入射照明台

D6 PHASER是德国布鲁克AXS公司新推出全球首款用于X射线粉末衍射反射与透射几何、掠入射衍射与反射法薄膜分析以及块体样品应力和织构分析的台式衍射仪平台。 D6 PHASER是一个开创性的台式X射线衍射平台，它兼具可操作性与灵活性。与传统台式衍射仪不同的是，D6 PHASER提供了超越粉末衍射的先进分析方法。凭借广泛的应用，D6 PHASER为X射线衍射技术开辟了新的市场和用户群体。&bull 能够满足用户的各项研究需求。&bull 发生器功率高达1200w&bull 3个发生器和探测器、6个样品台，适用于8项应用，为您开启无限的研究机会&bull 采用动态光束优化（DBO）技术，可实现更高强度和角度精度（即使在更换样品台的情况下，也保证峰位置优于0.01°的角度偏差）技术参数：&bull 2θ校准精度保证在±0.01°以内&bull 高压发生器：600瓦或者1,200瓦&bull 久经考验的测角仪&bull LYNXEYE XE-T能量分辨探测器&bull 无需外接水冷&bull 占地面积小主要特点：● 强大功率高达1.2 千瓦，包含内部冷却系统久经考验的测角仪LYNXEYE XE-T能量分辨探测器可选配电动光学器件● 多功能适用于基本粉末衍射以外的多种测量类型，是D6 PHASER的标志性特色之一，使其成为能支持各种实验的真正通用平台。反射和透射非环境衍射掠入射衍射、X射线反射、应力、织构● 易用用户无需经过培训。基于布鲁克简单易用的软件及其对XRD分析方法的广泛了解，以及价格合理的自动化附件，D6 PHASER 能够以直观的方式，指导用户实施这些分析方法。动态光束优化（DBO）触摸面板操作样品台和光学器件切换

高品质的紧凑型LED2000照明系统适用于Leica S4 E、Leica S6和Leica M80系列立体显微镜，结合了超过25,000小时的明亮入射LED照明和入射光座，便于运输，节省更多的空间。多功能系统，带4个编程的入射照明序列，提供了各种对比和照明技术，为特定的应用程序进行快速简便的设置。您的优势集成紧凑的设计集成紧凑的设计-在一个单元中的支架和入射照明便于运输和较低的空间需求。快速更改设置4种预置入射照明序列 - 与冷光源的解决方案相比，提供多种对比度和照明技术，可快速更改设置。明亮的入射光对比集成4点LED顶灯 - 确保均匀，明亮入射照明。直观的光管理器集成的直观的光管理器触摸屏 - 可以轻松地进行调整，以实现高品质的亮度水平。

掠入射反射镜可用于高能X射线和宽带XUV光源的转向和聚焦。定制化椭球反射镜和超环面反射镜可用于阿秒光谱成像以及其他XUV应用。掠入射多层膜反射镜可用于X射线单色仪。产品特点：材料：Fused Silica, Low Expansion Glass 椭球面, 超环面, 柱面, 平面粗糙度：0.5nm rms最大尺寸: Flat: 1000 mm ；Curved: 300 mm参数：武汉东隆科技有限公司是日本NTT-AT中国区代理，如需了解更多产品详情，请随时来电垂询027-87807177/819.

苏州锂影+ 实验室桌面型二维掠入射X射线衍射 同步辐射测试01同步辐射光源，由于强度高、亮度大、准直性好，广受科研工作者们的欢迎。我们国家现有多个同步辐射光源：北京同步辐射装置（BSRF，第一代光源）、合肥国家同步辐射国家实验室（NSRL，第二代光源）、上海光源（SSRF，第三代光源），还有马上投入运行的大连的深紫外以及上海软X射线自由电子激光装置（FEL，第四代光源），以及在建中的北京高能同步辐射、上海光源、合肥光源。另外，在台湾也有两台光源。但是，封校、避免人员流动等防疫措施的限制下，让2D-GIWAXS测试难上加难。别急，还有一个解决办法！ 锂影制造02 锂影科技在丹东浩元DX2900衍射仪安全壳体的基础上装配了美国XOS公司的多毛细管微焦点光源、锂影科技的两轴薄膜样品台、瑞士Dectris公司的Pilatus100K二维阵列探测器，加上锂影科技开发的配套测试软件，组装得到实验室桌面型二维掠入射X射线衍射仪。同时，结合锂影科技在衍射仪配件定制开发方面的优势，为该款机型配备了多种测试模块，薄膜样品台、透射样品台、惰性气体保护台（手套箱内组装好保持惰性氛围测试）和原位气氛处理台（支持大多数溶剂）。测试界面 聚合物样品二维衍射图技术参数 031. X射线发生器：铜靶或钼靶，功率50W（工作电压50KV、工作电流1mA）2.多毛细管：准直度0.25°，焦斑直径0.5mm，光强10^8ph/s3. 两轴薄膜样品台：Omega轴范围-10°~10°，精度0.002°；Z轴范围0-15mm，精度0.002mm4. 二维阵列探测器：487×195像素，每个像素大小172微米5.可以配备透射样品台、原位薄膜热台、原位溶剂气氛处理附件、气氛保护附件等6.薄膜样品台可根据需求升级至三轴到五轴薄膜样品台，二维阵列探测器可根据需求升级至Pilatus200K、Eiger500K/1M测试效果如下：碘化铅甲胺铅溴钙钛矿聚丁烯样条透射XRDN2200 锂影团队长期从事于X射线衍射仪的开发与应用研究，积累了丰富的项目经验。团队针对智能化快速X射线衍射仪已经开展了类德拜照相、多位样品台设计、多线程控制软件设计等相关基础研发工作。苏州锂影科技有限公司为您提供高端衍射仪个性化定制服务

掠入射光栅掠入射是既可以调谐波长，又可以提高染料激光分辨率的经济简单的结构。全息光栅作为染料激光器的全反腔镜，入射光几乎是垂直于光栅法线的方向入射。89°入射可以使激光覆盖光栅大部分面积，且角色散和功率的分散都明显增加。光栅和反射镜（12.7mm×50.8mm）的组合可以优化掠入射。光栅的闪耀角是固定的，因此，可以通过旋转反射镜来调谐波长。激光在掠入射光栅中衍射两次，使分辨率双倍提高。而光栅效率会更低，但这可以通过染料激光器的高增益来弥补。REPLICATED HOLOGRAPHIC GRATING (12.7 x 50.8 mm)刻线/mm闪耀波长nm普通 (TF)UTF-P (脉冲)UTF-CW (连续)RULED1200Vis5-24015-24065-24101800Vis5-24025-24075-24112400Vis5-24035-24085-24123600UV5-24045-24095-2413RULED12.7 x 50.8 mm5-2405

EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量快速变化的纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的绝对厚度测量。EMPro采用了量拓科技多项专利技术。特点：原子层量级的极高灵敏度百毫秒量级的快速测量简单方便的仪器操作应用：EMPro适合于高精度要求的科研和工业产品环境中的新品研发或质量控制。EMPro可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。EMPro可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。 技术指标： 项目技术指标仪器型号EMPro31激光波长632.8nm (He-Ne Laser)（1）膜层厚度精度0.01nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)（1）折射率精度1x10-4 (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)单次测量时间与测量设置相关，典型0.6s结构PSCA（&Delta 在0° 或180° 附近时也具有极高的准确度）激光光束直径1mm入射角度40° -90° 可手动调节，步进5° 样品方位调整Z轴高度调节：± 6.5mm二维俯仰调节：± 4° 样品对准：光学自准直和显微对准系统样品台尺寸平面样品直径可达&Phi 170mm最大的膜层范围透明薄膜可达4000nm吸收薄膜则与材料性质相关最大外形尺寸887 x 332 x 552mm (入射角为90º 时)仪器重量（净重）25Kg选配件水平XY轴调节平移台真空吸附泵软件ETEM软件：中英文界面可选；l多个预设项目供快捷操作使用；l单角度测量/多角度测量操作和数据拟合；方便的数据显示、编辑和输出丰富的模型和材料数据库支持 注：(1)精度：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。性能保证： 高稳定性的He-Ne激光光源、先进的采样方法以及低噪声探测技术，保证了高稳定性和高准确度高精度的光学自准直系统，保证了快速、高精度的样品方位对准稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测量分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和绝对厚度的测量一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用

SVT公司的气体入射源是为气体源分子束外延（GSMBE）设计的。 SVTA-APH3-GCS入射源用于裂解砷化氢和磷化氢以进行高质量的III-V材料生长。 源采用单灯丝加热，双气体管炉提高气体裂解的效率。 它还采用一系列光阑板(aperture plates)满足客户对裂解性能的要求。 热裂解区由高纯PBN材料和钽材料制作的。其在最高温度下也可提供超高纯环境。 完整的气体入射源系统还包括具有较大压力的气体传输系统。 为提高束流分布均一性，可定制源长度。 典型应用 用于III-V材料系统 具有很高的气体裂解能力 先进的气体操作系统 温度150 oC-1,300 oC MFC/自动束流控制

LED5000 SLI射灯照明器，以其灵活的双臂鹅颈管和集成的LED射灯，使您更轻松地调整入射光的对比度。新设计的操作概念中含有单独的鹅颈管，集成的控制单元简化了操作，将布线需求降低到最低的限度。该工作站并非堆满额外的控制单元。这有利于实验室中任务的排序和生产中的质量控制，而这需要不同的对比度。低对比度和更均匀的照明所需的较陡的LED位置，或更强的阴影和对比度的平直的LED位置。您的优势灵活的双臂鹅颈管，带集成的LED射灯简单的对比度调节可用于不同的样本和应用。LED射灯，带可移动的扩散器减少有光泽工件的反射会使工作变得愉快。第二条徕卡 CAN总线LED5000 RL或CXI ，可以直接连接到LED5000SLI上。通过徕卡应用套件进行操作通过徕卡软件对LED射灯的轻松控制提供额外的舒适度和便利性。500毫米长的鹅颈管使其非常适合于高性能的立体显微镜，如Leica M125、M165 C和 M205 C。全新设计的操作理念控制单元符合人体工程学的定位。布线减少。

EM13LD 系列是采用先进的测量技术，针对普通精度需求的研发和质量控制领域推出的多入射角激光椭偏仪。 EM13LD系列采用半导体激光器作为光源，可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的绝对厚度测量。 EM13LD系列采用了量拓科技多项专利技术。特点：次纳米的高灵敏度国际先进的采样方法、稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量极薄纳米薄膜，膜厚精度可达到0.5nm。3秒的快速测量国际水准的仪器设计，在保证精度和准确度的同时，可在3秒内快速完成一次测量，可对纳米膜层生长过程进行测量。简单方便的仪器操作用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出。丰富的模型库、材料库方便用户进行高级测量设置。应用：EM13LD系列适合于普通精度要求的科研和工业环境中的新品研发或质量控制。EM13LD系列可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。EM13LD可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。技术指标: 项目技术指标仪器型号EM13 LD/635 (或其它选定波长)激光波长635 nm (或其它选定波长，高稳定半导体激光器)膜厚测量重复性（1）0.5nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)折射率测量重复性（1）5x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)单次测量时间与测量设置相关，典型3s最大的膜层范围透明薄膜可达1000nm吸收薄膜则与材料性质相关光学结构PSCA（&Delta 在0° 或180° 附近时也具有极高的准确度）激光光束直径2mm入射角度40° -90° 可手动调节，步进5° 样品方位调整Z轴高度调节：± 6.5mm二维俯仰调节：± 4° 样品对准：光学自准直和显微对准系统样品台尺寸平面样品直径可达&Phi 170mm最大外形尺寸887 x 332 x 552mm (入射角为90º 时)仪器重量（净重）25Kg选配件水平XY轴调节平移台，真空吸附泵软件(ETEM)* 中英文界面可选* 多个预设项目供快捷操作使用* 单角度测量/多角度测量操作和数据拟合* 方便的数据显示、编辑和输出* 丰富的模型和材料数据库支持 注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。 性能保证:稳定性的半导体激光光源、先进的采样方法，保证了稳定性和准确度 高精度的光学自准直系统，保证了快速、高精度的样品方位对准 稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测量 分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和绝对厚度的测量 一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间 一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用 可选配件： NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片 NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片 VP01真空吸附泵 VP02真空吸附泵 样品池

