反射式高能电子衍射仪

反射高能电子衍射仪（Reflection High-Energy Electron Diffraction）是观察晶体生长最重要的实时监测工具。它可以通过非常小的掠射角将能量为10～30KeV的单能电子掠射到晶体表面，通过衍射斑点获得薄膜厚度，组分以及晶体生长机制等重要信息。因此反射高能电子衍射仪已成为MBE系统中监测薄膜表面形貌的一种标准化技术。　　R-DEC公司生产的反射式高能电子衍射仪，以便于操作者使用的人性化设计，稳定性和耐久性以及拥有高亮度的衍射斑点等特长得到日本国内及海外各研究机构的一致好评和认可。特长 ◆可远程控制调节电压，束流强度，聚焦位置以及光束偏转◆带有安全闭锁装置◆镍铁高导磁合金磁屏蔽罩◆拥有高亮度衍射斑点◆电子枪内表面经特殊处理，能实现极低放气率◆经久耐用，稳定可靠◆符合欧盟RoHS指令 　　低电流反射高能电子衍射仪（Low Emission Reflection High-Energy Electron Diffraction）是利用微通道板技术，大幅减少对样品损伤的同时，并且保证明亮反射电子衍射图像的新一代低电流反射高能电子衍射仪。可以用于有机薄膜材料等结晶结构的分析研究。特长◆大幅度减少电子束对样品的损伤（相当于普通RHEED的1/500-1/2800）◆带有安全闭锁装置◆搭载高亮度微通道板荧光屏◆可搭载差动抽气系统◆kSA400 RHEED分析系统兼容◆符合欧盟RoHS指令

反射高能电子衍射仪（ReflectionHigh-Energy Electron Diffraction）是观察晶体生长最重要的实时监测工具。它可以通过非常小的掠射角将能量为10～30KeV的单能电子掠射到晶体表面，通过衍射斑点获得薄膜厚度，组分以及晶体生长机制等重要信息。因此反射高能电子衍射仪已成为MBE系统中监测薄膜表面形貌的一种标准化技术。　　R-DEC公司生产的反射式高能电子衍射仪，以便于操作者使用的人性化设计，稳定性和耐久性以及拥有高亮度的衍射斑点等特长得到日本国内及海外各研究机构的一致好评和认可。用于有机薄膜晶体结构检测。世界首创！欢迎来电询问详细技术资料！

反射式高速电子衍射仪RHEED 制造商名称：R-DEC株式会社RDA-005G产品信息随着薄膜晶体生长技术的发展，反射高速电子衍射作为结晶评价的观察方法已成为不可或缺的手段。在RHEED中，大约10至30KeV的电子束通常以几度的浅入射角入射到样品表面，由于电子的波动性，电子束被晶格衍射，投影到对面的屏幕上，这是一种可以让您检查结构的设备。电子枪的特点紧凑的设计实现高亮度（与本公司相比120%）具有联锁安全机构标准配备磁屏蔽高耐用性和可靠性符合RoHS指令电源特点新增光束消隐功能数字控制提高稳定性设定值保存/恢复功能，可保存100种最佳条件设定值采用液晶显示，让您即时查看所有参数支持使用 k-Sapce 图像分析系统 (kSA 400) 进行原位分析绘画规格电子枪模型RDA-005G绝缘电压直流30kV光斑直径最小Φ90μm灯丝钨钢发夹韦纳特可变偏差聚焦镜空芯电磁透镜偏光镜片环形电磁透镜光束偏转X/Y：±8°磁屏蔽标准设备运营压力 1×10 -3 Pa单级差动排气型 1 Pa * )最高烘烤温度200℃安装法兰ICF70-FH尺寸Φ100 mm x 335 mm（455 mm 包括连接器）*选项：RDA-005G-DP电源模型RDA-006P加速电压-3 ~ -30 kV (纹波 15 V pp)发射电流高达 80 μA灯丝电源0 至 +2 V，高达 1.9 A偏置电源0 至 480 V 可变（纹波 5 m V pp）具有记忆功能的遥控器LCD显示：加速电压、发射电流、灯丝电流、　　　偏置电压、光束偏转（X/Y）、焦点（Z）互锁高压互锁装置电缆高压电缆5 m，遥控电缆7 m外部输入/输出模拟数字 I/O，兼容 kSA 400 喷枪控制输入功率交流100V尺寸EIA 4U 高 177 毫米 x 宽 482.5 毫米 x 深 450 毫米其他的符合 RoHS 标准RHEED 分析系统 kSA 400 　除了晶格间距、应变变化、薄膜生长速率、薄膜厚度和相干长度之外，您还可以通过 RHEED 衍射图像轻松监控评估/分析晶体薄膜表面所需的信息。除了分析获取的衍射图像和视频外，还可以对高速基板旋转期间获取的数据进行精确的原位分析。

日本R-DEC株式会社RDA-006P反射式高速电子衍射仪电源产品信息随着薄膜晶体生长技术的发展，反射高速电子衍射作为结晶评价的观察方法已成为不可或缺的手段。在RHEED中，大约10至30KeV的电子束通常以几度的浅入射角入射到样品表面，由于电子的波动性，电子束被晶格衍射，投影到对面的屏幕上，这是一种可以让您检查结构的设备。电子枪的特点紧凑的设计实现高亮度（与本公司相比120%）具有联锁安全机构标准配备磁屏蔽高耐用性和可靠性符合RoHS指令电源特点新增光束消隐功能数字控制提高稳定性设定值保存/恢复功能，可保存100种最佳条件设定值采用液晶显示，让您即时查看所有参数支持使用 k-Sapce 图像分析系统 (kSA 400) 进行原位分析绘画规格电子枪模型RDA-005G绝缘电压直流30kV光斑直径最小Φ90μm灯丝钨钢发夹韦纳特可变偏差聚焦镜空芯电磁透镜偏光镜片环形电磁透镜光束偏转X/Y：±8°磁屏蔽标准设备运营压力 1×10 -3 Pa单级差动排气型 1 Pa * )最高烘烤温度200℃安装法兰ICF70-FH尺寸Φ100 mm x 335 mm（455 mm 包括连接器）*选项：RDA-005G-DP电源模型RDA-006P加速电压-3 ~ -30 kV (纹波 15 V pp)发射电流高达 80 μA灯丝电源0 至 +2 V，高达 1.9 A偏置电源0 至 480 V 可变（纹波 5 m V pp）具有记忆功能的遥控器LCD显示：加速电压、发射电流、灯丝电流、　　　偏置电压、光束偏转（X/Y）、焦点（Z）互锁高压互锁装置电缆高压电缆5 m，遥控电缆7 m外部输入/输出模拟数字 I/O，兼容 kSA 400 喷枪控制输入功率交流100V尺寸EIA 4U 高 177 毫米 x 宽 482.5 毫米 x 深 450 毫米其他的符合 RoHS 标准RHEED 分析系统 kSA 400 　除了晶格间距、应变变化、薄膜生长速率、薄膜厚度和相干长度之外，您还可以通过 RHEED 衍射图像轻松监控评估/分析晶体薄膜表面所需的信息。除了分析获取的衍射图像和视频外，还可以对高速基板旋转期间获取的数据进行精确的原位分析。

