反射高能电子衍射仪

1.双波长透镜双波长透镜组的主要功能为将两个不同波长的入射光聚焦到相同的焦点上，如下图所示，采用常规的硒化锌材料透镜，将CO2激光以及HeNe激光的聚焦点整合到一起。示意图：选型表：型号波长（nm）输入孔径 1/e2（mm）工作距离（mm）直径（mm）材料镀膜DW-201-A-Y-A10600, 6334~1212515ZnSe防反射多层膜DW-202-A-Y-A10600, 6334~122019ZnSe防反射多层膜 2.平顶光束整形衍射平顶光束整形元件用于将一个高斯入射光变为强度均匀的平顶光束，具有很锐利的边缘，可以是圆形或方形。主要的应用包括激光烧蚀、激光焊接、激光打孔、激光显示器、激光医学及激光医疗等。示意图:相关参数： 区域内光束能量 (1/e² )光斑均匀性工作距离（mm）输入光束直径（mm）波长（nm）整形后光斑尺寸 下限 75%± 0.5%250.826615 &mu m 上限 75~98%± 20%Infinity25 mm10600100× 100mm选型表：型号波长（nm）直径（mm）输出孔径1/e2（mm）工作距离（mm）像尺寸1/e2光斑形状材料TH-205-A-Y-A1060025.441001.5mmRoundZnSeTH-003-A-Y-A1060012.73.742.5300× 100 µ mLineZnSeTH-215-I-Y-A106425.46infinity1mRadRoundFused SilicaTH-013-I-Y-A106425.47infinity1× 1degreeSquareFused SilicaTH-016-K-Y-A98025.47infinity0.9× 0.9degSquareFused SilicaTH-033-X-Y-A80025.46200.293 mmRoundFused SilicaTH-032-Q-Y-A53225.410.92002 mm @FWHMRoundFused SilicaTH-036-Q-Y-A53225.43.599.5200× 200 µ mSquareFused SilicaTH-209-U-Y-A35525.49x6200100 µ mRoundFused SilicaTH-217-U-Y-A35512.72100100× 100 µ mSquareFused SilicaTH-044-V-Y-A33720849.39520 µ mRoundFused SilicaTH-051-W-Y-A26625.454215 µ mRoundFused Silica 3.衍射校正聚焦镜常规的平凸透镜会产生不同位置的入射光焦点不一的问题。采用衍射校正透镜，是在常规平凸透镜的平面端刻蚀像差校正的衍射微结构，从而达到整个入射光的焦点归一，提高激光效率。示意图： 普通聚焦镜 衍射矫正聚焦镜选型表（部分）:型号波长（&mu m）有效焦距（英寸）直径（英寸） SE-1511 10.61.51.1 SE-2511 10.62.51.1 SE-2515 10.62.51.5

D8 ADVANCE X射线衍射仪，采用创造性的达芬奇设计，通过TWIN-TWIN光路设计，成功实现了BB聚焦几何下的定性定量分析和平行光几何下的薄膜掠入射GID分析、薄膜反射率XRR分析的全自动切换，而无需对光。通过TWIST TUBE技术，使用户可以在1分钟内完成从线光源应用（常规粉末的定性定量分析、薄膜的GID、XRR）到点光源应用（织构、应力、微区）的切换，让烦人的光路互换、重新对光等问题从此成为历史！高精度的测角仪可以保证在全谱范围内的每一个衍射峰（注意不是一个衍射峰）的测量峰位和标准峰位的误差不超过0.01度，布鲁克AXS公司提供全球保证！先进的林克斯阵列探测器可以提高强度150倍，不仅答复提高设备的使用效率， 而且大幅提高了设备的探测灵敏度。技术指标： ●Theta/theta 立式测角仪 ●2Theta角度范围：-110~168°●角度精度：0.0001度 ●Cr/Co/Cu靶，标准尺寸光管 ●探测器：林克斯阵列探测器、林克斯XE阵列探测器 ●仪器尺寸：1868x1300x1135mm ●重量：770kg 主要功能●TWIN / TWIN 光路布鲁克获得专利的TWIN-TWIN光路设计极大地简化了D8 ADVANCE的操作，使之适用于多种应用和样品类型。为便于用户使用，该系统可在4种不同的光束几何之间进行自动切换。该系统无需人工干预，即可在Bragg-Brentano粉末衍射几何和不良形状的样品、涂层和薄膜的平行光束几何以及它们之间进行切换，且无需人工干预，是在环境下和非环境下对包括粉末、块状物体、纤维、片材和薄膜（非晶、多晶和外延）在内的所有类型的样品进行分析的理想选择。●动态光束优化（DBO）布鲁克独有的DBO功能为X射线衍射的数据质量树立了全新的重要基准。马达驱动发散狭缝、防散射屏和可变探测器窗口的自动同步功能，可为您提供无与伦比的数据质量——尤其是在低2Θ角度时。除此之外，LYNXEYE全系列探测器均支持DBO：SSD160-2，LYNXEYE-2和LYNXEYE XE-T。●LYNXEYE XE-TLYNXEYE XE-T是LYNXEYE系列探测器的旗舰产品。它是目前市面上一款可采集0D、1D和2D数据的能量色散探测器，适用于所有波长（从Cr到Ag），具有高计数率和好的角分辨率，是所有X射线衍射和散射应用的理想选择。LYNXEYE XE-T具有优于380 eV的能量分辨率，着实出色，是市面上性能好的的荧光过滤器探测器系统。借助它，您可在零强度损失下对由铜辐射激发的铁荧光进行100％过滤，而且无需金属滤波片，因此数据也不会存在伪影，如残余K?和吸收边。同样，也无需用到会消除强度的二级单色器。布鲁克提供独有的LYNXEYE XE-T探测器保证：交货时保证无坏道！应用:●物相定性分析●结晶度及非晶相含量分析●结构精修及解析●物相定量分析●点阵参数精确测量●无标样定量分析●微观应变分析●晶粒尺寸分析●原位分析●残余应力●低角度介孔材料测量●织构及ODF分析●薄膜掠入射●薄膜反射率测量●小角散射

反射高能电子衍射仪（ReflectionHigh-Energy Electron Diffraction）是观察晶体生长最重要的实时监测工具。它可以通过非常小的掠射角将能量为10～30KeV的单能电子掠射到晶体表面，通过衍射斑点获得薄膜厚度，组分以及晶体生长机制等重要信息。因此反射高能电子衍射仪已成为MBE系统中监测薄膜表面形貌的一种标准化技术。　　R-DEC公司生产的反射式高能电子衍射仪，以便于操作者使用的人性化设计，稳定性和耐久性以及拥有高亮度的衍射斑点等特长得到日本国内及海外各研究机构的一致好评和认可。用于有机薄膜晶体结构检测。世界首创！欢迎来电询问详细技术资料！

反射高能电子衍射仪（Reflection High-Energy Electron Diffraction）是观察晶体生长最重要的实时监测工具。它可以通过非常小的掠射角将能量为10～30KeV的单能电子掠射到晶体表面，通过衍射斑点获得薄膜厚度，组分以及晶体生长机制等重要信息。因此反射高能电子衍射仪已成为MBE系统中监测薄膜表面形貌的一种标准化技术。　　R-DEC公司生产的反射式高能电子衍射仪，以便于操作者使用的人性化设计，稳定性和耐久性以及拥有高亮度的衍射斑点等特长得到日本国内及海外各研究机构的一致好评和认可。特长 ◆可远程控制调节电压，束流强度，聚焦位置以及光束偏转◆带有安全闭锁装置◆镍铁高导磁合金磁屏蔽罩◆拥有高亮度衍射斑点◆电子枪内表面经特殊处理，能实现极低放气率◆经久耐用，稳定可靠◆符合欧盟RoHS指令 　　低电流反射高能电子衍射仪（Low Emission Reflection High-Energy Electron Diffraction）是利用微通道板技术，大幅减少对样品损伤的同时，并且保证明亮反射电子衍射图像的新一代低电流反射高能电子衍射仪。可以用于有机薄膜材料等结晶结构的分析研究。特长◆大幅度减少电子束对样品的损伤（相当于普通RHEED的1/500-1/2800）◆带有安全闭锁装置◆搭载高亮度微通道板荧光屏◆可搭载差动抽气系统◆kSA400 RHEED分析系统兼容◆符合欧盟RoHS指令

