巨大推动力。武汉三工激光针对皮革加工行业推出了新的皮革激光加工设备，与传统的机械加工相比，激光加工具有价格低、消耗低，另外因为激光加工对所加工的工件没有机械压力，所以切割出来的产品效果、精度以及切割速度都非常好。此外电脑设计图形可切割出任意形状、任意图案、任意大小的花边等等，都是激光加工设备相对于传统加工设备和手工加工的巨大优势所在。设备优点◆打标速度快：7000mm/s的打标速度高速振镜扫描，适合工业化大批量生产；◆打标范围大：可在800mm*800mm范围内实现打标、冲孔、雕刻、切割等工艺；◆设备操作简单：专用控制软件可兼容AutoCAD、 CorelDRAW、Photoshop等多种软件输出，能实现文字 符号、图形图象、条形码、二维码、序列号自动递增等的自动编排和修改，PLT、PCX、DXF、BMP、JPG 等多种文件格式，可直接使用TTF字库；◆设备稳定性好：采用全封闭光路、进口CO2射频激光器、严格多重保护控制设计，保证设备整体的稳定性；◆设备可选配：红光定位、CCD定位 适用材料适用绝大部分非金属材料，如皮革、布料、木器、竹器、纸张、有机材料、亚克力等适用行业眼镜行业、皮革制品行业、服装行业、木器制品行业、工艺礼品、包装行业。三工光电承诺优质的售前后服务武汉三工光电设备制造有限公司坚持以客户为中心，为贵公司提供完善的安装、调试、培训、维修等售前和售后服务。1.售前服务签订合同前，公司为客户提供各种生产工艺方案，提供激光设备的技术咨询、样品试样，设备选型等服务。2.安装调试我公司依据合同，免费在规定的时间内将设备安全运往用户指定的安装地点，并派技术服务工程师现场安装。在用户安装调试备件基本具备的情况下，技术服务工程师将在1-2天时间内把机器安装调试完毕供用户使用，保证安装调试现场环境整齐、干净、有序。 3.售后培训 公司提供免费技术培训，安装调试完毕后，在买方现场或卖方国内培训维修中心对买方操作人员进行技术培训,直至操作人员达到基本正常使用该设备为止，主要的培训内容如下：a软件的使用培训；b开关机操作规程培训； c软件操作界面及软件控制参数的意义，参数选择范围的培训；d机器的基本清洁处理和保养； e常见硬件故障处理； f操作中应注意的问题； g除此之外还为用户提供其所生产产品的相关技术支持 4.设备维护公司成立了营销中心，在全国设立11家办事处，常驻技术服务人员，为客户提供全方面的售后服务工作。公司承诺： a设备免费保修一年，终身维护。 b免费技术咨询、软件升级等服务。c提供每两个月一次的定期服务，检查机器的运转情况。 d客户服务的响应时间在24小时之内。e保修期满后仍提供广泛的软硬件支持。以上信息仅供参考，如果想了解更多详细信息，请您联系我！

1. 反应器芯片原材料为亚微米级高纯碳化硅,纯度99.5%以上,采用无压烧结工艺烧制；①　单组反应器芯片为多片式结构,采用专有技术高温键合成一个整体,消除了泄露风险。芯片自带温度探头,实时监控反应温度变化；②　反应器芯片采用“反应/换热一体式”设计,一面是反应通道,一面是换热通道,两种功能集成在一块碳化硅板上,极大的提高了换热效率；③　换热系统的冷热媒介可直接注入反应器芯片的换热通道内,通道采用流线型设计并安装扰流散器,既满足了媒介的快速流动,不会产生明显压降,又可使媒介与芯片本体充分接触,有利于控制反应温度；④　反应器模块单元带有保温隔热层,使用特殊保温材料将碳化硅反应器芯片充分包裹，碳化硅芯片与外部金属大部分无接触,保温隔热性能大大提高,节约能耗,同时增加了设备使用中的安全性；⑤　本反应器体积紧凑、结构清晰,可方便进行串联或并联操作,满足各种不同需求；⑥　反应路径无仼何金属接触,进岀液口使用锥形连接器,便于快速连接PTFE管线,另外也可根据具体需求定制进出口接头；⑦　反应器芯片可灵活定制。公司具备碳化硅制品生产加工线,可根据用户具体需求定制加工。Ø 反应器模块芯片采用整体键合，一体成型方式，耐高压，防漏液；Ø 碳化硅材质，耐酸耐碱耐盐，耐腐蚀；Ø 各种持液量规格的模块均可根据客户要求定制；Ø 超纯碳化硅材料及碳化硅反应器模块生产厂家，源头工厂；Ø 产品至少是“不差于”；Ø 一对一服务，无论何种规格，客户至上。