反射式高速电子衍射仪RHEED 制造商名称：R-DEC株式会社RDA-005G、RDA-005G-DP反射式高速电子衍射仪RHEED日本R-DEC株式会社RDA-005G产品信息随着薄膜晶体生长技术的发展，反射高速电子衍射作为结晶评价的观察方法已成为不可或缺的手段。在RHEED中，大约10至30KeV的电子束通常以几度的浅入射角入射到样品表面，由于电子的波动性，电子束被晶格衍射，投影到对面的屏幕上，这是一种可以让您检查结构的设备。电子枪的特点紧凑的设计实现高亮度（与本公司相比120%）具有联锁安全机构标准配备磁屏蔽高耐用性和可靠性符合RoHS指令电源特点新增光束消隐功能数字控制提高稳定性设定值保存/恢复功能，可保存100种最佳条件设定值采用液晶显示，让您即时查看所有参数支持使用 k-Sapce 图像分析系统 (kSA 400) 进行原位分析绘画规格电子枪模型RDA-005G绝缘电压直流30kV光斑直径最小Φ90μm灯丝钨钢发夹韦纳特可变偏差聚焦镜空芯电磁透镜偏光镜片环形电磁透镜光束偏转X/Y：±8°磁屏蔽标准设备运营压力 1×10 -3 Pa单级差动排气型 1 Pa * )最高烘烤温度200℃安装法兰ICF70-FH尺寸Φ100 mm x 335 mm（455 mm 包括连接器）*选项：RDA-005G-DP电源模型RDA-006P加速电压-3 ~ -30 kV (纹波 15 V pp)发射电流高达 80 μA灯丝电源0 至 +2 V，高达 1.9 A偏置电源0 至 480 V 可变（纹波 5 m V pp）具有记忆功能的遥控器LCD显示：加速电压、发射电流、灯丝电流、　　　偏置电压、光束偏转（X/Y）、焦点（Z）互锁高压互锁装置电缆高压电缆5 m，遥控电缆7 m外部输入/输出模拟数字 I/O，兼容 kSA 400 喷枪控制输入功率交流100V尺寸EIA 4U 高 177 毫米 x 宽 482.5 毫米 x 深 450 毫米其他的符合 RoHS 标准RHEED 分析系统 kSA 400 　除了晶格间距、应变变化、薄膜生长速率、薄膜厚度和相干长度之外，您还可以通过 RHEED 衍射图像轻松监控评估/分析晶体薄膜表面所需的信息。除了分析获取的衍射图像和视频外，还可以对高速基板旋转期间获取的数据进行精确的原位分析。

高的解析能力和色散L槽密度低，适用于高阶应用槽间距公差小于 0.05%提供定制尺寸与其他反射式衍射光栅相比，Richardson Gratings&trade Echelle 反射式衍射光栅具有卓越的解析能力和色散。这些光栅的特点是槽间距较宽，槽密度相对较低，闪耀角较大。它们适用于从近 UV 到红外（大约20μm）的波长范围。Richardson Gratings&trade Echelle 反射式衍射光栅非常适用于诸如具有很高的角色散及通量的紧凑型高分辨率分光仪等应用。我们在收到请求后会提供定制尺寸。注意： 这些光栅的表面非常敏感，在接触光学元件时切勿触摸。若需要清洁以去除尘粒，建议采用运用清洁压缩空气的非接触式清洁方式。Edmund 反射式衍射光栅#4101

电子衍射仪,微电子衍射仪,3D电子衍射仪ELDICO的专用电子衍射仪是一种非常先进的仪器概念，可用于分析纳米级固体化合物。Product & Technology电子衍射（ED）在科学和工业中正在获得发展。 ED在进行纳米晶体学研究中的应用是一项颠覆性的创新，它将打开令人着迷的新视野，尤其是化学，制药和高级材料研究领域所需的有机化合物。The ELDICO Electron Diffractometer 以更高的质量，更快的速度和更低的价格塑造晶体学的未来：电子加速衍射通过进入亚微米范围来消除晶体尺寸问题。ELDICO科学电子衍射仪旨在测量有机和无机化合物纳米范围内的样品，并旨在在大多数情况下实现分辨率高达0.84%，且至少60-70％的完整数据集的Rint20％。 这些数据通常将允许在75％的情况下进行结构求解和细化，使R1值降至10％。 晶胞测定可以精确到千分之一。在一篇有关晶体学和电子衍射的文章中[1]，电子，中子和同步辐射等新型晶体学方法的创新潜力得到了明确认识。 这些技术现在使研究以前无法获得的结晶固体的原子结构成为可能。 除了新型检测器系统的性能外，还得益于更高的计算能力以及包含一百万个晶体结构的剑桥结构数据库（CSD），从而可以以过去无法想象的方式使用数据。 文章强调了电子衍射的作用。作为主要（众所周知）瓶颈之一的足够大的晶体的可用性，作者认为电子衍射和量子晶体学具有巨大的潜力：当前的一项发展是通过电子衍射阐明纳米晶体分子化合物的结构 。 由于混合像素检测器与透射电子显微镜的结合，现在可以确定小到几十纳米的单晶结构。我们认为需要仍然非常昂贵（我们认为不太合适）的microED设备，该设备主要是电子设备。

MIR反射式刻线衍射光栅的详细信息品牌：其他型号：QX-MIR-GL材质：Pyrex基底适用范围：激光用途：激光装箱数：1000加工定制：是外形尺寸：25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mmmm重量：0.01㎏尺寸：25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mmGrooves/mm：450Design Wavelength：3.1 μmBlaze Angle：32°Dispersion (nm/mrad)：1.6MIR反射式刻线衍射光栅特性 设计波长处的偏振效率：80%到95% 反射铝膜 使用刻线的基底材料生产o 连续波激光：250 W/cm2QXKJ提供多种优化中红外区域峰值偏振效率的刻划衍射光栅。我们提供不同闪耀角的光栅，适合多种应用。欲了解不同光栅类型的差异，请点击上方光栅指南标签。请注意，这些光栅的反射铝膜是裸露的，而且没有保护镀膜。但是可以定制MgF2或金膜来保护光栅的铝膜表面。金膜在红外波段的性能更好，而MgF2膜提供保护性；详情请咨询技术支持。注意td width="204" valign="center" background:#f0f0f0 "="" style="margin: 0px padding: 0px border-width: initial border-style: none border-color: initial "25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mmDesignWavelengthBlaze Angle12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm4501.6 nm/mradDesignWavelengthBlaze Angle12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm3002.86 nm/mradDesignWavelengthBlaze Angle12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm7512.3 nm/mrad12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm27°25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm1504.2 nm/mrad

用于透射电镜电子衍射的高性能探测器相机ASI的Chee-tah是一种适合于电子显微镜应用的混合像素探测器。Chee-tah卓越的灵敏度和速度为获得电子衍射、成像及断层扫描提供了可能性。Chee-tah 含有一个硅二极管传感器，硅二极管被分成512x 512或1024 x 1024的像素阵列。每个像素通过bump-bonds与集成在芯片上的读出电子器件相连，芯片位于传感器下方。每个像素的电子器件单独处理来自该像素传感器的信号。每个独立像素对其相应区域中检测到的事件进行计数和处理。闪烁体CCD探测器探测不到噪声量级的微弱信号，而Chee-tah可以获得。与其它类型的直接探测器相机比较，Chee-tah的动态范围很大，电子束灵敏度很高，常用于衍射实验。Chee-tah的高速特点使之成为观察动态过程和捕捉快速衰减信号的理想工具。探测器优点1）ASI的新型超高灵敏探测器提供了一种通过电子衍射研究微米和纳米尺度晶体的解决方案，并可安装在现有的透射电镜底部，或也可侧装。高灵敏度以及高读出速率及宽动态范围使得用户能够收集远超过CCD和CMOS相机所限制的数据。对(4D)STEM应用来说，这意味着能够对大面积进行快速扫描。2）多功能设计使我们的探测器向后兼容几乎所有的电子显微镜，也可进一步调整以满足用户新需求。3）X射线晶体学是测定蛋白质和其它光束敏感材料之原子结构常用的方法。要获得高分辨率的X射线数据，通常需要比较大的晶体。然而，在许多情况下，只生长出微米或纳米尺度的晶体。近期的研究结果表明，微米和纳米尺度晶体可以用TEM电子衍射来研究。应用领域能量分辨X射线计算机断层扫描快速生产线X射线检查电子显微镜质谱Chee-tah120TimepixChee-tah1800Timepix3RXChee-tah(event)Timepix3Pixels(55um)512 x 512 / 1k x 1k512 x 512 / 1k x 1k512 x 512Sensitive Area2.8 x 2.8 / 5.6 x 5.6 cm2.8 x 2.8 / 5.6 x 5.6 cm2.8 x 2.8 cmMax Speed120 Hz1800 / 425 Hz1.6 ns (500 MHz)Counter Depth13.5 bit12/24 bit14bitSensorsSi, GaAsSi, GaAsSi, GaAsConnection1 GB / 4 x 1 GBEthernet10 GB Ethernet10 GB EthernetOperationCounting, TOA, TOTCounting, CSMSimultaneous, TOA, TOT型号及配置荷兰ASI公司(Amsterdam Scientific Instruments B.V.)出品的Chee-tah系列用于TEM ED的光子计数型混合像素探测器相机有多种型号及配置可选：1）可选型号：Chee-tah120（Timepix技术，ToT、ToA等应用，帧频120f/s，阈值数1个）；Chee-tah 1800（Medipix3RX技术，CSM&SPM模式等应用，帧频1800f/s，阈值数1或2个）；Chee-tah(event)（Timepix3技术，ToT、ToA、光子时间戳、速度映射成像和符合成像等应用，可与同步加速器或自由电子激光等配套，时间分辨率1.6纳秒，超高速帧频500 MHz，阈值数1个）等。2）可选传感器材料类型：Si, GaAs, CdTe, ... 常用硅，可选砷化镓（高能量用途），碲化镉（更高能量用途）。3）可选传感器厚度：300um/500um/1000um（标配300um，高能量应用请选较厚的厚度）4）可选像素数：65k、262k、524k、1M、2M等不同活区面积。5）可选底装或侧装。上述总有一款及其配置适合您的TEM ED晶体学分析和结构解析以及X射线检测和成像应用，欢迎选购！

