激子源射频离子阱质谱计

EXPEC 5310系列是谱育科技的新一代液相色谱-三重四极杆串联质谱联用仪。具有更强劲的离子源、更优异的离子传输系统以及更高的扫描速度和更强的检出能力，适用于环境污染物检测、食品安全检测、医药分析检测、临床研究检测等广泛的应用领域。产品概述性能优势出色的灵敏度和稳定性为了实现LC-MS/MS定量分析的性能突破，EXPEC 5310系列质谱仪在离子源、离子传输、四极杆射频控制等方面所有性能均有显著提高产品采用新一代的Step Scan离子传输技术，有效提升了离子传输效率全新一代的轴向加速碰撞池技术，大大提升碰撞效率高效去溶剂的离子源和离子接口，增加系统耐受性双路射频电源闭环自适应调整技术，提高四极杆射频电源的稳定性独特的双正交ESI & APCI离子源全新的E-SprayⅡ独立双源设计，具有更佳的离子产率，无缝切换，保证仪器灵敏度的提升离子接口高纯氮气反吹，提升去溶剂效果和基体耐受性加热气路，可精确控温高速动态碰撞池全新一代的轴向加速设计，使离子快速通过碰撞池，兼顾碰撞效率和传输效率，降低交叉污染智能MRM技术智能MRM功能为用户提供了方法编辑、修改的便利性能够在单次运行中分析更多的目标化合物，以便更高效地使用仪器分析样品，增加样品分析通量智能参数优化一键自动调谐和质量校准，降低用户使用难度为高级用户量身打造的参数调节工具，满足个性化实验需求可靠的多级真空系统基于分子泵+前级泵实现多级真空系统优化的差级真空系统设计，进一步提升离子传输效率完善的仪器控制系统所有的气路、电压、加热都具有连锁控制，确保设 备安全真空系统独立控制，拥有完善的自我保护，脱离软 件都可以确保系统正常所有气路均采用MFC控制，精确控制所有参数强大且友好的Mass Expert质谱工作站全新的Mass Expert全中文质谱控制软件和分析软件操作简单，一键自动调谐和质量校准功能降低了仪器控制的复杂度，降低了仪器使用门槛。质谱分析软件和报告模板可根据不用应用领域、不同用户进行个性化的定制，满足各个应用领域的使用需求。符合FDA 21 CFR Part 11以及GMP要求。应用领域应用于食品安全、医药、临床研究和司法鉴定等广泛领域，在各种场合下都发挥出高灵敏度和高稳定性，可以获得可靠的数据。控制、分析软件配备有力支持定量分析的工作站。

仪器简介：240-MSGC-MS/MS是目前世界上灵敏度最高的3-D离子阱质谱仪；远远超越单级四极杆质谱的灵敏度；也是目前最多专利设计的离子阱质谱仪。其专利的三重共振扫描技术，完全消除分子离子反应、谱图匹配等问题。可由单级MS升级为多级MSn（n＝10）。 扫描功能：具有全扫描Scan、选择离子扫描SIS、选择反应监测SRM、多反应监测MRM等扫描模式，各种扫描模式可自动交替进行；EI，CI可自动切换。 全扫描：得到全扫描谱图，可迅速鉴别未知化合物；灵敏度高于单级四极杆。选择离子扫描（SIS）：可以选择单个离子或一段离子储存；比单级四极杆的SIM具有更好的可操作性。选择性离子排除（SIE）:可以选择性地排除基质带来的干扰离子。 选择反应监测（SRM）：用于GC-MS/MS定量分析实验，并能大大提高检测极限；多反应监测（MRM）：同时检测多个化合物的母离子和子离子。 多级质谱分析：可用于有机合成未知物的结构解释；通过不同阶段的离子丢失判断官能团情况。 离子源： EI内源、外源可选；PCI、NCI 可选。可进行EI/CI自动切换。 脉冲离子化模式:根据样品浓度发射电流,有效减少离子源的污染,大大的增加灯丝寿命。CI气体电子流量控制。具有 PNHCI功能：外源CI模式，可做正、负、混合化学源。具有世界上唯一的液体化学源配置。 离子阱质量分析器：全惰性离子阱，适合高活性化合物的分析；灵敏度高；易于维护。 检测器：± 10kV偏轴打拿极电子倍增检测器。 载气流量：最大可达8ml/min； 真空系统： 280L/s的大抽速分子涡轮泵。 气相色谱仪：最具灵活性的配置可选；可选择单通道气相色谱仪。可同时安装3个检测器，3个进样口，形成独立的三通道分析系统；各检测器有独立的加热块；可储存50个方法。柱温箱：室温+4℃~450℃，可同时安装3根100米的毛细管柱。 程序升温阶数：24阶25平台。进样系统：1177进样口：具有分流/不分流进样方式；进样口启动：具有自动启动开关；隔垫吹扫可调； 脉冲压力设定；专利的省气模式 。自动进样器：100位双进样口自动进样模式。 数据处理系统：全自动控制色谱和质谱的所有工作参数；质谱最佳工作条件的全自动调谐；质量数定标的自动调谐；选择离子检测（SIS）和多级质谱的选择反应监测（SRM）、多反应监测（MRM）自动控制；质谱数据的自动采集和处理；单级质谱的谱库自动检索和分析报告的自动处理；单级质谱和多级质谱的自动定量功能。技术参数：1. 质量范围：10~1000amu。 2. 扫描速度：10000amu／s 。 3. EI全扫描灵敏度：　200fg OFN S/N20:1（内源）；500fg OFN S/N30:1（外源）。 4. CI灵敏度：5pg Benzophenone S/N50:1（内源）；PCI 5pg Benzophenone S/N10:1（外源）；1pg decafluorobenzophenone S/N50:1（外源）。主要特点：1. 市场上配置最具灵活性、灵敏度最高的质谱仪。 2. 专利的三重共振扫描技术，提高分辨率；完全消除分子离子反应、谱图匹配等问题。 3. 离子选择储存（SIS）实现复杂基体中痕量化合物谱库检索；选择性离子排除（SIE）:可以选择性地排除基质带来的干扰离子。 4. EI内源、外源可选；PCI、NCI 可选；独有液体CI源；配置PNHCI功能：外源CI模式，可做正、负、混合化学源。 5. 可进行EI/CI自动切换；脉冲离子化模式:根据样品浓度发射电流,有效减少离子源的污染,大大的增加灯丝寿命。 6. 10级 MS/MS功能提供更大的选择性和更多的结构信息；全惰性离子阱，适合高活性化合物的分析。 7. GC可同时安装3个检测器，3个进样口，形成独立的三通道分析系统；各检测器有独立的加热块；可储存50个方法。

