纳米氮化物

产品名称：陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液陶瓷抛光液作用: 吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光，通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果，表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点：吉致可提供各陶瓷类的镜面抛光液1、纳米级抛光液，抛光后具有较优的粗糙度2、抛光液绿色环保、不含卤素及重金属元素3、抛光液可循环使用，根据工艺要求可添加去离子水稀释可定制化：可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)

产品特点：金纳米螺旋标尺（L，R）是手性的纳米标记物，尤其适合于3D断层扫描，电子显微镜（EM）或冷冻电镜。我们的手性标记物显示纯手性（L或R），由于高对比度和金纳米颗粒的精准排列，可以很容易地被电镜检测到。金纳米螺旋标尺（L，R）是用DNA折纸技术制备，金纳米颗粒（10nm）被排列成纳米螺旋（螺距57nm 长110nm 直径34nm）。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：在透射电镜载网中：样品放在干燥的透射电镜载网上使用，以提高由银增强放大了的螺旋效果。样本存储在石蜡膜覆盖的塑料孔中进行运输。保质期是6个月。在缓冲液中:该纳米螺旋储存在缓冲液（1X TE，11mM MgCl2）中运输。样本量约为30μL，这个量足以用于10个以上的TEM。样品保存于低温的保温盒中进行运输。适当的储存条件下（避光，4℃），保质期为3个月。

纳米位移平台,真空纳米位移台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米位移平台,真空纳米位移台,纳米位移台.这款纳米位移平台是美国进口的高速高精度真空纳米位移台,它采用先进技术设计, 具有单轴或精密的双轴配置两种选择, 适合高真空环境和非磁性定位应用.美国进口高精度低价格系列纳米定位台，采用了陶瓷伺服电机驱动，非常适合要求精度达到纳米或压纳米的高精度和高重复精度的应用，例如：精密生命科学仪器、显微成像、纳米准直、微纳加工、光学精确定位等。X-TRIM 系列纳米位移台特色 10nm分辨率非接触线性编码系统双驱动任选:线性伺服或压电驱动高密度滚珠传导增加稳定性超紧凑的单轴或双轴纳米位移台紧凑型封装可真空使用超强工作能力，大吞吐量采用无铁芯直接驱动直线电机,驱动轴位于纳米位移台的中心线, 这种设计消除了非中心驱动导致的偏航,空回等问题.纳米位移台集成了一个高分辨率(12.5nm)非接触式线性编码器,它为闭环的伺服系统工作操作提供了精密反馈, 它的标准配置就可以提供纳米精度的定位.纳米位移平台使用能够了精密的滚珠导向系统确保了位移平台高精度性能和严格的轨迹控制。纳米位移平台也适合OEM使用,它具有较低抛面和较小尺寸，采用模块化设计，用户可堆叠使用创建多轴多部件系统。这款纳米位移平台使用了非接触式直接驱动技术，提供坚固，精确，高速的定位，满足高频率大工作量的需要。纳米定位平台使用了先进的无铁直线电机直接确定技术，确保最优异的纳米级定位性能。这款纳米定位台提供了高速度，高精度，高分辨率，高性能的卓越表现。它与传统的丝杠驱动或压电驱动相比，具有更大的工作效率和吞吐量。参数行程(mm): 25和50mm(单轴或双轴)驱动系统: 无铁芯直线电机或陶瓷伺服电机最大加速度: 由负载决定最大速度: 200mm/s (无负载时)最大推力: 24N最大负载: 2Kg精度: +/-1um/25mmTTL分辨率: 1-100nm/脉冲构造材料: 铝合金主体, 灰色氧化镀膜重复精度: 5倍精度XT 25XT 50XT 2525XT 5050Travel Length (mm)25 mm50 mm25 x 25 mm50x 50 mmTrajectory ControlAccuracyLinear Encoder± 1.0 &mu m± 2.0 &mu m± 2.0 &mu m± 4.0 &mu mStraightness/Flatness± 1.0 &mu m± 1.0 &mu m± 2.0 &mu m± 2.0 &mu mYaw/Pitch/Roll5 arc-sec5 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec2 axis systemOrthogonalityStandard GradeNANA5 arc-sec5 arc-secHigh PrecisionNANA2 arc-sec2 arc-secExtra High PrecisionNANA1 arc-sec1 arc-sec

纳米升降台,纳米升降平台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,精通光学，服务科学，先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米升降台,纳米升降平台,精密升降台。这款纳米升降台是美国进口的短行程的精密升降台,Elevator Stage,纳米升降平台特别适合竖直的Z轴应用，它具有极佳的上下定位功能，超高分辨率，超高重复精度和机械稳定性。产品特色：这款纳米升降台采用高密度交叉滚珠导向系统用于竖直导向，确保最大的稳定性。单立柱式的X滚珠导向系统提供了适度的高刚性，使得这款纳米定位台具有极小的滞后和相当大的承载能力。纳米升降台应用：这款纳米定位台比较适合对Z轴垂直升降精度较高要求的应用。比如，光学成像系统中焦平面的准直，半导体测试，视频测量等。纳米升降台参数行程：4mm驱动系统：无刷伺服-丝杆驱动最大速度：20mm/s最大负载；10kgTTL分辨率：100nm, 50nm, 25nm, 12.5nm, 10nm, 1nm重复精度：5x分辨率