Richardson Gratings&trade 高精度反射式全息衍射光栅高衍射效率与刻线式光栅相比，减少了杂散光并具有更精确的周期性提供从 UV 到 NIR 区域的波长选项提供定制尺寸 通用规格有效孔径 (%):90涂层:Aluminium构造 :Holographic Grating基底:Float Glass厚度 (mm):6.00 ±0.5反射波前, RMS: λ/4基底上的刻划区域居中 (mm) :±1凹槽与边缘对齐 (°):±0.15槽间距公差 (%) :0.05偏振 : S, P and AverageSpectral Order (m):与刻线式光栅相比，Richardson Gratings&trade 高精度反射式全息衍射光栅的光散射更低，使其成为对拉曼光谱仪等杂散光敏感的应用的理想选择。通过暴露于强激光干涉图样，光栅被记录在光刻胶中，然后用化学方法显影以显示具有正弦横截面的条纹图样。可提供从 UV 到 NIR 光谱区域使用的光栅。注意： 这些光栅的表面非常敏感，在接触光学元件时切勿触摸。若需要清洁以去除尘粒，建议采用运用清洁压缩空气的非接触式清洁方式。Edmund #4102 高精度反射式全息衍射光栅

仪器简介：Reflection High-Energy Electron Diffraction (RHEED) has become widely known as an essential method for real-time observation of crystal growth. RHEED can be used to analyze film surfaces in either a static mode for existing materials or dynamically as film growth evolves. This makes RHEED an exceptionally valuable tool for investigating structures in Molecular Beam Epitaxy (MBE).In general, RHEED is a method for investing the structure of crystal surfaces. A high-energy electron beam(10-30KeV) is directed at the sample surface at a low incident angle(1-2°).The electrons are diffracted by the crystal structure of the sample being investigated and then projected on a fluorescent screen mounted opposite the electron gun. The characteristic pattern of the impinging electrons is a series of streaks. The distance between the streaks is an indication of the surface lattice cell size.RHEED系统可以实时监控表面结构，所以可以被广泛应用于以下领域： &bull 结晶学(Crystallography) &bull 超导体(Superconductors) &bull 分子束外延生长Molecular beam epitaxy (MBE) &bull 化学气相沉积Chemical vapor deposition &bull 激光脉冲沉积（PLD）、有机分子化学气相沉积(MOCVD) &bull 冶金(Metallurgy) &bull 薄膜制备(Thin film deposition) &bull 涂层(Coatings)技术参数：30KeV Electron Gun:Beam Spot Size: 90micro meter dia. Maximum Filament: 0.1mm dia. Tungsten Wire (hairpin-shaped) Wehnelt: Self Bias Focus Lens: Air Core Solenoid Coil Lens Deflection Lens: Troidal Coil Lens Axial Alignment Mechanism: Alignment for Filament and Wehnelt Insulation Voltage: DC30KV Working Pressure: 10-4Pa to 10-9Pa Max. Bakeout Temperature: 200 degrees C Mounting Flange: ICF70 Dimensions: 100mm dia. x 401mm long (501mm long with a connector inserted) 30KeV E-GUN POWER SUPPLY:Acceleration Voltage: 0 to -30KeV Constant Voltage Supply ( Ripple 0.03% Maximum) Beam Current: 0 to 160 micro ampere Filament Voltage: 0 to 5V Constant Voltage Supply (Ripple 0.05% Maximum) Filament Current: Max. 2A Deflection Lens Supply: 1A Constant Current Source(plus or minus1V) (Ripple 0.05% Maximum) Focus Lens Supply: 0 to 1.5A Constant Current Source(0 to 22V) (Ripple 0.05% Maximum) Input Power: 200V, 220V, 230V, 240V Dimensions: 480mm x 199mm x 500mm (cable +100mm) Safety Feature: High Voltage Interlock Others: RoHS-ready 主要特点：1. 电子枪部分 RHEED电子枪是专门为进行衍射研究所设计的电子光学系统，其能量范围从10到30keV。通过结合静电和磁部件，保证了电子枪具有高亮度、小斑点、低分散和极低放气率的特征。电子枪可以完全安装在腔体外面，可以原位保养，可以烘烤。如果配备了差分抽气系统，还可以在高压环境下使用。 2. 控制电源部分 设计紧凑的提供30KeV能量的电子枪电源控制部分，由电子元件制造。电子枪的设置参数，如能量、灯丝电流、束流强度等都可以数字形式在显示器上显示，而且可以通过一个简洁的控制面板远程控制调节束流强度、聚焦位置等。系统具有自我诊断能力，可以快速全面地对RHEED系统进行检查。 3．电子束光阑 通过电子束光阑可以控制束流的开关，这样可以保证样品上极低的电子负荷。光阑开关信号也可同时被外部信号触发，这样就使得RHEED可以在有干扰磁场下使用，并可以用来研究旋转样品。 4. 电子束摇摆 为了做RHEED分析，电子束以掠角方式入射样品。 独特的电子束摇摆特征，允许调节和变化电子束入射角度，而不用移动样品。这个特征在对固定位置的样品进行分析测试时是非常有用的 5．差分抽气系统 通常的电子枪是为在如10-4 torr 这样较高压力条件下工作设计的，但是这样必然导致灯丝寿命的缩短。带有差分抽气系统选项的RHEED系统， 保证了可以在高压和有反应气体存在的环境下进行日常的操作。对灯丝部分的高效抽气，使得RHEED系统同其他系统相比有无与伦比的灵活性。 6. 计算机控制 RHEED系统可以完全由计算机来控制。电子枪控制部分包括一个界面模块和一个软件包，这保证了RHEED的使用灵活性，和可重复性。 用户自己设定的参数可以被保存并调入，通过电子束光阑可以控制电子束的开关，使用电子束摇摆特征可以调节电子束入射角度。 7. 荧光屏 提供各种尺寸的荧光屏，它们有高空间分辨率和对比度。荧光屏上的镀铝保护涂层确保荧光屏有好的电接触特性，并可以屏蔽掉从真空腔来的一些游离光线，从而提高RHEED图像的对比度。 8．数据采集和分析系统 RHEED Vision 是一套可以同现存的各种RHEED系统配套使用的功能强大的数据采集软件， 它可以同时进行图像处理和实时数据分析。并且有很多可选的数据缩减程序。另外还提供其它的硬件控制模块，如锁相外延生长，快门控制，激光脉冲触发器等。