仪器简介：Reflection High-Energy Electron Diffraction (RHEED) has become widely known as an essential method for real-time observation of crystal growth. RHEED can be used to analyze film surfaces in either a static mode for existing materials or dynamically as film growth evolves. This makes RHEED an exceptionally valuable tool for investigating structures in Molecular Beam Epitaxy (MBE).In general, RHEED is a method for investing the structure of crystal surfaces. A high-energy electron beam(10-30KeV) is directed at the sample surface at a low incident angle(1-2°).The electrons are diffracted by the crystal structure of the sample being investigated and then projected on a fluorescent screen mounted opposite the electron gun. The characteristic pattern of the impinging electrons is a series of streaks. The distance between the streaks is an indication of the surface lattice cell size.RHEED系统可以实时监控表面结构，所以可以被广泛应用于以下领域： &bull 结晶学(Crystallography) &bull 超导体(Superconductors) &bull 分子束外延生长Molecular beam epitaxy (MBE) &bull 化学气相沉积Chemical vapor deposition &bull 激光脉冲沉积（PLD）、有机分子化学气相沉积(MOCVD) &bull 冶金(Metallurgy) &bull 薄膜制备(Thin film deposition) &bull 涂层(Coatings)技术参数：30KeV Electron Gun:Beam Spot Size: 90micro meter dia. Maximum Filament: 0.1mm dia. Tungsten Wire (hairpin-shaped) Wehnelt: Self Bias Focus Lens: Air Core Solenoid Coil Lens Deflection Lens: Troidal Coil Lens Axial Alignment Mechanism: Alignment for Filament and Wehnelt Insulation Voltage: DC30KV Working Pressure: 10-4Pa to 10-9Pa Max. Bakeout Temperature: 200 degrees C Mounting Flange: ICF70 Dimensions: 100mm dia. x 401mm long (501mm long with a connector inserted) 30KeV E-GUN POWER SUPPLY:Acceleration Voltage: 0 to -30KeV Constant Voltage Supply ( Ripple 0.03% Maximum) Beam Current: 0 to 160 micro ampere Filament Voltage: 0 to 5V Constant Voltage Supply (Ripple 0.05% Maximum) Filament Current: Max. 2A Deflection Lens Supply: 1A Constant Current Source(plus or minus1V) (Ripple 0.05% Maximum) Focus Lens Supply: 0 to 1.5A Constant Current Source(0 to 22V) (Ripple 0.05% Maximum) Input Power: 200V, 220V, 230V, 240V Dimensions: 480mm x 199mm x 500mm (cable +100mm) Safety Feature: High Voltage Interlock Others: RoHS-ready 主要特点：1. 电子枪部分 RHEED电子枪是专门为进行衍射研究所设计的电子光学系统，其能量范围从10到30keV。通过结合静电和磁部件，保证了电子枪具有高亮度、小斑点、低分散和极低放气率的特征。电子枪可以完全安装在腔体外面，可以原位保养，可以烘烤。如果配备了差分抽气系统，还可以在高压环境下使用。 2. 控制电源部分 设计紧凑的提供30KeV能量的电子枪电源控制部分，由电子元件制造。电子枪的设置参数，如能量、灯丝电流、束流强度等都可以数字形式在显示器上显示，而且可以通过一个简洁的控制面板远程控制调节束流强度、聚焦位置等。系统具有自我诊断能力，可以快速全面地对RHEED系统进行检查。 3．电子束光阑 通过电子束光阑可以控制束流的开关，这样可以保证样品上极低的电子负荷。光阑开关信号也可同时被外部信号触发，这样就使得RHEED可以在有干扰磁场下使用，并可以用来研究旋转样品。 4. 电子束摇摆 为了做RHEED分析，电子束以掠角方式入射样品。 独特的电子束摇摆特征，允许调节和变化电子束入射角度，而不用移动样品。这个特征在对固定位置的样品进行分析测试时是非常有用的 5．差分抽气系统 通常的电子枪是为在如10-4 torr 这样较高压力条件下工作设计的，但是这样必然导致灯丝寿命的缩短。带有差分抽气系统选项的RHEED系统， 保证了可以在高压和有反应气体存在的环境下进行日常的操作。对灯丝部分的高效抽气，使得RHEED系统同其他系统相比有无与伦比的灵活性。 6. 计算机控制 RHEED系统可以完全由计算机来控制。电子枪控制部分包括一个界面模块和一个软件包，这保证了RHEED的使用灵活性，和可重复性。 用户自己设定的参数可以被保存并调入，通过电子束光阑可以控制电子束的开关，使用电子束摇摆特征可以调节电子束入射角度。 7. 荧光屏 提供各种尺寸的荧光屏，它们有高空间分辨率和对比度。荧光屏上的镀铝保护涂层确保荧光屏有好的电接触特性，并可以屏蔽掉从真空腔来的一些游离光线，从而提高RHEED图像的对比度。 8．数据采集和分析系统 RHEED Vision 是一套可以同现存的各种RHEED系统配套使用的功能强大的数据采集软件， 它可以同时进行图像处理和实时数据分析。并且有很多可选的数据缩减程序。另外还提供其它的硬件控制模块，如锁相外延生长，快门控制，激光脉冲触发器等。

反射式高速电子衍射仪RHEED 制造商名称：R-DEC株式会社RDA-005G产品信息随着薄膜晶体生长技术的发展，反射高速电子衍射作为结晶评价的观察方法已成为不可或缺的手段。在RHEED中，大约10至30KeV的电子束通常以几度的浅入射角入射到样品表面，由于电子的波动性，电子束被晶格衍射，投影到对面的屏幕上，这是一种可以让您检查结构的设备。电子枪的特点紧凑的设计实现高亮度（与本公司相比120%）具有联锁安全机构标准配备磁屏蔽高耐用性和可靠性符合RoHS指令电源特点新增光束消隐功能数字控制提高稳定性设定值保存/恢复功能，可保存100种最佳条件设定值采用液晶显示，让您即时查看所有参数支持使用 k-Sapce 图像分析系统 (kSA 400) 进行原位分析绘画规格电子枪模型RDA-005G绝缘电压直流30kV光斑直径最小Φ90μm灯丝钨钢发夹韦纳特可变偏差聚焦镜空芯电磁透镜偏光镜片环形电磁透镜光束偏转X/Y：±8°磁屏蔽标准设备运营压力 1×10 -3 Pa单级差动排气型 1 Pa * )最高烘烤温度200℃安装法兰ICF70-FH尺寸Φ100 mm x 335 mm（455 mm 包括连接器）*选项：RDA-005G-DP电源模型RDA-006P加速电压-3 ~ -30 kV (纹波 15 V pp)发射电流高达 80 μA灯丝电源0 至 +2 V，高达 1.9 A偏置电源0 至 480 V 可变（纹波 5 m V pp）具有记忆功能的遥控器LCD显示：加速电压、发射电流、灯丝电流、　　　偏置电压、光束偏转（X/Y）、焦点（Z）互锁高压互锁装置电缆高压电缆5 m，遥控电缆7 m外部输入/输出模拟数字 I/O，兼容 kSA 400 喷枪控制输入功率交流100V尺寸EIA 4U 高 177 毫米 x 宽 482.5 毫米 x 深 450 毫米其他的符合 RoHS 标准RHEED 分析系统 kSA 400 　除了晶格间距、应变变化、薄膜生长速率、薄膜厚度和相干长度之外，您还可以通过 RHEED 衍射图像轻松监控评估/分析晶体薄膜表面所需的信息。除了分析获取的衍射图像和视频外，还可以对高速基板旋转期间获取的数据进行精确的原位分析。

日本R-DEC株式会社RDA-006P反射式高速电子衍射仪电源产品信息随着薄膜晶体生长技术的发展，反射高速电子衍射作为结晶评价的观察方法已成为不可或缺的手段。在RHEED中，大约10至30KeV的电子束通常以几度的浅入射角入射到样品表面，由于电子的波动性，电子束被晶格衍射，投影到对面的屏幕上，这是一种可以让您检查结构的设备。电子枪的特点紧凑的设计实现高亮度（与本公司相比120%）具有联锁安全机构标准配备磁屏蔽高耐用性和可靠性符合RoHS指令电源特点新增光束消隐功能数字控制提高稳定性设定值保存/恢复功能，可保存100种最佳条件设定值采用液晶显示，让您即时查看所有参数支持使用 k-Sapce 图像分析系统 (kSA 400) 进行原位分析绘画规格电子枪模型RDA-005G绝缘电压直流30kV光斑直径最小Φ90μm灯丝钨钢发夹韦纳特可变偏差聚焦镜空芯电磁透镜偏光镜片环形电磁透镜光束偏转X/Y：±8°磁屏蔽标准设备运营压力 1×10 -3 Pa单级差动排气型 1 Pa * )最高烘烤温度200℃安装法兰ICF70-FH尺寸Φ100 mm x 335 mm（455 mm 包括连接器）*选项：RDA-005G-DP电源模型RDA-006P加速电压-3 ~ -30 kV (纹波 15 V pp)发射电流高达 80 μA灯丝电源0 至 +2 V，高达 1.9 A偏置电源0 至 480 V 可变（纹波 5 m V pp）具有记忆功能的遥控器LCD显示：加速电压、发射电流、灯丝电流、　　　偏置电压、光束偏转（X/Y）、焦点（Z）互锁高压互锁装置电缆高压电缆5 m，遥控电缆7 m外部输入/输出模拟数字 I/O，兼容 kSA 400 喷枪控制输入功率交流100V尺寸EIA 4U 高 177 毫米 x 宽 482.5 毫米 x 深 450 毫米其他的符合 RoHS 标准RHEED 分析系统 kSA 400 　除了晶格间距、应变变化、薄膜生长速率、薄膜厚度和相干长度之外，您还可以通过 RHEED 衍射图像轻松监控评估/分析晶体薄膜表面所需的信息。除了分析获取的衍射图像和视频外，还可以对高速基板旋转期间获取的数据进行精确的原位分析。