产品特点：GATTA-SIM系列的纳米标尺可以用于检测您的SIM系统的分辨率。该纳米标尺带有两个荧光标记，这些荧光标记都是来自于密集排列的高量子效率的染料分子。两个荧光标记之间的距离固定，尺寸包括120nm，140nm和160nm。我们为您提供带有以下颜色的不同尺寸的纳米标尺，包括：红色（ATTO 647N），黄色（Alexa Fluor 568）或蓝色（Alexa Fluor 488）。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：

产品特点：作为第一个超高分辨率显微技术的STED方法彻底改变了光学显微镜。适用于STED的校准探针--GATTA-STED纳米标尺也终于面世。标尺带有高量子效率的荧光标记染料ATTO 647N。两个荧光分子之间的距离固定，我们提供的尺寸包括：30nm，50nm，70nm和90nm。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺产品参数：

参数：Agnws-120平均直径/纳米：120平均长度/微米：20银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Agnws-200平均直径/纳米：200平均长度/微米：25银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Agnws-300平均直径/纳米：300平均长度/微米：30银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Agnws-400平均直径/纳米：400平均长度/微米：30银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Parameter:Agnws-120Average Diameter/nm：120Average Length/um：20Silver Purity (%)：99.5Concentration (mg/ml)：20Agnws-200Average Diameter/nm：200Average Length/um：25Silver Purity (%)：~99.5Concentration (mg/ml)：20Agnws-300Average Diameter/nm：300Average Length/um：30Silver Purity (%)：~99.5Concentration (mg/ml)：20Agnws-400Average Diameter/nm：400Average Length/um：30Silver Purity (%)：~99.5Concentration (mg/ml)：20

碳具有 的特性： 按照质量，碳是宇宙中第4丰富的元素，也是 化学活性的元素之一。碳不仅能与其他元素结合，而且可与自身结合，形成最坚硬的金刚石和最软的石墨。碳还是有机化学和所有已知生命的根基。碳有几乎无限的应用。近年来，包括石墨烯（碳的二维形式）和单壁碳纳米管（主要为柱状石墨烯）在内的形态表现出非凡的属性，鼓舞着世界各地的科学家寻找各种用途。与石墨烯一样，单壁碳纳米管的属性充满前途，甚至有可能改变全球产业的面貌。与石墨烯不同的是，2014 年开始就有大量单壁碳纳米管在全球范围内供货。TUBALL由单壁碳纳米管构成，“成品”杂质含量极低（SWCNT含量≥75％），且在大多数应用中无需进一步的纯化。TUBALL具有独特的物理属性，可提高大多数材料的强度、导电性和/或导热性，包括聚合物复合材料、橡胶、金属和许多其他材料。与多壁碳纳米管、碳纤维和大多数类型的碳黑不同，TUBALL在添加 0.001％-0.1％ 的重量后即可显著改善材料属性。产品特点：填料重量含量达到 0.001％ 时开始展现功效同时提高材料属性（机械强度、导电性和导热性）各种潜在应用： 聚合物复合材料、橡胶、金属和许多其他材料高质量的SWCNT含量（数量 ≥ 75％，G/D大于50）无定形碳含量小（低于 1％）铁 (Fe) 催化剂颗粒包封在碳外壳中在大多数应用中，无需对生产过程做任何额外更改市场价格比具有同类质量和属性的所有其他产品低50倍技术参数规格计量单位数值评价方法碳含量wt.%85TGA, EDXCNTwt.%≥75TEM, TGA碳纳米管的层数单位1-2TEM碳纳米管的平均外径nm1.8±0.4拉曼光谱, TEMCNT长度um5AFM金属杂质wt.%EDX, TGA根据特定客户的要求，可对任何所需数量的TUBALL进一步纯化与功能化，从而达到以下规格：

产品特点:该方法STORM或dSTORM是在光学显微镜中最常用的超分辨率技术之一。GATTA-STORM系列的纳米标尺是现在这项技术的理想校准探针。为了模拟你的STORM或dSTORM测量值作为传真尽可能标尺携带常用染料的AlexaFluor 647.我们提供的尺寸标记到标记距离30nm，50nm和94nm。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：

