当前位置: 仪器信息网 > 行业主题 > >

溅射蒸碳仪

仪器信息网溅射蒸碳仪专题为您提供2024年最新溅射蒸碳仪价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括溅射蒸碳仪参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的溅射蒸碳仪您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合溅射蒸碳仪相关的耗材配件、试剂标物,还有溅射蒸碳仪相关的最新资讯、资料,以及溅射蒸碳仪相关的解决方案。

溅射蒸碳仪相关的耗材

  • 真空泵油喷碳仪离子溅射仪真空泵专用/0.5L
    【产品详情】PfeifferP3号油可有效改善真空泵性能,适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵,尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3mbar产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 全自动型离子溅射仪
    【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm x 0.1mm 厚度溅射控制系统微处理器控制,远程电流/电压感应;最大电流40mA,程序化数字控制;提供真空安全联锁装置,配有过流保护;模拟计量真空 Atm - 0.001mb 电流: 0 – 50mA控制方式自动气体换气和放气功能,带有“暂停”控制的数字定时器(0-300s)机械泵2L/s工作媒介气体氩气,纯度最低99.9%工作电压220V, 50/60HZ膜厚监控仪(选配)通过6MHz石英晶体进行原位监控,显示纳米级厚度,可精确到0.1nm适用配套Zeiss, JEOL, Hitachi, FEI, Tescan, Phenom等扫描电镜 【产品详情】Agar 全自动喷金仪(离子溅射仪)为英国进口设备,操作简单,适用于扫描电镜样品制备,可喷金、铂、金/钯、铂/钯、银等。喷金仪使用小贴士:1)需要溅射喷金的样品a)第一类样品是电子束敏感的样品,主要包括生物样品,塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量,在与样品的相互作用过程中,它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料,那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下,用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用,防止此类损伤;b)另一类样品是非导电的样品,由于样品不导电,其表面带有“电子陷阱”,这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应,可在样品表面镀一层金属导电层,镀层作为一个导电通道,将充电电子从材料表面转移走,消除荷电效应。在扫描电镜成像时,溅射材料可以增加信噪比,从而获得更好的成像质量。2)溅射材料常用的溅射材料为金,导电性高。喷金仪的真空度越高,所溅射的金属颗粒越小,可以减少样品表面形貌失真的情况。当需要超高分辨率成像时,首选高真空喷金仪,同时还可以选用其他溅射材料,如:铬,铱等,溅射的晶粒更细小。此外,如果需要做EDS能谱分析的话,建议选择喷碳仪,因碳的X射线峰不会与其他元素的峰值发生冲突。产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 离子溅射仪(日产)
    离子溅射仪是对透射电镜及扫描电镜及样品进行离子刻蚀和涂复导电层的设备,主要用于对生物、有机物及金属样品溅射一层均匀而致密的金属膜供扫描电镜观察,亦可对各种样品进行离子刻蚀以及对透射电镜支持膜作亲水处理,以获得理想的实验表面。仪器操作简单方便,是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。型号:MSP-10
  • FIB和离子溅射仪标样
    为了能更好的对FIB和离子溅射仪的 离子枪的参数进行测试,推出了FIB 和离子溅射仪标样。
  • Quorum 溅射靶材-金属靶材-电镜用靶材
    Quorum 耗材,靶材,载物台等附件Quorum提供了一系列消耗品和备件。溅射靶材Quorum为我们当前的Q系列(S和ES版本)和SC7620溅射镀膜机以及以前使用Emscope,Emitech,Polaron,Bio-Rad,Fisons Instruments和Thermo VG品牌制造的型号提供金属溅射靶材。包括E7400-314A TargetGold 0.2 mm, E7400-31C Target Platinum 0.2 mm, E7400-314IR Target Iridium 0.3 mm, SC500-314A Target Gold 60 mm x 0.1 mm thick, SC500-314E Target Silver 60 mm x 0.1 mm thick, SC502-314A Target Gold 57 mm x 0.1 mm, 更多溅射靶点请咨询大连力迪流体控制技术有限公司碳耗材:碳棒和碳纤维供应品有多种尺寸和纯度可供选择,通常用于将碳蒸发到样品上,用于 X 射线微量分析或透射电子显微镜 (TEM)分析。