用于透射电镜电子衍射的高性能探测器相机ASI的Chee-tah是一种适合于电子显微镜应用的混合像素探测器。Chee-tah卓越的灵敏度和速度为获得电子衍射、成像及断层扫描提供了可能性。Chee-tah 含有一个硅二极管传感器，硅二极管被分成512x 512或1024 x 1024的像素阵列。每个像素通过bump-bonds与集成在芯片上的读出电子器件相连，芯片位于传感器下方。每个像素的电子器件单独处理来自该像素传感器的信号。每个独立像素对其相应区域中检测到的事件进行计数和处理。闪烁体CCD探测器探测不到噪声量级的微弱信号，而Chee-tah可以获得。与其它类型的直接探测器相机比较，Chee-tah的动态范围很大，电子束灵敏度很高，常用于衍射实验。Chee-tah的高速特点使之成为观察动态过程和捕捉快速衰减信号的理想工具。探测器优点1）ASI的新型超高灵敏探测器提供了一种通过电子衍射研究微米和纳米尺度晶体的解决方案，并可安装在现有的透射电镜底部，或也可侧装。高灵敏度以及高读出速率及宽动态范围使得用户能够收集远超过CCD和CMOS相机所限制的数据。对(4D)STEM应用来说，这意味着能够对大面积进行快速扫描。2）多功能设计使我们的探测器向后兼容几乎所有的电子显微镜，也可进一步调整以满足用户新需求。3）X射线晶体学是测定蛋白质和其它光束敏感材料之原子结构常用的方法。要获得高分辨率的X射线数据，通常需要比较大的晶体。然而，在许多情况下，只生长出微米或纳米尺度的晶体。近期的研究结果表明，微米和纳米尺度晶体可以用TEM电子衍射来研究。应用领域能量分辨X射线计算机断层扫描快速生产线X射线检查电子显微镜质谱Chee-tah120TimepixChee-tah1800Timepix3RXChee-tah(event)Timepix3Pixels(55um)512 x 512 / 1k x 1k512 x 512 / 1k x 1k512 x 512Sensitive Area2.8 x 2.8 / 5.6 x 5.6 cm2.8 x 2.8 / 5.6 x 5.6 cm2.8 x 2.8 cmMax Speed120 Hz1800 / 425 Hz1.6 ns (500 MHz)Counter Depth13.5 bit12/24 bit14bitSensorsSi, GaAsSi, GaAsSi, GaAsConnection1 GB / 4 x 1 GBEthernet10 GB Ethernet10 GB EthernetOperationCounting, TOA, TOTCounting, CSMSimultaneous, TOA, TOT型号及配置荷兰ASI公司(Amsterdam Scientific Instruments B.V.)出品的Chee-tah系列用于TEM ED的光子计数型混合像素探测器相机有多种型号及配置可选：1）可选型号：Chee-tah120（Timepix技术，ToT、ToA等应用，帧频120f/s，阈值数1个）；Chee-tah 1800（Medipix3RX技术，CSM&SPM模式等应用，帧频1800f/s，阈值数1或2个）；Chee-tah(event)（Timepix3技术，ToT、ToA、光子时间戳、速度映射成像和符合成像等应用，可与同步加速器或自由电子激光等配套，时间分辨率1.6纳秒，超高速帧频500 MHz，阈值数1个）等。2）可选传感器材料类型：Si, GaAs, CdTe, ... 常用硅，可选砷化镓（高能量用途），碲化镉（更高能量用途）。3）可选传感器厚度：300um/500um/1000um（标配300um，高能量应用请选较厚的厚度）4）可选像素数：65k、262k、524k、1M、2M等不同活区面积。5）可选底装或侧装。上述总有一款及其配置适合您的TEM ED晶体学分析和结构解析以及X射线检测和成像应用，欢迎选购！

电子衍射仪,微电子衍射仪,3D电子衍射仪ELDICO的专用电子衍射仪是一种非常先进的仪器概念，可用于分析纳米级固体化合物。Product & Technology电子衍射（ED）在科学和工业中正在获得发展。 ED在进行纳米晶体学研究中的应用是一项颠覆性的创新，它将打开令人着迷的新视野，尤其是化学，制药和高级材料研究领域所需的有机化合物。The ELDICO Electron Diffractometer 以更高的质量，更快的速度和更低的价格塑造晶体学的未来：电子加速衍射通过进入亚微米范围来消除晶体尺寸问题。ELDICO科学电子衍射仪旨在测量有机和无机化合物纳米范围内的样品，并旨在在大多数情况下实现分辨率高达0.84%，且至少60-70％的完整数据集的Rint20％。 这些数据通常将允许在75％的情况下进行结构求解和细化，使R1值降至10％。 晶胞测定可以精确到千分之一。在一篇有关晶体学和电子衍射的文章中[1]，电子，中子和同步辐射等新型晶体学方法的创新潜力得到了明确认识。 这些技术现在使研究以前无法获得的结晶固体的原子结构成为可能。 除了新型检测器系统的性能外，还得益于更高的计算能力以及包含一百万个晶体结构的剑桥结构数据库（CSD），从而可以以过去无法想象的方式使用数据。 文章强调了电子衍射的作用。作为主要（众所周知）瓶颈之一的足够大的晶体的可用性，作者认为电子衍射和量子晶体学具有巨大的潜力：当前的一项发展是通过电子衍射阐明纳米晶体分子化合物的结构 。 由于混合像素检测器与透射电子显微镜的结合，现在可以确定小到几十纳米的单晶结构。我们认为需要仍然非常昂贵（我们认为不太合适）的microED设备，该设备主要是电子设备。

反射式高速电子衍射仪RHEED 制造商名称：R-DEC株式会社RDA-005G、RDA-005G-DP反射式高速电子衍射仪RHEED日本R-DEC株式会社RDA-005G产品信息随着薄膜晶体生长技术的发展，反射高速电子衍射作为结晶评价的观察方法已成为不可或缺的手段。在RHEED中，大约10至30KeV的电子束通常以几度的浅入射角入射到样品表面，由于电子的波动性，电子束被晶格衍射，投影到对面的屏幕上，这是一种可以让您检查结构的设备。电子枪的特点紧凑的设计实现高亮度（与本公司相比120%）具有联锁安全机构标准配备磁屏蔽高耐用性和可靠性符合RoHS指令电源特点新增光束消隐功能数字控制提高稳定性设定值保存/恢复功能，可保存100种最佳条件设定值采用液晶显示，让您即时查看所有参数支持使用 k-Sapce 图像分析系统 (kSA 400) 进行原位分析绘画规格电子枪模型RDA-005G绝缘电压直流30kV光斑直径最小Φ90μm灯丝钨钢发夹韦纳特可变偏差聚焦镜空芯电磁透镜偏光镜片环形电磁透镜光束偏转X/Y：±8°磁屏蔽标准设备运营压力 1×10 -3 Pa单级差动排气型 1 Pa * )最高烘烤温度200℃安装法兰ICF70-FH尺寸Φ100 mm x 335 mm（455 mm 包括连接器）*选项：RDA-005G-DP电源模型RDA-006P加速电压-3 ~ -30 kV (纹波 15 V pp)发射电流高达 80 μA灯丝电源0 至 +2 V，高达 1.9 A偏置电源0 至 480 V 可变（纹波 5 m V pp）具有记忆功能的遥控器LCD显示：加速电压、发射电流、灯丝电流、　　　偏置电压、光束偏转（X/Y）、焦点（Z）互锁高压互锁装置电缆高压电缆5 m，遥控电缆7 m外部输入/输出模拟数字 I/O，兼容 kSA 400 喷枪控制输入功率交流100V尺寸EIA 4U 高 177 毫米 x 宽 482.5 毫米 x 深 450 毫米其他的符合 RoHS 标准RHEED 分析系统 kSA 400 　除了晶格间距、应变变化、薄膜生长速率、薄膜厚度和相干长度之外，您还可以通过 RHEED 衍射图像轻松监控评估/分析晶体薄膜表面所需的信息。除了分析获取的衍射图像和视频外，还可以对高速基板旋转期间获取的数据进行精确的原位分析。

主要特点新型潘式扫描探头，具备qPlus AFM功能,模块化设计,易于维护可选光学通道，适于光学实多源MBE样品制备，可原位沉积袖珍型进样室，快速传输样品 STM 系统性能测试数据 该光学兼容低温扫描探针显微镜系统的详细工作发表在近期的《科学仪器评论》杂志上【Review of Scientific Instruments 89, 113705 (2018) doi: 10.1063/1.5046466】文章链接：Https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5046466 技术参数扫描探头光耦合兼容模块化设计，兼容qPlus AFM功能工作温度≤5KX/Y/Z粗移动范围2×2×8mmX/Y/Z扫描范围6×6×2μm @ RT1.5×1.5×0.5μm @ LHe低温维持时间≥50h(液氦容积4L、液氮容积15L）温度稳定性＜0.2nm/h分辨率原子级分辨率样品台X/Y轴±12.5mm，手动Z轴450mm，步进电机自转±180°，手动公转±180°，手动温度范围120K~室温 (LN2冷却)室温~1450K（E-Beam加热）蒸发源 最多6个DN40CF(O.D. 2.75' ' )5个DN63CF(O.D. 4.5' ' )1个可选项光学通道，适用于光学实验反射高能电子衍射仪低能电子衍射仪离子枪（3KeV/5KeV）