仪器简介： M6单四极杆气相色谱质谱联用仪&rdquo 是公司承担&ldquo 十五&rdquo 科技攻关项目所取得的成果的最新展现，作为国产新一代台式单四极杆气质联用仪可广泛用于常规样品的定性和定量分析。性能可靠，维护方便，运行成本低，性价比出众。整个系统由以下几部分组成：普析通用M6单四极杆质谱仪 　　 安捷伦7890A气相色谱仪 　　　　　 安捷伦7683自动液体进样器（选配） 　　　　　 计算机系统（选配） 　　　　　　 M6化学工作站软件技术参数：技术指标 性能 质量范围 1.5-1050 amu 质量准确性 ± 0.1amu 分辨率（R） W1/21amu（单位质量分辨） 信噪比（EI） 5pg八氟萘全扫描，m/z272处信噪比&ge 150﹕1 RMS； 500fg八氟萘选择离子扫描，m/z272处信噪比&ge 150﹕1 RMS 质量稳定性 ± 0.1 amu /48h 最大扫描速度 10000 amu /s 真空度 &le 4× 10-4 Pa 测量重复性 10ng六氯苯m/z 284，RSD &le 9 % 谱库检索 10ng硬脂酸甲酯，相似度 &ge 75%型号及配置 型号配置说明M6-60AAgilent7890A气相色谱，质谱主机配德国普发60L/s小型涡轮分子泵M6-210AAgilent7890A气相色谱，质谱主机配德国普发210L/s小型涡轮分子泵 主要特点真空系统　　高性能的前级真空泵与涡轮分子泵组成的真空系统，减少离子碰撞，降低背景噪声与记忆效应。　　前级真空泵采用GLD-N201小型直联型油旋板真空泵，几何抽速4L/s 。　　2种规格小型涡轮分子泵，配合您的需要和预算提供最好的性能。　　　◇　TMH071P磁悬浮小型涡轮分子泵，几何抽速60L/S(标准配置)。　　　◇　TMH262P磁悬浮小型涡轮分子泵，几何抽速210L/S(选配)。　　冷阴极电离真空计，检测范围1.0× 10-5 ～1× 102 Pa 离子源 独立加热的EI电子轰击源，最高温度350℃。　　最大灯丝发射电流200&mu A。　　电子能量10-100eV 可调，具备低电压操作功能。　　整体插入式设计，无需复杂操作便可维护离子源。 四极杆质量分析器 　　高精度金属四极杆质量分析器确保达到标准的单位质量分辨率。 　　可拆卸的预四极过滤装置，降低主四极杆污染，避免对四极杆清洗维护。　　预四极过滤装置加有随扫描质量变化的电压，可改善边缘场，提高离子入射效率，获得更好的检测灵敏度。 检测器　　高压转换打拿级的电子倍增器。　　复合I/V转换电路技术的小信号放大器，有效降低电路噪声，提高信噪比，保证出色的线性动态范围。 电子系统 　　高品质的射频电源，只需两点即可完成全质量范围的质量轴校正，保持全扫描模式下良好的线性。　　出色的电磁兼容设计和高精度、低温漂的电子器件确保仪器优异的质量精度和质量稳定性。　　32位嵌入式系控制系统，采用100Mbps以太网通讯接口，可实现远程控制和网络化共享。　　高度模块化的电源系统和控制电路系统，提升仪器的整体可靠性，方便维护和升级。 软件系统　　中文软件系统，分为仪器控制、数据采集、数据处理和谱图检索（NIST08）四个功能模块。直观智能、操作方便。 技术参数 技术指标性能质量范围1.5-1050u质量准确性± 0.1u分辨率（R）单位质量分辨信噪比（EI）5pg八氟萘全扫描，m/z272处信噪比&ge 150﹕1 RMS； 500fg八氟萘选择离子扫描，m/z272处信噪比&ge 150﹕1 RMS质量稳定性± 0.1 u/48h最大扫描速度10000 u/s

MALDImini-1是一款设计十分紧凑的MALDI离子阱质谱仪，相比其他同类设备，尺寸更加小巧。利用岛津独有的“数字离子阱”（DIT）技术（一种新型的光学系统）可有效缩减质谱仪尺寸，从而确保仅占用客户工作台上很小的空间。数字离子阱（DIT）技术在有效缩减仪器尺寸的同时，还可运用其MS多级分析功能，作为鉴定未知化合物结构的实用工具。一款能够做MALDI-MSn且体积mini的设备。特点一：占用空间小体积小巧、易于安装。A3纸大小，节省空间和占地面积，重量25kg内置真空泵，可通过电源安装在任何地方特点二：快速分析样品制备后可立即开始测量，轻松进行MS分析，插入样品板后仅需5分钟即可抽真空，开始分析。特点三：微量上样量对体积单位低于ul的样品，依然可实施复杂结构分析。特点四：宽范围质量范围和多级MS使用MALDI+DIT在宽质量范围内进行高灵敏度MS 和 MSn 测量。宽范围的质量范围，上限可达70000m/z,可与TOFMS媲美。MS多级，可以做多级结构分析。特点五：岛津独有数字离子阱（DIT）技术数字离子阱（DIT）技术，使用矩形波RF捕获离子，因此可实现体积小巧。特点六：独特的离子光学系统和布局激光光学系统、样品台和真空排气系统均已经过优化，进一步减小设备的尺寸。离子和激光光学器件引导激光束垂直于孔板轰击样品，实现高离子透射率的同时让布局更为紧凑。电离后，离子束偏转90°，确保离子更有效地转移到离子阱。

Thermo ScientificTM TSQ EnduraTM 是赛默飞新一代三重四极杆质谱仪。TSQ Endura 在赛默飞的三重四极杆技术平台上重新设计了一套从离子源到检测器的离子光学传输系统，整个系统具有同类产品中超高的灵敏度，超强的耐用性，结合新设计的软件操作平台，具有超高的易用性。 图1展示的是TSQ Endura 整体内部结构图，TSQ Endura 从离子源到传输部件到质量分析器和检测器都有全新的设计，下面就这几个关键部件一一介绍其独有的特点：1. 离子源 TSQ Endura 配置的是赛默飞设计的的Easy Max NG 离子盒，具有加热型HESI 源和APCI 源一体化设计，只需要更换喷针即可实现ESI 源和APCI 源的切换。Easy Max NG 源的另一个特点是集成式气路电路设计，安装Easy Max NG 源时即可自动完成气路和电路的连接，不需要进行额外的操作。同时质谱系统还可自动识别源的类型，真正实现了智能化操作。 另外，电喷雾源喷针沿用了倾斜喷雾角度设计，且前后、左右位置可调，离子传输通道下方的不对称切面，使得多余的溶剂喷雾直接快速的排除到传输通道下方，减少离子源的维护周期，提高实际样品分析试验中耐受性。在离子源的排放端口具有恒定的氮气气流，去除更多溶剂蒸汽，降低基线噪音并增加系统耐用性。能识别，进行不同模式间的切换和信号拟合，从而实现超高灵敏度和超宽线性动态范围。2. 离子传输部件 在离子传输部件上TSQ Endura 有两大独特设计，一是RF-lens 设计，对于由离子传输管中输入的大量离子具有极高的传输效率和极好的聚焦能力。同时由于RF-lens 的独立一体化设计以及不锈钢材质，可以简单方便地进行拆卸和清洗；第二是弯曲的离子束传输组件加上中性粒子挡杆的设计，质谱离子化时会产生一些中性粒子，这些中性粒子如果进入离子通道，会造成质谱图的噪音干扰，并且极易污染整个离子光学通道，将传输四极杆设计成弯曲通道，并在上方加上中性粒子阻挡杆的设计，带电离子可以受电场影响发生偏转通过传输四极杆，而中性离子不受电场影响不发生偏转，湮灭在中性粒子阻挡杆上，避免进入四极杆质量分析器。 3. 主四极杆 主四极杆是TSQ Endura 的核心部件之一，其可以对离子进行过滤筛选和扫描，TSQ Endura上用的四极杆是赛默飞专利的双曲面四极杆，具有同类产品中超宽的质量范围。另一个特性是与其它三重四极杆上所加的振幅相等的RF电压不同，TSQ Endura 四极杆上加的为不对称RF电压，通过施加这种不对称的RF射频电压，将整个四极杆系统的离子传输效率极大提高。4. 主动碰撞池Q2 离子通过一个四极杆后，进入到碰撞池Q2，Q2的主要作用是将离子进行CID裂解，并高效传输到第三个四极杆进行子离子的选择扫描。TSQ Endura 主动碰撞池Q2采用了弯曲碰撞池设计，并且在轴向有DC 电场，可以对离子进行分段加速，使得碎片离子在Q2中不但拐弯而且被加速，配合更高压力的Ar做碰撞气，可以获得更加丰富、灵敏的二级离子碎片。 5. 双模式离散打拿级检测器 TSQ Endura 的检测器为双模式离散打拿级检测器，消除噪音，提高灵敏度。双模式检测器可对离子流进行自动智

