薄膜反射仪

光反射薄膜测厚仪原产国：美国薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。该产品是一款价格适中、功能强大的膜厚测量仪器，近几年，每年的全球销售量都超过200台。根据型号不同，测量范围可以从10nm到250um，它最高可以同时测量4个膜层中的3个膜层厚度（其中一层为基底材料）。该产品可应用于在线膜厚测量、测氧化物、SiNx、感光保护膜和半导体膜。也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。 应用领域理论上讲，我们的光干涉膜厚仪可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下为我们最熟悉的应用领域(半导体薄膜，光学薄膜涂层，在线原位测量，粗糙或弧度表面测量)：□ 晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...)；□ 晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...)；□ DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层；SOI硅片；□ MEMs厚层薄膜(100μm up to 250μm)；□ DVD/CD涂层；□ 光学镜头涂层；□ SOI硅片；□ 金属箔；□ 晶片与Mask间气层；□ 减薄的晶片( 120μm)；□ 瓶子或注射器等带弧度的涂层；□ 薄膜工业的在线过程控制；等等… 软件功能丰富的材料库：操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据，基本上的常用材料都包括在这个材料库中。用户也可以在材料库中输入没有的材料。软件操作简单、测速快：膜厚测量仪操作非常简单，测量速度快：100ms-1s。软件针对不同等级用户设有一般用户权限和管理者权限。软件带有构建材料结构的拓展功能，可对单/多层薄膜数据进行拟合分析，可对薄膜材料进行预先模拟设计。软件带有可升级的扫描功能，进行薄膜二维的测试，并将结果以2D或3D的形式显示。软件其他的升级功能还包括在线分析软件、远程控制模块等。

薄膜的光学特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射测量系统可以用来进行10nm~250µ m的膜厚分析测量，对单层膜的分辨率为0.1nm。根据测量软件的不同，可以分析单层或多层膜厚。产品特点 1、可分析单层或多层薄膜2、分辨率达0.1nm3、适合于在线监测操作理论最常用的两种测量薄膜的特性的方法为光学反射和透射测量、椭圆光度法测量。NanoCalc利用反射原理进行膜厚测量。查找n和k值可以进行多达三层的薄膜测量，薄膜和基体测量可以是金属、电介质、无定形材料或硅晶等。NanoCalc软件包含了大多数材料的n和k值数据库，用户也可以自己添加和编辑。应用NanoCalc薄膜反射材料系统适合于在线膜厚和去除率测量，包括氧化层、中氮化硅薄膜、感光胶片及其它类型的薄膜。NanoCalc也可测量在钢、铝、铜、陶瓷、塑料等物质上的抗反射涂层、抗磨涂层等。

台式薄膜探针反射仪 FTPadvFTPadv是一种具有成本效益的台式反射膜厚仪解决方案，它具有非常快速的厚度测量。在100毫秒以内进行测量，其精度低于0.3nm，膜厚范围在50 nm -25 μm。为了便于分光反射测量操作，该仪器包括了范围广泛的预定配方。 简易的膜厚测量通过选择合适的配方，FTPadv反射仪以小于100ms的测量速度、精度小于0.3nm、厚度范围为50nm-25μm的精度进行厚度测量。 独特的自动建模通过测量反射光谱和光谱数据库的比较，将测量误差减到很小。 光谱椭偏SE为基础的材料数据库基于SENTECH精确的椭偏光谱测量的大型材料库为测量新材料的光学常数提供了配方。 应用二十年来，SENTECH已经成功地销售了用于各种应用的薄膜厚度探针FTPadv。这种台式反射仪的特点是不管在低温或高温下，在工业或研发环境中，都能通过远程或直接控制，对小样品或大样品进行实时或在线厚度测量。 台式反射仪FTPadv精确、可重复地测量反射和透明衬底上透明和弱吸收膜的厚度和折射率。FTPadv可以结合在显微镜上，或者配备有稳定的光源，用于测量厚度达到25 μm (根据要求可更厚)的膜层。更具备了从SENTECH光谱椭偏仪经验中受益的预定义的、经由客户验证的、以及随时可以使用的应用程序的广泛数据库。 FTPadv的特征在于对来自叠层样品的任何膜层的厚度进行测量，使得FTPadv成为膜厚测量的理想成本效益的解决方案。用于工艺控制的FTPadv包括具有采样器的光纤束、具有卤素灯的稳定光源以及FTP光学控制站。局域网连接到PC允许了远程控制的FTPadv在工业应用，如恶劣环境，特殊保护空间或大型机械。 反射仪FTPadv带有大量预定义的配方，例如半导体上的介质膜、半导体膜、硅上的聚合物、透明衬底上的膜、金属衬底上的膜等等。独特的自动建模,这特性允许通过与光谱库的快速比较来检测样本类型。该反射仪将操作误差减到很小。用光学反射法测量膜厚从未如此容易。 SENTECH FTPadv菜单驱动的操作软件允许单层和叠层结构的厚度测量，具有极好的操作指导。此外，它还具有强大的分析工具和出色的报告输出功能。附加的自动扫描软件可用于控制电动样品台。将软件升级到用于反射测量的高级分析的软件包FTPadv EXPERT，即可应用于具有未知或不恒定光学特性的材料。因此，单层薄膜厚度测量以及折射率和消光系数分析是可实现的。 SENTECH FTPadv菜单驱动的操作软件允许单层和叠层结构的厚度测量，具有极好的操作指导。此外，它还具有强大的分析工具和出色的报告输出功能。附加的自动扫描软件可用于控制电动样品台。将软件升级到用于反射测量的高级分析的软件包FTPadv EXPERT，即可应用于具有未知或不恒定光学特性的材料。因此，单层薄膜厚度测量以及折射率和消光系数分析是可实现的。

耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 应用领域：可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如热扩散系数、热导率、吸热系数和界面热阻。 耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 产品特点：- 精确的微米级薄膜导热测量方法- 可提供RF测量模式（后加热-前检测）和FF测量模式（前加热-前检测）- Nano TR遵循国际校准标准 耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 技术参数：Nano TR温度范围RT，RT … 300°C（选配）测量模式RF/FF样品尺寸10×10 … 20×20mm薄膜厚度30nm … 20μm（取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 1ns光束直径 100μm激光功率 100mW详细参数，敬请垂询 *价格范围仅供参考，实际价格与配置、汇率等若干因素有关。如有需要，请向当地销售咨询。我们讲竭尽全力为您制定完善的解决方案。