反射式空间光调制器产品介绍：反射式液晶光阀是LCD与CMOS集成电路有机结合的反射型新型显示技术，反射式液晶光阀作为新型SLM具有高对比度，高光效、高分辨率、省电等诸多优势。因为反射式液晶光阀技术借硅基CMOS集成电路技术，在单晶硅片上CMOS阵列取代a-SiTFT-LCD中玻璃基板上a-SiTFT阵列，而且可以周边驱动电路集成一体，甚至可以集成信息处理系统。反射式的空间光调制器不仅可以对振幅进行调制，而且可以实现纯相位调节。产品特点： 采用美国LCOS的液晶光阀具有优良的反射波前特性（每一片液晶光阀都通过干涉仪进行严格的检验）高光学效率（一般都能达到60%以上）开口率高（一般都能达到90%以上）高对比度（一般都能达到2000:1以上）高衍射效率灵活的系统配置安静、低振动操作 全固态器件结构即插即用简易安装安全的低电压操作有好的图形界面全用户编程 系统配置表： 根据客户需要选定适合的LCOS液晶光阀选择配套的驱动控制器高性能PBS（可选配件）连接组件：/1.5m串口电缆1.5m视频电缆基于Windows XP/Windows 2000系统下控制软件电源适配器：DC+4.5V~+5.5V/2A空间光调制器使用说明书，控制软件的数据光盘 型号参数一：型号RSLM-HD70-A/PRSLM-2K55-A/PRSLM-4K70-ARSLM-4K70-P调制类型振幅兼相位振幅兼相位振幅调制纯相位液晶类型反射式反射式反射式反射式灰度等级8位，256阶8位，256阶8位，256阶8位，256阶像素数1920×10801920×10804096×24004096×2400像元大小8.0μm6.4μm3.74μm3.74μm有效像面尺寸15.36mm×8.64mm12.29mm×6.91mm15.32mm×8.98mm15.32mm×8.98mm相位范围 2π 632mm 2π 632mm对比度＞2000:1＞1000:1＞1000:1＞1000:1填充因子＞87%＞93%＞89%＞89%帧频60Hz60Hz 120Hz 240Hz 480Hz60Hz 120Hz 240Hz 480Hz60Hz 120Hz 240Hz 480Hz使用温度-5°C-55°C-5°C-55°C-5°C-55°C-5°C-55°C衍射效率75% 550mm75% 550mm75% 550mm75% 550mm最大光强2w/cm22w/cm22w/cm22w/cm2光谱范围420nm-1100nm420nm-1100nm420nm-1100nm420nm-1100nm数据接口DVIHDMIHDMIHDMI 型号参数二：型号RSLM-HD70-VISRSLM-HD70-NIRRSLM-HD70-NIR2RSLM-HD70-TELCO调制类型纯相位调制纯相位调制纯相位调制纯相位调制液晶类型反射式反射式反射式反射式灰度等级8位,256阶8位,256阶8位,256阶8位,256阶像素数1920×10801920×10801920×10801920×1080像元大小8.0μm8.0μm8.0μm8.0μm有效像面尺寸15.36mm×8.64mm15.36mm×8.64mm15.36mm×8.64mm15.36mm×8.64mm相位范围2π2π405mm 7.7π2π543mm 4.9π633mm 3.7π850mm 2.7π1064mm 2π对比度 ≥2000:1填充因子＞87%87%87%90%帧频60Hz60Hz60Hz60Hz响应时间25ms30ms30ms40ms衍射效率60%60%60%60%最大光强2W/cm22W/cm22W/cm22W/cm2光谱范围420nm-700nm1000nm-1064nm400nm-1100nm1550nm数据接口DVIDVIDVIDVI

产品介绍 空间光调制器（SLM）是一种对光的空间分布做特性调制的设备，其主要是利用电信号对光信号（光波的振幅、相位、偏振态甚至是波长）来做调制。空间光调制器是应用于光学、光电混合系统进行光互连、光学相关、光计算、模式识别、图像处理和显示技术等方面的关键器件。液晶空间光调制器具有效率高、能耗低、速度快、质量好的特点，在目前空间光调制器市场占据绝对的领导地位。LCOS为反射式的SLM，有高反射率、高光利用效率、小像素尺寸（大衍射角度）的优势，已被广泛应用在各相关领域。技术优势采用高稳定性LCOS芯片为核心光调制元件1080P高清大分辨率外形小巧，结构紧凑，便于集成高刷新率，高性价比适用于光场调控、全息投影、物理光学实验、AR设备开发、计算成像与相干衍射、投影成像与结构光等领域通用参数调制类型纯相位液晶类型反射式像素1920X1080像元尺寸6.37*6.37um相位范围＞2.1π@650nm刷新率60Hz灰度等级8位，256阶光谱范围420~700nm靶面尺寸12.29mm*6.91mm填充因子93%反射率75%@532nm最大光强1-2W/cm² 数据接口HDMI品牌PLCTS产品实图实验搭建案列应用领域适用于光场调控，全息投影，物理光学实验室，AR设备开发，计算成像与相干衍射，投影成像与结构光等领域

反射式空间光调制器产品介绍：反射式液晶光阀是LCD与CMOS集成电路有机结合的反射型新型显示技术，反射式液晶光阀作为新型SLM具有高对比度，高光效、高分辨率、省电等诸多优势。因为反射式液晶光阀技术借硅基CMOS集成电路技术，在单晶硅片上CMOS阵列取代a-SiTFT-LCD中玻璃基板上a-SiTFT阵列，而且可以周边驱动电路集成一体，甚至可以集成信息处理系统。反射式的空间光调制器不仅可以对振幅进行调制，而且可以实现纯相位调节。产品特点： 采用美国LCOS的液晶光阀具有优良的反射波前特性（每一片液晶光阀都通过干涉仪进行严格的检验）高光学效率（一般都能达到60%以上）开口率高（一般都能达到90%以上）高对比度（一般都能达到2000:1以上）高衍射效率灵活的系统配置安静、低振动操作 全固态器件结构即插即用简易安装安全的低电压操作有好的图形界面全用户编程 系统配置表： 根据客户需要选定适合的LCOS液晶光阀选择配套的驱动控制器高性能PBS（可选配件）连接组件：/1.5m串口电缆1.5m视频电缆基于Windows XP/Windows 2000系统下控制软件电源适配器：DC+4.5V~+5.5V/2A空间光调制器使用说明书，控制软件的数据光盘 型号参数一：型号RSLM-HD70-A/PRSLM-2K55-A/PRSLM-4K70-ARSLM-4K70-P调制类型振幅兼相位振幅兼相位振幅调制纯相位液晶类型反射式反射式反射式反射式灰度等级8位，256阶8位，256阶8位，256阶8位，256阶像素数1920×10801920×10804096×24004096×2400像元大小8.0μm6.4μm3.74μm3.74μm有效像面尺寸15.36mm×8.64mm12.29mm×6.91mm15.32mm×8.98mm15.32mm×8.98mm相位范围 2π 632mm 2π 632mm对比度＞2000:1＞1000:1＞1000:1＞1000:1填充因子＞87%＞93%＞89%＞89%帧频60Hz60Hz 120Hz 240Hz 480Hz60Hz 120Hz 240Hz 480Hz60Hz 120Hz 240Hz 480Hz使用温度-5°C-55°C-5°C-55°C-5°C-55°C-5°C-55°C衍射效率75% 550mm75% 550mm75% 550mm75% 550mm最大光强2w/cm22w/cm22w/cm22w/cm2光谱范围420nm-1100nm420nm-1100nm420nm-1100nm420nm-1100nm数据接口DVIHDMIHDMIHDMI 型号参数二：型号RSLM-HD70-VISRSLM-HD70-NIRRSLM-HD70-NIR2RSLM-HD70-TELCO调制类型纯相位调制纯相位调制纯相位调制纯相位调制液晶类型反射式反射式反射式反射式灰度等级8位,256阶8位,256阶8位,256阶8位,256阶像素数1920×10801920×10801920×10801920×1080像元大小8.0μm8.0μm8.0μm8.0μm有效像面尺寸15.36mm×8.64mm15.36mm×8.64mm15.36mm×8.64mm15.36mm×8.64mm相位范围2π2π405mm 7.7π2π543mm 4.9π633mm 3.7π850mm 2.7π1064mm 2π对比度 ≥2000:1填充因子＞87%87%87%90%帧频60Hz60Hz60Hz60Hz响应时间25ms30ms30ms40ms衍射效率60%60%60%60%最大光强2W/cm22W/cm22W/cm22W/cm2光谱范围420nm-700nm1000nm-1064nm400nm-1100nm1550nm数据接口DVIDVIDVIDVI 关于空间光调制器的详细信息请咨询上海尖丰光电技术有限公司。