产品概述EXPEC 5210是谱育科技在"国家重大科学仪器设备开发专项"支持下，历经多年的研发投 入，研制的具有自主知识产权的三重四极杆串联质谱仪，具有卓越的灵敏度，优异的稳定性，突出的可扩展性和更佳的性价比，广泛应用于食品安全、医学检测、生物医药和环境检测等领域，同时具有数千种化合物标准库和丰富的应用方法库，满足质谱用户的应用需求。性能优势出色的灵敏度和稳定性产品采用全新设计的Step Scan离子传输技术，有效提升了离子传输效率；创新的轴向加速碰撞池技术，大大提升碰撞效率；创新的脉冲计数检测技术，无损失的检测离子信号，有效过滤噪声干扰；高效去溶剂的离子源和离子接口，增加系统耐受性；双路射频电源闭环自适应调整技术，提高四极杆射频电源的稳定性。强大且友好的Mass Expert质谱工作站全新的Mass Expert全中文质谱控制软件和分析软件操作简单，一键自动调谐和质量校准功能降低了仪器控制的复杂度，降低了仪器使用门槛。质谱分析软件和报告模板可根据不用应用领域、不同用户进行个性化的定制，满足各个应用领域的使用需求。双正交E-spray离子源强大的ESI离子源，可扩展APCI离子源；正交于离子传输路径，90度偏转减小中性粒子进入质谱，降低噪声；基于流场仿真的正交对称的双路去溶剂气，高效去除溶剂。离子接口高纯氮气反吹，提升去溶剂效果和基体耐受性；加热气路，可精确控温。高速动态碰撞池轴向加速设计，使离子快速通过碰撞池，兼顾碰撞效率和传输效率，降低交叉污染。脉冲计数检测器90度偏转的通道式电子倍增器；创新的脉冲计数检测技术，具有更高的信号响应和更低的噪声。可靠的多级真空系统基于分子泵+前级泵实现多级真空系统；真空逐级过度(step transition ),减小气压突变，减少离子损失。完善的仪器控制系统所有的气路、电压、加热都具有连锁控制，确保设备安全；真空系统独立控制，拥有完善的自我保护，脱离软件都可以确保系统正常；所有气路均采用MFC控制，精确控制所有参数。应用领域应用于食品安全、环境、中药、临床研究等广泛领域，在各种场合下都发挥出高灵敏度和高稳定性，可以获得可靠的数据。控制、分析软件配备有力支持定量分析的工作站。

价格电议KRI 射频离子源 RFICP 系列 上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的套装, 套装包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.射频离子源 RFICP 系列技术参数:型号RFICP 40RFICP 100RFICP 140RFICP 220RFICP 380Discharge 阳极RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频离子束流100 mA350 mA600 mA800 mA1500 mA离子动能100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V栅极直径4 cm Φ10 cm Φ14 cm Φ20 cm Φ30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm5-30 sccm5-30 sccm10-40 sccm15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr长度12.7 cm23.5 cm24.6 cm30 cm39 cm直径13.5 cm19.1 cm24.6 cm41 cm59 cm中和器LFN 2000射频离子源 RFICP 系列应用:离子辅助镀膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )离子溅镀 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)上海伯东离子源典型应用: 射频离子源 RFICP 325 安装在 1650 mm 蒸镀机中, 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean, 完成 LED-DBR 镀膜生产右图: 在高倍显微镜下检视脱膜测试, 样品无崩边上海伯东离子源典型应用: 安装在离子蚀刻机中的 KRI 射频离子源, 对应用于半导体后端的6寸晶圆进行刻蚀. 右图: 射频离子源 RFICP 安装于腔内 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 欢迎联络上海伯东叶女士,分机109

普适智能，岂止于小：小型质谱分析系统是实现了质谱小型化与多种原位电离技术联用地创新质谱产品，产品拥有非连续大气压接口技术，真正将质谱仪小型化变为现实，采用小型抗震动真空系统抽速达到3m³/h+67L/s，为质谱性能提供优良的分析环境，精准可靠的线性离子阱质量分析系统提供了3个数量级的高动态范围和多级串联质谱（MSn）测量能力，强劲的射频系统则极大拓展了小型质谱的质量测量范围，可达100-800 Da。产品项目产品参数1工作环境要求运行温度：0~40℃；贮藏温度：-20~80℃，运行湿度：≤80%；2电源要求220VAC，50Hz；24VDC输出蓄电池3空间要求220VA仪器重量≤25kg，体积50cm×30cm×40cm4操作系统 Windows平板电脑5离子源 纳喷雾离子源，可结合多种原位电离技术6质谱接口 敞开式大气压接口7质量分析器 ALIT 线性离子阱8测控系统 结合上位机下发命令协同控制硬件电气参数8路反馈DA设置范围可达0~200VDC9射频系统 宽温高频，最高可达1MHz10检测器 低压稳定的通道式电子倍增器，0-2kV11真空系统3.5立方米/小时前级干泵；67L/s高抽速涡轮分子泵，采用悬浮轴体可轻微抗震；12进样方式低压非连续进样技术，可结合进样管升温提高去除溶剂效果

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准大口径射频离子源 RFICP 380 上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 最大离子束流 1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用. 广泛 应用于离子束刻蚀机.KRi 射频离子源 RFICP 380 特性1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配2. 离子源结构模块化设计3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行4. 全自动控制器5. 离子束动能 100-1200eV 6. 栅极口径 38cm, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用射频离子源 RFICP 380 技术规格:阳极电感耦合等离子体2kW & 1.8 MHz射频自动匹配最大阳极功率1kW最大离子束流 1000mA电压范围100-1500V离子束动能100-1200eV气体Ar, O2, N2,其他流量5-50sccm压力 0.5mTorr离子光学, 自对准OptiBeamTM离子束栅极38cm Φ栅极材质钼离子束流形状平行,聚焦,散射中和器LFN 2000高度38.1 cm直径58.2 cm锁紧安装法兰12”CF射频离子源 RFICP 380 基本尺寸: 上海伯东美国考夫曼 KRI 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域.作为蚀刻机的核心部件, KRI 射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求!若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

仪器简介：EPIC离子/分子分析质谱仪(EPIC Systems with Pulse Ion Counting and Pole Bias Control)是带脉冲离子计数和四级杆偏压控制的三级过滤四极质谱仪，用于高精密科学分析，过程研究以及中性粒子、自由基、正负离子的UHV分析。 EPIC离子/分子分析质谱仪可增加能量过滤器、Bessel Box能量分析器或45°扇形能量分析器，升级至Hiden的Plasma/ SIMS系列EQP，EQS，PSM 和Maxim。 主要特点：6、9、12 mm 直径的四极杆可选 ±100 eV离子能量分布，1000 eV可选 离子源控制，以实现软离子化及表观电势质谱 脉冲离子计数器，连续7个数量级动态范围，Faraday 选项为5x1010 一级过滤处增加射频，增强抗污染物能力 信号选通分辨率0.1μs，用于能量、质量分布随时间变化或TOF研究中 程序升温脱附时，温度数值同步显示 标配UHV罩，液氮冷却罩可选 MASsoft专业软件控制 可升级至Plasma/ SIMS 配置 技术规格： 质量数范围： 1～300 amu（标准配置） 500、1000、2500 amu（选配） 测量速度： 500 points/s 分辨率： 0.1% Valley、1% Valley 动态范围： 107 最低检测分压： 5 X 10-15 mbar ，1X10-16 mbar 离子能量： ±100eV（标准配置） ±1000eV（选配） 信号选通分辨率：0.1μs 稳定性： 24h以上，峰高变化小于±0.5% 3F Series Mass Spectrometers (0.68MB) Mass Spectrometers for Residual Gas Analysis - RGA (1.35 MB)

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRi 射频离子源 RFICP 系列上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.射频离子源 RFICP 系列技术参数:型号RFICP 40RFICP 100RFICP 140RFICP 220RFICP 380Discharge 阳极RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频离子束流100 mA350 mA600 mA800 mA1500 mA离子动能100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V栅极直径4 cm Φ10 cm Φ14 cm Φ20 cm Φ30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm5-30 sccm5-30 sccm10-40 sccm15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr长度12.7 cm23.5 cm24.6 cm30 cm39 cm直径13.5 cm19.1 cm24.6 cm41 cm59 cm中和器LFN 2000 射频离子源 RFICP 系列应用:离子辅助镀膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)离子溅镀 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures) 上海伯东美国考夫曼 KRi 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸离子束刻蚀机, 作为蚀刻机的核心部件, KRI 射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求!1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗女士

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 100上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 400 mA 离子流. 考夫曼型离子源 RFICP 100 源直径19cm 安装在10”CF 法兰, 在离子溅镀时, 离子源配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现完美的薄膜特性. 在离子刻蚀工艺中, 离子源与离子光学配合, 蚀刻更均匀. 标准配置下 RFICP 100 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.KRI 射频离子源 RFICP 100 技术参数型号RFICP 100Discharge 阳极RF 射频离子束流350 mA离子动能100-1200 V栅极直径10 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量5-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr长度23.5 cm直径19.1 cm中和器LFN 2000KRI 射频离子源 RFICP 100 应用领域 预清洗 表面改性 辅助镀膜(光学镀膜) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE客户案例: 超高真空离子刻蚀机 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系统配置如下美国 KRI 射频离子源 RFICP 100美国 HVA 真空闸阀德国 Pfeiffer 分子泵 HiPace 23001978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请联络上海伯东。上海伯东版权所有, 翻拷必究！