EM12是采用先进的测量技术，针对中端精度需求的研发和质量控制领域推出的精致型多入射角激光椭偏仪。 EM12可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的绝对厚度测量。 EM12采用了量拓科技多项专利技术。特点：次纳米量级的高灵敏度国际先进的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量极薄纳米薄膜，膜厚精度可达到0.2nm。1.6秒的快速测量国际水准的仪器设计，在保证精度和准确度的同时，可在1.6秒内快速完成一次测量，可对纳米膜层生长过程进行测量。简单方便的仪器操作用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出。丰富的模型库、材料库方便用户进行高级测量设置。应用：EM12适合于中端精度要求的科研和工业环境中的新品研发或质量控制。EM12可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。EM12可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。技术指标:项目技术指标仪器型号EM12激光波长632.8nm (He-Ne Laser)膜厚测量重复性（1）0.2nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)折射率测量重复性（1）2x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)单次测量时间与测量设置相关，典型1.6s最大的膜层范围透明薄膜可达4000nm吸收薄膜则与材料性质相关光学结构PSCA（&Delta 在0° 或180° 附近时也具有极高的准确度）激光光束直径1-2mm入射角度40° -90° 可手动调节，步进5° 样品方位调整Z轴高度调节：± 6.5mm二维俯仰调节：± 4° 样品对准：光学自准直和显微对准系统样品台尺寸平面样品直径可达&Phi 170mm最大外形尺寸887 x 332 x 552mm (入射角为90º 时)仪器重量（净重）25Kg选配件水平XY轴调节平移台真空吸附泵软件ETEM软件：中英文界面可选；多个预设项目供快捷操作使用；单角度测量/多角度测量操作和数据拟合；方便的数据显示、编辑和输出丰富的模型和材料数据库支持 注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。性能保证:稳定性的He-Ne激光光源、先进的采样方法，保证了高稳定性和高准确度高精度的光学自准直系统，保证了快速、高精度的样品方位对准稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测量分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和绝对厚度的测量一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用 可选配件：NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片VP01真空吸附泵VP02真空吸附泵样品池

高品质的紧凑型LeicaLED2500照明系统，适于LeicaS4 E、LeicaS6和LeicaM80系列立体显微镜，结合了超过 25,000小时明亮的入射光和透射光LED照明，其可以一起使用或单独进行控制，而且便于运输，节省更多的空间。多功能系统，带4种预设的入射照明序列，提供了各种对比和照明技术，可进行快速简便的设置。您的优势集成紧凑的设计集成紧凑的设计-在一个单元中的支架、入射和透射光照明，方便运输并具有较低的空间需求。快速更改设置4种预置入射照明序列 - 与冷光源的解决方案相比，提供多种对比度和照明技术，可快速更改设置。明亮的入射光对比集成的4点LED顶灯 - 确保均匀明亮的入射对比。直观的光管理器集成的直观的光管理器触摸屏 - 可以轻松地进行调整，以实现高品质的亮度水平。

ES0S3是针对科研和工业环境中薄膜测量领域推出的波长扫描式高精度多入射角光谱椭偏仪，此系列仪器的波长范围覆盖紫外、可见、近红外、到远红外。ESS03采用宽光谱光源结合扫描单色仪的方式实现高光谱分辨的椭偏测量。ESS03系列多入射角光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，膜层厚度、表面微粗糙度等）和光学参数（如，折射率n、消光系数k、复介电常数&epsilon 等），也可用于测量块状材料的光学参数。ESS03系列多入射角光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。技术特点：极宽的光谱范围 采用宽光谱光源、宽光谱扫描德系统光学设计，保证了仪器在极宽的光谱范围下都具有高准确度，非常适合于对光谱范围要求极其严格的场合。灵活的测量设置仪器的多个关键参数可根据要求而设定（包括：波长范围、扫描步距、入射角度等），极大地提高了测量的灵活性，可以胜任要求苛刻的样品。原子层量级的检测灵敏度国际先进的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的设计和制造工艺实现并保证了能够测量原子层量级地纳米薄膜，膜厚精度达到0.05nm。非常经济的技术方案 采用较经济的宽光谱光源结合扫描单色仪的方式实现高光谱分辨的椭偏测量，仪器整体成本得到有效降低。 应用领域：ESS03系列多入射角光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。ESS03适合很大范围的材料种类，包括对介质材料、聚合物、半导体、金属等的实时和非实时检测，光谱范围覆盖半导体地临界点，这对于测量和控制合成的半导体合金成分非常有用。并且适合于较大的膜厚范围（从次纳米量级到10微米左右）。ESS03可用于测量光面基底上的单层和多层纳米薄膜的厚度、折射率n及消光系数k。应用领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。薄膜相关应用涉及物理、化学、信息、环保等，典型应用如：半导体：如：介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜，激光二极管GaN和AlGaN、透明的电子器件等）；平板显示：TFT、OLED、等离子显示板、柔性显示板等；功能性涂料：增透型、自清洁型、电致变色型、镜面性光学涂层，以及高分子、油类、Al2O3表面镀层和处理等；生物和化学工程：有机薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子层、薄膜吸附、表面改性处理、液体等。节能环保领域：LOW-E玻璃等。ESS03系列也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。应用领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。典型应用包括：玻璃新品研发和质量控制等。技术指标：项目技术指标光谱范围ESS03VI：370-1700nmESS03UI：245-1700nm光谱分辨率（nm）可设置入射角度40° -90° 手动调节，步距5，重复性0.02准确度&delta (Psi): 0.02 ° ,&delta (Delta): 0.04° （透射模式测空气时）膜厚测量重复性（1）0.05nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)折射率n测量重复性（1）0.001 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)单次测量时间典型0.6s / Wavelength / Point（取决于测量模式）光学结构PSCA（&Delta 在0° 或180° 附近时也具有极高的准确度）可测量样品最大尺寸直径200 mm样品方位调整高度调节范围：10mm二维俯仰调节：± 4° 样品对准光学自准直显微和望远对准系统软件&bull 多语言界面切换&bull 预设项目供快捷操作使用&bull 安全的权限管理模式（管理员、操作员）&bull 方便的材料数据库以及多种色散模型库&bull 丰富的模型数据库选配件自动扫描样品台聚焦透镜 注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。可选配件： NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片 NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片 VP01真空吸附泵 VP02真空吸附泵 样品池