反射高能电子衍射仪（ReflectionHigh-Energy Electron Diffraction）是观察晶体生长最重要的实时监测工具。它可以通过非常小的掠射角将能量为10～30KeV的单能电子掠射到晶体表面，通过衍射斑点获得薄膜厚度，组分以及晶体生长机制等重要信息。因此反射高能电子衍射仪已成为MBE系统中监测薄膜表面形貌的一种标准化技术。　　R-DEC公司生产的反射式高能电子衍射仪，以便于操作者使用的人性化设计，稳定性和耐久性以及拥有高亮度的衍射斑点等特长得到日本国内及海外各研究机构的一致好评和认可。用于有机薄膜晶体结构检测。世界首创！欢迎来电询问详细技术资料！

热反射（Thermo-Reflectance）方法基于超高速激光闪射系统，可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如：热扩 散系数、导热系数、吸热系数（Thermal Effusivity）和界面热阻。由于激光闪射时间仅为纳秒（ns）量级，甚至可达到皮秒（ps） 量级，此系统可测量厚度低至 10nm 的薄膜。同时，系统提供不同的测量模式，以适应不同的基片情况（透明 / 不透明）。 NETZSCH TR 特性：• 该方法符合日本国家标准：• JIS R 1689：通过脉冲激光热反射方法测量精细陶瓷薄膜的热扩散系数；• JIS R 1690：陶瓷薄膜和金属薄膜界面热阻的测量方法 。发展简史1990 年，日本产业技术综合研究所/日本国家计量院（AIST/NMIJ）发明热反射法，测量薄膜导热性能。2008 年，AIST 设立 PicoTherm 公司。2010 年，PicoTherm 公司推出纳秒级热反射系统 NanoTR。2012 年，PicoTherm 公司推出皮秒级热反射系统 PicoTR。2014 年，PicoTherm 公司和 NETZSCH 公司建立战略合作。由 NETZSCH 负责 PicoTherm 产品在全球的销售和服务。技术背景激光闪射法 -最主流的材料热扩散系数测试方法在现代工业中，关于材料的热性能、特别是热物理性能的相关知识变得日益重要。在这里我们可以举出一些典型领域，例如应用于高性能缩微电子器件的散热材料，作为持续能源的热电材料，节能领域的绝热材料，涡轮叶片中所使用的热障涂层（TBC），以及核工厂的安全操作，等等。在各种热物性参数之中，导热系数显得尤其重要。可以使用激光闪射法（LFA）对材料的热扩散系数/导热系数进行测定。这一方法经过许多年的发展已广为人知，可以提供可靠而精确的数据结果。样品的典型厚度在 50um 至 10mm 之间。NETZSCH 是一家世界领先的仪器制造厂商，提供一系列的热物性测试仪器，特别是激光闪射法导热仪。这些 LFA 系统在陶瓷，金属，聚合物，核研究等领域得到了广泛应用。热反射法 -测试厚度为纳米级的薄膜材料的热扩散系数随着电子设备设计的显著进步，以及随之而来的对有效的热管理的需求，在纳米级厚度范围内进行精确的热扩散系数/导热系数测量已经变得越来越重要。日本国家先进工业科学与技术研究所（AIST），在上世纪 90 年代初即已响应工业需求，开始研发“脉冲光加热热反射法”。于 2008 年成立了 PicoTherm 公司，同时推出了纳秒级的热反射仪器“NanoTR”与皮秒级的热反射仪器“PicoTR”，这两款仪器可对薄膜的热扩散系数进行绝对法的测量，薄膜厚度从数十微米低至纳米级范围。2014 年，NETZSCH 日本分公司成为了 PicoTherm 公司的独家代理。与我们现有的 LFA 仪器相结合，NETZSCH 现在可以提供从纳米级薄膜、到毫米级块体材料的全套的测试方案。为什么需要测试薄膜？薄膜的热性能与块体材料的热性能不同纳米级薄膜的厚度通常小于同类块体材料典型的晶粒粒径。由此，其热物理性能与块体材料将有着显著的不同。测量模式超快速激光闪射法 -RF 模式：后部（Rear）加热 / 前部（Front）探测可测试热扩散系数与界面热阻纳米级薄层与薄膜的热透过时间极短，传统的激光闪射法（LFA）使用红外测温，采样频率相对较低，已不足以有效地捕捉纳米级薄膜的传热过程。因此需要一种新的更快速的检测方式，可以克服经典的激光闪射法的技术局限。这一被称为超快速激光闪射法的技术，其典型模式为后部加热/前部探测方法。这一方式的测量结构与传统的 LFA 方法相同：样品制备于透明基体之上，测量方向为穿过样品厚度、与样品表面垂直。由加热激光照射样品的下表面，由探测激光检测样品上表面的传热温升过程。随着样品检测面的温度逐渐上升，其表面热反射率会相应发生变化。使用探测激光按一定采样频率对检测面进行照射，利用反射率的变化可获取检测面的温度上升曲线。基于该曲线进行拟合计算，可得到热扩散系数（如下图所示）。这里，金属薄膜（Mo）的热扩散系数测量结果为 15.9 mm2/s。时间域热反射法 -前部加热 / 前部探测（FF）测定热扩散系数与吸热系数除了 RF 方法之外，测量也可以使用前部加热/前部探测（FF）的结构进行。“Front”一词这里指的是沉积于基体上的薄膜的外表面，而“Rear”一词指的是薄膜与基体接触的一面。在 FF 测量配置中（如下图所示），加热激光与探测激光处于样品的同一面。加热激光加热的是薄膜的前表面的一个直径为几十微米的区域，探测激光则指向同一位置，观察在照射之后表面温度的变化。这一方法可以应用于非透明基体上的薄层材料，即 RF 方法不适合的场合。在下图的示例中，使用 FF 模式，金属薄膜（Mo）的热扩散系数测量结果为 16.1 mm2/s。结果证明了 RF 与 FF 模式之间结果高度的一致性（偏差2%）。NanoTR 原理NanoTR 具有先进的信号处理技术，可以进行高速的测量。测试过程中，一束脉冲宽度 1ns 的激光脉冲被周期性（间隔20us）地照射到样品的加热面上。使用探测激光记录检测面相应的温度响应。通过在极短时间内进行大量的重复测试，对重复信号进行累加，可以获得优异的信噪比。通过软件，仪器可以方便地在 RF 与 FF 两种测试方式之间进行切换，由此适合于各种类别的样品。NanoTR 遵从 JIS R 1689，JIS R 1690 标准，提供具有热扩散时间标准值的薄膜标样（RM1301-a），使结果具有 SI 可回溯性。该标样由 AIST 提供。PicoTR 原理对于皮秒级热反射分析仪 PicoTR，照射到样品的加热面上的是脉冲宽度仅为 0.5ps 的激光脉冲，重复周期为 50ns。使用探测激光，记录检测面相应的温度响应。PicoTR 允许用户在 RF 与 FF 两种模式之间进行自由切换。PicoTR 符合 JIS R 1689，JIS R 1690 标准。技术参数仪器型号NanoTRPicoTR温度范围RT，RT … 300°C（选配）RT，RT … 500°C（选配）测量模式RF/FFRF/FF样品尺寸10 × 10mm … 20 × 20mm10 × 10mm … 20 × 20mm薄膜厚度30nm … 20μm （取决于样品种类和测量模式）10nm … 900nm （取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 1ns 光束直径 100μm 激光功率 100mW脉冲宽度 0.5ps 光束直径 45μm 激光功率 20mW

耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 应用领域：可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如热扩散系数、热导率、吸热系数和界面热阻。 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 产品特点：- 精确的纳米级薄膜导热测量方法- 可提供RF测量模式（后加热-前检测）和FF测量模式（前加热-前检测）- Pico TR遵循国际校准标准 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 技术参数：Pico TR温度范围RT，RT … 500°C（选配）测量模式RF/FF样品尺寸10×10 … 20×20mm薄膜厚度10 … 900nm（取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 0.5ps光束直径 45μm激光功率 20mW详细参数，敬请垂询 *价格范围仅供参考，实际价格与配置、汇率等若干因素有关。如有需要，请向当地销售咨询。我们讲竭尽全力为您制定完善的解决方案。

反射/透射率积分球应用领域：材料的反射率/透射率测量不透明物体的反射率测试 浑浊样品的透射率测试颜色属性测试反射系统设计红外反射反射率与角度的关系 Labsphere的反射/透射率积分球可用于各种媒介的反射率和透射率测量。积分球内部涂料有两种选择：Spectraflect涂料，在300 – 2400 nm波长范围内效果较好；Infragold涂料适用于波长0.7 - 20 μm范围。 RT积分球有5个1英寸开口，可容纳样品和9°反射光束，在球的顶部有一个0.5英寸探测器口，镜面光束光阱用于去除镜面反射光束。 RTC积分球在RT积分球内增加了一个中心安装的样品架，用户可以针对一定角度测量反射率和透射率。积分球有5个开口可调节样品，顶部的中心安装平台装有参考光束，积分球底部有一个0.5英寸的探测器端口。 RT积分球和RTC积分球均能做任何几何角度测量。RT积分球可以测量镜面反射的9°/h结构和排出镜面反射9°/d结构；RTC除上述功能外还可测量变角度入射情况下的反射率。 积分球的开口处采用刀刃结构有助于收集大角度散射，挡板采用最小化设计，使得探测器能够非常大程度地看到球内壁表面。探测器口位于球的顶部和底部，使用挡板遮挡防止样品和参考口光束直接照射。RT-060-SF及RT-060-IG反射/透射率测试积分球 Labsphere的RT-060-XX积分球有5个1英寸的开口容纳样品和9°双光束结构结构中参考光束，也包括用于9°单光束结构测量中的端盖。两个1英寸的样品支架用于安装样品和反射/透射率标准板。积分球顶部具有0.5英寸的探测口，探测罩用以限制探测器视场范围。镜面光阱去除镜面反射光束。 积分球适合于镜面测量，包括非镜面反射测量，前散射和背散射测量，以及混浊或散射样品的透射率的测量。积分球的开口处采用刀刃形式有助于收集宽角度散射，阻挡效应可以最小化，允许有效的积分。为了保证高积分球效率，总开口面积应小于积分球表面积的5%。每个积分球拥有一个支架配件，由支杆底座和1/4-20支架组成，方便调节积分球的高度。 RTC-060-SF 和 RTC-060-IG反射率透射率积分球增加了中心样品架，方便用户测量反射率与辐射入射角度的关系，一些情况下，还能测透射率与辐射入射角度的关系。 RTC-060-IG 积分球具有5个开口来容纳样品和参考光束:三个1英寸、两个1.25英寸的开口。中心样品台安装在积分球的顶部，0.5英寸探测口在积分球底部。探测罩用于限制探测视场范围。 RTC 系列积分球配件包括四个样品架: 一个中心样品架，两个1.25英寸直径样品架和一个1英寸用于进一步灵活备用。中心样品架允许各种样品反射率与入射角度变化的测量。积分球包括颚式中心样品架，同时夹式和槽式中心样品架可供选择。颚式可以夹住1英寸*2英寸，最厚达0.38英寸的样品。夹式中心样品架设计用于薄膜或硬度不能承受颚式样品架的样品。夹式中心样品架可以夹住样品尺寸最大为1.50"x 2"x 0.125”的样品。槽式样品架为12.5平方毫米容器，可以承装液体和粉末，用于测试吸收和散射特性。订购信息及规格

苏州锂影科技有限公司薄膜X射线衍射仪（Mini版）苏州锂影科技有限公司锂影团队长期从事于X射线衍射仪的开发与应用研究，积累了丰富的项目经验。团队针对智能化快速X射线衍射仪已经开展了类德拜照相、多位样品台设计、多线程控制软件设计等相关基础研发工作。01 产品说明 Product Instructions薄膜X射线衍射仪（Mini版）是在丹东浩元DX27Mini型号粉末版仪器的基础上专门为薄膜样品研发而成的。薄膜样品一般指通过刮涂、喷涂、旋涂等方法在玻璃、硅片等基底上制备的纳米~微米级膜或通过吹塑、压片等方法直接得到的微米~毫米级膜。由于厚度较薄，因此在测试前需要对样品的水平性（omega和chi方向）和高度（Z）进行严格的校准，以保证样品恰好处于光路中且与直通光平行，否则将测不到样品的衍射信号。该款仪器配备了锂影科技开发的chi/Z两轴薄膜样品台。配合仪器原有的θs（亦称θ轴或omega轴）、θd轴（亦称2θ轴），可以进行薄膜水平与高度位置的对准，之后进行准确的X射线衍射（XRD）、X射线反射率（XRR）和面外掠入射X射线衍射仪（GIXRD）的测试，得到样品的结晶结构、晶相、微晶尺寸、取向、厚度、密度、粗糙度等信息。同时该仪器还配套了锂影科技二次开发的测试软件，采用中文界面，操作简单易学易用。02 技术参数 Technical Parameter1. X射线发生器：2.4kW；2. θ-θ测角仪： θs轴范围-5°~80°，最小步长0.0001°，重复精度0.0005°； θd轴范围-5°~80°，最小步长0.0001°，重复精度0.0005°；3. chi/Z两轴薄膜样品台： c轴范围-4°~4°，最小步长0.005°，重复精度0.005°； Z轴范围0-15mm，最小步长0.005mm，重复精度0.005mm；4. 封闭正比探测器（可升级为Mythen1D一维阵列探测器）5.可选配多层膜反射镜03 售后服务 After-sale Service1、免费上门安装：是 2、保修期：1年 3、是否可延长保修期：是4、保内维修承诺：免费上门指导5、报修承诺：24小时线上服务6、免费仪器保养：1年1次7、免费培训：工程师技术培训8、现场技术咨询：有 9、售后服务电话：

