纳米压印仪

科研用CNI v3.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型；&bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光；&bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准；&bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印：600 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数亚科电子设备咨询电话：（微信同号）；欢迎您的来电咨询！

科研用polypico UniA6是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型；&bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光；&bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准；&bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

仪器简介：公司拥有齐全的纳米系列压印胶材料，热压型纳米压印胶、热塑型纳米压印胶、紫外光固化型纳米压印胶、紫外光固化纳米压印和光刻两用胶、举离型传递层材料、刻蚀型传递层材料、各种与纳米压印技术相关的化学药品，如模板防粘剂、基片增粘剂等。适用于Obducat，Suss，HP，EVG等多种型号的纳米压印设备。技术参数： IPNR-T1000 Thermal plastic nanoimprint resist 热塑型纳米压印胶 IPNR-T2000 Thermal curable nanoimprint resist 热固化型纳米压印胶 IPNR-PC1000 Photo-curable nanoimprint resist (Free radical initiation) 光固化型纳米压印胶（自由基引发） IPNR-PC2000 Photo-curable nanoimprint resist (cation intiation) 光固化型纳米压印胶（阳离子引发） IPNR-UL1000 Under-layer polymer for lift off process 举离型传递层材料 IPNR-UL2000 Under-layer polymer etching mask process 刻蚀型传递层材料 IPNR-UPM Quick mold fabrication material 快速模板制作材料 IPNR-AP Chlorosilane based adhesion promoter 氯硅烷增粘剂 同时还能能够根据不同的模板提供相应的防粘试剂。

台式R2P纳米压印机由Stensborg的现场工程师开发，与当今仍在行业中占据主导地位的传统纳米压印工具相比，它是一种小型且具有成本竞争力的卷对板压印机。这种智能技术是同类技术中的第一种；一种纳米压印光刻桌面和滚到板（R2P）设备。我们的辊对板NIL工艺使用了专利的辊隙压印工艺以及可调节的压印力，以最大限度地减少材料收缩，同时减少气泡问题。这种辊隙压印工艺减少了对基材一致性的需求，提供了更低的成本和更高的产量。Stensborg的工程师设计这款R2P纳米压印机时考虑到了成本节约，同时旨在制造一台具有高质量输出的机器；在高容量使用中，通过每小时进行多达60块板/晶片的定期性能审查，质量不会受到影响。

v 兼容基底尺寸：直径≤100mmv 支持基底材料：硅片、玻璃、石英、塑料、金属等v 纳米压印技术：旋涂胶基底高精度压印&点胶自动找平压印、旋涂胶基底压印、点胶自动找平压印模式v 压印精度：优于10nmv 结构深宽比：优于10：1v 残余层控制：可小于10nm 微米级TTV控制精度v 紫外固化光源：紫外LED（365nm）面光源，光强300mW/cm2v 自动压印/自动脱模/自动工作模具复制/主动找平压印/模自动点胶：支持v 模具基底对位系统：手动对位（选配）v 上下片方式：手动上下片随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构、微透镜阵列、匀光片结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平

NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 位于丹麦的哥本哈根市的丹麦技术大学(TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK）校园里，是一家专门从事纳米光学、纳米结构制作和纳米压印设备制作的公司，公司与的丹麦国家微纳米实验中心(Danchip)是“合作伙伴”关系，并享有共同的超净设备和研发技术成果，公司同时从事欧盟诸多纳米制作项目的研发，并拥有多位教授和博士后团队。NILT 开发的CNI系列 实验室用台式纳米热压印机是专为实验室和研发机构设计和开发的简单易用、性能稳定的研发型设备，用户可以通过CNI设备高效、低成本地实现高精度的纳米热压工艺，许多知名的研发机构均购买了CNI的设备。Nano Fabriction Solution 技术方案已在多个领域为用户提供基于纳米技术的行业解决方案，包括： * LED纳米压印解决方案：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵 *μ-Fluidics 纳米应用流体学 * Lab-On-A-Chip 微流控纳米应用 *Anti-Reflection 抗反射纳米应用*Wire Grid Polarizer 纳米压印光栅 * Lotus Effect 莲花效应 *Photonic Band Gap （PBG) 光子带隙 *光学及通讯: 光晶体，激光器件 *LOC解决方案 *生物技术解决方案: 医药分析，血液分析，细胞生长

桌面型纳米印系统，优异的设计理念，专门针对大学实验室、研究所微纳米加工研究设计，配备温度控制和低压控制系统，使用方便，性能稳定可靠；同时配合专业设计的压印模板，可实现各种微纳米图形加工，特征线宽小于20nm；主要特点：1.桌面型设计；2.热压印技术；3.UV压印技术；3.模板整合温度控制；4.快速升温、快速降温，大大缩短热循环加工周期；5.低压控制技术；6.自动压入、脱模设计；7.适用于各种微纳米加工研究（2inch~4inch，其他定制）；8.特征线宽小于20nm；安装要求：1.真空0.4 to 0.8 bar（实验室真空要求），流速至少1mL/min；2.压缩空气或压缩氮气6-10 bar；3.电源：110-240V (50-60 Hz, larger than 200W)；