医用内窥镜照明系统质控分析仪，实现对医用内窥镜系统附件导光束与冷光源 的精准质控。系统集成光谱测试系统、成像分析系统、光辐射能量测试系统以及标准光源等，可基于设备端的智能分析算法，40 秒快速实现对 导光束与冷光源质量的合格判定；PC 端医用内窥镜全生命周期质控管理系统 记录与分析周期质控测试数据，计算照明系统预期使用寿命，对存在严重质量情况与失效风险的系统进行预警；具备医用经济学分析功能，分析高值医疗器械质控管理行为价值，为医疗机构降本增效提供数据支撑。质量故障和风险隐患医用内窥镜-照明系统主要由 导光束与冷光源两部分组成。导光束在临床使用中，反复受弯曲、拉扯、插拔 等机械应力作用，极易使其内部光纤折断；频繁污损使用致使光学性能下降明显；冷光源则因使用时间过长，存在失效风险。质控管理过程中缺少 高效便捷并适用于临床的测试设备，导致当前质控管理难度大，器械故障率高，存在较大风险隐患。1、导光束光纤束断裂2、导光束长期使用造成的光学性能下降3、冷光源长期使用造成的光学性能下降4、导光束维修后造成的光学性能下降5、冷光源维修后造成的光学性能下降测试参数1、导光束-光谱透过率/透过率/有效导光比2、导光束-纤维密度3、导光束-色差4、冷光源-显色指数5、冷光源-色温6、冷光源-光通量7、导光束与冷光源质量评价医用内窥镜照明装置质控测试系统分设备端软件数据分析软件与 PC 端医用内窥镜全生命周期质控管理系统 。开启设备后，分别插入导光束入射与出射端至设备指定接口，设备端软件自动分析导光束质量，并给出合格判定。测试完导光束后，使用该导光束插入到待测冷光源，系统自动测试光源相关数据。测试数据在联网状态下，自动传输至 PC 端软件，医用内窥镜全生命周期质控管理系统 根据质控管理数据记录，对医疗机构所属多台医用内窥镜照明系统质量进行综合分析，出具风险提示与维修建议，根据季度与年度医用经济学分析数据，全面落实“双高”医疗器械的精细化管理与运行管理的降本增效。设备端软件界面

ES03是针对科研和工业环境中薄膜测量推出的高精度多入射角光谱椭偏仪，仪器波长范围从紫外到近红外。ES03多入射角光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，厚度）和物理参数（如，折射率n、消光系数k），也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。 ES03系列适合于对样品进行实时和非实时的检测。特点：原子层量级的检测灵敏度 国际先进的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的设计和制造工艺实现并保证了能够测量原子层量级的纳米薄膜，膜厚精度达到0.05nm。秒级的快速测量 快速椭偏采样方法、高信噪比的信号探测、自动化的测量软件，在保证高精度和准确度的同时，10秒内快速完成一次全光谱椭偏测量。膜厚测量范围大 膜厚范围从次纳米量级到10微米左右。一键式仪器操作对于常规操作，只需鼠标点击一个按钮即可完成复杂的测量、建模、拟合和分析过程，丰富的模型库和材料库也同时方便了用户的高级操作需求。应用：ES03适合于科研和工业产品环境中的新品研发或质量控制。ES03系列多种光谱范围可满足不同应用场合。比如：ES03V适合于测量电介质材料、无定形半导体、聚合物等的实时和非实时检测。ES03U适合于很大范围的材料种类，包括对介质材料、聚合物、半导体、金属等的实时和非实时检测，光谱范围覆盖半导体的临界点，这对于测量和控制合成的半导体合金成分非常有用。并且适合于较大的膜厚范围（从次纳米量级到10微米左右）。ES03可用于测量光面基底上的单层和多层纳米薄膜的厚度、折射率n及消光系数k。应用领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。典型应用如：平板显示：TFT、OLED、等离子显示板、柔性显示板等；功能性涂料：增透型、自清洁型、电致变色型、镜面性光学涂层，以及高分子、油类、Al2O3表面镀层和处理等；生物和化学工程：有机薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子层、薄膜吸附、表面改性处理、液体等ES03也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。应用领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。典型应用包括：玻璃新品研发和质量控制等。技术指标：项目技术指标光谱范围ES03V：370-1000nmES03U：245-1000nm光谱分辨率1.5nm单次测量时间典型10s,取决于测量模式准确度&delta (Psi): 0.02 ° ,&delta (Delta): 0.04° （透射模式测空气时）膜厚测量重复性（1）0.05nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)折射率测量重复性（1）1x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)入射角度40° -90° 手动调节，步距5° ，重复性0.02° 光学结构PSCA（&Delta 在0° 或180° 附近时也具有极高的准确度）样品台尺寸可放置样品尺寸：直径170 mm样品方位调整高度调节范围：0-10mm二维俯仰调节：± 4° 样品对准光学自准直显微和望远对准系统软件&bull 多语言界面切换&bull 预设项目供快捷操作使用&bull 安全的权限管理模式（管理员、操作员）&bull 方便的材料数据库以及多种色散模型库&bull 丰富的模型数据库选配件自动扫描样品台聚焦透镜 注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。

CBr4是很好的III-V材料的p型掺杂源。在使用MBE技术生长p型掺杂外延材料中具有很多用途。 SVT公司CBr4模块适用于任何MBE，具有安全、操作简单等特点。CBr4通过一个压力控制系统被输送到腔室。此压力控制系统可以控制蒸汽压流量。气体控制面板可以精确控制CBr4气体的流量。特点● 适用于任何MBE● 高性能的气体入射源● 先进的气体操作系统● 安全，操作简单部件气体入射源● 带有加热器的入射源（长度可客户定制）● 温度控制器（可放在电子控制柜中）● 双接头气体管路气体操作系统● 外部手动可调阀门● 热漏阀和控制器● 冷阴极真空规以及控制器可选● 气动阀门● 气动阀门控制器● 气路烘烤装置

PG200N植物照明光谱检测仪防水型光照、重力感测器二合一科技农场中光照光谱技术、环控与植物的生长息息相关。优先掌握植物生长脉络就能提前实现全天候高效生长契机。新一代PG200N突破传统光量子计聚焦于光源分析，以使用者体验为出发点扩充软硬体功能。 PG200N植物照明光谱检测仪特色重力感测器G-sensor使用者了解量测点的位移角度，优化定位状态降低人为测量误差。适用于室外植栽、植物培养箱植物生长光谱比对提供植物参考光谱供使用者比对、补偿植物所需光照波段，加速植物有效生长及开花结果。量测波段扩增：350-800nm（UVA-FR）。IP66防泼水设计确保感测头不因受潮而影响测量精度PG200N手持式植物照明检测计规格照度计分级斜入射光特性符合JIS C 1609-1:2006一般型AA级斜入射光特性符合DIN 5032 Part7 B级光谱波长宽度约9nm(半波宽)光谱波长范围350-800nm测量范围1. 70-150000LX2. 0.5-1000W /m23. 1-3000umol/m2*s曝光时间100us-1000ms机体尺寸190 x 81.7 x 29.5 mm(H x WxD)重量280 g +-10g