苏州锂影科技有限公司薄膜X射线衍射仪苏州锂影科技有限公司衍射仪高端个性化定制服01 产品说明 Product Instructions薄膜X射线衍射仪是在浩元DX2700BH衍射仪粉末版仪器的基础上专门针对薄膜样品研发的。薄膜样品一般指通过刮涂、喷涂、旋涂等方法在玻璃、硅片等基底上制备的纳米或微米级膜以及通过吹塑、压片等方法直接得到的微米或毫米级膜。由于厚度较薄，因此在测试前需要对样品的水平性（ω和χ方向）和高度（Z）进行严格的校准，以保证样品恰好处于光路中且与直通光平行，否则将测不到样品的衍射信号。02 技术参数 Technical Parameter该款仪器配备了锂影科技开发的chi/Z两轴薄膜样品台。配合仪器原有的θs（亦称θ轴或ω轴）、θd轴（亦称2θ轴），可以进行薄膜水平与高度位置的对准，之后进行准确的X射线衍射（XRD）、X射线反射率（XRR）和面外掠入射X射线衍射仪（GIXRD）的测试，得到样品的结晶结构、晶相、微晶尺寸、取向、厚度、密度、粗糙度等信息。同时该仪器还配套了锂影科技二次开发的测试软件，采用中文界面，操作简单易学易用。 03 售后服务 After-sale Service1、免费上门安装：是 2、保修期：1年 3、是否可延长保修期：是4、保内维修承诺：免费上门指导5、报修承诺：24小时线上服务6、免费仪器保养：1年1次7、免费培训：工程师技术培训8、现场技术咨询：有 9、售后服务电话：

一、概述 SR-C 紧凑型高精度反射膜厚仪，利用光学干涉原理，通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射光谱，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息。■ 光学薄膜测量解决方案；■ 非接触、非破坏测量；■ 核心算法支持薄膜到厚膜、单层到多层薄膜分析；■ 是膜厚重复性测量精度：0.02nm■ 配置灵活、支持定制化二、产品特点■ 采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖深紫外到近红外范围；■ 采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便；■ 基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析单层薄膜到多层；■ 配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息；三、产品应用 反射膜厚仪广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、涂层等薄膜测量。技术参数

QUASAR-R100 是一款体积小巧的光谱反射式膜厚、折射率测量仪器，操作简单，极易上手，应用广泛，快速准确的提供各种薄膜厚度的测量，如氧化物、氮化物、多晶硅、非晶硅、聚酰亚胺、透明导电层、光刻胶等介质薄膜、半导体薄膜以及各种涂层。产品特点 多参数测量可测量材料厚度、折射率（Refractive Index）、 消光系数（Extinction Coefficient）和反射率。 各种形状样品测量可测量例如4~8英寸的晶圆、方形样品或其他各种不规则形状样品。 软件功能丰富友善的用户界面以及灵活丰富的软件功能，各种丰富的数据分析及查看功能。 简单、易用测量流程简单，用户极易上手建立测量程式。 产品参数 ★Si基底上对厚度约500nm的SiO2薄膜样品连续测量30次数据的标准偏差 定制功能可根据客户需求搭配自动运动平台可根据客户需求配置小光斑

反射光谱膜厚仪SD-SR-100是一款专为薄膜厚度测量而设计的先进仪器。以下是对该产品的详细介绍：1. 测量范围与精度： - 该仪器能够测量从2纳米到3000微米的薄膜厚度，具有高达0.1纳米的测量精度。2. 测量功能： - 在折射率未知的情况下，SD-SR-100不仅可以测量薄膜的厚度，还能同时测量其折射率。 - 可用于测量半导体镀膜、手机触摸屏ITO等镀膜厚度、PET柔性涂布的胶厚、LED镀膜厚度、建筑玻璃镀膜厚度等多种应用场景。3. 测试原理： - 利用薄膜干涉光学原理进行厚度测量及分析。通过从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线，并根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。4.软件支持： - 配备易于安装和操作的基于视窗结构的软件，界面友好，操作简便。 - 软件功能强大，支持多层膜厚的测试，并可对多层膜厚参数进行测量。 - 提供大量的光学常数数据及数据库，支持多种折射率模型，如Cauchy, Cauchy-Urbach, Sellmeier等。5. 特点与优势： - 先进的光学设计和探测器系统，确保系统性能优越和快速测量。 - 光源设计独特，具有较好的光源强度稳定性。 - 提供多种方法来调整光的强度，以满足不同测量需求。 - 配备微电脑控制系统，大液晶显示和PLC操作面板，便于用户进行试验操作和数据查看。 - 支持自动和手动两种测量模式，以及实时显示测量结果的较小值、平均值以及标准偏差等分析数据。6. 应用领域： - 广泛应用于医疗卫生、生物产业、农业、印刷包装、纺织皮革等多个行业，特别是在薄膜分析领域表现出色。综上所述，反射光谱膜厚仪SD-SR-100凭借其高精度、多功能和广泛的应用领域，成为薄膜厚度测量领域的理想选择。

FR-pOrtable:一款精准&性价比高的薄膜表征设备 FR-pOrtable（便携式FR） 是一款独特设备，为精准测试单层或者 多层的透明和半透明的薄膜的光学特性提供了关键解决方案。使用 者可以在350nm-1000nm的特殊光谱范围内完成薄膜反射比的测试。 特征分析： FR-pOrtable是由一个微型3648像素16位分辨率的光谱仪和一个 高稳定的白炽灯和LED组成的混合光源组成的，光源的平均寿命 20000h。其紧凑型的设计和定制的反射探头保证了性能测试的高精准性以及可重复性。并且，既可以安装在台面上，又可以转化为手持式的厚度测试仪，轻松实现便携实时操作。性能分析：1、 USB接口供电，无需电源线。2、 真正的便携，用探头检测样品。3、 采用软塑料头，适合野外应用。4、 占地小，可以在办公室内表征薄膜特性。5、 市场最低价。软件：FR-Monitor软件系统提供了多种应用和多种功能的能力。它不但能够实时的监测吸光率，透射率和反射率光谱，而且也包含了用于精准测试独立的薄膜厚度（10nm到100μm）和光学常数（n&k）的白光反射光谱法（WLRS）运算（ThetaMetrisis TM），支持（在透明或者部分透明或者全反射的衬底上）多层薄膜（10层）的测试。不需要高深的光学知识，只要有基本的电脑技巧、一台电脑，轻松实现膜厚测量！用户评论暂无评论发评论问商家白光干涉测厚FR-pOrtable的工作原理介绍白光干涉测厚FR-p