纳米压印设备之紫外纳米压印：EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；u 紫外光曝光；u 配备专用的紫外纳米压印工具；u 适于软或硬印章压印；u 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体； 四、技术参数设备咨询电话：欢迎您的来电咨询！

纳米压印光刻（NIL）EVG是纳米压印光刻（NIL）设备和集成工艺的市场领先供应商。 EVG从15年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。 NIL是产生纳米尺度分辨率图案的最有前途且最具成本效益的工艺，可用于生物MEMS，微流体，电子学以及最近各种衍射光学元件的各种商业应用。 UV-NIL /SmartNIL系统EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻（UV-NIL）提供完整的产品线，包括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻（UV-NIL）提供完整的产品线，包括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL，EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高效，强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度，高度均匀的图案层和最少的残留层，并具有易于调整的晶圆尺寸和产量。 EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期承诺，即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能，低成本和具有批量生产能力的技术。选择您的UV-NIL /SmartNIL系统 EVG610 UV-纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到最大150毫米 EVG620NT SmartNILUV纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL技术，最大可达100 mm EVG6200NT SmartNILUV纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL技术（最大150毫米）。 EVG720 自动化的SmartNILUV纳米压印系统具有EVG专有的SmartNIL技术的自动全场UV纳米压印解决方案最大可达150毫米。 EVG7200 自动化SmartNILUV纳米压印光刻系统具有EVG专有的SmartNIL技术的自动全场UV纳米压印解决方案最大200毫米 EVG7200LA 自动化的大面积SmartNILUV纳米压印光刻系统大面积无与伦比的共形纳米压印光刻技术。 HERCULESNIL 完全集成的SmartNILUV-NIL系统完全集成的纳米压印光刻解决方案，用于大规模生产，具有EVG专有的SmartNIL压印技术。 EVG770 分步重复纳米压印光刻系统分步重复纳米压印光刻技术，可实现高效的母版制作。 IQAligner 自动化紫外线纳米压印光刻系统高精度UV压印系统，用于晶圆级透镜成型和堆叠。热压花系统EVGroup的一系列高精度热压花系统基于该公司市场领先的晶圆键合技术。热压印是一种具有很高复制精度的经济高效且灵活的制造技术。EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场领先的晶圆键合技术。 出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。 热压印是一种经济高效且灵活的制造技术，对于尺寸低至50 nm的特征，其复制精度非常高。 该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。 压模与基板对齐的组合可将热压纹与预处理的基板结构对齐。 EVG510HE 热压花系统高度灵活的热压花系统，用于研发和小批量生产。 EVG520HE 热压花系统经过通用生产验证的热压花系统可以满足最高要求。

科研用CNI v4.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型；&bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光；&bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准；&bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

NX-B100/B200整片基板纳米压印系统经过了大量的实时实地验证,质量可 靠,性能优越稳定。具备全部压印模式:热固化、紫外固化和压印。基于独 特保护的Nanonex气垫软压技术(ACP),不论模版或基板背面粗糙程 度如何,或是模版或基板表面波浪和弧形结构,NX-B100/B200均可对其校 正补偿从而获得无与伦比的压印均匀性, ACP消除了基板与模版之间侧向偏 移,有效地延长了模版使用寿命。通过微小热容设计可获得快速的热压印周 期,zui终得到快速的工艺循环。主要特点：所有形式的纳米压印热塑化紫外固化 (NX-B200)热压与紫外压印同时进行(NX-B200)热固化 气垫软压技术(ACP)Nanonex技术完美的整片基板纳米压印均匀性高通量低于10nm分辨率 快速工艺循环时间(小于60秒) 灵活性最大75毫米直径压印面积各种尺寸及不规则形状模板与基板均可压印方便用户操作基于超过12年、15代产品开发 经验的自动化压印操作Nanonex压印系统经过大量实 时实地验证,质量可靠,性 能优越稳定全自动纳米压印系统参数：热塑压印模块(NX-B100/B200) 温度范围0~250℃加热速度200℃/分钟制冷速度60℃/分钟压力范围0 ~ 3.45 MPa(500 psi)紫外固化模块(NX-B200)58mW/cm2紫外LED光源365纳米或395纳米波长可选全自动化控制模版装载功能最大3英寸模板可用于标配纳米压印系统基板装载标配纳米压印系统可装载3英寸基 板 各种尺寸及不规则形状模板与 基板均可压印 独特保护ACP技术可最大限度保护模板和基板,特别对于象磷化铟(InP)等极易碎模 板和基板给予最大限度。其他参数：配有微软Windows的电脑控制系统 用户友好的控制软件 程序化控制压印温度、压力和时间 真空和压缩空气操作由电脑控制 手动装载/拆卸基板 自动化压印操作 设备占地面积:32 × 34 英寸(810 mm × 860 mm) 应用领域:纳米电子和光电子、显示器、数据存储介质、先进材料、生物科技、纳米流道等。

