镀膜提拉机

Ossila公司浸渍提拉镀膜机英国Ossila公司浸渍提拉镀膜机性能卓越，内置软件，操作简单，价格经济，为科研领域工作者提供一款理想的适用于液相镀膜制备而设计的精密仪器。目前在化学、材料科学的研究中，被广泛应用于溶胶-凝胶（sol-gel）法薄膜材料制备。如硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金属等所有固体材料表面薄片材料镀膜工艺，可以控制膜片提出速度，进而控制涂层厚度，保证良好重复性。提供2年的质保，为使用者提供更高的保障。功能特征u 高精度电机---Ossila浸渍提拉镀膜机采用高精度电机，样品浸渍重复性好。u 平滑运动---Ossila浸渍提拉镀膜机采用微频步进电机，基片浸入、提出过程平滑准确，保证浸渍镀膜效果。u 基片兼容性好---各种尺寸、形状和材质的基片都可以，兼容性好。u 浸渍速度可设置范围广---Ossila浸渍提拉镀膜机基片浸提速度自0.01mm/秒至50mm/秒可设置。只需一台浸渍提拉镀膜机,便可以实现不同厚度的浸渍镀膜效果。u 形体小巧---Ossila浸渍提拉镀膜机占地面积小，只需20cmx30cm空间即可工作，适合大多数实验室。u 坚固耐用，防滑式设计---Ossila浸渍提拉镀膜机采用防滑台脚设计，具有牢牢的抓地功能，避免工作过程不会发生位移。u 软件操作简单---Ossila浸渍提拉镀膜机的内置软件(不需外接电脑)可以实现手动和自动控制。用户界面友好，实验编程和参数设置简单。样品的浸入速度、停留时间、提出速度、干燥时间等整个浸渍过程都是可调可控。手动浸渍情况下，用户可独立设置系统的样品浸入和提出。u 全彩显示屏---任何照明条件下、无论从任何角度，彩色显示屏都有良好的可识别性，视觉舒适性好。u 内置安全措施----Ossila浸渍提拉镀膜机内置软件多种安全保护，包括基于软件的碰撞探测功能，为用户提供高级别的安全性。当基片或工作臂碰到提拉镀膜机底座或烧杯底时系统自动停止工作。降低样品、玻璃容器或提拉机本身受损的风险。u 样品提出速度可变---样品提出速度在整个基片长度范围内可调整，以达到不同涂层厚度梯度效果，快速优化胶片厚度。u 用户协议可保存---Ossila浸渍提拉镀膜机可以存储20个不同的用户协议，每个协议可设置保存20个不同的步骤编程，可随时调用，节省时间，尤其适用于多个科学家共用一台设备的非常繁忙的实验室。u 快速释放夹---用户可以快速往工作臂上加样和卸样。u 标尺的磁铁固位---夹子下方有内置磁铁块，可以很方便地将金属标尺固定到位，便于测量(标尺是标配)。技术规格v 最小提取速度：0.01mm.s-1。v 提取速度：50 mm s-1。v 速度再重现性：±0.01%@1mms-1，±0.1% @10mm.s-1，± 0.3% @ 50mm.s-1。v 最长行程：100 mm。v 循环次数：1000个循环。v 定时器最长可设置时间：99:59:59 (时:分:秒)。v 内置软件特征：提出速度可变，重复循环，碰撞检测功能。v 程序数量：20。v 电源：DC24V。v 产品整体尺寸：宽200mmx高350mm (450mm完全展开)x长300mm。v 运输重量5kg。

日本原装实验室/研发专用台式浸渍提拉镀膜仪， Z轴和X轴双轴控制，具有提拉角度调节功能。ND-0407-S5日本热销的超低速浸渍提拉镀膜仪，它可以通过控制工作两轴和θ角以及对角线提拉来调节提拉角度。客户的需求：对基材进行垂直、高精度、超低速镀膜以改变提拉角度和溶液的密度对基材进行镀膜两种液体交替对基材进行镀膜在提拉途中，通过改变提拉速度来控制膜厚 ND-0407-S5能够满足客户的需求：可以提供超低速的常规垂直镀膜可以通过调整θ角来获取提拉角度可以采用不同的液体（例如交替吸附等）进行镀膜独立运动和复合运动均可操作（在两个轴上）具有可以连续点运行的新功能 产品特点：可以对玻璃、有机玻璃、铜箔、管状材料等基材以纳米速度（变速单位：1nm）进行浸渍镀膜。适用于纳米级薄膜、蛋白石薄膜的形成和粒子阵列的生成等。采用触控面板操作方式，在触控面板上，可以轻松完成设置速度变化点(最多16个点)、速度变化(以1nm为单位)、重复运动、运动模式记忆(最多8个模式)的操作。双轴同步操作和单轴单独运行操作都可以轻松完成。触控面板采用日语、英语两种语言，且可以一键式切换。 产品应用： 主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。 工作原理：浸渍提拉镀膜仪的原理是将基材垂直浸入镀膜溶液(溶胶)中浸渍，然后将基材从溶液中垂直低速提拉起来，并使附着的液膜在空气（气相）中凝胶的方法。浸渍提拉法的具体工艺流程如下：1. 将基材垂直浸入镀膜溶液（溶胶）中浸渍。2. 利用镀膜溶液的粘度、表面张力和重力之间的相互作用开始提拉，提拉过程必须保证液面无振动，且基材垂直、匀速、平稳、连续上升，从而确保在基材表面形成连续、均匀的薄膜。3. 基材的提拉速度与镀膜溶液的粘度和附着液向下流动的重力之间的关系，控制着镀膜的厚度；4. 形成均匀的薄膜，并完成“湿凝胶膜”向“干凝胶膜”的转变。”干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。 技术参数：行程：Z轴：100mm；X轴：100mm速度(Min)：1nm/s速度(Max)：60mm/s操作方法：触控面板屏幕显示语言：英文/日文处理速度指定数量：16个停止位置指定数量：16个停止时间指定数量：16个连续运行模式：有手动运行模式：有存储程序的数量：8个程序监控功能(当前速度):有监控功能(当前位置):有剩余监控时间：有重复运行：有标准夹具：材料：聚丙烯(PP)电源：AC100V、300VA承重量(max)：500g处理尺寸(max)：100mm(H）线性运行模式：无设备尺寸(mm)：442(W)×250(D)×451(H)控制箱尺寸(mm):300(W)×285(D)×163(H)备注：※线性运行模式是指改变速度时，停止时间为零秒。※手动运行模式是指以设定的速度进行上升/下降运行（上升速度和下降速度的另一种设置）。