Leica 各种 LED 照明光源为你提供各种均匀、高对比度、同轴、高度分散，或几乎无阴影的照明系统照明为各种入射光应用提供了冷调、自然的色光。与传统的卤素灯相比，LED技术耗电更低，持续时间更长，从而节省了能源和金钱。如果你正在寻找均匀、高对比度、同轴、高度分散，或几乎无阴影的照明系统，徕卡为您的应用和任务提供广谱LED照明灯。 明亮，均匀的照明：环形灯照明最适合于明亮，均匀的照明。Leica LED3000 RL, Leica LED5000 RL 高对比度光照： 高对比度照明提供高灵活性，可移动的鹅颈聚光灯照明。固定多对比照明提供了相同的结果，但他们的设计使得重复性的照明设置。聚光灯照明: Leica LED3000 SLI, Leica LED5000 SLI 多对比照明: Leica LED3000 MCI, Leica LED5000 MCI同轴照明，光束通过光学系统的指导和对样本中反映出来。这要求样品是光滑的反光。同轴照明可以用常规以及高性能的立体显微镜。Leica LED5000 CXI高度分散的照明：闪亮的样品往往是非常困难记录为文件。下或曝光过度区域收购数码显微镜摄像头，并不能得到进一步的评估。为了改善这个问题，一个特殊的圆顶照明开发与徕卡FlexDome™ 。Leica LED5000 HDI近无阴影照明：影无照明使用被称为“近垂直照明。”在这里，有两个 LED射灯是非常接近的光轴和样品上大放异彩。Leica LED3000 NVI

产品详情德国 laVision BioTec 光片照明显微镜Ultramicroscope 该荧光显微镜使用一层光束从样品侧面激发荧光样品，通过CCD来检测成像，而入射照明光路和CCD来检测成像，而入射照明光路和CCD接收荧光光路互相垂直。通过移动样品使入射光面激发不同的平面，且激发光束从左右两个方向入射到样品上，光束的角度可以改变，这样很容易的得到整个组织的3D图像，同时保证细胞水平的分辨率。☆ 唯一一款左右两光束多角度扫描显微镜-组织块3D图像的获取☆ 唯一一款平面光束激发荧光显微镜-保证了快速高分辨率的成像☆ 唯一一款超大工作距离荧光显微镜-实现最大尺寸样品的成像☆ 唯一一款选择性照明荧光显微镜-大大降低了光漂白和光损伤

EMPro-PV是针对光伏太阳能电池高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。 EMPro-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜镀层的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。EMPro-PV融合多项量拓科技专利技术，采用一体化样品台技术，兼容测量单晶和多晶太阳电池样品，并实现二者的轻松转换。一键式多线程操作软件，使得仪器操作简单安全。特点：粗糙绒面纳米薄膜的高灵敏测量先进的光能量增强技术、低噪声的探测器件以及高信噪比的微弱信号处理方法，实现了对粗糙表面散射为主和极低反射率为特征的绒面太阳电池表面镀层的高灵敏检测。原子层量级的极高灵敏度和准确度国际先进的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了极高的准确度和稳定性，测量绒面减反膜膜厚精度优于0.03nm，折射率精度优于0.0003。百毫秒量级的快速测量国际水准的仪器设计，在保证极高精度和准确度的同时，可在几百毫秒内快速完成一次测量，可满足快速多点检测和批量检测需求。简单方便安全的仪器操作一键式操作设计，用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出，丰富的模型库和材料库也同时方便了用户的高级操作需求。应用：EMPro-PV适合于光伏领域中高精度要求的工艺研发和生产现场的质量控制。可用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面上单层减反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。典型纳米膜层包括SiNx，ITO，TiO2，SiO2，A12O3，HfO2等。应用领域包括晶体硅太阳电池、薄膜太阳电池等。EMPro-PV也可用于测量光滑平面基底上镀的纳米单层膜或双层膜，包括膜层的厚度，以及在632.8nm下的折射率n和消光系数k。也可用于测量块状材料（包括，液体、金属、半导体、介质等）在632.8nm下的折射率n和消光系数k。应用领域包括半导体、微电子、平板显示等。技术指标：项目技术指标仪器型号EMPro-PV版本号31激光波长632.8nm (He-Ne Laser)膜厚测量重复性（1）0.01nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)0.03nm (对于绒面Si基底上80nm的Si3N4膜层)折射率精度（1）1x10-4 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)3x10-4 (对于绒面Si基底上80nm的Si3N4膜层)单次测量时间与测量设置相关，典型0.6s结构PSCA（&Delta 在0° 或180° 附近时也具有极高的准确度）激光光束直径1mm入射角度40° -90° 可手动调节，步进5° 样品方位调整一体化样品台轻松变换可测量单晶或多晶样品；可测量156*156mm电池样品上每个点Z轴高度调节：± 6.5mm二维俯仰调节：± 4° 样品对准：光学自准直显微和望远对准系统样品台尺寸平面样品直径可达&Phi 170mm兼容125*125mm和156*156mm的太阳能电池样品最大的膜层测量范围粗糙表面样品：与绒面物理结构及材料性质相关光滑平面样品：透明薄膜可达4000nm，吸收薄膜与材料性质相关最大外形尺寸(长x宽x高)887 x 332 x 552mm (入射角为90º 时)仪器重量（净重）25Kg选配件水平XY轴调节平移台真空吸附泵软件ETEM软件：l 中英文界面可选l 太阳能电池样品预设项目供快捷操作使用l 单角度测量/多角度测量操作和数据拟合l 方便的数据显示、编辑和输出l 丰富的模型和材料数据库支持 注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。性能保证：高稳定性的He-Ne激光光源、先进的采样方法以及低噪声探测技术，保证了高稳定性和高准确度一体化样品台技术，兼容单晶和多晶硅太阳电池样品,轻松变换可实现准确测量高精度的光学自准直显微和望远系统，保证了快速、高精度的样品方位对准新型样品调节技术，有效提高样品定位精度，并节省操作时间新型光电增强技术和独特的噪声处理方法，显著降低生产现场噪声的影响一体化集成式仪器整体设计，保证了系统稳定性，并节省空间分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和绝对厚度的测量一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用