  • 小型离子溅射仪 暂无 暂无
    产品说明:该离子溅射镀膜机是对透射电镜及扫描电镜及样品进行离子刻蚀和涂复导电层的设备,主要用于对生物、有机物及金属样品溅射一层均匀而致密的金属膜供扫描电镜观察,亦可对各种样品进行离子刻蚀以及对透射电镜支持膜作亲水处理,以获得理想的实验表面。仪器操作简单方便,是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。真空保护:20Pa配有微量充气阀调节工作真空工作室工作媒介气体:空气或氩气,配有氩气专用进气口和微量充气调节
  • 银靶溅射靶材Ag
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌银靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:银靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 铬靶靶溅射靶材Cr
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:铬靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 钯靶Pd靶溅射靶材
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌钯靶直径57mm x 0.1mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:钯靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 小型离子溅射仪 MSBC-12
    SBC-12 小型离子溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀导电膜(金膜),仪器操作简单方便,是配合中 小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。真空检测:皮氏计;真空保护:20Pa配有微量充气阀调节工作真 空;工作室工作媒介气体:空气或氩气,配有氩气专用进气口和微量充气调节。
  • 铂靶溅射靶材Pt
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铂靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620铂靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:铂靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 金靶溅射靶材Au
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外), JEOL型号JFC-1200, JFC-1300, JFC-1400, JFC-1600, JFC-2300HRPolaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金靶直径54mm x 0.1mm厚度直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:金靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 镍靶溅射靶材Ni
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌镍靶直径57mm x 0.1mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620镍靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:镍靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 铂钯合金靶靶溅射靶材Pt/Pd
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铂钯靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620铂钯靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:铂钯靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 金钯合金靶Au/Pd溅射靶材
    【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金/钯靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金/钯靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:金/钯靶产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • PVD高纯溅射靶材
