俄歇电子能谱分析

产品介绍岛津/Kratos公司的AXIS SUPRA+作为高端光电子能谱仪传承了上一代产品高度智能化的优点，将采谱、成像功能与自动化高度相融合，保证了高样品吞吐量和易用性，为用户提供了全新无人值守自动化体验。同时AXIS SUPRA+对产品硬件进行了相应的改进和扩展，一方面能够为用户提供仪器更优异的性能，另一方面也为用户提供了可选的多种拓展技术。AXIS SUPRA+卓越的自动化技术● 无人值守自动进行样品传输和交换● 硬件自动化控制，实时监测谱仪状态和校准AXIS SUPRA+超强的表面分析能力● 具有高性能XPS分析、快速平行化学成像分析、小束斑微区分析● 利用角分辨、高能X射线源、深度剖析可以实现从超薄到超厚的深度分析● 多种功能附件（惰性气体传输器、高温高压催化反应池等）和可拓展多种表面分析技术，如紫外光电子能谱（UPS），离子散射谱（ISS），反射电子能量损失谱（REELS），俄歇电子能谱和扫描俄歇电子显微镜（AES和SAM）等等AXIS SUPRA+高效智能工作流程适合多用户环境● 高吞吐量、快速队列样品分析模式实现连续分析● AXIS SUPRA+采用的通用表面分析ESCApe软件系统使用户与谱仪的交互简单化和智能化，可以进行谱仪的控制、数据的采集和分析

Thermo Scientific ESCALAB QXi X 射线光电子能谱仪（XPS）是ESCALAB 系列的最新产品。作为可扩展的多技术表面分析平台，ESCALAB QXi有着空前的灵活性和完备的专业配置选项。汇聚前沿技术，打造出高效便捷的软件系统和高性能的硬件配置，带来世界一流的测试体验和高效的生产力。强大的Thermo Scientific&trade AvantageTM 软件系统集系统控制、设备状态实时监控与调节、数据采集、数据处理、报告生成等多功能于一身，操作便捷，快速高效。世界领先的分析性能●定量光谱成像 世界一流的能量分析器设计和双晶微聚焦单色化X射线源结合，实现了卓越的能量分辨率●快速高分辨平行成像 化学成像: 空间分辨率优于1um 回溯成谱: 回溯区域优于6um●无需背底修正探测器 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计，可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成 像的需求 空间连续的电阻阳极探测器创新技术，使得XPI成像分辨率达1um，所得数据无探测器背底特征，无需背底校正 直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果●微聚焦单色源 分析尺寸在20μm～900μm之间连续可调 卓越的灵敏度和能量分辨率 提供不少于20个靶材工作点，确保仪器终身使用过程中阳极靶无需更换●自动化高效离子剖析源 新型Ar离子团簇与传统单粒子离子源相结合，用于各类材料的深度剖析研究●高精确度角分辨XPS 软件控制分析位置和角度，确保数据的精确性和重复性 全套的ARXPS数据处理工具，可对纳米尺度的多层结构器件进行层厚计算●一键式荷电补偿 配有双束电荷中和系统，可以根据实际样品的需要独立控制开启。 适用于所有不导电样品及粗糙表面的精准荷电中和●强大的Avantage分析软件 全数字化仪器控制 系统软件可视化操作 全套XPS标准数据图库以及化合物结构鉴定数据库 自定义数据采集到报告生成模式操作简便●高度自动化 分析区域和角度分辨可选 自动化气体调节和真空控制●随时校准 能量标尺和仪器功函数的校准 离子枪定位和离子束聚焦●鼠标点击式样品导航 实时显示分析位置 高照明强度、强度可调设计灵活●ISS、ARXPS与REELS为标准配置●多功能进样室为标准配置●UPS和EDS/AES/SEM/SAM/可选●可选的样品预处理附件，包括： 样品制备台、晶体清洁器、样品刮片器 样品加热/冷却装置 溅射清洁离子枪 蒸发器 高压反应室如您想了解更多关于EscaLab QXi X射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

岛津／Kratos X射线光电子能谱仪AXIS Nova——最新成像自动型，业界领先位于英国曼切斯特的Kratos公司是世界上最早生产商品化X射线光电子能谱仪的厂家之一，现在是世界上最大的分析仪器制造公司——岛津公司的全资子公司。自1997年以来，岛津/Kratos公司研发了包括专利的磁沉浸透镜和专利的低能电子荷电中和系统等一系列新技术的新型光电子能谱仪——AXIS Ultra，并于2002年底推出了使用二维阵列检测器——延迟线检测器（Delay-Line Detector）的最新自动型AXIS Nova型XPS谱仪。截至2014年1月底，在世界上已经销售了超过100台AXIS Nova型XPS谱仪，在世界上许多著名的大学、科研机构和企业公司中得到了高度的认可，在业界处于绝对领先地位。 技术特点：Axis Nova采用大功率X光源和浸入式磁透镜设计以获取最高的检测灵敏度，同时采用165mm大平均半径的双聚焦半球扇形能量分析器，可以获得最高的XPS谱线能量分辨。在检测器端，Axis Ultra DLD采用位于能量分析器出口中心位置上的第二代专利的二维阵列延迟线检测器，可以同时记录光电子的信号强度及其发射位置，亦可以在数秒的时间里获取完整的XPS谱图。Axis Nova采用与静电传输透镜同轴的超低能单电子源荷电中和器，完全满足各类绝缘样品的XPS分析任务，尤其是对于表面凸凹不平的样品（典型的是粉末样品和断口样品），可以获得完美的分析结果。Axis Nova使用专利的与采谱能量分析器同心的球面镜能量分析器，可以获得高空间分辨的平行光电子图像，亦即可以获得元素的不同化学状态的二维分布。Axis Nova采用全自动的大样品台设计，最大样品可达4吋，可以利用进样室的光学显微镜确定分析位置，并在样品自动进入分析室以后实现预设位置上的全自动XPS分析。

备受赞誉的Thermo Scientific K-Alpha X射线光电子能谱仪（XPS）集合了卓越的性能、快速分析及杰出的化学灵敏度等优势。K-Alpha将前沿的单色化XPS优异性能与全智能自动化完美结合，尤其适合于多用户环境。K-alpha的易操作性，可同时满足经验丰富的XPS分析人员和初学者的需求。分析选项包括用于角分辨XPS数据采集的倾斜模块和用于空气敏感样品传输的可循环惰性气体手套箱。 强大的性能可选面积能谱深度剖析微聚焦单色器高分辨率化学态能谱快照采集绝缘样品分析定量化化学成像 无可比拟的易用性一键式样品导航和实验设定自动样品传输按需校准全能谱仪设定离子枪设定完全计算机操作 世界一流的软件 仪器控制 数据采集 数据解析 数据处理 报告生成 数据存档管理 审查跟踪日志 系统性能日志如您想了解更多关于K-Alpha X射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

表面和界面分析充满了挑战，需要一款仪器能够为后续的研发改进提供可靠的结果。Thermo Scientific Nexsa G2表面分析系统是一款高性能 X 射线光电子能谱仪，在保证数据质量和样品测试通量的同时，集成了其他分析技术。与所有 Thermo Scientific XPS 系统一样，Nexsa G2 系统也使用 Avantage 进行仪器控制、数据处理和报告生成。无论是在专业的研究实验室，还是在多用户环境中工作，Avantage 灵活易用、功能齐全、操作直观的特性，可帮助不同水平的用户实现样品分析。为什么选择 Nexsa G2 系统？高效的科研级能谱仪新型微聚焦单色化X射线源可实现以 5 μm 步长的 10 μm 至 400 μm 的 X 射线光斑大小连续可调，从而确保将分析束斑调节至与目标特征匹配，最大程度地增强信号。利用升级的X 射线源、高效的电子透镜和优化的检测器，可实现卓越的灵敏度和高效的数据采集。绝缘体分析Nexsa G2 系统上的一键式自动电荷补偿系统可轻松实现绝缘样品分析。专利的双束中和源避免绝缘样品发生荷电，因为使用极低能量的电子，大多数情况下将无需进行荷电校正。深度剖析Nexsa G2 系统配备有标准离子源或 MAGCIS（可选的单粒子和气体团簇复合型离子源) 进行深度剖析。自动离子源优化和气路控制可确保卓越的性能和实验重现性。多技术联用使用 Nexsa G2 系统，所有技术将触手可及，一套系统全面分析您的样品。标准配置具备高性能 XPS 所需的所有功能，ISS、UPS、REELS、拉曼等多种分析技术集于一身。升级选项可将系统转换为完整的分析工作站，有助于解决材料分析问题，提高生产效率。特殊样品台可选Nexsa G2增加了多种样品台可选，以满足科研的特殊应用需求。特殊可选样品台有：NX 加热台，用于原位的样品加热分析；多触点偏压样品台，可实现样品在真空系统中的施加电压，偏压或循环电极后的XPS原位分析；惰性气体转移腔，可实现空气敏感样品的真空/惰性气体保护转移；MCA样品台，用于XPS+SEM的关联分析，实现XPS技术和电子显微技术对样品的同一个分析区域采集数据，并进行比对分析。如您想了解更多关于Thermo Scientific Nexsa G2 X 射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