滚筒式纳米压印机产品负责人：姓名：谷工(Givin)电话：（微信同号）邮箱：滚筒式纳米压印机HoloPrint uniA6 DT是一种负担得起的、便携的、易于使用的桌面设备，用于实验室尺度的纳米压印光刻工作。这款滚筒式纳米压印机是快速成型、测试和表征结构性能、光固化树脂和印迹材料的完美设备。典型的应用范围包括印刻、芯片实验室、衍射光学元件和其他纳米印刻结构。HoloPrintuniA6 DT在其自身的保护环境中工作，因此，洁净室所需的投资可以分配到其他地方。滚筒式纳米压印机HoloPrintuniA6 DT是由Stensborg公司的工程师开发的，与占行业主导地位的传统纳米压印工具相比，它是一种体积更小、成本更有竞争力的辊-板压印机。由于有接触区，我们的辊到板零工艺利用可调的压印力，以大限度地减少材料收缩，同时减少气泡问题。我们的专利NIP工艺也降低了对基材一致性的需求，从而降低了成本，提高了成品率。这款桌面式纳米压印机NIL不仅具有很好的性价比，而且呈现出很高的生产潜能。据测量这款滚筒式纳米压印机的的产量高达60片/晶圆每小时。原型设计研发的理想设备滚筒式纳米压印机HoloPrint uniA6 DT支持“快速失败”哲学思想，这将加速您的开发过程周期。通过快速测试新设计，它允许开发周期的快速迭代，因此，它是原型设计的完美设备。它使您能够试验和测试许多压印技术，正确类型的光固化树脂，以及处理参数，如压力，速度，和光强度，以表征重要的参数，然后规模化生产。因此，通过更少的迭代，您将能够在内部构建原型，并节省时间和资源。独特的光引擎大约十年前，我们的光引擎采用了发光二极管，用于大批量生产，以取代体积庞大的UV气体放电管式光引擎。光引擎是HoloPrint uniA6 DT的重要组成部分，因为它提供高度聚焦的光子能量，通过在可光固化树脂中产生化学反应，使树脂从弹性状态变为塑性状态，从而在滚轮咬合中进行固化。我们为独特的光学引擎设计申请了专利，使我们的HoloPrint uniA6 DT体积更小，成本更低。该压印机包括专利的光学引擎，其中包括具有被动冷却功能的长寿命395nm发光二极管(LED)，以及可选的内置水冷却功能，以满足极限曝光要求。规格参数zui大压印尺寸:105x148mm (WxL)，衬底厚度可达8mm复制速度:每小时60次手动复制(速度可达6米/分钟)两种输出:辊到印版和辊到箔片操作光学固化引擎:长寿命395nm LED，在6m/min时可达100mJ/cm2设备尺寸和重量:670x380x320mm (LxWxH)， 26kg

荷兰SCIL公司简介 荷兰SCIL公司是知名的纳米压印设备供应商，是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一，“SCIL基底保形压印光刻”技术，结合了小面积硬压与大面积软压的优势，真正意义上实现了12寸晶圆高质量无基底损伤保形的纳米压印，已成功用于12寸量产线，已经被国际上很多知名fab厂采用。 “SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺，可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻对齐精度小于 1 μm 的图案。 荷兰SCIL公司同时开发了的无机玻璃纳米压印光刻胶，可直接作为功能层使用，可直接省去2个工艺步骤，大大降低了生产成本。 SCIL 目前可提供2” 至 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案，并可以帮助客户优化设备、耗材和流程，以实现大批量生产。SCIL 技术特色 - 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷（模板复制技术）。 - 独特的 SCIL 压印工艺可确保＜10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。 - 套刻对齐精度： 1 μm - Sol-gel的优异蚀刻特性可得到极高的蚀刻率。 - Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和（UV）稳定性使其适合作为功能层。 - 使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。 - 总体而言，SCIL可将超高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。 LabSCIL型科研级纳米压印系统简介 LabSCIL专为有兴趣开发 SCIL 流程和应用程序的大学、研究所和公司的研发实验室开发，对于对可用于小批量试生产的工具感兴趣的公司，LabSCIL将是理想的选择。技术参数操作手动放片，纳米压印是全自动的晶圆尺寸最大8”，向下兼容晶圆厚度0.3 - 2.5 mm晶圆搬运托盘手动加载光刻胶类型Thermal sol-gelUV sol-gelUV organic压印技术低力软模基底保形纳米压印尺寸(WxLxH)1.8 x 1.4 x 2.2 m套刻精度 1μm应用 纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括： - 增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学 - MicroLED - MEMS和3D传感

科研用CNI v4.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型；&bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光；&bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准；&bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

