磁控溅射仪

一、项目基本情况项目编号：0705-2240 02012003项目名称：上海期智研究院磁控溅射仪采购预算金额：300.0000000 万元（人民币）最高限价（如有）：300.0000000 万元（人民币）采购需求：包件号项目数量简要技术规格备注1磁控溅射仪1套配置304L不锈钢超高真空不锈钢反应腔体，预留RHEED、RGA等接口，后续可按需升级。沉积腔室可升级集成9个2英寸超高真空溅射靶枪。预算：人民币300万元。 合同履行期限：交货期：收到预付款后8到10个月内。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求：1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定；2.落实政府采购政策需满足的资格要求：（1） 投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织；（2） 投标人应为投标产品的制造商或其合法代理商，代理商投标应提供投标产品的制造商针对本项目的唯一授权；（3） 投标人须在投标截止期之前在国家商务部认可的机电产品招标投标电子交易平台（以下简称机电产品交易平台，网址为：http://www.chinabidding.com）上完成有效注册；（4） 本项目不允许联合体投标；（5） 本项目不允许分包和转包（代理商中标后提供由其投标文件中承诺的投标产品制造商生产的产品不视为转包）。 3.本项目的特定资格要求：（1） 投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织；（2） 投标人应为投标产品的制造商或其合法代理商，代理商投标应提供投标产品的制造商针对本项目的唯一授权；（3） 投标人须在投标截止期之前在国家商务部认可的机电产品招标投标电子交易平台（以下简称机电产品交易平台，网址为：http://www.chinabidding.com）上完成有效注册；（4） 本项目不允许联合体投标；（5） 本项目不允许分包和转包（代理商中标后提供由其投标文件中承诺的投标产品制造商生产的产品不视为转包）。三、获取招标文件时间：2022年08月02日 至 2022年08月09日，每天上午8:30至11:00，下午13:00至17:00。（北京时间，法定节假日除外）地点：上海国际招标有限公司电子采购平台方式：电子发售售价：￥500.0 元，本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间：2022年08月31日 09点30分（北京时间）开标时间：2022年08月31日 09点30分（北京时间）地点：上海国际招标有限公司电子采购平台五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜供应商首次注册应按要求提供《供应商注册专用授权函和承诺书》（可从供应商注册页面下载）和营业执照等扫描件，供应商应当提前准备，尽早办理，以免影响领购招标文件。已注册的潜在投标人可从网站采购公告栏的相应公告或者网站上方“SITC电子采购平台”中进入在线领购招标文件流程。若公告要求提供其他领购资料的，潜在投标人应当上传相关资料的原件扫描件，否则招标代理有权拒绝向其出售招标文件。无需提供领购资料的项目，潜在投标人提交领购申请并支付费用到账后即可下载电子招标文件。项目经理会将纸质招标文件快递给潜在投标人，电子发票将发至投标人登记的邮箱。七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。1.采购人信息名 称：上海期智研究院     地址：上海市徐汇区云锦路701号40-41层        联系方式：徐瑞；021-54652653      2.采购代理机构信息名 称：上海国际招标有限公司            地 址：中国上海延安西路358号美丽园大厦14楼            联系方式：胡羡聪、刘洲烨；86-21-32173682            3.项目联系方式项目联系人：胡羡聪、刘洲烨电 话：  86-21-32173682

自从2020年Quantum Design中国子公司将英国Moorfield nanotechnology公司生产的台式高精度薄膜制备与加工系统引进国内市场以来受到了国内科研工作者的广泛关注。Moorfield Nanotechnology推出的台式设备体积小巧但性能可以和大型设备相媲美，并且自动化程度高、操作简单、性能可靠、配置灵活。设备所具有的这些优点正是现代实验所需要的。Moorfield Nanotechnology长期收集用户的需求并对产品线进行不断的优化丰富，以满足各种个性化的实验需求。近年来，越来越多的前沿研究中需要用到多种薄膜制备手段，而传统的设备往往只有一种薄膜制备功能，制备一个样品就需要先后在不同的设备中进行操作，并且容易对样品的性质造成破坏。针对这样的需求，Moorfield Nanotechnology公司全新推出了台式高精度溅射与热蒸发系统——nanoPVD ST15A。该系统可以集成金属/绝缘体溅射、金属热蒸发、有机物蒸发功能，在同一台设备中可以实现多种制备手段的组合，将薄膜制备带入了新的高度。系统通过7英寸触摸屏控制，自动化程度高，各种制备方式可以自由切换，甚至可以同时进行。用户可以通过灵活的制备手段在在同一台设备中制备不同的薄膜或者是复合薄膜。nanoPVD ST15A外观图设备技术特点☛ 台式设备配置灵活☛ 磁控溅射、热蒸发、有机物蒸发☛ 三种制备手段可灵活组合☛ 可制备金属、有机物、电介质薄膜☛ 多达3个流量计控制过程气体☛ 高精度自动气压控制选件☛ 全自动触屏操作系统☛ 基片大至4英寸☛ 可选基片加热☛ 本底真空5 × 10-7 mbar☛ 可选共溅射（蒸发）功能☛ 可选晶振膜厚标定功能☛ 定义保存多个制备程序☛ 全面的安全性设计☛ 超净间兼容☛ 稳定的性能左：nanoPVD ST15A 双蒸发源与磁控溅射组合，右：系统的样品台与挡板背景介绍Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作，推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能优异、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。这些设备已经进入了欧洲多所科研院所的实验室，诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国国家物理实验室等单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展，并迈入全球化的进程。Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作，作为中国的代理和战略合作伙伴，为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。目前国内已有包括清华大学、西湖大学、大连理工大学、广东工业大学、中科院等多个单位采购了不同型号的Moorfield高性能薄膜制备与加工设备。产品链接1、台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD

一、项目基本情况项目编号：0664-2260SUMEC787D项目名称：东南大学微纳系统国际创新中心磁控溅射镀膜仪采购预算金额：260.0000000 万元（人民币）最高限价（如有）：260.0000000 万元（人民币）采购需求：东南大学微纳系统国际创新中心采购磁控溅射镀膜仪 一套本项目接受进口产品。合同履行期限：合同签约后12个月到货安装调试合格。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求：1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定；2.落实政府采购政策需满足的资格要求：本项目若符合扶持福利企业、促进残疾人就业、支持中小微企业、支持监狱和戒毒企业等政策， 将落实相关政策。3.本项目的特定资格要求：（1）供应商必须是所投产品的制造商或代理商，若投标人不是投标产品制造商的，投标人必须具有下列授权文件之一（本条只适用于进口产品）：a.供应商必须提供制造商出具的授权函正本； b.制造商的国内全资子公司出具的授权函正本； c.制造商对授权的区域代理商出具的授权函复印件及该区域代理商出具的授权函正本； d.投标人取得的产品代理证书复印件(正本备查)。4.拒绝下述供应商参加本次采购活动：（1）供应商单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，不得参加同一合同项下的政府采购活动。（2）凡为采购项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商，不得再参加本项目的采购活动。（3）供应商被“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）、“中国政府采购网"(www.ccgp.gov.cn)列入失信被执行人、税收违法黑名单、政府采购严重违法失信行为记录名单。三、获取招标文件时间：2023年01月05日 至 2023年01月11日，每天上午9:00至11:00，下午14:00至17:00。（北京时间，法定节假日除外）地点：线上方式：在线获取售价：￥600.0 元，本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间：2023年01月29日 09点30分（北京时间）开标时间：2023年01月29日 09点30分（北京时间）地点：南京市长江路198号苏美达大厦辅楼303会议室,五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜申请人的资格要求：1、满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定：（1）具有独立承担民事责任的能力（提供法人或者其他组织的营业执照，自然人的身份证明）；（2）具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度（提供参加本次政府采购活动前半年内（至少一个月）的会计报表或者上一年度的财务审计报告，成立不足一年的提供开标前六个月内的银行资信证明原件。）；（3）具有履行合同所必需的设备和专业技术能力（根据项目需求提供履行合同所必需的设备和专业技术能力的证明材料）； （4）有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录（提供参加本次政府采购活动前半年内（至少一个月）依法缴纳税收和社会保障资金的相关材料）；（5）参加政府采购活动前三年内，在经营活动中没有重大违法记录（提供参加本次政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明）（格式见后附件）。（6）法律、行政法规规定的其他条件。2、凭以下材料获取：（1）获取采购文件材料：1、营业执照【复印件加盖公章，扫描件】2、介绍信或者法定代表人授权书【原件加盖公章，扫描件，开具日期不得早于公告日期】3、委托代理人身份证【复印件加盖公章，扫描件】4、采购文件获取登记表word版【详见招标公告附件】（2）凡有意参加本次采购活动的供应商必须提供第（1）条规定证件登记并获取，不按规定获取的视为获取失败。3、我司提供了在线获取采购文件服务，操作流程如下：（1）、用微信关注我司公众号“苏美达达天下”。（2）、进入公众号-“在线服务”-“在线购标”。（3）、输入本项目的项目编号，举例：0664-2260SUMEC787D，点击查询。添加您所要获取的采购文件到购物车，输入投标单位名称、领购人信息以及发票信息，提交订单并确认微信支付，支付完成后将报名材料扫描件和登记表word版一并发至采购代理机构联系人：焦立阳，邮箱：jiaoly_work@163.com 即可，我们将会把采购文件电子版发送到领购人的邮箱。注意事项：（1）确保领购人邮箱真实准确无误，电子版采购文件将发送到此邮箱。（2）目前标书费发票支持开标现场领取或者顺丰到付。（3）“苏美达达天下”付款平台填写的投标单位名称必须与开票信息一致。如不一致投标人自行承担后果。请认真填写领购人信息及发票信息。（4）非采购代理机构或平台公司原因，发票一经开具不予退换。4、疫情防控期间注意事项（本项目采取在线流程）：在线流程：因疫情原因，本项目进行线上开标，请供应商尽量提前准备投标文件，以便及时送达代理机构指定的地点。供应商按照不见面开标通知（附件1）的要求参加开标会议。如因投标文件未及时送至代理机构造成的后果由供应商自负。七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。1.采购人信息名称：东南大学地址：南京市玄武区四牌楼2号联系方式：技术咨询：微纳系统国际创新中心：贺老师 电话：025-83792632 分机号8806； 实验室与设备管理处：刘加彬 电话：025-83792693。2.采购代理机构信息名称：苏美达国际技术贸易有限公司地址：南京市长江路198号苏美达大厦联系方式：项目联系人：杨 扬、焦立阳 电话：025-84532455、025-845324523.项目联系方式项目联系人：杨 扬、焦立阳电话：025-84532455、025-84532452

项目编号：N5101012023000011项目名称：红外光谱仪、磁控溅射镀膜机、X-射线衍射仪采购项目采购方式：公开招标预算金额：2,400,000.00元采购需求：详见采购需求附件合同履行期限：采购包1：自合同签订生效后起10日内采购包2：自合同签订生效后起10日内采购包3：自合同签订生效后起10日内本项目是否接受联合体投标：采购包1：不接受联合体投标采购包2：不接受联合体投标采购包3：不接受联合体投标8a69c98f85909e000185957d38207018.docx

p style="text-align: justify text-indent: 2em "span style="text-indent: 28px "薄膜沉积是集成电路制造过程中必不可少的环节，传统的薄膜沉积工艺主要有物理气相沉积（/spanspan style="text-indent: 28px "PVD/spanspan style="text-indent: 28px "）、化学气相沉积（/spanspan style="text-indent: 28px "CVD/spanspan style="text-indent: 28px "）等气相沉积工艺。物理气相沉积/spanspan style="text-indent: 28px "(Physical Vapour Deposition/spanspan style="text-indent: 28px "，/spanspan style="text-indent: 28px "PVD)/spanspan style="text-indent: 28px "技术是在真空条件下，采用物理方法，将材料源/spanspan style="text-indent: 28px "——/spanspan style="text-indent: 28px "固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。/span/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "仪器信息网近期特对一年内的spanPVD/span设备的中标讯息整理分析，供广大仪器用户参考。span style="color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px "（注：本文搜集信息全部来源于网络公开招投标平台，不完全统计分析仅供读者参考。）/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "span style="text-align: center "img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 240px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/a2ad4457-7ade-41a5-b0c8-6b0bfc0f3001.jpg" title="1.png" alt="1.png" width="400" height="240" border="0" vspace="0"/ /span/pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"各月中标量占比/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "span2019/span年span10/span月至span2020/span年span9/span月，根据统计数据，spanPVD/span设备的总中标为span218/span台，涉及金额上亿元。span2019/span年span10/span月至span12/span月，平均中标量约span25/span台每月。span2020/span上半年，由于疫情影响，span1/span月至span4/span月中标市场持续低迷，平均中标量约span5/span台每月，其中二月份无成交量。随着国内疫情稳定以及企业复产复工和高校复学的逐步推进，spanPVD/span设备中标市场活力回升，从二月份到七月份中标量不断增长，其中span7/span月spanPVD/span中标量达span27/span台。第三季度的spanPVD/span设备采购基本恢复正常，平均中标量约span24/span台每月。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 252px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/98f0aae5-cd0b-4c37-a638-6e07e56be8b6.jpg" title="2.png" alt="2.png" width="400" height="252" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"采购单位性质分布/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "从spanPVD/span设备的招标采购单位来看，高校是采购的主力军，采购量占比高达span68%/span，而企业和科研院所的采购量分别占比span12%/span和span19%/span。值得注意的是，企业和科研院所采购设备的单价较高，集中于高端设备，高校采购低端设备比例略高。企业方面的采购单位主要为电子产业，高校方面的采购单位以大学为主。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 265px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/16cf7cf8-1078-4811-92cb-06cb57740068.jpg" title="3.png" alt="3.png" width="400" height="265" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"招标单位地区分布/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "本次盘点，招标单位地区分布共涉及span25/span个省份、自治区及直辖市。广东、北京、浙江、江苏和湖北为spanPVD/span设备采购排名前span5/span的地区，其中广东的采购量最大，达span32/span台。在这些地区中，上海、浙江和江苏的spanPVD/span设备采购以高校为主力，北京以科研院所和高校采购为主力，只有湖北以企业采购为主。这主要是因为湖北武汉聚集了国内一批半导体企业，如武汉天马微电子有限公司和湖北长江新型显示产业创新中心有限公司，致力于打造“中国光谷”。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 233px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/35dfbb36-d83c-4bcf-894d-3a587cdd8da8.jpg" title="4.png" alt="4.png" width="400" height="233" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"不同类型spanPVD/span设备占比/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "spanPVD/span设备种类繁多，包含了磁控溅射、蒸发镀膜、真空镀膜等类型。根据搜集到的中标数据可知，磁控溅射占据了中标spanPVD/span设备的主流、高达span72%/span的spanPVD/span设备采购为磁控溅射。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪span 70 /span年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "本次spanPVD/span设备中标盘点，涉及品牌有泰科诺、spanKurt J. Lesker/span、创世威纳、spanMoorfield/span、spanLeica/span、合肥科晶、spanVEECO Instruments Inc./span、spanTeer Coatings Ltd./span、spanQUORUM/span、span style="font-size:15px"Syskey/spanspan style="font-size:15px"、spanApplied Materials ,lnc./span、spanULVACInc/span、株式会社昭和真空/span等。/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"其中，各品牌比较受欢迎的产品型号有：/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/08db5967-4529-4f60-88a7-518f97a384c8.jpg" title="5.jpg" alt="5.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/sh102205/C242800.htm"span style="font-size:15px"span三靶射频磁控溅射镀膜仪/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"这是一款小型台式span3/span靶等离子溅射仪span(/span射频磁控型span)/span，配有三个span1/span英寸的磁控等离子溅射头和射频（spanRF/span）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。这款span1/span英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度。/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/c7c1521d-c5b9-4668-b178-66ac2ce7cd98.jpg" title="6.jpg" alt="6.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/sh101374/C191053.htm"span style="font-size:15px"span双靶磁控溅射仪/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px" /spanspan style="font-size: 15px "双靶磁控溅射仪是沈阳科晶自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。/spanspan style="font-size: 15px "VTC-600-2HD/spanspan style="font-size: 15px "双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪，一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜，一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。/span/pp style="text-indent: 0em text-align: center "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2ed2b9b6-bb58-4779-ab5e-aa97cdaaaa2b.jpg" title="7.jpg" alt="7.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/SH104149/C283599.htm"span style="font-size:15px"span科特莱思科热阻蒸发镀膜系统/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"这款仪器由预真空进样室（可选）前开门蒸发腔体、冷凝泵和干泵、多个热阻蒸发源或spanOLED/span低温蒸发源、span6”/span基片、基片旋转、基片偏压（可选）、离子源清洗基片（可选）、基片加热span1000/span度span(/span可选span)/span等部分构成。晶振沉积速率及膜厚控制可选择系统手动或自动控制等方式，能够沉积金属、半导体和绝缘材料，还可沉积多层膜及合金薄膜。/spanspan style="font-size: 15px " /span/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"点击此处进入/spanspana href="https://www.instrument.com.cn/list/sort/241.shtml"span style="font-size:15px"span【span半导体行业专用仪器span】/span/span/span/span/a/spanspan style="font-size:15px"专场，获取更多产品信息。/span/pp style="text-indent: 29px text-align: center "span style="font-size:15px"更多资讯请扫描下方二维码，关注【材料说】/span/pp style="text-indent: 28px text-align: center "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2a630f7c-a2f9-4376-bd8c-911592840aa9.jpg" title="材料说.jpg" alt="材料说.jpg"//p

据广州南沙发布消息，6月28日，广州市南沙区在明珠湾大桥桥面举办重大项目集中签约动工竣工（投产）暨明珠湾大桥通车活动。76个项目于当天集中签约、动工竣工（投产），涵盖新能源汽车、芯片等先进制造产业。在当天的签约仪式上，10个重点项目分两批进行现场签约，总投资额160亿元，达产产值796亿元，其中包括湾区半导体高端设备智造基地。据介绍，湾区半导体高端设备智造基地是先导集团拟在南沙投资建现代化的半导体设备产业园，项目建成后拥有生产各类镀膜沉积设备、磁控溅射设备、离子蚀刻设备及交钥匙工程的综合生产能力。先导集团目前已掌握核心专利和工艺技术，项目产品将拥有100%自主产权，满足半导体产业链国产化替代的需求。广州南沙发布消息指出，目前，南沙正积极促进第三代半导体与新能源汽车产业的融合创新，成立第三代半导体创新中心，形成以晶科电子、芯粤能、爱思威为代表，以联晶智能、芯聚能为龙头的从晶圆生产到芯片设计、封装及应用的第三代半导体全产业链，为将来三千亿级新能源汽车产业集群发展提供“芯”能量。