多功能X射线衍射/反射仪多功能X射线衍射/反射仪提供科研开发工作所需的各种X射线测试解决方案简介 Jordan Valley公司zui新设计的Delta-X是多功能的X射线衍射设备，可灵活应用于材料科学研究、工艺开发、与生产质量控制。Delta-X衍射仪的光源台和探测台的光学元件可以全自动化调控，并采用水平式样品台。Delta-X衍射仪可以在常规衍射模式、高分辨率衍射模式、X射线反射模式之间灵活切换。光学配置的切换完全在菜单式程序控制下由计算机完成，无需手动操作。自动化切换和准直不需要专门人员和操作设备，并确保每次切换都能达到zui佳的光学准直状态。 常规的样品测量可以通过Delta-X衍射仪，实现部分、乃至完全的自动化运行，自动化测量程序可以依客户需求进行专门定制。也可采用完全的手动模式操作Delta-X衍射仪，以便发展新测量方法，研究新材料体系。 数据分析或拟合可以作为测量程序的一部分，可实现完全自动化，也可依据需要单独进行数据分析。 依半导体生产线的需求，将RADS和REFS拟合软件以自动化模式运行，允许在没有用户干扰的情况下自动完成常规性的数据分析，并直接完成数据拟合和结果输出。RADS和REFS也可以单独安装，以便进行更详细的数据分析。 Delta-X 衍射仪的主要特点和优势n 自动化进行样品准直、测试、和数据分析n 客户可以自行设定测量的自动化程度n 300mm的欧拉环支架(Eulerian Cradle)设计，高精度的样品定位和扫描n 300mm的晶片水平式放置，且可以完整mappingn 100o的Chi轴倾转范围、无限制范围的Phi轴旋转空间，可实现极图和残余应力测试n 智能化的光学配置切换和准直。依测量需要，自动选择光学配置并实施光学准直n 工业界先的设备控制软件和数据分析软件n 高分辨率测角仪，以保证精密且准确的测量n 高强度的光源台设计和光学元件组合，以实现快速测量n 多方面广泛的测试技术和测量参数n 由拥有超过30年的高分辨率X射线衍射经验的世jie级专家设计、制造，具有全球客户经验。

反射高能电子衍射仪是MBE制程的一部分。在薄膜沉积过程中，RHEED给客户提供了重要的信息。 首先，RHEED图像表征样品表面的状态。 其次，其强度震荡可以提供生长速率的量化数据。 RHEED提供了清晰的焦点，以及衍射图样，并能够在屏幕上高亮度显示。 电子光学部件有磁性保护罩，便于提高操作性。 可选部件：RHEED图像分析硬件和软件系统，可以实时获取RHEED图样，使用户便于观察和控制薄膜生长质量。完整的RHEED系统包括 10KeV RHEED电子束源，电源及配套光缆。技术参数：束流电压 10KV灯丝电流 3A 发射电流 5A光斑大小1.0mm (17’’/1075px距离) 最大烘烤温度230 oCRHEED Electron Source2.75"和4" 法兰RHEED Power SupplyRHEED Image Analysis Software高分辨CCD 或相机实时分析2D/3D分析RHEED Optional Components主要特点：实时检测外延生长测量薄膜生长速率单晶薄膜的生中速率测量光学部件带有磁性罩

MIR反射式刻线衍射光栅的详细信息品牌：其他型号：QX-MIR-GL材质：Pyrex基底适用范围：激光用途：激光装箱数：1000加工定制：是外形尺寸：25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mmmm重量：0.01㎏尺寸：25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mmGrooves/mm：450Design Wavelength：3.1 μmBlaze Angle：32°Dispersion (nm/mrad)：1.6MIR反射式刻线衍射光栅特性 设计波长处的偏振效率：80%到95% 反射铝膜 使用刻线的基底材料生产o 连续波激光：250 W/cm2QXKJ提供多种优化中红外区域峰值偏振效率的刻划衍射光栅。我们提供不同闪耀角的光栅，适合多种应用。欲了解不同光栅类型的差异，请点击上方光栅指南标签。请注意，这些光栅的反射铝膜是裸露的，而且没有保护镀膜。但是可以定制MgF2或金膜来保护光栅的铝膜表面。金膜在红外波段的性能更好，而MgF2膜提供保护性；详情请咨询技术支持。注意td width="204" valign="center" background:#f0f0f0 "="" style="margin: 0px padding: 0px border-width: initial border-style: none border-color: initial "25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mmDesignWavelengthBlaze Angle12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm4501.6 nm/mradDesignWavelengthBlaze Angle12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm3002.86 nm/mradDesignWavelengthBlaze Angle12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm7512.3 nm/mrad12.5 mm x 25.0 mm x 9.5 mm27°25.0 mm x 50.0 mm x 9.5 mm1504.2 nm/mrad

简介 Jordan Valley公司zui新设计的Delta-X是多功能的X射线衍射设备，可灵活应用于材料科学研究、工艺开发、与生产质量控制。Delta-X衍射仪的光源台和探测台的光学元件可以全自动化调控，并采用水平式样品台。Delta-X衍射仪可以在常规衍射模式、高分辨率衍射模式、X射线反射模式之间灵活切换。光学配置的切换完全在菜单式程序控制下由计算机完成，无需手动操作。自动化切换和准直不需要专门人员和操作设备，并确保每次切换都能达到zui佳的光学准直状态。 常规的样品测量可以通过Delta-X衍射仪，实现部分、乃至完全的自动化运行，自动化测量程序可以依客户需求进行专门定制。也可采用完全的手动模式操作Delta-X衍射仪，以便发展新测量方法，研究新材料体系。 数据分析或拟合可以作为测量程序的一部分，可实现完全自动化，也可依据需要单独进行数据分析。 依半导体生产线的需求，将RADS和REFS拟合软件以自动化模式运行，允许在没有用户干扰的情况下自动完成常规性的数据分析，并直接完成数据拟合和结果输出。RADS和REFS也可以单独安装，以便进行更详细的数据分析。 Delta-X衍射仪能满足科学研究所和技术开发中心 不同材料体系的全方位测试需求。 Delta-X 衍射仪的主要特点和优势n 自动化进行样品准直、测试、和数据分析n 客户可以自行设定测量的自动化程度n 300mm的欧拉环支架(Eulerian Cradle)设计，高精度的样品定位和扫描n 300mm的晶片水平式放置，且可以完整mappingn 100o的Chi轴倾转范围、无限制范围的Phi轴旋转空间，可实现极图和残余应力测试n 智能化的光学配置切换和准直。依测量需要，自动选择光学配置并实施光学准直n 工业界先的设备控制软件和数据分析软件n 高分辨率测角仪，以保证精密且准确的测量n 高强度的光源台设计和光学元件组合，以实现快速测量n 多方面广泛的测试技术和测量参数n 由拥有超过30年的高分辨率X射线衍射经验的世jie级专家设计、制造，具有全球客户经验。 Delta-X衍射仪的特点和优势自动化控制的光学系统:Delta-X衍射仪的入射束包括多种标准的光学配置模式，以便使光学配置具有充分的灵活性，且易于操作。可以依据测量样品的材料类型，选择参考晶体。

产品简介激光 MBE 是普遍采用的术语，该法是一种纳米尺度薄膜合成的理想方法，高真空下的 PLD 与在线工艺监测的反射高能电子衍射（RHEED）的联合应用，用户提供了类似于 MBE 的薄膜生长的单分子水平控制。正确的设计是成功使用 RHEED 和 PLD 的重要因数RHEED 通常在高真空（10 -6 torr）环境下使用。然而，因为在某些特殊情况下，PLD 采用较高的压力，差动抽气是必要的，维持 RHEED 电子枪的工作压力，同时保持 500 mTorr 的 PLD 工艺压力。同时，设计完整的系统消除磁场对电子束的影响是至关重要的。Neocera 激光 MBE 系统可以添加客户定制系统，比如超高真空激光衬底加热器，用于集成原位分析系统（XPS/ARPERS 等）。样品可以简单地从激光 MBE/PLD 系统传送到超高真空 XPS/ARPERS等）。样品可以简单地从激光 MBE/PLD 系统传送到超高真空 XPS/ARPERS 系统。我们会根据客户需求提供优质的脉冲激光沉积方案和专业的技术服务。产品特点独立的MAPLE PLD系统有机和聚合物薄膜的沉积在同一室的附加沉积源(可选): 脉冲电子沉积(PED)，射频/直流溅射和直流离子源Load-lockable衬底阶段与XPS分析系统集成，直接将晶片从PLD系统转移到分析系统技术参数1.PLD腔尺寸:12 " /18 "直径(Pioneer 120-Advanced/ Pioneer 180型号)2.衬底尺寸:1厘米× 1厘米(激光加热器) 直径2”(辐射加热器)3.衬底加热:1000 ℃(激光加热器)；850℃(辐射加热器)4. 目标旋转：直径 6 x 1 "或3 x 2 "5.工业气体:氧气和氮气100 SCCM的mfc6. 软件:Windows 7/Labview 20137. RHEED电子枪与软件:a.射柱电压：30keV；b.运行压力:500 mTorr/氧；c. RHEED屏幕/快门。d. CCD摄像机和数据采集软件