EM12是采用先进的测量技术，针对中端精度需求的光伏太阳能电池研发和质量控制领域推出的精致型多入射角激光椭偏仪。EM12-PV用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度，以及在632.8nm下折射率n和消光系数k。EM12-PV融合多项量拓科技专利技术，采用一体化样品台技术，兼容测量单晶和多晶太阳电池样品。一键式多线程操作软件，使得仪器操作简单安全。特点：粗糙绒面纳米薄膜的测量先进的光能量增强技术、低噪声的探测器件以及高信噪比的微弱信号处理方法，实现了对粗糙表面散射为主和极低反射率为特征的绒面太阳电池表面纳米镀层的检测。次纳米量级的高灵敏度和准确度国际先进的采样方法、稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了高准确度和稳定性，测量绒面减反膜的厚度精度优于0.2nm。1.6秒的快速测量国际水准的仪器设计，在保证极高精度和准确度的同时，可在1.6秒内快速完成一次测量，可满足快速多点检测和批量检测需求。简单方便安全的仪器操作一键式操作设计，用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出，丰富的模型库和材料库也同时方便了用户的高级操作需求。应用：EM12-PV适合于光伏领域中端精度要求的工艺研发和生产现场的质量控制。EM12-PV可用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面上单层减反膜的厚度以及在632.8nm下的折射率n，典型纳米膜层包括SiNx，ITO，TiO2，SiO2，A12O3，HfO2等，应用领域包括晶体硅太阳电池、薄膜太阳电池等。EM12-PV也可用于测量光滑平面基底上的单层或双层纳米薄膜，包括膜层的厚度，以及在632.8nm下的折射率n和消光系数k。也可用于测量块状材料（包括，液体、金属、半导体、介质等）在632.8nm下的折射率n和消光系数k。应用领域包括半导体、微电子、平板显示等。技术指标：项目技术指标仪器型号EM12-PV激光波长632.8nm (He-Ne Laser)膜厚测量重复性（1）0.2nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)0.2nm (对于绒面Si基底上80nm的Si3N4膜层)折射率精度（1）2x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)2x10-3 (对于绒面Si基底上80nm的Si3N4膜层)单次测量时间与测量设置相关，典型1.6s光学结构PSCA（&Delta 在0° 或180° 附近时也具有极高的准确度）激光光束直径1-2mm入射角度40° -90° 可手动调节，步进5° 样品方位调整一体化样品台轻松变换可测量单晶或多晶样品可测量156*156mm电池样品上每个点Z轴高度调节：± 6.5mm二维俯仰调节：± 4° 样品对准：光学自准直显微和望远对准系统样品台尺寸平面样品直径可达&Phi 170mm兼容125*125mm和156*156mm的太阳能电池样品最大的膜层厚度范围粗糙表面样品：与绒面物理结构及材料性质相关光滑平面样品：透明薄膜可达4um，吸收薄膜与材料性质相关最大外形尺寸887 x 332 x 552mm (入射角为90º 时)仪器重量（净重）25Kg选配件水平XY轴调节平移台真空吸附泵软件ETEM软件：中英文界面可选太阳能电池样品预设项目供快捷操作使用单角度测量/多角度测量操作和数据拟合方便的数据显示、编辑和输出 丰富的模型和材料数据库支持 注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。性能保证：稳定的He-Ne激光光源、先进的采样方法以及低噪声探测技术，保证了稳定性和准确度一体化样品台技术，兼容单晶和多晶硅太阳电池样品,轻松变换可实现准确测量高精度的光学自准直显微和望远系统，保证了快速、高精度的样品方位对准新型样品调节技术，有效提高样品定位精度，并节省操作时间新型光电增强技术和独特的噪声处理方法，显著降低生产现场噪声的影响一体化集成式仪器整体设计，保证了系统稳定性，并节省空间分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和绝对厚度的测量一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用

产品介绍 激光系统经常被用于指示所感兴趣的区域（激光指示器）或者与电视相机匹配用于照明感兴趣的区域（激光照明器）。激光指示器有两个重要参数：功率及发散角。 LIP激光指示器/照明器测试系统适用于测试激光指示器与激光照明器。LIP测试系统由两个主要部分组成：LBIS光束成像系统与LCOP功率计。LBIS系统是一套具备大动态范围的成像系统，适用于不同功率等级的激光指示器/照明器（动态范围大于100 000）以及提供被测试激光系统的光强分布；LCOP功率计用于支持市场上几乎所有的激光指示器与激光照明器的功率测试。 LBIS光束成像系统由一个准直光管与一个电视相机组成。准直光管将入射的激光束聚焦到匀光片平面上。激光光斑的图像被电视相机拍摄，相机的超高动态范围支持捕捉极宽亮度范围的光斑。LBIS是计算机化的测量系统，软件内可以测量发散角和均匀性。LCOP光功率计由以下三个模块组成：光学探头，电子量度计和电源。光学探头是一个经过标定的大尺寸硅光电二极管。探头的独特设计使其具有超高动态范围和均匀的定向灵敏度。 产品参数表1 LCOP光功率计基本参数光谱范围400-1060nm有效口径24mm被测试功率范围0.001mW - 3W被测试功率分辨率0.001mW非线性度1**操作温度范围+10 °C to +35°C存储温度范围-5°C to +50°C尺寸电子表: 226x76x169 mm表2 LBIS成像系统基本参数光谱范围400-1000 nm口径46mm适用类型适用于测试功率为0.1mW到3W适用于发散角为0.25mrad到200mrad动态范围＞106相机1分辨率1280×1024窄视场24 mrad宽视场240mrad操作温度范围+10 °C 到 +35°C存储温度范围-5°C 到 +50°C尺寸1129x345x245mm重量约23kg

射灯照明器对所有类型的应用都非常有用，因为这些应用中，反射光具有不同的对比度是非常重要的。该LED3000 SLI射灯照明器包括柔性鹅颈管上的两个集成的LED射灯，使得这些调整变得非常快速和容易。倾斜的LED位置提供更强的阴影和对比度，并突出显示不平的表面。高角度LED的位置提供较低的对比度和更为均匀的照明。单个鹅颈管上的综合控制装置的操作概念是独一无二的。这简化了操作，最大限度地降低了布线的需求，并且工作台上不需要额外的控制单元。您的优势灵活的双臂鹅颈管，带集成的LED射灯简单的对比度调节可用于不同的样本和应用。全新设计的操作理念所述控制单元的符合人体工程学的位置。布线减少。LED射灯，带可移动的扩散器减少有光泽工件的反射会使工作变得愉快。第二条徕卡CAN总线第二台徕卡LED照明器，如LED3000 RL或NVI，可以直接连接到LED3000SLI。

VDH-01测试头主要技术参数符合标准:IEC 62493测试频率范围：20kHz-10MHz输出阻抗：50&Omega 接口:BNC测试头直径：210mm连接线长：300mm重量：1.7kg可选附件：木质三脚架、射频切换开关、EMI测量接收机主要测试对象：测量照明类设备对人体照射的影响