纳米颗粒分析仪配件用于观测和分析液体中的微小颗粒的布朗运动速率与尺寸分布相关，采用纳米颗粒跟踪分析（NTA）技术，通过激光散射装置（纳米观测）与超显微镜ultra-microscope和NTA软件的相结合，生成纳米颗粒图像，是全球领先的纳米粒度分析仪。纳米颗粒分析仪配件 纳米观测原理纳米颗粒分析仪使用纳米透视Nano-Insight 激光散射模块，可以通过顶眼超显微镜观测到液体中的纳米粒子。采用不同激光散射颗粒在矩阵中表现为模糊点。模糊点根据其各自的布朗运动而移动。液体中有不同的布朗运动粒子。小粒子比大粒子受到相邻粒子的影响更少。因此，在超显微图像中，较大的粒子有大的模糊外观。 NTA能够追踪粒子的相应路径。纳米观测模块纳米观测模块的设计，可以使其安装在超显微镜，顶眼纳米的底板。可以通过Mishell软件来控制该模块。Mishell软件控制着纳米观测模块以及照相机。根据应用决定在纳米观测模块装备一个或多个激光器。激光器以一种特殊的方式排列。左侧图片上展示的是纳米观测图。较小的粒子比较大的粒子移动更快。我们用摄像机同时跟踪每个粒子。顶眼超显微镜顶眼超显微镜将进入模糊点的散射光可视化。用适当的时间分辨跟踪，模糊云可被分配并与各自的粒径相关。粒子的布朗运动图像是唯一的。下面将给出例子。每个模糊点代表单个粒子。NTA 软件上图展示的是NTA分析的典型图像。散射激光被捕获到模糊点，要根据时间函数跟踪模糊点。我们跟踪每个模糊点。跟踪每个粒子的方法，得到的技术结果是高分辨率。我们正在寻找与图像相关的量，当我们知道相关的量后，我们就可以极其精确地确定各种粒子的浓度。该技术将会带起许多可能的应用。例如，可能也可以使用荧光激光器。使用荧光激光器，可以瞄准复杂的基质里的一个粒子。该技术带来的好处是，用户可以在视觉上检查并且通过观察相应图像验证所有可能的应用。MiNan是Mishell® 内的一个模块- 扩展图像分析软件包，被认为是市场上最先进的图像分析软件。MiNan是一个子程序，可以进行Morphious纳米粒子分析的全部描述。MiNan是自带Morphious纳米系统的软件，研发用于纳米粒子的可视化以及纳米粒子的大小、形状（形态）和浓度的测量。每个粒子是一个个体，但通过观测扩散同时被分析。这种一个粒子后接一个粒子的方法产生高分辨率的结果，即粒子的尺寸分布和浓度分辨率高，同时视觉验证让用户对数据有了额外的信心。当荧光模式检测标记粒子时，粒子尺寸和浓度，蛋白质聚集和粘度都可以被分析。纳米颗粒分析仪配件应用?在制药或复合产业研发药物?用于病毒筛查?用于开发纳米生物标记物或毒物筛查?用于蛋白质聚集的动力学模型研究?用于通过膜泡的表征研究疾病?用于促进纳米复合材料的发展纳米颗粒分析仪配件特色?在同一时间多粒子高通量表征?实时视觉展示粒子，允许用户评估试验，无需额外复杂性?方便和易于使用的软件，允许用户通过宏设置任何实验?添加像高通量自动采样器，泵或加热和制冷配件?自适应模块化系统构建任何复杂的应用程序，操作轻松舒适?超级高效和购买成本低?该系统提供高分辨率的粒度特性来研究复杂的多分散矩阵?激光波长可选择?通过给过滤器添加电动轮，得到自适应荧光分析纳米颗粒分析仪配件参数?尺寸10 nm - 2000 nm*?浓度 106 - 109 粒子/ mL?荧光检测纳米颗粒分析仪配件规格温度范围15-40 °C电源230V AC/115V AC, 50/60 Hz摄像机USB3 CMOS分辨率：1936x1216 161帧/秒，像素尺寸5.86μm：颜色校准模块功耗18W激光波长405nm（紫色），488nm（蓝），532nm（绿），642nm（红色）尺寸范围从10 nm到2000 nm (取决于材料)焦点电脑控制电动调焦个人计算机SDD亿康II SDSSDHII-120G-G25HDD西数蓝WD10EZEX1 TB|主板千兆字节GA-Z97X-UD3H|内存金士顿骇客神条怒黑| HX318C10FBK2/1616 GB DDR3-RAM处理器英特尔® 酷睿™ i7 i7-4790K四核4×4.0 GHz显卡 PNY VCQK2200-PB 4GB电源 酷冷至尊G750M 750w机箱 酷冷至尊黑软件Windows® ＆（或更高）.由Mishell® 供电Mishell是Microptik BV公司的注册商标。Windows是微软公司的注册商标。MiNan尖端程序在Mishell下运行，以充分体现由Morphious纳米获得的纳米粒子尺寸（长×宽×高）20 x 18 x 30 cm重量10.5 kg