反射式-超窄宽带滤光片（可低至20pm） 反射式超窄带宽滤光片是上海昊量光电提供的特殊滤光片产品，它的光谱带宽（FWHM）可以低至20pm。而目前市场上的滤光片产品带宽多是几个nm，窄的也仅能达到0.1nm，无法满足一些特殊客户的超窄带宽滤波需求。 反射式超窄带宽滤光片（低至20pm）是体布拉格光栅（VBG）的一种，是基于全息曝光方式且以光敏玻璃（PTR）材质为基底材料制作，半高全宽（FWHM）可低至20pm，是一款高性能的滤光片。目前已经有一些窄带滤光片应用在量子光学、太赫兹光谱、超快光谱，窄线宽激光等应用领域。 反射式超窄带滤光片产品主要特点：衍射效率：up to 95% FWHM： 可低至20pm高损伤阈值5J/cm2，1064nm,10ns （可选）；尺寸大小：5mm x 5mm, up to 30mm x 30mm；波长： 400-3000nm 范围可选 比如工作波长：405nm,530nm,630nm,780nm,795nm,800nm, 810nm,813nm,863nm,895nm,1030nm,1064nm,1341nm,1522nm，2200nm等 超窄带滤波的实现，同样对光源具有较高的要求，注意事项如下： 1、光源发散角大小 （若要获得较高的衍射效率，发散角越小越好）！ 2、入射角和衍射角的角度设定 3、光斑大小 若有超窄带滤波需求，欢迎咨询我们技术销售同事！ 图1、 1064nm, FWHM=23pm 示例 图2、 反射式超窄带滤光片工作示意图更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。

产品描述：带有反射式靶（也称定向靶）的X射线管，可以集成靶的冷却系统，以获取比透射式靶更高的电子能量，目前最高电压300kV的反射式射线源上市。SE系列产品专为CT扫描应用优化的开放式微焦点X射线管 带反射式靶特点* 最高管功率350 Watt / 300 kV* 自动强度控制（AIC），用于射线连续运行时的强度控制* 射线管自动校准，以优化性能* 自动排气功能，延长真空组件的使用寿命* 独有RTU阴极灯丝单元和射线管自动排气功能，使维护更简便* 无限期的使用寿命技术参数单应用领域汽车工业的X射线无损检测，如：* 电子组件* 电子控制单元* 微型机械装置* 插头和压接件* 电池盒航空航天领域的X射线无损检测，如：* 机械组件如阀或襟翼制动器* 导管或风管的环向电子束焊（EB）焊缝检测* 转子叶片、涡轮叶片* 飞机涡轮* 电子组装* 小型钛和铝铸件* 钛铝铸件* 复合材料

蛋壳颜色测定仪，光电反射式蛋壳颜色测定仪，光电反射式色度仪 蛋壳颜色测定仪，蛋壳的均匀性 是鸡蛋质量的总标志，属于蛋壳颜色检测设备，鸡蛋品质检测设备。蛋壳颜色测定仪主要应用于畜牧家禽 动物营养以及食品科学领域，是各个大学以及企业检测鸡蛋品质的设备 蛋壳颜色测定仪中国总代：铭奥国际有限公司 蛋壳颜色测定仪参数： 重复性精度：≤0.03；双定位功能；可充电的锂离子电池Φ4mm测量口径 蛋壳颜色测定仪，光电反射式蛋壳颜色测定仪，光电反射式色度仪供应

多功能X射线衍射/反射仪多功能X射线衍射/反射仪提供科研开发工作所需的各种X射线测试解决方案简介 Jordan Valley公司zui新设计的Delta-X是多功能的X射线衍射设备，可灵活应用于材料科学研究、工艺开发、与生产质量控制。Delta-X衍射仪的光源台和探测台的光学元件可以全自动化调控，并采用水平式样品台。Delta-X衍射仪可以在常规衍射模式、高分辨率衍射模式、X射线反射模式之间灵活切换。光学配置的切换完全在菜单式程序控制下由计算机完成，无需手动操作。自动化切换和准直不需要专门人员和操作设备，并确保每次切换都能达到zui佳的光学准直状态。 常规的样品测量可以通过Delta-X衍射仪，实现部分、乃至完全的自动化运行，自动化测量程序可以依客户需求进行专门定制。也可采用完全的手动模式操作Delta-X衍射仪，以便发展新测量方法，研究新材料体系。 数据分析或拟合可以作为测量程序的一部分，可实现完全自动化，也可依据需要单独进行数据分析。 依半导体生产线的需求，将RADS和REFS拟合软件以自动化模式运行，允许在没有用户干扰的情况下自动完成常规性的数据分析，并直接完成数据拟合和结果输出。RADS和REFS也可以单独安装，以便进行更详细的数据分析。 Delta-X 衍射仪的主要特点和优势n 自动化进行样品准直、测试、和数据分析n 客户可以自行设定测量的自动化程度n 300mm的欧拉环支架(Eulerian Cradle)设计，高精度的样品定位和扫描n 300mm的晶片水平式放置，且可以完整mappingn 100o的Chi轴倾转范围、无限制范围的Phi轴旋转空间，可实现极图和残余应力测试n 智能化的光学配置切换和准直。依测量需要，自动选择光学配置并实施光学准直n 工业界先的设备控制软件和数据分析软件n 高分辨率测角仪，以保证精密且准确的测量n 高强度的光源台设计和光学元件组合，以实现快速测量n 多方面广泛的测试技术和测量参数n 由拥有超过30年的高分辨率X射线衍射经验的世jie级专家设计、制造，具有全球客户经验。

QUASAR-R100 是一款体积小巧的光谱反射式膜厚、折射率测量仪器，操作简单，极易上手，应用广泛，快速准确的提供各种薄膜厚度的测量，如氧化物、氮化物、多晶硅、非晶硅、聚酰亚胺、透明导电层、光刻胶等介质薄膜、半导体薄膜以及各种涂层。产品特点 多参数测量可测量材料厚度、折射率（Refractive Index）、 消光系数（Extinction Coefficient）和反射率。 各种形状样品测量可测量例如4~8英寸的晶圆、方形样品或其他各种不规则形状样品。 软件功能丰富友善的用户界面以及灵活丰富的软件功能，各种丰富的数据分析及查看功能。 简单、易用测量流程简单，用户极易上手建立测量程式。 产品参数 ★Si基底上对厚度约500nm的SiO2薄膜样品连续测量30次数据的标准偏差 定制功能可根据客户需求搭配自动运动平台可根据客户需求配置小光斑

高功率X射线衍射仪EVASTAR Y2EVASTAR Y2 高功率X射线衍射仪是一款结合大功率的X射线光源和高探测效率的X射线光子直读二维阵列探测器的桌面型衍射仪，是目前市面上数据测量强度最高的桌面型衍射仪。 EVASTAR Y2 的高压发生器为1200 瓦(40kV,30mA), 测角仪为theta-theta结构，仪器标配的是256X256像素的光子直读探测器，在保证了精确的测量数据的同时，绝大多数的粉末样品测量可以在几分钟内获得强度和信噪比俱佳的衍射数据。 应用领域：粉末衍射，薄膜掠入射（GID）测量，反射率（XRR）测量，残余应力（residual stress）测量 技术参数　　仪器尺寸和重量900毫米X680毫米X550毫米，100公斤X射线管1200WX射线管靶材常规封闭靶，Cu靶或Co靶可选测角仪立式θ-θ，测角仪半径170毫米探测器光子直读二维阵列探测器探测器能量分辨率0.2角度范围0°～150°角度精度±0.01°刚玉粉末的测试数据（10度/分钟）三元材料的XRD谱图，黑色为普通测量模式数据，蓝色的是去荧光模式数据水泥样品的无标样定量分析石墨化度测量微晶玻璃样品的测量三元材料的衍射图谱和结构精修反射式原位电池测量20纳米 ITO/玻璃的反射率测量曲线20纳米 ITO/玻璃的GID测量曲线Al金属残余应力测量数据Al金属残余应力测量计算