随着变压吸附制氧技术的不断创新，在更多的领域得到了广泛应用，比如在臭氧配套、脱销行业，煤炭是我国的主要能源，大量火电厂、取暖锅炉依然采用燃煤锅炉，对其污染物排放的要求日益严格，开发简单可靠地脱硫脱销工艺已成为烟气污染物控制技术的发展趋势。臭氧作为一种清洁的强氧化剂，可以快速有效的将难溶于水的NO氧化成易溶于水的NO2、N2O3、N2O5等高价态氮氧化物，同时对烟气中的其他有害污染物，比如重金属汞也有一定的去除能力，利用臭氧的高级氧化技术进行脱硫脱销是一种控制烟气污染的有效装置。无论从能耗、氧气纯度、氧气露点、设备运行可靠性及负荷调节的灵活性等比较，VPSA制氧设备已经成为臭氧设备的配套氧源。臭氧设备在脱硝、污水处理等环保领域应用广泛。

有了在刻蚀工艺发展上无比广泛的经验和我们应用工程师的支持， 牛津仪器向世界范围内的生产商和研发者提供刻蚀工艺解决方案的经验向我们提供了强大的刻蚀工艺库和刻蚀工艺能力。请与我们联系，讨论您的特定需求，我们专业的销售和应用工作人员将很高兴帮助您选择合适的刻蚀工艺和工具，以满足您的需求。请点击以下产品名，查看产品详细信息，谢谢化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN&mdash 刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP&mdash 感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs&mdash 刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb&mdash 刻蚀锑化镓刻蚀GaN&mdash 刻蚀氮化镓刻蚀InSb&mdash 刻蚀锑化铟刻蚀InP/InGaAsP&mdash 刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀InGaAlP&mdash 刻蚀铝镓铟磷刻蚀InP&mdash 刻蚀磷化铟刻蚀InAlAs&mdash 刻蚀砷化铟铝刻蚀InP/InGaAsP&mdash 刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀ZnSe&mdash 反应离子刻蚀硒化锌电介质刻蚀(Ta2O5)&mdash 五氧化二钽刻蚀Al2O3&mdash 刻蚀氧化铝&mdash 感应耦合等离子体刻蚀蓝宝石GST刻蚀- 锗锑碲化物的ICP刻蚀技术感应耦合等离子体刻蚀Bi2Te3&mdash 刻蚀碲化铋反应离子刻蚀ITO&mdash 刻蚀铟锡氧化物干法刻蚀LiNbO3&mdash 刻蚀铌酸锂干法刻蚀LiTaO3&mdash 刻蚀钽酸锂刻蚀PZT&mdash 刻蚀锆钛酸铅刻蚀PbSe&mdash 刻蚀硒化铅刻蚀SiC&mdash 刻蚀碳化硅 金属刻蚀Al&mdash 感应耦合等离子体刻蚀铝溅射刻蚀Au&mdash 溅射刻蚀金刻蚀Cr&mdash 刻蚀铬Cu刻蚀（反应离子刻蚀）&mdash 刻蚀铜刻蚀Mo&mdash 刻蚀钼刻蚀Nb（反应离子刻蚀，感应耦合等离子体）&mdash 刻蚀铌刻蚀Ni&mdash 刻蚀镍离子束刻蚀Ni&mdash 刻蚀镍铬合金溅射刻蚀Pt&mdash 溅射刻蚀铂刻蚀Ti&mdash 