多功能纳米压痕仪配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。多功能纳米压痕仪配件特色最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。实现静态压痕和动态压痕测量以及sclerometry测量具备原子力显微镜和纳米硬度测量仪的功能采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。多功能纳米压痕仪配件选型4D紧凑型多功能纳米压痕仪4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。4D标准型多功能纳米压痕仪4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。多功能纳米压痕仪4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。4D+增强型多功能纳米压痕仪4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

在扫描电镜、聚焦离子束和双束 系统上进行纳米操纵和测量的最 佳方案. 主要应用 纳米结构的电学测量和表征 纳米结构的力学测量和表征 微米纳米尺度组装 透射电镜、拉曼和其它分析仪器 的样品制备 表面科学实验和研究 纳米连接技术研发 原位纳米尺度样品定位

英诺色谱现提供新型的Polymicro纳米石英毛细管，实现了传统产品一微米尺寸上的突破。 Polymicros的纳米毛细管产品线中管路内径（ID）范围为200至1,000 纳米（0.2至1.0微米）。传统的毛细管产品内径不小于1微米。在纳米毛细管开发之前，对于科学、工业以及医疗界来说，小于 1 微米直径基板的主要选择包括湿式蚀刻或离子铣，这两种技术的成本都极为高昂，相对来说难以采用。 Polymicro的毛细管建立在行业领先的功能之上，在小于1微米的尺寸内可以实现高性价比的高性能毛细管产品。这类毛细管已被证实可作为封装完整性和泄漏试验的基板，还具有单分子研究和分析的潜力。通过SEM验证可以确保对直径的控制。 合成熔融石英具有镜面般光滑的内表面，可实现液体和气体的稳定流动。材料的金属离子含量较低，使内表面产生惰性，便于有效的断裂或切割操作，达到定制的管路长度。此外，管路外部的聚酰亚胺涂层在搬运和使用过程中具有出色的的耐磨性，使管路可用于-65oC至+350oC的温度。 有关科学应用包括分析化学、层析技术、纳米流体力学、直接进样口监控、基于倏逝波吸收的传感，以及同轴光学和射流元件。工业应用则包括管壳泄漏试验、蒸发冷却系统、石油分析以及催化研究。医疗应用包括药物递送、流量控制系统、临床和诊断设备，以及可穿戴式药物递送设备。零件号产品号内径*(nm)外径(μm)涂层厚度(μm)每卷最大包装(m)1068150033TSP000.2375NC200 +200/-100363 ± 1020101068150035TSP000.6375NC600 ± 200363 ± 1020101068150037TSP001.0375NC1000 ± 500363 ± 102010*以线盘标签上标识的实际内径测量尺寸为准。

纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH屹持光电提供各种纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒，为工业和科研提供低成本的纳米光子学研究。基板可用于光学、生物学、化学、物理学（例如中子散射）、聚合物研究、纳米压印、微流体等各种应用。如果需要，可以用金属或介电涂层涂覆基底。大多数表面特征具有略微梯形的横截面轮廓，具有直平行台面和沟槽。也可以使用格状结构。提供多种特征尺寸和沟槽深度。可以在发货之前拍摄基板的SEM图像以验证确切的轮廓。表中显示的尺寸代表目标值。周期的精度优于0.5％，而沟槽深度和线和空间的宽度可能与目标值相差15％。SEM用于说明目的。可定制更精确尺寸信息。纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH规格描述值基材宽度和高度公差标准公差±0.2 mm通光孔径（CA）距基板边缘0.5 mm（图案可延伸至基板边缘）基材厚度0.675±0.050mmCA表面质量P / N “-P”：60/40，最高20/10CA表面质量P / N “-S”：80/100CA外表面质量无要求材料单晶硅，反应离子蚀刻1、线性纳米棒（线+间隔）P/N周期（nm）凹槽深度（nm）工作周期1线宽度2（nm尺寸3（mm）SNS-C72-1212-50-P1395050％69.512.5×12.5×0.7SNS-C72-2525-50-P1395050％69.525×25×0.75SNS-C36-1212-110-P27811050％13912.5×12.5×0.7SNS-C24-1212-110-P416.611050％20812.5×12.5×0.7SNS-C20-0808-150-D45-P50015044％2208×8.3×0.7SNS-C20-0808-350-D45-P50035044％2208×8.3×0.7SNS-C20-0808-150-D60-P50015060％3008×8.3×0.7SNS-C20-0808-350-D60-P50035060％3008×8.3×0.7SNS-C18-2009-110-D50-P555.511050％27820×9×0.7SNS-C18-2009-140-D50-P555.514050％27820×9×0.7SNS-C18-2009-110-D29-P555.511029％15820×9×0.7SNS-C18-2009-140-D29-P555.514029％15820×9×0.7SNS-C16.7-0808-150-D45-P60015043％2608×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-350-D45-P60035043％2608×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-150-D55-P60015055％3308×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-350-D55-P60035055％3308×8.3×0.7SNS-C16.5-2912-190-P60619050％30329×12×0.7SNS-C16.5-2912-190-S460619050％30329×12×0.7SNS-C16.5-2924-190-P60619050％30329×24.2×0.75SNS-C14.8-2410-170-P67517032％21824×10×0.7SNS-C14.8-2430-170-P67517032％21824×30.4×0.75SNS-C14.3-0808-150-D45-P70015047％3308×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-350-D45-P70035047％3308×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-150-D55-P70015055％3758×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-150-D55-P70015055％3758×8.3×0.7SNS-C12-1212-200-P833.320050％41612.5×12.5×0.7SNS-C12-2525-200-P833.320050％41625×25×0.75SNS-C11.7-1212-200-P85520050％42812.5×12.5×0.7SNS-C11.7-2525-200-P85520050％42825×25×0.75纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH1 占空比表示线（台面）宽度与周期的比率。2 表示台面的宽度值。3 第二维对应于凹槽长度。4 以“-S”结尾的是“科研”等级。它至少有80％的可用面积。可能存在高达80/100表面质量值。5 可提供更大的自定义尺寸2、2D纳米图案（矩形和六边形网格）P/N周期（nm）格子类型凹槽深度特征宽度（nm）尺寸（mm）S2D-24B3-0808-150-P700矩形1502608×8.3×0.7S2D-24B3-0808-350-P700矩形3502608×8.3×0.7S2D-18B3-0808-150-P700矩形1503508×8.3×0.7S2D-18B3-0808-350-P700矩形3503508×8.3×0.7S2D-24C2-0808-150-P600六角1501658×8.3×0.7S2D-24C2-0808-350-P600六角3501658×8.3×0.7S2D-18C2-0808-150-P600六角1502408×8.3×0.7S2D-18C2-0808-350-P600六角3502408×8.3×0.7S2D-24C3-0808-150-P700六角1502208×8.3×0.7S2D-24C3-0808-350-P700六角3502208×8.3×0.7S2D-18C3-0808-150-P700六角1502908×8.3×0.7S2D-18C3-0808-350-P700六角3502908×8.3×0.7S2D-24D2-0808-150-P600六角孔1501808×8.3×0.7S2D-24D2-0808-350-P600六角孔3501808×8.3×0.7S2D-18D3-0808-150-P700六角孔1502008×8.3×0.7S2D-18D3-0808-350-P700六角孔3502008×8.3×0.7S2D-24D3-0808-150-P700六角孔1502908×8.3×0.7S2D-24D3-0808-350-P700六角孔3502908×8.3×0.7rect posthex posthex hole相关产品：脉冲压缩透射光栅高功率光束组合光谱衍射光栅光通信透射衍射光栅纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒

碳纳米管（碳纳米管）多壁，加上由-SO3H改造形成，易溶于水且能稳定几个月黑色、透明悬浮物。

碳纳米管碳纳米管又称巴基管，作为一堆纳米材料，碳纳米管具有非常优异的力学、电学、化学性能且质量轻、韧性好。可用于碳纤维材料，复合材料的增强剂、场效应晶体管材料，电子发射源，化学传感器等。

孚光精仪品牌的多功能纳米硬度计配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。多功能纳米硬度计配件特色具备原子力显微镜和纳米压痕仪的功能实现静态压痕和动态压痕测量以及测量最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。多功能纳米硬度计配件选型4D紧凑型纳米硬度计4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。4D标准型纳米硬度计4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。纳米硬度计4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。4D+增强型纳米硬度计4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

ACE 毛细管柱和纳米柱 ACE常规键合相和新型固定相可用于毛细管（500 μm和300μm）和纳米（100 μm和75 μm）尺寸。 100和300两种孔径 柱效高、寿命长、可重现性好 LC-MS和LC-MS/MS相关应用ACE毛细管和纳米HPLC色谱柱能够为LC-MS应用提供高灵敏度 与药物动力学、痕量分析、生物分析和蛋白质组学相关 需要低流速检测器的理想选择，如电喷雾LC-MS细胞外基质中的游离氨基酸测定

氮化硅膜主要用于纳米技术研究；支撑强度高，TEM与原子力电镜都可以使用。氮化硅膜极其稳定可以抵抗温度变化上升至1000摄氏度；但是，疏水性，如果需要亲水，建议用刻蚀法：等离子刻蚀，增加电荷。膜厚：100nm、50nm、30nm；孔：1mm×mm 膜粗糙度2nm。型号名称硅框架厚度（μm）窗口尺寸（mm）膜厚（nm）孔厚包装/个产地21505-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm50110美国21500-10氮化硅膜2000.5 x 0.550110美国21502-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm50110美国21525-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm200110美国21522-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm200110美国21524-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国21528-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国4112SN-BA氮化硅膜2001.0 x 1.0200110SPI4120SN-BA氮化硅膜2000.5 x 0.5200110SPI

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。技术指标：表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性：该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/admin@instsun.com