近年来，随着量子材料研究的兴起对薄膜制备方法的需求更加的多样化，而传统的薄膜制备设备往往只有一种薄膜制备功能，制备一个样品就需要先后在不同的设备中进行操作，并且容易对样品的性质造成破坏，也需要更多的科研经费投入。英国Moorfield Nanotechnology公司立足于多种成熟的薄膜制备设备，并长期收集用户的需求并对产品线进行不断的优化丰富，以满足各种个性化的实验需求。针对目前日趋多样化的需求，Moorfield Nanotechnology公司全新推出了台式高精度溅射与热蒸发系统——nanoPVD ST15A。该系统可以集成金属/绝缘体溅射、金属热蒸发、有机物蒸发功能，在同一台设备中可以实现多种制备手段的组合，将薄膜制备带入了新的高度。有别于传统台式系统仅用于制备电极等简单用途，nanoPVD ST15A系统是真正的学术研究级设备，可以制备多种高质量的薄膜样品。体统通过7英寸触摸屏控制，自动化程度高，各种制备方式可以自由切换。用户可以通过灵活的制备手段在在同一台设备中制备不同的薄膜或者是复合薄膜。nanoPVD ST15A外观图设备技术特点☛ 台式设备配置灵活☛ 磁控溅射、热蒸发、有机物蒸发☛ 三种制备手段可灵活组合☛ 可制备金属、有机物、电介质薄膜☛ 多达3个流量计控制过程气体☛ 高精度自动气压控制选件☛ 全自动触屏操作系统☛ 基片大至4英寸☛ 可选基片加热☛ 本底真空5 × 10-7 mbar☛ 可选共溅射（蒸发）功能☛ 可选晶振膜厚标定功能☛ 定义保存多个制备程序☛ 全面的安全性设计☛ 超净间兼容☛ 稳定的性能左：nanoPVD ST15A 双蒸发源与磁控溅射组合，右：系统的样品台与挡板 背景介绍Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作，推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能优异、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。这些设备已经进入了欧洲多所科研院所的实验室，诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国国家物理实验室等单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展，并迈入全球化的进程。Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作，作为中国的代理和战略合作伙伴，为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。目前国内已有包括清华大学、西湖大学、大连理工大学、广东工业大学、中科院等多个单位采购了不同型号的Moorfield高性能薄膜制备与加工设备。

为了支撑集成电路产业快速发展，集成电路高端装备制造已经上升为国家战略。破解集成电路产业“卡脖子”问题，一大关键是实现高端装备制造的自主可控。（1）自主创新面向后摩尔时代集成电路领域高水平科技自立自强的重大需求，亟需打破垄断、突破相关高端装备关键制造技术。北京航空航天大学赵巍胜教授团队创新突破超高精度复杂薄膜制备、多靶超高真空共溅射技术，超高真空下超快磁光测量技术，离子束调控设备高真空集成、离子束能量连续精确调节技术，超高真空互联和无磁传输技术，研制全球首套原子尺度界面自旋电子的原位实时表征与调控系统，应用于自旋芯片相关技术研究，并对关键技术突破进行产业化应用推广。超高真空磁控溅射设备（2）追求卓越团队从2017年开始进行自旋芯片制造和测试核心设备工程化开发：超高真空磁控溅射设备，薄膜沉积精度达到单原子层级别；多物理场高分辨率磁光克尔显微镜，关键技术指标如磁场反应特征时间达到400 ns；晶圆级磁光克尔测试仪可用于自旋芯片生产过程中的晶圆薄膜性质精确表征。系列自旋芯片材料制备和表征仪器的研制成功和推广应用，填补了相关领域的空白，促进了我国自旋芯片和集成电路产业的独立自主发展。晶圆级磁光克尔测试仪（3）产学研结合目前团队基于技术推广应用，联合致真精密仪器（青岛）有限公司和合肥致真精密设备有限公司两家仪器设备公司，完成超高真空高精度磁控溅射仪等3类设备的研制和量产，相关成果已应用于清华大学、中科院物理所、北京超弦存储器研究院、中国电科集团、电子科技大学、上海科技大学、中国计量大学、吉林大学等行业顶尖单位，实现了集成电路领域若干“卡脖子”设备的国产替代，推动了自旋芯片产业发展，取得了显著的经济效益和社会效益，累计创造经济产值7000余万元。2023年10月，“原子尺度界面自旋电子的原位实时表征与调控系统”项目荣获中国仪器仪表学会科技进步一等奖。

一、项目基本情况1、项目编号：豫财招标采购-2023-12202、项目名称：河南省科学院中原量子谷仪器共享中心四期建设项目3、采购方式：公开招标4、预算金额：29,311,200.00元最高限价：29311200元序号包号包名称包预算（元）包最高限价（元）1豫政采(2)20231986-1包1：X射线光电子能谱仪644000064400002豫政采(2)20231986-2包2：X射线粉末射仪（落地式）、电子顺磁共振波谱仪、磁控溅射镀膜系统、热蒸发镀膜仪、电化学工作站953120095312003豫政采(2)20231986-3包3：有机元素分析仪、傅里叶变换红外光谱仪、瞬态稳态荧光光谱仪、原子力显微镜616400061640004豫政采(2)20231986-4包4：电感耦合等离子体发射光谱仪、拉曼光谱仪、高级流变仪拓展系统、形状测量激光显微系统、圆二色谱仪717600071760005、采购需求（包括但不限于标的的名称、数量、简要技术需求或服务要求等）5.1项目地点：郑州（采购方指定地点）5.2招标范围：河南省科学院中原量子谷仪器共享中心四期建设项目：包含X射线光电子能谱仪、X射线粉末射仪（落地式）、电子顺磁共振波谱仪、磁控溅射镀膜系统、热蒸发镀膜仪、电化学工作站、有机元素分析仪、傅里叶变换红外光谱仪、瞬态/稳态荧光光谱仪、原子力显微镜、电感耦合等离子体发射光谱仪、拉曼光谱仪、高级流变仪拓展系统、形状测量激光显微系统、圆二色谱仪等仪器配套设施的采购、安装、调试、验收及质保服务等工作。5.3标包划分：本招标项目共划分两个标包。5.4计划供货安装周期：包1：签订合同后240日历天内完成供货、安装；包2：签订合同后180日历天内完成供货、安装；包3：签订合同后180日历天内完成供货、安装；包4：签订合同后180日历天内完成供货、安装。5.5质量要求：合格，满足采购人要求。6、合同履行期限：详见招标文件要求。7、本项目是否接受联合体投标：否8、是否接受进口产品：是9、是否专门面向中小企业：否二、获取招标文件1.时间：2023年11月21日 至 2023年11月27日，每天上午00:00至12:00，下午12:00至23:59（北京时间，法定节假日除外。）2.地点：登录河南省公共资源交易中心（http://www.hnggzy.net）；3.方式：凭CA密钥市场主体登录并在规定时间内按网上提示下载招标文件及资料；投标人需要完成信息登记及CA数字证书办理，才能通过省公共资源交易平台参与交易活动，具体办理事宜请查询河南省公共资源交易中心网站-公共服务-办事指南-新交易平台使用手册（培训手册））。4.售价：0元三、凡对本次招标提出询问，请按照以下方式联系1. 采购人信息名称：河南省科学院地址：郑州市郑东新区龙子湖湖心岛崇德街与明理路交叉口西南角联系人：何老师联系方式：0371-657200102.采购代理机构信息（如有）名称：河南豫信招标有限责任公司地址：郑州市郑东新区商务外环路3号中华大厦16、19层联系人：周圆芳 刘梦柯 李玉龙 张娜联系方式：0371-69092276/613119023.项目联系方式项目联系人：周圆芳 刘梦柯 李玉龙 张娜联系方式：0371-69092276/61311902

微塑料通常被定义为尺寸小于5 mm的塑料碎片，在海洋、陆地、淡水系统中均有所发现，对环境安全和生物健康均有一定程度的影响。更令人担忧的是，微塑料通过机械磨损、光降解和生物降解等作用会进一步分解，形成尺寸更小的微塑料甚至是纳米塑料。它们的危害可能更大，因为它们可以穿过生物膜并容易在不同组织间转移，如果吸入空气中的微纳塑料甚至可以穿过肺组织。据已有的研究显示，应用在微塑料检测的传统技术仅能检测到10 μm 左右的大小，远远不能满足当前和未来研究的需要。因此，迫切需要开发适用于小尺寸微纳塑料的检测新方法。表面增强拉曼光谱（SERS）技术是一种强有力的基于拉曼光谱的原位分析技术。一般来说，分子的拉曼效应很弱。然而，当这些分子被吸附在贵金属（例如金和银）的粗糙表面时，分子的拉曼效应会大大提高。甚至可以在单分子水平上获得高灵敏度。在我们之前的研究工作中，首次报道利用SERS技术实现了环境纳米塑料的检测（EST, 2020, 54(24): 15594）。但是，采用的商业化Klarite基底的高昂成本使其不适宜广泛大规模的应用。因此，本研究利用一种低成本的具有大量有序的V型纳米孔阵列的阳极氧化铝（AAO）模板，通过磁控溅射或离子溅射将金纳米粒子沉积在模板上，开发得到用于小尺寸微纳塑料检测的 SERS 基底（AuNPs@V-shaped AAO SERS substrate）。由于AAO模板中纳米孔阵列特殊的V型结构以及有序规则的排列，使得AuNPs@V-shaped AAO SERS基底可以提供大量“热点”和额外的体积增强拉曼效应，在检测微塑料时表现出高 SERS 灵敏度。图1 摘要图本研究首先使用不同尺寸（1 μm、2 μm和5 μm）的聚苯乙烯（PS）和聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）两种标准样品在AuNPs@V-shaped AAO SERS基底和硅基底上进行检测，并计算相应的增强因子（图2、图3）。结果显示，单个PS和PMMA两种颗粒在硅基底上均不能检测到1 μm的尺寸大小，且其他尺寸的拉曼信号强度也相对较弱。而在AuNPs@V-shaped AAO SERS基底上，在相同的检测条件下，各尺寸的单个PS和PMMA颗粒的拉曼信号强度大大增强，且1 μm的PS和2 μm的PMMA都有拉曼信号检出。增强因子的计算结果显示，使用AuNPs@V-shaped AAO SERS基底检测单个微塑料颗粒可获得最大20倍的增强效果。此外，通过比较磁控溅射和离子溅射两种沉积方式所分别形成的基底检测微塑料的拉曼光谱结果和增强因子计算结果，我们可以得出磁控溅射所形成的基底具有更好的检测性能。这个结果可以联系到SERS基底的扫描电镜表征结果（图4）进行解释，磁控溅射所形成的金纳米层更加细腻平整，而离子溅射所形成的金纳米层出现了一定的团聚，导致形貌结构较为粗糙，因此信号强度有所减弱。图2：PS的拉曼检测。（a）不同尺寸的单个PS颗粒在硅基底上的拉曼光谱；（b）显微镜下不同尺寸的单个PS颗粒在硅基底上的形态分布；（c）不同尺寸的单个PS颗粒在离子溅射形成的SERS基底上的拉曼光谱；（d）不同尺寸的单个PS颗粒在磁控溅射形成的SERS基底上的拉曼光谱；（e）显微镜下不同尺寸的单个PS颗粒在磁控溅射形成的SERS基底上的形态分布；（f）显微镜下不同尺寸的单个PS颗粒在离子溅射形成的SERS基底上的形态分布；（g）增强因子的箱线图。图3：PMMA的拉曼检测。（a）不同尺寸的单个PMMA颗粒在硅基底上的拉曼光谱；（b）显微镜下不同尺寸的单个PMMA颗粒在硅基底上的形态分布；（c）不同尺寸的单个PMMA颗粒在离子溅射形成的SERS基底上的拉曼光谱；（d）不同尺寸的单个PMMA颗粒在磁控溅射形成的SERS基底上的拉曼光谱；（e）显微镜下不同尺寸的单个PMMA颗粒在磁控溅射形成的SERS基底上的形态分布；（f）显微镜下不同尺寸的单个PMMA颗粒在离子溅射形成的SERS基底上的形态分布；（g）增强因子的箱线图。图4：AAO模板和SERS基底的扫描电镜表征。（a）空白的AAO模板；（b）经过离子溅射形成的SERS基底；（c）经过磁控溅射形成的SERS基底；（d）（e）微塑料标准样品在基底上的形态分布。之后，本研究采集了雨水作为大气样品，对基底检测实际样品的能力进行了测试。采集到的雨水样品经过过滤、消解等前处理后，被滴加在基底上进行后续的拉曼检测，获得若干疑似微塑料的拉曼光谱。通过将这些采集到的拉曼光谱与标准微塑料样品的拉曼光谱进行比对，找到了雨水样品中所含有的微纳塑料颗粒，证实了大气中微塑料颗粒的存在以及基底检测实际样品的能力。图5：雨水样品的检测。（a）在基底上发现的疑似微塑料颗粒，尺寸约为2 μm × 2 μm；（b）疑似微塑料颗粒的拉曼光谱。该研究了提出了一种新型的适用于环境微纳塑料检测的低成本SERS基底，具备热点均一、增强效果好的优点，有望推广到环境各介质中微纳塑料的检测，为尺寸更小的纳米塑料检测分析提供了新方法。

p　　近日，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室金春水研究团队在极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究方面取得新进展：通过采用遗传算法，实现了Φ200mm曲面基底上极紫外多层膜膜厚分布控制精度优于± 0.1%，镀膜引起的不可补偿面形误差小于0.1nmRMS，相关指标达到国际先进水平。相关结果在线发表于近期的Optics Letters(dx.doi.org/10.1364/OL.40.003958)上。/pp　　极紫外多层膜反射镜是极紫外光刻系统的核心光学元件。极紫外光刻系统需要高性能的极紫外多层膜，包括高反射率、低应力、高稳定性和高均匀性。对于极紫外光刻系统中的投影物镜，必须对镀制在其上的极紫外多层膜进行超高精度的膜厚分布控制，以便实现波长匹配和减小镀膜引起的面形误差。/pp　　该研究团队采用遗传算法，完成了磁控溅射源特性参数的反演和用于控制膜厚分布的公转调速曲线的反演，避免了直接测量磁控溅射速率空间分布的繁琐过程，减少了极紫外多层膜膜厚控制工艺的迭代次数，大大降低了获得超高膜厚分布精度极紫外多层膜反射镜的工艺成本。/pp　　该工作得到了“国家科技重大专项-02专项”项目经费的支持。/pp style="text-align: center "img src="http://img1.17img.cn/17img/images/201512/insimg/23f88bde-dfca-408c-bbba-0cd143198760.jpg" title="W020151215486777681302.png" width="600" height="225" border="0" hspace="0" vspace="0" style="width: 600px height: 225px "//pp style="text-align: center "长春光机所极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究获进展/ppbr//p