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 140上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中，射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1200 eV 范围内获得很高的离子密度. 可以输出最大 600 mA 离子流.KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:阳极电感耦合等离子体1kW & 1.8 MHz射频自动匹配最大阳极功率1kW最大离子束流 500mA电压范围100-1200V离子束动能100-1200eV气体Ar, O2, N2,其他流量5-40sccm压力 0.5mTorr离子光学, 自对准OptiBeamTM离子束栅极14cm Φ栅极材质钼, 石墨离子束流形状平行,聚焦,散射中和器LFN 2000高度25.1 cm直径24.6 cm锁紧安装法兰12”CFKRI 射频离子源 RFICP 140 应用领域：预清洗表面改性辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗女士

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRi 射频离子源 RFICP 220上海伯东代理美国原装进口 KRi 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 射频离子源 RFICP 220 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 标准配置下射频离子源 RFICP 220 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 1000 mA.KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:阳极电感耦合等离子体2kW & 2 MHz射频自动匹配最大阳极功率1kW最大离子束流 1000mA电压范围100-1200V离子束动能100-1200eV气体Ar, O2, N2, 其他流量5-50 sccm压力 0.5mTorr离子光学, 自对准OptiBeamTM离子束栅极22cm Φ栅极材质钼离子束流形状平行,聚焦,散射中和器LFN 2000, MHC 1000高度30 cm直径41 cm锁紧安装法兰10”CFKRI 射频离子源 RFICP 220 基本尺寸KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域：预清洗表面改性辅助镀膜 (光学镀膜) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE射频离子源 RFICP 220 集成于半导体设备, 实现 8寸芯片蚀刻1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光工艺 IBF 等领域, 上海伯东是美国 KRi 考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗女士

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 40上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内. 离子源 RFICP 40 设计采用创新的栅极技术用于研发和开发应用. 离子源 RFICP 40 无需电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用. 标准配置下 RFICP 40 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.射频离子源 RFICP 40 特性:1. 离子源放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.2. 离子源结构模块化设计, 使用更简单 基座可调节, 有效优化蚀刻率和均匀性.3. 提供聚焦, 发散, 平行的离子束4. 离子源自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行5. 栅极材质钼和石墨,坚固耐用6. 离子源中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性KRI 射频离子源 RFICP 40 技术参数:型号RFICP 40Discharge 阳极RF 射频离子束流100 mA离子动能100-1200 V栅极直径4 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr长度12.7 cm直径13.5 cm中和器LFN 2000KRI 射频离子源 RFICP 40 应用领域： 预清洗 表面改性 辅助镀膜 (光学镀膜 ) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

奥远RFG射频模块1）产品简介：奥远RFG系列射频模块是奥远电源专为质谱仪设计生产的完全自主研发的高性能射频模块。RFG射频模块集合了奥远电源多年技术沉淀，依靠更高效的产品研发理念，模块实现了通过0-5V的可编程电源输入，输出相位为180°的交流信号，以及双AC电压Vpp0-1000V，偏执电压±400V的控制输出。此外，RFG模块还具备了全面的电弧及短路保护功能，极其适用于质谱仪等高端科研仪器。2）产品特性：• 高稳定性 / 低漂移 ；• 偏执电压可至±400V；• 双AC电压输出，Vpp 0-1000V，相位180°；• 具备全面的电弧及短路保护功能3）适用领域：质谱仪电压控制4）使用方式：使用前需预先准备24V电源以及0-5V可编程电源。，使用RFG模块时，将24V正链接PIN7&PIN9【CN1】,PIN4&PIN5&PIN8地，PIN6链接5V正极，PIN2接地 ，即可输出相位为180°的交流信号。————————————————————————————————————————————————————————————————————有关大连奥远电源及其更多产品的信息，请致电 / 进行咨询，或访问网站：大连奥远电源有限公司是大连奥远集团旗下的专门从事集高压电源行业研发、生产、销售于一体的高新技术企业。公司自主研发的高压脉冲电源、高压射频电源和高压直流电源，一直与大连化物所等多家科研机构及行业一流厂商进行业务合作，得到客户的一致好评。公司历时多年所研发出的高压直流电源也已获得质谱仪生产行业厂商的高度评价。大连奥远电源主推高压直流、高压脉冲、高压运算放大器、射频电源，以及相关的OEM定制，着力为客户解决根本问题。当前公司主要推广全系列的质谱仪器电源，以及相关解决方案，致力于以质谱仪电源为原点，慢慢向X光电源，高压运放芯片设计，FIB，EBM等领域进发。凭借多年的技术积累以及研发投入，奥远电源实现了在高压电源领域的突破，产品性能指标比肩行业顶尖厂商水平，并且在价格上极具竞争力，是OEM应用的理想选择。大连奥远电源有限公司地址：辽宁省大连市高新技术产业园区火炬路32号联系电话： / 联系人：谷经理

奥远HRF系列射频直流电源1）产品简介：奥远电源出品的HRF系列射频直流电源是一款紧凑设计的、低成本的、专为驱动高压放大设计的高性能电源模块。HRF射频电源具有电压调节、电流限制、双路输出等技术特点，可提供最高250μA的负载电流，并配备了远程启动控制支持模块、集成了全面的电弧及短路条件保护功能。HRF射频电源也因其独到的技术设计，尤其适用于高压放大器、静电透镜、导向器以及偏执电源等设备。2）产品特性：—— 高压镜头供电支持—— 双重正、负输出—— 低成本，空气绝缘设计—— 远程启用控制提供—— 具备电弧及短路保护功能—— SMT设计-体积小，重量轻3）典型适用范围高压直流电源 / 高压放大器 / 静电电子透镜 ......4）产品参数• 输入电压： +24Vdc【±1.2Vdc】；• 输入电流： ≤1.2A 最大； • 输出电压： ——输出1（正极性）：+430V固定，准确度±7%；——输出2（负极性）：-430V固定，准确度±7%；（以上精确度指标是指在全温度范围、全输入电压范围和满负载范围内）；• 输出电流： ——输出1（正极性）：最高值为250μA；——输出2（负极性）：最高值为250μA；线性调整率（典型）：——正极性输出：±0.1%；——负极性输出：±1.0%负载调整率（典型）：——正极性输出：±0.1%；——负极性输出：±3.5%输出电流限制:——采用自动恢复短路折返限制。——具备全面的电弧保护，可在5秒内出现 10次电弧。纹波:≤0.1% p-p（全额定输出电压）稳定性:每小时≤0.25%，1小时预热后恒定运行条件。欠压关机:当检测到输入欠压时，电源将关闭。当输入电压恢复到11.8V以上时，激活针脚将重置欠压保护系统。温度系数:≤200ppm/℃环境:温度范围:工作:0˚C至50˚C储存:-35˚C至85˚C——————————————————————————————————————————————————————有关大连奥远电源及其更多产品的信息，请致电 / 进行咨询，或访问网站： 大连奥远电源有限公司是大连奥远集团旗下的专门从事集高压电源行业研发、生产、销售于一体的高新技术企业。公司自主研发的高压脉冲电源、高压射频电源和高压直流电源，一直与大连化物所等多家科研机构及行业一流厂商进行业务合作，得到客户的一致好评。公司历时多年所研发出的高压直流电源也已获得质谱仪生产行业厂商的高度评价。大连奥远电源主推高压直流、高压脉冲、高压运算放大器、射频电源，以及相关的OEM定制，着力为客户解决根本问题。当前公司主要推广全系列的质谱仪器电源，以及相关解决方案，致力于以质谱仪电源为原点，慢慢向X光电源，高压运放芯片设计，FIB，EBM等领域进发。凭借多年的技术积累以及研发投入，奥远电源实现了在高压电源领域的突破，产品性能指标比肩行业顶尖厂商水平，并且在价格上极具竞争力，是OEM应用的理想选择。 大连奥远电源有限公司地址：辽宁省大连市高新技术产业园区火炬路32号联系电话： / 联系人：谷经理