纳米显微操纵仪由微操纵仪、控制器、控制电源及操纵杆组成，微操纵仪的驱动是由压电陶瓷构成的纳米马达来实现的，从而保证能够进行纳米级精确移动。整个微操纵装置体积非常小，即使是操作精度高达几纳米也不会产生后座力及漂移。微操纵仪可直接在样品室内接触、操纵样品，从而使对样品的物性分析成为可能，而且多个操纵仪的联合使用可从事微纳尺度的样品的加工和组装。操纵仪有以下型号以适用于不同的环境：MM3A-LMP用于光镜；MM3A-EM用于电镜；MM3A-UHV用于超高真空环境；MM3A-LT用于低温环境。

纳米 cHiPLC 色谱柱纳米 cHiPLC 色谱柱仅限研究使用，不可用于诊断程序。SCIEX 纳米 cHiPLC 色谱柱旨在实现耐用性和易用性。 我们的制造流程采用独特的溢流口结构，可以将固定相微粒保留在色谱柱中。这些堰的重现性更高，而其死体积几乎为 0 (~13 pL)。相比于 nanoLC 色谱柱（采用熔融石英管制造而成，再加上由烧结的固定相微粒制成的筛板），cHiPLC 色谱柱更加耐用，而且更加容易操作和连接，不会产生死体积。简单：即插即用型芯片提升了简易性，并具备纳米柱的性能可扩展：在多用户实验室内快速切换工作流程和项目的灵活性每次：每天、柱间以及实验室间的结果均可重现色谱柱设计我们精心设计了捕集器-芯片和分析色谱柱-芯片，旨在实现相当于甚至优于填充毛细管的分离效果。利用熔融石英，可以使用圆柱形通道填充 nanoLC 色谱柱和捕集器。我们的 cHiPLC 色谱柱采用独特的堰结构，而非由熔融固定相微粒制成的传统筛板，可以将固定相微粒保留在色谱柱中。这些堰的重现性更高，而其死体积几乎为 0 (~13 pL)。此外，筛板材料上可能发生的样品组分吸收在这些类型的结构上并不会出现。获得专利的连接系统与每块芯片之间的连接通过获得专利的连接系统实现，该连接系统可以连接七个通往外部的通道，且死体积小于 1 nl。用于连接芯片的力为预设，因此用户每次更换芯片时，都能实现专门的防泄漏连接，无需用户进行任何调整。提升的柱间重现性除了在短短几秒内更换 nanoLC 色谱柱或捕集器的简易性外，使用我们的 cHiPLC 色谱柱也可提升柱间重现性。所有芯片均完全一样，而且我们的填充程序可以确保在 nanoLC 内实现最佳的柱间重现性。对于需要在多个色谱柱间长期保证保留时间稳定性的应用中，这一点非常重要。示例应用包括，结合使用保留时间与精确质量进行肽/蛋白质鉴定，以及使用编程 MRM 在生物标记物验证中进行肽定量。订货信息：纳米 cHiPLC 色谱柱和捕集柱具有多种固体相和柱长可选。cHiPLC 色谱柱部件号纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm ChromXP C18-CL 3μm 120A804-00001纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm ChromXP C18-CL 3μm 300A804-00003纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm ChromXP C18-CL 5μm 120A804-00002纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm ChromXP C18-CL 5μm 300A804-00004纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm ReproSil-Pur C18-AQ 3μm 120A804-00011纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm ChromXP C8-CL 3μm 120A804-00005纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm ChromXP C4-CL 5μm 300A804-00018纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm 石墨化碳 3μm 250A804-00020纳米 cHiPLC 色谱柱 75μm x 15cm HALO HILIC804-00022捕集柱部件号纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm ChromXP C18-CL 3μm 120A804-00006纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm ChromXP C18-CL 3μm 300A804-00008纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm ChromXP C18-CL 5μm 120A804-00007纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm ChromXP C18-CL 5μm 300A804-00009纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm ReproSil-Pur C18-AQ 3μm 120A804-00016纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm ChromXP C8-CL 3μm 120A804-00010纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm ChromXP C4-CL 5μm 300A804-00019纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm 石墨化碳 3μm 250A804-00021纳米 cHiPLC 捕集柱 200μm x 0.5mm HALO HILIC804-00023基于芯片的微粒捕集器（堰）（位于自动进样器和 cHiPLC nanoflex 之间）800-00354跨接器芯片部件号直接进样跨接器芯片800-00408捕集-洗脱跨接器芯片800-00389双柱跨接器芯片800-00421