德国Coatema R2R纳米压印系统-R2R生物微流控压印系统

纳米压印设备之热压印：EVG510HE 一、 简介 EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的好的公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其zhuan li的极其优异的对准技术和好的的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG510HE是一款半自动的热压印设备，用于硬模压印和纳米印刷。该热压印系统配备了一个通用的热压腔室，具备高真空和高接触压力能力，可以处理用于热压印的所有聚合物材料。EVG510HE可以实现长宽比的热压印和多重脱模工艺，为客户提供高质量的图形转移和纳米级分辨率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。二、 主要特点u 用于聚合物衬底和旋涂树脂的热压印；u 自动化热压印程序；u EVGzhuan li的单独对准技术用于压印和印刷前对准；u 全程软件控制工艺流程的运行；

NIL-根据客户的订单要求进行加工-优于20纳米的精度-结构周期底至40nm-适用于热压和紫外压印-设计制造适用于所有纳米压印设备的模板

研发型Desktop纳米压印光刻设备UniPrinterUniPrinter是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，操作简单、功能强大的台面型纳米压印光刻设备。可实现4英寸以下基底面积上高精度（优于10nm * ）、高深宽比（优于10比1 * ）纳米结构压印，适合用作紫外纳米压印光刻工艺开发，器件原型快速验证，纳米压印材料测试等研发。它沿用天仁微纳量产型纳米压印设备的工艺与材料体系，在UniPrinter上开发的工艺可以无障碍转移到天仁微纳其它量产设备上进行生产。UniPrinter纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED等应用领域的研发。主要功能● 沿用天仁微纳量产型纳米压印设备的工艺与材料体系，开发的工艺可以无障碍转移到量产设备上进行生产● 直径100mm以下面积高精度、高深宽比纳米压印● 设备内自动复制柔性复合工作模具● 自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预● 标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强300mW/cm2 ），完美支持各种纳米压印材料● 随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平设备照片相关参数兼容基底尺寸直径≤100mm支持基底材料硅片、玻璃、石英、塑料、金属等纳米压印技术适合高精度、高深宽比纳米结构压印压印精度优于10纳米*结构深宽比优于10比1*残余层控制可小于10nm*紫外固化光源紫外LED（365nm）面光源，光强300mW/cm2自动压印支持自动脱模支持自动工作模具复制支持上下片方式手动上下片如想了解更多产品信息，可通过仪器信息网和我们取得联系 400-860-5168转6144

EVG720紫外纳米压印机一、设备原理：EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面：LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。三、主要特点及技术参数：1、主要特点：。 最大产量高达40wafers每小时；。 紫外光曝光；。配备专用的紫外纳米压印工具；。 正面对准或者正反双面对准；。 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；。 硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。2、技术参数晶圆尺寸：最大150mm大面积压印：最大150mm产能：最大可到40wafers/小时印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°上料系统：3料盒台，现场可升级u SECS/GEM II: 可选。公司简介：EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著名公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界领先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。