超大刻蚀深度刻蚀Ta&mdash 刻蚀钽刻蚀W&mdash 刻蚀钨TiN的各向异性刻蚀&mdash 刻蚀氮化钛WSi刻蚀&mdash 硅化钨刻蚀有机物刻蚀PMMA&mdash 刻蚀聚甲基丙烯酸甲酯感应耦合等离子体刻蚀BCB&mdash 刻蚀苯并环丁烯刻蚀金刚石&mdash 金刚石的刻蚀刻蚀聚酰亚胺&mdash 聚酰亚胺的刻蚀聚二甲基硅氧烷(PDMS)刻蚀刻蚀PR&mdash 刻蚀光刻胶硅烷化光刻胶的干法显影（感应耦合等离子体-反应离子刻蚀）&mdash 硅烷化光刻胶硅博施刻蚀Si&mdash 博施刻蚀硅低温刻蚀Si&mdash 低温刻蚀硅混合刻蚀Si&mdash 八氟环丁烷-六氟化硫刻蚀硅HBr刻蚀Si&mdash 溴化氢刻蚀硅各向同性刻蚀Si&mdash 硅的各向同性刻蚀刻蚀SiGe&mdash &mdash 刻蚀锗硅绝缘层上的硅(SOI)的多层刻蚀

想做到实时在线数据分析，首先要先做到数据的采集与整合。现场的设备仪器品牌繁多，数据采集看似简单，往往是数据分析项目实施中的一个大难题，特别是国产系统采集进口设备仪器的数据时，更是难上加难。挪威Camo Analytics 公司的在线工艺分析系统Process Pulse 系统已经有超过三十年的大型制造业运行经验，数据的输入输出接口十分丰富，并早已与行业内世界知名设备仪器品牌建立了合作。支持的文件格式有：XML OMNIC OPUS VIAVI/SAM GRAMS BRIMROSE WATERS EMPOWER/ JCAMP-DX IMAGE EXCEL ASCII...支持的光谱设备有：BRUKER KAISER B&W TEK METTLER TOLEDO VIAVI MICRONIR ZEISS OCEAN OPTICS TEC5 SENTRONIC KEIT PARSUM TORNADO...支持的数据库有：LIMS ODBS...支持的模型文件有：UNSCRAMBLER EIGENVECTOR PLS TOOLBOX/SOLO OPUS PEAXACT...支持的常用接口有：MANUAL SAMPLING PRETREATMENT TCP/IP OPC DA OPC UA OPC DA SPECTRAL OSI PI...“作为一家产品制造商，灵活和对新技术开放是非常重要的。自从我们采用了CAMO公司的Process Pulse 系统的PAT数据管理解决方案后，我们从新流程开发的一开始就具备了建立流程所需要的知识，同时也缩短了研发到生产的间隙。”-Tobias Merz博士，瑞士Lonza公司(制药及生物技术公司)Process Pulse 系统通过基于多变量模型的实时监控流程，可以在不同的行业和研究领域得到应用，以提高产品的研发、制造和质量控制。医药与生物技术；学术研究；化工与石化；能源与可再生能源；农业；汽车行业；食品与饮料；医疗设备；制浆造纸；电子产品；采矿与金属；工程；石油和天然气；半导体；制造业；航空航天与国防...数据分析师们常常面对他们将要分析数据的挑战，数据可以是不同的格式，从不同的系统中得到，也可以是历史和实时数据的组合以及含有大量的变量。Process Pulse 系统能够处理所有的这些挑战，并告知数据背后在生产过程中实际发生的真相。Process Pulse 系统可以通过识别模式和数据关系帮助我们提升产品的理解。在许多组织中往往只有很少量的专职数据分析师，很多时候数据拥有者——如工程师，必须亲自开展日常的数据分析。Process Pulse 系统的易用性使得这种情况成为可能。对于一个产品或工程经理面临的主要挑战是如何保持工艺正常运行，并能够交付合格的产品。附加约束可以包括减少产品浪费、降低能源成本并处理流程故障。