Thermo Fisher Scientific ESCALAB Xi+是最新研发出的一款基于ESCALAB 250Xi产品后，具有可扩展功能、多种分析技术集成化的测试手段。该产品通过无与伦比的灵活性、完备的专业配置选项、直观的软件操作以及硬件配置，带给用户的是世界级领先的的实验结果和生产力。强大的Avantage数据系统提供系统控制、数据采集、数据处理与系统运行报告等一站式服务。世界领先的分析性能●表面元素定性、定量分析 世界一流的能量分析器设计和双晶微聚焦单色化X射线源结合，实现了卓越的能量分辨率●快速高分辨平行成像 化学成像: 空间分辨率优于1um 回溯成谱: 回溯区域优于6um●无需背底修正探测器 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计，可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成 像的需求。 空间连续的电阻阳极探测器创新技术，使得XPI成像分辨率达1um，同时所得数据无探测器背底特 征，无需背底校正，直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果。●微聚焦单色源 分析尺寸在20μm～900μm之间连续可调 卓越的灵敏度和能量分辨率 提供不少于20个靶材工作点，确保仪器终身使用过程中阳极靶无需更换●自动化高效离子剖析源 新型Ar离子团簇与传统单粒子离子源相结合，用于各类材料的深度剖析研究●高精确度角分辨XPS 软件控制分析位置和角度，确保数据的精确性和重复性 全套的ARXPS数据处理工具，可对纳米尺度的多层结构器件进行层厚计算●一键式荷电补偿 配有双束电荷中和系统，可以根据实际样品的需要独立控制开启。 适用于所有不导电样品及粗糙表面的精准荷电中和●强大的Avantage分析软件 全数字化仪器控制 系统软件可视化操作 全套XPS标准数据图库以及化合物结构鉴定数据库 自定义数据采集到报告生成模式操作简便●高度自动化 分析区域和角度分辨可选 自动化气体调节和真空控制●随时校准 能量标尺和仪器功函数的校准 离子枪定位和离子束聚焦●鼠标点击式样品导航 实时显示分析位置 高照明强度、强度可调设计灵活●ISS、ARXPS与REELS为标准配置●多功能进样室为标准配置●UPS和EDS/AES/SEM/SAM/可选●可选的样品预处理附件，包括： 样品制备台、晶体清洁器、样品刮片器 样品加热/冷却装置 溅射清洁离子枪 蒸发器 高压反应室

在典型的多元素分析中，Agilent 4210 MP-AES 拥有高灵敏度、低至 ppb 水平的检测限、全面超越传统火焰原子吸收的分析效率。Agilent 4210 MP-AES 最大的优点是使用空气运行，无需采用可燃气体。安捷伦 MP-AES 技术用户评价：“使用安捷伦 MP-AES 取代原子吸收光谱仪，可提高实验室所分析样品的量和范围。该平台稳定并且可对单个样品快速执行灵敏的多元素分析，功能强大的软件可提供详细的分析数据。无漂移，即使分析了 180 个样品后，仍可提供始终如一的 QC 范围，而原子吸收光谱仪无法做到。”使用维护成本低 — 安捷伦 MP-AES 可实现无人值守运行，无需使用易燃或昂贵的气体，显著降低了运行成本。使用简单 — 面向具体应用的软件程序加上即插即用式硬件，使得任何用户均可快速完成设置，无需进行方法开发或校准，并且很大程度减少了培训需求实验室安全性更高 — MP-AES 不仅免除了使用可燃气体和氧化性气体带来的风险，也免除了将多种气体通入实验室，或是手动搬运和处理气瓶的工作高性能 — 相比火焰原子吸收，磁激发微波等离子体光源提供了更加出色的检测限和更宽的线性动态范围稳定可靠 — 是食品与农业、化工、石化、制造、采矿等行业以及偏远地区的理想选择更高的仪器性能 — 加湿器、高级阀系统 4 和 IsoMist 温控雾化室等一系列附件提高了仪器性能，即使对难分析的样品也能实现稳定分析远程控制 — MP Expert 自动化软件包可实现仪器的自动远程控制，并且能将状态更新和结果实时地转达给您MP Expert 软件 — 直观的方法开发以及包括预设方法模板、集成附件控制和增强诊断的软件程序，可很大程度延长仪器正常运行时间，大大简化了您的工作流程

赛默飞世尔科技红外/拉曼光谱 Nicolet产品，是世界上最大的傅立叶红外光谱仪（FT-IR）和拉曼光谱仪（Raman）的专业生产厂家。几十年来其以精湛的技术、卓越的产品和优质全面的服务居于世界红外及拉曼领域的前列，并在全球范围内具有最大的市场占有率。 主要产品：电子背散射衍射系统（EBSD）折光仪(折射仪)X光电子能谱仪(XPS/ESCA)激光共聚焦显微镜红外显微镜核磁共振(NMR)近红外光谱(NIR)荧光分光光度计（分子荧光）紫外、紫外分光光度计、紫外可见分光光度计、UV激光拉曼光谱(RAMAN)红外光谱(IR、傅立叶) 更多信息：请访问赛默飞世尔科技分子光谱与表面分析的展台，展位号：SH100328。或使用简易域名登陆：http://molecular.instrument.com.cn。

仪器简介：microCMA是一种俄歇光谱圆柱镜分析仪，专为许多不需要AES映射功能的俄歇分析应用而设计，这些应用包括以下分析：薄膜元素组成样品清洁度金属部件热氧化物轻元素表面薄膜的量化microCMA操作简单，易于维护，提供完整的定量表面敏感元素俄歇电子 （AES） 分析仪包，安装在 2.75“/70 mm CF 法兰上。对于元素分析，microCMA比独立的XPS系统便宜得多。完整的AES系统包括圆柱镜分析仪（带有集成的同轴电子枪），USB接口控制器以及Windows采集和数据软件。俄歇分析变得简单！基本配置：microCMA 分析仪、USB 接口控制器、带 15 英尺（4.6 米）电缆的前置放大器、数据采集软件以及手册。可选配件：XYZ转换器，9103 USB皮可安培计，CMA和前置放大器电缆的定制长度。独有的优异性能：紧凑的：适合 2.75“ / 70 mm CF 法兰（最小 1.52” / 38.6 mm 内径管）。现在只需一个分子泵和一个小型离子泵就可以建立一个俄歇光谱系统！成熟的设计：二阶聚焦提供了良好的透射率和分辨率。易于使用：USB控制和数据俄歇软件界面易于使用，使俄歇分析变得容易。功能强大：俄歇光谱（AES）是一种强大的表面敏感技术，可为您提供样品前几层单层的定量信息。microCMA的小直径使其能够安装在现有的沉积或分析室中。由于microCMA基于经典的圆柱形镜面分析仪设计，因此与较大的CMA相比，它具有相似的信噪比。基本上，microCMA收集的电子与较大的CMA相同 它只是收集靠近样品的电子。集成的 3 kV 电子枪简化了 CMA 与样品的对准。电子枪具有预热和调节等自动化功能。microCMA非常适合薄膜的元素表面分析和检查样品的清洁度CMapp Auger 软件提供对采集参数的全面控制，然后在采集后量化数据。应用说明和文章使用顺序表面反应在室温和 100 °C 下电子增强结晶氮化镓薄膜的生长 - Sprenger， Sun， Cavanagh， Roshko， Blanchard， George， 材料化学， U. Colorado - 2016具有二次电子噪声抑制功能的微型圆柱镜俄歇电子能量分析仪的设计与仿真 - Jay A. Bieber，南佛罗里达大学 - 2017在室温和100°C-Sprenger，Sun，Cavanagh，Roshko，Blanchard，George - J Phys Chem C纳米界面下氮化硼薄膜的电子增强原子层沉积。科罗拉多大学 - 2018俄歇电子能谱与微同步辐射X射线光电子能谱研究Ba-Sc-O解吸对W（100）$-孟彩霞的影响， 李轶凡， 吴浩， 魏伟， 宁艳晓， 崔毅， 傅强， 包新和 - 物理化学 化学物理 - 2018开发和测试离子束分析的原位方法，用于使用AIMS诊断pdf测量托卡马克内部的高Z侵蚀 - Leigh A. Kesler，麻省理工学院 - 2019氧化气氛中Pt（111）上h-BN覆盖层的结构转变）$- Mroz， Kordesch， Sadowski， Tenney， Eads - 真空科学与技术杂志，B.布鲁克海文国家实验室 - 2020SO2在石墨烯上的吸附和反应动力学：超高真空表面科学研究$- Stach，Johnson，Stevens，Burghaus - 北达科他州真空科学与技术杂志 - 2021通过电子增强原子层沉积对钴膜进行低温沉积的空心阴极等离子体电子源- Sobell1，Cavanagh1，鲍里斯，沃尔顿，乔治 - 真空科学与技术杂志，美国科罗拉多州，海军研究实验室 - 2021