纳米压印技术解决了传统光刻在特征尺寸减小过程中的难题，具有分辨率高、低成本、高产率的特点。自1995年提出以来，纳米压印已经经过了14年的发展，演变出了多种压印技术，广泛应用于半导体制造、mems、生物芯片、生物医学等领域。NIL压印机的基本思想是通过模版，将图形转移到相应的衬底上，转移的媒介通常是一层很薄的聚合物膜，通过热压或者辐照等方法使其结构硬化从而保留下转移的图形。整个过程包括压印和图形转移两个过程。根据压印方法的不同，NIL主要可分为热塑（Hot embossing）、紫外固化UV和微接触（Micro contact printing， uCP）三种光刻技术。 二、 功能l 主要功能纳米压印机的主要功能是将图形转移到相应的衬底上，转移的媒介通常是一层很薄的聚合物膜，通过热压或者辐照等方法使其结构硬化从而保留下转移的图形。压印技术主要分为以下两种：热压：首先在衬底上涂上一层薄层热塑形高分子材料（如PMMA）。升温并达到此热塑性材料的玻璃化温度Tg（Glass transistion temperature）之上。热塑性材料在高弹态下，将具有纳米尺度的模具压在上面，并施加适当的压力，热塑性材料会填充模具中的空腔，模压过程结束后，温度降低使热塑性材料固化，从而得到与模具的重合的图形。随后移去模具，并进行各相异性刻蚀去除残留的聚合物。接下来进行图形转移。图形转移可以采用刻蚀或者剥离的方法。刻蚀技术以热塑性材料为掩膜，对其下面的衬底进行各向异性刻蚀，从而得到相应的图形。剥离工艺先在表面镀一层金属，然后用有机溶剂溶解掉聚合物，随之热塑性材料上的金属也将被剥离，从而在衬底上有金属作为掩膜，随后再进行刻蚀得到图形。紫外压印：为了改善热压印中热变形的缺点，特克萨斯大学的C. G. willson和S. v. Sreenivasan开发出步进-闪光压印（Step- Flash Imprint Lithography），这种工艺中采用对紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（软模），光阻胶采用低粘度，光固化的单体溶液。先将低粘度的单体溶液滴在要压印的衬底上，结合微电子工艺，薄膜的淀积可以采用旋胶覆盖的方法，用很低的压力将模版压到晶圆上，使液态分散开并填充模版中的空腔。透过模具的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生聚合和固化成型。后刻蚀残留层和进行图形转移，得到高深宽比的结构。后的脱模和图形转移过程同热压工艺类似。 技术特点★主机包含：真空系统，温度控制系统，压力控制系统，水冷系统，PLC 控 制系统，软件操作界面，紫外光源，单面电磁加热系统 设备压印尺寸：4 英寸。 设备可以实现热压印、紫外曝光压印 ★大压力：8bar（空压机），20bar（外接超净室气源） 温度范围：从室温到 250 摄氏度。 紫外光源类型：高压汞灯：功率：400W，主波长：365nm。 ★设备真空度：10 帕。 ★设备随机可以根据科研需求提供全系列的纳米压印胶，包括： 热压胶、紫外光固化胶 深刻蚀型压印胶、举离型（Lift-Off）压印胶 快速模板制作材料、各类模板防沾剂、衬底增粘剂等 ★随设备随机可以根据科研需求提供定制纳米压印模板，包括：周期 400nm的 4英寸点阵模板镍模板 SFP & Hybrid Mold软模板 支持 20nm 分辨率及曲面压印，并提供文献工艺支持， ★支持自动脱模，电磁加热功能 国内外大于 10 个客户 ★工艺包括： 纳米压印胶旋涂工艺支持 纳米压印模板防粘工艺支持，避免脱模粘胶影响 纳米压印机参数调节 软模板工艺，包括 PDMS 模板、SFP 以及 Hybrid Mold 工艺 ICP 刻蚀工艺 柔性聚合物衬底压印工艺，Nickel Template 金属镍模板热压 PET、PMMA 等 举离（Lift-off）工艺支持，加工金属结构 纳米压印表征技术 更新压印工艺研发指导，文献支持 技术能力该设备的发明人2001年至 2003 年，在纳米压印技术发明人、 美国普林斯顿大学 StephenY.Chou 教授的纳米结构实验室作为研究助理进行了为期 3 年的研究工作，发展了紫外光固化纳米压印工艺与材料，对纳米压印技术的发展做出了重要的贡献。2004 年加入材料科学与工程系后继续围绕纳米微加工技术与纳米压印技术开展研究工作，研发了数种新型纳米压印材料，发展了新型高分子压印模板，提出了曲面纳 米压印技术；利用 863 课题“紫外光固化和热压两用纳米压印设备的研制与应用”项目的支持，研制成功具有紫外光固化和热压功能两用纳米压印设备，现已成为产品，并被南京大学、北京航空航天大学、国防科技大学、黑龙江大学、中科院深圳研究院等多家高校和科研机构所采用，形成了具有自主知识产权的纳米压印核心技术，，技术水准与当前国际该领域先进水平同步。纳米压印技术是目前纳米沟道加工的主要技术。传统的光刻技术主要是利用电子和光子改变光刻胶的物理化学性质，进而得到相应的纳米图形。而纳米压印技术则可以在不使用电子和光子的前提下，直接利用物理学机理机械地在光刻胶上构造纳米尺寸图形。正是由于这种机械作用，使得纳米压印技术不再受到光子衍射和电子散射的限制，可大面积地制备纳米级图形。同时，由于这项技术所用的设备简单，制备时间短，压印模板可以重复使用，所以应用该技术制备纳米图形所需的成本也较低。目前典型的三类纳米压印技术分别是：热压印，紫外固化压印，微接触印刷。分别适用在其各自的领域：热压印技术：光电、光学器件；微型机电系统领域。紫外固化压印技术：纳米光电器件、纳米电子器件的生产；NEMS和MEMS加工；半导体集成电路的制造。微接触印刷技术：生物芯片和微流体器件的生产；生物传感器（抗体光栅）；微机械元件的生产。加工工艺来分，主要包含五大部分：压印，刻蚀，镀膜，检测&表征与其他。所涉及的仪器设备主要包括：纳米压印机，感应耦合等离子体刻蚀机，电子束蒸发镀膜机，原子力显微镜&扫描电镜，以及超声波清洗机&真空干燥箱等。 Sandwiched Flexible Polymer-SFP & Hybrid Mold软模板压印技术尽可能消除灰尘颗粒对于纳米压印结果产生的影响 在不规则表面或者曲面进行纳米压印（下图为单模光纤进行的纳米压印） Nickel Template金属镍模板热压技术直接对于聚合物衬底（PMMA、PET等材料上）直接热压，免去了刻蚀环节。 先进的电镀工艺支持加工微纳米尺度镍模板 600nm周期镍模板镍模板寿命长，适合高温高压连续压印。