恒奥德仪器加热型提拉镀膜机 恒温浸渍提拉涂膜机 H18059 主要参数 标温度范围 室温-200℃样行程 150mm提拉速度范围 1um/s-20000um/ss提拉分辨率 1um/s浸渍时间 0-9999S镀膜次数 1-9999次每次镀膜间隔时间 0-9999S额定线性推力 20N控制度 ≤0.5%本公司主营 不锈钢采水器，弯曲测量装置，鼓风干燥箱，色度计，化学试剂沸点测试仪，提取仪，线缆探测仪，溶解氧测定仪，活性炭测定仪，磁导率仪，比浊仪，暗适应仪，旋转仪，酸度计，硅酸根测定仪，过氧化值测定仪，腐蚀率仪，电阻率测定仪，耐压测定仪，污泥比组测试仪，粉体密度测试仪，机械杂质测定仪，运动粘度测试仪，过氧化值酸价测定仪，噪声源，土壤腐蚀率仪，直流电阻测试仪，厌氧消化装置，耐压测试仪，甲醛检测仪，硅酸根测试仪，PH酸度计，测振仪，消解仪，读数仪，空气微生物采样器，，双波长扫描仪，涂层测厚仪，土壤粉碎机，钢化玻璃表面平整度测试仪，腐蚀率仪，凝固点测试仪，水质检测仪，涂层测厚仪，土壤粉碎机，气体采样泵，自动结晶点测试仪，凝固点测试仪，干簧管测试仪，恒温水浴箱，汽油根转，气体采样泵，钢化玻璃测试仪，水质检测仪，PM2.5测试仪，牛奶体细胞检测仪，氦气浓度检测仪，土壤水分电导率测试仪，场强仪，采集箱，透色比测定仪，毛细吸水时间测定仪，氧化还原电位计 测振仪，二氧化碳检测仪，CO2分析仪，示波谱仪，黏泥含量测试仪，汽车启动电源，自动电位滴定仪，，干簧管测试仪，电导率仪，TOC水质分析仪，微电脑可塑性测定仪，风向站，自动点样仪，便携式总磷测试仪，腐蚀率仪，恒温水浴箱，余氯检测仪，自由膨胀率仪，离心杯，混凝土饱和蒸汽压装置，颗粒强度测试仪，斯计，自动涂膜机，，气象站，动觉方位仪，，气味采集器，雨量计，四合气体分析仪，乳化液浓度计，溶解氧仪，温度测量仪，薄层铺板器，温度记录仪，老化仪，噪音检测仪，恒温恒湿箱，分体电阻率测试仪，初粘性和持粘性测试仪，红外二氧化碳分析仪，氢灯，动觉方位仪，冷却风机，油脂酸价检测仪，粘数测定仪，菌落计数器，气象站，雨量计，凯氏定氮仪，荧光增白剂，啤酒泡沫检测仪，发气性测试仪，低频信号发生器，油液质量检测仪，计数器，漏电流测试仪，标准测力仪，毛细吸水时间测定仪，大气采样器，流速仪，继电器保护测试仪，体积电阻率测试仪，侧面光检测仪，照度计，体化蒸馏仪，涂布机，恒温加热器，老化仪，烟气分析仪 本产品价格仅为配件价格，由于检测参数不同对仪器的终要求也不同，所展示的价格并非产品终价格，如给您带来不便请谅解请您在购买前联系我们客服人员，我们会给你确认产品信息，术参数以及报价，我们会以优惠的价格，诚恳的态度为您服务，期待您的来电！ 以上参数资料与图片相对应

公司简介： 日本SDI株式会成立于1997年，20多年来一直致力于镀膜机、干燥剂、印刷电路板等的设计、开发与生产，为此类研究领域的客户提供稳定可靠的解决方案，SDI研发生产的浸渍提拉镀膜机，性价比高，运行稳定，极大提高了实验效率与实验精度，可广泛应用于玻璃、亚克力、铜箔等的固体材料表面的镀膜工艺。 北京东方德菲仪器有限公司作为SDI株式会社的中国区指定代理，将继续秉承东方德菲一贯的原则，与SDI株式会社一起以快捷的方式为客户提供专业的技术服务。浸渍提拉镀膜仪工作原理：浸渍提拉镀膜仪的原理是将基材垂直浸入镀膜溶液(溶胶)中浸渍，然后将基材从溶液中垂直低速提拉起来，并使附着的液膜在空气（气相）中凝胶的方法。浸渍提拉法的具体工艺流程如下：1. 将基材垂直浸入镀膜溶液（溶胶）中浸渍。2. 利用镀膜溶液的粘度、表面张力和重力之间的相互作用开始提拉，提拉过程必须保证液面无振动，且基材垂直、匀速、平稳、连续上升，从而确保在基材表面形成连续、均匀的薄膜。3. 基材的提拉速度与镀膜溶液的粘度和附着液向下流动的重力之间的关系，控制着镀膜的厚度；4. 形成均匀的薄膜，并完成“湿凝胶膜”向“干凝胶膜”的转变。”干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。日本SDI浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7 日本SDI浸渍提拉镀膜仪MD-0408-S7是日本SDI株式会社研发生产的、实验室专用、高端台式、超低速浸渍提拉镀膜仪，速度可变范围1nm/sec到60mm/sec。产品特点：1 可以对玻璃、有机玻璃、铜箔等基材以纳米级速度 (变速单位：1nm）进行浸渍镀膜。2 1nm/s的超慢速浸渍镀膜有利于分离膜的生成、粒子阵列重排、纳米级膜厚的形成。3 采用触控面板操作，可控16级变速程序、可控变速范围（变速单位：lnm/sec）、往复运转、存储8个运转模式。4 日语、英语显示可以一键式切换。 产品应用：MD-0408-S7主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料技术参数：行程：150mm(max:800mm) 速度(Min)：1nm/s 速度(Max)：60mm/s 操作方法：触控面板 画面文字：英语/日语 处理速度指定级数：16级 停止位置指定个数：16个 停止时间指定数量：16个 连续运行模式：有 手动运行模式：有 运转模式存储数量：8个运转模式电机功能(当前速度)：有电机功能(当前位置)：有电机功能(运行剩余时间)：有重复运行：有标准夹具：聚丙烯（PP）材质电源：AC100V、250VA搬运重量(max)：1kg处理尺寸(max): 150mm(H)直线运行模式:无※连续运行模式是指：改变速度时，停止时间为“Osec”。※手动运行模式是指：以设定的一个速度上升/下降运行（上升速度和下降速度分开设定）