仪器简介：美国专利 日本技术 90%市场占有率 是金属/半导体材料研发和故障分析的有力工具。空间分辨率高，信息深度5纳米以内技术参数：俄歇电子能谱仪 &bull He以上所有元素纳米（约5nm）表面定性/表面定量/亚表层以及深度方向信息 1） 成分 2） 图像 3） DETECT LIMIT 0.1% 4） 最小束斑 6纳米 5） 仪器型号PHI 700 清华，宝钢2004，2005年购买 6） 报价 不含税100万美金主要特点：He以上所有元素纳米（约5nm）表面定性/表面定量/亚表层以及深度方向信息

PHI公司的PHI710扫描俄歇纳米探针是一台设计独特的高性能的俄歇电子能谱（AES）仪器。该设备能分析纳米级特征区域,超薄薄膜和多层结构表界面的元素态和化学态信息。作为高空间分辨率,高灵敏度和高能量分辨率的俄歇电子能谱仪, PHI 710可以为用户提供纳米尺度方面的各种分析需求。 PHI710主要特点：l SEM分辨率≤ 3 nm, AES分辨率≤ 8 nm在俄歇能谱的采集分析过程中，包括谱图，深度剖析及元素分布像，需要先在SEM图像上定义样品分析区域，必然要求束斑直径小且稳定。PHI 710的SEM图像的空间分辨率优于3nm,AES的空间分辨率优于8nm(@20kV,1nA),如下图所示：l 图2则是关于铸铁韧性断裂的界面分析，左边是SEM图像,中间是钙、镁、钛的俄歇成像,右边则是硫的俄歇成像,这充分证明了PHI 710在纳米级尺度下的化学态的分析能力。l 同轴筒镜分析器（CMA）：PHI 公司电子枪和分析器同轴的几何设计,具有灵敏度高和视线无遮拦的特点,满足了现实复杂样品对俄歇分析全面表征能力的需求。如上图所示,所有俄歇的数据都是从颗粒的各个方向收集而来,成像没有阴影。若设备配备的不是同轴分析器,则仪器的灵敏度会降低,并且成像有阴影,一些分析区域会由于位置的原因,而无法分析。如果想要得到高灵敏度,只能分析正对着分析器的区域。如下图所示,若需要对颗粒的背面,颗粒与颗粒之间的区域分析,图像会有阴影。l 俄歇能谱仪的化学态成像：l 图谱成像PHI710能从俄歇成像分析的每个像素点中提取出谱图的相关信息,该功能可以实现化学态成像。l 高能量分辨率俄歇成分像下图是半导体芯片测试分析,测试的元素是Si。通过对Si的俄歇影像进行线性最小二乘法拟合（LLS）,俄歇谱图很清楚的反映出了三个Si的不同化学态的区域,分别是：单质硅、氮氧化硅和金属硅,并且可以从中分别提取出对应的Si的俄歇谱图,如最下方三张图所示。l 纳米级的薄膜分析如下SEM图像中,以硅为衬底的镍的薄膜上有缺陷,这是由于退火后,在界面处形成了硅镍化合物。分别在缺陷区域和正常区域设定了一个分析点,分析条件为高能量分辨率模式下（0.1%）,电子束直径20nm,离子枪采用0.5kV设定,如下图所示:在MultiPak软件中,采取最小二乘拟合法用于区分金属镍和硅镍化合物,同样区分金属硅和硅化物。可以看出,硅镍化合物仅存在于界面处,而在镍薄膜层和硅衬底中都不存在。但是,在镍涂层的缺陷处,发现了硅镍化合物。 l PHI SmartSoft-AES用户界面：PHI SmartSoft是一个从用户需求出发而设计的软件。该软件通过任务导向的方式指引用户导入样品,定义分析点,并设置分析条件,可以让新手快速,方便地测试样品,并且用户可以很方便的重复之前的测量。 l PHI MultiPak 数据处理软件：MultiPak软件拥有最全面的俄歇能谱数据库。采谱分析,线扫描分析,成像和深度剖析的数据都能用MultiPak来处理。软件强大的功能包括谱峰的定位,化学态信息及检测限的提取,定量测试和图像的增强等。 l 选配件： 1. 真空室内原位样品泊放台； 2. 原位脆断； 3. 真空传送管； 4. 预抽室导航相机； 5. 电子能量色散探测器（EDS）； 6. 电子背散射衍射探测器（EBSD）； 7. 背散射电子探测器（BSE）； 8. 聚焦离子束（FIB）；l 应用领域： • 半导体器件:缺陷分析、蚀刻／清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、界面扩 散现象分析、封装问题分析、FIB器件分析等。 • 显示器组件:缺陷分析、蚀刻／清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、接口扩 散现象分析等。 • 磁性存储器件:表面多层、表面元素、界面扩散分析、孔洞缺陷分析、表面污染物分析、磁 头缺陷分析、残余物分析等。 • 金属、合金、玻璃及陶瓷材料：表面沉积物分析、清洁污染物分析、晶间晶界分析等。

PHI公司的PHI 710扫描俄歇纳米探针是一台设计独特的高性能的俄歇电子能谱（AES）仪器。该设备能分析纳米级特征区域,超薄薄膜和多层结构表界面的元素态和化学态信息。作为高空间分辨率,高灵敏度和高能量分辨率的俄歇电子能谱仪, PHI 710可以为用户提供纳米尺度方面的各种分析需求。 PHI710主要特点：SEM分辨率≤ 3 nm, AES分辨率≤ 8 nm在俄歇能谱的采集分析过程中，包括谱图，深度剖析及元素分布像，需要先在SEM图像上定义样品分析区域，必然要求束斑直径小且稳定。PHI 710的SEM图像的空间分辨率优于3nm,AES的空间分辨率优于8nm(@20kV,1nA),如下图所示：图2则是关于铸铁韧性断裂的界面分析，左边是SEM图像,中间是钙、镁、钛的俄歇成像,右边则是硫的俄歇成像,这充分证明了PHI 710在纳米级尺度下的化学态的分析能力。同轴筒镜分析器（CMA）： PHI 公司电子设备和分析器同轴的几何设计,具有灵敏度高和视线无遮拦的特点,满足了现实复杂样品对俄歇分析多方面表征能力的需求。如上图所示,所有俄歇的数据都是从颗粒的各个方向收集而来,成像没有阴影。若设备配备的不是同轴分析器,则仪器的灵敏度会降低,并且成像有阴影,一些分析区域会由于位置的原因,而无法分析。如果想要得到高灵敏度,只能分析正对着分析器的区域。如下图所示,若需要对颗粒的背面,颗粒与颗粒之间的区域分析,图像会有阴影。 俄歇能谱仪的化学态成像：图谱成像PHI710能从俄歇成像分析的每个像素点中提取出谱图的相关信息,该功能可以实现化学态成像。高能量分辨率俄歇成分像下图是半导体芯片测试分析,测试的元素是Si。通过对Si的俄歇影像进行线性小二乘法拟合（LLS）,俄歇谱图很清楚的反映出了三个Si的不同化学态的区域,分别是：单质硅、氮氧化硅和金属硅,并且可以从中分别提取出对应的Si的俄歇谱图,如第三行三张图所示。纳米级的薄膜分析如下SEM图像中,以硅为衬底的镍的薄膜上有缺陷,这是由于退火后,在界面处形成了硅镍化合物。分别在缺陷区域和正常区域设定了一个分析点,分析条件为高能量分辨率模式下（0.1%）,电子束直径20nm,离子设备采用0.5kV设定,如下图所示:在MultiPak软件中,采取小二乘拟合法用于区分金属镍和硅镍化合物,同样区分金属硅和硅化物。可以看出,硅镍化合物只存在于界面处,而在镍薄膜层和硅衬底中都不存在。但是,在镍涂层的缺陷处,发现了硅镍化合物。 PHI SmartSoft-AES用户界面：PHI SmartSoft是一个从用户需求出发而设计的软件。该软件通过任务导向的方式指引用户导入样品,定义分析点,并设置分析条件,可以让新手快速,方便地测试样品,并且用户可以很方便的重复之前的测量。 PHI MultiPak 数据处理软件：MultiPak软件拥有多方面的俄歇能谱数据库。采谱分析,线扫描分析,成像和深度剖析的数据都能用MultiPak来处理。软件强大的功能包括谱峰的定位,化学态信息及检测限的提取,定量测试和图像的增强等。 选配件： 1. 真空室内原位样品泊放台； 2. 原位脆断； 3. 真空传送管； 4. 预抽室导航相机； 5. 电子能量色散探测器（EDS）； 6. 电子背散射衍射探测器（EBSD）； 7. 背散射电子探测器（BSE）； 8. 聚焦离子束（FIB）；应用领域： &bull 半导体器件:缺陷分析、蚀刻／清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、界面扩散现象分析、封装问题分析、FIB器件分析等。 &bull 显示器组件:缺陷分析、蚀刻／清洁残余物分析、短路问题分析、接触污染物分析、接口扩散现象分析等。 &bull 磁性存储器件:表面多层、表面元素、界面扩散分析、孔洞缺陷分析、表面污染物分析、磁头缺陷分析、残余物分析等。 &bull 金属、合金、玻璃及陶瓷材料：表面沉积物分析、清洁污染物分析、晶间晶界分析等。