产品特点： ? 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。? 高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱，分析多层薄膜厚度、光学常数（n：折射率，k消光系数）。? 宽阔的波长测量范围。（190nm-1100nm）? 薄膜到厚膜的膜厚测量范围。（1nm~250μm）? 对应显微镜下的微距测量口径。产品规格： 标准型厚膜专用型膜存测量范围1nm~40μm0.8μm~250μm波长测量范围190~1100nm750~850nm感光元件PDA 512ch（电子制冷）CCD 512ch（电子制冷）PDA 512ch（电子制冷）光源规格D2（紫外线）、12（可见光）、D2+12（紫外-可见光）12（可见光）电源规格AC 100V±10V 750VA（自动样品台规格）尺寸4810（H）×770（D）×714（W）mm（自动样品台规格之主体部分）重量约96kg（自动样品台规格之主体部分） 应用范围： FPD -LCD、TFT、OLED（有机EL）半导体、复合半导体 -矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料资料储存 -DVD、磁头薄膜、磁性材料光学材料 -滤光片、抗反射膜平面显示器 -液晶显示器、膜膜电晶体、OLED薄膜 -AR膜其他 -建筑用材料测量范围： 玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析

产品特点： ? 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。? 高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱，分析多层薄膜厚度、光学常数（n：折射率，k消光系数）。? 宽阔的波长测量范围。（190nm-1100nm）? 薄膜到厚膜的膜厚测量范围。（1nm~250μm）? 对应显微镜下的微距测量口径。产品规格： 标准型厚膜专用型膜存测量范围1nm~40μm0.8μm~250μm波长测量范围190~1100nm750~850nm感光元件PDA 512ch（电子制冷）CCD 512ch（电子制冷）PDA 512ch（电子制冷）光源规格D2（紫外线）、12（可见光）、D2+12（紫外-可见光）12（可见光）电源规格AC 100V±10V 750VA（自动样品台规格）尺寸4810（H）×770（D）×714（W）mm（自动样品台规格之主体部分）重量约96kg（自动样品台规格之主体部分） 应用范围： FPD -LCD、TFT、OLED（有机EL）半导体、复合半导体 -矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料资料储存 -DVD、磁头薄膜、磁性材料光学材料 -滤光片、抗反射膜平面显示器 -液晶显示器、膜膜电晶体、OLED薄膜 -AR膜其他 -建筑用材料测量范围： 玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析

产品简介：SR-C系列紧凑型高精度反射膜厚仪，利用光学干涉原理，通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射谱，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息。反射膜厚仪广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、涂层等薄膜测量。 产品型号SR-C系列紧凑型高精度反射膜厚仪主要特点1、光学薄膜测量解决方案2、非接触、非破坏测量3、覆盖单层到多层薄膜4、核心算法覆盖薄膜到厚膜5、配置灵活、支持定制化6、采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖可见光到近红外范围7、采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便8、基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析单层薄膜到多层9、配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息技术参数型号SR-CVSR-CN基本功能获取薄膜厚度值以及R、N/K等光谱光谱波长范围380-800nm650-1100nm测量厚度范围50nm-20um100nm-200um测量时间1s光斑尺寸0.5-3mm重复精度0.1nm（100nmSiO2/Si）绝对精度±1nm or 0.5%入射角方式垂直入射可选配件1温控台2Mapping扩展模块3真空泵

一、概述 SR-Mapping 系列利用反射干涉的原理进行无损测量，通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射谱，同时搭配R-Theta位移台，兼容6到12寸样品，可以对整个样品进行快速扫描，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息，并对于膜厚均匀性做出评价。■ 光学薄膜测量解决方案；■ 非接触、非破坏测量；■ 核心算法支持薄膜到厚膜、单层到多层薄膜分析；■ 膜厚重复性测量精度：0.02nm■ 全自动测量，测量点数跟位置在Recipe中可根据需要编辑 ■ 采用高强度卤素灯光源，光谱覆盖紫外可见光到近红外范围；■ 采用光机电高度整合一体化设计，体积小，操作简便；■ 基于薄膜层上界面与下界面的反射光相干涉原理，轻松解析单层薄膜到多层；■ 配置强大核心分析算法：FFT分析厚膜、曲线拟合分析法分析薄膜的物理参数信息；三、产品应用 广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、金属膜、涂层等薄膜测量。技术参数

总部位于德国柏林科技园区的SENTECH仪器公司，已成为光伏生产设备世界市场之 一.我们是一家快速发展的中型公司，拥有60多名员工，他们是我们有价值的资产我们団 队的每个成员都为公司的成功做出贡献，我们总是在寻找与我们志同道合的新工作伙伴，我 们诚挚期待您的加入。薄膜测量仪器反射膜厚仪RM 1000和RM 2000扩展折射率指数测量极限我们的反射仪的特点是通过样品的高度和倾斜调整进行精确的单光束反射率测量，光学布局的高光导允许对n和kffl 行重复测量，对粗糙表面进行测量以及对非常薄的薄膜进行厚度测量. 紫外-近红外光谱葩围 RM 1000 430 nm-930 nm RM 2000 200 nm - 930 nm 高分辨率自动扫描 反射仪RM 1000和RM 2000可以选配x-y自动扫描台和自动扫描软件、用于小光斑尺寸的物镜和摄像机。综合薄膜测量软件FTPadv Expert宽光谱范围和高光谱精度 SENresearch4.0光谱椭偏仪覆盖宽的光谱范围，从190 nm（深紫外）到3500 nm（近红外）。 傅立叶红外光谱仪FTIR提供了高光谱分辨率用以分析厚度高达200|jm的厚膜。 没有光学器件运动（步进扫描分析器原理） 为了获得测量结果,在数据采集过程中没有光学器件运动。步进扫描分析器（SSA）原理是SENrsearch4.0光谱椭偏仪的一个独特特性。 双补偿器2C全穆勒矩阵测量 通过创新的双补偿器2C设计扩展了步进扫描分析器SSAJ京理，允许测量全穆勒矩阵。该设计是可现场升 级和实 现成本效益的附件。 SpectraRay/4综合椭偏仪软件 SpectraRay/4是用于先进材料分析的全功能软件包,SpectraRay/4包括用于与引导图形用户界面进 行研究的交互 模式和用于常规应用的配方模式.激光椭偏仪SE400adv亚埃精度稳定的氣氤激光器保证了 0.1埃精度的超薄单层薄膜厚度测量。 扩展激光欄偏仪的极限 性能优异的多角度手动角度计和角度精度优越的激光椭偏仪允许测量单层薄膜和层叠膜的折 射率、消光系数和膜厚. 高速测量 我们的激光椭偏仪SE 400adv的高速测量速度使得用户可以监控单层薄膜的生长和终点检 测，或者做样品均匀性的自动扫描。综合薄膜测量软件FTPadvExp测量n, k,和膜厚 该软件包是为R（入）和T（入）测量的高级分析而设计的。 查层膜分析 可以测量单个薄膜和层畳膜的每一层的薄膜厚度和折射率. 大量色散模型 集成的色散模型用于描述所有常用材料的光学特性。利用快速拟合算法，通过改变模型参数 将计算得到的光谱调整到实测光谱。