1.中瑞祥浸渍提拉镀膜机 垂直提拉机 ZRX-18068提拉行程：0～150mm 提拉行程：0～150mm（可定制行程） 提拉速度范围：1～55000μm/s，分辨率 1μm/s 速度精度：±0.01% 位置精度：0.01mm 浸渍时间：1～9999s，分辨率 1s 镀膜次数：1～9999 次，少 1 次； 镀膜间隔时间：1～9999s，分辨率 1s； 电源：AC 220V 50Hz 可镀膜最大厚度：Max 10mm； 外型尺寸：210mm（W）×300mm（D）×410mm（H）； 产品质量：7.5 KG。 控制精度≤0.5%1. 中瑞祥浸渍提拉镀膜机 垂直提拉机 ZRX-18068提拉行程：0～150mm 提拉行程：0～150mm（可定制行程） 提拉速度范围：1～55000μm/s，分辨率 1μm/s 速度精度：±0.01% 位置精度：0.01mm 浸渍时间：1～9999s，分辨率 1s 镀膜次数：1～9999 次，少 1 次； 镀膜间隔时间：1～9999s，分辨率 1s； 电源：AC 220V 50Hz 可镀膜最大厚度：Max 10mm； 外型尺寸：210mm（W）×300mm（D）×410mm（H）； 产品质量：7.5 KG。 控制精度≤0.5% 2新品土壤腐蚀野外组合测试仪/土壤腐蚀性测试仪/野外土壤腐蚀性 型号：ZRX-18067 一、仪器特点 土壤腐蚀是环境腐蚀的一个重要方面，土壤腐蚀导致报废大量金属设备，造成重大经济损失。为了有效地防止和减轻土壤腐蚀，需要进行土壤腐蚀环境勘测和地下工程腐蚀穿孔原因的诊断。前者可预测管线遭受的各种腐蚀危害，以便采取相应的措施。后者可查清管线穿孔的主要原因，以便采取对策。 测试仪根据我们土壤腐蚀与防护野外测试工作多年的经验，结合国内外土壤电化学和土壤腐蚀方面的理论、方法，将需用的三十种五十六个各类仪表、电极、试剂、用具等加以重新设计和组合，使之小型化，并且处于随时可用的工作状态，组装在两只小型测试箱中。便于携带到野外，现场完成和土壤腐蚀与防护有关的十余个项目的分析、测试。方法合理，数据可靠，灵活便捷。二、性能指标 土壤电化学测定：1、土壤电阻率的测定： 精度达到 0.1Ω/m2、土壤中金属腐蚀电位的测定： 精度达到 ±1mV3、土壤电位梯度的测定： 精度达到 ±0.1mV/m4、土壤氧化还原电位的测定： 精度达到 ±2mV5、土壤pH的测定： 精度达到 0.02pH 土壤理化性质测定：6、土壤含水量的测定： 精度达到 1%7、土壤容重的测定： 精度达到 0.02g/m38、土壤总孔隙度的测定： 精度达到 2%9、土壤含气率的测定： 精度达到 2%10、土壤硫化物的检定： 精度达到 0.1ppm 土壤质地的现场鉴别； 野外土壤剖面描述及样品采集。 3.便携式尿素检测仪 型号：HAD-SNS1 ZRX-29600 便携式尿素检测仪 产品介绍 1、内置特殊设计的光学暗盒有效降低各种杂散光对测试结果的影响，同时将电磁对内部精密电炉的影响降至最低；2、全新设计的精密光学系统与前置信号方法技术，确保数据稳定可靠；；3、预设的参数程序模块，严谨的内置标准计算公式使整个数据转换过程缩短为 1S；4、基于国标方法的自动化分析技术，严格标准的内置标准曲线有效地提升了测定结果的准确性与标准性；5、采用固体发光器既作光源又作单色器，与传统分光系统相比，光学系统结构简单，仪器具有抗震、抗潮性能；6、光源/单色器、比色槽、传感器一体化，无可动部件，同时采用脉冲供电方式，光源使用寿命可达 10 万小时，大大提高了仪器的精度、灵敏度和可靠性；7、OLED 屏幕照明显示，大幅度降低功耗，即使光线不足也不影响观测；8、具有新建标准曲线、校准内置标准曲线，仪器可自动拟合曲线、计算结果 HAD-SNS1便携式尿素检测仪技术参数 测试项目 尿素 （项目可扩展）检测方法 GB/T 18204.29-2000 二乙酰一肟分光光度法测量范围 0.00-6.00mg/L分辨率 0.01mg/L重复性 ≤1%准确性 ≤1%±0.01操作模式 直接显示结果，无需计算光源 LED 冷光源，光源使用寿命长电源 USB 供电或 4 节 AA 碱性电池供电 3.便携式尿素检测仪 型号：ZRX-29600ZRX-29600 便携式尿素检测仪 产品介绍 1、内置特殊设计的光学暗盒有效降低各种杂散光对测试结果的影响，同时将电磁对内部精密电炉的影响降至最低；2、全新设计的精密光学系统与前置信号方法技术，确保数据稳定可靠；；3、预设的参数程序模块，严谨的内置标准计算公式使整个数据转换过程缩短为 1S；4、基于国标方法的自动化分析技术，严格标准的内置标准曲线有效地提升了测定结果的准确性与标准性；5、采用固体发光器既作光源又作单色器，与传统分光系统相比，光学系统结构简单，仪器具有抗震、抗潮性能；6、光源/单色器、比色槽、传感器一体化，无可动部件，同时采用脉冲供电方式，光源使用寿命可达 10 万小时，大大提高了仪器的精度、灵敏度和可靠性；7、OLED 屏幕照明显示，大幅度降低功耗，即使光线不足也不影响观测；8、具有新建标准曲线、校准内置标准曲线，仪器可自动拟合曲线、计算结果 便携式尿素检测仪技术参数 测试项目 尿素 （项目可扩展）检测方法 GB/T 18204.29-2000 二乙酰一肟分光光度法测量范围 0.00-6.00mg/L分辨率 0.01mg/L重复性 ≤1%准确性 ≤1%±0.01操作模式 直接显示结果，无需计算光源 LED 冷光源，光源使用寿命长电源 USB 供电或 4 节 AA 碱性电池供电 4.在线污染度检测仪 ZRX-29603通过检测油液中的油液颗粒含量 1.在线污染度检测仪产品描述： 根据国内外统计资料，液压系统的故障大约有70%是由于油液污染引起的，而固体颗粒物是液压和润滑系统中最普遍、危害作用最大的污染物。通过检测油液中的油液颗粒含量，不仅可以提高系统的可靠性和延长系统的寿命，而且还可以降低事故发生率，提高生产效率。ZRX-29603 在线污染度检测仪产品特点： 1 采用激光传感器，检测精准度高 2 检测速度快：6秒钟即可给出检测结果 3 能以数字、图表方式同时彩显ISO、NAS等级标准 4 固件坚硬，不易损坏，可低压、高压下在线检测污染等级 5 体积小、重量轻，携带、安装、拆卸、加装均很方便 6 通过仪器的油流量很小，对整个液压系统的正常工作不构成影响 7 提供RS-232串口线和软件光盘，可将数据传输到PC机或显示屏 8 可实现在线打印、报警功能，该两项功能作为选配件提供。ZRX-29603 在线污染度检测仪技术参数： 流量范围50～300ml/min 重量小于1.5Kg（带显示） 供电电源9～36VDC 外形尺寸94×87×46mm 工作温度-20～+60℃ 压力范围0.3MPa～3MPa低压 3MPa～30MPa高压 存储温度-40～+85℃ 通道4～8通道 5.空气除烃净化器 零气发生器 型号：ZRX-29605 ZRX-29605 概述：该除烃净化器是根据国家环境保护总局标准《固定污染源排气中非甲烷总烃的测定--气相色谱法-HJ/T38-1999》的要求与标准开发研制的，具有活性高、抗毒性及热稳定性号、脱除效率高、使用寿命长等特点，适用于各种气相色谱检测器。运行稳定可靠，操作方便，只要一按开关，它可以在不需要任何监管的最低保养的情况下无故障的运行。 一、ZRX-29605 主要技术参数：1.高使用温度≤400℃，最高压力0.6MPa2.输出流量：2000ml/min）3.工作条件：电源220V±10%，50Hz±5% 相对湿度：≤85%4.烃类输入浓度（如甲烷）100ppm．烃类输出浓度（如甲烷）0.1ppm5.整机重量：约8Kg 6.台式二氧化氯检测仪 型号：ZRX-29611 ZRX-29611 台式二氧化氯检测仪产品介绍 仪器具有操作简便、灵敏度高等特点。广泛应用于城市供水、食品饮料、环境、医疗、化学、制药、热电、造纸、养殖、生物工程、发酵工艺、纺织印染、石油化工、水处理等领域的水质现场快速检测。 ZRX-29611 台式二氧化氯检测仪技术指标1.测量范围：0.05～20.00mg/L。2.示值误差：≤±5%(F.S)3.重复性 ：≤3%4.光学稳定性：仪器吸光值在20min内漂移小于0.002A5.外形尺寸：80mm×230mm×55mm 6.重量： 1000g 7.正常使用条件：⑴ 环境温度:5～40℃ ⑵ 相对湿度: ≤85%⑶ 供电电源:220V 7.有效氯检测仪 型号：ZRX-29608 ZRX-29608 有效氯检测仪产品介绍1、内置检测项目，结合定量洁净分装的标准化成品试剂，流程化测试；2、无需繁琐配置试剂过程，只需取样调零，加对应试剂，按测试键三部曲操作步骤；3、预设的参数程序模块，严谨的内置标准计算公式使整个数据转换过程缩短为 1S；4、基于国标方法的自动化分析技术，严格标准的内置标准曲线有效地提升了测定结果的准确性与标准性；5、采用固体发光器既作光源又作单色器，与传统分光系统相比，光学系统结构简单，仪器具有抗震、抗潮性能；6、试剂采用独立包装，保质期长；；7、光源/单色器、比色槽、传感器一体化，无可动部件，同时采用脉冲供电方式，光源使用寿命可达 10 万小时，大大提高了仪器的精度、灵敏度和可靠性；8、OLED 屏幕照明显示，大幅度降低功耗，即使光线不足也不影响观测；9、具有新建标准曲线、校准内置标准曲线，仪器可自动拟合曲线、计算结果。 ZRX-29608 有效氯检测仪技术参数检测项目 有效氯检测方法 GB/T 5750.11—2006 改进法—碘量光度法测量范围 低量程 5～500mg/L ；高量程 0.05%～15.0%（或 500-150000mg/L）分辨率 0.01mg/L检测时间 ＜1min准确性 低量程 200mg/L 有效氯≤10mg/L；高量程 5%有效氯≤0.2%操作模式 直接显示结果，无需计算光源 LED 冷光源，光源使用寿命更长电源 USB 供电或 4 节 AA 碱性电池供电 8.数显便携式浊度仪 型号：ZRX-29604 ZRX-29604 用途概述用于测量悬浮于水或透明液体中不溶性颗粒物质所产生的光的散射程度，并能定量表征这些悬浮颗粒物质的含量。可以广泛应用于纯净水厂、矿泉水厂、自来水厂等部门的浊度测量。产品特点外形小巧美观、重量轻、交直流供电、手持式使用，配有数据输出接口LCD液晶显示屏，低功耗配置、低电压提示、自动关机功能 特制高效长寿命光源，免维护使用，避免色度影响，30秒预热即可正常工作 ZRX-29604 技术指标 测定原理 90°散射光最小示值（NTU） 0.1测量范围（NTU） 0～20示值误差 ±8％(±2.5％F.S)重 复 性 ≤1％零点漂移 ±1％F.S供电电源 直流1.5V×5节AA碱性干电池 交流220V/50Hz/DC7.5V/ 0.2A 电源适配器外型尺寸 235×75×65 mm产品特点 LCD液晶显示、LED光源、自动关机、交直流二用 9.智能六级空气微生物采样器 型号：ZRX-29599 ZRX-29599 智能六级空气微生物采样器，可进行6周时间自动设定环境空气微生物采样，是我厂新设计的一款产品，具有 单时段采样 和 多时段采样 2种采样方式，采样流量大，稳定性好，电源采用交直流两用型，方便使用，体积小巧，重量轻，可广泛地用于卫生防疫、生物洁净、制药、发酵工业等环境中的监测以及有关研究教学部门作空气微生物的采样研究，为评价空气环境微生物污染危害及其防治措施提供依据。 ZRX-29599 智能六级空气微生物采样器 技术参数： 仪器采用多功能微控制器控制模块，大屏幕LCD液晶显示，中文菜单，人机对话方式，需要人为干预时均有中文提示，这一款是新开发，仪器自动控制采样流量，采用多功能微控制器控制恒流采样，自动补偿因为电压和阻力变化引起的流量变化。 (无玻璃流量计)，采样精度高，流量稳定。测量范围 捕获率：≥98%捕获粒子范围 ：第一级：＞7.0μm 孔径 1.18mm第二级：4.7μm –7.0μm 孔径0.91mm第三级：3.3μm–4.7μm 孔径0.71mm第四级：2.1μm–3.3μm 孔径0.53mm第五级：1.1μm - 2.1μm 孔径0.34mm第六级：0.65μm–1.1μm 孔径0.25mm采样流量 ：28.3L/min 可调节精度：≤1% 10消解测定一体式多参数水质检测仪 COD、氨氮、总磷、总氮、悬浮物 余氯 型号：ZRX-29595 一、ZRX-29595 消解测定一体式多参数水质检测仪仪器描述：该产品将经典的比色法与先进的计算机技术结合起来，应用微电脑光电子比色检测原理取代传统的目视比色法，消除了人为误差，测量分辨率大大提高。该产品具有自动PID控温、双液晶显示、交直流两用、自动调零、浓度直读、曲线存储、自动打印等特点，仪器操作简便，人机交互式操作，使用者无需复杂的专业知识即可应用本产品。 二、ZRX-29595 主要功能特点： 双LCD显示器，大屏幕液晶背光显示，240*128点阵，中文操作界面，人性化程序设计。测量范围宽，并可据水样实际情况进行量程切换。测定与消解系统分别设计，独立电源控制，操作过程可分别进行，互不影响；自动恒温控制系统,PID调节技术，消解过程温度恒定、精度高；1点至7点校正模式，自动计算斜率、截距及相关系数，测量精度高。故障自诊断智能设计，使仪器管理和维护简易方便。仪器内置实时时钟，每条测量记录都带有测量时间戳，方便统计与查询；大容量数据存储，断电保护设计，确保仪器不受损坏和数据记录永不丢失。抗干扰能力强，适用于工业现场，可广泛应用于地表水和污染源的监控。仪器采用半导体冷光源发光器，独特的光学电路设计，抗干扰能力强，测量数据精度高、稳定性好，光源寿命可达几万小时。具有数据输出接口，可连接电脑，将测量数据传输至电脑；仪器自带热敏式打印机，可直接打印测量数据和历史数据；试剂用量少，运行成本低，抗干扰能力强。 三、ZRX-29595 系统参数 1、同时消解样品数量：≤ 12支；2、消解温度控制范围：≤200℃，时间控制范围≤999分钟，自动定时；3、曲线参数：每种指标各可设定100条测量曲线参数；4、数据存储：可存储30000条测量数据；5、数据校准：1-7点校正模式，自动校正曲线值；6、环境温度：（5 ~ 40）℃； 环境湿度：相对湿度＜ 85%（无冷凝）；7、外形尺寸：420mm*320mm*150mm，整机重量：约6Kg；8、工作电源：AC 220V±10% / 50Hz；DC +16V,20AH锂电池； ZRX-29595 主要技术指标：1.COD参数指标① 测定方法：快速催化法（铬法）；② COD高低量程双波长测定：5~150mg/L低波长；100~10000mg/L,高波长；③ 测定范围：5 ~ 10000 mg/L（＞1000 mg/L时分段测定，超量程可稀释测量）；④ 测量误差：5~100 mg/L，绝对误差≤±5 mg/L；100 mg/L~5000 mg/L，相对误差≤±5 %；⑤ 消解温度：165 ± 1℃； 消解时间：15分钟；⑥ 抗氯干扰：[CL-] ＜4000mg/ L；⑦ 选用比色皿：30mm光程。2.氨氮参数指标① 测定方法：纳氏比色法；② 测定范围：0.01mg/L～50mg/L(＞5 mg/L时分段测定，超量程可稀释测量)；③ 测量误差：≤±5 %；④ 选用比色皿：10mm光程。3.总磷参数指标① 测定方法：钼酸铵分光光度法；② 测定范围：0.01mg/L～24mg/L(＞0.75 mg/L时分段测定，超量程可稀释测量)；③ 测量误差：≤±5 %；④ 消解温度：120 ± 1℃； 消解时间：30分钟；⑤ 选用比色皿：30mm光程。4.总氮参数指标① 测定方法：消解比色法；② 测定范围：0-100 mg/L（分段测定，超量程可稀释测量）；③ 测量误差：≤±5 %④ 消解温度：125± 1℃； 消解时间：30分钟；⑤ 选用比色皿：10mm光程。以上参数资料与图片相对应