x射线多层膜在静态和超快x射线衍射中的应用x射线光学组件类型根据x射线和物质作用的不同原理和机制，目前主流的x射线光学组件可以大致分为四类：以滤片、窗片、针孔光阑为代表的吸收型组件；基于反射，全反射原理的各种镜片以及毛细管、波导等反射型器件，还有基于折射原理的各种复折射镜。而本文的主题多层膜镜片，其底层原理和晶体、光栅、波带片一样，都是基于衍射原理。吸收型反射型折射型衍射型滤片窗口针孔/光阑镜片：kb、wolter、超环面镜… … 毛细管：玻璃毛细管、金属镀层毛细管复折射镜：抛物面crl、菲涅尔crl、马赛克crl、… … 晶体光栅多层膜波带片多层膜的原理和工艺一般来说，反射型镜片存在“掠射角小、反射率低”的问题。而多层膜镜片则是通过构建多个反射界面和周期，并使反射界面等周期重复排列，相邻界面上的反射线有相同的相位差，就会发生干涉，如果相位差刚好为2pi的整数倍，则会干涉相长，得到强反射线。从布拉格公式可以看出：多层膜就是通过对d值的控制，来实现波长选择的人工晶体。而在工艺实现方面，目前制备x射线多层膜镜的主要工艺有：磁控溅射、电子束蒸镀、离子束蒸镀。一般使用较多的是磁控溅射或离子束镀膜工艺，即在基板上交替沉积金属和非金属层，通过选择材料，控制镀膜的厚度及周期的选定，实现对硬x射线到真空紫外波段的光的调制。上图为来自德国incoatec的四靶材磁控溅射镀膜系统。可实现多种膜系组合的高精度镀膜。[la/b4c]40 多层膜b-kα（183ev）用多层膜，d：10nm单层膜厚：1-10nm0.x nm的镀膜精度tem: 完美的镀层界面frank hertlein, a.e.m. 2008上图为40层la-b4c多层膜的剖面透射电镜图像和选区电子衍射，弥散的衍射环说明膜层是非晶结构。同时可以明显看到：周期为10nm的膜层界面非常清晰和规则。这套镀膜系统可获得0.x nm的镀膜精度。多层膜的特点示例—单色和塑形多层膜最显著的特点和优势在于可以通过基底的面型控制和镀层的膜厚控制，将x光的塑形和单色统一起来。当然，这是以精度极高的镀膜工艺为前提。下图的数据展示了进行梯度渐变镀膜时，从镜片一端到另一端镀膜的周期设计数值 vs. 实际工艺水平。可以看到：长度为150mm的基底上，单层镀膜膜厚需要控制在3.8-5.7nm，公差需要在1%以内。相当于在1500公里的长度上，厚度起伏要控制mm水平。这是非常惊人的原子层级的工艺水平。frank hertlein, a.e.m. 2008通过面型控制来实线x射线的塑形；通过极高精度的膜厚控制实现2d值渐变—继而实现单色；0.x nm尺度的镀膜误差——需要具备原子层级的工艺水平！多层膜的特点示例—带宽和反射率除了可以通过曲面基底和梯度镀膜实现对x光的塑形和单色，还可通过对膜层材料、膜厚、镀膜层数等参数的设计和控制，来实现带宽和反射率的灵活调整。如窄带宽的高分辨多层膜，以及宽带宽的高积分反射率多层膜。要实现高分辨：首先要选择对比度较低的镀膜材料，如be、c、b4c、或al2o3；其次减小膜的厚度，多层膜的厚度降为10~20å；最后增加镀膜层数，几百甚至上千。from c. morawe, esrf多层膜的特点示例—和现有器件的高度兼容左侧: [ru/c]100, d = 4 nm r 80% for 10 e 22 kev中间: si111 δorientation0.01°右侧: [w/si]100, d = 3 nm r 80% for 22 e 45 kevdcmm at sls, switzerland, m. stampanoni精密、灵活的膜层设计和镀膜控制镀膜材料的组合搭配；d/2d值的设计和控制；带宽和反射率的灵活调整。和现有器件的高度兼容多层膜主流应用方向目前，多层膜的主流应用方向和场景主要有：粉末、x射线荧光、单晶衍射以及同步辐射的单色、衍射、散射装置搭建。粉末衍射x射线荧光单晶衍射同步辐射基于dac的原位高压静态x射线衍射典型的静高压研究中，常利用金刚石对顶砧来获得一些极端条件。在极端的高压、高温下，利用x射线来诊断新的物相及其演化过程是重要的研究手段。x-ray probe利用金刚石对顶砧可以获得极端条件(数百gpa, 几千°c) 利用x射线探针来诊断和发现新物相；由于对x光源、探测器以及实验技术等方面的苛刻要求，尤其是需要将微束的x光，精准的穿过样品而不打到封垫上。长期以来，基于dac的x射线高压衍射实验只能在同步辐射实现。但同步辐射有限的机时根本无法满足庞大的用户需求。不能在实验室进行基于dac的x射线高压衍射实验和样品筛选，一直是广大高压科研群高压衍射实验室体的一大痛点。以多层膜镀膜工艺为技术核心，将多层膜镜片与微焦点x光源耦合，我们可以为科研用户提供单能微焦斑x射线源，使得在实验室实现高压衍射成为可能。下图是利用mo靶（左）和ag靶（右）单能微焦斑x射线源获得的dac加载下的lab6样品的衍射图。曝光时间300s，探测器为ip板，样品和ip板距离为200mm。可以看到：300s曝光获得的衍射数据质量是可接受的。特别地，对于银靶，由于其能量更高，可以压缩倒易空间，在固定的2thelta角范围内，可以获得更多的衍射信息，这对于很多基于dac的静高压应用来说非常有吸引力。dac加载下的lab6样品的衍射数据：多层膜耦合mo靶（左）和ag靶（右）曝光时间300s，探测器为ip板，样品和ip板距离为200mmbernd hasse, proc. of spie vol. 7448, 2009 (doi: 10.1117/12.824855)基于激光驱动超快x射线衍射在利用激光驱动的x射线脉冲进行超快时间分辨研究中，泵浦探针是常用的技术手段。脉宽为几十飞秒的入射激光经分束后，一路用于激发超快x射线脉冲，也就是探针光；另一路经倍频晶体倍频作为泵浦光。通过延时台的调节，控制泵浦激光和x射线探针到达样品的时间间隔，可实现亚皮秒量级时间分辨的测量。而在基于激光驱动的超快x射线衍射实验中，如何提升样品端的光通量？如何获得低发散角的单色光束？如何抑制飞秒脉冲的时间展宽？如何同时兼顾以上的实验要求？都是需要考虑的问题。很多时候还需要兼顾多个技术指标，所以我们非常有必要对各类光学组件和x射线飞秒脉冲源的耦合效果和特点有一个比较清晰的认知。四种光学组件和激光驱动x射线源的耦合效果对比首先我们先对弯晶、多层膜镜、多毛细管和单毛细管四种组件的聚焦效果有个直观的了解。以下是将四种光学组件和激光驱动飞秒x射线源耦合，然后进行了对比。四种光学组件在聚焦和离焦位置的光斑：激光参数：800nm/1khz/5mj/45fs源尺寸：10um 打靶产额：4*109 photons/s/sr这是四种组件的理论放大倍率和实测聚焦光斑的对比。可以看到：弯晶和多层膜的工艺控制精度很高，实测光斑和理论值比较接近。而毛细管的大光斑并不是工艺精度的误差，而是反射型器件的色差导致的，不同能量的光都会对聚焦光斑有贡献，导致光斑较大。而各种组件的工艺误差，导致的强度不均匀分布，则是在离焦位置处的光斑中得到较为明显的体现。ge(444)双曲弯晶多层膜镜片单毛细管多毛细管放大倍率1270.7收集立体角 (sr)+---++反射率--+++-有效立体角 (sr)---+++1维会聚角 (deg)+---++耦合输出通量(ph/s)---+++聚焦尺寸 (μm)2332155105光谱纯度好好差差时间展宽 (fs)++++--激光参数：800nm/1khz/5mj/45fs打靶产额：4*109 photons/s/sr等级: ++ + - --利用针孔+sdd，在单光子条件下，测量有无光学组件时的强度和能谱，可以推演出相应的技术参数。这里我们直接给出了核心参数的总结对比。其中，大多数用户最为关注，同时也是对于实验最为重要的，主要是有效立体角、输出光通量、光谱纯度和时间展宽。可以看到：典型的有效收集立体角在-4、-5sr的水平，而在样品上的输出光通量在5-6次方每秒这样的水平。但是需要指出的是：毛细管并不具备单色的能力，虽然有效立体角大，但输出的是复色光。对于时间展宽的比较，很难通过实验手段获得测量精度在几十到百飞秒水平的结果，所以主要通过理论分析和计算来获得。对于同为衍射型组件的ge(444)双曲弯晶和多层膜镜片，光程差引入项主要是x光在组件内的贯穿深度。对于ge(444)，8kev对应的布拉格角约为70度，x光的衰减长度约为28um，对应的时间展宽约90fs。对于多层膜镜片，因为它属于掠入射型的衍射组件，x光的衰减长度在um量级，对应的时间展宽甚至可以到10fs水平，因此这里的数据相对比较保守的。而对于毛细管这种反射型器件，光程差引入项主要是毛细管的长度差。对于单毛细管，光程差在10fs水平，对于多毛细管，位于中心区域和边缘的子毛细管长度是有较大的差异的，光程差可达ps水平。小结1. 弯晶：单色性好、时间展宽较小、有效立体角小、输出通量低；2. 多层膜：单色性好、时间展宽较小、有效立体角大、kα输出通量高；3. 单毛细管：复色、时间展宽很小、有效立体角大、复色光通量高；4. 多毛细管：复色、时间展宽较大、有效立体角最大、复色光通量最高。每一种光学组件都有其适用的场景，对于非单色的超快应用，如超快荧光、吸收谱，毛细管可能更为合适，而对于追求单色的超快应用，如超快衍射，多层膜是比较好的选择，兼顾了单色性、时间展宽和有效立体角（输出通量）三个核心指标！如果您有任何问题，欢迎联系我们进行交流和探讨。北京众星联恒科技有限公司致力于为广大科研用户提供专业的x射线产品及解决方案服务！

仪器信息网搜索覆盖了用户找仪器、找厂商、找方案、查资料的全场景需求，每月为用户执行数百万次搜索请求。特有的多模态语义算法，将科学仪器行业碎片化的信息分门别类，为用户打造了一款高质量内容的行业搜索。近期国家财政贴息贷款的利好消息推动国内高校、科研院所纷纷启动仪器设备更新改造工作，我国科学仪器行业迎来一波仪器采购大潮。10月仪器热搜词变化较大，质谱、电镜等仪器需求量增长较快！特整理10月用户热搜词表，以飨读者。一、10月仪器热搜词TOP101、化学分析仪器热搜词TOP10TOP热搜词TOP热搜词1离子色谱6液相色谱2气相色谱7XRDnew3ICP-MS8液质联用4 近红外new9紫外分光光度计5 飞行时间质谱new10 红外光谱仪new2、 实验室常用设备热搜词TOP10TOP热搜词TOP热搜词1离心机6纯水机2氮气发生器7旋转蒸发仪3微波消解仪8磁力搅拌器new4马弗炉9洗瓶机5氮吹仪10氢气发生器3、 生命科学仪器及设备热搜词TOP10TOP热搜词TOP热搜词1酶标仪new6生物安全柜2流式细胞仪7荧光定量PCRnew3超低温冰箱new8分子互作分析仪new4蛋白纯化系统new9高内涵细胞成像new5数字PCR仪new10核酸提取仪4、 物性测试热搜词TOP10TOP热搜词TOP热搜词1高低温试验箱6硬度计2粘度计7DSC3激光粒度仪8密度计4流变仪9熔点仪5热重分析仪10 万能试验机new5、 环境监测仪器用户热搜词TOP10TOP热搜词TOP热搜词1TOC6烟气分析仪2COD7水质分析仪3 BODnew8VOC4红外测油仪9测油仪new5非甲烷总烃10大气采样器new6、 光学仪器热搜词TOP10TOP热搜词TOP热搜词1扫描电镜6冷冻电镜new2原子力显微镜7体视显微镜new3透射电镜8红外热像仪new4 共聚焦显微镜new9椭圆偏振仪new5旋光仪10能谱仪new7、 半导体行业专用仪器TOP10TOP热搜词TOP热搜词1光刻机6退火炉new2ALD7 化学气相沉积new3磁控溅射8显影机new4探针台9 芯片分选机new5匀胶机10四探针二、10月消耗品热搜词TOP10TOP热搜词TOP热搜词1气相色谱柱6保护柱new2液相色谱柱7滤芯new3电缆new8橡胶制品new4阀门new9毛细管柱new5手性柱new10lednew三、10月厂商热搜词TOP10TOP热搜词TOP热搜词1安捷伦6沃特世2赛默飞7谱育3岛津8 赛多利斯new4珀金埃尔默9 钢研纳克new5布鲁克10莱伯泰科四、10月行业相关热搜词TOP10TOP热搜词TOP热搜词1锂电池6微塑料2白酒new7农药残留3化妆品8 燃料电池new4 贴息贷款new9土壤三普5 地下水new10中国药典扫码，搜一搜！

为优化政府采购营商环境，提升采购绩效，《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定要求各预算单位按采购项目公开采购意向，内容应包括采购项目名称、采购需求概况、预算金额、预计采购时间等。近两年来，各大高校、科研院所等纷纷在相关平台公布本单位政府采购意向。中国科学院半导体研究所以国家重大需求为导向，开展前沿基础和应用技术研究，拥有2个国家级研究中心、3个国家重点实验室、2个院级实验室，并设有半导体集成技术工程研究中心、光电子研究发展中心、半导体照明研发中心、全固态光源实验室和元器件检测中心等，与地方政府、科研机构、大学和企业等共建了近40个联合实验室，在半导体领域取得了一系列科研成果，培养了一批批优秀人才。成果的产出和人才的培养都离不开仪器的支持，中国科学院半导体研究所每年都会投入一定的经费采购科学仪器，以建立具有国际先进水平的实验研究和测试平台。为方便仪器信息网用户及时了解仪器采购信息，本文特对中国科学院半导体研究所2022年1至12月政府采购意向进行了整理汇总。共收集到41个采购项目，预算金额相加达1.7亿元，采购品目涉及高分辨场发射透射电子显微镜、扫描电子显微镜、双腔分子束外延系统、金属有机气相化学沉积、高真空化学沉积系统、高分辨X射线衍射仪等多种仪器类型。中国科学院半导体研究所2022年政府采购意向汇总表序号项目名称预算金额（万元）采购日期项目详情1超低振动无液氦闭循环低温恒温器1802月详情链接2矢量超导磁体1902月详情链接3反应磁控溅射系统2933月详情链接4反应磁控溅射光学膜镀膜机2453月详情链接5低温真空面内磁场旋转探针台1004月详情链接6低温PL mapping测试设备230.025月详情链接7高分辨场发射透射电子显微镜8005月详情链接8双腔分子束外延系统（MBE）19835月详情链接9扫描电子显微镜（SEM）418.15月详情链接10ICP刻蚀机3555月详情链接11离子束沉积系统7005月详情链接12超高精密加工飞秒激光光源1665月详情链接13微光红外显微镜2805月详情链接14可调谐飞秒光参量放大器1515月详情链接15光/电芯片贴片键合系统1795月详情链接16高精度光路偏振综合测试系统1106月详情链接17金属有机气相化学沉积（MOCVD）16596月详情链接18超声扫描显微镜1206月详情链接19参数曲线跟踪仪1206月详情链接20窄线宽激光器自动光学耦合机1156月详情链接21高性能计算集群9006月详情链接22高分辨X射线衍射仪2306月详情链接23MOCVD外延生长设备15006月详情链接2467G矢量网络分析仪2297月详情链接25闭式冷却塔3907月详情链接26高分辨X射线衍射仪2207月详情链接27蝶形管壳密封机1217月详情链接28高温气相外延系统1707月详情链接29高分辨场发射透射电子显微镜7009月详情链接30高真空化学沉积系统16009月详情链接31微区荧光测试系统2579月详情链接32基于宽谱光源的光纤电流传感装置测试系统1609月详情链接33人才配套支撑6009月详情链接34变温变磁场输运测量系统1809月详情链接35扫描电子显微镜5309月详情链接36低温半导体参数综合测试设备162.810月详情链接37磁控溅射设备18010月详情链接38高分辨X射线衍射仪229.6410月详情链接39逻辑分析仪15010月详情链接40晶圆表面缺陷扫描测试系统17210月详情链接41高分辨X射线衍射仪22012月详情链接

近年来，磁性斯格明子受到了广泛的关注。这些拓扑保护的非共线磁性自旋结构纳米粒子稳定在反转对称破坏的磁性化合物中，是手性洛辛斯基-莫里亚相互作用(DMI)以及铁磁交换相互作用的结果。为广泛研究的自旋结构先是在单晶和外延薄膜中非中心对称B20化合物中观察到的类布洛赫斯格明子，其次是在超薄铁磁层和重金属层形成的薄膜异质结构中的斯格明子。对非共线自旋结构的观察很多都是利用从晶体中提取的薄片进行的。磁性纳米粒子，即反斯格明子和布洛赫斯格明子，已被发现同时存在于由具有二维对称的反四方赫斯勒化合物形成的单晶片层中。然而，制作四方赫斯勒化合物的薄膜以及在其中的自旋结构测量仍然具有挑战性。图1. 100K温度MFM成像研究35 nm厚Mn2RhSn薄膜中纳米磁性结构的演化 通过各种直接成像技术可以在真实空间中观察到斯格明子。近期，德国科学家Parkin等人使用低温强磁场磁力显微镜(MFM)成像来研究[001]取向的Mn2RhSn薄膜中的磁性结构。图1展示了在100K下随磁场增加而变化的典型MFM结果。为了进一步研究Mn2RhSn薄膜中观察到的纳米物体的稳定性，在矢量磁场存在下对35 nm厚的薄膜进行了MFM测量（图2）。图2 ：200K温度下，35 nm厚Mn2RhSn薄膜中纳米粒子在矢量磁场中的稳定性科学家在很大的温度范围内(从2k到280K)和磁场的作用下观察磁性纳米物体，从研究结果可知，形成不同的椭圆和圆形的大小孤立粒子取决于场和温度（图3）。此外，借助于由MFM产生的局部磁场梯度，科学家还演示了这些纳米粒子的产生和湮灭（图4）。图3. 35 nm厚Mn2RhSn薄膜中, MFM研究不同温度下的纳米粒子， 图a-f分别是5K， 50K, 100K, 150K, 200K, 250K温度下MFM成像数据 图4. 基于MFM显微探针技术控制35 nm厚Mn2RhSn薄膜中纳米粒子的产生和湮灭综上所述，由磁控溅射形成的Mn2RhSn外延薄膜中存在磁性纳米粒子。类似于单晶薄片，这些纳米粒子在广泛的尺寸范围内以及在磁场和温度下都具有稳定性。然而，纳米粒子并没有形成明确定向的阵列，也没有任何证据发现螺旋自旋结构，这可能是薄膜中化学顺序均匀性较差导致的结果。然而，在外延薄膜中发现了沿垂直晶体方向的椭圆扭曲纳米粒子，这与在单晶片中观察到的椭圆布洛赫斯格明子一致。因此，这些测量结果为Mn2RhSn薄膜中非共线自旋结构的形成提供了强有力的证据。实验结果表明，在这些薄膜中，可以利用磁性的局部磁场来删除单个纳米物体，也可以写出纳米粒子的集合。 低温强磁场原子力/磁力显微镜attoAFM/MFM I主要技术特点：温度范围：1.8K ..300 K磁场范围：0...9T (取决于磁体, 可选12T，9T-3T矢量磁体等)工作模式：AFM（接触式与非接触式）, MFM样品定位范围：5×5×4.8 mm3扫描范围: 50×50 μm2@300 K, 30×30 μm2@4 K 商业化探针可升PFM, ct-AFM, CFM，cryoRAMAN, atto3DR等功能 图5. 低温强磁场原子力磁力显微镜以及attoDRY2100低温恒温器 参考文献：[1]. Parkin et al, Nanoscale Noncollinear Spin Textures in Thin Films of a D2d Heusler Compound，Adv. Mater. 2021, 33, 2101323.