产品介绍：适用于铁路工务、电务、供电、运输等场所大范围检修、施工照明，同时也适用于电网、公消等行业抢险应急照明。采用采用双灯头设计，总功率功率达120W，聚、泛光可调满足不同客户的照明需求。 替代6120、6121在大型施工作业时大范围照明需求。放电时间＞8h，聚、泛光单独开启放电时间＞16h，满足夜间长时间施工照明灯具采用RFID扫描技术，批量快速的记录、点检工具和设备的出入库情况，采用图像的形式来生动、直观地指示工具和设备的出入库情况。完成点检后具有声光提醒功能。灯具采用一体化设计，升降高度为2m，灯头能快速收缩、折叠方便运输和移动整灯重量小于20Kg，配备走行轮满足拖行、手提、肩背的携带方式，可选配铁轨轮，携带较为方便摄像21台（B款）分辨率p A3 1920 * 1080 (1080P) ^变焦倍数p 10倍光学变焦“网络模式p 4G通、支持WiFi热点p旋转范围? ＃39 A3水平360*旋转^垂直-15°?90?旋转^使用环境p V ^ -20?40 一外形尺寸p收缩状态pmm*-*1635*410*260^升起状态一 635*410*2200^重量p kg^ 20±3p防护等级p灯头、云台^ A3 IP66^箱体p A3 IP54电压P V P DC 21.6 ?电池額定容1P Ah 3扣光源（LED〉w額定功李 2*60^平均寿命 h-、 50000 v 冰工興点检橫式p / gt RFID-1充电时间p h 8^

LED5000 HDI照明器能有效地阻隔环境光线并为反射最小的要求苛刻的表面提供照明。该产品基于圆顶照明器的概念，通过圆顶形状产生非常均匀一致的光线。圆顶（Leica FlexiDome）的机械设计灵活，使用硅橡胶，让您可以很容易地取拿样本。您可以节省大量的时间，因为样本可以在聚焦状态下进行校正。高度漫射的低对比度照明优化了动态范围，因此可以出色地适应于关键图像采集，如LAS蒙太奇或Leica StereoExplorer应用程序。您的优势Leica FlexiDome即使在聚焦状态也能保证自由取拿样本。这样就简化了样本的重新定位，同时节省了大量的时间。结果更好且可重复动态范围的优化往往使新的信息可见。这样通常会使数字图像处理结果得到改善。高度漫射照明间接的、均匀的光线照亮反射最小的高难度表面。

Dyn-Optics Model262-TR透光率测试仪262-TR型透射计/反射计透射是入射光经过折射穿过物体后的出射现象。被透射的物体为透明体或半透明体，如玻璃，滤色片等。若透明体是无色的，除少数光被反射外，大多数光均透过物体。为了表示透明体透过光的程度，通常用透过后的光通量与入射光通量 之比τ来表征物体的透光性质，τ称为光透射率。Dyn-Optics 262-TR型透射计/反射计是一种精密仪器，用于精确测量各种样品的透过率和反射率。该系统由采样测量级光纤耦合到信号处理和显示控制台组成。样品是建立在一个稳定可调的刚性轨道系统，以适应广泛的光学。控制台包括一个大的、明亮的LED显示器，用于测量透射率/反射率，使操作者能够快速、可靠地进行测量。控制台还包括后方的USB端口，用于由外部PC远程监视Dyn-Optics Model 262-TR的测量。Dyn-Optics 262型反射仪是用在光亮电镀工业，测量在旋转铝曲面上不同位置的反射率，多用于路灯和其他反射器。这种紧凑的台式仪器易于使用和简单的校准，从而为生产人员提供了一个快速的检测手段，以确保正在生产的反射器的质量。测量是通过光纤探头来进行的。反射率立即显示在31/2位亮红色数字仪表上。软探头通过光纤连接到仪器上。大多数反射器被用来照亮一个区域，以提高眼睛在夜间能见度。因此，反射计具有与眼睛相似的光谱(光)响应。所述照明源为白光LED，无移动部件，并同步解调以提供不受室内光线影响的系统。反射率测量 反射计 车灯反射率 透光率测量 透射率测量

紧凑型Leica LED1000照明系统适用于徕卡立体显微镜或放大观测器，可为样本提供了高达4000小时的高品质、无闪烁和无纹波LED照明。偏振滤光镜消除了反射，其他滤光镜可用于特定的应用需求。高度灵活的模块化系统提供了环形灯、射灯和透射光操作台，以及通用的100-240V电源。您的优势偏振滤光镜偏振滤光镜 - 由偏振器和检偏器组成，可消除高品质成像中的反射。高度灵活性100-240V通用电源 - 高度灵活性。各种各样的解决方案各种各样的解决方案 - 环形灯、射灯和透射光操作台为具体应用提供了高度的灵活性。LED照明LED照明 - 提供长达4000小时明亮的灯光，节省时间和更换灯泡的成本。非常适于文档无闪烁、无纹波的照明 - 对于DFC相机的文件颇为理想。

Meiji 6000系列落射荧光显微镜是实验室和研发领域应用的理想选择。6000系列采用计算机辅助的人机工程学设计，提供更舒适的操作体验，更高的效率和产出。Meiji' s 全新设计的ICOS™ 无限校正光学系统可提供无与伦比的荧光图像质量，6000系列以较低的价位在性能质量上完全媲美其他德国或日本制造商的昂贵产品。6000系列标配Siedentopf 三筒或两筒显微镜头，超宽视野10倍高眼点22mm视场目镜，4个半复消色差荧光物镜F10x, F20x, F40x 及F100x. 以上光学组件可实现探达紫外激发范围的高亮度透光效果，得到明亮高对比度且具备出色色彩校正的图像。模块化的6位落射荧光照明套件带基本的蓝/绿/紫外激发模块及3个空白位。标配双照明系统：100瓦水银反射灯和带自动电压感应的30瓦卤素透射灯。右手操作（需要左手操作请说明）陶瓷涂层机械台尺寸为191mm x 128mm 带低位人机工程学控制设计。1.25 N.A. 阿贝聚光镜使用鸠尾榫接合安装可快速更换并且开关迅速方便。6000系列可提供各种附件以满足不同工作需求，包括倾斜人机工程学设计的双筒显微镜头 i各种附加镜头，聚光镜，以及用于亮场，相差，偏光，暗场等应用的附件，还包括各种数字成像，照相，录像附件。特点:计算机辅助设计机身和光学组件人机工程学设计移位控制舒适的Siedentopf 显微镜头6位荧光模块带3个滤片全新设计半复消色差荧光物镜亮场，相差，偏光，暗场，落射荧光模式30W卤素透射Koehler灯 + 100W 水银落射灯可选倾斜人机工程学设计的双筒显微镜头订购指南型号总放大倍数显微镜头目镜照明MT6200H100x,200x,400x1000x,半复消色差双筒超宽视野10倍30 mm100w水银入射，30w卤素透射MT6300H三筒