请选择合适的型号NX-B100多功能整片基板纳米压印系统（热压印）zui大75毫米直径压印面积 热压印加热速度200℃/分钟 制冷速度60℃/分钟NX-B200多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）zui大75毫米直径压印面积 热压印和紫外压印加热速度200℃/分钟 制冷速度60℃/分钟58mW/cm2紫外LED光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制NX-1000多功能整片基板纳米压印系统（热压印）标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印 加热速度300℃/分钟 制冷速度150℃/分钟NX-2000多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印加热速度300℃/分钟 制冷速度150℃/分钟200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制NX-2500多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印系统标配4英寸,6或8英寸压印面积可选热压印和紫外压印加热速度300℃/分钟 制冷速度150℃/分钟200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印对准模块 1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台分场光学和CCD相机NX-2600多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统可选背面对准标配4英寸,6或8英寸压印面积可选热压印和紫外压印加热速度300℃/分钟 制冷速度150℃/分钟200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印对准模块 1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台分场光学和CCD相机标配5”模板,标配4”直径基板 ? 其他尺寸可以提供500瓦紫外水银灯光源

桌面型纳米压印机（CNI）作为一款紧凑型设计纳米压印系统，主要用于实现纳米/微米微观结构从模板到样品的复制。同时，CNI 在标准热纳米压印基础上，可升级紫外（UV）纳米压印功能。基于简洁的操作过程和直观的用户界面，CNI 无需专职技术人员操作管理。任何压印腔室可容纳的模板均可使用。压印线宽低达20nm。主要特点： -桌面型纳米压印设备：兼容热压印和UV紫外压印模块； -便捷实现微观结构的热压印和热压花和微接触印刷工艺； -简单直接的操作方式，无需专业训练；单次压印操作仅需8~10min； -即插即用，使用方便； -专为研发设计； -压印过程完全通过计算机程序化控制； -随时倾听用户的意见，满足您的各种需求；主要技术指标: -热纳米压印温度200°C（可升级至240°C）； -陶瓷模板载具集成温度控制模块，准确控制压印过程温度； -紫外纳米压印紫外光波长365nm； -压印用压强范围：0.3bar-11bar； -压印用真空：可至0.1mbar； -模板及样品尺寸可达4inch,可升级至8inch； -可使用各种规格、形状的模板和样品；欢迎垂询！

桌面纳米压印机，易于复制微米和纳米级结构。纳米压印（热和紫外线）直径高达210mm圆形模板，带紫外线150 * 150mm方片模板，采用热处理工艺热压印操作简单直观用途广泛即插即用专为研发而设计 CNI v3.0 PV是用于纳米压印和热压印的小型桌面工具，可完成微米和纳米结构从模板复制到基质。CNI v3.0 PV纳米压印机可以执行热压印以及紫外压印，CNI纳米压印机是纳米复制的完美起点，同时也支持成熟和高级的开发工作，纳米压印机操作简单，坚固耐用，便于非标准流程和新实验。 易于安装 即插即用（不到20分钟的时间内就可运行工作）优势 凭借其热压印和紫外压印的功能，如果需要，在真空中，CNI v3.0 PV纳米压印机在其产品中是独一无二的，并支持许多不同的技术和工艺。使用方便 无需查看使用手册，每个人都能使用；紧凑尺寸 26*30*14cm(120mm腔室的尺寸)； 42*44*14cm(210mm腔室的尺寸)；安装 CNI结构紧凑，无需固定安装；高质量压印 能够将小于40nm的结构复制到大于100μm的结构；多功能 可使用任何尺寸的印章和模板，直径最大210mm(8英寸)圆形的模板；技术支持 提供个性化支持，专注于您的加工需求； 特征：桌面大小的纳米压印工具 热压印温度高达250℃ 紫外纳米压印，365nm曝光(or 405nm–自定义选项)压印压力从0.3到11bar 在真空压印1mbar 印章和基材尺寸：直径可达210mm 印章和基材没有固定的样式坚固且易于使用手动装卸印章和模板自动程控软件操作界面简单可记录所有步骤和流程 CNI V3.0支持许多不同的技术：热纳米压印UV纳米压印热压印微米结构压印聚合物粘合 举例：纳米结构压印微结构压印硅片上纳米间距的光栅压印在软性的基材上压印（如III-V材料，InP）印章生产高纵横比结构的热压印聚合物热压印热聚合物粘合 要求：现场安装的技术要求压缩干燥空气或氮气压力6-11bar，外径6mm连接器，流量至少应该1/2标准L/min；在10mm外径连接器中，真空度优于0.1mbar（如果有真空选项）；功率：110-240V (50-60HZ， 大于200W)；环境应安装在干净、无尘和无颗粒的环境，以达到最佳效果；工作温度范围10-35℃；工作湿度范围30-70%；其他增压器：如果你的实验室不能提供高于6 bar的压缩空气压力，NILT可以提供一个增压器，可以将3-5 bar加到6-10 bar；真空泵选项：NILT建议使用Edwards nXDS6i干式涡旋真空泵。任何其他相似或更好规格的泵也可正常工作； 规格：压力：0.3-11bar温度：高达200℃，精度+/-1℃，可选高温模块，适用于250℃紫外线曝光:在120mm腔室中，波长为365mm或405 nm的紫外线LED灯，光功率为12 W，在210 mm腔室中为~100mW/cm2或~165mW/cm2的光功率为57W真空：可将腔室抽真空至低于1mbar的压力腔室尺寸：- 直径120毫米，高度20毫米(最大可扩展到45毫米) - 直径为210毫米，高度最大为20毫米(无法扩展)自动复制过程：手动装载印章和基材 通过CNI软件控制，整个复制过程完全自动化软件：全程控制和灵活性 除了装载和卸载之外的所有东西都由软件处理CNI定制： 可根据您的需求定制在线视频说明：在线安装视频和操作提示可选项： 增压器可将实验室压缩空气供应从3-5bar提升至6-10bar，由NLT人员进行培训和/或安装