光催化反应器，三联光催化反应器，反射式三联光催化反应器，反射式恒温高通量光催化反应器，光催化反应器，产品名称：反射式三联光催化反应器产品类型：光催化反应釜反射式三联光催化反应器产品名称反射式三联光催化反应器 （基础型）反射式三联光催化反应器 （Pro专家型）制冷形式双半导体模块制冷压缩机制冷，直流变频压缩机， R134a环保制冷剂名义制冷量110W×2130-455W制冷消耗功率 （含风机）400W70-220W空载zui低制冷温度18℃10℃带载zui低制冷温度28℃15℃温度控制方式ON/OFF位式调节直流变频，制冷量无极调节恒温精度±1℃±0.2℃装置形式一体式主机+反应腔模块化， 反应模块可任意快拆快装替换搅拌转速0-1000rpm0-1000rpmLED灯电源输出4路预留，24V 8A4路预留，24V 8A总功率（含光源）600W400W反射式恒温高通量光催化反应器（基础型） 反射式三联光催化反应器1、创新性的采用多面反射式设计，将传统光化学反应单面照射改进为前部后部、下部三面照射，使得反应管内的溶液能够更均匀的接受光照；2、内置半导体制冷恒温系统，能够保证反应室内温度在三台Kess灯满功率照射时，温度不高于25℃，减少了光源的热效应对反应的影响，确保实验数据的准确可靠；3、内置磁力搅拌系统，搅拌转速0-1000pm连续可调4、可按需定制适配多种反应试管、Schlenk管、反应瓶的支架，可轻松实现多联高通量实验；5、这个催化装置是专为Kessel光源设计的，能解决传统直接照射式的光催化反应热效应大、照射不均的问题。反射式三联光催化装置（Pro专家型） 反射式三联光催化反应器1、主机外壳采用碳钢喷塑，反应腔体采用蓝色尼龙板，二者快拆式锁扣连接；2、采用模块化设计，反应模块可任意快拆快装替换；3、个性化需求。可根据实验需要，换装不同尺寸规格和照射形式的反应腔体，实现一机多用；4、采用直流变频压缩机，更好的控温精度和效果；5、磁力搅拌采用3个独立电机分别驱动，性能更可靠；6、压缩机的内置隐形设计，美观且小巧。

北京中瑞祥彩色反射式密度仪ZRX-8678 彩色反射式密度仪是采用新的半导体LED光源术和微电子术，中文显示，放弃了传统密度计普遍采用的普通光源加滤色片术，因而结构小巧，作稳定可靠，是适合于内印刷车间日常频繁检测用的简易便携式密度仪，为印刷质量过程控制的仪器。 　　ZRX-8678彩色反射式密度仪测量的密度、网点数据和爱色丽530密度仪测量的数据基本致。 　　 　　能： 　　标准校正白板校零 　　白纸上清零 　　自动颜色识别 　　密度和密度差 　　相对密度和密度差 　　灰平衡——自动计算出测量点的灰平衡 　　网点面积百分数 　　网点扩大率 　　ZRX-8678彩色反射式密度仪术参数： 　　显示：47x23mm视域汉字液晶 　　测量几何：0°／45°环形镜头系统 　　光源：LED光源 　　测量范围： 　　0-2.5D（密度） 　　0-100％（网点面积） 　　重复误差范围：±0.01D（密度） 　　±1％（网点面积） 　　线性度：±0.01D 或±1％ 　　仪器台间差：±0.02D 　　测量孔径：φ3.5mm 　　偏光镜：用户可选择有无 　　测量时间：大约1.2秒 　　电源：可充电的锂电池 　　每次充电可测量次数：大约14000次 　　预热时间：无须预热 　　作温度范围：10-35℃ 　　体积：123mm×67mm×55mm 　　重量：大约300克 　　附件：标准校正白板、操作说明书、充电器、印刷测控条、保修卡

1.产品介绍 本系统应用于光电实验室，定位于实验室教学、并包含衍射、双缝干涉、 Talbot 影像、菲涅尔波带片、迈克尔逊干涉、计算全息再现、阿贝-波特实验、 光束变换等数十种光学实验的反射式多功能光学教学系统。 产品理念：改变一成不变的课堂，让激光科学向下扎根；因材施教，为培养高层次技能型人才添砖加瓦。 应用场景：光电实验室 使用对象：高校光学、光电、理工类专业实验内容：共 18 个，包含迈克尔逊干涉、衍射、计算全息、光束变换等 产品特点：①调试空间大、锻炼动手能力；②合理化实验、含经典与前沿；③灵活可编程、课程设计开放；④自主化软件、参数实时可调。 2.规格参数 产品名称 反射式多功能光学教学系统 品牌 中科微星 规格型号 F-MOES 实验内容 18 个光学实验，包括：波长测量、振幅调制、SLM 对 偏振态的调制、实时图像变换、Talbot 影像、阿贝-波 特实验、空间滤波实验、成像与投影、衍射、双缝干 涉、双缝干涉法研究 SLM 的相位调制量、迈克尔逊干 涉、计算全息再现、菲涅尔波带片、光束变换、平面波 与其他波形的干涉、像素大小的测量、移相式数字全息准直镜数量/焦距 1 个/ f=50.8mm 聚焦镜数量/焦距 3 个/ f=85mm & f=250mm SLM 分辨率 1920×1080 SLM 像元大小 8μm SLM 相位范围 2π@532nm SLM 光利用率 75%±5% 视频接口 DVI 电源输入 0-3V 可调（激光器）/5V 3A（SLM）/9V 1A（功率 计） 采集图像分辨率 2048×1536、1920×1440、1600×1200、1440× 1080、1280×960、1024×768 等，可根据需要选择 软件功能 包括：菜单栏、选择项、实验选择区、图形控制区、光 路图显示区、实验原理介绍区以及图像显示区；基于菜 单栏可以在分辨率中选择对应调制器的分辨率；基于选 择项可以根据需要选择振幅调制和相位调制；基于实验 选择区域可根据需要选择相应的实验；基于 C#语言开发，Windows 7 及以上 32/64 bit 运行环境；可进行 图像导入和保存 包装箱外形尺寸 480mm×430mm×230mm，包装箱内部分上下两层设计 其他 配置物镜，针孔滤波器，功率计，CCD 等 3.软件功能 软件主界面如上图所示，主界面主要分为以下几个部分：菜单栏、选择 项、实验选择区、图形控制区、光路图显示区、实验原理介绍区以及图 像显示区。 菜单栏：显示分辨率大小；选择项：可根据实验需要在振幅调制和相位调制中进行选择；实验选择区域：此区域主要是与选择项一一对应，当选择不同调制类型 时，对应的实验也随之不同；图形控制区域：此区域主要是通过设置相关实验的关键参数来实现不同 实验参数下的实验效果，每种实验对应不同的图形控制区域；  图像显示区域：此区域主要是用于显示上述所选实验中生成的图像，并 将其实时同步显示到第二屏幕上，该模块主要为了便于操作者观测加载 到空间光调制器的图像是否正确而设计的图形显示区域；实验原理区域：实验原理区域主要是用简洁的文字介绍相关实验原理； 光路显示区域：该区域主要用于呈现出相关实验光路图。4.部分实验效果展示

反射率测量系统搭配的反射式积分球反射式积分球

NR系列蛋壳颜色仪用于测量蛋壳颜色，蛋壳的均匀性 是鸡蛋质量的总标志，主要应用于畜牧家禽 动物营养以及食品科学领域，是各个大学以及企业检测鸡蛋品质的设备 蛋壳颜色仪中国总代：南京铭奥仪器设备有限公司1、价格优惠；2、重复性精度：≤0.03；3、双定位功能；4、充电式锂离子电池5、手提式结构 ，Φ4mm测量口径，6、内置白板参数，无需进行校正；蛋壳颜色测定仪，蛋壳颜色检测仪 ，光电反射式蛋壳颜色测定仪供应