Process Pulse 系统能够进行实时过程监控，并提供工艺流程的实时状态。如果我们建立的模型能真正描述正常工作条件，那么它将提供早期事件检测，从而允许工艺操作员在危机发生前采取纠正措施，从而避免因质量问题或其他错误导致的批量产品报废。高层管理人员将越来越关注产量和盈利能力，以及控制和降低成本的关键点。Process Pulse 系统中的监控和报告功能使企业能够更方便地共享信息，并复制成功经验，这反过来又导致更好的决策。当然还有决策的质量，对企业产生直接影响。在任何生产过程中，将原材料混合并加工以生产具有一些质量要求的最终产品，如果流程已运行完成但产品质量却不符合要求，则必须废弃或重新加工这些产品。而一个更好的解决方案是监控原材料和加工过程，以确保最终产品的高质量。MVA是一个强大的过程监控工具，图显示了如何在流程中实现应用MVA。在此过程中，需要进行相关的测量，如温度、压力等。一些公司也在使用先进的传感器，如光谱分析仪。模型能够将数据转换为可执行信息，可以显示给操作员查看或者也可以直接发送信息到控制系统进行自动校正。如果结果在统计限制范围内，Process Pulse 系统可确保过程在掌控之下，最终产品将符合质量要求。另一方面，如果结果在统计限值之外，也就是说生产处在正常工作区域之外，Process Pulse 系统会为操作员发出视觉警告或通知控制系统。在此阶段，可能需要采取预防措施，以确保工艺返回到受控状态。Process Pulse 系统将所有数据和结果保存在数据历史记录中。这意味着数据分析师可以稍后将这些数据导入Unscharambler 进行探索性分析，故障排除或模型维护。开发的模型也可用于Process Pulse 系统来监控未来过程运行。相应的，如果有充分的理由修改正常工作范围，更新模型或将新模型引入过程监控方案，这些也可以在软件中操作。Process Pulse 系统提供了数据驱动制造和持续改进所需的各个工具。数据驱动制造的起点是数据(Data available)，数据可以来自早期工艺运行的历史记录，或者也可由产品转变或开发目的的实验设计产生。这些数据可以在Unscrambler 中查看和分析，基于这些数据可以开发相应模型来描述不同变量之间的任何感兴趣关系。随后，模型被加载到Process Pulse 系统中。Process Pulse 系统可以直接连接到生成数据的数据源，例如谱分析仪，或者连接到保存数据的第三方系统，例如 MES(制造执行系统)。在这两种情况下，当有新数据读入时，Process Pulse 系统都会自动执行加载的模型。模型结果和原始数据通过屏幕呈现给用户，或者发送信息给外部第三方系统以供进一步处理或使用。同时，所有信息都存储在Process Pulse 系统历史数据库中。用户可以根据历史数据库中的数据生成标准报告或自定义报告。这些报告构成了质量保证或流程变更计划的基础。当然，随着流程的运行，这些存储在数据库里的新数据，也可以再次用于开发新模型或改进现有模型，开始新一轮的连续改进。Process Pulse 系统是实验室管理人员/工程/研发/生产部门的理想工具，同时也会对公司的整体业绩产生重要影响，这些影响主要体现在以下几个方面：减少浪费；增加产量；提高质量；降低成本；提升管理能力；增加利润；细化流程；获得竞争优势...Process Pulse 系统具有高性价比、易于设置使用、可扩展的优点。它是独立的仪器供应商软件，并且具有可扩展的模块，例如分层和批处理模式等模块。Camo Analytics China，点睛数据科技(杭州)有限责任公司，为挪威公司中国区指定代表(即Camo中国)。除了提供Camo公司软件产品外，也提供软件培训及其他技术服务。