7700高性能双腔双泵单四极杆气质联用仪采用离子源和四极杆质量分析器独立排气的双涡轮分子泵设计，离子源和四极杆质量分析器分别处于两个独立真空腔室，形成高效的真空系统。此优化设计能够保证质谱的高真空度，降低离子源污染，减少离子源的维护频率；在开机半小时内即可进行样品分析，提高仪器的稳定性。产品特点：1 高真空保证：离子源和四极杆双腔双分子泵设计，90L/s+90L/s进口高性能双涡轮分子泵，为质谱提供极好的真空环境；允许色谱柱流量上限10ml/min，可以安装内径为0.53mm的宽口径毛细管柱，实现大体积进样等高要求的分析；2 超高灵敏度：气相色谱进样，10fg/μl八氟萘信噪比良好；3 长效高能电子倍增器：采用非连续离散打拿极电子倍增器，超大倍增面积，是通道型电子倍增器寿命的3倍以上，低噪声，超高灵敏度；4 宽温射频电源能更好的适应各种实验室环境，提供更好的稳定性；5 带预四极的四极杆质量分析器，减少对四极杆污染，优化离子源与四极杆过渡电场，预四极上的电压随分析器电压进行同步扫描，能够将离子信号集中聚焦到四极杆场的中心；6 高温惰性陶瓷离子源：高效电离、减少污染，配备两根长寿命惰性材料制成的灯丝，提供双倍的使用时间，离子源陶瓷设计，所有透镜温度稳定，清洗离子源方便；7 质谱检测动态范围大于6个数量级。技术指标：气相色谱进样口类型毛细管柱带EPC，分流/不分流进样口，分流比1000：1柱箱温度室温以上4?C~450?C；设定值分辨率1?C升温阶梯最大升温速率120?C/min，从450?C--50?C小于5分钟温度稳定性6阶梯，7平台，可梯度升温压力设定0-100psi控制精度0.01psi压控模式恒流，恒压，程序升流，程序升压，脉冲压力程序升压/升流3阶质谱气质接口质谱独立控温，不占用色谱资源，温度范围50℃-350℃，精度0.1℃离子源高温惰性陶瓷离子源，双灯丝，长寿命，由惰性材料制成离子化能量10eV-100eV可调离子源温度精确控温±0.1℃，50℃-350℃质量分析器表面钝化，高精度全金属四极杆，预四极与主四极杆一体化装配,热稳定性良好，无需加热即可保证质量数高度稳定和重现性前级真空泵机械泵，抽速4.0m3/h后级真空泵高性能双涡轮分子泵，90L/s+90L/s，采用离子源和四极杆质量分析器独立排气的双涡轮分子泵设计，为质谱提供极好的真空环境；允许色谱柱流量上限10ml/min检测器采用13极非连续离散打拿极电子倍增器，超大倍增面积，是通道型电子倍增器寿命的3倍以上，低噪声，超高灵敏度质量数范围1.5-1250amu质量精度±0.1amu质量稳定性±0.1amu/48h分辨率单位质量分辨率信噪比1pgOFN m/z272信噪比≥1500:1（RMS） IDL10fg OFN，GC直接进样动态范围大于6个数量级射频电源宽温度范围射频电源最大扫描速度10000amu/s，全程可调控制方式网口控制

MAXIM 二次离子溅射中性粒子质谱仪可分析二次阴、阳离子动态和中性粒子，所具备的的30°接受角可形成样品粒子平面，应用于SIMS和SNMS的光学采样。 光栅控制，增强深度分析能力 所有能量范围内，离子行程的最小扰动，及恒定离子传输 灵敏度高 / 稳定的脉冲离子计数检测器质量数范围： 300amu，500amu，1000amu 检测器： 离子计数探测器、正负离子探测器、107 cps 质量过滤器： 3F四级杆 杆直径： 9mm 最高加热： 250℃ 离子源： 电子轰击，可用于SNMS和RGA的单根灯丝

产品概述WEPER ICPMS9000质谱仪稳定可靠、维护简便、配置灵活，配置长寿命稳定的ICP离子源、高灵敏度且宽动态范围的ETP检测器、消除质谱干扰的动能歧视碰撞反应池、双重离轴式离子传输系统，使WPER ICPMS9000同时拥有高性能、高稳定性、易用性的特点。开发了智能化的软件系统，具有简单易用的自动调谐、自动校正、自动优化和数据分析工具，与高性能质谱一起给您带来极致的测试体验。性能优势灵活的进样系统，用户可根据自身的应用需求灵活选择标准进样系统、耐氢氟酸进样系统、耐高盐进样系统；还可根据需要选配波尔贴半导体制冷装置，精确控制雾化室温度，降低基质干扰。采用一体式同心炬管，矩管基座导轨式设计，安装简便，自动定位，使得进样系统维护便捷和操作简单。采用高效稳定的全固态自激式射频发生器，保证样品原子化/离子化的稳定性和重复性。自激式射频发射器通过射频线圈将能量高效率传输至等离子体工作区域，功率在300～1600W范围连续可调，即使面对复杂基体样品，等离子体依然可以强劲高效激发。多重安全防控措施，确保仪器安全可靠的运行，避免用户误操作带来的风险。活动的锥接口设计，可使仪器在真空状态下更换锥接口和维护锥接口。新一代碰撞反应池技术，可消除多原子和双电荷离子干扰，提高数据准确性；同时还可以采用高纯氦气作为碰撞气体，设置简单安全，无需切换气体。智能化操作软件，支持用户自己编辑报告模板。应用领域环境保护：包括自来水，地表水 ，地下水，海水以及各种土壤、污泥 、废弃物等的分析食品安全：卫生防疫、商检、烟及酒等食品的质量控制，鉴别真伪等合金材料：钢铁合金、玻璃、陶瓷和矿冶等样品分析

电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）应用领域各级疾控中心理化所/科,职业卫生技术服务机构理化分析；职业病监测理化分析；职业病诊断-职业医学检验疾控中心理化分析。电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）◇ 高效进样系统：分体式炬管，自准直装配，直观简单。◇ 稳定的ICP离子源：自激式全固态射频电源，采用频率匹配调谐，调谐速率高，可直接分析有机样品，无运动部件，稳定可靠；平衡驱动，无需屏蔽炬即可获得离子动能平衡。◇ 可靠的双锥接口设计：高效率传输待分析离子，保持分析物组份的代表性，专门离子接口设计大幅度提升灵敏度；提手是换锥接口，稳固可靠，操作便利。◇ 复合离子传输系统：前后两次离轴，良好消除中性粒子干扰；采用复合电场多极杆导引技术、复合透镜偏轴离子传输技术，在消除光子和中性粒子干扰之外大幅度的提升离子传输效率。◇ 高速动态碰撞反应池：分布式碰撞/反应气扩散方式，大大提高碰撞效率，提升灵敏度；采用离子动能歧视技术，结合喷碰撞和动态反应两种模式的优点；高效碰撞模式，可直接稀释到测试血液样品。◇ 四极杆质量分析器：纯钼四极杆，超高稳定性；抗温湿度变化的RF电源，确保在普通实验室条件下也有良好的稳定性。◇ 高灵敏电子倍增器：专有的数字/模拟双模式检测器，具有9~10个数量级的动态范围。电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）◇ 自主研发的国产ICP-MS替代进口产品，完全满足疾控客户水、食品、土壤、环境等检测需求，成为各级疾控中心理化采购热点；◇ 满足ICP-OES替代方法，检出限可到ppq，四级杆质量分析器，全数字频率调谐射频发生器。

PVA TePla 射频等离子体去胶机——PVA TePla 跨国型企业，50年等离子体设备经验PVA-TePla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。PVA TePla 公司的IoN 40 等离子体设备是为实验室和生产领域设计的全功能的等离子体处理设备。IoN 40等离子体设备是PVA TePla公司推出的具有高性价比的真空等离子体设备。该设备外观简洁，系统高度集成化。其先进的性能提供了出色的工业控制、失效报警系统和数据采集软件。可满足科研、生产等领域严格的控制要求。PVA TePla公司的高品质、高性价比、操作简单的等离子体设备为各种不同应用领域提供了先进的创新解决方案，得到用户的广泛信赖。型号：IoN 40 ( M4L 升级版 )典型应用：光刻胶灰化去除残胶打底膜表面精密清洁去除氧化层去除氮化层表面活化提高表面粘合性改变表面亲水性/疏水性分子接枝涂层规格参数：阳极表面处理铝制腔体，水平抽卸极板/垂直极板/侧壁极板/水冷极板13.56MHz 风冷微波电源（0～600w可调,可选配0～300W，0～1000W），高灵敏快速自动匹配水平抽卸极板/水冷极板/垂直极板/料盒极板不锈钢防腐蚀MFC，多至6路工艺气体，两路辅助气路：回填保护气体，驱动气路兼容8/12英寸及以下晶圆模块化设计，维护保养简单PC工控机控制，运行数据自动存储，工艺数据严格监控，可自定义工艺警报范围分级密码权限管理图形化可视控制界面外形尺寸：775×723×781 mm重量：157KG可选配置：石英腔体液态单体操作装置可选配温控板可选配法拉第桶可选配压力控制系统认证：CE 认证EN 61010EN 61326Semi E95ISO 9001CISPR 55011NFPA79NFPA70