    这些德国制造的PVD高纯溅射靶材是全球领先的超高纯度PVD镀膜材料,完全在德国生产,拥有世界一流的产品性能,非常适合PVD溅射靶材和PVD镀膜使用。PVD溅射靶材具有全球最为齐全的种类。Tribological Coatings and FilmsDescription:Targets for the components and tools in mechanical engineering and instrumentation.Example:Cr 99.95% WC 99.5%.Precision OpticsDescription:Targets for lasers, lightings and filters.Example:Ta 99.95%.Transparent Conductive Oxide (TCO) TargetsDescription:ITO, ZnO, SnO2 and ZnO: Al based targets for the photovoltaic, low E-glass and flat panel display industries.Example:ZnO 99.9% (TCO)Reflective MaterialsDescription:Reflective targets for solar applications.Example:Aluminum 6061.Thin Film Battery TargetsDescription:Lithium based targets for solid-state rechargeable batteries.Example:LiCoO2 99.9%Semiconductor TargetsDescription:High k-dielectric, Hafnium, Tantalum and Barium Titanate based targets for thin film capacitors.Example:Barium Titanate 99.9%.Storage MediaDescription:High density Ru targets for perpendicular storageCustom TargetsDescription:Compositions and shapes tailored for your needs.Materials ListingAAg99.99Al99.99 99.999AlN99.9Al2O399.99Al/Cu99.99 99.999Al/Si99.99 99.999Al/Si/Cu99.99 99.999Au99.99 99.999BBaFe12O1999.9BaF299.9BaMnO399.9(Ba,Sr)TiO399.9BaTa2O699.9BaTiO399.9BaZrO399.9Bi99.9 99.999Bi2O399.99Ba4Ti3O1299.9BN99.9CCa99CaF299.95CaTiO399.9CdTe99.995Ce99.9CeO299.9 99.99Cr99.9 99.95 99.99Cr2O399.8CrSiO299.5Co99.95CoO99.5Cu99.997Cu/Ga70/30at.%99.99CuO99.9DDyFeO399.9Dy2O399.9EEr2O399.9FFe99.95Fe2O399.9GGd2O399.9GaN99.99Ge99.999HHfO299.95I-KIn99.99 99.999In2O399.99In2O3/SnO290/10wt%99.99In/Sn99.99Ir99.8 99.9LLa99.9LaAlO399.9LiCoO299.9LiNbO399.9Li3PO499.9MMg99.98MgAl2O499.9MgB299.5MgFe2O499.9MgF299.9MgO99.95Mn99.9Mo99.9 99.95MoS299N-ONd99.9Nd2O399.9Ni99.95 99.98 99.99Ni/Cr99.95Ni/Cr/B99.95Ni/Cr/Si99.95Ni/Fe99.95Ni/V99.9Nb99.95Nb2O599.9P-QPb99.999Pb(Zr,Ti)O399.9Pd99.95Pt99.9 99.99Pr99.9Pr2O399.9RRe99.9Rh99.8Ru99.9RuO299.9SSe99.999Si99.999SiC99.5Si3N499.9SiO99.9SiO299.99Si/Cr99.99Sn99.99SrFe12O1999.9SrRuO399.9SrTiO399.9 99.99T-UTaC99.5Ti99.95 99.995TiB299.5TiC99.5TiN99.5TiO99.9TiO299.9TiSi299.5Ti/Al99.9TiW99,95 99,995VV99.7 99.9VC99.5VN99.5V2O599.9W-XW99.95WC99.5W/Ti99.95YYb2O399.9Y2O399.99ZZn99.99ZnO/Al2O3,98/2wt.%99.9 99.99 99.999ZnO99.9 99.99 99.999ZnS99.99ZnSn99.9Zn/Al99.99Zr99.2ZrB299.9ZrO2+3,8,or10mol.%Y2O399.9