用于非接触式测量的薄膜表征系统我们提供完整的薄膜厚度测量系统系列，可测量 5 nm 至 200 µ m 的厚度，用于分析单层和/或多层薄膜在不到一秒的时间内完成。 StellarNet 薄膜反射测量系统由与反射探头和光源耦合的紧凑型 USB 光谱仪组成。光学特性通过反射获得，厚度通过检测样品镜面反射率的正弦条纹图案来测量。有多种薄膜系统可满足您的薄膜和/或光学测量要求。TF-VIS –（厚度范围：10nm-75um 波长范围：400nm -1000 nm）大多数半透明或微吸收薄膜都可以快速可靠地测量：氧化物、氮化物、光刻胶、聚合物、半导体（Si、aSi、polySi）、硬质涂层（SiC、DLC）、聚合物涂层（Paralene、PMMA、聚酰胺）、金属薄膜等等。应用包括 LCD、FPD：ITO、单元间隙、聚酰胺。光学涂层：介质滤光片、硬度涂层、减反射涂层半导体和电介质：氧化物、氮化物、OLED 堆栈。TF-UVVIS-SR –（厚度范围：1nm- 75um 波长范围：200nm -1000nm）允许测量低至 1nm 的更薄薄膜用紫外-可见光。 UV-VIS 光谱仪和 UV-VIS 光源的硬件升级。光纤必须通过 -SR（耐日晒性）来增强，以便传输和收集额外的紫外线信号。

反射膜厚仪RM 1000和RM 2000反射膜厚仪RM 1000/2000具有200nm-930nm的紫外-近红外光谱范围。光学布局为光吞吐量优化，以便即使在粗糙或曲面上也能可靠地测量n和k。精确的高度和倾斜特别适用于精确的单光束反射率测量，且测量非常稳定。 扩展折射率指数测量极限我们的反射仪的特点是通过样品的高度和倾斜调整进行精确的单光束反射率测量，光学布局的高光导允许对n和k进行重复测量，对粗糙表面进行测量以及对非常薄的薄膜进行厚度测量。 紫外-近红外光谱范围RM 1000 430?nm?–?930?nmRM 2000 200?nm?–?930?nm 高分辨率自动扫描反射仪RM 1000和RM 2000可以选配x-y自动扫描台和自动扫描软件、用于小光斑尺寸的物镜和摄像机。 反射膜厚仪RM 1000和RM 2000测量具有光滑或粗糙表面的平坦或弯曲样品的反射率。利用SENTECH FTPadv Expert软件计算单层或层叠膜的厚度、消光系数和折射率指数。在紫外-可见光- 近红外光谱范围内，可以分析5nm～50μm厚度的单层膜、层叠膜和基片。 RM 1000和RM 2000代表高端SENTECH反射仪。台式装置包括高度稳定的光源、具有自动准直透镜和显微镜的反射光学部件、高度和倾斜可调的样品台、光谱光度计和电源。它可以选配x-y自动扫描台和自动扫描软件、用于小光斑尺寸的物镜和摄像机。 除了膜厚和光学常数之外，我们的反射仪还可以测量薄膜(例如，AlGaN on GaN，SiGe on Si)、防反射涂层(例如，纹理硅太阳能电池上的防反射涂层、紫外敏感GaN器件上的防反射涂层)，以及小型医用支架上的防反射涂层。该反射仪支持在微电子、微系统技术、光电子、玻璃涂层、平板技术、生命科学、生物技术等领域的应用。

桌面式X射线衍射仪在X射线光束通过索拉狭缝、发散狭缝照射在样品上，样品台位于测角仪中心，基于反射几何θs-θd，X射线光束在满足布拉格定律时，在特定的方向上发生衍射现象，经过防散射狭缝、索拉狭缝、接收狭缝到达X射线探测器上，最终经过数据处理系统在分析软件上展现出采集的衍射图谱。FRINGE EV是公司自主研发的一款桌面式X射线衍射仪器，其融合XRD和计算机软件等多项技术，可快速对粉末、块状或薄膜等形态的样品进行主要物相定性、定量分析、晶体结构分析、材料结构分析及结晶度测定，具有精度高、准确度高、稳定性好、应用范围广、操作简便和智能化等特点，为材料研究、大学及研究院所、建筑材料、金属、矿物、塑料制品、医药品和半导体等众多领域提供高精度的分析。使用优势空气弹簧大橱窗升降门空气弹簧大橱窗升降门，节约桌面空间，适合每一台办公桌，有效提高空间利用率。桌面式千瓦级功率FRINGE EV拥有强悍的KW级功率，让他成为桌面式XRD领域无与伦比的收割机。适合所有人的XRDCrystalX在获得衍射数据后，自动进行物相分析，并给出物相各组分百分比，大大降低了使用人员的要求，仅仅需要点击“开始测试”，其它交给CrystalX软件 吧。安全性具有在测试过程中自动切断保护装置、安全联动锁装置，样品舱关闭后属于全封闭性能，操作界面有样品舱关闭提示功能。集成式索拉狭缝集成式索拉狭缝，无任何运动可调部件，增加测角系统的可靠性，从而使得界FRINGE桌面式XRD可安装于车载实验室平台。DPPC探测器DPPC探测器（数字脉冲处理计数探测器），计数吞吐量≥1×10^7CPS，无需使用二级单色仪，DPPC探测器在提供衍射数据的同时提供能量色散光谱数据。规格参数测角仪θ/θ立式测角仪、衍射圆半径 150mm2θ角度范围-3° - +150°2θ角度精度全谱范围内＜±0.02°偏差分辨率0.04°2θ 半峰宽FWHM索拉狭缝集成式索拉狭缝，无任何运动可调部件，增加测角系统的可靠性平台X光管金属陶瓷 X 射线管，焦点：1 x 10 mm，默认配置Cu靶，可选配 Co、Cr、Mo靶高压发生器功率标配1200W，最大支持1600W仪器尺寸580 x 450x 680mm（L×W×H）重量120KG电源220V±10V，50Hz，整机功率 最大值2000W散热方式FRINGE EV使用外置水循环冷却系统，强力冷却澎湃动力探测器DPPC探测器（数字脉冲处理计数探测器）接口紧凑的家用墙插插头提供电源，USB接口连接PC用于控制XRD气源提供2路气源接口，可用于原位分析或气氛保护安全性FRINGE EV具有空气弹簧大橱窗升降门，可无死角观察原位分析过程，并可有效屏蔽X射线，具有在测试过程中自动切断的保护、安全联动锁装置，样品舱关闭后属于全封闭性能，操作界面有样品舱关闭提示功能云端服务功能配套使用可同步的移动端APP服务，用于支持衍射数据卡片化管理，并支持接入知识管理系统CrystalX软件CrystalX在获得衍射数据后，自动进行物相分析，并给出物相各组分百分比，大大降低了使用人员的要求，无需手动检索，无需扣背景，无需平滑，无需手动寻峰，仅仅需要点击“开始测试”，其它交给CrystalX 软件 吧