俄歇电子能谱仪（Auger Electron Spectrometer, AES）为微电子业常见的表面分析技术之一。原理是利用一电子束为激发源，使表面原子之内层能阶的电子游离出，原电子位置则会产生电洞，导致能量不稳定，此时外层电子会填补产生之电洞，进而释放能量传递至外层能阶电子，造成接受能量的电子被激发游离，游离的电子即为Auger电子。因其具有特定的动能，所以能依据动能的不同来判定材料表面的元素种类。PHI的710纳米探针俄歇扫描 提供高性能的俄歇（AES）频谱分析，俄歇成像和溅射深度分析的复合材料包括：纳米材料，催化剂，金属和电子设备。维持基于PHI CMA的核心俄歇仪器性能，和响应了用户所要求以提高二次电子（SE）成像性能和高能量分辨率光谱。PHI的同轴镜分析仪（CMA）提供了同轴分析仪和电子枪的几何实现高灵敏度多角度广泛收集，以便完成三维结构图，在纳米级技术的发展这是最基础的。为了提高SE成像性能，闪烁探测器（Scintillator）已被添加以提高图像质量，另再加上数码按钮的用户界面再一次的提高了易用性。在不用修改CMA和仍维持俄歇在纳米分析的优势下，再添加了高能量分辨率光谱模式，使化学态分析的可能再大大的提高。总括来说，700Xi以优越的俄歇纳米探针从世界ling先的俄歇表面分析仪器，提供了实用和成熟的技术，以满足纳米尺度所需要的广泛实验与研发的用途。同轴电子枪和分析几何和高级的俄歇灵敏度：710的场发射电子源提供了一个高亮度而直径小于6 nm的电子束以产生二次电子成像。710的同轴几何使用了“同轴式分析器（CMA）”，促使高灵敏度俄歇通过广泛角度收集进行分析，即使样品是表面平滑或复杂的形状或高表面粗糙度，都可以确保迅速完成所有分析程序。高稳定性成像平台：隔声外壳与振动隔离器提供更稳定的成像和分析。隔声外壳从真空控制面板降低频率范围从30赫兹到5K赫兹左右的20 dB的声压等级（SPL），稳定的温度大约降低系统造成SEM图像漂移。新的振动隔离器也减少了地面振动对扫描电镜图像和小面积分析的影响。增强的SE图像用户界面：PHI710增强SE成像性能，闪烁器检测器（Scintillator）已被添加在仪器上从而提高图像质量，加上数码按钮的用户界面更再次提高了使用的方便性。新的高分辨率光谱模式：随着PHI的新技术，能量分辨率可调从0.5%到0.05%。多种化学物质的状态可以更容易有效的被观察出来。PHI SmartSoft-AES用户界面：PHI SmartSoft是一个操作仪器上为用户的需要而着想的软件界面。该软件是任务导向型和卷标在顶部的显示指引用户通过引入样品，分析点的定义，并设置了分析。多个位置分析可以定义和zui佳范例的定位提供了一个强大的“自动Z轴调整”的功能。在广泛使用的软件设置，可让新手能够快速，方便地设置了测量，并在未来可以轻易的重复以往或常用的类似测量。

在开发新材料及薄膜制程上，为了有助于了解材料组成间的相互作用及解决工艺流程的问题，材料组成或薄膜迭层的深度分析是非常重要的。PHI 4700使用了AES分析技术为基础，搭配灵敏度半球型能量分析器、10 kV LaB6扫瞄式电子枪、5 kV浮动柱状式Ar离子枪及高精密度自动样品座。针对例行性的俄歇纵深分析、微区域的故障分析，提供了全自动与及高经济效益的解决方法。PHI 4700是建基于Ulvac-Phi公司的高性能PHI 700Xi俄歇扫描纳米探针。它提供了高度自动化，低成本、高效益的方案进行例行俄歇深度分析和微米范围的故障分析。 PHI 4700可以轻易的配备上互联网的设备，以供远程操作或监控之用。全自动多样品纵深分析：PHI 4700薄膜分析仪在微小区域之纵深分析拥有jue佳的经济效益，可在SEM上特定微米等级之微小区域快速进行深度分析。图2显示长年使用的移动电话镀金电极正常与变色两个样品之纵深分析结果，两者材质皆为镀金之锡磷合金。从电极二（变色电极）可看到金属锡扩散到镀金膜上，因为界面的腐蚀而产生氧及锡导致电极变色。灵敏度半球型能量分析器：PHI 4700半球形能量分析器和高传输输入透镜可提供zui高的灵敏度和大幅缩短样品分析时间。除此之外，具有全自动的量测功能，此装置可在短时间内测量多个样品。 点选屏幕上软件所显示的样品座，可以记录欲量测的位置，对产品与工艺流程管理上之数据搜集可进行个别分析。10 kV LaB6扫瞄式电子枪：PHI的06-220电子枪是基于一个以LaB6为电子源灯丝以提供稳定且长寿命电子枪的工具，主要在氩气溅射薄膜时进行深度分析。06-220电子枪还可以：产生二次电子成像，俄歇测绘和多点分析。在加速电压调节从0.2至10千伏。电子束的zui小尺寸可保证小于80纳米。浮动柱状式Ar离子枪：PHI的FIG5B浮动柱状式Ar离子枪:提供离子由5伏到5千伏。大电流高能量离子束被用于厚膜，低能量离子束（250-500 V）用于超薄膜。浮动柱状式，确保高蚀刻率与低加速电压。物理弯曲柱会阻止高能量的中性原子，从而改善了溅射坑形状和减少对邻近地区的溅射。五轴电动样品台和Zalar方位旋转：PHI 15-680精密样品台提供5轴样品传送：X，Y，Z，旋转和倾斜。所有轴都设有马达及软件控制，以方便就多个样品进行的自动纵深分析。样品台提供Zalar（方位角）旋转的纵深剖析，利用旋转来降低样品在一个固定位置上的择优溅射，以优化纵深分析。PHI SmartSoft用户界面：PHI SmartSoft是一个被认同为方便用者使用的操作仪器软件。软件透过任务导向和卷标横跨顶部的显示指导用户从输入样品，定义分析点，并设定分析。多个分析点的定义和zui理想样品的定位是由一个强大的“自动Z轴定位”功能所提供。预存多样的操作设定，可让新手能够快速，方便使用。可选用配备：热/冷样品座样品真空传送管（Sample Transfer vessel）