CDT离轴反射式平行光管Inframet生产的离轴反射式平行光管采用垂直结构，平行光管的焦平面位于反射镜垂直方向的上方。这种类型的平行光管实现了测试系统的简单化结构设计（仅需较小、较窄的光学平台）。而且，垂直结构的平行光管更为先进之处在于系统用于热像仪的测试时，垂直结构的黑体温度的均匀性要优于使用相同模块的水平结构。Inframet使用三个等级的离轴反射镜面： SR（标准分辨率）- 制造精度PV不低于λ/2在λ= 630nm。 HR（高分辨率）- 制造精度PV不低于λ/6在λ= 630nm（典型λ/10）。 UR（超高分辨率）-制造精度PV不低于λ/10在λ= 630nm。 SQ（极高分辨率）-制造精度PV不低于λ/14在λ= 630nm。Inframet采用典型的保护铝镀膜作为反射镜的镀膜材料，如果在可见光-近红外波段达到均匀的反射率，则保护铝镀膜可以作为次反射平面镜或者两面反射镜的镀膜材料。如果在远红外波段需要达到非常高的反射率则需要使用保护金作为辅助镜（或者两个反射镜）的材料。我们可以根据您所需口径和焦距精度等提供定制化平行光管，满足您的需求。

产品规格型号 ： LabScan XE光学系統： 0°/45°反射式 15点环形侦测、双光束回授分光接收器：精密光栅分光系統，256点矩阵式矽光接收器光谱范围： 400...700nm 解析度3nm、带宽10nm光度范围： 0...150% 解析度0.003%再现性： ?E*0.09 @标准白板测口直径： ?44mm照明 ?50mm侦测 大/小测口自动双焦镜头(选配)标准光源： 氙气闪光灯(CIE D65)测量室/口：可向上/橫向测量或朝下测量(需选配支架)连接埠： RS232C电源供应： 100-240VAC产品简介　　用途广的 LabScan.XE 分光色差仪，采用 0°/45° 反射式光学系统，与肉眼察物体原理相同，光学评价与实际感观为接近。适用于塑胶、纺织品、涂料、食品、纸业、化学、制药、建材...... 多种行业。不论液体、粉体、半透明或不透明固体之反射值均可测量。內建黑板、白板、绿板三色标准片，可全自动标准化校正，大幅提高色彩度。光源采用氙气闪光灯，搭配双光束光学系統，几乎永久无需保养。在实验室或生产线，配合 EasyMatch 色差分析软件，与Windows 系统完全相容，轻松完成品质检验或专业色彩分析。产品特色　0°/45° 系統，光学评价与肉眼接近同時考虑表面光泽度影响，测值更直径 50mm 大测口，纺织品测试准确配合样本特性，测口朝上或侧向均可测量不透明、半透明、固体、液体、粉体、糊状物... 各种样本均可测试双光束氙气闪光灯，几乎永久无需更换 (符合 D65 标准)內建标准片全自动标准化，度高无风扇、无空气芯，噪音低，不需保养可搭配喷墨印表机(HP/Epson)，输出色系图形、分光反射率、任何荧幕画面EasyMatch 色差分析软件相容 Windows美国原装进口 (HunterLab 牌)

X射线衍射仪 (XRD) 伊凡智通软包电池作为电池和电池材料的一种组装方式，在科研和工业领域发挥越来越重要的作用。原位XRD作为表征电池材料在充放电过程中的结构变化重要手段，也已被学术和工业界广泛接受。常规原位XRD采用的是反射式的扣式电池模具，虽然组装方便，可以重复使用，但由于密封性的问题，其长期循环性往往得不到保证。而软包电池可以循环上千次，更有利于研究材料的长期循环性能。软包电池原位透射XRD系统采用钼靶X光管，光学器件为聚焦Johansson单色器。 探测器为1维阵列X射线探测器。X射线从软包电池的一侧垂直入射，衍射光从另外一侧穿出后汇聚在探测器表面。从而获得高强度和高分辨的X射线图谱。原位透射XRD可以获得软包电池全部深度范围内的衍射信号，而且可以同时获得正负极材料的原位XRD信息。原位透射XRD允许样品具有特定的厚度，尤其是聚焦透射XRD，样品可以具有一定的厚度而衍射峰的分辨率不受影响。X射线衍射仪 (XRD) 伊凡智通本设备可以和电化学工作站连用， 实现充放电和XRD数据采集的精确控制。 软包样品台可以实现-30摄氏度到300摄氏度的温度控制， 以进行软包电池在不同温度下的原位XRD测试和电池的高温失效研究。 原位透射XRD光路示意图钴酸锂软包电池原位透射XRD数据展示 单个数据测量时间： 300秒