7600气相色谱质谱联用仪是一款高性能单四极杆气相色谱质谱联用仪， 具有自主知识产权，拥有质谱核心技 术，可广泛应用于环境监测、食品安全、石油化工、教学研究等众多领域， 是一款强大的定性定量分析仪器。技术指标：气相色谱进样口类型毛细管柱带EPC分流/不分流，最大分流比1000:1柱箱温度室温以上4～450oC，设定值分辨率1oC；室温每变化1oC，柱温变化0.01oC升温阶梯最大升温速率120oC/min；降温速率450oC～50oC，5min温度稳定性6阶梯，7平台，可梯度降温压力设定0-100psi控制精度0.01psi压控模式恒流、恒压、程序升流、程序升压、脉冲压力载气流量0～200mL/min（N2）,0～1000mL/min（He）程序升压/升流3阶电子气路控制多路电子流量控制通道用于进样口、检测器或辅助气；以0.1psi的增量调节压力；大气压力传感器补偿高度或环境的变化加热区不包括柱箱，独立加热区6个（进样口，检测器以及辅助加热区各两个）；辅助加热区的最高使用温度：300oC质谱气质接口质谱独立控温，不占用色谱资源，最高温度350oC，精度0.1oC灯丝双灯丝离子化能量10eV～100eV可调离子源温度精度控温±0.1oC，最高350oC质量分析器表面钝化，高精度全金属四级杆，预四级与主四级杆一体化装配前级真空泵机械泵，抽速4.0m3/h后级真空泵涡轮分子泵，抽速90L/s、250L/s可选配检测器电子倍增器控制方式网口控制射频电源宽温度范围射频电源质量数范围1.5u-1050u质量精度±0.1u质量稳定性±0.1u/48h分辨率单位质量分辨率信噪比1pg OFN m/z272≥200:1 RMS最大扫描速度10000u/s应用领域：食品安全：农药残留、香精香料、添加剂、包装材料环境监测：大气、水质、土壤、固体废弃物工业制造：纺织、化妆品、电子电气、塑胶产品、生物医药石油化工：炼油厂、化工厂公检法系统：刑侦、爆炸物、毒物分析、物证鉴定

VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪，针对于高通量MGI（材料基因组计划）薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料，通过5种元素，按16种不同配比组合。 技术参数概念5个溅射头安装5种不同材料通过不同的溅射时间，5种材料可以溅射出不同组分的产物，选择5个等离子射频电源，可在同一时间溅射5种材料真空腔体中安装有旋转样品台，可以制作16个样品电源单相220 VAC, 50 / 60 Hz射频电源一个13.5MHz,300W自动匹配的射频电源安装在仪器上，并与靶头相连接一个旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在真空或等离子体环境中自动切换可选购多个射频电源，同一时间溅射多个靶材。所有的溅射参数，都可由电脑设置直流电源（可选）可选购直流电源，来溅射金属靶材可配置5个直流或射频电源，来同时溅射5中靶材磁控溅射头 5个1英寸的磁控溅射头，带有水冷夹层可在本公司额外购买射频线电动挡板安装在溅射腔体内设备中配有一循环水冷机，水流量为10L/min (1) (2) (3) (4)溅射靶材所要求靶材尺寸：直径为25.4mm,最大厚度3mm溅射距离: 50 – 80 mm（可调）溅射角度: 0 – 25°（可调）配有铜靶和 Al2O3 靶，用于样品测试用可在本公司购买各种靶材实验时，需要将靶材和铜片粘合，可通过导电银浆粘合（可在本公司购买导电银浆）真空腔体 真空腔体采用304不锈钢制作腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L)铰链式腔门，直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）样品台直径为150mm的样品台，上面覆盖一旋转台，带有10mm的孔洞，每次露出一个样品接收溅射成膜。样品台尺寸：Φ150mm,可通过程序控制来旋转，可制作16种不同组分的薄膜样品台可以加热，最高温度可达600℃真空泵设备中配有一小型涡旋分子泵真空泵接口为KF40石英振荡测厚仪（可选）可选购精密石英振荡测厚仪，安装在真空腔体内，实时测量薄膜的厚度，精确度为0.1 ?（需水冷）净重60kg质量认证CE认证质保一年质保期，终生维护应用注意事项此款设备设置主要是在单晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的环境所用气瓶上必须安装减压阀（可在本公司购买），所用Ar气纯度为5N为了得到较好质量的薄膜，可以对基片进行清洗用超声波清洗机，用丙酮或乙醇作为清洗介质，清除基片表面的油脂，然后在N2气或真空环境下对基片干燥等离子清洗机，可使基片表面粗糙化，改变基片表面化学活性，清除表面污染物可在基片表面镀上缓冲层，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金属或合金膜的粘附性溅射一些非导电靶材，其靶材背后必须附上铜垫片本公司实验室成功地在Al2O3基片上成功生长出ZnO外延膜因为溅射头连接着高电压，所以用户在放入样品或更换靶材时，必须切断电源不可用自来水作为冷却水，以防水垢堵塞水管。应该用等离子水，或专用冷却介质

产品概述EXPEC 5310 是谱育科技的新一代液相色谱-三重四极杆串联质谱联用仪。具有更强劲的离子源、更优异的离子传输系统以及更高的扫描速度和更强的检出能力，适用于环境污染物检测、食品安全检测、医药分析检测、临床研究检测等广泛的应用领域。性能优势出色的灵敏度和稳定性为了实现LC-MS/MS定量分析的性能突破，EXPEC 5310质谱仪在离子源、离子传输、四极杆射频控制等方面所有性能均有显著提高产品采用新一代的Step Scan离子传输技术，有效提升了离子传输效率全新一代的轴向加速碰撞池技术，大大提升碰撞效率高效去溶剂的离子源和离子接口，增加系统耐受性双路射频电源闭环自适应调整技术，提高四极杆射频电源的稳定性独特的双正交ESI & APCI离子源全新的E-SprayⅡ独立双源设计，具有更佳的离子产率，无缝切换，保证仪器灵敏度的提升离子接口高纯氮气反吹，提升去溶剂效果和基体耐受性加热气路，可精确控温高速动态碰撞池全新一代的轴向加速设计，使离子快速通过碰撞池，兼顾碰撞效率和传输效率，降低交叉污染智能MRM技术智能MRM功能为用户提供了方法编辑、修改的便利性能够在单次运行中分析更多的目标化合物，以便更高效地使用仪器分析样品，增加样品分析通量智能参数优化一键自动调谐和质量校准，降低用户使用难度为高级用户量身打造的参数调节工具，满足个性化实验需求可靠的多级真空系统基于分子泵+前级泵实现多级真空系统优化的差级真空系统设计，进一步提升离子传输效率完善的仪器控制系统所有的气路、电压、加热都具有连锁控制，确保设 备安全真空系统独立控制，拥有完善的自我保护，脱离软 件都可以确保系统正常所有气路均采用MFC控制，精确控制所有参数强大且友好的Mass Expert质谱工作站全新的Mass Expert全中文质谱控制软件和分析软件操作简单，一键自动调谐和质量校准功能降低了仪器控制的复杂度，降低了仪器使用门槛。质谱分析软件和报告模板可根据不用应用领域、不同用户进行个性化的定制，满足各个应用领域的使用需求。符合FDA 21 CFR Part 11以及GMP要求。应用领域应用于食品安全、医药、临床研究和司法鉴定等广泛领域，在各种场合下都发挥出高灵敏度和高稳定性，可以获得可靠的数据。控制、分析软件配备有力支持定量分析的工作站。