Thermo Fisher Scientific ESCALAB Xi+是新研发出的一款基于ESCALAB 250Xi产品后，具有可扩展功能、多种分析技术集成化的测试手段。该产品通过无与伦比的灵活性、完备的专业配置选项、直观的软件操作以及硬件配置，带给用户的是领先的的实验结果和生产力。强大的Avantage数据系统提供系统控制、数据采集、数据处理与系统运行报告等一站式服务。入围优秀新品获奖理由：先进的成像探测器设计，用于定量XPI成像： 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计，可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成像的需求。空间连续的电阻阳极探测器创新技术，一方面使得XPI成像分辨率达1um，另一方面使得XPI成像得到数据无探测器背底特征，无需背底校正，直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果。 可选配的EDS探测器，实现体相分析技术和表面分析技术的结合： 新设计Xi+系统可选配EDS探测器与俄歇电子枪结合，可实现样品纳米尺度的体相微区元素成分分析，EDS可探测微米深度的元素组成，可以用于材料深度剖析前的元素组成预判。体相敏感的EDS技术和XPS表面分析技术的结合可更直观地用于研究合金等的表面偏析行为。 标配的反射电子能量损失谱REELS分析技术，用于弥补UPS能带分析和XPS元素分析： REELS可以探测材料的能级和带隙结果，并可用于材料中H元素含量的定量。与UPS技术结合可了解完整的价带导带信息，并弥补XPS、AES等技术不能检测H元素含量的缺陷 发展的系列基于Xi+的成熟准原位样品处理、制备、反应系统: 基于Xi+，设计的一系列成熟的ALD、MBE样品制备系统，高温高压催化还原反应系统和样品退火系统，满足不同的科研项目需求。配备为提供最佳 XPS 性能而设计的单色化X射线源，确保ESCALAB Xi+ X 射线光电子能谱仪 (XPS) 微探针有最高的样品测试通量。多技术能力、一系列灵活的样品制备室及样品处理设备，使该仪器在解决任何表面分析问题时都能游刃有余。利用先进的 Avantage 数据采集和处理系统，从测试数据中挖掘尽可能多的信息。ESCALAB Xi+ X 射线光电子能谱仪 (XPS) 微探针的特点：高灵敏度能谱小面积 XPS深度剖析能力角分辨 XPS标配离子散射能谱 (ISS)功能标配反射电子能量损失谱 (REELS)功能标配“样品预处理”室多技术分析的多功能性多个样品制备技术可选全自动无人值守式分析多样品分析单色化X射线源双晶体微聚焦单色器配备一个 500 mm 直径的罗兰圆，使用铝阳极靶样品 X 射线光斑尺寸可选择范围为 200 至 900 μm透镜、分析仪和检测器透镜/分析器/检测器一体化使 ESCALAB 250Xi XPS 能谱仪同时具备成像和小面积 XPS 分析能力的独特性两种类型的检测器可以确保为每种分析提供最佳检测——二维检测器用于成像，基于通道电子倍增器的检测器则用于需要检测高计数率的能谱分析透镜配备了两种电脑控制的光阑组件，一套视场光阑用于控制低至 20 μm 的分析区域，适用于小面积分析；另一套光阑则用于控制透镜的接收角，对于高质量角分辨 XPS 至关重要180° 半球型能量分析器深度剖析数控式 EX06 离子枪是一款高性能的离子源，哪怕在使用低能离子源时也有着很好的性能提供方位角样品旋转多技术能力可配备其他分析技术而不降低 XPS 检测性能使用 EX06 离子枪时透镜组和能量分析仪的电源可反向（确保离子散射能谱 (ISS) 可用）电子枪可加压升至 1000 V，为 REELS 提供优异的离子源技术选项非单色化 X 射线光源的XPS分析AES（俄歇电子能谱）UPS（紫外光电子能谱）真空系统5 mm 厚高导磁 金属分析室，最大程度提高磁屏蔽效率与使用内部或外部屏蔽的方法相比，屏蔽效能更佳样品制备系统标配一体化的快速进样室和制备室额外的制备室可选Avantage 数据系统集成了测试分析的所有方面，包括仪器控制、数据采集、数据处理和报告生成允许远程控制，并且可轻松与第三方软件交互（例如 Microsoft Word）管理从样品载入到报告导出的整个分析过程

Escalab 250Xi型电子能谱仪是一台多功能高性能的表面分析仪器，它可以用于研究各种固体材料样品表面（1-10nm厚度）的元素种类、化学价态以及相对含量。结合离子刻蚀技术还可以获得元素及化学态深度分布信息；通过成像技术可以获得元素及化学态的面分布信息；利用微聚焦X射线源或电子束可以获得微区表面信息。在金属、玻璃、高分子、半导体、纳米材料、生物材料以及催化等领域有广泛应用。本仪器以X射线光电子能谱为主要功能，还带有俄歇电子能谱、紫外光电子能谱、反射电子能量损失谱及离子散射谱等附件功能。主要功能特点如下：1． 常规XPS，鉴别样品表面的元素种类、化学价态以及相对含量。双阳极XPS，更适合用于不同的特殊过渡金属元素的研究，如催化领域。2． 微区XPS分析（单色化XPS），用于样品微区（＞20μm）表面成分分析，高能量分辨的化学态分析3． 深度剖析XPS，结合离子刻蚀技术对样品（如薄膜等）进行成分深度分布分析。通过角分辨XPS还可以进行非损伤成分深度分布分析。4． XPS成像，可以对元素或化学态进行表面面分布分析，使一些分析结果更直观。5． 反射电子能量损失谱REELS技术，可实现氢元素的检测。6． 离子能量损失谱ISS，可实现样品表面元素信息的检测7． 场发射俄歇AES，可实现样品表面100nm尺寸下的元素信息检测。可以进行成分分析、形貌像分析及扫描俄歇像分析等。8． 紫外光电子能谱（UPS），可以获得样品价带谱信息，对导体、半导体的能带、带隙等分析提供主要数据。还可以分析样品逸出功等。

产品介绍岛津/Kratos公司的AXIS SUPRA+作为高端光电子能谱仪传承了上一代产品高度智能化的优点，将采谱、成像功能与自动化高度相融合，保证了高样品吞吐量和易用性，为用户提供了全新无人值守自动化体验。同时AXIS SUPRA+对产品硬件进行了相应的改进和扩展，一方面能够为用户提供仪器更优异的性能，另一方面也为用户提供了可选的多种拓展技术。AXIS SUPRA+卓越的自动化技术● 无人值守自动进行样品传输和交换● 硬件自动化控制，实时监测谱仪状态和校准AXIS SUPRA+超强的表面分析能力● 具有高性能XPS分析、快速平行化学成像分析、小束斑微区分析● 利用角分辨、高能X射线源、深度剖析可以实现从超薄到超厚的深度分析● 多种功能附件（惰性气体传输器、高温高压催化反应池等）和可拓展多种表面分析技术，如紫外光电子能谱（UPS），离子散射谱（ISS），反射电子能量损失谱（REELS），俄歇电子能谱和扫描俄歇电子显微镜（AES和SAM）等等AXIS SUPRA+高效智能工作流程适合多用户环境● 高吞吐量、快速队列样品分析模式实现连续分析● AXIS SUPRA+采用的通用表面分析ESCApe软件系统使用户与谱仪的交互简单化和智能化，可以进行谱仪的控制、数据的采集和分析

Thermo Scientific ESCALAB QXi X 射线光电子能谱仪（XPS）是ESCALAB 系列的最新产品。作为可扩展的多技术表面分析平台，ESCALAB QXi有着空前的灵活性和完备的专业配置选项。汇聚前沿技术，打造出高效便捷的软件系统和高性能的硬件配置，带来世界一流的测试体验和高效的生产力。强大的Thermo Scientific&trade AvantageTM 软件系统集系统控制、设备状态实时监控与调节、数据采集、数据处理、报告生成等多功能于一身，操作便捷，快速高效。世界领先的分析性能●定量光谱成像 世界一流的能量分析器设计和双晶微聚焦单色化X射线源结合，实现了卓越的能量分辨率●快速高分辨平行成像 化学成像: 空间分辨率优于1um 回溯成谱: 回溯区域优于6um●无需背底修正探测器 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计，可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成 像的需求 空间连续的电阻阳极探测器创新技术，使得XPI成像分辨率达1um，所得数据无探测器背底特征，无需背底校正 直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果●微聚焦单色源 分析尺寸在20μm～900μm之间连续可调 卓越的灵敏度和能量分辨率 提供不少于20个靶材工作点，确保仪器终身使用过程中阳极靶无需更换●自动化高效离子剖析源 新型Ar离子团簇与传统单粒子离子源相结合，用于各类材料的深度剖析研究●高精确度角分辨XPS 软件控制分析位置和角度，确保数据的精确性和重复性 全套的ARXPS数据处理工具，可对纳米尺度的多层结构器件进行层厚计算●一键式荷电补偿 配有双束电荷中和系统，可以根据实际样品的需要独立控制开启。 适用于所有不导电样品及粗糙表面的精准荷电中和●强大的Avantage分析软件 全数字化仪器控制 系统软件可视化操作 全套XPS标准数据图库以及化合物结构鉴定数据库 自定义数据采集到报告生成模式操作简便●高度自动化 分析区域和角度分辨可选 自动化气体调节和真空控制●随时校准 能量标尺和仪器功函数的校准 离子枪定位和离子束聚焦●鼠标点击式样品导航 实时显示分析位置 高照明强度、强度可调设计灵活●ISS、ARXPS与REELS为标准配置●多功能进样室为标准配置●UPS和EDS/AES/SEM/SAM/可选●可选的样品预处理附件，包括： 样品制备台、晶体清洁器、样品刮片器 样品加热/冷却装置 溅射清洁离子枪 蒸发器 高压反应室如您想了解更多关于EscaLab QXi X射线光电子能谱仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