2020年12月30日以来，中南大学高等研究中心微纳加工与器件制造平台密集发布了一系列招标公告，采购半导体设备，涉及光刻机、刻蚀机等设备，总预算达3550万元人民币。以下为采购清单：项目编号项目名称采购需求预算金额HNXZ-2020-ZB02-RKZB-0327-30《中南大学高等研究中心微纳加工及器件制造平台原位纳米机电加工系统采购项目》原位纳米机电加工系统1套760万元HZ20200207-0224《中南大学高等研究中心微纳加工及器件制造平台无掩膜光刻机采购项目》无掩膜光刻机1台560万元HZ20200201-0219《中南大学高等研究中心微纳加工与器件制造平台电子束蒸发仪、磁控溅射仪采购项目》电子束蒸发仪、磁控溅射仪各一台430万元HZ20200201-0223《中南大学高等研究中心微纳加工与器件制造平台反应离子刻蚀机、感应耦合等离子刻蚀机采购项目》反应离子刻蚀机、感应耦合等离子刻蚀机各一台600万元HZ20200202-0216《中南大学高等研究中心微纳加工与器件制造平台电子束曝光仪采购项目》电子束曝光仪1套1200万元

仪器是科学创新的重要基础和条件，科学发现不仅仅需要理论创新，还需要依靠仪器进行实验观察和检测。中科院宁波材料所，作为新材料及相关领域的重要研究基地和技术提供者，至2021年12月底，共承担了各类科研项目5300多项，累计发表论文7200多篇，累计申请专利近5200件，授权专利近2700件，这一系列成果的取得离不开仪器的支持。为进一步开展科研，中科院宁波材料所于近日公布了一批仪器类政府采购意向，采购项目涉及高温凝胶色谱、扫描探针显微镜、核酸质谱分析系统、Micro-CT、核磁共振波谱仪、3D金属打印机等，预算金额相加达1.02亿元，预计采购时间为2022年6-11月。中科院宁波材料所2022年6-11月政府采购意向汇总表序号采购项目预算金额（万元）预计采购日期项目详情1超高真空多靶磁控溅射系统1996月详情链接2高温凝胶色谱1806月详情链接3真空压力浸渍炉一台2156月详情链接4高频矢量网络分析仪2506月详情链接5扫描探针显微镜SPM/AFM1796月详情链接6氧氮氢分析仪1106月详情链接7全电动磁场成型压机1996月详情链接8微束定点离子刻蚀修复系统3646月详情链接9涵道测试大功率直流电源86.36月详情链接10地面综合测试直流电源526月详情链接11涵道风扇测力试验台906月详情链接12三轴转台836月详情链接13无人机测控系统4006月详情链接14AVDIM管理软件656月详情链接15地面综合测试设备3506月详情链接16混合动力综合能源试车台及管理系统60011月详情链接17发动机15011月详情链接18发电机10011月详情链接19电池20011月详情链接20综合控制器10011月详情链接21飞控系统12011月详情链接22组合导航系统6011月详情链接23海水电解10 kW设备20010月详情链接24Power-to-X(P2X)-高通量测试分析系统15010月详情链接25千克级装填量固定床催化加氢装置20010月详情链接26小面积燃料电池评价系统17510月详情链接27全尺寸燃料电池评价系统19210月详情链接28热熔挤压机18510月详情链接29核酸质谱分析系统37010月详情链接30超灵敏蛋白组学检测系统26010月详情链接31Micro-CT32010月详情链接32600MHz（低温）核磁共振波谱仪99010月详情链接33等温滴定微量热仪11510月详情链接34自动化飞秒瞬态吸收光谱仪44610月详情链接35双通道型台式三维原子层沉积系统23410月详情链接36X射线吸收精细结构谱仪36810月详情链接37岱山液态聚碳硅烷工程化装置35010月详情链接38无液氦综合物性测量系统50010月详情链接39互联磁控溅射系统22010月详情链接40X射线机29810月详情链接41中型3D金属打印机40010月详情链接42100L聚酯反应系统10310月详情链接

一、纳米颗粒膜制备日前，由英国著名的薄膜沉积设备制造商Moorfield Nanotechnology公司生产的套纳米颗粒与磁控溅射综合系统在奥地利的莱奥本矿业大学Christian Mitterer教授课题组安装并交付使用。该设备由MiniLab125型磁控溅射系统与纳米颗粒溅射源共同组成，可以同时满足用户对普通薄膜和纳米颗粒膜制备的需求。集成了纳米颗粒源的MiniLab125磁控溅射系统 传统薄膜材料的研究专注于制备表面平整、质地致密、晶格缺陷少的薄膜，很多时候更是需要制备沿衬底外延生长的薄膜。然而随着研究的深入，不同的应用方向对薄膜的需求是截然不同。在表面催化、过滤等研究方向，需要超大比表面积的纳米薄膜。在这种情况下，纳米颗粒膜具有不可比拟的优势。而传统的磁控溅射在制备纯颗粒膜方面对于粒径尺寸，颗粒均匀性方面无法实现控制。气相沉积法、电弧放电法、水热合成法等在适用性、操作便捷性、与传统样品处理的兼容性等方面不友好。在此情况下，Moorfield Nanotechnology推出了与传统磁控溅射和真空设备兼容的纳米颗粒制备系统。不同条件制备的颗粒粒径分布（厂家测试数据）不同颗粒密度样品（厂家测试数据）纳米颗粒制备技术特点：▪ 纳米颗粒的大小1 nm-20 nm可调；▪ 多可达3重金属，可共沉积，可制备纯/合金颗粒；▪ 材料范围广泛，包括Au、Ag、Cu、Pt、Ir、Ni、Ti、Zr等▪ 拥有通过控制气氛制造复合纳米粒子的可能性（类似于反应溅射）▪ 的纳米颗粒层厚度控制，从亚单层到三维纳米孔▪ 纳米颗粒结构——结晶或非晶、形状可控纳米颗粒膜的应用方向：▪ 生命科学和纳米医学： 癌症治疗、药物传输、抗菌、抗病毒、生物膜▪ 石墨烯研究方向：电子器件、能源、复合材料、传感器▪ 光电研究：光伏研究、光子俘获、表面增强拉曼▪ 催化：燃料电池、光催化、电化学、水/空气净化▪ 传感器：生物传感器、光学传感器、电学传感器、电化学传感器 二、无机无铅光伏材料下一代太阳能电池的大部分研究都与铅-卤化物钙钛矿混合材料有关。然而，人们正不断努力寻找具有类似或更好特性的替代化合物，想要消除铅对环境的影响，而迄今为止，这种化合物一直难以获得。因此寻找具有适当带隙范围的无铅材料是很重要的，如果将它们结合起来，就可以利用太阳光谱的不同波长进行发电。这将是提高未来太阳能电池效率降低成本的关键。近期，牛津大学的光电与光伏器件研究组的Henry Snaith教授与Benjamin Putland博士研究了具有A2BB’X6双钙钛矿结构的新型无机无铅光伏材料。经过计算该材料具有2 eV的带隙，可用做光伏电池的层吸光材料与传统Si基光伏材料很好的结合，使光电转换效率达到30%。与有机钙钛矿材料相比，无机钙钛矿材料具有结构稳定使用寿命更长的优势。而这种新材料的制备存在一个问题，由于前驱体组分的不溶性和复杂的结晶过程容易导致非目标性的晶体生长，因此难以通过传统的水溶液法制备均匀的薄膜。Benjamin Putland博士采用真空蒸发使这些问题得以解决。使用Moorfield Nanotechnology的高质量金属\有机物热蒸发系统，通过真空蒸发三种不同的前驱体，研究人员成功沉积制备出了所需要的薄膜。真空蒸发具有较高的控制水平和可扩展性，使得材料的工业化制备成为可能。所制备的薄膜在150℃退火后，XRD图。所制备的薄膜在150℃退火后，表面SEM图 三、Moorfield 薄膜制备与加工系统简介Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 – MiniLab旗舰系列和nanoPVD台式系列是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的结晶。产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统，可用于高质量的科学研究和中试生产。设备的功能和特点：▪ 蒸发设备：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发▪ 磁控溅射：直流&射频溅射、共溅射、反应溅射▪ 兼容性：可与手套箱集成、满足特殊样品制备▪ 其他功能设备：二维材料软刻蚀、样品热处理▪ 设备的控制：触屏编程式全自动控制

为优化政府采购营商环境，提升采购绩效，《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定要求各预算单位按采购项目公开采购意向，内容应包括采购项目名称、采购需求概况、预算金额、预计采购时间等。近两年来，各大高校、科研院所等纷纷在相关平台公布本单位政府采购意向。中国科学院光电技术研究所（简称光电所）始建于1970年。建所以来，围绕国家重大战略需求，聚焦世界科技前沿开展光电领域基础性、前瞻性、颠覆性的创新研究，逐步成为国家科技战略体系中不可或缺的光电科技力量。光电所建有微细加工光学技术国家重点实验室、中国科学院光束控制重点实验室、中国科学院自适应光学重点实验室、中国科学院空间光电精密测量技术重点实验室，和光电工程总体研究室等10个创新研究室，以及中科院成都几何量及光电精密机械测试实验室；还建有精密机械制造、先进光学研制、轻量化镜坯研制、光学工程总体集成、质量检测等5个研制中心，以及科技信息中心等技术保障中心。目前承担有国家重点研发计划、自然科学基金、部委重大重点项目及企业委托开发项目研究，研究水平居国内领先或国际先进。成果的产出离不开仪器的支持，中国科学院光电技术研究所每年都会投入一定的经费采购科学仪器，以建立具有国际先进水平的实验研究和测试平台。为方便仪器信息网用户及时了解仪器采购信息，本文特对中国科学院光电技术研究所2022年政府采购意向进行了整理汇总。共收集到16个仪器采购项目，预算金额相加为1.0248亿元，采购品目涉及磁控溅射、匀胶机、共聚焦显微镜、套刻精度检测设备、光学系统辐射定标系统、力矩测量系统、抛光机等多种仪器设备类型。序号采购项目名称采购品目预算金额(万元)预计采购日期项目详情1亚分辨辅助图形（SRAF）添加软件A021006992256月详情链接2光学邻近效应修正（OPC）验证软件A021006992706月详情链接3磁控溅射A0210069914606月详情链接4套刻精度检测设备A0210069928006月详情链接5大口径光学系统辐射定标系统A033499其他专用仪器仪表5606月详情链接6微干扰力-力矩测量系统A033499其他专用仪器仪表1706月详情链接7大口径高精度匀胶机A033499其他专用仪器仪表8806月详情链接8φ800真空光管A033499其他专用仪器仪表7756月详情链接9大口径清洗设备A033499其他专用仪器仪表5386月详情链接10空间环境辐照模拟仿真试验系统A021099其他仪器仪表5406月详情链接11光学级聚酰亚胺薄膜真空流延成膜设备A033499其他专用仪器仪表4306月详情链接126轴光学抛光中心A021099其他仪器仪表4506月详情链接13球面数控抛光机A021099其他仪器仪表3306月详情链接14光学中继通道检测装置A021099其他仪器仪表2406月详情链接15大口径共聚焦显微镜A021006994308月详情链接16环境监测数据综合分析系统A021006991508月详情链接

详细信息 哈工大郑州研究院磁控溅射镀膜机等一批设备采购项目公开招标公告 河南省-郑州市 状态：公告 更新时间： 2023-10-22 哈工大郑州研究院磁控溅射镀膜机等一批设备采购项目公开招标公告 一、项目基本情况 1.采购项目编号：豫教招标采购-2023-112 2.采购项目名称：哈工大郑州研究院磁控溅射镀膜机等一批设备采购项目 3.采购方式：公开招标 4.预算金额：260万元 最高限价：260万元 序号 包名称 包预算（万元） 包最高限价（万元） 1 哈工大郑州研究院磁控溅射镀膜机等一批设备采购项目 260 260 5.采购需求 5.1项目概况：根据哈工大郑州研究院需要，需对磁控溅射镀膜机、手套箱、电化学工作站等四十五项仪器设备进行采购，项目已具备采购条件，现对该批次仪器设备进行公开招标。 5.2采购内容包括：手套箱、电化学工作站、测试系统、恒温试验箱、电池封装机、切片机、高低温箱、压片机、旋转圆盘电极仪、超纯水机、冷冻干燥仪、超声机、电子天平、马弗炉、管式炉、鼓风烘箱、真空烘箱、分子泵、机械泵、抛光机、探针台、磁控溅射镀膜机等一批仪器设备的采购、运输、安装、培训等工作内容。 5.3资金情况：资金已落实。 5.4包段划分：不分包。 5.5交货期：合同签订后2个月内。 5.6交货地点：采购人指定地点。 5.7质量标准：符合国家或行业规定的合格标准，满足采购人提出的技术标准及要求。 5.8验收标准：满足采购人的验收标准及要求。 5.9质保服务要求：国产设备免费质保3年，进口设备免费质保1年（从验收合格之日起计算）。 6.合同履行期限：合同签订至质保期满。 7.本项目是否接受联合体投标：否 8.是否接受进口产品：是 9、是否专门面向中小企业：否 二、申请人资格要求 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定： 1.1供应商须具有法人或者其他组织的营业执照等证明文件； 1.2供应商须具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度，企业财务状况良好，没有财务被接管、破产或其他关、停、并、转情况的，须提供2022年度经审计的财务报告或其基本开户银行出具的资信证明； 1.3供应商须具有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录，提供本年度任意一个月的企业依法缴纳税收和社会保障资金的证明资料； 1.4供应商须具有履行合同所必需的设备和专业技术能力(自拟格式，自行承诺)； 1.5参加政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明(自拟格式，自行承诺)； 1.6其他要求：对参与投标竞争的单位，需承诺2020年1月1日以来供应商、法定代表人、项目负责人无行贿犯罪记录（由供应商出具承诺，格式自拟）； 1.7根据财政部《关于在政府采购活动中查询及使用信用记录有关问题的通知》（财库〔2016〕125号）和豫财购〔2016〕15号的规定，对列入“失信被执行人”、“重大税收违法失信主体”和“政府采购严重违法失信行为记录名单”的潜在供应商，将拒绝其参加本项目招标采购活动； 1.8单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位，不得同时参加本项目的投标【提供在“国家企业信用信息公示系统”中查询打印的相关材料并加盖公章（需包含公司基本信息、股东信息及股权变更信息）】。 2.落实政府采购政策满足的资格要求：无 3.本项目的特定资格要求： 无 三、获取招标文件 1.时间：2023年10月23日至2023年11月11日（北京时间）。每天上午00：00至12：00，下午12：00至23：59（北京时间，法定节假日除外）。 2.方式：供应商报名时需要将法人授权委托书、授权人身份证、被授权人身份证、营业执照副本扫描并发送至项目负责人邮箱291363822@qq.com，对报名合格的供应商在缴费完成后，通过邮箱发送招标文件电子版或供应商携带上述资料到招标代理公司现场购买。 3.售价：300元人民币 户名：河南省教育招标服务有限公司 账号：371903102310201 开户行：招商银行股份有限公司郑州分行农业路支行 联系电话：18736086547扶会计。 四、投标截止时间（投标文件递交截止时间）及地点 1.时间：2023年11月13日9:30（北京时间） 2.地点：河南省教育招标服务有限公司第一开标室 五、开标时间及地点 1.时间：2023年11月13日9:30（北京时间） 2.地点：河南省教育招标服务有限公司第一开标室 六、发布公告的媒介及公示期限 本公告在中国招标投标公共服务平台、河南省电子招标投标公共服务平台、河南省教育招标服务有限公司网、哈工大郑州研究院官网上发布，公告期限为5个工作日。 七、其他补充事宜 1.本项目需要落实的政府采购政策： 1.1执行《政府采购促进中小企业发展管理办法》（财库﹝2021﹞46号）； 1.2执行《财政部、司法部关于政府采购支持监狱企业发展有关问题的通知》（财库﹝2014﹞68号）； 1.3执行《三部门联合发布关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》（财库﹝2017﹞141号）； 1.4执行《财政部、国家发展改革委关于印发〈节能产品政府采购实施意见〉的通知》（财库﹝2004﹞185号）、《财政部环保总局关于环境标志产品政府采购实施的意见》（财库﹝2006﹞90号）；和《财政部、发展改革委、生态环境部、市场监管总局关于调整优化节能产品、环境标志产品政府采购执行机制的通知》（财库〔2019〕9号）； 1.5与招标人存在利害关系可能影响招标公正性的法人、其他组织或个人，不得参加投标。单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位，不得参加同一标段投标或者未划分标段的同一招标项目投标。 八、凡对本次招标提出询问，请按照以下方式联系 1.采购人信息 名称：哈工大郑州研究院 地址：河南省郑州市郑东新区龙源东七街26号 联系人：薛老师 联系方式：0371-61680818 2.采购代理机构信息 名称：河南省教育招标服务有限公司 地址：郑州市花园路116号河南省农科院院内西南角原农信楼 联系人：田老师、郭老师 联系方式：0371-56058511 3.项目联系方式 联系人：田老师、郭老师 联系方式：0371-56058511 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 基本信息 关键内容：电化学工作站,天平,高低温试验箱,探针台,超纯水器,电化学部件,切片机,手套箱,压片机,镀膜机 开标时间：2023-11-13 09:30 预算金额：260.00万元 采购单位：哈工大郑州研究院 采购联系人：点击查看 采购联系方式：点击查看 招标代理机构：河南省教育招标服务有限公司 代理联系人：点击查看 代理联系方式：点击查看 详细信息 哈工大郑州研究院磁控溅射镀膜机等一批设备采购项目公开招标公告 河南省-郑州市 状态：公告 更新时间： 2023-10-22 哈工大郑州研究院磁控溅射镀膜机等一批设备采购项目公开招标公告 一、项目基本情况 1.采购项目编号：豫教招标采购-2023-112 2.采购项目名称：哈工大郑州研究院磁控溅射镀膜机等一批设备采购项目 3.采购方式：公开招标 4.预算金额：260万元 最高限价：260万元 序号 包名称 包预算（万元） 包最高限价（万元） 1 哈工大郑州研究院磁控溅射镀膜机等一批设备采购项目 260 260 5.采购需求 5.1项目概况：根据哈工大郑州研究院需要，需对磁控溅射镀膜机、手套箱、电化学工作站等四十五项仪器设备进行采购，项目已具备采购条件，现对该批次仪器设备进行公开招标。 5.2采购内容包括：手套箱、电化学工作站、测试系统、恒温试验箱、电池封装机、切片机、高低温箱、压片机、旋转圆盘电极仪、超纯水机、冷冻干燥仪、超声机、电子天平、马弗炉、管式炉、鼓风烘箱、真空烘箱、分子泵、机械泵、抛光机、探针台、磁控溅射镀膜机等一批仪器设备的采购、运输、安装、培训等工作内容。 5.3资金情况：资金已落实。 5.4包段划分：不分包。 5.5交货期：合同签订后2个月内。 5.6交货地点：采购人指定地点。 5.7质量标准：符合国家或行业规定的合格标准，满足采购人提出的技术标准及要求。 5.8验收标准：满足采购人的验收标准及要求。 5.9质保服务要求：国产设备免费质保3年，进口设备免费质保1年（从验收合格之日起计算）。 6.合同履行期限：合同签订至质保期满。 7.本项目是否接受联合体投标：否 8.是否接受进口产品：是 9、是否专门面向中小企业：否 二、申请人资格要求 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定： 1.1供应商须具有法人或者其他组织的营业执照等证明文件； 1.2供应商须具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度，企业财务状况良好，没有财务被接管、破产或其他关、停、并、转情况的，须提供2022年度经审计的财务报告或其基本开户银行出具的资信证明； 1.3供应商须具有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录，提供本年度任意一个月的企业依法缴纳税收和社会保障资金的证明资料； 1.4供应商须具有履行合同所必需的设备和专业技术能力(自拟格式，自行承诺)； 1.5参加政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明(自拟格式，自行承诺)； 1.6其他要求：对参与投标竞争的单位，需承诺2020年1月1日以来供应商、法定代表人、项目负责人无行贿犯罪记录（由供应商出具承诺，格式自拟）； 1.7根据财政部《关于在政府采购活动中查询及使用信用记录有关问题的通知》（财库〔2016〕125号）和豫财购〔2016〕15号的规定，对列入“失信被执行人”、“重大税收违法失信主体”和“政府采购严重违法失信行为记录名单”的潜在供应商，将拒绝其参加本项目招标采购活动； 1.8单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位，不得同时参加本项目的投标【提供在“国家企业信用信息公示系统”中查询打印的相关材料并加盖公章（需包含公司基本信息、股东信息及股权变更信息）】。 2.落实政府采购政策满足的资格要求：无 3.本项目的特定资格要求： 无 三、获取招标文件 1.时间：2023年10月23日至2023年11月11日（北京时间）。每天上午00：00至12：00，下午12：00至23：59（北京时间，法定节假日除外）。 2.方式：供应商报名时需要将法人授权委托书、授权人身份证、被授权人身份证、营业执照副本扫描并发送至项目负责人邮箱291363822@qq.com，对报名合格的供应商在缴费完成后，通过邮箱发送招标文件电子版或供应商携带上述资料到招标代理公司现场购买。 3.售价：300元人民币 户名：河南省教育招标服务有限公司 账号：371903102310201 开户行：招商银行股份有限公司郑州分行农业路支行 联系电话：18736086547扶会计。 四、投标截止时间（投标文件递交截止时间）及地点 1.时间：2023年11月13日9:30（北京时间） 2.地点：河南省教育招标服务有限公司第一开标室 五、开标时间及地点 1.时间：2023年11月13日9:30（北京时间） 2.地点：河南省教育招标服务有限公司第一开标室 六、发布公告的媒介及公示期限 本公告在中国招标投标公共服务平台、河南省电子招标投标公共服务平台、河南省教育招标服务有限公司网、哈工大郑州研究院官网上发布，公告期限为5个工作日。 七、其他补充事宜 1.本项目需要落实的政府采购政策： 1.1执行《政府采购促进中小企业发展管理办法》（财库﹝2021﹞46号）； 1.2执行《财政部、司法部关于政府采购支持监狱企业发展有关问题的通知》（财库﹝2014﹞68号）； 1.3执行《三部门联合发布关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》（财库﹝2017﹞141号）； 1.4执行《财政部、国家发展改革委关于印发〈节能产品政府采购实施意见〉的通知》（财库﹝2004﹞185号）、《财政部环保总局关于环境标志产品政府采购实施的意见》（财库﹝2006﹞90号）；和《财政部、发展改革委、生态环境部、市场监管总局关于调整优化节能产品、环境标志产品政府采购执行机制的通知》（财库〔2019〕9号）； 1.5与招标人存在利害关系可能影响招标公正性的法人、其他组织或个人，不得参加投标。单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位，不得参加同一标段投标或者未划分标段的同一招标项目投标。 八、凡对本次招标提出询问，请按照以下方式联系 1.采购人信息 名称：哈工大郑州研究院 地址：河南省郑州市郑东新区龙源东七街26号 联系人：薛老师 联系方式：0371-61680818 2.采购代理机构信息 名称：河南省教育招标服务有限公司 地址：郑州市花园路116号河南省农科院院内西南角原农信楼 联系人：田老师、郭老师 联系方式：0371-56058511 3.项目联系方式 联系人：田老师、郭老师 联系方式：0371-56058511