牛津镀膜机Plasmalab NGP 1000

产品详情法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机MEB550SL3详细介绍超高真空多腔体电子束蒸镀系统磁控溅射、电子束蒸镀、超高真空、镀膜、约瑟夫森结、超导、量子器件、量子比特、多腔体、Qubit、UHV、铌基超导、氮化铌、钛氮化铌、NbTiN、NbN、sputtering systemEvaporation system、Nb-based superconductor、超导铝结、Josephson junction品牌：PLASSYS 型号：MEB 550SL3 产地：欧洲 法国 应用：约瑟夫森结（Al, Nb, NbN, NbTiN） 超高真空多腔体电子束蒸发镀膜仪电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器，用于蒸镀各种高纯金属薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚，使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究，如基于金刚石NV色心，离子阱，超导量子结，量子点电子自旋的研究，均需要蒸镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件，特别是在利用超导量子结来实现量子计算的实验研究中，Josephson结的制备最为关键：需要在非常干净的蒸镀腔里进行，而且需要在不同的角度上蒸镀两次，两次之间需要注入氧气进行金属氧化。所以样品台必须具有三维的旋转功能，同时，蒸镀腔内还需要有可以注射氧气及其他气体来实现清洁和氧化过程。 推荐配置：可以用于沉积Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金属及氧化物薄膜，目前全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导Al结（量子比特和约瑟夫森结）和量子器件，可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。更详细信息或资料，请咨询我们！ 预处理腔：衬底旋转、倾斜（3D）；干泵+ 分子泵 真空度10-8 T 蒸发镀膜腔：电子枪6-15KW； 样品台： 。可加载4英寸衬底； 。衬底可加热到800℃ 。衬底旋转、倾斜， 。倾斜精度和重复性优于0.1°（可升级） 真空泵系统： 。干泵 + 低温泵； 。真空度10-10T或10-11T 膜厚控制仪： 。频率分辨率10-4Hz或更高； 。速率分辨率10-3nm/s； 。厚度分辨率10-2nm 残余气体分析仪 反应蒸镀：氧气气路+MFC 氧化腔体： 。静态/动态氧化 。臭氧发生器/原子氧发生源/辉光放电； 。卤素灯加热至最高200℃ 。残余气体分析仪分子泵 + 干泵；真空度10-8 T 全自动软件包，支持半自动和手动模式，支持远程网络操作和维护。典型用户：耶鲁大学、日本NTT、中科院物理所、中科大、南大、南方科技大学