LTQ Orbitrap Velos参考技术参数一、质谱性能：质量分辨率与采集速度：分辨率≥60,000 (FWHM)，m/z 400，每秒采集一张谱图zei低分辨率≥7,500（FWHM）zei高分辨率：100,000 （FWHM），m/z 400质量精确度（MS和MS/MS）： 3 ppm 外标法； 1 ppm 内标法动态范围： 5000 一张谱图中灵敏度： ESI MS/MS（LTQ Velos）： 100 fg利血平，S/N ≥ 100:1MSn 级数： n=1~10ETD选项：3 uL/min注射1 pmol/uL Angiotension I溶液，产生ETD离子碎裂效率15%线性离子阱和电轨道质谱可同时在线检测m/z范围：50～2000 amu，200 ~ 4000 amu二、LTQ Velos双压线性离子阱高性能Ion Max ESI和APCI离子源x、y、z三方向档位调节的离子喷针，可根据样品情况使用不同的位置优化喷雾具有吹扫气技术可使用非挥发性缓冲溶液，降低化学背景噪音大口径全金属传输管，金属块0~400℃加热，防止气化的离子冷凝堵塞传输管具有真空锁定装置，可在不停机状态下清洗和维护离子传输管；ESI源喷口性能：流速1 uL～1ml/min，100 %H2O 不需分流APCI源喷口性能：流速50 uL～2ml/min，100 %H2O 不需分流可选配vMALDI源S-透镜逐步间隔的叠环离子透镜（S-lens）S-透镜是一个射频装置，可有效捕获及聚焦离子，成为一束紧凑的离子束在电极之间的大的可变空间，可获得更好的真空、提高系统稳定性自动调谐程序，可优化离子传输离子传输先进的离子传输光学高稳定性、高离子传输率双压线性离子阱高压阱（HPC），5 mTorr压力，用于提高捕获效率，从而提高灵敏度；同时提高碎裂效率，获得更好的MSn 碎裂谱图碎裂后的MSn 碎片，快速地送入低压阱 低压阱（LPC）， 1 mTorr压力，获得更快的速度，并具有更高的分辨率，低压阱侧面有两个出口狭槽用于径向离子检测采集谱图的速率（Duty Cycle）：5张谱图/秒真空系统差动抽气真空泵系统，真空度达10-5 Torr分流分子涡轮泵控制真空在三个区域双机械泵配置铝质高真空分析器腔体检测器专利的双转换打拿极两个离轴连续打拿电子倍增器，扩展动态范围数字电子噪音消除集成的数控切换阀集成的蠕动进样泵三、Orbitrap质谱无气体的多极离子传输透镜气体（氮气）浓度在C-Trap中升高高传输率离子传输透镜带HCD同轴场的直多极碰撞池Orbitrap质量分析器使用Peltier帕尔贴元素进行活性温度控制差分抽气真空系统旋转叶片泵作为前级真空泵，一个水冷60升分子涡轮泵，两个水冷210升分子涡轮泵zei终操作条件下的真空度： 4× 10-10 Torr通过活动Pirani gauge真空规和冷离子规来控制真空低噪音检测倍增器14比特信号数字化超快速实时数据采集和仪器控制系统由仪器控制软件自动校正所有传输和Orbitrap参数 四、选项H-ESI II加热的ESI电喷雾源，提高离子化效率，从1 uL/min ~ 2000 uL/minESI源喷口性能：流速1 uL～1ml/min，100 %H2O 不需分流纳喷雾源支持静态喷针和动态喷雾，流速从50 nL/min ~ 2 uL/minAPCI源喷口性能：流速50 uL～2mL/min，100 %H2O 不需分流APCI/APPI源喷口性能：流速50 uL～2mL/min，100 %H2O 不需分流金属喷针（Metal Needle）选项，用于高流速和低流速分析五、数据系统主流计算机，WindowsXP操作系统Xcalibur数据处理和仪器控制软件FT-Programs软件工具：蛋白质计算器和离线重新校正六、操作模式：实时相关决定树（Data Dependent Decision Tree）——建立在多肽电荷、m/z等特性上的，自动选择优化的碎裂技术，可获得zei高的碎裂效率，可进行各种先进的实时数据相关实验在高速率下进行高分辨、精确质量扫描在线性离子阱中进行母离子分离和CID碎裂，在Orbitrap中获得高分辨精确质量的MS/MS和MSn谱图实时相关数据处理扫描：根据用户设定的要求，在LC/MS实验中，自动选择母离子进行各种MS/MS及MSn实验（在线性阱和Orbitrap中均可进行）实时数据相关MS/MS平行采集能力，同时在线性阱中进行多个MSn扫描，在Orbitrap中获得一张全扫描高分辨率谱图Ion Mapping能力：在一次LC/MS/MS实验后，自动产生一个三维MS/MS谱图，提供母离子、子离子和中性丢失等多种分析信息，寻找并解析它们之间的各种关系。Ion Mapping，中性丢失Ion Mapping，母离子Ion Mapping，用于选择的动态排除能力，N级Triple Play实验，实时数据相关的离子树实验，总离子图（Total Ion Map）实验 具有实时数据相关的离子树Data Dependent&trade Ion Tree&trade 实验，每个MS/MS扫描可自动解离25个离子具有实时数据相关的MS3中性丢失扫描能力，鉴定翻译后修饰。七、可选应用软件Proeome Discoverer——蛋白质科学研究的质量信息学平台Prosight PC——自上而下（top down）鉴定和表征包括翻译后修饰的蛋白MetWorks——用谱图树和精确质量进行自动代谢物鉴定Mass Frontier——序列预测软件，进行谱图解析和分类，用于鉴定未知物PEAKS——强大易用的de novo从头测序软件SIEVE——自动分析差分表达谱，用于蛋白质组学和代谢组学ProMass Deconvolution——天然蛋白直接分析软件 八、独有技术在线性阱中进行母离子选择，在新型HCD碰撞池碎裂，在高分辨高质量准确度Orbitrap中检测PQD脉冲碰撞诱导解离技术，消除传统离子阱1/3效应，获得更丰富的低质量碎片信息具有AGC自动增益控制，自动优化阱内离子数目，保证任何多级质谱的高分辨率动态排除能力：在分析复杂的共流出物时，在采集了某些离子的MSn信息后，将其列入临时的排除离子表上，而继续给出其它相对信号较弱的共流出物离子的结构信息宽带激化能力：对于某些容易失水或失NH3的分子，优化碰撞能量时自动向低质量端施加　-20 Da的共振能量，结果可得到断裂丰富、完全的特征MS/MS“指纹”谱图碰撞能量归一化：质谱能量自动补偿，使串联质谱的碎片谱图（CID碎裂和HCD碎裂）按同一能量裂解，得到稳定重现谱图，利于谱库检索阶梯的碰撞能量归一化（CID和HCD）：考虑到MS/MS实验中可变的碰撞能的归一化实验多阶激发（MSA）实验，在用户设定的中性丢失基础上，实验中自动获得MS/MS和MS3的组合谱

产品概述EXPEC 5210是谱育科技在"国家重大科学仪器设备开发专项"支持下，历经多年的研发投 入，研制的具有自主知识产权的三重四极杆串联质谱仪，具有卓越的灵敏度，优异的稳定性，突出的可扩展性和更佳的性价比，广泛应用于食品安全、医学检测、生物医药和环境检测等领域，同时具有数千种化合物标准库和丰富的应用方法库，满足质谱用户的应用需求。性能优势出色的灵敏度和稳定性产品采用全新设计的Step Scan离子传输技术，有效提升了离子传输效率创新的轴向加速碰撞池技术，大大提升碰撞效率创新的脉冲计数检测技术，无损失的检测离子信号，有效过滤噪声干扰高效去溶剂的离子源和离子接口，增加系统耐受性双路射频电源闭环自适应调整技术，提高四极杆射频电源的稳定性强大且友好的Mass Expert质谱工作站全新的Mass Expert全中文质谱控制软件和分析软件操作简单，一键自动调谐和质量校准功能降低了仪器控制的复杂度，降低了仪器使用门槛。质谱分析软件和报告模板可根据不用应用领域、不同用户进行个性化的定制，满足各个应用领域的使用需求。多元化核心技术双正交E-spray离子源强大的ESI离子源，可扩展APCI离子源正交于离子传输路径，90度偏转减小中性粒子进入质谱，降低噪声基于流场仿真的正交对称的双路去溶剂气，高效去除溶剂离子接口高纯氮气反吹，提升去溶剂效果和基体耐受性加热气路，可精确控温高速动态碰撞池轴向加速设计，使离子快速通过碰撞池，兼顾碰撞效率和传输效率，降低交叉污染脉冲计数检测器90度偏转的通道式电子倍增器创新的脉冲计数检测技术，具有更高的信号响应和更低的噪声可靠的多级真空系统基于分子泵+前级泵实现多级真空系统真空逐级过度(step transition ),减小气压突变，减少离子损失完善的仪器控制系统所有的气路、电压、加热都具有连锁控制，确保设备安全真空系统独立控制，拥有完善的自我保护，脱离软件都可以确保系统正常所有气路均采用MFC控制，精确控制所有参数应用领域应用于食品安全、环境、中药、临床研究等广泛领域，在各种场合下都发挥出高灵敏度和高稳定性，可以获得可靠的数据。控制、分析软件配备有力支持定量分析的工作站。