土壤重金属检测仪可以帮助我们对土壤的污染状况了如指掌，从而判断污染的来源，从而进行治理，避免土壤的污染状况进一步恶化，导致污染无法及时的遏制。 仪器功能：　　1、安卓智能操作系统，采用更加高效和人性化操作，仪器具有网线连接、wifi联网上传、4G无线远传功能，快速上传数据。　　2、采用高精度滤光片技术自主专利分析方法(专利号：ZL 2018 2 1777724.7)，比色槽部分采用标准1cm比色皿，无机械位移及磨损，光路测试定位精确，保证检测结果优于国标要求。　　3、仪器具有12个检测通道，可以一次性检测比对多个样品，降低检测成本。　　4、仪器内置新一代高速热敏打印机，检测完成可自动打印检测报告和二维码。　　5、每个通道均配置四波长冷光源，可拓展更多的检测元素，所有光源实现恒流稳压，保证波长稳定，重现性好，准确度高。　　6、显示方式：7英寸液晶触摸屏显示，人性化中文操作界面，读数直观、简单。 7、交直流两用，可连接车载电源，配备6ah大容量充电锂电池，方便户外流动测试。　　8、仪器带有监管平台。可将检测数据上传到监管平台，利用平台进行数据监测与数据统计。　　9、主控芯片采用ARM Cortex-A7，RK3288/4核处理器，主频1.88Ghz，运转速度更快速，稳定性更强。　　　二、检测流程　　见使用说明书　　三、仪器技术指标　　1、仪器透射比准确度 ≥±0.5%　　2、仪器重复性 ≤±0.05%　　3、仪器稳定性 无漂移/30分钟(仪器预热5分钟后)　　4、线性误差 ≤0.2%　　4、仪器功耗 ≤5W　　5、电源 AC220V/50Hz或DC12V　　6、结果输出 内置新型热敏打印机可自动打印出检测结果，方便直观。　　7、尺寸 43×35×20cm　　8、主机重量 5.2kg　　四、仪器测定项目　　1、仪器测定项目　　测定土壤、肥料、食品、蔬菜、水果中重金属(铅、砷、铬、镉、汞、铁、锌、锰、铜)。　　2、仪器扩展测试项目　　仪器可以扩展测定土壤、肥料养分含量。　　五、仪器测试特点　　1、性能可靠，工作稳定性均优于国家标准JJG79-90标准5--6倍,重复性达到光栅类分光光度计指标，采用微处理器技术，单片机控制，触摸按键，操作简便。　　2、重金属测试采用联合消化和分项测试技术，简化测试流程，减少测试时间，大大提高测试效率，提高测试精度。　　3、扩展性强，该仪不仅可以专用于重金属的检测还可以扩展测定土壤、肥料、植株中养分的测试，一机多用。　　4、土壤重金属检测仪集药,器,仪于一体,相当于一个小型实验室, 两个铝合金箱体，易于携带，便于现场测试，流动服务。适于基层检测部门对含有重金属污染的蔬菜、水果等食品进行筛选。

川昱仪器 金属水溶液高温喷雾干燥机实验室小型产品说明：小型喷雾干燥机及其主要适用于高校、研究所和食品医药化工企业实验室生产微量颗粒粉末，对所有溶液如乳浊液、悬浮液具有广谱适用性, 适用于对热敏感性物的干燥如生物制品、生物农药、酶制剂等，因所喷出的物料只是在喷成雾状大小颗粒时才受到高温，故只是瞬间受热，能保持这些活性材料在干燥后仍维持其活性成份不受破坏。主要特征：●实验室小型喷雾干燥机采用彩色大触摸屏操作，全自动控制和手动控制相结合●关机保护功能：关机时只需按停止键，机器除风机外立即停止运行，保证设备不会因为误操作（强行关风机）而导致加热部分烧坏。●喷雾、烘干及收集系统采用透明的优质高硼硅耐热玻璃材料制造，使干燥过程在无污染的环境下进行。●手动控制：如在实验过程对工艺参数进行调整，方便切换至手动状态，整个实验过程彩色触摸屏动态显示（动画）●二流体喷雾的雾化结构，整机采用优质不锈钢材料制造，设计紧凑，无需附属设备。●内置进口全无油空压机，喷粉的颗径呈正态分布，流动性非常好，而且噪音低，小于60db，符合实验室噪音标准；●全自动控制：一键式开机，设定喷雾工艺参数后，温度到达预定温度，蠕动泵自行启动，触摸屏上显示运行动画，运行流程清晰显示；关机时只需按停止键，机器自动安全关机。