LightSmyth提供了大量的纳米加工单晶硅衬底，为工业和学术机构提供了一个低成本的纳米光子学研究入口。基底可用于光学、光子学、生物学、化学、物理学（如中子散射）、聚合物研究、纳米印迹、微流体学等领域。如果需要，基板可以涂上金属或介质涂层。大多数地表特征具有略微梯形的横截面轮廓，具有直线平行的台地和沟渠。晶格状结构也可用。提供了许多特征尺寸和沟槽深度。基板的扫描电镜图像可以在装运前拍摄，以验证准确的轮廓。产品特点Nanopatterned Silicon StampsII-VI offers a large variety of nanomachined single crystal silicon substrates providing a low-cost entry into nanophotonics research for industry and academic institutions. The substrates may be used in a variety of applications in optics, photonics, biology, chemistry, physics (e.g. neutron scattering), polymer research, nanoimprinting, microfluidics and others. If desired, the substrates can be coated with metallic or dielectric coating. Most of the surface features have slightly trapezoidal cross-section profiles with straight parallel mesas and trenches. Lattice-like structures are available as well. A number of feature sizes and trench depth is available. SEM images of the substrates may be taken prior to shipment to verify the exact profile.Dimensions shown in the table represent target value. Period has accuracy better than 0.5% while groove depth and the width of line and space may differ from the target values by 15%. SEM are given for illustration purposes. If more precise dimensional information is required, we may provide an SEM of the specific piece of nanostamp you order as an optional service通用参数(LightSmyth Nanopatterned Silicon Stamps 纳米图案硅片)描述数据基材宽度高度误差标准公差±0.2 mm净孔径（CA）距基板边缘0.5 mm（图案可延伸至基板边缘）基底厚度0.675 ± 0.050 mmCA的表面质量P／N以“p”结尾：划痕/挖：最大划痕宽度，最大最大直径。可提供高达20/10的规格CA的表面质量P/N以“-S”结尾：由于表面质量而打折的等级。至少有80%的可用面积。可能出现80/100划痕/挖痕/颗粒和不规则基底形状CA外表面质量无要求Material材料单晶硅，反应离子刻蚀2D NanostampsPart Number周期Period(nm)晶体类型Lattice Type槽深Groove Depth(nm)特征宽度Feature Width(nm)Size(mm)S2D-18B2-0808-350-P600Rect Post3502758.0 x 8.3S2D-18B3-0808-350-P700Rect Post3503508.0 x 8.3S2D-18C2-0808-350-P600Hex Post3502408.0 x 8.3S2D-18C3-0808-150-P700Hex Post1502908.0 x 8.3S2D-18C3-0808-350-P700Hex Post3502908.0 x 8.3S2D-18D3-0808-350-P700Hex Hole3502008.0 x 8.3S2D-24B2-0808-150-P600Rect Post 1501958.0 x 8.3S2D-24B2-0808-350-P600Rect Post 3501958.0 x 8.3S2D-24B3-0808-150-P700Rect Post 1502608.0 x 8.3S2D-24B3-0808-350-P700Rect Post 3502608.0 x 8.3S2D-24C2-0808-150-P600Hex Post1501658.0 x 8.3S2D-24C2-0808-350-P600Hex Post3501658.0 x 8.3S2D-24C3-0808-150-P700Hex Post1502208.0 x 8.3S2D-24D2-0808-150-P600Hex Hole1501808.0 x 8.3S2D-24D2-0808-350-P600Hex Hole3501808.0 x 8.3S2D-24D3-0808-150-P700Hex Hole1502908.0 x 8.3S2D-24D3-0808-350-P700Hex Hole3502908.0 x 8.3