动物手术无影灯主要用来进行大小鼠、兔子、比格犬、猪等实验动物的手术照明，可根据需要选择4灯头、5灯头的型号。动物手术无影灯的使用可有效消除手术时实验人员头、肩、手等部位造成的阴影。多种型号可选：LED型手术无影灯的主要特点：平均使用寿命更长：LED灯优于传统卤素灯或者气体放电灯之处在于它们的使用寿命很长；传统的灯通常在使用了600到5000小时之后就必须更换，而LED灯的平均寿命约20000小时。低产热：LED的更大优势在于它产热少，因为它不发射IR（红外线）或者UV（紫外线），这些射线对皮肤有刺激作用。故障率低：通过使用很多的LED，灯头具有非常低的故障率，单个LED的故障不会损害灯头的功能。12D-3型手术照明灯主要用来做大鼠、小鼠、兔子等动物手术时候的照明使用。 多灯泡设计，LED冷光源照明，亮度高，色温低； 落地式设计，高度可调，灯头尺寸20cm，总重量8Kg； 灯泡寿命长，可达55000小时； 亮度可调，中心照度35,000lx； 色温为5500±500K； 12灯泡设计，功率为36W；便携式手术照明灯机箱小巧，可以放在小动物手术台旁使用，也可辅助手术显微镜进行照明使用；亮度可调，照射方向可调；输入电压：220VAC 50HZ灯泡功率：12V 20W灯泡：黄光、卤素杯泡色温：3400KPUES：2A多种型号可选，敬请来电咨询：请关注玉研仪器的更多相关产品。如对产品细节和价格感兴趣，敬请来电咨询！

全自动生物医学照明系统ML8500是用途蕞广泛的体外研究照明设备。ML8500 可同时支持多达 7 种不同的波长，可灵活控制照明参数，并内置培养箱，用于在常氧和缺氧条件下进行细胞研究。ML8500 是用于多孔样品板顺序照明和可选荧光成像/测量的绝佳工具。准备样品，装入 ML8500，全自动系统将完成剩下的工作。通过直观的触摸屏界面和Modulight的云，操作生物医学照明系统非常容易。该系统支持多个照明站，可照亮样品中不同大小的区域。例如，一个工位可用于直径达 95 mm 的培养皿，另一个工位可用于 96 孔板，分别以特定的持续时间和强度照亮每个孔。可以为各种孔板（24、96、384、1536 孔）提供不同的照明站，一个系统中总共可以安装 4 个照明站。该设备还可以配备环境控制装置，以优化基于细胞的检测。缺氧功能还允许在生理相关条件下进行细胞实验，因为肿瘤通常是缺氧的，这会影响光动力疗法等氧依赖性疗法的疗效。ML8500 支持单个孔的照明以及孔板上的较大区域照明。这既可以灵活地控制样品之间的参数，又可以在对多个样品运行照明方案时节省大量时间。全自动生物医学照明系统应用案例：用于缺氧背景：缺氧是一种在组织水平上氧气不足的状态。理想情况下，体外研究条件应尽可能接近生理条件（例如，肿瘤中心通常是缺氧的）采用 ML8500 的 Modulight 解决方案：ML8500 是针对缺氧实验优化的培养箱。对缺氧动力学、蕞佳气体流速和不同氧浓度进行了优化，以用于 ML8500 的药物研究热休克蛋白90靶向太平洋夏季时间治疗炎症性乳腺癌的开发背景：一种新型光活化药物HS 在这里，通过将临床批准的维替泊芬与热休克蛋白 90 的小分子抑制剂联合起来，开发了一种治疗乳腺癌的新型靶向药物。Modulight的ML8500解决方案：ML8500用于研究药物高通量活化的蕞佳参数。将高侵袭性 MDA-MB-231 乳腺癌细胞接种在 96 孔板上，用不同浓度 （0-3 μM） 的维替泊芬或 HS201 孵育，并在不同孔中以不同剂量 （0-30 J/cm2） 用 689 nm 波长激光照射。此外，还研究了不同的药物光照间隔（0、3 和 6 小时），并增加了光剂量 （0-120 J/cm2）。蕞高缺氧活性的锇基抗癌光敏剂背景：缺氧是癌症治疗的一大挑战，因为低氧条件使恶性组织同时更具侵袭性，并且不易接受标准治疗。为了解决这个问题，开发了一种用于治疗缺氧肿瘤的新型缺氧活性光敏药物。Modulight 的 ML8500 解决方案：ML8500 为使用 525 nm 和 630 nm 波长表征药物提供了蕞佳条件。在实验中，辐照度恒定在 300 mW/cm2 处，通量在 10-300 J/cm2 之间变化，而在第二个实验中，辐照度在 100 J/cm2 处变化，辐照度在 25-300 mW/cm2 mW/cm2mW/cm2 之间变化。用于现代癌症药物开发的全自动照明研究系列背景：光活化药物的研究需要受控和系统的样品照明过程。制药公司使用连接到 ML7710 医用激光器的 ML8500 自动照明系统对新型光敏药物进行了表征。目的是研究辐照度和光剂量对癌细胞系的影响，同时保持光敏药物剂量恒定。用吲哚菁绿脂质体进行光诱导药物递送动机：脂质体的被动药物释放不稳定且效率低下，因此光触发释放为在所需地点和时间有效释放药物提供了有吸引力的可能性。Modulight 的 ML8500 解决方案：将光敏分子吲哚菁绿掺入脂质体中，在激光照射下释放内容物。通过用ML8500照射脂质体来研究光触发释放，并通过照明强度和持续时间进行精确控制。全自动生物医学照明系统支持宽波长范围Modulight Cloud 连接可实现实时连接、治疗监控、远程支持和诊断。互联网连接可通过云服务平台流畅地传输和查看数据以及远程诊断。照明协议可以从计算机下载到云端，荧光测量值实时存储在那里，以便进一步分析。此外，云连接允许对仪器软件进行远程故障排除和更新。可以从 cloud.modulight.com 查看诊断数据有保障的服务设备安装人员现场培训定期预防性维护软件更新和硬件升级现场或远程技术支持支持应用程序测试生命周期管理/回收更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等，涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等服务。