●干燥温度控制的设计上采用实时调控PID恒温控制技术，使全温区控温准确，加热控温精度±1℃。●设有喷咀清洁器（通针），在喷咀被堵塞时，会自动清除，通针的频率可自动调整。●为了保持样品的纯净，配备了进风口过滤器。●干燥后的成品干粉，其颗粒度较均匀，95%以上的干粉在同一颗粒度范围。●进料量可通过进料蠕动泵调节，样品量可达50-2000ml。●进口喷头，效率高。彩色LCD触摸屏参数显示：进风口温度/出风口温度/蠕动泵转速/风量/通针频率。●小型喷雾干燥机针对黏性物料，设有喷咀清洁器（通针），在喷咀被堵塞时，会自动清除，通针的频率可自动调整；●创新的塔壁吹扫装置，物料回收率更高。川昱仪器 金属水溶液高温喷雾干燥机实验室小型使用方法1.蠕动泵：点击打开，蠕动泵启动，再点击停止。则关闭自动控制蠕动泵的运行，点击蠕动泵自动按钮绿色，蠕动泵自动启动，可以根据出风温度的设定值。调节蠕动泵的转速，从而调整蠕动泵的进料量，使喷雾效果达到好效果2 风机 控制风机的启动和停止电机风机按钮区，风机启动，点击下面风机停止按钮移动到。3通针控 制通真的启动和停止点击通过按钮绿色七。通真启动点击下面点击下面。4空气压缩机 控制，控制空压机的启动和停止。点击空气压缩机按钮，绿色区空压机启动。点击下面的关闭。5加热器 控制电加热器的启动和停止。点击加热器按钮绿色区上面加热器启动。按钮启动到启动电机下面加热器停止。按钮移动到停止。 注意：在风机没启动之前加热器是不会启动的。加热器关闭以后进风温度小于度风机自动关闭。6 风机设定 设定分机的转动频率。按动数值筐弹出数字键盘，按键将数字清零。然后输入所需的值按键修改完毕。7 蠕动泵手动 手动控制蠕动泵的。运行点击蠕动泵自动按钮绿色区上面。蠕动泵自动启动点击下面蠕动泵停止。8通针设定 通过通知的运行频率数值代表。几秒钟启动一次按按动数值框弹出数字键盘。按键将数字清零，然后输入所需的值二。键修改完毕，出场已设置佳值无需另行设置。9蠕动泵设定 设定蠕动泵的进料量。按动数值筐弹出数字键盘。案件将数字清零，然后输入所需的值按键修改完毕。10说明：点击控制面板进入界面二。进入温度设定界面。11 进风温度自调调谐 ：调整进风温度稳定性，当且仅当干燥时发现。进风温度显示值与进风温度设定值之间有较大波动时。需进行进风温度自动调谐。以确保进风温度设定值与进风温度显示值保持一致。可观察温度曲线窗口，有条绿色的曲线曲线趋于一条直线则温度准确。但温度还是不准确时点击自动调谐按钮，进风温度自调启动，自调完成后会自动结束。12进风温度设定值 设定进风温度，按数值筐。弹出数字键盘，按键将数字清零后输入所需的值。按键修改完毕。13 进风温度显示值：显示进风温度的实际值。14 出风温度显示值：显示进风温度的实际值。15出风温度自调结束 ：当在出风温度自调进行时。温度曲线出口会有一条红色曲线。带曲线趋于一条直线，出风温度自调结束。

上海伯东日本 Atonarp Aston&trade 质谱仪 ALD 工艺控制的原位计量原子层沉积 ALD 是一种广泛且越来越多地用于先进半导体制造存储器（3D-NAND 和新兴的堆叠式 DRAM ）和先进逻辑制程（例如全环绕栅极）的工艺.这些工艺的特点是需要控制几十个分子厚的薄膜层, 通常测量只有几十埃（1&angst =1x10-10m）.使用 ALD 可以沉积多种材料, 包括氧化物, 氮化物和金属. ALD 工艺被广泛使用, 因为它提供了超薄, 高度可控的单层材料, 这些材料本质上是保形和无针孔的. 从 2020 年到 2025 年, ALD 市场预计将以 16%-20% 的复合年增长率增长（来源: ASM）.