高端炭基材料高剪切乳化机，环保水性纳米碳材高速乳化机，碳纳米管材料高剪切乳化机，碳纳米管浆液高剪切乳化机混合机，碳纳米复合母胶高剪切乳化机，液体黄金复合母胶高剪切乳化机混合机设备，超导电纳米碳材高速自吸粉混合机乳化机，炭黑高速自吸粉混合机设备 碳纳米管是一维的纳米材料，在工程材料域，碳管以其优异的物理机械性能成为聚合材料理想的填料。具有优异的力学性能、导电、导热性能，因而被认为是聚合物基复合材料理想的力学强化和功能改性材料，采用碳纳米管制成的复合材料表现出良好强度、弹性和抗疲劳性，碳纳米管也逐渐用于橡胶制品、轮胎、塑料等工业中。 但是，碳纳米管的呈纳米纤维状，自身易团聚和缠结，且碳纳米管表面为规整的石墨晶片结构，表面惰性大，与聚合物基体亲和性差，导致碳纳米管在橡胶基质中的分散性差，而且成本也高，这些限制了碳纳米管在橡胶中的规模化应用。 在橡胶工业中，将碳纳米管填充到各种橡胶基体以提高橡胶基体的性能成为研究高端橡胶产品的理想共混复合材料之一，但碳纳米管自身有着很高的表面自由能，易发生团聚现象，碳纳米管与基体间的相互作用是另一个难题，碳管表面没有任何反应官能图，碳管的惰性使其与聚合物基体间化学界面作用弱，碳纳米管对聚合物基体的改善效果难达到预期，因此制备出尺寸均匀，分散好，性能稳定的碳纳米管及其复合材料是拓展其应用域的需要。 目，在碳管的分散性及其复合材料研究中已经取得许多进展。常用的方法中是将采用表面活性剂对碳管表面改性，将其悬浮液与胶乳复合制得复合母胶，该技术在一定程度解决了碳纳米管的分散，但由于表面活性剂中其它基团的加入会降低复合母胶的性能；因此需要提供一种避免活性剂的加入影响碳纳米管与聚合物间结合的技术方案。 针对现阶段技术中存在的问题，在碳纳米管分散均匀的基础上在其表面引入羧基、羟基等官能团，避免偶联剂的加入影响碳纳米管与胶乳之间的结合。一种高分散碳纳米复合母胶的制备方法，包括以下步骤：1、将碳纳米管在分散液中剪切，制得短切碳纳米管悬浮液；2、通入氧化气体对短切碳管悬浮液氧化，制得短切碳纳米管氧化液；3、将补强材料加入短切碳纳米管氧化液，制得碳纳米管浆液；4、在碳纳米管浆液中加入偶联剂，制得复合浆液；5、将天然橡胶胶乳分散于复合浆液中，制得碳纳米管-天然橡胶复合材料；6、将碳纳米管-天然橡胶复合材料凝固、干燥制得高分散碳纳米复合母胶。 上海依肯根据市场技术需求结合多年来积累的成功案例经验特别推出ERS2000系列高剪切乳化机（混合机），ERS2000在线式高速高剪切乳化机，主要用于微乳液及超细悬浮液的生产。由于工作腔体内三组乳化分散头(定子+转子)同时工作，乳液经过高剪切后，液滴更细腻，粒径分布更窄，因而生成的混合液稳定性更好。三组乳化分散头均易于更换，适合不同的工艺应用。该系列中不同型号的机器都有相同的线速度和剪切率，非常易于扩大规模化生产。 上海依肯ERS2000系列高剪切乳化机（混合机）设备参数选型表：型号 标准流量L/H输出转速rpm标准线速度m/s马达功率KW进口尺寸出口尺寸ERS 2000/4300-100014000442.2DN25DN15ERS 2000/5300010500447.5DN40DN32ERS 2000/10800073004415DN50DN50ERS 2000/202000049004437DN80DN65ERS 2000/304000028504455DN150DN125ERS 2000/407000020004490DN150DN125高端炭基材料高剪切乳化机，环保水性纳米碳材高速乳化机，碳纳米管材料高剪切乳化机，碳纳米复合母胶高剪切乳化机，液体黄金复合母胶高剪切乳化机混合机设备，超导电纳米碳材高速自吸粉混合机乳化机，炭黑高速自吸粉混合机设备。。。需要了解更多详情请致电上海依肯机械设备有限公司 销售工程师 徐蒙蒙 182-0189-1183，公司有样机可以免费为客户进行测试验证实验。

产品特点：GATTA-AFM纳米标尺具有准确、高度平行的结构，可以完美地用于检测或优化原子力显微镜。在实际环境中测试原子力显微镜可以达到的分辨率非常重要，不仅可以测出原子力显微镜达到产品标称分辨率的可能性，还可以测出实际使用时可达到的极限。如今GATTA也提供适合测试的GATTA-AFM纳米标尺，现在，有了GATTA原子力显微镜纳米标尺之后，就有了足够的测试样品，这些样本用DNA做成，呈现70nm*90nm*2nm（高）的长方体形状。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：

产品特点：GATTA-PAINT 系列纳米标尺是适用于各种定位技术的超高分辨显微镜的理想标尺。因为采用DNA PAINT技术实现亮暗转换，GATTA-PAINT 纳米标尺几乎不会淬灭。此外，标尺的设计中包含了三个荧光发射点，可以获取到醒目的图像。荧光标记间的距离有如下几个尺寸：20nm, 40nm, 80nm。每种距离都有如下几种颜色可供选购：红色（ATTO 647N），绿色（ATTO 542）或蓝色（Alexa Fluor 488），或者红/绿组合(ATTO 655/ ATTO 542)纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。碳纳米管MWCNTs

碳纳米管多壁，加上由分子式组改进，易溶于水行程可以稳定几个月的黑色、透明悬浮物。

GATTA-PAINT NANORULER纳米尺GATTA-PAINT系列的纳米尺是任何类型的基于定位的超分辨率显微镜的理想分辨尺。由于基于DNA PAINT技术的闪烁动力学机制，样品几乎没有光漂白。此外，包含三个发射点的设计可以获得非常引人注目的图像。我们为GATTA-PAINT纳米尺子提供40纳米和80纳米尺寸的标记距离。两种尺寸都有红色(ATTO 655)、绿色(ATTO 542)或黄色(ATTO 565)以及红色/绿色(ATTO 655和ATTO 542)或红色/黄色(ATTO 655和ATTO 565)可供选择。80nm纳米尺40nm 纳米尺80nm和40nm组合纳米尺