热电材料能够实现热电转换，具有安全、节能、环保等优点，近年来备受关注，许多学者也围绕其开展了大量的研究工作。在本文，仪器信息网为大家盘点了热电材料研究实验室常用的制备与表征仪器清单。国内研究热电材料的课题组众多，在小编的雷达范围内，整理归纳了其中四个课题组的仪器展示表格：1.中国科学院上海硅酸盐研究所热电转换材料与器件研究课题组；2.中国科学院金属研究所热电材料与器件课题组；3.同济大学材料科学与工程学院热电课题组；4.哈尔滨工业大学（深圳）材料科学与工程学院热电材料课题组。一、中国科学院上海硅酸盐研究所热电转换材料与器件研究课题组（课题组长：史迅研究员；副组长：柏胜强高级工程师；科研队伍：陈立东研究员、姚琴副研究员、瞿三寅副研究员、仇鹏飞副研究员等）该课题组主要从事高性能热电材料的设计、制备与性能优化以及高性能热电器件的设计、制造与集成方面的研究，主要内容包括：1.声子液体电子晶体材料 (类液态材料)；2.类金刚石结构；3.笼状化合物；4.有机热电材料和有机/无机复合热电材料；5.热电薄膜与微型热电薄膜器件；6.高性能热电器件设计与制造技术；7.热电空调/发电系统设计与集成技术；8.热电材料与器件测量技术。课题组仪器设备展示Seebeck系数和电阻测试系统（ZEM-3）布劳恩手套箱RS50/500型管式炉纳博热（ Nabertherm）LH15/13型箱式炉 放电等离子体快速烧结设备激光导热仪 霍尔系数测试设备电导率及塞贝克系数测试设备 X射线广角/小角衍射设备MSP（Modified Small Punch）试验装置二、中国科学院金属研究所热电材料与器件课题组（课题组长：邰凯平研究员；小组成员：康斯清工程师）该课题组长期从事功能材料设计、制备和性能表征方面的研究工作，以界面性质对材料物理、化学性能调控作用的共性基础科学问题为研究主线，主要研究内容包括：低维热电材料；多物理外场耦合仿真环境原位透射电镜表征；纳米结构抗辐照损伤材料。在原位透射电镜技术领域的成果被Science（350，9886，2015）、Chem Rev（116，11061，2016）、Adv Mater（02519，2016）等期刊评述为近十年来纳米材料原位电镜表征技术领域的关键研究成果，并被编入电子显微学教科书“Transmission Electron Microscopy”（Page 48，Springer，Heidelberg，2016）。课题组仪器设备展示多靶磁控溅射沉积系统-1多靶磁控溅射沉积系统-2热电性能测试设备ALD原子层沉积系统等离子体处理/原位TEM样品杆预抽系统Hall测试系统AFM红外成像显微镜微束/飞秒激光微纳加工系统紫外光刻机电子束/热蒸发镀膜系统3Omega频域法热导率测试系统稳态法热导率测试系统球型焊线机高温管式炉红外快速退火炉自主研制的各种类型原位仿真环境（JEOL/FEI）TEM样品杆三、同济大学材料科学与工程学院热电课题组（课题组长：裴艳中教授；小组成员：李文副教授）该研究小组主要针对当前热电材料转换效率较低这一技术瓶颈，从热电材料所涉及的基本物理及化学问题出发，设计和开发出高转换效率热电材料和器件。立足于前期工作的基础之上，今后具体的研究对象主要集中在半导体材料，研究内容主要包括：1.先进的材料制备方法；2.电、热、光、磁及微观结构的表征方法；3.能源材料性能所隐含的基本物理及化学问题；4.理论指导下的新型能源材料设计和开发；5.其它应用背景的半导体新材料的研究与开发。课题组仪器设备展示自主研制设备霍尔系数/塞贝克系数/电阻率同步测试 2个样品同时测试，300~900K，磁场1.5T塞贝克系数/电阻率同步测试系统 2个样品同时测试，300~1100K室温塞贝克系数测试系统Oxford低温（1.5~400K）与强磁场（12T）综合物理性能（Nernst，Seebeck，Hall系数与电/热导率）测试系统电弧熔炼系统电弧熔炼系统高温热压系统（升温速率＞1000C/min）封装系统材料生长炉商业设备台式扫描电镜&能谱XRDFTIR红外光谱仪声速测定仪激光导热仪惰性气氛手套箱高温熔融炉四、哈尔滨工业大学（深圳）材料科学与工程学院热电材料课题组（课题组长张倩教授，学术顾问刘兴军教授）该课题组正式成立于2016年秋。主要研究方向为：热电半导体能源材料的电声输运调控、热电器件的设计与效率提升，柔性可穿戴发电与制冷器件。采用与相图工程和机器学习相结合的手段，优化传统热电材料，开发新型热电材料，促进热电发电与制冷的大规模商业应用进程。课题组仪器设备展示材料制备系统电弧熔炼炉高频悬浮熔炼炉立式真空管式炉微型金属熔炼炉双工位真空手套箱真空封管系统热压烧结系统放电等离子烧结SPS3D打印机多靶磁控溅射镀膜仪电子束蒸发镀膜仪高温箱式炉高能球磨机井式炉金相研磨抛光机金刚石线切割机性能测试系统激光导热仪-LFA 457差示扫描量热仪-DSC 404同步热分析仪-STA 2500热机械分析仪-TMA 457电阻率/温差电动势测试仪-CTAUV-vis-NIR变温霍尔测试系统变温红外光谱仪发电效率特性测定装置接触电阻测试平台焊接平台需要说明的是，以上仪器设备展示仅根据各课题组网站信息整理，并非各课题组实验室仪器的全部配置。因此，小编特整理了热电材料研究实验室常用的制备与表征仪器清单，供君参考。热电材料研究实验室仪器配置清单热电材料制备常用仪器电子天平马弗炉/电阻炉/管式炉/实验炉鼓风/真空干燥箱材料生长炉磁力搅拌器球磨机超声波清洗机放电等离子烧结SPS离心机悬浮熔炼炉/电弧熔炼炉石墨磨具原子层沉积系统真空/惰性气氛手套箱电子束/热蒸发镀膜设备恒温油浴/水浴锅退火炉游标卡尺3D打印机切割机研磨抛光机热电材料表征常用仪器X射线衍射仪赛贝克系数/电阻率测试系统X射线光电子能谱仪霍尔系数测试设备热重分析仪介电性能测试系统扫描电子显微镜热电转换效率测量系统透射电子显微镜电/热导率测试系统电子探针分析仪声速测定仪热膨胀仪红外光谱仪显微硬度仪热机械分析仪激光热导仪焊接平台差热扫描热量仪综合物理性能测试系统【近期网络会议推荐】3月23日“热电材料表征与检测技术”主题网络研讨会免费报名听会链接：https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/2021RD/

由于能够对太赫兹电磁波产生有效的调制，近年来，太赫兹电磁超材料受到了科研界极大的关注。太赫兹超材料的单个单元的特征尺寸一般为几十微米，传统的加工主要基于MEMS微纳加工工艺流程。然而，这些工艺流程通常都需要昂贵的实验设备并且是多工序且高耗费的。为了克服这些缺点与不足，西交大张留洋老师课题组提出了一种基于微纳3D打印结合磁控溅射沉积镀膜的太赫兹超材料制造工艺：以基于垂直U型环谐振器的三维太赫兹超材料为原型，采用高精度微纳3D打印设备nanoArch S130（BMF摩方精密）对模型进行加工，随后通过磁控溅射沉积镀金属膜赋予该结构功能性。该成果以“3D-printed terahertz metamaterial absorber based on vertical split-ring resonator”为题发表于Journal of Applied Physics期刊。原文链接：https://aip.scitation.org/doi/10.1063/5.0056276 图1 基于垂直U型环的太赫兹超材料制备工艺示意图。采用面投影微立体3D打印工艺（nanoArch S130，摩方精密）在硅片表面制造树脂超材料模型，然后通过磁控溅射在树脂模型表面沉积覆盖金属铜膜。插图为基于垂直U型环的太赫兹超材料的模型剖视图。图1所示为所提出的基于垂直U型环的太赫兹超材料制造工艺流程示意图。首先，通过三维建模软件建立了超材料的数字模型，将该数字模型转化为STL格式就可以输入3D打印设备进行打印制造。打印所采用的树脂材料为一种耐高温的光敏树脂(High-temperature resistance photosensitive resin, HTL)。为了加强所打印的垂直U型环结构和硅片界面处的粘附性，在U型环和硅片表面之间额外打印了一层树脂基底。在树脂模型制造完成之后，采用磁控溅射镀膜工艺在树脂模型的表面沉积铜膜。所使用的3D打印设备（nanoArch S130，摩方精密）的光学精度为2 μm，最小打印层厚为5 μm。所采用的加工工艺主要依赖于3D打印技术，这使得整个制造过程相当的简单和高效。图2 所制造的垂直U型环太赫兹超材料扫描电镜照片与太赫兹时域光谱系统测量所得吸收谱。(a)垂直U型环局部阵列。(b)单个垂直U型环照片。(c)与(d)分别为测量和仿真所得的分别在x极化和y极化入射下超材料的吸收谱。 制造的超材料阵列的总体尺寸为9.6 ×9.6mm，一共包含了30×30个单元结构。从电镜图中可以看出，所选用的3D打印技术（nanoArch S130，摩方精密）可以很好地完成设计的微结构的成型。THz-TDS测量结果表明，在x极化下，超材料在0.8 THz处达到了96%的近一吸收，而在y极化下没有出现吸收峰，这与仿真所得的结果基本一致。图3 高Q值三维太赫兹超材料传感研究。(a)传感分析物的示意。(b)谐振峰频率随传感分析物的厚度而变化。(c)加载不同折射率分析物时的超材料吸收谱 (d)超材料传感折射率灵敏度。(e)加载乳糖与半乳糖粉末时的测量结果。(f)吸收峰频率的偏移。 通过仿真和实验研究了样品的传感特性。分析得出，随着传感物厚度的增大，频移逐渐加大，当厚度大于100μm时得到了最佳的效果。计算得到传感器的灵敏度为S = 0.5 THz/RIU，品质因数为FOM = 95.9。所制造的垂直U型环超材料的高度为75μm，适用于检测具有一定厚度的分析物。因此，该研究选择了典型的乳糖和半乳糖粉末作为分析物来验证垂直U型环传感器的传感能力。如图3 (e)所示，在样品表面加载乳糖和半乳糖粉末后，吸收峰的中心频率分别变为0.5335 THz和0.7603 THz，频移分别为0.2665 THz与0.0397 THz，获得了有效且明显地频移，验证了样品在折射率传感等领域的应用潜力。

由于能够对太赫兹电磁波产生有效的调制，近年来，太赫兹电磁超材料受到了科研界极大的关注。太赫兹超材料的单个单元的特征尺寸一般为几十微米，传统的加工主要基于MEMS微纳加工工艺流程。然而，这些工艺流程通常都需要昂贵的实验设备并且是多工序且高耗费的。为了克服这些缺点与不足，西交大张留洋老师课题组提出了一种基于微纳3D打印结合磁控溅射沉积镀膜的太赫兹超材料制造工艺：以基于垂直U型环谐振器的三维太赫兹超材料为原型，采用高精度微纳3D打印设备nanoArch S130（BMF摩方精密）对模型进行加工，随后通过磁控溅射沉积镀金属膜赋予该结构功能性。该成果以“3D-printed terahertz metamaterial absorber based on vertical split-ring resonator”为题发表于Journal of Applied Physics期刊。原文链接：https://aip.scitation.org/doi/10.1063/5.0056276 图1 基于垂直U型环的太赫兹超材料制备工艺示意图。采用面投影微立体3D打印工艺（nanoArch S130，摩方精密）在硅片表面制造树脂超材料模型，然后通过磁控溅射在树脂模型表面沉积覆盖金属铜膜。插图为基于垂直U型环的太赫兹超材料的模型剖视图。图1所示为所提出的基于垂直U型环的太赫兹超材料制造工艺流程示意图。首先，通过三维建模软件建立了超材料的数字模型，将该数字模型转化为STL格式就可以输入3D打印设备进行打印制造。打印所采用的树脂材料为一种耐高温的光敏树脂(High-temperature resistance photosensitive resin, HTL)。为了加强所打印的垂直U型环结构和硅片界面处的粘附性，在U型环和硅片表面之间额外打印了一层树脂基底。在树脂模型制造完成之后，采用磁控溅射镀膜工艺在树脂模型的表面沉积铜膜。所使用的3D打印设备（nanoArch S130，摩方精密）的光学精度为2 μm，最小打印层厚为5 μm。所采用的加工工艺主要依赖于3D打印技术，这使得整个制造过程相当的简单和高效。图2 所制造的垂直U型环太赫兹超材料扫描电镜照片与太赫兹时域光谱系统测量所得吸收谱。(a)垂直U型环局部阵列。(b)单个垂直U型环照片。(c)与(d)分别为测量和仿真所得的分别在x极化和y极化入射下超材料的吸收谱。 制造的超材料阵列的总体尺寸为9.6 ×9.6mm，一共包含了30×30个单元结构。从电镜图中可以看出，所选用的3D打印技术（nanoArch S130，摩方精密）可以很好地完成设计的微结构的成型。THz-TDS测量结果表明，在x极化下，超材料在0.8 THz处达到了96%的近一吸收，而在y极化下没有出现吸收峰，这与仿真所得的结果基本一致。图3 高Q值三维太赫兹超材料传感研究。(a)传感分析物的示意。(b)谐振峰频率随传感分析物的厚度而变化。(c)加载不同折射率分析物时的超材料吸收谱 (d)超材料传感折射率灵敏度。(e)加载乳糖与半乳糖粉末时的测量结果。(f)吸收峰频率的偏移。 通过仿真和实验研究了样品的传感特性。分析得出，随着传感物厚度的增大，频移逐渐加大，当厚度大于100μm时得到了最佳的效果。计算得到传感器的灵敏度为S = 0.5 THz/RIU，品质因数为FOM = 95.9。所制造的垂直U型环超材料的高度为75μm，适用于检测具有一定厚度的分析物。因此，该研究选择了典型的乳糖和半乳糖粉末作为分析物来验证垂直U型环传感器的传感能力。如图3 (e)所示，在样品表面加载乳糖和半乳糖粉末后，吸收峰的中心频率分别变为0.5335 THz和0.7603 THz，频移分别为0.2665 THz与0.0397 THz，获得了有效且明显地频移，验证了样品在折射率传感等领域的应用潜力。