克普斯镀膜机真空腔体:——按照客户要求，加工订制；——一对一专业出图设计；——可配套指定真空机组系统；——耐高温、耐腐蚀；——高质量、高精度；加工工艺，采用真空焊接技术拼装焊接；先进的真空捡漏设备，更加保证产品的质量；我公司克普斯采用三维建模软件，按照实际比例建立三维模型，根据客户文字、语言草图等需求描述，专业设计出适合客户所需产品方案（在方案定稿之前所有设计不收取任何费用）。常见真空腔体技术性能:材质:不锈钢、铝合金等腔体适用温度范围:-190°C~+1500°C(水冷)空封方式:氟胶O型圈或金属无氧铜圈出厂检测事项:1、真空漏率检测1.3*10-10mbar*//s2、水冷水压检测:8公斤24小时无泄漏检测.内外表面处理:拉丝抛光处理、喷砂电解处理、酸洗处理、电解抛光处理和镜面抛光处理等.不锈钢真空腔体加工,铝合金真空腔体的品质获得并通过|S0 -9001质量标准体系认证,所有产品均经过真空氦质谱检漏仪出厂,产品被用与航空航天、科研、核电、镀膜、真空炉业、能源、医药、冶金、化工等诸多行业,如有需要欢迎咨询！克普斯真空为高校、科研院所设计加工高真空、超高真空的真空腔体，可以根据客户的技术要求(PPT)开发设计，也可以按图(草图、CAD图、照片)设计加工。可以加工的真空腔体形状:方腔、圆柱型、D型及其它要求的形状 可以加工的真空腔体材质:不锈钢材质 (304、304L、316316L)、碳钢材质、铝材质、有机玻璃材质等。真空产品设计能力、完善的真空机械加工体系以及快速的服务啦应支持，承接各种规格型号的真空室开发设计、按图定制等。我们为高真空或超高真空应用设计及制造的各种真空腔体，包括为高校和科研院所设计真空试验腔体、真空环境模拟腔体、真空放电测试腔体、真空激光焊接腔体、CVD反应腔体、真空镀膜室等。另外，客戶订制的真空室都可通过我们的工程设计，与您现有的真空系统融合，成为一套功能完整的系统。也可以通过我们的工程设计，预留标准接口及装配位置，方便您日后增配或更换真空部件，实现系统的升级或功能的转换。我们能定制的真空室结构与材质配置多种结构型态:方腔、圆柱型、D型及其它要求的形状:多种材质:不锈钢材质 (304、304L、316,、316L)、碳钢材质、铝材质、有机玻璃材质。所有材质是经过特别选择的，可达到低磁渗透性的要求。我们的开发设计人员均具有10年以上真空行业工作经验，独立开发设计上百套涵盖真空室的相关产品 我们使用业界*的CNC加工中心以及其它配套的加工机械，并业已形成完善的真空机械加工体系。我们的质量保证及售后服务能力我们的产品严格遵照相关标准，并执行原材料检验、加工在线检测、半成品检测及成品出厂检测，对于非标定制的产品与客户联合检测验收 需要特别指出的是对于真空室，所有接缝处、焊接处及法兰连接处都要通过严格的观察检验及氨质谱检漏仪检漏测试，并对整个系统进行漏率测试，系统漏率优于 8.0x10-8 Pa.L/S.实验室真空系统,真空腔体,真空探针台,克普斯镀膜机真空腔体

英国牛津镀膜机PECVD Plasma system 133

真空镀膜系统MBRAUN研发出一系列镀膜系统，配合多种可选配件和定制化方案，用于多种镀膜工艺领域中. MBRAUN的镀膜系统可集成多种主流蒸镀工艺，如热蒸镀、温控蒸镀(用于有机材料)、电子束蒸发等一体化方案；以及射频、直流或脉冲直流磁控溅射以及被动式磁控溅射等.OPTIvap模块化设计可单独使用(S)或集成于手套箱(G)不同的模块之间可实现自由组合多基板&多掩模工艺一致性标准偏差在+/-3 %区间(几何式设计可缩小至+/-1 %)OPTIvap 4可用于大小150x150 mm或直径150 mm (6英寸)的基板OPTIvap 6可用于大小200x200 mm 或直径280 mm (8英寸)的基板 应用：复杂的多层镀膜设备(用于OLED,OPV)光学镀膜光伏、半导体行业

伯东公司授权代理德国普发pfeiffer 镀膜机-灵活设计适合技术研究、开发和生产,可实现高真空蒸发镀膜,磁控溅射镀膜,离子镀.Pfeiffer Classic 系列镀膜机（高真空镀膜系统）经过大量实验和技术知识积累研发设计,通过ISO 9001认证, ISO 14001认证,低能耗主要应用领域: 半导体,光学,微电子学,显示屏,光电工程,表面处理等行业.Pfeiffer 镀膜机主要型号包含:Pfeiffer Classic 250 镀膜机(科研,小型研发)Pfeiffer Classic 500 镀膜机(科研,小规模生产)Pfeiffer Classic 570 镀膜机 (批量生产)Pfeiffer Classic 580 镀膜机 (生产线大批量生产)Pfeiffer Classic 590 镀膜机 (高吞吐量,通用的制造系统,满足最高工业需求)Pfeiffer Classic 620 镀膜机 (最大吞吐量)伯东公司pfeiffer 德国普发镀膜机 Classic 500,选用pfeiffer分子泵 Hipace 700,可定制,我司将竭诚为您服务pfeiffer 德国普发镀膜机 Classic 500 技术参数:真空腔体容量150 l内部尺寸500 mm高度575 mmDoor OpeningW x H 500 x 575 mm整机漏率1x10-5 mbar x l /s最终压力5x10-7 mbar高真空泵组(标准型)分子泵Hipace 700隔膜泵MD4旋片泵DUO 20真空测量全量程真空计电源电压3 x 400 V频率50/60 HZ水冷Chamber Usage approx (a)500 l/hPump Set Usage approx (a)15 l/h进气温度25 °C压力4 – 6 barIn- and Outlet Nipple3/4"Hot WaterChamber Usage approx (a)500 l/h进气温度70 °C压力4 – 6 barIn- and Outlet Nipple3/8"尺寸占地面积1.4 m2L x W x H1,4 x 1 x 1,9 m重量600 kg最大环境温度40 °C 伯东公司 主要经营产品 德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵 应用于各种条件下的 真空测量(真空计, 真空规管) 氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站或与市场部: 叶女士联系

本装置为高真空蒸镀设备，因此可对应搭载JA Wollam公司制造的橢偏仪而开发设计的蒸镀机。真空蒸镀过程中，配设橢偏仪以取得相关物性物理资讯。（以下的规格是记载除氧偏仪以外的高真空蒸镀机规格）本蒸发镀膜装置搭载的是JA Wollam公司的椭偏仪，真空腔大小：280x410x290mm，蒸发源：2个，最大基板尺寸：80x80mmReference:D.Yokoyama and C.Adachi: J.Appl.Phys. 107,123512(2010)D.Yokoyama, K.Nakayama, T.Otani, and J.Kido: Adv.Mater. 24,6368(2012)