PHI Genesis 500是新一代配置了全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱，易操作式多功能选配附件，能够实现全自动样品传送停放，同时还具备高性能大面积和微区XPS 分析，快速准确深度剖析，为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供多方面的解决方案。关键技术易操作式多功能选配附件全自动样品传送停放高性能大面积和微区XPS 分析快速准确深度剖析为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供多方面解决方案 简单易操作PHI GENESIS 提供了一种全新的用户体验，仪器高性能、全自动化、简单易操作。操作界面可在同一个屏幕内设置常规和高级的多功能测试参数，同时保留诸如进样照片导航和SXI 二次电子影像准确定位等功能。简单友好的用户界面PHI GENESIS 提供了一个简单、直观且易于操作的用户界面，对于操作人员非常友好，操作人员执行简单的设置操作即可完成包括所有选配附件在内的自动化分析。多功能选配附件原位的多功能自动化分析，涵盖了从LEIPS 测试导带到HAXPES 芯能级激发的全范围技术，相比于传统的XPS 而言，PHI GENESIS 体现了前所未有的性能价值。优良解决方案：高性能XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 及多种其他选配附件可以满足所有表面分析需求。多数量样品大面积分析把制备好样品的样品托放进进样腔室后将自动传送进分析腔室内可同时使用三个样品托80mm×80mm 的大样品托可放置多数量样品可分析粉末、粗糙表面、绝缘体、形状复杂等各种各样的样品可聚焦≤ 5μm 的微区X 射线束斑在PHI GENESIS 中，聚焦扫描X 射线源可以激发二次电子影像（SXI），利用二次电子影像可以进行导航、准确零误差定位、多点多区域同时分析测试以及深度剖析。大幅提升的二次电子影像（SXI）二次电子影像（SXI）准确零误差定位，保证了所见即所得。优越的5μmX 射线束斑为微区XPS分析应用提供了新的机遇。快速深度剖析PHI GENESIS 可实现高性能的深度剖析。聚焦X 射线源、高灵敏度探测器、高性能氩离子设备和高效双束中和系统可实现全自动深度剖析，包括在同一个溅射刻蚀坑内进行多点同时分析。高性能的深度剖析能力( 下图左) 全固态电池薄膜的深度剖析。深度剖面清晰地显示了在2.0 μm 以下富Li 界面的存在。( 下图右) 在LiPON 膜沉积初期，可以看到氧从LiCoO2 层转移到LiPON 层中，使Co 在LoCoO2 层富Li 界面由氧化态还原为金属态。角分辨XPS 分析PHI GENESIS XPS 的高灵敏度微区分析和高度可重现的中和性能确保了对样品角分辨分析的优越性能。另外，样品倾斜和样品旋转相结合，可同时实现角度的高分辨率和能量的高分辨率。应用领域主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件领域。用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料，其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI,Inc. 提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X 射线光电子能谱仪，具有优越性能、高自动化和灵活的扩展能力，可以满足客户的所有分析需求。PHI GENESIS 多功能分析平台在各种研究领域的应用电池 (AES + Transfer Vessel)“LiPON/LiCoO2 横截面的 pA-AES Li 化学成像”Li 基材料例如LiPON，对电子束辐照敏感。PHI GENESIS 提供的高灵敏度能量分析器可以在低束流（300pA）下快速获取AES 化学成像。有机器件 (UPS / LEIPS + GCIB)使用UPS/LEIPS 和Ar-GCIB 测量能带结构（1）C60 薄膜表面（2）C60 薄膜表面清洁后（3）C60 薄膜/Au 界面（4）Au 表面通过UPS/LEIPS 分析和Ar-GCIB 深度剖析可以确定有机层的能级结构。半导体 (XPS + HAXPES)半导体器件通常由包含许多元素的复杂薄膜组成，它们的研发通常需要对界面处的化学态进行无损分析。为了从深层界面获取信息，例如栅极氧化膜下的GaN，使用HAXPES 是非常有必要的。微电子 (HAXPES)微小焊锡点分析HAXPES 分析数据显示金属态Sn 的含量高于XPS 分析数据，这是由于Sn 球表面被氧化，随着深度的加深，金属态Sn的含量越高，正好符合HAXPES 分析深度比XPS 深的特点。

PHIGENESISModel 900 for HAXPES无需溅射刻蚀的深度探索下一代透明发光材料使用直径约为10nm~50nm 的纳米量子点(QDs)，结合使用 XPS(Al Ka X射线)和 HAXPES(Cr Ka x射线)对同一微观特征区域进行分析，可以对 QDs 进行详细的深度结构分析。XPS 和HAXPES 的结合使用，可以对纳米颗粒进行深度分辨、定量和化学态分析，从而避免离子束溅射引起的损伤。 深层界面的分析在两种x射线源中，只有 Cr Ka XPs 能探测到 Y0,下方距离表面 14nm 处的 Cr层。拟合后的谱图确定了 Cr 的化学态。另外，通过比较，光电子起飞角90°和30°的 Cr Ka 谱图结果发现在较浅(表面灵敏度更高)的起飞角时，氧化物的强度较高，表明 Cr 氧化物处于 Y,0,和 Cr 层之间的界面。 内核电子的探测Cr Ka 提供了额外的 Al Ka 不能获取的内核电子基于 Cr Ka 的高能光电子，通常有多个额外的跃迁可用于分析。应用领域主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件领域。用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料，其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI，Inc.提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X射线光电子能谱仪，具有卓越性能、高自动化和灵活的扩展能力，可以满足客户的所有分析需求。PHI GENESIS 多功能 分析平台在各种研究领域的应用电池 AES/Transfer Vessel“LiPON/LiCoO 2 横截面的 pA-AES Li 化学成像”Li 基材料例如 LiPON，对电子束辐照敏感。 PHI GENESIS 提供的高灵敏度能量分析器可以在低束流（300pA）下快速获取 AES 化学成像。有机器件 UPS/LEIPS/GCIB使用 UPS/LEIPS 和 Ar-GCIB 测量能带结构(1)C60薄膜表面(2)C60薄膜表面清洁后(3)C60薄膜 /Au 界面(4)Au 表面通过 UPS/LEIPS 分析和 Ar-GCIB 深度剖析可以确定有机层的能级结构。半导体 XPS/HAXPES半导体器件通常由包含许多元素的复杂薄膜组成，它们的研发通常需要对界面处的化学态进行无损分析。为了从深层界面获取信息，例如栅极氧化膜下的 GaN，使用 HAXPES 是非常有必要的。微电子 HAXPES 微小焊锡点分析HAXPES 分析数据显示金属态Sn 的含量高于 XPS 分析数据，这是由于Sn 球表面被氧化，随着深度的加深，金属态Sn的含量越高，正好符合HAXPES 分析深度比 XPS 深的特点。