NX-2600整片基板带对准可多层次纳米压印加高分辨率光刻系统经过了大量的实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定。具备全部压印模式：热固化、紫外固化和压印。基于独特专利保护的Nanonex气垫软压技术（ACP），不论模版或基板背面粗糙程度如何，或是模版或基板表面波浪和弧形结构，NX-2600均可对其校正补偿从而获得无与伦比的压印均匀性， ACP消除了基板与模版之间侧向偏移，有效地延长了模版使用寿命。通过微小热容设计可获得快速的热压印周期，最终得到快速的工艺循环。 主要特点：所有形式的纳米压印l 热塑化l 紫外固化l 热压与紫外压印同时进行l 热固化 气垫软压技术(ACP)l Nanonex专利技术l 完美的整片基板纳米压印均匀性l 高通量 低于10nm分辨率 亚1微米正面对准精度 背面对准可选项 快速工艺循环时间（小于60秒） 灵活性l 4″, 6″, or 8″压印面积可选l 各种尺寸及不规则形状模板与基板均可压印l 方便用户操作 基于超过12年、15代产品开发经验的自动化压印操作 Nanonex压印系统经过大量实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定 全自动纳米压印 纳米压印系统参数 热塑压印模块 l 温度范围0～250℃l 加热速度300℃/分钟 l 制冷速度150℃/分钟 l 压力范围0 ～ 3.8 MPa（550 psi） 紫外固化模块 l 200W窄带紫外光源 l 365纳米或395纳米波长可选 l 全自动化控制 对准模块 l X, Y, Z, Theta平台 l 分场光学和CCD相机 基板装载 l 标配纳米压印系统可装载4″基板 l 6″和8″基板可选 l 各种尺寸及不规则形状模板及基板均可压印 l 独特专利保护ACP技术可最大限度保护基板和模板，特别对于象磷化铟（InP）等极易碎模板和基板给予最大限度保护。 光刻 l 标配5”模板，标配4”直径基板 l 其他尺寸可以提供 l 500瓦紫外水银灯光源 应用领域：纳米电子和光电子、显示器、数据存储介质、先进材料、生物科技、纳米流道等

科研用CNI v4.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置，体积小，容易存放，最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板，但所有处理器都是全自动的，专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色：&bull 体积小巧，容易存放，桌面型；&bull 轻微复制微米和纳米级结构；&bull 热压印温度高达200℃；&bull 可选的高温模块，适用于250℃；&bull UV纳米压印，365nm曝光；&bull 可选的UV模块，适用于405nm曝光；&bull 真空纳米压印（腔室可抽真空至0.1mbar）；&bull 纳米压印压力高达11bar；&bull 温度分布均匀、读数精准；&bull 笔记本电脑全自动控制，工艺配方编辑简单，完全灵活控制，自动记录数据；&bull 直径最大210mm（圆形）腔室；&bull 腔室高度为20mm；&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频