  • 离子溅射标样,Si3N4膜,于1x3cm Si片上
    最精密的离子溅射标样,用于校准离子枪。提供SiO2、Si3N4、Ta2O5和NiCr-7薄膜
  • 贵金属溅射靶材(金靶铂金靶)
    金靶、铂靶、钯靶、银靶EMS公司提供多种贵金属溅射靶材,有金靶、铂靶(白金)、钯靶、金钯合金靶60:40、铂钯合金靶80:20,纯度在99.99%以上。EMS公司靶材适合多个厂家的镀膜仪器,Emitech, Emscope, Bio-Rad, Polaron, Edwards, Balzers, Plasma Sciences, Technics Hummers, Denton, Cressington等等。提供的所有靶材均是标准厚度0.1mm,厚度在0.05-6mm之间的厚度靶材,需要特别问询。可以根据你的需求定制合适直径的靶材(4-304.8mm之间)。 1.金靶和铂金靶Gold (Au) and Platinum (Pt) 货号 (Au) 直径 mm货号 (Pt)直径 mm91006-Au20.091006-Pt20.091007-Au20.491007-Pt20.491008-Au32.091008-Pt32.091009-Au39.091009-Pt39.091013-Au42.091013-Pt42.091014-Au50.091014-Pt50.091015-Au50.891015-Pt50.891016-Au54.091016-Pt54.091017-Au57.091017-Pt57.09101060.09101260.091018-Au63.591018-Pt63.591019-Au75.091019-Pt75.091020-Au76.091020-Pt76.02.钯靶和金钯靶Palladium (Pd) and Gold Palladium 60/40(AP)货号 (Pd)直径 mm货号( AP60/40)直径 mm91006-Pd20.091006-AP20.091007-Pd20.491007-AP20.491008-Pd32.091008-AP32.091009-Pd39.091009-AP39.091013-Pd42.091013-AP42.091014-Pd50.091014-AP50.091015-Pd50.891015-AP50.891016-Pd54.091016-AP54.091017-Pd57.091017-AP57.091010-Pd60.09101160.091018-Pd63.591018-AP63.591019-Pd75.091019-AP75.091020-Pd76.091020-AP76.0
  • 小型离子溅射仪
    主要特点 1.快速高效的抽气,同时保证了镀膜的质量和样品无升温;2.标准的手动操作模式,电流和时间可控; 3.标准靶材可快速更换,顶部O圈密封性能优越;4.可冲入惰性气体 5.可选配M10高分辨膜厚检测仪来有效控制膜厚。
  • 溅射镀膜仪
    108型自动镀膜仪适用于对非导电样品进行高质量的镀膜以用于SEM观察。自动镀膜功能可对一系列样品均匀的镀上所需的导电物质。MTM-20高分辨厚度控制仪可以形成统一的膜厚度,达到最优的导电效果。
  • 经认证的 NIRS 99% 反射率标准板,用于实验室探针 | 6.7450.030
    经认证的 NIRS 99% 反射率标准板,用于实验室探针Certified NIRS 99% reflection standard for laboratory sensors订货号:6.7450.030经认证的 99% 反射率标准板,用于校正 NIRS XDS SmartProbe Analyzer
  • 贺利氏碳中波红外辐射器(灯管)
    德国贺利氏碳中波红外加热器(灯管)具有独一无二的灯丝设计,因而可产生快速反应,将具有高功率密度的中波辐射和只有几秒的反应时间结合在一起。碳中波红外辐射器只需要传统短波红外辐射器所耗能量的30%,适合多种材质的加工辐射。寿命长、热效率高,保证用户的高效生产;良好的品质保证加热的均匀性,故障率低;红外加热技术的高效、精确保证层产品的可靠性和寿命。联系方式联系人:许丹婷 地址:上海市桂林路406号5号楼2楼 [200233]电话:+86 21 33575347 传真:+86 21 33575333Email:info.hns@heraeus.com 公司网址:http://www.heraeus-noblelight.cn
  • Shimadzu 总有机碳分析仪(TOC 5000)注射器
    Shimadzu 总有机碳分析仪(TOC5000)注射器体积描述注射器货号替换推杆货号250µ L1/4-28 UNF末端0066800318322.5mL1/4-28 UNF 末端008680031854
  • Altechna HR直角回射器