由于能够对太赫兹电磁波产生有效的调制，近年来，太赫兹电磁超材料受到了科研界极大的关注。太赫兹超材料的单个单元的特征尺寸一般为几十微米，传统的加工主要基于MEMS微纳加工工艺流程。然而，这些工艺流程通常都需要昂贵的实验设备并且是多工序且高耗费的。为了克服这些缺点与不足，西交大张留洋老师课题组提出了一种基于微纳3D打印结合磁控溅射沉积镀膜的太赫兹超材料制造工艺：以基于垂直U型环谐振器的三维太赫兹超材料为原型，采用高精度微纳3D打印设备nanoArch S130（BMF摩方精密）对模型进行加工，随后通过磁控溅射沉积镀金属膜赋予该结构功能性。该成果以“3D-printed terahertz metamaterial absorber based on vertical split-ring resonator”为题发表于Journal of Applied Physics期刊。 图1 基于垂直U型环的太赫兹超材料制备工艺示意图。采用面投影微立体3D打印工艺（nanoArch S130，摩方精密）在硅片表面制造树脂超材料模型，然后通过磁控溅射在树脂模型表面沉积覆盖金属铜膜。插图为基于垂直U型环的太赫兹超材料的模型剖视图。图1所示为所提出的基于垂直U型环的太赫兹超材料制造工艺流程示意图。首先，通过三维建模软件建立了超材料的数字模型，将该数字模型转化为STL格式就可以输入3D打印设备进行打印制造。打印所采用的树脂材料为一种耐高温的光敏树脂(High-temperature resistance photosensitive resin, HTL)。为了加强所打印的垂直U型环结构和硅片界面处的粘附性，在U型环和硅片表面之间额外打印了一层树脂基底。在树脂模型制造完成之后，采用磁控溅射镀膜工艺在树脂模型的表面沉积铜膜。所使用的3D打印设备（nanoArch S130，摩方精密）的光学精度为2 μm，最小打印层厚为5 μm。所采用的加工工艺主要依赖于3D打印技术，这使得整个制造过程相当的简单和高效。图2 所制造的垂直U型环太赫兹超材料扫描电镜照片与太赫兹时域光谱系统测量所得吸收谱。(a)垂直U型环局部阵列。(b)单个垂直U型环照片。(c)与(d)分别为测量和仿真所得的分别在x极化和y极化入射下超材料的吸收谱。 制造的超材料阵列的总体尺寸为9.6 ×9.6mm，一共包含了30×30个单元结构。从电镜图中可以看出，所选用的3D打印技术（nanoArch S130，摩方精密）可以很好地完成设计的微结构的成型。THz-TDS测量结果表明，在x极化下，超材料在0.8 THz处达到了96%的近一吸收，而在y极化下没有出现吸收峰，这与仿真所得的结果基本一致。图3 高Q值三维太赫兹超材料传感研究。(a)传感分析物的示意。(b)谐振峰频率随传感分析物的厚度而变化。(c)加载不同折射率分析物时的超材料吸收谱 (d)超材料传感折射率灵敏度。(e)加载乳糖与半乳糖粉末时的测量结果。(f)吸收峰频率的偏移。 通过仿真和实验研究了样品的传感特性。分析得出，随着传感物厚度的增大，频移逐渐加大，当厚度大于100μm时得到了最佳的效果。计算得到传感器的灵敏度为S = 0.5 THz/RIU，品质因数为FOM = 95.9。所制造的垂直U型环超材料的高度为75μm，适用于检测具有一定厚度的分析物。因此，该研究选择了典型的乳糖和半乳糖粉末作为分析物来验证垂直U型环传感器的传感能力。如图3 (e)所示，在样品表面加载乳糖和半乳糖粉末后，吸收峰的中心频率分别变为0.5335 THz和0.7603 THz，频移分别为0.2665 THz与0.0397 THz，获得了有效且明显地频移，验证了样品在折射率传感等领域的应用潜力。官网：https://www.bmftec.cn/links/10

中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所（以下简称“苏州纳米所”）近日在中国政府采购网上发布2022年仪器采购意向，总采购预算高达8253万元，拟采购仪器品类包括HF/XeF2气相刻蚀设备、MBE-原位生长动力学研究设备、常压金属有机物化学气相沉积设备、超高真空管道、磁控溅射设备、低温强磁场综合物性测试设备、电子束蒸发台、多源有机蒸发镀膜设备、镜面反射吸收红外-程序升温脱附设备（原位红外吸收光谱）、镜面反射吸收红外-程序升温脱附设备（原位红外吸收光谱）-真空腔体、临时键合解键合机、脉冲激光沉积设备、湿氧氧化炉、原位Mask器件级图案化分子束外延设备、原位扫描电子显微镜、原位扫描电子显微镜-真空腔体、真空解离与钝化设备、准原位光谱系统。预计采购时间在2022年6月、10月和12月。其中12月采购仪器最多，拟采购15台（套）仪器；而6月和10月将分别采购2台（套）仪器和1台（套）仪器。从仪器采购需求上看，多数拟采购仪器应用于半导体研究领域。苏州纳米所由中国科学院与江苏省人民政府、苏州市人民政府和苏州工业园区于2006年共同创建，定位于纳米技术的应用基础研究和产业化，前瞻布局了电子信息、纳米材料、生物医学等重点研究领域，建设了纳米真空互联实验站、纳米加工平台、测试分析平台、生化平台4个集科研攻关与公共服务于一体的公共技术平台；密切围绕重点攻关领域，产出了一批原创性科技成果，自主研发了一系列仪器设备，形成了具有自身特点的科研体系。中科院苏州纳米所2022年仪器采购意向序号采购项目名称采购品目采购需求概况（点击查看）预算金额(万元)预计采购日期1临时键合解键合机A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情4502022年6月2湿氧氧化炉A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情4502022年6月3电子束蒸发台A02100499-其他分析仪器详见项目详情1902022年10月4常压金属有机物化学气相沉积设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情13742022年12月5磁控溅射设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情7322022年12月6真空解离与钝化A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情555.362022年12月7原位Mask器件级图案化分子束外延设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情8972022年12月8低温强磁场综合物性测试设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情4402022年12月9HF/XeF2气相刻蚀设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情2002022年12月10脉冲激光沉积设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情312.392022年12月11原位扫描电子显微镜A02100399-其他光学仪器详见项目详情2802022年12月12原位扫描电子显微镜-真空腔体A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情1802022年12月13镜面反射吸收红外-程序升温脱附设备（原位红外吸收光谱）A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情2502022年12月14镜面反射吸收红外-程序升温脱附设备（原位红外吸收光谱）-真空腔体A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情235.942022年12月15多源有机蒸发镀膜设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情3152022年12月16准原位光谱系统A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情3412022年12月17MBE-原位生长动力学研究设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情6002022年12月18超高真空管道A02052401-真空获得设备详见项目详情4502022年12月

7月20日，中国政府采访网发布《环境保护部辐射环境监测技术中心2016年中央财政国控辐射环境自动监测站建设项目招标公告》，包括甘肃、四川、北京等地的“国控21点”系统升级招标公告，以及边境自动站建设、全国辐射环境监测系统升级招标公告，预算金额共计2334万元。开标时间：2016年08月10日。　　详细内容如下：　　第一包：甘肃省“国控21点”系统升级招标公告　　甘肃省“国控21点”系统升级。本项目完成5个站点碘化钠谱仪、采样设备的改造安装等，并将监测数据传输至省级数据汇总中心及国家数据汇总中心。　　预算金额：340.0 万元(人民币)　　第二包：四川省“国控21点”系统升级公开招标公告　　四川省“国控21点”系统升级。本项目完成8个站点碘化钠谱仪、采样设备的改造安装等，采用性能指标先进、具有成功市场经验、性能稳定的成熟产品，并将监测数据传输至省级数据汇总中心及国家数据汇总中心。　　预算金额：460.0 万元(人民币)　　第三包：北京市“国控21点”系统升级招标公告　　本项目完成8个站点高压电离室、碘化钠谱仪、采样设备、气象设备等的改造安装等，并完成部分站点的一体化站房建设及配套基础设施建设，将监测数据传输至省级数据汇总中心及国家数据汇总中心。　　预算金额：535.0 万元(人民币)　　第四包：边境自动站建设公开招标公告　　在西藏、云南和内蒙古边境地区建设4个标准型大气辐射环境自动监测站，2个基本型大气辐射环境自动监测站。完成各站点高压电离室、碘化钠谱仪、采样设备、气象设备等设备的集成，采用性能指标先进、具有成功市场经验、性能稳定的成熟产品，并完成各站点的一体化站房建设及配套基础设施建设，并将监测数据传输至省级数据汇总中心、国家数据汇总中心和云平台。　　预算金额：814.0 万元(人民币)　　第五包：全国辐射环境监测系统升级招标公告　　全国辐射环境监测系统升级。1)对国家数据汇总中心硬件进行更新 2)对国控21点进行升级，在各子站增加必要的设备，需完成国家数据汇总中心数据接入服务 3)同时新建西藏、云南、内蒙6个自动站，完成数据接入国家数据汇总中心 4)开展云服务平台建设。　　预算金额：185.0 万元(人民币)

详细信息 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目公开招标公告 天津市-南开区 状态：公告 更新时间： 2022-12-05 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目公开招标公告 2022年12月05日 16:24 公告信息： 采购项目名称 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 品目 货物/专用设备/专用仪器仪表/教学专用仪器 采购单位 南开大学 行政区域 天津市 公告时间 2022年12月05日 16:24 获取招标文件时间 2022年12月06日至2022年12月12日每日上午:9:00 至 11:30 下午:13:30 至 16:00（北京时间，法定节假日除外） 招标文件售价 ￥500 获取招标文件的地点 天津市河北区狮子林大街200号6层 开标时间 2022年12月26日 10:00 开标地点 天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层第一会议室 预算金额 ￥600.000000万元（人民币） 联系人及联系方式： 项目联系人 王先生 项目联系电话 022-59009035 采购单位 南开大学 采购单位地址 天津市南开区卫津路94号南开大学八里台校区招投标管理办公室 采购单位联系方式 于老师 022-23501661 代理机构名称 天津津建工程造价咨询有限公司 代理机构地址 天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层 代理机构联系方式 王先生 022-59009035 项目概况 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 招标项目的潜在投标人应在天津市河北区狮子林大街200号6层获取招标文件，并于2022年12月26日 10点00分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号：NK2022S024WD（1700-2243JJBH1249） 项目名称：南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 预算金额：600.0000000 万元（人民币） 最高限价（如有）：600.0000000 万元（人民币） 采购需求： 多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统（1套）的供货、安装及售后服务。本项目允许进口产品投标。 合同履行期限：收到信用证后12个月内完成交货 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求： 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2.落实政府采购政策需满足的资格要求： 促进中小企业发展 促进中小企业发展明细：投标人为小型或微型企业的，且所投产品的制造厂家为小、微企业的，投标总价给予10%的扣除，用扣除后的价格参与价格评审。 支持监狱企业发展 支持监狱企业发展明细：投标人为监狱企业的，投标总价给予10%的扣除，用扣除后的价格参与价格评审。 强制、优先采购节能产品 强制、优先采购节能产品明细：供应商须书面承诺：在本项目中所使用的主要和辅助材料均须为中国境内生产的全新原装正品，并在项目实施过程中优先选用节能环保产品。如属于政府采购强制节能产品范围，则使用当期 节能产品政府采购清单 中的产品。 优先采购环境标记产品 优先采购环境标记产品明细：供应商须书面承诺：在本项目中所使用的主要和辅助材料均须为中国境内生产的全新原装正品，并在项目实施过程中优先选用节能环保产品。 促进残疾人就业 促进残疾人就业明细：根据财政部、民政部、中国残疾人联合会发布的《关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》规定，本项目对残疾人福利性单位产品的价格给予10%的扣除。注：小微企业以投标人填写的《中小企业声明函》为判定标准，残疾人福利性单位以投标人填写的《残疾人福利性单位声明函》为判定标准，监狱企业须投标人提供由省级以上监狱管理局、戒毒管理局（含新疆生产建设兵团）出具的属于监狱企业的证明文件，否则不予认定。以上政策不重复享受。 3.本项目的特定资格要求：1）须为在中华人民共和国境内注册，具备独立法人资格的企业，且符合《中华人民共和国政府采购法》第二十二条的规定，并提供其有效的“企业法人营业执照（副本）”复印件加盖公章，及满足资格要求的证明文件；2）供应商若为法人投标，须提供法定代表人身份证明书（需由法定代表人签字或盖章）和法定代表人身份证原件；供应商若为被授权人投标，须提供法人代表授权书（需由法定代表人签字或盖章）和被授权人身份证原件。3）供应商应具有履行合同提供本次采购仪器设备的供应能力、专业技术及服务能力，若为进口产品代理商参与本次投标，还应提供仪器设备制造商针对本项目出具的授权书。4）开标时由招标代理机构查询投标人在“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）无不良记录信息。对列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重违法失信行为记录名单的投标人，拒绝参与本次招标活动。 三、获取招标文件 时间：2022年12月06日 至 2022年12月12日，每天上午9:00至11:30，下午13:30至16:00。（北京时间，法定节假日除外） 地点：天津市河北区狮子林大街200号6层 方式：鉴于目前疫情防控形势，为了有效减少人员聚集和交叉感染，保证报名工作的顺利进行，提供以下两种方式： 1、现场领取：营业执照副本及“供应商资质要求”中要求的相关证件复印件加盖公章，以现金形式支付（选择采取此种方式，建议提前联系项目负责人）； 2、网上领取（建议采用此种方式），具体要求如下：（1）请将报名资料以扫描件形式发送至tjbh2016@126.com，邮件主题为：1700-2243JJBH1249报名信息，并电话联系项目负责人确认。（2）标书款以电汇或银行转账方式（为方便后期开具发票建议使用对公账户），汇至我公司的银行账号，并请在汇款备注中标明：“1700-2243JJBH1249标书款”（电汇信息及相关表格会以邮件方式发送）（3）标书款汇款后，请将汇款单截图、项目编号、投标人联系人、联系电话及投标人邮箱以邮件形式发送至上述邮箱。 （4）采用网上领取方式进行报名的，报名日期以标书款到账日期为准。注：已在南开大学招投标管理办公室新版网站登记注册的供应商，按以上要求报名。尚未登记注册的，须在南开大学招投标管理办公室新版网站右侧“供应商注册”入口进行注册。已在旧版网站注册的供应商须在新版网站重新注册，通过审核后方可购买招标文件，注册网址：http：//zbb.nankai.edu.cn，注册方法详见新版网站常用下载《供应商注册指南》。 售价：￥500.0 元，本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间：2022年12月26日 10点00分（北京时间） 开标时间：2022年12月26日 10点00分（北京时间） 地点：天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层第一会议室 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称：南开大学 地址：天津市南开区卫津路94号南开大学八里台校区招投标管理办公室 联系方式：于老师 022-23501661 2.采购代理机构信息 名 称：天津津建工程造价咨询有限公司 地 址：天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层 联系方式：王先生 022-59009035 3.项目联系方式 项目联系人：王先生 电 话： 022-59009035 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 基本信息 关键内容：镀膜机 开标时间：2022-12-26 10:00 预算金额：600.00万元 采购单位：南开大学 采购联系人：点击查看 采购联系方式：点击查看 招标代理机构：天津津建工程造价咨询有限公司 代理联系人：点击查看 代理联系方式：点击查看 详细信息 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目公开招标公告 天津市-南开区 状态：公告 更新时间： 2022-12-05 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目公开招标公告 2022年12月05日 16:24 公告信息： 采购项目名称 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 品目 货物/专用设备/专用仪器仪表/教学专用仪器 采购单位 南开大学 行政区域 天津市 公告时间 2022年12月05日 16:24 获取招标文件时间 2022年12月06日至2022年12月12日每日上午:9:00 至 11:30 下午:13:30 至 16:00（北京时间，法定节假日除外） 招标文件售价 ￥500 获取招标文件的地点 天津市河北区狮子林大街200号6层 开标时间 2022年12月26日 10:00 开标地点 天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层第一会议室 预算金额 ￥600.000000万元（人民币） 联系人及联系方式： 项目联系人 王先生 项目联系电话 022-59009035 采购单位 南开大学 采购单位地址 天津市南开区卫津路94号南开大学八里台校区招投标管理办公室 采购单位联系方式 于老师 022-23501661 代理机构名称 天津津建工程造价咨询有限公司 代理机构地址 天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层 代理机构联系方式 王先生 022-59009035 项目概况 南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 招标项目的潜在投标人应在天津市河北区狮子林大街200号6层获取招标文件，并于2022年12月26日 10点00分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号：NK2022S024WD（1700-2243JJBH1249） 项目名称：南开大学物理科学学院多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统采购项目 预算金额：600.0000000 万元（人民币） 最高限价（如有）：600.0000000 万元（人民币） 采购需求： 多腔体超高真空磁控溅射镀膜系统（1套）的供货、安装及售后服务。本项目允许进口产品投标。 合同履行期限：收到信用证后12个月内完成交货 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求： 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2.落实政府采购政策需满足的资格要求： 促进中小企业发展 促进中小企业发展明细：投标人为小型或微型企业的，且所投产品的制造厂家为小、微企业的，投标总价给予10%的扣除，用扣除后的价格参与价格评审。 支持监狱企业发展 支持监狱企业发展明细：投标人为监狱企业的，投标总价给予10%的扣除，用扣除后的价格参与价格评审。 强制、优先采购节能产品 强制、优先采购节能产品明细：供应商须书面承诺：在本项目中所使用的主要和辅助材料均须为中国境内生产的全新原装正品，并在项目实施过程中优先选用节能环保产品。如属于政府采购强制节能产品范围，则使用当期 节能产品政府采购清单 中的产品。 优先采购环境标记产品 优先采购环境标记产品明细：供应商须书面承诺：在本项目中所使用的主要和辅助材料均须为中国境内生产的全新原装正品，并在项目实施过程中优先选用节能环保产品。 促进残疾人就业 促进残疾人就业明细：根据财政部、民政部、中国残疾人联合会发布的《关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》规定，本项目对残疾人福利性单位产品的价格给予10%的扣除。注：小微企业以投标人填写的《中小企业声明函》为判定标准，残疾人福利性单位以投标人填写的《残疾人福利性单位声明函》为判定标准，监狱企业须投标人提供由省级以上监狱管理局、戒毒管理局（含新疆生产建设兵团）出具的属于监狱企业的证明文件，否则不予认定。以上政策不重复享受。 3.本项目的特定资格要求：1）须为在中华人民共和国境内注册，具备独立法人资格的企业，且符合《中华人民共和国政府采购法》第二十二条的规定，并提供其有效的“企业法人营业执照（副本）”复印件加盖公章，及满足资格要求的证明文件；2）供应商若为法人投标，须提供法定代表人身份证明书（需由法定代表人签字或盖章）和法定代表人身份证原件；供应商若为被授权人投标，须提供法人代表授权书（需由法定代表人签字或盖章）和被授权人身份证原件。3）供应商应具有履行合同提供本次采购仪器设备的供应能力、专业技术及服务能力，若为进口产品代理商参与本次投标，还应提供仪器设备制造商针对本项目出具的授权书。4）开标时由招标代理机构查询投标人在“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）无不良记录信息。对列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重违法失信行为记录名单的投标人，拒绝参与本次招标活动。 三、获取招标文件 时间：2022年12月06日 至 2022年12月12日，每天上午9:00至11:30，下午13:30至16:00。（北京时间，法定节假日除外） 地点：天津市河北区狮子林大街200号6层 方式：鉴于目前疫情防控形势，为了有效减少人员聚集和交叉感染，保证报名工作的顺利进行，提供以下两种方式： 1、现场领取：营业执照副本及“供应商资质要求”中要求的相关证件复印件加盖公章，以现金形式支付（选择采取此种方式，建议提前联系项目负责人）； 2、网上领取（建议采用此种方式），具体要求如下：（1）请将报名资料以扫描件形式发送至tjbh2016@126.com，邮件主题为：1700-2243JJBH1249报名信息，并电话联系项目负责人确认。（2）标书款以电汇或银行转账方式（为方便后期开具发票建议使用对公账户），汇至我公司的银行账号，并请在汇款备注中标明：“1700-2243JJBH1249标书款”（电汇信息及相关表格会以邮件方式发送）（3）标书款汇款后，请将汇款单截图、项目编号、投标人联系人、联系电话及投标人邮箱以邮件形式发送至上述邮箱。 （4）采用网上领取方式进行报名的，报名日期以标书款到账日期为准。注：已在南开大学招投标管理办公室新版网站登记注册的供应商，按以上要求报名。尚未登记注册的，须在南开大学招投标管理办公室新版网站右侧“供应商注册”入口进行注册。已在旧版网站注册的供应商须在新版网站重新注册，通过审核后方可购买招标文件，注册网址：http：//zbb.nankai.edu.cn，注册方法详见新版网站常用下载《供应商注册指南》。 售价：￥500.0 元，本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间：2022年12月26日 10点00分（北京时间） 开标时间：2022年12月26日 10点00分（北京时间） 地点：天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层第一会议室 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称：南开大学 地址：天津市南开区卫津路94号南开大学八里台校区招投标管理办公室 联系方式：于老师 022-23501661 2.采购代理机构信息 名 称：天津津建工程造价咨询有限公司 地 址：天津市河北区狮子林大街200号泰鸿大厦6层 联系方式：王先生 022-59009035 3.项目联系方式 项目联系人：王先生 电 话： 022-59009035