PHIGENESIS Model 900 for HAXPES无需溅射刻蚀的深度探索下一代透明发光材料使用直径约为10nm~50nm 的纳米量子点(QDs)，结合使用 XPS(Al Ka X射线)和 HAXPES(Cr Ka x射线)对同一微观特征区域进行分析，可以对 QDs 进行详细的深度结构分析。XPS 和HAXPES 的结合使用，可以对纳米颗粒进行深度分辨、定量和化学态分析，从而避免离子束溅射引起的损伤。 深层界面的分析 在两种x射线源中，只有 Cr Ka XPs 能探测到 Y0,下方距离表面 14nm 处的 Cr层。拟合后的谱图确定了 Cr 的化学态。另外，通过比较，光电子起飞角90°和30°的 Cr Ka 谱图结果发现在较浅(表面灵敏度更高)的起飞角时，氧化物的强度较高，表明 Cr 氧化物处于 Y,0,和 Cr 层之间的界面。 内核电子的探测Cr Ka 提供了额外的 Al Ka 不能获取的内核电子基于 Cr Ka 的高能光电子，通常有多个额外的跃迁可用于分析。应用领域 主要应用于电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、纳米颗粒、催化剂、金属材料、聚合物、陶瓷等固体材料及器件领域。用于全固态电池、半导体、光伏、催化剂等领域的先进功能材料都是复杂的多组分材料，其研发依赖于化学结构到性能的不断优化。ULVAC-PHI，Inc.提供的全新表面分析仪器“PHI GENESIS” 全自动多功能扫描聚焦X射线光电子能谱仪，具有优越性能、高自动化和灵活的扩展能力，可以满足客户的所有分析需求。PHI GENESIS 多功能 分析平台在各种研究领域的应用电池 AES/Transfer Vessel“LiPON/LiCoO 2 横截面的 pA-AES Li 化学成像”Li 基材料例如 LiPON，对电子束辐照敏感。 PHI GENESIS 提供的高灵敏度能量分析器可以在低束流（300pA）下快速获取 AES 化学成像。有机器件 UPS/LEIPS/GCIB使用 UPS/LEIPS 和 Ar-GCIB 测量能带结构(1)C60薄膜表面(2)C60薄膜表面清洁后(3)C60薄膜 /Au 界面(4)Au 表面通过 UPS/LEIPS 分析和 Ar-GCIB 深度剖析可以确定有机层的能级结构。半导体 XPS/HAXPES半导体器件通常由包含许多元素的复杂薄膜组成，它们的研发通常需要对界面处的化学态进行无损分析。为了从深层界面获取信息，例如栅极氧化膜下的 GaN，使用 HAXPES 是非常有必要的。微电子 HAXPES 微小焊锡点分析HAXPES 分析数据显示金属态Sn 的含量高于 XPS 分析数据，这是由于Sn 球表面被氧化，随着深度的加深，金属态Sn的含量越高，正好符合HAXPES 分析深度比 XPS 深的特点。

利用 Thermo Scientific™ Theta Probe 角分辨 X 射线光电子能谱仪系统采集角分辨能谱，无须倾斜样品即可无损表征超薄薄膜新型技术产品所依赖的是固体近表面区域的设计。对于这种类型的材料，包括自组装单层、表面改性聚合物和半导体设备，确定表面几纳米的成分是关键。通过使用平行角分辨 XPS (PARXPS) 和能够提供准确精密结果的 Avantage 数据系统的先进软件，Theta Probe X 射线光电子能谱仪系统能够帮助您做到这一点。描述Theta Probe 角分辨 X 射线光电子能谱仪系统特性：专利的弧透镜技术，提供 60° 平行角范围内收集角分辨 XPS 能谱的能力X 射线单色器具有用户可选择的光斑尺寸（15 至 400 μm）系统能够处理大样品或多个样品CCD 样品对齐显微镜与样品表面垂直。透镜、分析仪和检测器弧透镜利用大接收角 (60°) 收集光电子大角度可以最大程度提高灵敏度，并且允许在 PARXPS 测量中收集大角度范围透镜轴与样品法线成 50°，因此可以收集 20 至 80° 角度范围的电子（相对于样品法线）180° 半球型分析器在输出端配备一个二维检测器二维检测器提供多通道检测，多达 112 个能量通道和 96 个角度通道透镜有两种操作方式：传统模式和角度分辨模式X 射线源配备一个微聚焦单色器X 射线光斑尺寸范围 15 - 400 μm深度剖析数控式 EX05 离子枪可用于提供深度剖析，哪怕在使用低能离子源时也有着很好的性能深度剖析可使用方位角样品旋转样品处理全电动样品台，能够实现 5 轴移动样品台可容纳大样品——X 和 Y 轴上的移动范围为 70 mm，Z 轴上的移动范围为 25 mm（高度）真空系统5 mm 厚高导磁?金属分析室，最大程度提高磁屏蔽效率与使用内部或外部屏蔽的方法相比，屏蔽效能更佳Avantage 数据系统集成了测试分析的所有方面，包括仪器控制、数据采集、数据处理和报告生成允许远程控制，并且可轻松与第三方软件交互（例如 Microsoft Word）管理从样品载入到报告生成的整个分析过程

利用 Thermo Scientific&trade Theta Probe 角分辨 X 射线光电子能谱仪系统采集角分辨能谱，无须倾斜样品即可无损表征超薄薄膜新型技术产品所依赖的是固体近表面区域的设计。对于这种类型的材料，包括自组装单层、表面改性聚合物和半导体设备，确定表面几纳米的成分是关键。通过使用平行角分辨 XPS (PARXPS) 和能够提供准确精密结果的 Avantage 数据系统的先进软件，Theta Probe X 射线光电子能谱仪系统能够帮助您做到这一点。描述Theta Probe 角分辨 X 射线光电子能谱仪系统特性：专利的弧透镜技术，提供 60° 平行角范围内收集角分辨 XPS 能谱的能力X 射线单色器具有用户可选择的光斑尺寸（15 至 400 μm）系统能够处理大样品或多个样品CCD 样品对齐显微镜与样品表面垂直。透镜、分析仪和检测器弧透镜利用大接收角 (60°) 收集光电子大角度可以zui大程度提高灵敏度，并且允许在 PARXPS 测量中收集大角度范围透镜轴与样品法线成 50°，因此可以收集 20 至 80° 角度范围的电子（相对于样品法线）180° 半球型分析器在输出端配备一个二维检测器二维检测器提供多通道检测，多达 112 个能量通道和 96 个角度通道透镜有两种操作方式：传统模式和角度分辨模式X 射线源配备一个微聚焦单色器X 射线光斑尺寸范围 15 - 400 μm深度剖析数控式 EX05 离子枪可用于提供深度剖析，哪怕在使用低能离子源时也有着很好的性能深度剖析可使用方位角样品旋转样品处理全电动样品台，能够实现 5 轴移动样品台可容纳大样品——X 和 Y 轴上的移动范围为 70 mm，Z 轴上的移动范围为 25 mm（高度）真空系统5 mm 厚高导磁?金属分析室，zui大程度提高磁屏蔽效率与使用内部或外部屏蔽的方法相比，屏蔽效能更佳Avantage 数据系统集成了测试分析的所有方面，包括仪器控制、数据采集、数据处理和报告生成允许远程控制，并且可轻松与第三方软件交互（例如 Microsoft Word）管理从样品载入到报告生成的整个分析过程

K-Alpha X 射线光电子能谱仪Thermo Scientific K-Alpha X射线光电子能谱仪 (XPS)系统为表面分析带来了一种新方法。K-Alpha XPS 系统专注于使用简化的工作流程提供高质量的结果，使 XPS 操作简单直观，而不会牺牲性能或功能。K-Alpha XPS系统是一种完全集成式单色小光斑XPS系统，具备深度剖析能力。 更先进的性能、更低的价格、更容易的使用性和较大的样品测试量，使 K-Alpha XPS 系统成为多用户环境的理想选择。K-Alpha XPS系统使世界各地的研究人员能够进行表面分析。K-Alpha XPS系统性能数据分析仪类型 180°双聚焦半球分析仪， 128通道探测器X 射线源类型单色化、微聚焦、低功率的 Al K-Alpha X 射线源 X 射线光斑尺寸50-400 µ m（以 5µ m 为单位可调）深度剖析EX06 离子源样品最大面积60x60 mm样品最大厚度20 mm真空系统两个涡轮分子泵，配有自动钛升华泵和机械泵 可选配件ADXPS 样品 支架， 工作 功能 样品 支架， 手套 箱

Thermo Scientific&trade Nexsa&trade X 射线光电子能谱仪 (XPS) 系统能提供全自动、高通量的多技术分析，并可保持研究级结果的高质量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多种分析技术集于一身，用户因此能够进行真正意义上的相关性分析，从而为微电子、超薄膜、纳米技术开发以及许多其他应用进一步取得进展释放潜能。Nexsa 能谱仪具有灵活性，可zui大限度地发挥材料潜能。在使结果保持研究级质量水平的同时，以多重整合技术选项的形式提供灵活性，从而实现真正意义上的相关性数据分析和高通量。标准化功能催生强大性能：绝缘体分析高性能光谱深度剖析多技术整合双模式离子源，使深度剖析功能得到扩展用于 ARXPS 测量的倾斜模块用于仪器控制、数据处理和报告的 Avantage 软件小光斑分析可选的升级：可将任何全自动化集成技术添加到您的分析中。触动按钮即可运行。ISS：在离子散射光谱技术中，一束离子可被某物体表面散射UPS：紫外光电子能谱是指对吸收了紫外光子的分子所发射的光电子动能谱进行测量，以确定化合价区域中的分子轨道能量拉曼：能谱技术在化学领域被用于提供结构指纹REELS：反射电子能量损失谱借助 SnapMap 的光学视图，聚焦于样品特征。光学视图可以帮助您快速定位感兴趣区域，同时生成完全聚焦的 XPS 图像，以进一步定义您的实验。X 射线照射样品上的一个小区域。收集来自这一小区域的光电子并将其聚焦于分析仪随着镜台的移动，不断采集能谱在整个数据采集过程中监测镜台位置，这些位置用来生成 SnapMap