    HR直角回射器材质UVFS尺寸公差+0.0/-0.2 mm通光孔径80%90度角公差±30 arcsec塔差表面质量20-10 S-D表面平整度保护性倒角超短脉冲背反射任务需要群延时管理。由于这个原因,普通的后向反射棱镜是不适用的,因为它引入了相当大的群延迟色散,使脉冲的时间形状失真。直角后向反射镜的空心结构,由两个HR涂层反射镜组成,总反射率高于99.6%。此外,HR涂层的群延迟色散(GDD)优化为1)空心配置2)反射率 99.6%每表面3) 镜子沉积在UVFS基材上4) 可忽略的脉冲分散Altechna在标准,定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外(193纳米)到远红外(25微米)的波长范围,涂层的zui大部分是在波长范围内最常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料:?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜(GTI)?可变反射镜?金属涂层在Altechna,我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值,高质量涂层。每个涂层都是特殊的,多年来在光电领域,我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键,因此我们的涂层采用不同的技术,分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表:?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的,并根据光谱灵敏度,损伤阈值,硬度,表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPaAOI, deg半孔径尺寸,毫米设计波长,nmGDD, fs^2材质反射Rs / Rp / Ravg,%产品ID4524 x 19343-355UVFS99,7 /99 /99,41-HRR-2-4020-[1B145]4524 x 191520 - 1580UVFS99,7 /99,2 /99,41-HRR-2-4020-[1V145]4524 x 19515 - 532UVFS99,7 /99,3 /99,51-HRR-2-4020-[1E145]4524 x 19380 - 420UVFS99,5 /98 /991-HRR-2-4020-[1C145]4524 x 19760 - 840UVFS99,7 /99,2 /99,41-HRR-2-4020-[1K145]4524 x 191020 - 1090UVFS99,7 /99,3 /99,51-HRR-2-4020-[1R145]定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用,请与我们联系,以便定制解决方案。
  • IBS镀膜激光反射镜
    IBS镀膜激光反射镜IBS 反射镜镀膜具有低损耗、高反射的特点在设计波长下可保证的激光损伤阈值高达 15 J/cm2@1064nm超精密磨光的基片可提供百万分之一级别的水平散射性能Additional Sizes Coming Soon通用规格基底:Fused SilicaTECHSPEC® IBS 镀膜激光反射镜采用离子束溅射 (IBS) 技术镀膜。这些激光反射镜专为要求极其严苛的激光应用设计,这些应用要求在其激光线波长下获得最高的反射量。离子束溅射镀膜使这些镜面的表面粗糙度低于其他镀膜技术,从而减少散射。密集的镀膜使 TECHSPEC® IBS 镀膜激光反射镜具有较高的环境稳定性,性能受温度、湿度等环境因素影响极小。该反射镜专为常用的 Nd:YAG 波长设计,并经过优化,可在其设计波长下提供高损伤阈值。如果您的应用需要定制尺寸的 IBS 激光反射镜或定制的 IBS 反射镜镀膜,请与我们联系.产品信息DWL (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)AOI (°)产品编码35525.406.3545#34-83853225.406.3545#34-842106425.406.3545#34-84526612.706.3545#33-06635525.405.0045#89-45053225.405.0045#89-451106425.405.000#89-452106425.405.0045#89-453
  • X射线探测器 X射线探测器
    X射线探测器是一种位置灵敏性的探测器 (Position sensitive detector, PSD), 非常适合各种X射线衍射仪探测器的使用。X射线探测器具有专利技术的X射线衍射仪探测器使用坚固的blade anode技术,而不是基于传统微光子技术,它不需要维护,不受X射线束的影响。X射线探测器特点先前的PSD探测器基于fragile wire anode technology,这种技术的探测器噪音较大,而且很容易被较强的X射线损坏。为了克服这个问题,法国Inel公司投入大量人力研发了这种PSD新型X射线探测器,使用钢合金替代原有材料,使得X射线探测器非常坚固而且不易被损伤。PSDX射线衍射仪探测器可用于粉末,固体和液体的实时X射线实验。X射线探测器,X射线衍射仪探测器弧形设计,具有110度,120度和90度的弧度共用户选择。该X射线探测器,X射线衍射仪探测器全固化设计制造,代替了传统的机械扫描装置。这款PSDX射线衍射仪探测器可用于粉末,固体和液体的实时X射线实验。X射线探测器,X射线衍射仪探测器弧形设计,具有110度,120度和90度的弧度共用户选择。该X射线探测器,X射线衍射仪探测器全固化设计制造,代替了传统的机械扫描装置。