FR-pOrtable:一款精准&性价比高的薄膜表征设备 FR-pOrtable（便携式FR） 是一款独特设备，为精准测试单层或者 多层的透明和半透明的薄膜的光学特性提供了关键解决方案。使用 者可以在350nm-1000nm的特殊光谱范围内完成薄膜反射比的测试。 特征分析： FR-pOrtable是由一个微型3648像素16位分辨率的光谱仪和一个 高稳定的白炽灯和LED组成的混合光源组成的，光源的平均寿命 20000h。其紧凑型的设计和定制的反射探头保证了性能测试的高精准性以及可重复性。并且，既可以安装在台面上，又可以转化为手持式的厚度测试仪，轻松实现便携实时操作。性能分析：1、 USB接口供电，无需电源线。2、 真正的便携，用探头检测样品。3、 采用软塑料头，适合野外应用。4、 占地小，可以在办公室内表征薄膜特性。5、 市场最低价。软件：FR-Monitor软件系统提供了多种应用和多种功能的能力。它不但能够实时的监测吸光率，透射率和反射率光谱，而且也包含了用于精准测试独立的薄膜厚度（10nm到100μm）和光学常数（n&k）的白光反射光谱法（WLRS）运算（ThetaMetrisis TM），支持（在透明或者部分透明或者全反射的衬底上）多层薄膜（10层）的测试。不需要高深的光学知识，只要有基本的电脑技巧、一台电脑，轻松实现膜厚测量！用户评论暂无评论发评论问商家白光干涉测厚FR-pOrtable的工作原理介绍白光干涉测厚FR-p

产品介绍：1.产品特点 利用反射模式来确定薄膜厚度，组成和界面粗糙度； 利用掠射实验来对薄膜进行相分析； 用配备数字显示的千分尺来控制样本的位置校准； 能够手动调节样品架的倾斜度。 2.适用仪器 STADI P、STADI MP

仪器介绍 Delta薄膜厚度测量系统利用薄膜干涉光学原理，对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面，探头同位接收反射光线。Delta根据反射回来的干涉光，用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm，可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜，还可以测量n和k值。产品特点快速、准确、无损、灵活、易用、性价比高应用案例应用领域半导体（SiO2/SiNx、光刻胶、MEMS，SOI等）LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亚酰胺ITO等)LED (SiO2、光刻胶ITO等）触摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率测试等)汽车(防雾层、Hard Coating DLC等）医学（聚对二甲苯涂层球囊/导尿管壁厚药膜等）技术参数型号Delta-VISDelta-DUVDelta-NIR波长范围380-1050nm190-1100nm900-1700nm厚度范围50nm-40um1nm-30um10um-3mm准确度12nm1nm10nm精度0.2nm0.2nm3nm入射角90°90°90°样品材料透明或半透明透明或半透明透明或半透明测量模式反射/透射反射/透射反射/透射光斑尺寸22mm2mm2mm是否能在线是是是扫描选择XY可选XY可选XY可选注：1.取决于材料0.4%或2nm之间取较大者。 2.可选微光斑附件。

材料的热物理性质以及最终产品的传热优化在工业应用领域变得越来越重要。经过几十年的发展，闪射法已经成为常用的用于各种固体、粉末和液体热导率、热扩散系数的测量方法。薄膜热物性在工业产品中正变得越来越重要，如：相变光盘介质、热电材料、发光二极管（LED ） ，相变存储器、平板显示器以及各种半导体。在这些工业领域中，特定功能沉积膜生长在基底上以实现器件的特殊功能。由于薄膜的物理性质与块体材料不同，在许多应用中需要专门测定薄膜的参数。基于已实现的激光闪射技术，LINSEIS TF-LFA 薄膜导热测试仪(Laserflash for thin films)可以测量80nm——20μm厚度薄膜的热物理性质。1.瞬态热反射法（后加热前检测（RF））:由于薄膜材料的物理性质与基体材料显著不同，必需要有相应的技术来克服传统激光闪射法的不足，即瞬态热闪射法。测量模型与传统激光闪射法相同：检测器和激光器在样品两侧。考虑到红外探测器测试薄膜太慢，因此检测是通过热反射方法完成的。该技术的原理是材料在加热时，表面反射率的变化可最终用于推导出热性能。测量反射率随时间的变化，得到的数据代入包含的系数模型里面并快速计算出热性能。2. 时域热反射法（前加热前检测（FF））:时域热反射技术是另一种测试薄层或薄膜热性能（热导率，热扩散率）的方法。测量方式的几何构造被称为“前加热前检测（FF）”，因为检测器和激光在样品上的同一侧。该方法可以应用于非透明基板上不适合使用RF技术的薄膜层。3. 瞬态热反射法（RF）和时域热反射法（FF）相结合:两种方法可以集成在一个系统中并实现两者优点的结合。温度范围*RT RT -- 500°C-100°C -- 500°C 激光器 Nd:YAG 激光脉冲电流≤90mJ (软件控制)脉宽8 ns激光探头HeNe-激光器 (632nm), 2mW前端热反射 Si-PIN-Photodiode, 有效直径: 0.8 mm, 直流电压 … 400MHz, 响应时间: 1ns后端热反射quadrant diode, 有效直径: 1.1 mm直流电压 … 100MHz, 响应时间: 3.5ns测量范围0,01 mm2/s -- 1000 mm2/s样品直径圆形样品 φ10...20 mm 样品厚度80 nm -- 20 μm样品数量6样品自动进样器气氛惰性、氧化性、还原性真空度10E-4mbar电路板集成式接口USB *可更换炉体*价格范围仅供参考，实际价格与配置等若干因素有关。如有需要，请拨打电话咨询。我们定会将竭尽全力为您制定完善的解决方案。