随着材料科学的蓬勃发展，尤其是高水平的量子材料研究与应用对薄膜材料、二维材料的制备和高精度加工要求越来越高。一套完整流程的薄膜制备与加工设备购置成本通常要在几百万到上千万元。此外，大型设备操作繁复，存放空间大、日常维护成本高，给科研人员带来了很大挑战。依赖于共享方案的科研平台由于设备预约周期长，会大大减慢科研进度。为了快速、低成本的实现高质量的材料制备与加工，让科研计划进入快车道。英国Moorfield Nanotechnology公司与多所名校以及获得诺贝尔奖的课题组长期合作，推出了一系列高性能台式设备, 专门用于各种薄膜材料的高质量制备和加工。该系列产品具有体积小巧、快速制备样品、灵活配置方案等特点，一经推出即受到包括剑桥大学、帝国理工、英国物理实验室等科研单位的青睐。从多功能金属、缘材料溅射到有机物、金属热蒸发；从高质量石墨烯CVD快速制备到高质量碳纳米管CVD趋向生长；从样品、衬底的热处理到单层二维材料的软刻蚀与缺陷加工。Moorfield系列产品已经获得欧洲用户的广泛认可，产品质量与性能完全可以媲美大型设备，一些方面甚至远超大型设备。台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD专为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。该系列产品包含磁控溅射、金属/有机物热蒸发系统。这些设备不仅体积小巧而且性能，能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备，通常在大型设备中才有的共溅射、反应溅射、共蒸发功能也可在该系列产品上实现。台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD系统采用低热容的样品台可在2分钟内升温至1000℃并控温，该装置采用了冷壁技术，样品生长完毕后可以快速降温，正是因为这些条件可以让用户在30分钟内即可获得高质量的石墨烯。nanoCVD具有压强自动控制系统，可以的控制石墨烯生长过程中的气氛条件。用户通过触屏进行操作，更有内置的标准石墨烯生长示例程序供用户参考。非常适合需要持续快速获取高质量石墨烯用于高质量学术研究的团队。目前，埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学等很多全球著名的高校都是该系统的用户。台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前微纳加工中常用的刻蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，nanoETCH系统对输出功率的分辨率可达毫瓦量，可实现二维材料超逐层刻蚀、层内缺陷制造，以及对石墨基材或衬底等的表面处理。台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEALMoorfield专门为制备高质量的样品而推出的台式气氛\压力控制高温退火系统，不仅可以满足从高真空到各种气氛的退火需求，还能对气压和温度进行控制，从而为二维材料、基片等进行可控热处理提供重要保障。该系统颠覆了传统箱式、管式炉的粗放退火方式，开创了退火的新篇章。台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEMnanoEM是Moorfield Nanotechnology为SEM、TEM样品的表面导电处理以及普通样品的高质量电生长而设计的金属溅射系统。系统配备SEM样品托、TEM样品网、普通薄膜样品等多种专用样品台。虽然该系统主要为溅射金属而设计，但是该设备的性能已经达到了高质量薄膜样品的制备标准。通过选择不同的配置可以兼顾样品的表面导电处理、电制备与学术研究型薄膜样品的制备。多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEMMoorfield高性能台式薄膜制备与加工设备以超高质量、亲民的价格快速实现您的科研方案，想获取更多详细信息吗？还等什么，现在就联系我们吧！