  • Altechna 双激光线反射镜(DHR)
    双激光线反射镜(DHR)直径公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D表面厚度保护性倒角测量反射率R99.5 % @ A OI=0°Rs99.3 % and Rp98.5 % @ A OI=45°涂层附着力和耐用性Per MIL-C-675A激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt这些多层涂层是旨在在正常或45度入射的两个特定激光线波长处实现zui高可能的反射率的叠层。激光线高反射率涂层用于外部光束操纵应用,即使轻微的损失也是不能容忍的。离子束溅射(IBS)或电子束蒸发(带/不带离子辅助涂层技术)提供涂层。1)涂层被设计为在正常或45度入射的两个特定激光线波长处实现zui高可能的反射率Altechna计量实验室应用以下产品检验:目视检查 - 根据MIL 13830和ISO 10110标准进行表面质量评估尺寸 - 测量几何尺寸,如直径,厚度等透射率(分光光度计,激光)*反射(分光光度计,激光)平坦度(干涉仪)波前畸变(干涉仪)平行度(测角仪,干涉仪)*(...)使用的设备Altechna在标准,定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外(193纳米)到远红外(25微米)的波长范围,涂层的zui大部分是在波长范围内最常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料:?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜(GTI)?可变反射镜?金属涂层在Altechna,我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值,高质量涂层。每个涂层都是特殊的,多年来在光电领域,我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键,因此我们的涂层采用不同的技术,分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表:?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的,并根据光谱灵敏度,损伤阈值,硬度,表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa订购信息:AOI, deg基底材料尺寸,mm波长,nm产品编号45UVFS?25.4 x 5355+5321-OS-2-0254-5-[5C45]45UVFS?50.8 x 6510-532 +1020-10701-OS-2-0508-6-[5HJ45]45UVFS?25.4 x 5400+8001-OS-2-0254-5-[5F45]0UVFS?12.7 x 5266+5321-OS-2-0127-5-[5A00]45UVFS?25.4 x 5266+5321-OS-2-0254-5-[5A45]0UVFS?25.4 x 5515+10301-OS-2-0254-5-[5H00]45UVFS?25.4 x 5355+10641-OS-2-0254-5-[5D45]45UVFS?12.7 x 5515+10301-OS-2-0127-5-[5H45]45UVFS?25.4 x 5510-532 +1020-10701-OS-2-0254-5-[5HJ45]45UVFS?12.7 x 5510-532 +1020-10701-OS-2-0127-5-[5HJ45]0UVFS?12.7 x 5343+10301-OS-2-0127-5-[5B00]0UVFS?12.7 x 5355+5321-OS-2-0127-5-[5C00]0UVFS?12.7 x 5355+10641-OS-2-0127-5-[5D00]0UVFS?12.7 x 5400+8001-OS-2-0127-5-[5F00]0UVFS?12.7 x 5515+10301-OS-2-0127-5-[5H00]0UVFS?12.7 x 5532+10641-OS-2-0127-5-[5J00]45UVFS?12.7 x 5266+5321-OS-2-0127-5-[5A45]45UVFS?12.7 x 5343+10301-OS-2-0127-5-[5B45]45UVFS?12.7 x 5355+5321-OS-2-0127-5-[5C45]45UVFS?12.7 x 5355+10641-OS-2-0127-5-[5D45]AOI, deg基底材料尺寸,mm波长,nm产品编号45UVFS?12.7 x 