射频感应耦合 等离子源 电离层环境模拟器| 介绍低温氩气源（LTA）是一种紧凑的一种等离子设备，设计用于在发射之前进行空间等离子体物理研究或对空间硬件进行测试。它可以人为地模拟较高的电离层条件，这意味着它可以以非常低的电子温度（0.5 eV），低离子能量（比等离子推进器低两个数量级）和相对较高的电子密度产生等离子流。 （?10 11 m -3）。该流的速度也与在轨道上遇到的离子流（?8 km / s）相似。| 应用电离层模拟研究ThrustMe的离子源和等离子体诊断工具可帮助研究人员在地面上进行电离层研究。LTA可以模拟类似于高层大气中的粒子环境，从而为研究人员提供了进行实验的机会，而这种实验对于使用ThrustMe的等离子体诊断技术发送到太空或校准自己的探头和传感器而言过于昂贵。测试您的太空硬件再现高空电离环境可以使卫星集成商和子系统制造商在发射前测试其太空硬件。在系统级别，ThrustMe的LTA可用于研究卫星的充电并预测飞行过程中可能出现的任何问题。在子系统级别，在地面上重现电离层可以为天线制造商提供机会来研究其天线在不同高度或不同太阳活动水平下的信号传播。太空环境测量ThrustMe的MD-1探针是前所未有的小.绝.对电子密度探针。它很小的3x50mm尺寸几乎可以安装在任何小型卫星上。将此探针用于高层大气和太空天气研究目的。

PerkinElmer Elan9000等离子体质谱仪 介绍： 电子耦合等离子体质谱仪 Elan 9000 ICP-Mass Spectrometer世界上台商品化ICP-MS ELAN250以后的第六代产品主机内置40MHz自激式射频发生器， 功率稳定，适用于各种类型的无机样品和有机样品分析。PlasmaLokTM专利ICP-MS接口技术,完全消除接口处的二次电弧放电，保证等离子体稳定，延长采样锥寿命。AutoLensTM离子透镜偏压自动化选择技术，采用整体化离子透镜设计,可以在运行中根据不各同元表质荷比选择各自的离子透镜偏压，并与四极杆扫描电压同步变化,提高输送效率。全新设计的镀金陶瓷四极杆滤质器,稳定性好，敏度高，用户可根据需要调整分辨率。SimulScanTM同步扫描技术,采用ETP双层多阶电子倍增器，自动识别并分别选用模拟和脉冲技术同时测量未知样品中高浓度离子和低浓度离子。由于仪器有极高的稳定性,测量采用Peak Hopping即单点跳峰技术，大大缩短了出时间，提高分析速度。进样系统还可选配自动进样器( AS )、激光固体进样器(LS )、流动注射进样(FIAS)等。【谱质分析检测技术（上海）有限公司】谱质分析检测技术（上海）有限公司是位于国内二手分析仪器行业领头狮，二手分析仪器租赁，公司由原厂致力于产品研发的工程师、为客户提供技术支持与销售服务的市场人员和商业 人士组成。在国内二手分析仪器领域不断为用户提供着世界上主流仪器 与服务。 专注于生物、化学、 环境、农残、第三方检测、实验室等行业分析仪器。主要从事 品牌安捷伦、Waters、岛津、PE、Thermo赛默飞、热电等二手色谱、质谱和光谱等设备的翻新、销售和售后。 提供多种分析仪器，包括：液相色谱仪、气相色谱仪、单四级杆质谱仪、三重四级杆质谱仪、离子肼质谱仪、飞行时间质谱仪、液质联用仪、气质联用仪、原子吸收光谱仪、等离子体发射光谱仪、傅立叶变换红外光谱仪、生命科学仪器、核磁共振波谱仪、色谱耗材配件、顶空进样器、气相色谱/质谱仪、液相色谱/质谱仪等分析仪器，以及Q/TOF、TSQ、LCT、ICP/MS、GC/MS等联用仪。 经营品牌有Agilent（安捷伦）、Waters（沃特世）、Thermo（赛默飞）、AB sciex、Perkin Elmer（珀金埃尔默）、Dionex（戴安）、SHIMADZU（岛津）等品牌仪器，力求达到您的不同需求。关于谱质的服务： 1.仪器经过工程师维修测试，具备可以与新机相的性能状态，使您的科学实验流畅运行！ 2.二手仪器价格让您不为实验室建设资费不足而烦恼，节省出的经费则可以投入重要的实验项目！ 3.原厂的售后技术服务标准为您解决后顾之忧，团队为您的仪器提供长期维修支持！ 4. 仪器库存，无论是液相色谱、气相色谱、液质联用、气质联用以及仪器的维修配件，均能现货供应！【谱质分析检测技术（上海）有限公司】联系人：李先生联系地址：上海市嘉定区金园四路501号东锦国际大厦14F

PerkinElmer Elan9000等离子体质谱仪 介绍： 电子耦合等离子体质谱仪 Elan 9000 ICP-Mass Spectrometer世界上台商品化ICP-MS ELAN250以后的第六代产品主机内置40MHz自激式射频发生器， 功率稳定，适用于各种类型的无机样品和有机样品分析。PlasmaLokTM专利ICP-MS接口技术,完全消除接口处的二次电弧放电，保证等离子体稳定，延长采样锥寿命。AutoLensTM离子透镜偏压自动化选择技术，采用整体化离子透镜设计,可以在运行中根据不各同元表质荷比选择各自的离子透镜偏压，并与四极杆扫描电压同步变化,提高输送效率。全新设计的镀金陶瓷四极杆滤质器,稳定性好，敏度高，用户可根据需要调整分辨率。SimulScanTM同步扫描技术,采用ETP双层多阶电子倍增器，自动识别并分别选用模拟和脉冲技术同时测量未知样品中高浓度离子和低浓度离子。由于仪器有极高的稳定性,测量采用Peak Hopping即单点跳峰技术，大大缩短了出时间，提高分析速度。进样系统还可选配自动进样器( AS )、激光固体进样器(LS )、流动注射进样(FIAS)等。【谱质分析检测技术（上海）有限公司】谱质分析检测技术（上海）有限公司是位于国内二手分析仪器行业领头狮，二手分析仪器租赁，公司由原厂致力于产品研发的工程师、为客户提供技术支持与销售服务的市场人员和商业 人士组成。在国内二手分析仪器领域不断为用户提供着世界上主流仪器 与服务。 专注于生物、化学、 环境、农残、第三方检测、实验室等行业分析仪器。主要从事 品牌安捷伦、Waters、岛津、PE、Thermo赛默飞、热电等二手色谱、质谱和光谱等设备的翻新、销售和售后。 提供多种分析仪器，包括：液相色谱仪、气相色谱仪、单四级杆质谱仪、三重四级杆质谱仪、离子肼质谱仪、飞行时间质谱仪、液质联用仪、气质联用仪、原子吸收光谱仪、等离子体发射光谱仪、傅立叶变换红外光谱仪、生命科学仪器、核磁共振波谱仪、色谱耗材配件、顶空进样器、气相色谱/质谱仪、液相色谱/质谱仪等分析仪器，以及Q/TOF、TSQ、LCT、ICP/MS、GC/MS等联用仪。 经营品牌有Agilent（安捷伦）、Waters（沃特世）、Thermo（赛默飞）、AB sciex、Perkin Elmer（珀金埃尔默）、Dionex（戴安）、SHIMADZU（岛津）等品牌仪器，力求达到您的不同需求。关于谱质的服务： 1.仪器经过工程师维修测试，具备可以与新机相的性能状态，使您的科学实验流畅运行！ 2.二手仪器价格让您不为实验室建设资费不足而烦恼，节省出的经费则可以投入重要的实验项目！ 3.原厂的售后技术服务标准为您解决后顾之忧，团队为您的仪器提供长期维修支持！ 4. 仪器库存，无论是液相色谱、气相色谱、液质联用、气质联用以及仪器的维修配件，均能现货供应！【谱质分析检测技术（上海）有限公司】联系人：李先生联系地址：上海市嘉定区金园四路501号东锦国际大厦14F