岛津／Kratos X射线光电子能谱仪AXIS Nova——最新成像自动型，业界领先位于英国曼切斯特的Kratos公司是世界上最早生产商品化X射线光电子能谱仪的厂家之一，现在是世界上最大的分析仪器制造公司——岛津公司的全资子公司。自1997年以来，岛津/Kratos公司研发了包括专利的磁沉浸透镜和专利的低能电子荷电中和系统等一系列新技术的新型光电子能谱仪——AXIS Ultra，并于2002年底推出了使用二维阵列检测器——延迟线检测器（Delay-Line Detector）的最新自动型AXIS Nova型XPS谱仪。截至2014年1月底，在世界上已经销售了超过100台AXIS Nova型XPS谱仪，在世界上许多著名的大学、科研机构和企业公司中得到了高度的认可，在业界处于绝对领先地位。 技术特点：Axis Nova采用大功率X光源和浸入式磁透镜设计以获取最高的检测灵敏度，同时采用165mm大平均半径的双聚焦半球扇形能量分析器，可以获得最高的XPS谱线能量分辨。在检测器端，Axis Ultra DLD采用位于能量分析器出口中心位置上的第二代专利的二维阵列延迟线检测器，可以同时记录光电子的信号强度及其发射位置，亦可以在数秒的时间里获取完整的XPS谱图。Axis Nova采用与静电传输透镜同轴的超低能单电子源荷电中和器，完全满足各类绝缘样品的XPS分析任务，尤其是对于表面凸凹不平的样品（典型的是粉末样品和断口样品），可以获得完美的分析结果。Axis Nova使用专利的与采谱能量分析器同心的球面镜能量分析器，可以获得高空间分辨的平行光电子图像，亦即可以获得元素的不同化学状态的二维分布。Axis Nova采用全自动的大样品台设计，最大样品可达4吋，可以利用进样室的光学显微镜确定分析位置，并在样品自动进入分析室以后实现预设位置上的全自动XPS分析。

2019年9月Kratos公司秉承着传承经典的理念隆重推出了全自动、成像型多技术X射线光电子能谱仪——AXIS SUPRA+。集样品全自动传输、全自动分析、智能数据采集处理于一体，体现了便捷性；拥有多种X 射线源、大半径双层能量分析器，杰出的荷电中和技术，使其获得了最优异的性能；通过丰富的硬件接口和灵活的软件接口，具备了多种功能附件和完善的表面分析技术。技术特点：自动化技术，快捷智能工作流程适合多用户环境。多种X射线源可选：有效保证低含量元素测定；有效区分光电子峰和俄歇峰；确保小束斑模式下精细的灵敏度。高功率X射线源和浸入式磁透镜设计确保获取精细的灵敏度。大平均半径的双聚焦半球能量分析器，可以获得精细的能量分辨。全自动超低能无阴影荷电中和器，对于不同类型样品可实现准确的电荷中和。二维阵列延迟线检测器，可以同时记录光电子的信号强度及其发射位置，亦可以在数秒的时间里获取完整的XPS谱图。快速平行成像功能简单易行，可以快速获得高能量分辨的化学状态图像。多模式团簇离子枪自动选择离子源模式保证不同材料的准确性和便捷剖析。

LE-1低能级反光电子能谱仪以前没有一种合适的方法能够精确地测量LUMO的能级。ALS公司首次研发出一种能够精确测量LUMO能级的系统。LE-1系统是一个理想的有机电子研究解决方案。LE-1的特点和配置1. 降低电子辐照能量，就能够避免对有机样品的损伤2. 能够达到和用光电子能谱仪测量HOMO能级一样的测量精度3. 相当于X射线光电子能谱仪系统（XPS或UPS），LE-1能在相同条件下测量样品4. 即使在超真空条件下，样品、真空和测量也能轻易地自动转换5. 只要使用LEIPS标准软件，电子亲和性等就能很容易计算和得到简易的LEIPS标准软件使用说明 1. 输入测量参数后，开始测量。样品的电流谱和LEIPS光谱就能同时被测出来2. 只要通过简单的操作，就能在测量结果上计算出真空度和电子亲和性3. 在计算屏上，只要通过光标就能直接读出光谱任何一处的能量值4. 测量数据要被用来分析的话，就以csv文档格式保存

AXIS SUPRA X射线光电子能谱仪Axis Supra 的设计理念是将样品自动载入、光学显微镜辅助定位样品分析位置和智能的数据采集、处理等易用性集成于高端XPS，并未由于高度自动化而丧失高性能。超高的灵敏度、杰出的能量分辨和快速、高空间分辨的成像满足绝大多数高要求的应用 技术特点大功率X光源和浸入式磁透镜设计以获取高的检测灵敏度。大平均半径的双聚焦半球能量分析器，可以获得高的谱线能量分辨。专利二维阵列延迟线检测器，可以同时记录光电子的信号强度及其发射位置，亦可以在数秒的时间里获取完整的XPS谱图。专利的同源中和器，具备无阴影荷电中和能力，且对于表面凸凹不平的样品，可实现精确电荷中和。标配单色化Al阳极，亦可选购单色化的Al/Ag双阳极，并且单色化阳极靶可以更换多个新鲜靶点，极大地延长了阳极靶的使用寿命。标配进样室定位光学显微镜，可以在进样预抽真空时定位多样品的分析位置，然后转入分析室实施自动分析。

Thermo Scientific K-Alpha，一体化结构的X射线光电子能谱仪（XPS）。性能先进、高性价比、操作简便、结构紧凑，是现代实验室和企业的shou选仪器。采用全新的生产技术,在K-Alpha的设计中集合了所有这些优势。K-Alpha X射线光电子能谱仪Thermo Scientific* K-Alpha是一款完全集成的单色化小光斑X射线光电子能谱（XPS）系统。性能卓越，拥有成本降低，易用性提高和尺寸紧凑使得K-Alpha成为许多现有以及新研发的表面分析应用领域理想解决方案。K-Alpha是专为多用户环境推出的di一款XPS工具，从样品进入到报告生成完全实现自动化工作流程。专为生产率而设计，从研究分析到日常测试Thermo Scientific K-Alpha是一款完全集成的X射线光电子能谱。获奖的zui新版K-Alpha平台特征光谱性能显著提高，提供更高计数率和更快分析时间，改善化学探测能力。分析选配件包括一个角分辨XPS倾斜模块和一个循环惰性气体手套箱，用于转移空气敏感样品。K-Alpha带来一系列激动人心的新软件特征，旨在进一步增强用户体验。K-Alpha是专为多用户环境而设计，先进的单色X射线光电子能谱性能与智能自动化及直观控制相结合，同时满足有经验XPS分析人员及新人对此项技术的需求。强大的性能 可选区域光谱 深度剖析刻蚀 微聚集单色器 快照采集 高分辩率化学态光谱 绝缘样品分析 定量化学成像 无与伦比的易用性Avantage，完整XPS软件包具备： 控制——Avantage软件控制所有硬件 界面——点击样品实验导航 定义——自动化样品传送 采集——谱图、成像、剖析和线扫描 诠释——元素和化学态识别 过程——定量、峰拟合和实时剖析显示 光谱——成像处理，PCA，相分析，TFA、 NLLSF、PSF删除，光学/XPS像叠加 报告——自动化报告生成，简易输出至其它软件包 Avantage索引数据档案管理 审计跟踪记录 系统性能记录 校准要求——全谱仪源除气和设置 全遥控操作主要特征分析器——180°双聚集半球分析器-128通道检测器X射线源——铝Ka微聚集单色器-可获取的光斑大小（5微米步长30至400微米）离子枪——能量范围100至4000 eV电荷中和——又束流-超低能量电子束样品安装——四轴样品台-60 x60毫米样品区域-zui大样品厚度20毫米真空系统——2个220 l/s涡轮分子泵用于进样室和分析室–自动开机，3灯丝TSP数据系统——Avantage数据系统–过程许可–计算机选配件——倾斜角分辨XPS模块–惰性气体手套箱用于空气敏感样品安装产品应用领域氧化石墨烯的物理化学变化测控、半导体晶片上的超薄薄膜结构分析、分层太阳能电池、触摸屏复合涂层的检测评估、等离子表面改性、钢铁表面钝化工艺评估、BN玻璃、MEA燃料电池、耐磨镀层石油催化剂成像、食品安全——聚合物包装材料、MAGCIS深度剖析单一头发纤维。