臂长：38 48 58 68 78 mm 更长可定制控制：全自动与手动控制模式控制移动精度：1.25 micronAn automated dipping mechanism浸渍镀膜机臂长：38 48 58 68 78 mm 更长可定制浸渍镀膜机控制：全自动与手动控制模式浸渍镀膜机控制移动精度：1.25 micron如有需要请通过我们伯英科技联系我们！DESCRIPTIONVT-04 ::: Description ::: Features ::: Delivery set ::: Software 浸渍镀膜机An automated dipper unit VT-04serves for vertical translation of an object fixed on arm. The dipper unit can be, for instance, employed for automation of multicycle dipping of a substrate into vessel with liquid at the layer deposition from solutions.The dipper unit design provides simple routine for an object fixing in a specialized clamp. The clamp has five degrees of freedom to provide the object position necesssay fot user. A possibility of manual rotation of the arm drive axis is supplemented with a possibility to position all the dipper unit on a vertical stand that provides vertical adjustment and rotation relative the stand axis.For the dipper unit positioning in horizontal plane relative base, XY positioning stage can be employed together with it. Stepper motors of both the dipper unit and XY positioning stage can be driven from the same control program run on host PC.Dipper unit VT-04 is unified with driving mechanism of microdoser DT-03that allows their mutual conversion by simple change of the unit front panel.FEATURESVT-04 ::: Description ::: Features ::: Delivery set ::: Software浸渍镀膜机技术指标：Drive:Step motor a possibility to rotate the driving shaft manuallyFull motion range of the arm:85 mm (max 86 mm)Controllable positioning step of the arm:1.25 micron (0.15625 micron at the step splitting)Maximum weight of fixed object:50 gArm length (from the unit case to mount point):38 48 58 68 78 mmAdditional accessories:— PTFE clamping holder for quick substrate fixing on the dipper lever the substrate thickness up to 4 mm 5 degrees of freedom — clip fastening on vertical rod (rod diam. 8 mm) — NEW! option: changeable front panel for conversion of the dipper into microdoser (see DT-03)Control:From autonomous controller manual control by buttons on the controller, extended control facilities available in a unified software at the controller connection to host PC (via USB port). The controller unit enables control over three stepper motors. The control software allows programming the dipper arm motion including that with use of cusotm scripts.Power supply:220 V 50 Hz (control voltages: 0, +15 (24) V)Overall size:Dipper unit: 50x65x191 mm (w-d-h) /without arm/ Controller unit: 138x195x82 mmWeight:Dipper unit: 1.1 kg Controller unit: 0.8 kgDELIVERY SETVT-04 ::: Description ::: Features ::: Delivery set ::: Software浸渍镀膜机组成模块：CodeNameQ-tyVT-04-010Dipper unit (a vertical translation stage)1VT-04-020Autonomous controller1VT-04-030Set of conneting cables1VT-04-040Control software (for Win32) and operation manual1OPTIONAL:DT-03-015Changeable front panel for the dipper conversion into microdoser (see VT-04)1 * Above pictures are not in the same scale** Host PC is not included in the delivery set SOFTWAREVT-04 ::: Description ::: Features ::: Delivery set ::: Software浸渍镀膜机软件：Control software for dipper VT-04 is a unified program for driving three stepper motors. It is a 32-bit Windows application that runs under Windows XP SP2 and higher operating systems.The software provides control over the stepper motor speed, motion range (in steps of the stepper motor or in mm) and motion direction.The program can be employed for driving three stepper motors. If the device is additionally equipped with XY positioning stage, all the three axes motions can be automated.As an alternative for the unified program, control program for Langmuir—Blodgett trough can be employed in which custom scripts can be used to control the mechanism motion.Minimal configuration of host PC (not included in the delivery set): Celeron 1.7 GHz, RAM 128 MB, HDD 40 GB, VRAM 64 MB, monitor 1024x768x32 bit, MS Windows XP SP2, free USB port.

英国牛津镀膜机PECVD/刻蚀机LCP：型号：PlasmaLab System100

瑞士Safematic CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪紧凑型、模块化和智能化CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能离子溅射、蒸发镀碳和等离子处理✬ 专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预✬ 独特的即插即用溅射和蒸碳镀膜模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪专为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计。模块化的设计可将低真空单元后续很轻松地升级为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。SP-010 & SP-011溅射模块两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV镀膜主体单元，即可使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长，非常适合需要较厚膜的应用。 可选多种溅射靶材，适合SEM等导电薄膜应用。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于极细颗粒尺寸镀膜，推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV版本。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 LV镀膜主体后，即可立即使用，适合SEM等需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专有的、独特且技术领先的碳绳供给系统，可以进行多达数十次涂层的镀膜，而无需更换碳源。除了易于使用外，自动供给系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全，从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄膜到中厚膜层的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的膜层厚度，并可避免火花引起的表面不均匀。GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装，通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理，例如，使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理，无需破真空或更换处理头，极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010，与所有样品台兼容。HS-010真空储存箱HS-010真空储存箱可在真空条件下存放备用镀膜头、备用行星台或旋转台、所有溅射靶材和碳附件，使它们处于清洁状态。通过集成的真空管路与镀膜主体单元连接，利用CCU-010抽真空系统对储物箱抽真空。可选地，用户也可用外接真空泵替代。舒适的手动锁定装置和放气阀允许对储物箱进行独立的抽真空和放气控制。额外的标准真空腔室可有效地避免蒸碳和溅射金属之间的交叉污染。ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之前或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理，从而对碳膜表面进行改性。Coating-LAB软件使用基于PC的Coating-LAB软件，可查看包括图表信息在内的处理数据。数据包括压力、电流、电压、镀膜速率和膜厚，镀膜速率为实时曲线。便捷的软件升级和参数设置让此智能工具更为完美。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 LV普通真空镀膜仪版本作为真空镀膜系统的基础单元，专为 SEM 和 EDX 的常规高质量溅射和/或碳镀膜而设计。客户可选择：CCU-010 LV磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 LV热蒸发镀碳仪；CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 LV手套箱专用镀膜仪

高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。设备构成-单镀膜室-单镀膜室＋进样室-单镀膜室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-单镀膜室＋进样室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）-多镀膜室＋样品传递室＋手套箱（组成团簇式结构，样品传递采用真空机械手）设备组成电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵（或冷泵）真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。热蒸发源类型和数量，可根据用户需要进行配置。可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。热蒸发源种类及配置电阻热蒸发源组件：数量：1～12套（可根据用户要求配装）；电阻热蒸发源种类：钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）、束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）。高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）工作条件（实验室应具备的设备工作条件）供电：4kW，三相五线制～ AC 380V工作环境湿度：10℃～ 40℃工作环境温度：≤50%冷却循环水：0.2m3/h，水温18℃～ 25℃水压：0.15MPa ～ 0.25MPa真空性能极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa操作方式手动、半自动关于鹏城半导体鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司已投放市场的部分半导体设备|物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射镀膜机、电子束镀膜机、热蒸发镀膜机，离子束溅射镀膜机、磁控与离子束复合镀膜机|化学气相沉积（CVD）系列MOCVD、PECVD、LPCVD、热丝CVD、ICPECVD、等离子刻蚀机、等离子清洗机|超高真空系列分子束外延系统（MBE）、激光分子束外延系统（LMBE）|OLED中试设备（G1、G2.5）|其它金刚石薄膜制备设备、硬质涂层设备、磁性薄膜设备、电极制备设备、合金退火炉|太阳能薄膜电池设备（PECVD+磁控溅射）团簇式太阳能薄膜电池中试线团队部分业绩分布完全自主设计制造的分子束外延（MBE）设备，包括自主设计制造的MBE超高真空外延生长室、工艺控制系统与软件、高温束源炉、高温样品台、Rheed原位实时在线监控仪（反射高能电子衍射仪）、直线型电子枪、膜厚仪（可计量外延生长的分子层数）、射频源等关键部件。真空度达到2×10-8Pa。设备于2005年在浙江大学光学仪器国家重点实验室投入使用，至今仍在正常使用。设计制造磁控溅射与等离子体增强化学气相沉积法PECVD技术联合系统，应用于团簇式太阳能薄膜电池中试线。使用单位中科院电工所。设计制造了金刚石薄膜制备设备，应用于金刚石薄膜材料的研究与中试生产设备。现使用单位中科院金属研究所。设计制造了全自动磁控溅射设备，可加水平磁场和垂直磁场，自行设计的真空机械手传递基片。应用于高密度磁记录材料与器件的研究和中试。现使用单位国家光电实验室。设计制造了OLED有机半导体发光材料及器件的研究和中试成套装备。现使用单位香港城市大学先进材料实验室。设计制造了MOCVD及合金退火炉，用于GaN和ZnO的外延生长，实现LED无机半导体发光材料与器件的研究和中试。现使用单位南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心。设计制造了磁控溅射研究型设备。现使用单位浙江大学半导体所。设计制造了电子束蒸发仪研究型设备。现使用单位武汉理工大学。团队在第三代半导体装备及工艺方面的技术积累2001年 与南昌大学合作设计了中试型的全自动化监控的MOCVD，用于外延GaN和ZnO。2005年 与浙江大学光学仪器国家重点实验室合作设计制造了第一台完全自主知识产权的分子束外延设备，用于外延光电半导体材料。2006年 与中国科技大学合作设计超高温CVD 和MBE。用于4H晶型SiC外延生长。2007年 与兰州大学物理学院合作设计制造了光学级金刚石生长设备（采用热激发技术和CVD技术）。2015年 中科院金属研究所沈阳材料科学国家（联合）实验室合作设计制造了金刚石薄膜制备，制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜。2017年-优化Rheed设计，开始生产型MBE设计。-开始研制PVD方法外延GaN的工艺和装备，目前正在进行设备工艺验证。2019年 设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备。2021年 MBE生产型设计。2022年 大尺寸金刚石晶圆片制备（≥Φ6英寸）。2023年 PVD方法外延氮化镓装备与工艺攻关。