半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，常见的半导体材料有硅、锗以及化合物半导体，如砷化镓等 也可以通过掺杂硼、磷、锢和锑制成其它化合物半导体。其中硅是最常用的一种半导体材料。　　半导体广泛应用于集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域。半导体领域的科技竞争对于世界各国而言都具有重要的战略意义。仪器信息网特对半导体领域国家重点实验室仪器配置情况进行盘点。　　半导体领域国家重点实验室有哪些?半导体领域国家重点实验室半导体国家重点实验室依托单位实验室主任半导体照明联合创新国家重点实验室半导体照明产业技术创新战略联盟李晋闽半导体超晶格国家重点实验室中国科学院半导体研究所王开友高功率半导体激光国家级重点实验室长春理工大学马晓辉电子薄膜与集成器件国家重点实验室电子科技大学李言荣专用集成电路与系统国家重点实验室复旦大学严晓浪集成光电子学国家重点实验室清华大学、吉林大学、中国科学院半导体研究所罗毅硅材料国家重点实验室浙江大学钱国栋　　半导体照明联合创新国家重点实验室　　为培育战略性新兴产业，整合业内技术、人才、信息等资源，实现投入少、回报高、见效快的技术创新模式，提升我国半导体照明产业自主创新能力和速度，在科技部、财政部等六部门联合发布的《关于推动产业技术创新战略联盟构建的指导意见》指导下，根据科技部要求试点联盟积极探索整合资源，构建产业技术创新平台的精神，在基础司和政策法规司的共同推动下，于2012年1月正式批复依托半导体照明产业技术创新战略联盟建设半导体照明联合创新国家重点实验室。　　这是我国第一个依托联盟建立的国家重点实验室，是一个体制机制完全创新的公共研发平台，始终坚持以产业价值为核心价值的理念，以产业技术创新需求为基础，以完善技术创新链为目标，企业以项目资金投入，科研机构、大学和其他社会组织以研发人员和设备的使用权投入，充分利用和整合现有资源，探索形成多种形式的政产学研用协同创新模式，推动建立基础研究、应用研究、成果转化和产业化、先进技术标准研制紧密结合、协调发展机制探索持续性投入机制，逐步形成可持续发展的开放的、国际化的非营利研究实体，成为半导体照明的技术创新中心、人才培养中心、标准研制中心和产业化辐射中心。2013年1月实验室在荷兰设立其海外研发实体机构—“半导体照明联合创新国家重点实验室代尔夫特研究中心”，成为中国首个在海外建立分中心的国家重点实验室。半导体照明联合创新国家重点实验室仪器配置清单半导体照明联合创新国家重点实验室仪器配置五分类血液分析仪制备液相全自动生化分析仪激光共聚焦显微镜液相色谱/三重串联四极杆质谱联用系统分析液相圆二色谱仪LED照明灯具全部光通量在线加速测试设备部分光通量加速寿命在线测试评估系统高温试验箱LFC(LightFluxColor)光度色度测试系统半导体分立器件测试仪微波式打胶机化学清洗工作台感应耦合等离子刻蚀机ICP电子束蒸发台(金属)电子束蒸发台(ITO)电镀台快速合金炉石墨烯生长系统台阶仪激光晶圆划片设备裂片机激光剥离机键合机水平减薄机单面研磨机数控点胶机喷射式点胶机光学镀膜系统超声波金丝球压焊机LED全光功率测试系统LED自动分选机热特性测试设备半导体参数测试仪低温强磁场物性测试系统(EMMS)LED光电综合测试系统LED抗静电测试仪激光纳米粒度及Zeta电位测试仪LED照明产品光电热综合测试高频小信号测试系统紫外LED光谱功率测试系统手动共晶焊贴片机荧光光谱仪(PI)高速自动固晶机自动扩膜机全自动晶圆植球机倒装机高精度快速光谱辐射计近紫外-可见-红外光谱测试系统热电性能分析仪氢化物气相外延荧光光谱仪(PL)X射线衍射仪(XRD)扫描电子显微镜(SEM)手动共晶焊贴片机(UDB-141)激光晶圆划片设备电子束蒸发台(金属)等离子体增强化学气相沉积PECVD光刻机MOCVD数据定时脉冲发生器频谱分析仪光源光色电综合测试系统超声波扫描显微镜漏电流测试仪智能数字式灯头扭矩仪逻辑分析仪　　半导体超晶格国家重点实验室　　半导体超晶格国家重点实验室于1988年3月由国家计委组织专家论证并批准后开始筹建，1990年开始对外开放，1991年11月通过了由国家计委组织的验收委员会验收。现任实验室主任为王开友研究员。实验室学术委员会主任为高鸿钧院士。　　实验室以研究和探索半导体体系中的新现象和新效应为主要目标，通过对固体半导体中的电子、自旋和光子的调控，探索其在电子/自旋量子信息技术、光电子及光子器件中的潜在应用，从最基础的层面上提升我国电子、光电子、光子信息技术的创新能力，提升我国在半导体研究领域的国际竞争力。实验室先后有5位成长为中国科学院院士、12位成长为国家杰出青年基金获得者。为我国半导体科学技术的跨跃式发展做出重要贡献。　　实验室现有人员中包括研究员26人、高级工程师1人和管理人员1人，其中4位中国科学院院士、9位国家杰出青年基金获得者、3位优秀青年科学基金获得者、1位北京杰出青年基金获得者。　　自成立以来，实验室承担了近百个科技部、基金委和科学院的重大和重点项目，取得了可喜的科研成果，获得国家自然科学奖二等奖5项 黄昆先生获得2001年度国家最高科学技术奖。2004年半导体超晶格国家重点实验室被授予国家重点实验室计划先进集体称号。实验室具有良好的科研氛围、科研设备和环境条件，拥有雄厚的科研积累和奋发向上的科研团队，并多次获得国家自然基金委员会的创新研究群体科学基金。　　实验室每年可接收40名硕士、博士研究生和博士后。现有研究生和博士后100余人。　　*半导体超晶格国家重点实验室仪器配置情况未公布　　高功率半导体激光国家级重点实验室　　高功率半导体激光国家重点实验室成立于1997年，由原国防科工委和原兵器工业总公司投资建设，经过二十年的发展建设，实验室已经成为我国光电子领域的重要研究基地和人才培养基地之一。现有科研、办公面积3800平方米，超净实验室面积为1500平方米 生产开发平台面积为600平方米，其中超净实验室面积为200平方米。　　现有博士学位授权一级学科2个、硕士学位授权一级学科2个、国防特色学科1个、博士后科研流动站1个。实验室有研究人员36人，其中双聘院士1人、教授9人、副教授10人，博士生导师10人，科技部重点研发计划总体专家1人，国家奖评审专家1人，国防科学技术奖评审专家1人，吉林省长白山学者1人。实验室现有MBE、MOCVD等先进的半导体材料外延生长设备，SEM、XRD、PL等完善的材料分析检测手段，电子束蒸发、磁控溅射、芯片解理、贴片、激光焊接、平行封焊、综合测试等工艺设备，设备资产1.2亿元，为光电子领域的相关研究提供了一流的条件支撑。　　在半导体激光研究方向上，高功率半导体激光国家重点实验室代表着国家水平，研制的半导体激光器单管输出功率大于10瓦、光纤耦合模块大于100瓦、以及高频调制、脉冲输出等半导体激光器组件，技术处于国内领先水平 在基础研究领域，深入开展了GaSb材料的外延生长理论及技术研究，研究成果达到国际先进水平 在半导体激光应用基础技术研究领域，坚持以满足武器装备应用为目标，研制的驾束制导半导体激光发射器成功用于我军现役主战坦克武器系统，实现了驾束制导领域跨越式发展 研制的激光敏感器组件已经用于空军某型号末敏子弹药中，并将在多个武器平台上推广应用。近年来，实验室在国内外重要学术刊物上发表论文600余篇，出版专著7部，获国家、省部级奖励40余项，申请发明专利50余项，鉴定成果40余项，对我国的国防武器装备发展作出了重要贡献。高功率半导体激光国家级重点实验室仪器配置清单高功率半导体激光国家级重点实验室仪器配置感应耦合等离子体刻蚀扫描电子显微镜光刻机磁控溅射镀膜机等离子体增强化学气相沉积系统X射线双晶衍射仪光刻机快速图谱仪电化学C-V分布测试仪,PN4300,英国伯乐光荧光谱仪特种光纤熔接机丹顿电子束镀膜机SVT超高真空解理机光谱分析仪莱宝电子束镀膜机半导体激光器芯片贴片机金属有机化合物化学气相沉淀（MOCVD）磁控溅射台　　电子薄膜与集成器件国家重点实验室　　电子薄膜与集成器件国家重点实验室是以教育部新型传感器重点实验室、信息产业部电子信息材料重点实验室和功率半导体技术重点实验室为基础于2006年7月建立的。　　目前，实验室紧密围绕国家IT领域的战略目标，立足于电子信息材料与器件的发展前沿，坚持需求与发展并举、理论与实践并重，致力于新型电子薄膜材料与集成电子器件的研究和开发，促进材料—器件—微电子技术的交叉和集成。　　实验室现有研究人员80人，管理人员6人，技术人员3人 客座研究人员18人。在固定研究人员中已形成以陈星弼院士为带头人的一支以45岁左右为核心、35岁左右为主力的骨干研究队伍。队伍中包括了中国科学院院士1人，中国工程院院士1人，国家自然基金委创新团队2个，国防科技创新团队1人，教育部创新团队2人，博导58人。实验室拥有1个国家重点学科、5个博士点以及5个硕士点，已具备每年250名左右硕士生、40名左右博士生、20名左右博士后的人才培养规模。　　实验室覆盖了微电子学与固体电子学、电子材料与元器件、材料科学与工程、材料物理化学、材料学5个博士点学科，拥有电子科学与技术、材料科学与工程2个博士后流动站，其中微电子学与固体电子学为国家重点学科。实验室面积近4000m2，拥有仪器设备500余套，价值8000余万人民币。已初步建成具有国际水平的“材料与器件制造工艺平台”、“微细加工平台”、“电磁性能测试与微结构表征平台”和“集成电路设计平台”，具备承担国家重大基础研究项目的能力。　　近5年，实验室科研工作硕果累累。目前，实验室共承担包括国家自然基金、973、863等各类项目在内的民口纵向项目和校企合作项目等科技项目共约200余项，总经费达2亿元，其中，2009年的科研经费超过7000万元。科研成果获国家级奖励7项，省部级奖24项，市级奖5项，申请发明专利150余项，获得包括美国发明专利在内的专利授权40余项，发表学术论文1000余篇，出版学术专著和教材7部。取得了包括“新耐压层与全兼容功率器件”等一系列标志性成果。实验室坚持面向社会，服务社会，致力于科研成果的推广和应用，“半导体陶瓷电容器”、“功率铁氧体及宽频双性复合材料”、“集成电路系列产品”等科研成果的成功转化，企业取得4亿多元的直接经济效益及良好的社会效益。　　*电子薄膜与集成器件国家重点实验室仪器配置情况未公布　　专用集成电路与系统国家重点实验室　　专用集成电路与系统国家重点实验室(复旦大学)于1989年经国家计委批准建设，1995年9月正式通过国家验收。实验室依托复旦大学国家重点一级学科“电子科学与技术”，以及“微电子学与固体电子学”与“电路与系统”两个国家重点二级学科。　　实验室面向集成电路国际主流的学术前沿问题和国家集成电路产业发展的重大需求，聚焦高能效系统芯片及其核心IP设计，开展数字、射频与数模混合信号集成电路设计创新研究，同时进行新器件新工艺和纳米尺度集成电路设计方法学的研究。形成国际领先并满足国家战略需求的标志性创新成果，使实验室成为我国在集成电路设计方向上科学研究、技术创新与高层次人才培养具有国际重要影响力的基地，为我国集成电路产业尤其是集成电路设计产业的跨越式发展做出重大贡献。　　瞄准国际集成电路发展前沿，面向国家重大需求，面向国民经济主战场，紧紧围绕主要研究方向，实验室承担了大量国家863计划、973计划、国家科技重大专项、国家自然科学基金、国防预研项目、省部级项目以及各类国际合作项目，在国际重要刊物和国际会议上发表大量高质量学术论文，获得多项授权发明专利，荣获多项国家级二等奖、省部级一等奖、二等奖等奖项。　　实验室现有固定人员68人，其中，教授(研究员)43人，包括中国工程院院士1人，国家千人计划入选者5人，国家青年千人2人，国家杰出基金获得者4人，长江学者特聘教授2人、IEEEFellow1人。在实验室现有固定人员中，有多名国家和部委聘任的科技专家，包括1名国家“核心电子器件、高端通用芯片及基础软件产品”科技重大专项专家，2名国家“极大规模集成电路装备和成套工艺”科技重大专项专家，4名科技术“863”计划专家库专家。按照“创新团队+优秀研究小组”的建设思路，打造了实验室年轻化、团队化、国际化的研究队伍。　　实验室拥有器件与工艺子平台环境和集成电路设计环境。器件与工艺子平台现有千级净化面积约600平方米，百级净化面积100平方米，配备了价值近1亿元的设备，具有开展先进纳米CMOS器件和工艺的研发能力。集成电路设计环境已可提供Cadence、MentorGraphics、Synopsys、Altera、Xilinx等著名国际公司软件环境，提供相应的标准化仿真模型，支持教学、科研、产品设计与制造。实验室平台本着“集中、共享、升级、开放”的原则为实验室的科学研究服务。　　实验室积极开展多渠道学术交流，承办ICSICT、ASICON等多个重要国际会议，参加学术会议并做特邀报告，积极开展国际科技合作和交流。依托“重点实验室高级访问学者基金”和设立开放课题，吸引国内外高水平研究人员来实验室开展合作研究，加强了实验室研究的前瞻性和国际化程度。专用集成电路与系统国家重点实验室仪器配置清单专用集成电路与系统国家重点实验室仪器配置热阻蒸发镀膜设备化学气相沉积系统全自动探针台存储器参数测试系统半导体存储器参数测试仪扫描探针显微镜手动探针台电学测试系统台阶分析仪芯片测试系统柔性四件组装加工手套箱大面积柔性三维光刻柔性电子制造设备亚微米级贴片设备无线和微波频段测试系统激光键合设备台式扫描式电子显微镜柔性四件电化学加工测试平台高性能频谱分析仪高性能频谱分析仪等离子刻蚀系统实验室电路板快速系统（激光机）射频探针台原位纳米力学测试系统超低温手动探针台智能型傅立叶红外光谱分析仪显微喇曼/荧光光谱仪数字电视芯片测试系统气相沉积系统薄膜沉积系统化学气相沉积系统超高真空激光分子束系统原子层淀积系统矢量网络分析仪微波退火设备准分子气体激光器高精密电学测试探针台纳米热分析系统信号源分析仪频谱分析仪X射线衍射仪矢量网络分析仪矢量信号源实时示波器椭圆偏振光谱仪硬件加速仿真验证仪频谱分析仪矢量信号发生器矢量信号分析仪铜互连超薄籽晶层集成溅射和测试系统半导体晶片探针台互连铜导线成分分析仪化学气相沉积系统低介电常数介质电容（K值）测试设备微细加工ICP刻蚀机快速热退火系统探针测试台半导体参数分析仪白光干涉仪桌上型化学机械抛光设备纳米压印设备原子层淀积系统高精度探针台探针测试台纳米器件溅射仪存储薄膜溅射仪原子层化学气相沉淀系等离子反应离子刻蚀机物理气相淀积系统等离子体增强介质薄膜化学机械抛光系统铜电镀系统　　集成光电子学国家重点实验室　　集成光电子学国家重点实验室成立于1987年，1991年正式对外开放。现由吉林大学和中国科学院半导体研究所两个实验区联合组成。在1994年、2004年国家重点实验室建立十周年以及二十周年总结表彰大会上，被评为“国家重点实验室先进集体“，并获“金牛奖”。在2002年、2007年、2012年信息领域国家重点实验室评估中，连续三次被评为“优秀实验室”，2017年被评为“良好实验室”。　　研究方向包括有机光电器件、宽禁带半导体材料与器件、超快光电子、纳米光电子、能源光电技术五个研究方向。实验室重点研究基于半导体光电子材料、有机光电子材料、微纳光电子材料的各种新型光电子器件以及光子集成器件和芯片，研究上述器件及芯片在光纤通信系统与网络、信息处理与显示中的应用技术。研究内容为：半导体光电子材料(包括低维量子结构材料)、有机光电子材料、微纳光电子材料 新型光电子器件物理(包括器件结构设计与模拟) 基于上述材料的光电子集成器件的制作工艺及其功能芯片集成技术 光电子器件及芯片在光通信、光互连、光显示、光电传感方面应用技术研究。　　*集成光电子学国家重点实验室仪器配置情况未公布　　浙江大学硅材料国家重点实验室　　1985年，在浙江大学半导体材料研究所的基础上，由原国家计委批准建设硅材料国家重点实验室(原名高纯硅及硅烷国家重点实验室)，88年正式对外开放。是国内最早建立的国家重点实验室之一。以重点实验室为依托的浙江大学材料物理与化学学科(原半导体材料学科)一直是全国重点学科，1978年获批国内首批硕士点(半导体材料)，1985年获批国内第一个半导体材料工学博士点。　　从上世纪50年代开始，浙江大学在硅烷法制备多晶硅提纯技术、掺氮直拉硅单晶生长技术基础研究等取得系列重大成果，在国际上占有独特的地位 同时，实验室一直坚持“产、学、研”紧密结合，培育出浙江金瑞泓科技股份有限公司等国内硅材料的龙头企业，取得显著经济效益。自上世纪90年代以来，实验室研究方向不断拓宽。目前，实验室以硅为核心的半导体材料为重点，包括半导体硅材料、半导体薄膜材料、复合半导体材料以及微纳结构与材料物理等研究方向。　　2013年至2017年期间，实验室共获得国家自然科学二等奖2项，国家技术发明二等奖2项，浙江省科学技术(发明)一等奖5项，技术发明一等奖1项。江西、湖北省科学技术进步(技术发明)一等奖各1项(合作)，教育部自然科学二等奖1项，浙江省科学技术进步二等奖2项。发表SCI检索论文1996篇，获得授权国家发明专利492项，国际专利5项。已成为国家在本领域的科学研究、人才培养和国际交流的主要基地之一。　　浙江大学硅材料国家重点实验室仪器配置清单　　硅材料国家重点实验室仪器配置扫描探针显微镜周期式脉冲电场激活烧结系统振动样品磁强计针尖增强半导体材料光谱测试系统低维硅材料的原位扫描隧道显微分析系统热常数分析仪超高温井式冷壁气密罐式炉系统角分辨X射线光电子能谱仪原子力显微镜热台偏光显微系统近场光学显微镜光度式椭圆偏振光谱仪高真空热压烧结炉等离子体增强化学气相沉积法磁控溅射镀膜系统深能级瞬态谱仪傅里叶红外光谱仪微波光电导衰减寿命测试仪变温高磁场测试系统同步热分析仪铸造炉扫描电子显微镜高分辨透射电子显微镜　　　除了上述国家重点实验室，还有新型功率半导体国家实验室以及光伏技术国家重点实验室等企业国家重点实验室。　　此外，还有中科院半导体材料科学重点实验室、宽带隙半导体技术国家重点学科实验室、光电材料与技术国家重点实验室、发光材料与器件国家重点实验室、发光学及应用国家重点实验室等半导体领域相关的实验室等。中国科学院半导体材料科学重点实验室仪器配置清单中国科学院半导体材料科学重点实验室仪器配置1.量子点、量子级联工艺线分子束外延生长系统（MBE）掩膜对准曝光机表面轮廓测量系统双腔室PECVD/电子束蒸发镀膜真空蒸发台等离子体去胶机精密研磨抛光系统快速热处理设备高分辨光学显微镜清洁处理湿法腐蚀金丝球焊机高精度粘片机傅立叶变换远红外光谱仪拉曼光谱仪原子力显微镜数字源表（吉时利2601）电化学CV测试系统2.PIC工艺线仪器设备MOCVDICPPECVD光刻机蒸发台磁控溅射反应离子刻蚀设备台式扫描电子显微镜Maping微区荧光光谱仪X射线双晶衍射高分辨XRD测试系统解理烧结机镀铟管芯测试设备激光加工机PIC测试:探针座+探针变温测试频谱仪矢量网络分析测试自相关仪脉冲宽度测试FROG激光线宽测试Rin测试远场测试PIV测试传输损耗测量光纤光谱仪3.GaN基微电子器件工艺线MOCVD设备变温霍尔测试系统非接触方块电阻测试系统台阶仪表面平整度测试系统光学显微镜高分辨XRD测试系统光电效率测试系统高温恒温箱快速退火炉磁控溅射PECVDICP光刻系统4.材料生长与制备工艺线磁控溅射离子束溅射CVD系统旋涂机、热板、快速退火碳化硅外延设备原子层沉积分子束外延低压液氮灌装石墨烯外延炉分子束外延设备CBE快速热退火炉退火炉MOCVDHVPE快速退火炉真空烘烤MBEMP-CVD阻蒸电子束蒸发联合镀膜机箱式退火炉低维材料生长、器件制备平台分子束外延设备MBE5.材料测试与表征原子力显微镜傅里叶红外光谱量子效率测试电池I-V测试霍尔测试仪探针台四探针测试仪光栅光谱仪变温测试台半导体参数测试仪3000V、500A深能级缺陷测量系统霍尔测试深紫外光致发光光谱阴极荧光光谱近紫外－可见－近红外光致发光光谱变温霍尔半导体发光器件测试紫外可见分光光度计荧光光谱仪太阳能电池I-V测试系统电化学工作站四探针测试台偏振调制光谱测试系统(陈涌海)微区RDS测试系统光电流测试系统红外光栅光谱仪（0.8-5μm）激光参数测试系统傅立叶变换红外光谱仪傅立叶变换中红外光谱仪宽带隙半导体技术国家重点学科实验室仪器配置清单宽带隙半导体技术国家重点学科实验室仪器配置晶片生长系统MOCVD非接触迁移率测量系统霍尔效应测试系统非接触式方块电阻测试仪微波等离子化学气相沉积系统半导体器件分析仪光谱椭偏仪镜像显微镜.金属镀膜系统高分辨X射线衍射仪拉曼光谱仪脉冲激光沉淀系统电子束蒸发台磁控溅射镀膜机高速电子束蒸发台LED显微镜台阶仪快速热退火炉等离子去胶机高温快速退火炉反应离子刻蚀等离子增强原子层沉淀系统等离子增强化学气相淀积感应耦合等离子体刻蚀机研磨抛光机高低温烘胶机光刻机接触式紫外光刻机电子束直写光刻机探针台半导体参数测试仪微波测试探针台DRTS测试仪扫描式电子显微镜微波大功率晶体管老化系统微波功率测试系统分子束外延设备　　综合来看，光刻机、化学气相沉积设备、电镜（尤其是扫描电镜和原子力显微镜）、X射线衍射、磁控溅射仪、半导体参数测试仪、能谱仪、探针测试台、刻蚀设备、光谱测试设备、蒸发镀膜设备、椭偏仪、分子束外延设备等仪器配置频率较高。　　信息统计来源于各国家重点实验室官网，部分实验室罗列仪器设备较全，部分实验室仅罗列了最主要或特色的仪器设备，因此结果仅供参考。另外其中有些仪器类型可能存在并列或包含关系，并未进行详细区分。

二维铁磁材料因其薄层结构和独特的物理特性，在电子、自旋电子学和磁性存储等领域具有广泛的应用潜力。这些材料的研究对于推动相关技术的发展至关重要。低温强场微区激光克尔显微成像系统在研究二维铁磁材料时具有独特的优势。近日，山西师范大学的许小红教授和薛武红教授合作，利用致真自主研发的低温强场微区激光克尔显微成像系统进行实验研究，报道了二维铁磁Cr5Te8材料的亚毫米级可控制备，并发现该材料具有畴壁成核控制的磁化反转过程和非单调磁场相关的磁电阻，研究成果以“Controlled Growth of Submillimeter-ScaleCr5Te8 Nanosheets and the Domain-wall Nucleation Governed Magnetization Reversal Process”为题，在国际顶级期刊Nano Letters（SCI一区TOP，影响因子：10.8）上发表。论文原文：https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.nanolett.3c04200亚毫米级二维Cr5Te8及其磁畴演化和非单调磁电阻低温强场微区激光克尔显微成像系统对该研究助力具体表现在：1. 磁化反转过程的直接观察：高分辨率的克尔显微镜结合真空制冷台，对Cr5Te8纳米片的磁化过程进行了全面的研究。通过首先用大磁场饱和样品的一个方向，然后施加相反方向的磁场，观察到了磁化反转的详细过程。2. 磁畴结构和演化的分析：克尔显微镜用于捕捉Cr5Te8纳米片的磁畴演化过程，包括磁畴壁的传播。文章中指出，通过逐步增加磁场，清晰地捕捉到了磁化反转过程中的磁畴壁传播。3. 磁畴壁传播的最小场强确定：通过克尔显微镜的观察，确定了在样品中磁畴壁传播所需的最小场强大约是30-45 mT，无论是对于两个磁化方向中的哪一个。4. 磁化反转机制的理解：克尔显微镜的观察结果揭示了磁畴壁成核在控制磁化反转过程中的主导作用，这为优化相关设备的性能（如效率、稳定性等）提供了重要的参考。6. 温度依赖性研究：通过在不同温度下使用克尔显微镜，研究了Cr5Te8纳米片的磁化过程随温度变化的行为，发现了居里温度（Curie temperature, TC）随样品厚度变化的倾向。低温强场微区激光克尔显微成像系统是研究Cr5Te8纳米片磁化过程、磁畴结构和演化、以及磁化反转机制的关键工具，为深入理解材料的磁性能和优化磁电子器件的性能提供了重要的实验数据和见解。二维铁磁材料磁性能表征利器低温强场微区激光克尔显微成像系统，能够将高分辨率磁畴成像与高精度磁滞回线扫描结合，常温垂直强磁场(1.4 T)与面内强磁场(1 T)；样品处温度范围:5K-420 K,温度稳定性±50 mK；激光功率可调；磁铁及样品托采用滑道设计，方便不同需求测试的切换；预留扩展接口，将磁场及低温环境平台化，方便兼容其他类型的光学测试；运用差分放大和锁相技术可实现二维材料磁性的精确探测；适用于自旋器件或微米尺寸材料的磁性精确测量，集电学、磁学、光学、变温测试于一身，是专为二维磁性材料研究打造的专家级科研设备。微米级光斑和精确定位在样品待测区域,实现微区的磁滞回线精确探测弱磁薄膜测试结果对比致真激光克尔显微镜测试结果↑↑↑某国际顶尖公司产线级设备测试结果↑↑↑研究背景：以电子自旋为主要信息载体的自旋电子器件具有体积小、速度快、功耗低等优势，是后摩尔时代信息存储器件的有力竞争者。特别是，二维磁性材料的发现为构建新功能的磁电子器件提供了材料基础。二维磁性材料在原子层厚度依然保持长程磁序，具有表面无悬挂键、弱层间耦合、可进行“原子乐高”功能异质集成、易于调控等优势，在高密度磁信息存储和自旋电子学领域具有重要应用前景，成为国际上的前沿热点。然而，二维磁性材料目前存在居里温度较低、环境不稳定、难以大尺寸可控制备等困难，极大地限制了其应用和发展。因此，探索稳定性更好的新型二维磁性材料，并用简便、经济可控的方法实现其大尺寸超薄制备，对于推动二维磁性材料的应用具有重要的意义与价值。此外，磁性二维材料的磁畴及其演变能够为相关器件的性能优化提供重要参考。结论：基于此，该团队开发了一种简单、经济、可扩展、氢修饰的化学气相沉积方法，可控合成了亚毫米级超薄高质量Cr5Te8磁性纳米片。值得一提的是，纳米片横向尺寸最大可达450μm、空气稳定性好且居里温度较高。此外，通过对Cr5Te8纳米片的磁畴演化的直接观察，揭示了畴壁成核在控制磁化逆转过程中的主导作用。有趣的是，Cr5Te8纳米片表现出非单调磁电阻特性。该工作在CVD法制备大尺寸二维磁性材料领域实现了重要突破，为在二维尺度理解和调控磁相关性质提供了理想平台，有望推动二维磁性材料在自旋电子学器件中的应用和发展。致真精密仪器拥有核心专利四十余项，研发的多款产品曾多次助力国内优秀的科研工作者取得高水平科研成果。我们拥有一支专业且经验丰富的研发、销售、技术支持和本地化服务的团队，团队中大多数人员为高学历专业硕博人才，致力于为先进材料科学与技术创新领域的科研及企业客户提供个性化、专业化的产品、服务和整体解决方案，让先进材料领域的科研与创新更加简单、高效。致真精密仪器一直以来致力于实现高端科技仪器和集成电路测试设备的自主可控和国产替代。致真精密仪器通过工程化和产业化攻关，已经研发了一系列磁学与自旋电子学领域的前沿科研设备，包括“产品包含原子力显微镜、高精度VSM、MOKE等磁学测量设备、各类磁场探针台、磁性芯片测试机等产线级设备、物理气相沉积设备、芯片制造与应用教学训练成套系统等”等，如有需要，我们的产品专家可以提供免费的项目申报辅助、产品调研与报价、采购论证工作。另外，我们可以为各位老师提供免费测试服务，有“磁畴测试”、“SOT磁畴翻转”、“斯格明子观测”、“转角/变场二次谐波”、“ST-FMR测量”、“磁控溅射镀膜”等相关需求的老师，可以随时与我们联系。