产品简介：SGC-10薄膜测厚仪，适用于介质，半导体，薄膜滤波器和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。该薄膜测厚仪，是与美国new-span公司合作研制的，采用new-span公司先进的薄膜测厚技术，基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数（折射率n，消光系数k）。它通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱，用相应的软件来拟合运算，得到单层或多层膜系各层的厚度d，折射率n，消光系数k。产品型号SGC-10薄膜测厚仪主要特点1、非接触式测量，用光纤探头来接收反射光，不会破坏和污染薄膜；2、测量速度快，测量时间为秒的量级；3、可用来测薄膜厚度，也可用来测量薄膜的折射率n和消光吸收k；4、可测单层薄膜，还可测多层膜系；5、可广泛应用于各种介质，半导体，液晶等透明半透明薄膜材料；6、软件的材料库中整合了大量材料的折射率和消光系数，可供用户参考；7、内嵌微型光纤光谱仪，结构紧凑, 光纤光谱仪也可单独使用。8、强大的软件功能：界面友好，操作简便，用户点击几下鼠标就可以完成测量。便捷快速的保存、读取测量得到的反射谱数据数据处理功能强大，可同时测量多达四层的薄膜的反射率数据。一次测量即可得到四层薄膜分别的厚度和光学常数等数据。材料库中包含了大量常规的材料的光学常数数据。用户可以非常方便地自行扩充材料数据库。9、仪器具有开放性设计，仪器的光纤探头可很方便地取出，通过仪器附带的光纤适配器（如图所示）连接到带C-mount适用于微区（10μm，与显微镜放大率有关）薄膜厚度的显微镜（显微镜需另配），就可以使本测量仪测量。技术参数1、厚度范围： 20nm-50um（只测膜厚），100nm-25um（同时测量膜厚和光学常数n，k），根据薄膜材料的种类，其范围有所不同。2、准确度： 1nm或0.5%3、重复性： 0.1nm4、波长范围： 380nm-1000nm5、可测层数： 1-4层6、样品尺寸： 样品镀膜区直径1.2mm7、测量速度： 5s-60s8、光斑直径： 1.2mm-10mm可调9、样品台： 290mm*160mm10、光源： 长寿命溴钨灯（2000h）11、光纤： 纯石英宽光谱光纤12、探测器： 进口光纤光谱仪13、电源：AC110V-240V，50HZ-60HZ产品规格尺寸：300mm*300mm*350mm，重量：18kg

产品介绍：1.产品特点 反射模式适用于不能使用透射或者毛细管技术的所有情况，例如：金属材料，涂层材料，薄膜材料，甚至大尺寸成品样品的测试； 测试样品放置于带有样品槽的零背景衬板上。 2.适用仪器 STADI P、STADI MP

【仪器介绍】SGC-10型薄膜测厚仪，适用于介质，半导体，薄膜滤光片和液晶等薄膜和涂层的厚度测量，是天津港东与美国new-span公司合作研制的，采用new-span公司先进的薄膜测厚技术，基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数（折射率n，消光系数k）。通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱，用软件来拟合运算，得到单层或多层膜系各层的厚度d，折射率n，消光系数k。设备关键部件均为国外进口，也可根据客户需要整机进口。【产品配置及参数】编号名称规格1厚度范围20nm-50um（只测膜厚），100nm-10um（同时测量膜厚和光学常数n，k）根据薄膜材料的种类，其范围有所不同。2准确度1nm或0.5%3重复性0.1nm4波长范围380nm-1000nm5可测层数1-4层6样品尺寸样品镀膜区直径1.2mm7测量速度5s-60s8光斑直径1.2mm-10mm可调9样品台290mm*160mm10光源长寿命溴钨灯（2000h）11光纤纯石英宽光谱光纤12探测器进口光纤光谱仪13电源AC100V-240V，50HZ-60HZ14重量18kg15尺寸300mm*300mm*350mm 【强大的软件功能】界面友好，操作简便，用户点击几下鼠标就可以完成测量。便捷快速的保存、读取测量得到的反射谱数据数据处理功能强大，可同时测量多达四层的薄膜的反射率数据。一次测量即可得到四层薄膜分别的厚度和光学常数等数据。材料库中包含了大量常规的材料的光学常数数据。用户可以非常方便地自行扩充材料数据库。 【产品功能适用性】该仪器适用于多种介质，半导体，薄膜滤光片和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。 【典型的薄膜材料】SiO2、CaF2、MgF、光刻胶、多晶硅、非晶硅、SiNx、TiO2、聚酰亚胺、高分子膜。 【典型的基底材料】SiGe、GaAs、ZnS、ZnSe、铝丙烯酸、蓝宝石、玻璃、聚碳酸酯、聚合物、石英。 仪器具有开放性设计，仪器的光纤探头可很方便地取出，通过仪器附带的光纤适配器（如图所示）连接到带C-mount适用于微区（10μm，与显微镜放大率有关）薄膜厚度的显微镜（显微镜需另配），就可以使本测量仪测量。

仪器简介：光谱薄膜测试仪 Spectro-Refelctometer for Thin Film Measurement 应用领域: IC fab, MEMS, LED, solar cell, photonics, nano technologies. 设备特性: Angstrom Sun 光谱反射仪广泛用于各种透明、半透明薄膜测试. &bull 广泛用于检测各种薄膜的厚度, 包括oxide, nitride, photo resist, metal oxide, ITO. &bull 膜厚范围可自20nm 到5000nm. 可选各种光谱范围, 自UV 200nm到IR 1700nm. &bull 可具有高达12&rdquo 直径自动 mapping 功能，软件功能强大.技术参数：光谱薄膜测试仪 Spectro-Refelctometer for Thin Film Measurement 应用领域: IC fab, MEMS, LED, solar cell, photonics, nano technologies. 设备特性: Angstrom Sun 光谱反射仪广泛用于各种透明、半透明薄膜测试. &bull 广泛用于检测各种薄膜的厚度, 包括oxide, nitride, photo resist, metal oxide, ITO. &bull 膜厚范围可自20nm 到5000nm. 可选各种光谱范围, 自UV 200nm到IR 1700nm. &bull 可具有高达12&rdquo 直径自动 mapping 功能，软件功能强大.