美国Denton金/碳镀膜机 丹顿真空公司位于美国费城，是世界著名真空镀膜设备制造商。从1964年成立至丹顿已为全球客户制造了数千台多种规格的蒸发设备、溅射和PECVD镀膜系统，用于大工业生产、科研开发和小规模制造。丹顿用于科研开发和小规模制造的中小型镀膜设备据美国市场占有率之首。Desk V HP 专用电子显微镜样品制备 – SEM TEM FE-SEM 金/碳镀膜机特点● 内置泵系统● 极短的沉积时间● 一致的沉积参数● 图形界面彩色触摸板● 薄膜厚度控制● 样品清洁的蚀刻模式● 多样靶材材料选择● 更多可选功能

ETD-100AF型高真空热蒸发镀膜仪采用电阻式蒸发原理，利用大电流加热钼舟或钨丝蓝或固定支架上的镀膜材料，使其在高真空下蒸发，沉积在被镀样品上以获得最佳镀膜效果。 适用范围： 电子显微镜样品制备和清洁光栏，以及科研、教学和企业中的实验活动、工艺试验。使用了大抽速、高压缩比、自然风冷却复合分子泵，确保喷镀时能够迅速抽掉蒸发源和样品放出的气体；正常情况下喷镀室内极少有油蒸气回流，非常清洁。 配有高位定性的飞跃真空泵，涡轮分子泵ETD-100AF is a high vacuum thermal evaporation type small film coating machine. By using the principle of resistance evaporation, the coating material on the molybdenum boat or tungsten blue or fixed bracket is heated by high current, so that it is evaporated under high vacuum and deposited on the plated sample to obtain the best coating effect.Scope of application:Sample preparation and cleaning of optical microscope, as well as scientific research, teaching and experimental activities and process tests in enterprises.A compound molecular pump with large pumping speed, high compression ratio and natural wind cooling is used to ensure that the evaporation source and the gas from the sample can be removed quickly when the spray plating is sprayed. 机械泵靶材蒸发电流加热功率样品仓尺寸工作真空极限真空前级为飞跃真空泵，后级为复合分子泵碳、金等最大电流100A,最大电压10V1000W直径230mm，高280mm2*10Pa2*10Pa 需要镀膜的样品 电子束敏感的样品非导电的样品新材料主要包括生物样品，塑料样品等。S EM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱”，这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应，可在样品表面镀一层金属导电层，镀层作为一个导电通道，将充电电子从材料表面转移走，消除荷电效应。在扫描电镜成像时，溅射材料增加信噪比，从而获得更好的成像质量。非导电材料实验电极制作观察导电特性

价格电议氦质谱检漏仪镀膜机检漏上海伯东代理德国 Pfeiffer 多功能多用途氦质谱检漏仪 ASM 340 成功应用于刀具镀膜机检漏。目前市场上常见的金黄色、钴铜色、黑色等钻头、铣刀、模具等，这些器具都是经过镀膜技术加工后的涂层工具。经过涂层处理后的硬质合金刀片可以延长刀具寿命并且满足一些特殊的应用，刀具上的颜色不同也就说明涂镀不同的涂层。镀膜机检漏原因：镀膜机需要在高真空环境下工作，真空度的好坏直接影响镀膜的品质。有时候镀膜机的真空度抽不下来或者真空度不好，可能是接头松动或者有焊缝出现虚焊。传统的检漏方法需要镀膜机停机，充氮气，再在怀疑有漏的地方涂上肥皂泡，整个过程耗时费力容易误判，对于细微的泄漏无法检测。上海伯东代理 Pfeiffer 氦质谱检漏仪利用氦气作为示踪气体，最小漏率小于 5E-13 Pa m3/s，安全环保，检漏时不需要停机，直接在真空泵的旁路接入检漏仪便可以快速高效的完成检测了。上海伯东刀具镀膜检漏客户案例：某客户引进 Platit 镀膜机加装分子泵 Hipace 1500，旋片泵 Duo 35 用于刀具镀膜，与友厂对比，Pfeiffer 真空泵在更短时间达到更高且稳定的真空度。镀膜机检漏方法：采用真空法检漏，镀膜机不需要停机，直接在真空泵的旁路利用波纹管接入检漏仪，在怀疑有漏的地方喷氦气，即可完成检漏。若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 欢迎联络上海伯东叶女士

v 设备用途：热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜。蒸镀薄膜种类：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等v 设备组成：有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统；真空测量系统；蒸发源；样品加热控温；电控系统；配气系统等部分组成v 最大样品尺寸：8inchv 沉积源/真空度：根据用户定制控制系统：手动、全自动

超高真空多腔体镀膜系统——按照客户要求，加工订制；——一对一专业出图设计；——可配套指定真空机组系统；——耐高温、耐腐蚀；——高质量、高精度；加工工艺，采用真空焊接技术拼装焊接；先进的真空捡漏设备，更加保证产品的质量；我公司采用三维建模软件，按照实际比例建立三维模型，根据客户文字、语言草图等需求描述，专业设计出适合客户所需产品方案（在方案定稿之前所有设计不收取任何费用）。为了生产出最匹配客户需求的产品，需要告知我公司以下几个问题点：1、产品在使用过程中是否有温度产生，高温和低温分别是多少摄氏度，是否需要通水或液氮冷却等内外在因素。2、对产品材质是否有特殊要求，真空领域腔体常用材质为：碳钢、铝、304不锈钢、316不锈钢等3、产品的链接方式，抽真空的方式，抽真空所用的真空泵等4、腔体真空度的要求，腔体抽完真空以后是否需要冲入保护气体或其他气体。通常常见真空腔体技术性能：材质：304不锈钢或客户指定材质。腔体适用温度范围：-190℃~+1200℃密封方式：氟胶“O”型圈或金属无氧铜密封圈出厂检测事项：1、真空漏率检测：标准检测漏率：1.3*10-8PaL/S 2、水冷水压检测：标准检测压力：8公斤24小时无泄漏检测。内外表面处理：拉丝抛光处理、喷砂电解处理、酸洗处理、电解抛光处理和镜面抛光处理等。实验室真空系统,真空腔体,真空探针台超高真空多腔体镀膜系统

溅射镀膜设备SMD系列（立式）SMD 系列是镀金属膜、ITO、IGZO、诱电体膜等的枚叶式溅射镀膜设备。仅SMD系列就有超过1000台的丰富的采用实绩，在各种各样的生产环境下运转。及时反映从生产现场听取的意见，进一步提高设备的可靠性。产品特性 / Product characteristics&bull 仅基板搬送和侧面镀膜的方式，低particle&bull 节约空间的设计&bull 可以轻松的完成单独基板管理，如成膜条件&bull 根据镀膜物不同选择不同的阴排列&bull 丰富的经验和数据支持，广泛的镀膜工艺对应产品应用 / Product application&bull Display（TFT、智能手机、平板电视（2K、4K）、OLED）产品参数 / Product parameters1、公司介绍深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年，由武汉大学团队孵化，致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。公司主要业务如下:装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。设备服务:驻场或者 oncall，装备维护、保养、售后技术支持。厂务服务:驻场或者 oncall，人力服务及厂务二次配工程。经历五年高速发展，2023 年营业额达 3.2 亿，连年复合增长率达 300%，现处于稳定扩张期。2、成长历程&bull 2020年（公司成立年）&bull 2300万订单额2021年 7000万订单额2022年 2.5亿订单额2023年3.2亿订单额

产品简介：钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。 产品型号钙钛矿镀膜机主要特点1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10-4Pa4、系统漏率：≤1×10-7Pa5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度 400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW； 蒸发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm7、加热温度：RT-180℃，测温、控温8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999?