国际衍射数据中心PDF粉末衍射数据库（Powder Diffraction File，PDF）国际衍射数据中心（The International Centre for Diffraction Data, ICDD）是一个非盈利的科学组织，是全球X射线衍射权威机构，致力于收集、编辑、出版和发行用于晶态材料鉴定的粉末衍射数据。沃根瑞特科技（北京）有限公司于2018年被国际衍射数据中心(ICDD)认可为中国区授权代理商，被授权在中国区进行PDF衍射数据库的推广、销售等工作。PDF粉末衍射数据库（Powder Diffraction File，PDF）国际衍射数据中心(ICDD)-PDF粉末衍射数据库是经过ISO认证的晶体学数据库，所有数据经过严格质量审查，并给出质量标记。PDF数据库覆盖面广，精度高，兼容性强，功能强大，涵盖30多个领域，是材料学、物理学、化学、地质学、药物学、生物学、检验检疫、司法鉴定等科学研究及工业生产等领域不可缺少的数据库，并赢得全球用户的信任和支持，为新材料的探索做出了卓越的贡献。质量高：高质量、标准化衍射数据和单晶结构数据，每年剔除低质量数据；包含不同靶材X射线、中子、电子及同步辐射衍射数据；提供二维/三维晶体结构、选区电子衍射图（SAED）、自动指标化SAED图、电子背散射衍射图（EBSD）、二维衍射环等；提供物相的高温、高压衍射数据；每一条数据均提供参考文献、材料物性信息，大大缩短科研及产品研发周期；支持全自动检索物相和定量分析功能；方便快捷保存多种数据形式；可与Jade、EVA、Highscore、PDXL等软件兼容；PDF数据库（Powder Diffraction File，PDF）具有多个版本，请联系我们，我们会帮您确认所需版本!PDF-4+ 粉末衍射数据库412,000+套衍射数据311,200+套原子坐标位置PDF-4+ 是一个包含PDF-2数据以及ICDD与MPDS合作数据的先进数据库。其设计宗旨在于定量分析(Rietveld, RIR和Pattern Fitting)和物相鉴定。数据库中涵盖了大量无机材料，并且包含了大量数字谱线、分子图形和原子参量等信息。通过利用Rietveld分析、参考强度比(RIR)方法和全谱分析法这三种方法之一，增强了定量分析的能力。PDF-2 粉末衍射数据库304,100+套衍射数据PDF-2是ICDD、FIZ以及NIST的合作产品，设计用于无机材料的分析。ICDD中很多常规的有机材料数据被加入到了这个数据库，这样可以便于快速的物相鉴定。PDF-4+ / Organics 有机物 粉末衍射数据库535,600+套特色有机物&有机金属化合物衍射数据115,500+套原子坐标位置PDF-4/Organics　的设计宗旨是有机和有机金属材料的鉴定。除了484,910个有机条目外，还包含几千个无机材料和基本的药物赋形剂信息，以便于配方分析和鉴定。PDF-4+ / Minerals 矿物　粉末衍射数据库46,100+套衍射数据37,000+套原子坐标位置PDF-4/ Minerals 是PDF-4+的子系统，包含那些已编入PDF-4+的新功能。这个数据库是世界上有关矿物和相关矿物材料的权威数据库。这些相关材料包括人造矿物、宝石和在非大气条件下处理的样品。*请使用正版数据库，免除因错误使用数据库而带来的拒稿风险！

高的解析能力和色散L槽密度低，适用于高阶应用槽间距公差小于 0.05%提供定制尺寸与其他反射式衍射光栅相比，Richardson Gratings™ Echelle 反射式衍射光栅具有卓越的解析能力和色散。这些光栅的特点是槽间距较宽，槽密度相对较低，闪耀角较大。它们适用于从近 UV 到红外（大约20μm）的波长范围。Richardson Gratings™ Echelle 反射式衍射光栅非常适用于诸如具有很高的角色散及通量的紧凑型高分辨率分光仪等应用。我们在收到请求后会提供定制尺寸。注意： 这些光栅的表面非常敏感，在接触光学元件时切勿触摸。若需要清洁以去除尘粒，建议采用运用清洁压缩空气的非接触式清洁方式。

苏州锂影+实验室桌面型二维掠入射X射线衍射同步辐射测试01同步辐射光源，由于强度高、亮度大、准直性好，广受科研工作者们的欢迎。我们国家现有多个同步辐射光源：北京同步辐射装置（BSRF，第一代光源）、合肥国家同步辐射国家实验室（NSRL，第二代光源）、上海光源（SSRF，第三代光源），还有马上投入运行的大连的深紫外以及上海软X射线自由电子激光装置（FEL，第四代光源），以及在建中的北京高能同步辐射、上海光源、合肥光源。另外，在台湾也有两台光源。但是，封校、避免人员流动等防疫措施的限制下，让2D-GIWAXS测试难上加难。别急，还有一个解决办法！锂影制造02锂影科技在丹东浩元DX2900衍射仪安全壳体的基础上装配了美国XOS公司的多毛细管微焦点光源、锂影科技的两轴薄膜样品台、瑞士Dectris公司的Pilatus100K二维阵列探测器，加上锂影科技开发的配套测试软件，组装得到实验室桌面型二维掠入射X射线衍射仪。同时，结合锂影科技在衍射仪配件定制开发方面的优势，为该款机型配备了多种测试模块，薄膜样品台、透射样品台、惰性气体保护台（手套箱内组装好保持惰性氛围测试）和原位气氛处理台（支持大多数溶剂）。测试界面 聚合物样品二维衍射图技术参数031. X射线发生器：铜靶或钼靶，功率50W（工作电压50KV、工作电流1mA）2.多毛细管：准直度0.25°，焦斑直径0.5mm，光强10^8ph/s3. 两轴薄膜样品台：Omega轴范围-10°~10°，精度0.002°；Z轴范围0-15mm，精度0.002mm4. 二维阵列探测器：487×195像素，每个像素大小172微米5.可以配备透射样品台、原位薄膜热台、原位溶剂气氛处理附件、气氛保护附件等6.薄膜样品台可根据需求升级至三轴到五轴薄膜样品台，二维阵列探测器可根据需求升级至Pilatus200K、Eiger500K/1M测试效果如下：碘化铅甲胺铅溴钙钛矿聚丁烯样条透射XRDN2200锂影团队长期从事于X射线衍射仪的开发与应用研究，积累了丰富的项目经验。团队针对智能化快速X射线衍射仪已经开展了类德拜照相、多位样品台设计、多线程控制软件设计等相关基础研发工作。苏州锂影科技有限公司为您提供高端衍射仪个性化定制服务

Richardson Gratings™ 高精度反射式全息衍射光栅高衍射效率与刻线式光栅相比，减少了杂散光并具有更精确的周期性提供从 UV 到 NIR 区域的波长选项提供定制尺寸 通用规格有效孔径 (%):90涂层:Aluminium构造 :Holographic Grating基底:Float Glass厚度 (mm):6.00 ±0.5反射波前, RMS:λ/4基底上的刻划区域居中 (mm) :±1凹槽与边缘对齐 (°):±0.15槽间距公差 (%) :0.05偏振 :S, P and AverageSpectral Order (m):与刻线式光栅相比，Richardson Gratings™ 高精度反射式全息衍射光栅的光散射更低，使其成为对拉曼光谱仪等杂散光敏感的应用的理想选择。通过暴露于强激光干涉图样，光栅被记录在光刻胶中，然后用化学方法显影以显示具有正弦横截面的条纹图样。可提供从 UV 到 NIR 光谱区域使用的光栅。注意： 这些光栅的表面非常敏感，在接触光学元件时切勿触摸。若需要清洁以去除尘粒，建议采用运用清洁压缩空气的非接触式清洁方式。

X射线衍射方法是研究晶体结构的重要手段之一。高压X射线衍射实验中，样品尺寸通常较小，且衍射几何会受到高压样品腔（DAC）的限制，因此该实验方法对对X射线光源有较高要求，即要求X射线源同时具备微焦点、高通量、高能量三大要素。同步辐射光源是目前高压衍射实验使用的主要光源，但其机时通常较紧张。随着科学技术的发展，传统的X光机得到了长足发展，不论光源强度还是焦点尺寸都已经满足了高压实验的需要。实验室所用的高压X射线衍射仪在使用时间上不受限制，为科研人员开展高压衍射实验提供了巨大的便利。本公司针对高压 X 射线衍射技术，采用最先进的旋转中心定位方法，成功研制出针对高压实验的专用X射线衍射仪，其独特的设计可同时用于高压粉末和高压单晶两种实验，实现一机两用。技术指标：1、 可选微焦斑Mo靶（17kev）,Ag靶材（22 kev），同时可选针对高压实验的高能液态金属In光源（24 kev），X 射线光源具有聚焦后样品处光斑小，光通量大和波长短等特点。2、 大面积、单光子计数探测器提高衍射数据分辨率，获得更多的衍射峰数量，提高晶体结构的分辨率。配备CdTe单光子计数型探测器，大幅提高对短波长射线的探测效率并降低背景噪音，提高数据信噪比。3、 采用在同步辐射实验装置上所使用的先进旋转中心定位法，在此基础上进行优化。利用五维电动样品位移台，通过软件操作，实现样品扫描对中。具有样品到探测器距离固定不变、数据精确等优势，避免用户操作时辐照损伤。液态金属In靶E1型X射线光源参数高通量模式焦斑大小90 μm FWHM通量1.9 × 108 ph/s发散度3.15 mrad小焦斑模式焦斑大小15 μm FWHM通量1.8 ×107 ph/s发散度12.6 mrad特殊模式焦斑大小10 μmFWHM通量1.0 ×106 ph/s发散度2 mrad位移台参数XY轴重复定位精度±0.2 μm；行程±10 mm；Z轴重复定位精度≤±0.2 μm；行程±10 mm；Ф 轴重复定位精度≤0.002°；行程±135°；X1Y1重复定位精度±0.2 μm；行程±12.5 mm；应用领域：1、高压下的结构相变、状态方程、弹性、织构等研究2、涉及的材料包括高温超导体、纳米材料、超硬材料、矿物、大块金属玻璃、半导体、各种功能材料等3、应用领域包括物理、化学、地球/行星科学、材料等