SmartNIL紫外纳米压印：HERCULES NIL一、设备原理：EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的纳米压印系统，是EVG的NIL产品组合的最新成员。 HERCULES NIL基于模块化平台，在单个平台上将清洗模块，抗蚀剂涂层模块和烘烤预处理模块与EVG的专有SmartNIL大面积纳米压印（NIL）模块结合在一起，用于直径最大为300 mm的晶片。这是第一个基于EVG的全模块化设备平台和可交换模块的NIL系统，可为客户提供最大的自由度来配置他们的系统，以最好地满足其生产需求，包括200 mm和300 mm晶圆的互换功能。通过为大批量生产提供完整的NIL解决方案，HERCULES NIL增强了EVG在大面积NIL设备解决方案中的领导地位。 二、应用范围HERCULES NIL纳米压印技术主要应用于如下方面：增强/虚拟现实（AR / VR）光学器件，3D传感器，纳米光子学等离子体光学纳米压印光栅；三、主要特点及技术参数1、主要特点：. 最大产量高达40wafers每小时；. “一站式服务”：将裸露的晶圆装载到工具中，然后将经过完全处理的纳米结构晶圆退回。. 市场上最先进的纳米压印功能，.具有较低的力和保形压印，. 快速的高功率曝光和平滑的压模分离。. 支持各种设备和应用程序的生产，全自动UV-NIL压印和微力剥离.完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理）. 200毫米/ 300毫米桥接工具能力. 全区域覆盖. 批量生产最小40 nm或更小的结构. 支持各种结构尺寸和形状，包括3D. 适用于高形貌（粗糙）表面. 分辨率取决于过程和模板.优化工艺链. 具有软工作模板制造能力，这是大批量生产的基石，不需要额外的压印模板制造设备. 该设备可以配置微型环境，以确保最低的缺陷率和最高质量的原版复制。2、技术参数. 最多300毫米的基材. 晶圆直径（基板尺寸）100至200毫米（7200压印模块）/ 200至300毫米（7300压印模块）. 解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）. 支持流程：SmartNIL. 最大产量高达40wafe/小时. 对准：≤±3微米. 自动分离：支持. 前处理：提供所有预处理模块. 迷你环境和气候控制：可选. 工作印章制作：支持的模板尺寸：最大330*330mm最大压印面积：最大300*300mm印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模曝光：曝光光源：高功率LED（i线）窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um压印微结构尺寸范围：40nm-2um；压印结构分辨率：≤40纳米压印残留层厚度：≤20纳米滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节图形保型度：≥90%支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°最多可配置8个模块：清洗模块，抗蚀剂涂层模块，烘烤预处理模块，EVG的专有SmartNIL大面积纳米压印（NIL）上下料机械手内部各模块间传递系统上料系统：4料盒自动上料SECS/GEM II: 可选。

德国Coatema R2R纳米压印系统-R2R生物微流控压印系统

n 荷兰SCIL公司简介 荷兰SCIL公司是全球知名的纳米压印设备供应商，是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一，并与SUSS，Fraunhofer，AMO，AMOLF合作，共同开发了专利的“SCIL基底保形压印”技术，真正意义上实现了纳米压印技术的工业wafer级量产，已经被国际上很多知名fab厂采用。 “SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺，可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻对齐精度小于 1 μm 的图案。 荷兰SCIL公司同时开发了专利的无机玻璃纳米压印光刻胶，可直接作为功能层使用，可直接省去2个工艺步骤，大大降低了生产成本。 荷兰SCIL公司目前可提供2” 至 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案，并可以帮助客户优化设备、耗材和流程，以实现大批量生产。 n SCIL 技术特色 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷（专利的模板复制技术）。独特的 SCIL 压印工艺可确保＜10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。套刻对齐精度： 1 μmSol-gel的优异蚀刻特性可得到极高的蚀刻率。Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和（UV）稳定性使其适合作为功能层。使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。总体而言，SCIL可将最高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。 n FabSCIL全自动产线纳米压印系统简介 FabSCIL全自动纳米压印系统集成了两套压印单元，可用于两种不同结构的纳米压印，尺寸为 200 和 300 毫米晶圆，并具有自动模具装载和定位功能。它旨在与负责晶圆处理、对准、旋涂、烘烤、冷却和其他工艺制程。 n 应用纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括：增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学MicroLEDMEMS和传感器

Nanonex纳米压印系统NX-2500产品特点：1、 热塑化2、 紫外固化3、 热压与紫外压印同时进行 4、 热固化5、气垫软压技术(ACP)6、Nanonex专利技术7、 完美的整片基板纳米压印均匀性8、高通量 9、低于10nm分辨率10、亚1微米对准精度 11、快速工艺循环时间（小于60秒） 灵活性12、4″, 6″, or 8″压印面积可选择各种尺寸及不规则形状模板与基板均可压印 13、方便用户操作14、基于超过12年、15代产品开发经验的自动化压印操作，Nanonex压印系统经过大量实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定15、全自动纳米压印规格参数：1、热塑压印模块 温度范围0～250oC 加热速度300oC/分钟 制冷速度150oC/分钟 压力范围0 ～ 3.8 MPa（550 psi）2、紫外固化模块 200W窄带紫外光源 365纳米或395纳米波长可选 全自动化控制3、对准模块 1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台 分场光学和CCD相机4、模版装载功能 4″/5″/6″模版可用于标配纳米压印5、系统 8”模板可升级6、基板装载 标配纳米压印系统可装载4″基板 6″和8″基板可选 各种尺寸及不规则形状模板及基7、板均可压印 独特专利保护ACP技术可限8、度保护基板和模板，特别对于象磷化铟（InP）等极易碎模板和 基板给予限度保护。