ARC-LITE样品制备镀膜机ARC-lite样品制备镀膜机是一种快速的, 在常温状态下对各种封装形式器件和WAFER的样品，进行COATING的设备.　　设备主要特点:1. ARC-lite样品镀膜在常温下进行。 2. ARC-lite可以适用于ASAP-1选择区域精细研磨和ULTRAPOL ADVANCE抛磨后等镀膜,以便使样品在显微镜或其他观察时更为清晰 。3. 快速方便-只用45秒。4. 样片效果比不做镀膜可提高60%。5. 各种形式/尺寸封装和WAFER样品都可适用。6. 价格实惠,小巧方便。7. 可用于emission microscopy, Laser, FIB, voltage, thermal, FMI, probing, and most other backside techniques.

钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。主要特点1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10-4Pa4、系统漏率：≤1×10-7Pa5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度 400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW；蒸　　　　　 发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm7、加热温度：RT-180℃，测温、控温8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999A

请联系张先生shincron溅射镀膜机

派瑞林真空镀膜机用独特的真空气相沉积工艺制备，由活性小分子在基材表面“生长〞出完全敷形的聚合物薄膜涂层 ，具有其他涂层难以比拟的性能优势。它能涂敷到各种形状的表面，包括尖说的校边 ，裂缝里和内表面。可应用于航空航天、新能源汽车、电路板、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、医疗器械等行业，具有广阔的市场前景。这款MQP-3001小设备腔体小，均匀性良好，适合科研单位进行实验研究，操作简便，稳定性强。公司始终以信誉求发展，以质量求生存为宗旨，坚持以人为本，与时俱进科技创新，公司将一如既往，努力打造优良品牌，同时也真诚地为用户提供周详的服务．有充足的技术及生产加工能力，欢迎广大客户选购本公司真空镀膜设备和派瑞林（Parylene）原材料以及来件涂层加工。

高真空镀膜机 Leica EM ACE600 您选择了用于TEM和FE-SEM分析的最高分辨率。Leica EM ACE600是完美的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于最高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。高真空镀膜仪 – 配置您的镀膜体系 – 我们铸造您真正需要的镀膜仪Leica EM ACE600 可以配置如下镀膜方式: 金属溅射镀膜 碳丝蒸发镀膜 碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件） 电子束蒸发镀膜 辉光放电 连接VCT样品交换仓，与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输Leica EM ACE 镀膜仪 为您开启最优越的镀膜体验 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的所有镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜。让我们开启大门来体验全新镀膜设备的先进技术。我们的理念只有一个，即“力求简约，简便，快速并可靠地实现样品表面镀膜，使您的样品在EM中获得最好的图像”。

深冷水汽捕集泵工作原理：镀膜机深冷系统可用于-60℃至-150℃超低温工艺生产贮存，镀膜生产加工。镀膜机深冷系统能够将冷冻盘管放置在真空系统中的任何部位，由于水蒸气的水分子呈无规则运动状态，后装机到盘管冷冻部位后，通过其表面的低温冷凝效应，被凝结成固体状态，水蒸气变成了固态冰，水分子不再进入真空系统中运动，提高镀膜机抽真空速率和效果。真空镀膜机在抽真空时需要扩散泵和机械泵配合，而扩散泵工作时，需要冷媒对其工作的冷阱部位进行冷却，防止油蒸汽返油进入真空室，影响真空和镀膜质量；另外在真空室百叶窗后的深冷盘管通液氮进行冷却，捕获水蒸气等气体，可以提高真空抽速和真空度。通过镀膜机深冷系统，可以代替传统的液氮，节省液氮耗量，提高镀膜机抽真空效率和工作效率。性能与参数制冷量（w）3600除霜温度（℃）-20℃~30℃（可调）管式冷阱理论抽气速度（L/S）234000工作噪音（dB）≤78极限真空度（mbar）2x10-824℃冷却水流量（L/min）28深冷管表面积（㎡）1.5水温报警温度（℃）38（可不用冷水机）单路冷阱规格Ф16mm*20m冷却水接口G3/4冷媒管接口12.7 铜管焊口压缩机功率（HP）10除霜时间（min）≤3电源要求380-400V/3P/50Hz制冷间隔时间（min）≤5降温速度（min）≤5冷媒属性环保不可燃设备尺寸（mm）1600*700*700标准冷阱连接管长度（m）2.4设备重量（kg）400初开最小预冷时间（min）35制冷电磁阀防油堵功能有

产品详情Nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 NOC-4000 NANO-MASTER 的 NOC 系列光学镀膜系统提供最先进的原子级清洗、抛光以及光学镀膜技术。 光学样片放置于一个腔体种进行原子级清洗和抛光处理，之后自动传送到第二个腔体中进行光学镀膜，这个过程无需间断真空。系统也可以独立使用其中的一个腔体，每一个都可以实现各自的自动上/下载片功能。 紧凑型设计，占地面积仅为 46”x44”，不锈钢立柜。 工艺过程通过触摸屏 PC 和 LabView 软件，可实现全自动的 PC控制，具有高度的可重复性，且具有友好的用户界面。系统具有完整的安全联锁，提供四级密码授权访问保护，含： 。操作者权限：运行程序。 工艺师权限：添加/编辑和删除程序。 工程师权限：可独立控制子系统，并开发程序。服务权限：NM 工程师故障诊断和排除 真空系统包含涡轮分子泵和机械泵，极限真空可达到 5 x10-7Torr。涡轮分子泵与腔体之间的直连设计，系统可获得最佳的真空传导率，基本可以达到 15 分钟可达到工艺真空，8 小时达到腔体极限真空。腔体压力调节通过 PC 自动控制涡轮速度而全自动调节，快速稳定。 在第一个腔体中通过离子束可达到原子级的清洗，离子源安装在腔体顶部，离子源配套 2KV，300mA 的电源。样品台配套 4”或 6”基片夹具、水冷，并可对着离子束流实现+900C 到-900C 旋转。系统配套气动遮板，使得工艺运行前稳定离子束流。 根据应用需要可以升级离子源，以支持更大尺寸晶圆片的处理。 第二个腔体可以根据应用需要配套 ALD、PECVD、磁控、电子束蒸镀、热蒸镀等镀膜。 膜厚监控仪校准后可实现原位膜厚测量，可以工艺时间或工艺膜厚为工艺终点条件，系统支持设定目标膜厚，当达到设定的目标膜厚时全自动结束工艺。水冷保护晶振夹具，膜厚和沉积速率以及晶振寿命可显示，可存储高达 100 个膜厚数据。 系统的两个腔体均配套单片的 Auto L/UL，可实现自动进样、对准、出样，在不间断工艺真空情况下连续处理样片。Load Lock腔体带独立真空系统和真空计，通过 PC 全自动监控。两个腔体之间可以互相传送样片。整个过程计算机全自动控制。 应用：。光学镀膜。 Sputterint 溅射。IBAD 离子束辅助沉积。离子束刻蚀清洗。 离子束辅助反应性刻蚀。 红外镀膜。表面处理 设备特点：。RF 射频偏压样品台。 膜厚原位监测。 极限真空 5 x 10-7Torr。 最佳的真空传导率设计，具有快速真空能力。 PC 全自动控制，超高的精度及可重复性。 高质量薄层。原子级的超净表面。 原子级清洗和抛光。 LabView 软件的 PC 控制系统。 自动上/下载片。 两个腔体可以分别独立使用并实现自动上下载片。 两腔体之间自动传送，双向传送支持。 菜单驱动，密码保护。 安全互锁。 占地面积 46”D x 44”W 系统可选：。 向下/向上溅射。共溅射。DC, RF 以及脉冲电源。离子束辅助沉积。 电子束源。热蒸镀。等离子源。 ALD 沉积或 PECVD 沉积