产品介绍：1.产品概述 STADI MP是德国STOE公司推出的新一代粉末衍射仪，配备100%高纯度的Kα1单色器，采用透射模式、反射模式、高通量反射模式，能够满足各种实验条件，STADI MP是一款真正意义上能够实现透射模式的衍射仪，保证了微量样品的衍射实验。2.产品特点 四种几何衍射模式：透射/德拜-谢乐模式，透射高通量微区模式，反射高通量微区模式，反射模式； 通过改变光源和样品之间的距离来进行衍射模式之间的切换，切换后不需要重新调节光路； 所有衍射几何模式下，均可采用Co、Cu、Mo或者Ag靶的纯Kα1射线； 可搭配闪烁计数器，位敏探测器，成像板探测器 和 混合像素MYTHEN 1K探测器（零噪音单光子计数能力） 配备的毛细管模式非常适合对空气/水分敏感，或有毒性的微量样品测试； 2θ范围：-10°~140°。STOE STADI MP粉末衍射仪具备多种衍射模式，可以达到更广泛的研究和应用领域。3.透射模式适合：微量粉末、凝胶样品测试，特别是极小2θ角数据的测量采集；对X射线吸收性强的样品4.毛细管模式适合：特别适合精细粉末样品、液体、胶体样品测试；可以对取向性样品进行定向测试；对空气/水分敏感，或者有毒的样品测试。 5.反射模式适合：对大尺寸样品，如金属块状材料、板状材料，或加工成品的测试。

产品介绍：1.产品概述 STADI P是一款灵活、多功能型粉末晶体衍射仪，同时具有两套衍射系统，分别进行透射/德拜-谢乐模式衍射和反射/布拉格-布伦坦诺模式衍射，两套系统可以共用一个光源，配备多种形式样品架和自动进样器，可以满足各种样品的衍射实验需求。 2.产品特点 四种几何衍射模式：透射/德拜-谢乐模式，透射高通量微区模式，反射高通量微区模式，反射模式； 通过改变光源和样品之间的距离来进行衍射模式之间的切换，切换后不需要重新调节光路； 所有衍射几何模式下，均可采用Co、Cu、Mo或者Ag靶的纯Kα1射线（100%纯Kα1）； 可搭配:STOE位敏探测器、STOE弧形成像板探测器、混合像素MYTHEN1K探测器（零噪音单光子计数能力）； 配备的毛细管模式非常适合对空气/水分敏感，或有毒性的微量样品测试； 2θ范围：-10°~140°。

产品介绍： 1.产品概述： STADIVARI是STOE公司推出的一款具有划时代意义的新型单晶衍射仪，配备微聚焦点光源（可选双靶或液态金属靶）、三维聚焦镜、Pilatus探测器、OPEN Eulerian Cradles四圆测角仪，完美兼容高压DACs、高低温附件等，是目前市面上配置高、性能先进的单晶衍射仪；广泛应用于化学晶体学、分子生物学、药物学、矿物学和材料科学等方面的分析研究。 仪器主要用于测定新化合物（晶态）分子的准确三维空间（包括键长、键角、构型、构象乃至成键电子密度）及分子在晶格中的实际排列状况，可以提供晶体的晶胞参数、所属空间群、晶体分子结构、分子间氢键和弱作用的信息以及分子的构型及构象等结构信息。2.产品特点： 新一代Genix 3D微聚焦点光源； 三维全反射多层膜聚焦镜； OPEN Eulerian Cradles 四圆测角仪； 大样品空间，支持原位实验； 高性能 Pilatus 混合像素探测器，零噪音，单光子计数能力； 完美支持高压DACs、高低温样品台等附件。

我是沈阳亿贝特光电有限公司，我们是一家具有多年生产光学产品经验的专业厂家。产品主要包括：衍射光栅、球面透镜、反射镜、非球面镜、柱面透镜、平面镜等各种高精度的光学元件。我公司依据ISO9001：2015质量管理体系，提供高质量高精度的产品供应给全国客户。现了解到您公司的光谱仪型号，想确认贵司是否会用到衍射光栅、球面透镜、反射镜等光学产品，我们会提供非常有竞争力的价格供您参考。非常期待能够得到您的回复，如有需求请随时与我联系，谢谢您！