Thorlabs提供三种反射光栅:刻线光栅刻线光栅由于其闪耀角，可以达到比全息光栅更高的效率。它们是以光栅闪耀角为中心的应用的理想选择。Thorlabs提供各种尺寸和闪耀角的刻划光栅。全息光栅全息光栅有较低的周期错误，基本消除了刻划光栅无法避免的鬼线。这些光栅的低杂散光特性让其成为需要高信噪比应用的理想选择，例如拉曼光谱仪。阶梯光栅阶梯光栅是为高阶应用设计的低周期光栅。它通常配合另一个光栅或棱镜一起使用，实现重叠衍射级次的分离。是高分辨率光谱学应用的理想选择。 Thorlabs提供三种透射光栅：紫外透射光栅关于透射光栅，Thorlabs的紫外透射光栅使入射光束在光栅背面以固定角度发生色散。它们是在紫外范围内有最佳效率的刻划和闪耀光栅，偏振不敏感，具有与紫外反射光栅相当的效率。它们是需要固定光栅应用的理想选择，例如光谱仪。可见光透射光栅关于透射光栅，Thorlabs的可见光透射光栅使入射光束在光栅背面以固定角度发生色散。它们是在可见光范围内有最佳效率的刻划和闪耀光栅，偏振不敏感，具有与可见光反射光栅相当的效率。它们是需要固定光栅应用的理想选择，例如光谱仪。近红外透射光栅关于透射光栅，Thorlabs的近红外透射光栅使入射光束在光栅背面以固定角度发生色散。它们是在近红外范围内有最佳效率的刻划和闪耀光栅，偏振不敏感，具有与近红外反射光栅相当的效率。它们是需要固定光栅应用的理想选择，例如光谱仪。 选择光栅需要考虑很多因素，下面列举了一些：效率：通常，刻划光栅比全息光栅具有更高的衍射效率。然而，全息光栅由于其刻槽的制备方法，其表面效率变化很小。荧光激发和其它辐射诱导反应方面的应用可能需要刻划光栅。闪耀波长：刻划光栅通过有序的蚀刻光栅基底表面形成，带有锯齿型槽光栅剖面。因此在闪耀波长附近有相对尖锐的峰。而全息光栅很难闪耀，其正弦曲线状的槽使其在特定波长的光谱响应不那么尖锐。窄带范围内的相关应用更适合选用刻划光栅。波长范围：光栅的光谱范围取决于槽间距，并且对于光栅常数相同的刻划光栅和全息光栅，其光谱范围相同。根据经验，光栅的一级效率从0.66&lambda B到1.5&lambda B降低50% ，其中&lambda B是闪耀波长。注意：没有光栅可以衍射波长大于槽间距2倍的光。杂散光：由于光栅制作方法的不同，全系光栅相比于刻划光栅，其杂散光更低。刻划光栅的刻槽是机械制作，因此有更高的错误率。全息光栅一次成型，基本没有失误。对于像拉曼光谱仪这种对信噪比要求很高的应用，全息光栅固有的低杂散光具有很大的优势分辨率：光栅的分辨率是指其具有的在空间上分开两个波长的能力。它是采用瑞利判据决定衍射极大值；当一个波长的最大值与第二波长的最小值重合时，认为两个波长是分开的。分辨率（R）是由R=&lambda /&Delta &lambda = nN定义的，其中&Delta &lambda 是可分辨的波长差，n为衍射级次，N是刻线数。刻线式衍射光栅 全息衍射光栅 中阶梯光栅 UV透射光栅 透射率可变光栅 近红外透射型光栅 300纳米闪耀波长Zoom Item #Grooves/mmBlaze AngleDispersion (nm/mrad)Size (mm)Efficiency Curves*300 nm Blaze WavelengthGR25-03033002° 34' 3.3325 x 25GR50-06036005° 9' 1.6750 x 50GR13-1203120010° 22' 0.8212.7 x 12.7*所有光栅都是在Littrow结构下测量的；所有光栅镀有铝（Al）反射膜。平行的偏振平行于光栅槽。 400纳米闪耀波长Zoom Item #Grooves/mmBlaze AngleDispersion (nm/mrad)Size (mm)Efficiency Curves*400 nm Blaze WavelengthGR25-1204120013° 53' 0.8125 x 25GR50-1204120013° 53' 0.8150 x 50*所有光栅都是在Littrow结构下测量的；所有光栅镀有铝（Al）反射膜。平行的偏振平行于光栅槽。500纳米闪耀波长Zoom Item #Grooves/mmBlaze AngleDispersion (nm/mrad)Size (mm)Efficiency Curves*500 nm Blaze WavelengthGR13-03053004° 18' 3.3212.7 x 12.7GR25-03053004° 18' 3.3225 x 25GR50-03053004° 18' 3.3250 x 50GR13-06056008° 37' 1.6512.7 x 12.7GR25-06056008° 37' 1.6525 x 25GR50-06056008° 37' 1.6550 x 50GR13-1205120017° 27' 0.8012.7 x 12.7GR25-1205120017° 27' 0.8025 x 25GR50-1205120017° 27' 0.8050 x 50GR13-1850180026° 44' 0.5012.7 x 12.7GR25-1850180026° 44' 0.5025 x 25GR50-1850180026° 44' 0.5050 x 50*所有光栅都是在Littrow结构下测量的；所有光栅镀有铝（Al）反射膜。平行的偏振平行于光栅槽。750纳米闪耀波长衍射光栅Zoom Item #Grooves/mmBlaze AngleDispersion (nm/mrad)Size (mm)Efficiency Curves*750 nm Blaze WavelengthGR13-060860013° 0' 1.6212.7 x 12.7GR25-060860013° 0' 1.6225 x 25GR50-060860013° 0' 1.6250 x 50GR13-1208120026° 44' 0.7412.7 x 12.7GR25-1208120026° 44' 0.7425 x 25GR50-1208120026° 44' 0.7450 x 50*所有光栅都是在Littrow结构下测量的；所有光栅镀有铝（Al）反射膜。平行的偏振平行于光栅槽。1微米闪耀波长衍射光栅Zoom Item #Grooves/mmBlaze AngleDispersion (nm/mrad)Size (mm)Efficiency Curves*1 µ m Blaze WavelengthGR13-03103008° 36' 3.3012.7 x 12.7GR25-03103008° 36' 3.3025 x 25GR50-03103008° 36' 3.3050 x 50GR13-061060017° 27' 1.5912.7 x 12.7GR25-061060017° 27' 1.5925 x 25GR50-061060017° 27' 1.5950 x 50GR13-1210120036° 52' 0.6712.7 x 12.7GR25-1210120036° 52' 0.6725 x 25GR50-1210120036° 52' 0.6750 x 50*所有光栅都是在Littrow结构下测量的；所有光栅镀有铝（Al）反射膜。平行的偏振平行于光栅槽。10.6微米闪耀波长衍射光栅Zoom Item #Grooves/mmBlaze AngleDispersion (nm/mrad)Size (mm)Efficiency Curves*10.6 µ m Blaze WavelengthGR1325-071067521° 12.312.5 x 25GR2550-071067521° 12.325 x 50GR1325-1010610027° 8.512.5 x 25GR2550-1010610027° 8.525 x 50GR1325-1510615035° 4.212.5 x 25GR2550-1510615035° 4.225 x 50*所有光栅都是在Littrow结构下测量的；所有光栅镀有铝（Al）反射膜。平行的偏振平行于光栅槽。反射式全息光栅特性峰值波长下效率可达45％至65％优化了在紫外光谱、可见光谱下的性能不依赖于入射角基底材质：Borofloat玻璃三种尺寸规格：12.7x12.7x6.0mm，25x25x6.0mm以及50x50x9.5mmThorlabs提供一系列专为需要高信噪比的高端应用而优化设计的全息衍射光栅。全息光栅具有杂散光少的特点，基本消除了刻线光栅所无法避免的鬼线，使其成为拉曼光谱学等需要高信噪比的应用的理想解决方案。我们的全息光栅对紫外光谱和可见光谱段的性能进行了优化，并有刻线密度从600线/mm到3600线/mm不等的三种不同尺寸规格。三种尺寸分别是12.7x12.7x6.0mm，25x25x6.0mm以及50x50x9.5mm，尺寸公差± 0.5mm。 阶梯光栅的特别注意事项光栅方程: 一般光栅方程如下： n&lambda = d(sin &theta + sin &theta ' )其中n是衍射级次，&lambda 是衍射波长，d是光栅常数（两个刻槽间的距离）&theta 是入射角，&theta ' 是衍射角自由光谱范围: 自由光谱范围是指没有和相邻衍射级次发生干涉（重叠）时的指定级次的最大带宽。自由光谱范围随着光栅间距的减小而增加，随着级次的增加而较小。如果&lambda 1，&lambda 2分别是感兴趣的波长下限和上限，那么：自由光谱范围=&lambda 2 - &lambda 1 = &lambda 1/n阶梯光栅的使用: 阶梯光栅极高的衍射角度将能量集中在高级次上。最简单的情况是光束以0° 角入射到光栅上，光栅方程简化为n&lambda = d sin &theta ' ，解方程得：sin &theta ' = n&lambda / d由此推论，在高阶中，两个波长之间的角距离变得更大。想象一下有两条线，一条为600 纳米，另一条为605 纳米，入射到31.6线/ 毫米的光栅上。从上面的方程可以得到，在N=1时角距离为0.009 ° ，但在N=40时角距离为0.6 ° 。缺点就是自由光谱范围的降低，从630纳米（630 纳米/1）降至15.8纳米（630 纳米/40）。通常，配合使用分光棱镜和阶梯光栅进行级次分离。

反射式血氧饱和度模拟器（SURPASS-A）主要特点1. 反射血氧饱和度模拟适用于反射式原理血氧传感器，是目前市场上唯一一款可以精准调节血氧饱和度数值且可以通过计量的模拟器；2. 模拟手指与主机直接相连，可以旋转，非常方便探头操作；3. 电磁兼容符合IEC60601-1-2最新版本要求，其中辐射骚扰符合 CLASS B 等级要求。主要功能可进行血氧饱和度模拟；可进行脉率模拟；预置病人状态模拟；可以对被测试仪器反应时间进行测试；可以模拟在不同灌注度下的血氧饱和度和脉率；可以测试被测仪器在不同干扰源下的性能；可以选择不同的R曲线。主要参数名称技术参数血氧饱和度测量范围35%～100％分辨率1%误差当血氧饱和度的测量范围在75%～100％，为±1％或±被测试仪器精度取大值；在74%～50％，为±3％或±被测试仪器精度取大值；小于50%无定义。脉率测量范围25bpm（次/分钟）～250bpm (次分辨率5bpm误差1%±1bpm灌注度测量范围测量范围：0.000%～20.000%分辨率分辨率：1.000%～20.000为1%；0.100%～0.900%为0.1%；0.000～0.075%为0.025%。病人状态预置24组状态，开机默认为8组，可通过设置运动等级来调整病人状态的组数。工作电压适配器DC 5V电池3.7V可充电锂电池，充放电不小于500次。电磁兼容辐射骚扰（RE）CLASS B辐射抗扰（RS）10V/米静电（ESD）空气8千伏，接触15千伏（注：非直接接触光学探头）其它符合YY0505：2012和IEC60601-1-2:2014