ICP 刻蚀机 :高密度等离子蚀刻装置NE-550 特点:等离子密度与向基板入射的能量能够单独控制,因此Process window宽。均一性好。离子性蚀刻到radical性蚀刻都能都大幅度控制。构造简单,维护性能优越。来自半导体技术研究所的工艺支持体制。CS(Customer’s Support )解决方案的综合服务体制。可选Cassette室,提高生产量。 丰富的Process Application:1.ISM: Inductively Super Magnetron有磁场ICP型2.ISM是可以由低电源得到稳定均一的放电,达到Damage最少的蚀刻。3.使用不挥发性材料的次时代memory‐Al2O3,磁性体,Pt, Ir, PZT, SBTO 等4.超高频率器件,光器件。‐绝缘膜,GaAs/AlGaAs(In),AlGaInP,InP,SiC,ZnSe, Sapphire,GaN,STO/Pt, Au/Pt, W, WSi, Ti, Mo, Ta, BCB, Polyimide,BST, STO5.各种传感器器件等Photo Nic结晶。6.MEMS(micromachine)
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