Thorlabs提供三种反射光栅:刻线光栅刻线光栅由于其闪耀角，可以达到比全息光栅更高的效率。它们是以光栅闪耀角为中心的应用的理想选择。Thorlabs提供各种尺寸和闪耀角的刻划光栅。全息光栅全息光栅有较低的周期错误，基本消除了刻划光栅无法避免的鬼线。这些光栅的低杂散光特性让其成为需要高信噪比应用的理想选择，例如拉曼光谱仪。阶梯光栅阶梯光栅是为高阶应用设计的低周期光栅。它通常配合另一个光栅或棱镜一起使用，实现重叠衍射级次的分离。是高分辨率光谱学应用的理想选择。 Thorlabs提供三种透射光栅：紫外透射光栅关于透射光栅，Thorlabs的紫外透射光栅使入射光束在光栅背面以固定角度发生色散。它们是在紫外范围内有最佳效率的刻划和闪耀光栅，偏振不敏感，具有与紫外反射光栅相当的效率。它们是需要固定光栅应用的理想选择，例如光谱仪。可见光透射光栅关于透射光栅，Thorlabs的可见光透射光栅使入射光束在光栅背面以固定角度发生色散。它们是在可见光范围内有最佳效率的刻划和闪耀光栅，偏振不敏感，具有与可见光反射光栅相当的效率。它们是需要固定光栅应用的理想选择，例如光谱仪。近红外透射光栅关于透射光栅，Thorlabs的近红外透射光栅使入射光束在光栅背面以固定角度发生色散。它们是在近红外范围内有最佳效率的刻划和闪耀光栅，偏振不敏感，具有与近红外反射光栅相当的效率。它们是需要固定光栅应用的理想选择，例如光谱仪。 选择光栅需要考虑很多因素，下面列举了一些：效率：通常，刻划光栅比全息光栅具有更高的衍射效率。然而，全息光栅由于其刻槽的制备方法，其表面效率变化很小。荧光激发和其它辐射诱导反应方面的应用可能需要刻划光栅。闪耀波长：刻划光栅通过有序的蚀刻光栅基底表面形成，带有锯齿型槽光栅剖面。因此在闪耀波长附近有相对尖锐的峰。而全息光栅很难闪耀，其正弦曲线状的槽使其在特定波长的光谱响应不那么尖锐。窄带范围内的相关应用更适合选用刻划光栅。波长范围：光栅的光谱范围取决于槽间距，并且对于光栅常数相同的刻划光栅和全息光栅，其光谱范围相同。根据经验，光栅的一级效率从0.66&lambda B到1.5&lambda B降低50% ，其中&lambda B是闪耀波长。注意：没有光栅可以衍射波长大于槽间距2倍的光。杂散光：由于光栅制作方法的不同，全系光栅相比于刻划光栅，其杂散光更低。刻划光栅的刻槽是机械制作，因此有更高的错误率。全息光栅一次成型，基本没有失误。对于像拉曼光谱仪这种对信噪比要求很高的应用，全息光栅固有的低杂散光具有很大的优势分辨率：光栅的分辨率是指其具有的在空间上分开两个波长的能力。它是采用瑞利判据决定衍射极大值；当一个波长的最大值与第二波长的最小值重合时，认为两个波长是分开的。分辨率（R）是由R=&lambda /&Delta &lambda = nN定义的，其中&Delta &lambda 是可分辨的波长差，n为衍射级次，N是刻线数。刻线式衍射光栅 全息衍射光栅 中阶梯光栅 UV透射光栅 透射率可变光栅 近红外透射型光栅 300纳米闪耀波长Zoom Item #Grooves/mmBlaze AngleDispersion (nm/mrad)Size (mm)Efficiency Curves*300 nm Blaze WavelengthGR25-03033002° 34' 3.3325 x 25GR50-06036005° 9' 1.6750 x 50GR13-1203120010° 22' 0.8212.7 x 12.7*所有光栅都是在Littrow结构下测量的；所有光栅镀有铝（Al）反射膜。平行的偏振平行于光栅槽。 400纳米闪耀波长Zoom Item #Grooves/mmBlaze AngleDispersion (nm/mrad)Size (mm)Efficiency Curves*400 nm Blaze WavelengthGR25-1204120013° 53' 0.8125 x 25GR50-1204120013° 53' 0.8150 x 50*所有光栅都是在Littrow结构下测量的；所有光栅镀有铝（Al）反射膜。平行的偏振平行于光栅槽。500纳米闪耀波长Zoom Item #Grooves/mmBlaze AngleDispersion (nm/mrad)Size (mm)Efficiency Curves*500 nm Blaze WavelengthGR13-03053004° 18' 3.3212.7 x 12.7GR25-03053004° 18' 3.3225 x 25GR50-03053004° 18' 3.3250 x 50GR13-06056008° 37' 1.6512.7 x 12.7GR25-06056008° 37' 1.6525 x 25GR50-06056008° 37' 1.6550 x 50GR13-1205120017° 27' 0.8012.7 x 12.7GR25-1205120017° 27' 0.8025 x 25GR50-1205120017° 27' 0.8050 x 50GR13-1850180026° 44' 0.5012.7 x 12.7GR25-1850180026° 44' 0.5025 x 25GR50-1850180026° 44' 0.5050 x 50*所有光栅都是在Littrow结构下测量的；所有光栅镀有铝（Al）反射膜。平行的偏振平行于光栅槽。750纳米闪耀波长衍射光栅Zoom Item #Grooves/mmBlaze AngleDispersion (nm/mrad)Size (mm)Efficiency Curves*750 nm Blaze WavelengthGR13-060860013° 0' 1.6212.7 x 12.7GR25-060860013° 0' 1.6225 x 25GR50-060860013° 0' 1.6250 x 50GR13-1208120026° 44' 0.7412.7 x 12.7GR25-1208120026° 44' 0.7425 x 25GR50-1208120026° 44' 0.7450 x 50*所有光栅都是在Littrow结构下测量的；所有光栅镀有铝（Al）反射膜。平行的偏振平行于光栅槽。1微米闪耀波长衍射光栅Zoom Item #Grooves/mmBlaze AngleDispersion (nm/mrad)Size (mm)Efficiency Curves*1 µ m Blaze WavelengthGR13-03103008° 36' 3.3012.7 x 12.7GR25-03103008° 36' 3.3025 x 25GR50-03103008° 36' 3.3050 x 50GR13-061060017° 27' 1.5912.7 x 12.7GR25-061060017° 27' 1.5925 x 25GR50-061060017° 27' 1.5950 x 50GR13-1210120036° 52' 0.6712.7 x 12.7GR25-1210120036° 52' 0.6725 x 25GR50-1210120036° 52' 0.6750 x 50*所有光栅都是在Littrow结构下测量的；所有光栅镀有铝（Al）反射膜。平行的偏振平行于光栅槽。10.6微米闪耀波长衍射光栅Zoom Item #Grooves/mmBlaze AngleDispersion (nm/mrad)Size (mm)Efficiency Curves*10.6 µ m Blaze WavelengthGR1325-071067521° 12.312.5 x 25GR2550-071067521° 12.325 x 50GR1325-1010610027° 8.512.5 x 25GR2550-1010610027° 8.525 x 50GR1325-1510615035° 4.212.5 x 25GR2550-1510615035° 4.225 x 50*所有光栅都是在Littrow结构下测量的；所有光栅镀有铝（Al）反射膜。平行的偏振平行于光栅槽。反射式全息光栅特性峰值波长下效率可达45％至65％优化了在紫外光谱、可见光谱下的性能不依赖于入射角基底材质：Borofloat玻璃三种尺寸规格：12.7x12.7x6.0mm，25x25x6.0mm以及50x50x9.5mmThorlabs提供一系列专为需要高信噪比的高端应用而优化设计的全息衍射光栅。全息光栅具有杂散光少的特点，基本消除了刻线光栅所无法避免的鬼线，使其成为拉曼光谱学等需要高信噪比的应用的理想解决方案。我们的全息光栅对紫外光谱和可见光谱段的性能进行了优化，并有刻线密度从600线/mm到3600线/mm不等的三种不同尺寸规格。三种尺寸分别是12.7x12.7x6.0mm，25x25x6.0mm以及50x50x9.5mm，尺寸公差± 0.5mm。 阶梯光栅的特别注意事项光栅方程: 一般光栅方程如下： n&lambda = d(sin &theta + sin &theta ' )其中n是衍射级次，&lambda 是衍射波长，d是光栅常数（两个刻槽间的距离）&theta 是入射角，&theta ' 是衍射角自由光谱范围: 自由光谱范围是指没有和相邻衍射级次发生干涉（重叠）时的指定级次的最大带宽。自由光谱范围随着光栅间距的减小而增加，随着级次的增加而较小。如果&lambda 1，&lambda 2分别是感兴趣的波长下限和上限，那么：自由光谱范围=&lambda 2 - &lambda 1 = &lambda 1/n阶梯光栅的使用: 阶梯光栅极高的衍射角度将能量集中在高级次上。最简单的情况是光束以0° 角入射到光栅上，光栅方程简化为n&lambda = d sin &theta ' ，解方程得：sin &theta ' = n&lambda / d由此推论，在高阶中，两个波长之间的角距离变得更大。想象一下有两条线，一条为600 纳米，另一条为605 纳米，入射到31.6线/ 毫米的光栅上。从上面的方程可以得到，在N=1时角距离为0.009 ° ，但在N=40时角距离为0.6 ° 。缺点就是自由光谱范围的降低，从630纳米（630 纳米/1）降至15.8纳米（630 纳米/40）。通常，配合使用分光棱镜和阶梯光栅进行级次分离。

SHINE便携式X射线衍射仪是浪声科学结合XRD、XRF和计算机软件等多项技术，自主研发的一款便携式X射线衍射设备。仪器通过对样品进行X射线衍射，分析其衍射图谱，获得材料的成分、材料内部原子或分子的结构或形态等信息（材料主要成分、次要成份或微量成份的全晶相ID信息），具有制样简单、无污染、快捷、测量精度高、能得到有关晶体完整性的大量信息等优点，是研究物质的物相和晶体结构的主要方法。SHINE在X射线束穿过样品的位置处使用透射几何技术，微聚焦X射线管发射X射线束通过准直器照射在样品池中的粉末颗粒，独特的振动系统使得粉末颗粒更多的晶面暴露在X射线束下，在满足布拉格定律时发生衍射现象从而在CCD上采集衍射图谱。样品池中的样品量固定不变，因此样品密度的变化不会影响分辨率。这个特点对于低密度材料尤其重要，如：药物样品，与基于反射几何技术的仪器相比，仪器在穿透性能固定的情况下可以获得更高的分辨率。使用优势便携式仪器采用防水防尘箱一体机设计，无任何机械移动部件，轻便小巧，方便携带，可自由进行实验室/野外现场科学研究。集成性XRD与XRF技术集成，在每次检测中，能够同时采集XRD和XRF的X射线光子数据，提供物质成分、物相及结构信息，从而促进检测结果更加精准。简便性仪器一键式操作，无需校正，自动检测。实时显示全谱衍射图，自动进行物相分析，一键生成定量结果。制样简单单次分析仅需要20毫克左右的样品即可获得优质的检测结果，样品制备无需制片、压片、刮平等，3分钟即可完成样品制样（粉碎、滤筛、装样）。数据传输仪器通过USB, 蓝牙，WIFI与笔记本电脑实现高速连接，实时对映SHINE仪器进行控制及物相分析。安全性专业的多重防护辐射处理，测量时仪器全方位无任何辐射泄漏。应用场景生物医药环境监测地质勘探教育与研究金属化合物化学与催化剂规格参数XRD分辨率0.2°@2θ FWHMXRD范围5-55°2θ探测器2000 X 256像素，2维3级Pelter制冷CCDX射线管靶材集束微焦斑X射线管，Cu 或 Co、Cr、Fe、Ni、Mo、Ag、W 靶(可根据检测样品选配)X射线管电压50kV最大，0-50kV可调节X射线管功率40W最大，0-40W可调节XRF能量分辨率127eV@8keV样品颗粒大小样品颗粒150um (100目筛)散热方式水冷样品量约20mg工作温度 -10°C-35°C重量15KG电源锂离子电池或电源适配器尺寸50×40×18.8cm（L×W×H）CrystalX分析软件语言中文、英语等多国语言