上海伯东 Aston&trade 质谱分析仪是一款快速, 强大的化学特异性气体质谱仪, 提供 ALD 过程控制解决方案, 可在这些非等离子体（“lights-off”）过程中提供原位计量和控制. 它可以实现快速, 化学特定的原位定量气体分析, 低至十亿分之几的水平, 提供 ALD 过程控制所需的实时数据.上海伯东日本 Aston&trade 质谱仪提供“lights-out” ALD 工艺的原位计量解决方案为实现 ALD 工艺监测和控制, 需要一种高速化学特定量化计量解决方案, 该解决方案可以处理苛刻的工艺气体, 例如盐酸或氢氟酸副产物, 并且可以处理在过程中可能在腔室表面形成的冷凝颗粒.计量解决方案需要量化存在的气体, 以便在多个操作阶段之间实现准确, 快速的转换: 前体气体注入, 气体吹扫, 反应气体注入和副产品气体去除. 通常, 每个完整的周期只需几秒钟, 因此计量解决方案需要以高采样率和灵敏度实时工作.然而, 大多数 ALD 工艺没有等离子体或使用弱的远程等离子体源. 这意味着诸如光学发射光谱 OES 等传统的原位计量技术在黑暗中迷失.由于没有强等离子源使其能够运行, 因此由于信噪比低或根本没有信号, 它们无法提供所需的信息.如果没有原位计量, 这些工艺步骤转换通常会运行固定的持续时间, 这会导致处理效率低下, 因为需要在步骤之间留出足够的余量以确保前体和反应气体不会无意中混合到腔室中. 在没有计量的情况下运行 ALD 工艺也会面临严重的生产线产量损失或工艺偏差的风险, 例如, 如果其中一种反应气体浓度波动高或低.上海伯东 Aston&trade 质谱仪可在这些非等离子体（“lights-off”）过程中提供原位计量和控制. 它可以实现快速, 化学特定的原位定量气体分析, 低至十亿分之几的水平, 提供 ALD 过程控制所需的实时数据.Atonarp Aston&trade 技术参数类型Impact-300 Impact-300DPPlasma-200Plasma-200DPPlasma-300Plasma-300DP型号AST3007AST3006AST3005AST3004AST3003AST3002质量分离四级杆真空系统分子泵分子泵隔膜泵分子泵分子泵隔膜泵分子泵分子泵隔膜泵检测器FC /SEM质量范围2-2852-2202-285分辨率0.8±0.2检测限0.1 PPM工作温度15-35“℃功率350 W重量15 kg尺寸299 x 218 x 331 LxWxH(mm)400 x 240 x 325 LxWxH(mm)Atonarp Aston&trade 质谱仪优点1. 耐腐蚀性气体2. 抗冷凝3. 实时, 可操作的数据4. 云连接就绪5. 无需等离子体6. 功能: 稳定性, 可重复性, 传感器寿命, 质量范围, 分辨率, 最小可检测分压, 最小检测极限 PP,灵敏度 ppb, 检测速率.Atonarp Aston&trade 质谱仪半导体行业应用1. 介电蚀刻: Dielectric Etch2. 金属蚀刻: Metal Etch EPD3. CVD 监测和 EPD: CVD Monitoring and EPD4. 腔室清洁 EPD: Chamber Clean EPD5. 腔室指纹: Chamber Fingerprinting6. 腔室匹配: Chamber Matching7. 高纵横比蚀刻: High Aspect Ratio Etch8. 小开口面积 0.3% 蚀刻: Small Open Area 0.3% Etch9. ALD10. ALE若您需要进一步的了解 Atonarp Aston&trade 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生