5400+8001-OS-2-0127-5-[5F45]45UVFS?12.7 x 5532+10641-OS-2-0127-5-[5J45]0UVFS?25.4 x 5266+5321-OS-2-0254-5-[5A00]0UVFS?25.4 x 5343+10301-OS-2-0254-5-[5B00]45UVFS?25.4 x 5343+10301-OS-2-0254-5-[5B45]0UVFS?25.4 x 5355+5321-OS-2-0254-5-[5C00]0UVFS?25.4 x 5355+10641-OS-2-0254-5-[5D00]0UVFS?25.4 x 5400+8001-OS-2-0254-5-[5F00]0UVFS?25.4 x 5532+10641-OS-2-0254-5-[5J00]45UVFS?25.4 x 5515+10301-OS-2-0254-5-[5H45]45UVFS?25.4 x 5532+10641-OS-2-0254-5-[5J45]定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用,请与我们联系,以便定制解决方案。
  • 海洋光学低镜面反射标准品STAN-SSL
    STAN-SSL 低镜面反射率标准是一个中性滤光片标准。可以用来测量感光底层,光涂层,机加金属和半导体材料等材料的反射率。STAN-SSL感光底层直径为1.25" ,安置在一个坚硬的 1.5" x 0.75" 大小的蓝色阳极氧化铝盒并拧上盖作为保护。使用提示使用海洋光学的光谱仪时,STAN-SSL限于200-1100 nm。 用 STAN-SSL将低反射率基准设为~4%。虽然中性滤光片的材料很耐用,用户还是应该在使用时备加小心,以保证标准面不被破坏。清理STAN-SSL 表面时,先用高压气体吹掉表面的污垢和尘土,然后用牵引清洁法除去表面的指纹和固定残留物。牵引清洁法是用镜头纸沾丙酮或酒精慢慢的的拉过镜头的表面。只要操作正确,溶剂均匀挥发后不会在镜头表面留下拖尾或污点。STAN-HOLDER 标准反射支架STAN-HOLDER 反射比标准固定器是一个用来在测量时将标准固定的附件,使用方便。STAN-SSL镜面反射图技术指标基底尺寸:1.25" 外直径 x 0.25" 高架子尺寸:1.5"外直径 x 0.75" 高 反射材料:黑色玻璃反射率:~5.4% (200-950 nm)~4.0% (950-2500 nm)
  • 海洋光学高镜面反射率标准板STAN-SSH
    STAN- SSH高镜面反射率标准板可以用来测量感光底层,光涂层,机加金属和半导体材料等材料的反射率,表面具有高镜面反射率值的物体的参照。STAN-SSL 在200-800 nm波长范围内提供~85-90%反射率,在800-2500nm波长范围内提供~85-98%反射率。有两种款式的STAN-SSH,STAN-SSH 型和NIST溯源的STAN-SSH-NIST型 。NIST型STAN-SSH-NIST是按照一 个NIST校准(NIST号为NIST38060S, s/n 99G16)250-2500 nm精度大概为 0.1% 。与STAN-SSH-NIST一起交货给用户的还有一个校准说明书,一个做为波长函数的反射率值数据表,和一张磁盘,磁盘中的数据可以转到海洋光学光谱 仪操作软件上。 建议用户定期标定STAN-SSH-NIST 。STAN-SSH感光底层直径为1.25" ,安置在一个坚硬的 1.5" x 0.75" 大小的蓝色阳极氧化铝盒并拧上盖作为保护。使用提示使用海洋光学的光谱仪时,STAN-SSH限于200-1100 nm设置高反射率基准时可使用STAN-SSH虽然STAN-SSH的铝膜由一层外涂层保护着,用户还是应该在使用时备加小心,以保证标准面不被破坏。不要用手或者物体碰表 面,以避免污染和破坏。清理STAN-SSH表面时,先用高压气体吹掉表面的污垢和尘土,然后用牵引清洁法除去表面的指纹和固定残留物。牵引清洁法是用镜 头纸沾丙酮或酒精慢慢的的拉过镜头的表面。只要操作正确,溶剂均匀挥发后不会在镜头表面留下拖尾或污点。裸露的金属层非常干净精密,不能用此方法清理。指印和污垢会对它产生永久破坏,用户在操作STAN-SSH时一定要非常小心,以延长它的使用寿命。STAN-HOLDER 反射比标准固定器STAN-HOLDER是一个用来在测量时将标准固定的附件,使用方便。STAN-SSL镜面反射技术指标底层尺寸:1.25" 外直径 x 0.25" 高架子尺寸:1.5"外直径 x 0.75" 高 反射物:镜面的熔融石英,带有保护外套反射率:~5.4% (200-950 nm)~4.0% (950-2500 nm)
  • 透射反射探头
    透射反射探头是最新的单程透射探头和双程透射反射光纤探头,与任何光谱仪和光度计兼容使用,透射反射探头用于工业和实验室的反应监测。透射反射探头功能应用可以在从紫外到中红外光谱范围内使用,用于液体中的远距离透射光谱。灵活强大,可应用在恶劣环境下的工业应用,如反应监测,PAT,结晶生成和筛选,用于生物制药分析和生物燃料的开发和生产。
Instrument.com.cn Copyright©1999- 2023 ,All Rights Reserved版权所有,未经书面授权,页面内容不得以任何形式进行复制