弯晶产品系列1、弯晶概述北京泰坤工业设备有限公司开发各类型X射线衍射弯晶。提供多种材料的弯晶制备， 如石墨、氟化锂晶体系列、锗和硅等；同时致力于开发多种 结构的弯晶构型，包括约翰型、约翰森、对数螺线、椭球和 Von Hamos等。弯晶广泛应用于单色X射线荧光激发、同时多道型波长色 散X射线荧光光谱仪、双弯晶X射线荧光测量、以及弯晶谱 仪和中子衍射等领域。北京泰坤的服务范围涵盖了弯晶的设计、制作和测试， 并提供一站式的弯晶套装解决方案。2、工作原理弯晶的设计原理基于布拉格衍射定律，即当入射X射线与晶体晶格相互作用时，会发生衍射现象。通过合理选择材料和弯晶的形状，能够精确控制X射线的衍射效应，从而实现X射线的单色反射聚焦。由 于X射线对所有物质的折射率接近为1，衍射是极少数能改变X射线传播方向的方案之一，使得弯晶成为 重要的X射线光学器件。双曲结构的弯晶还可以实现单色X射线的点对点聚焦。 3、弯晶材料北京泰坤进行了大量的对比测试，对各种弯晶材料进行了全面的研究，总结出相应的的性能特点，可以为客户提供优化设计的支持。弯晶石墨LiF200、LiF220及LiF420Ge(111)Si(111)反射率++++++-稳定性++++++++导热性+++++++4、弯晶构型北京泰坤可以提供多种构型的弯晶，并对各种弯晶构型做了详细测试，综合出各构型差异。还可承接椭球和Von Hamos等构型弯晶的设计、制作与集成业务。5、行业应用1.弯晶是X射线荧光光谱(XRF)分析的重要发展方向。北京泰坤生产的弯晶可用于Cr靶、Rh靶、Ag靶以及Ce靶光管的单色特征X射线点对点聚焦。通过弯晶的应用，XRF能够在激发端有效降低荧光背景，检出限相比传统能谱方案降低一个数量级，如硫的检出限可达到1ppm以下，符合ASTM D7220标准。2.发射端采用弯晶单色聚焦，部分重元素的检出限降低至0.04ppm水平。 3.当激发和发射端同时采用弯晶时，检出限相比传统能谱测量方案可降低1-2个数量级，测硫方案符合ASTM 7039标准；部分元素的检出限可达到ICP-OES检测水准。4.弯晶在同步辐射光源、加速器和重离子检测等领域的X射线精细光谱分析中具有重要应用价值，还可以应用于中子衍射领域。5.北京泰坤提供完整的弯晶套件服务，将设计、制作和调试打包成一体，为客户提供一站式的解决方案。客户只需提供光管和探测器，即可开始工作。我们致力于为客户提供高质量的服务和支持，保证客户能够充分利用弯晶技术的优势。

Thermo Scientific ARL EQUINOX 100 X 射线衍射仪体积精巧、价格亲民，是专门设计用于 QA/QC、科研和常规 X 射线衍射应用的专用 XRD 仪器。这一便携式单机台式仪器的占地空间只有传统衍射仪的三分之一，实现了真正的灵活性。它无需外部水冷，且可插入标准电源插座。这一仪器简化了操作流程，同时不会影响速度或性能。得益于专用的实时检测模式，测量在几秒钟内即可完成。市场上选择面较广的台式 XRD（透射和反射模式）样品架可随处安装和使用、非常小巧的台式 XRD高样品处理量（分析时间短）独特的 ARL EQUINOX 弧形检测器能够同时测量宽角度范围内的所有衍射峰。对于不同的分辨率要求，均能在几分钟内完成样品的分析。实时测量 110° 2Ø 无需扫描高强度光学微焦点 X 射线源无需外部水冷，可插入标准电源提供许多样品架，可用于：透射和反射模式下的粉末、块体、薄膜、原位研究以及自动分析，这归功于专用的样品转换器易于使用和安装在各种环境中：实验室、移动实验室、货车处理和应用：相鉴别、定量、结晶度、细胞参数、晶体尺寸、晶格应变、晶体结构、Rietveld 分析、过渡相、薄膜分析（GIXRD、XRR）

布鲁克 JV-QCVelox X射线衍射仪 XRD——用于 LED 和外延层晶圆分析的生产专用高分辨率 X 射线衍射系统 产 品 概 述Bruker’的 JV-QCVelox 是长期运行的 JV-QC 仪器中z新、z先进的 HRXRD。它是化合物半导体行业高分辨率 X 射线衍射的专用质量控制工具。 它适用于表征所有常见的半导体衬底，包括Si、GaAs、InP、GaN 等。测量可以部分或完全自动化运行，用户可自定义的脚本处理日常工作。 VeloMAX&trade 光学器件：通过 10 倍以上的强度改进实现高生产率 JV-QC-Velox 系统的入射光束包括许多标准功能以获得高强度。 晶体选择根据材料进行了优化：在不损失分辨率的情况下，提高了通量并提高了可重复性。在不降低分辨率的情况下，可以实现比以前更快的测量和更高的精度。 这是在 MQW 分析中保持准确的成分值的关键。多层反射镜作为所有 JV-QC-Velox 系统的标准配置对于高镶嵌样品，使用 25 英寸的调节晶体发散角来增强系统（标配）对于传统的 III-V 系统，可以提供更高分辨率的调节晶体 (10”) 来代替 25” 晶体（需要在采购订单上注明）系统的校准可以轻松安全地进行，机柜中没有开梁。检测器级包括许多标准功能，可以增强系统的能力EDRc（增强动态范围）检测器的动态范围 2x107自动衰减器，通过控制软件进行控制。这将系统动态范围增加到超过3x108三轴晶体是获得所需晶体的关键GaN测量的分辨率。电动探测器狭缝允许对系统进行控制分辨率，无需手动更换模块所有探测器级组件都是自动对齐的通过电脑 HRXRD 技术 材料：单晶衬底（例如 Si、GaAs、InP、GaN）和外延层，包括多层结构参数：层厚度、成分和松弛、应变、区域均匀性、失配、掺杂剂水平、错切、层倾斜。直接测量多层结构内层的松弛/应变/组成自动样品校准、测量、分析和报告由 JV-RADS 软件执行的分析。化合物半导体衬底可实现对称、非对称和斜对称反射 VeloSWAP: 高级样品板运动学样品板：可以快速更换样品板——每个板都可以在几秒钟内移除/更换。 由于运动加载，安装后无需对齐板。 可以提供多个板并互换使用。31 x 2” 运动学样品板，用于大批量测量，以增加板重新加载之间的时间并提高生产力和工具效率。外部条码阅读器可以安装到工具或独立站。JV-QCVelox 配备机器人，可从晶圆盒进行全自动测量2” 至 200 毫米磁带自动检测晶圆盒尺寸任意数量插槽的任意配方组合提高更大晶圆尺寸的生产力无需人工处理晶圆，提高晶圆清洁度 bruker 布鲁克 JV-QCVelox X射线衍射仪 XRD产品规格布鲁克 JV-DX X射线衍射仪 XRD ——X射线测量满足您的研发需求Jordan Valley 的 Delta-X 是用于材料研究、工艺开发和质量控制的新一代柔性 X 射线衍射仪器。 该系统具有全自动源和检测器光学元件以及水平样品安装，可以在完全计算机/配方控制下在标准和高分辨率 X 射线衍射和 X 射线反射率模式之间切换，而无需手动更改配置。 这可确保每次使用佳工具配置，而无需专家设置工具以供使用。&bull 样品的自动校准、测量和分析&bull 测量的自动化程度由用户定义&bull 使用 300 毫米欧拉支架实现高精度样品定位和扫描&bull 全300mm 晶圆水平贴装和映射&bull 由于 100° 倾斜 (Chi) 和无限方位角旋转 (Phi)，可以进行极点图和残余应力测量&bull 根据请求的测量进行智能自动工具对齐和重新配置&bull 行业领先的设备控制和分析软件&bull 使用高分辨率测角仪进行准确和精确的测量&bull 高强度光源和光学元件可实现快速测量&bull 可用的技术和参数范围广泛&bull 由拥有 30 多年经验和庞大的全球安装基础的高分辨率 X 射线衍射领域的专家打造 自动源和检测器阶段&bull 光源光学器件的开发考虑到了易用性和佳性能。 所有系统均标配平行光束多层反射镜，可提供适用于 XRR 和 XRD 测量的高强度光束。&bull 为了启用HRXRD，可以安装一系列晶体光学器件，以涵盖从8” (Ge 004) 到 40” (Ge 111) 的分辨率。 可根据要求提供定制晶体。&bull 它们会自动切换进出光束路径，以便能够在同一自动测量批次中覆盖适用于不同基板类型和不同技术的光束配置。 与其他系统不同，无需手动从系统中移除镜子或晶体，以确保它们不会损坏或错位。 高分辨衍射仪 & X 射线反射率高分辨率 XRD 是第一原理测量，可以确定外延层的厚度、成分、松弛、应变、掺杂剂水平和误切&bull 直接测量多层结构内层的松弛/应变/组成&bull 在需要时将三轴分析仪晶体自动插入和对齐到光束中&bull 自动样品校准、测量、分析和报告&bull 倒数空间图在几分钟内完成并使用PeakSplit 进行分析&bull 可以使用模拟双轴和三轴衍射扫描&bull JV-RADS分析软件X 射线反射率 (XRR) 是第一原理测量，可以确定薄膜的厚度、密度和粗糙度&bull 第一原理，无损测量&bull XRR 对材料质量不敏感，因此层可以是非晶、多晶或外延层&bull 金属、氮化物、氧化物、有机物、聚合物……&bull 自动样品校准、测量、分析和报告&bull 厚度范围从 1nm 到 1μm，取决于吸收 分析软件JV-DX 系统上使用的分析软件套件以 30 年的 X 射线表征和薄膜计量经验为基础。 基于在 Bede Scientific 的分析软件套件中，JV-DX 分析包包括行业领先的高分辨率 X 射线衍射 (HRXRD)、X 射线反射率 (XRR) 和 XRD 软件模拟软件。 bruker布鲁克 JV-DX X射线衍射仪 XRD规格售后服务保修期：