二次离子质谱分析

二次离子质谱（secondaryionmassspectroscopy，简称SIMS），是一种非常灵敏的表面成份精密分析仪器，原理利用质谱法分析初级离子入射靶面后，样品表面被高能聚焦的一次离子轰击时，一次离子注入被分析样品，把动能传递给固体原子，引起中性粒子和带止负电荷的二次离子发生溅射，然后根据溅射的二次离子的质量信号，对被轰击样品的表面和内部元素分布特征进行分析。通过不同的操作模式，测试可以得到表面质谱、表面成像、深度剖析和三维分析信息，用来完成工业生产和科研研究过程中所需的掺杂和杂质深度数据；浅注入和超薄膜的超高分辨率深度分析；芯片结构及杂质元素定性定量分析；薄膜的组成和杂质的测量等，这种技术本身具有“破坏性”的物质溅射，可以应用在包括但不仅限于金属及合金、半导体、绝缘体、有机物、生物膜分析对象上。质量分析器可采用单聚焦、双聚焦，飞行时间、四极杆、离子阱、离子回旋共振等，其中飞行时间离子质谱TOF-SIMS是通过将二次离子质谱分析技术（SIMS）与飞行时间质量分析器（TOF）结合起来，由于其一次脉冲就可得到一个全谱，离子利用率最高，能最好地实现对样品几乎无损的静态分析，分析速度快和样品的消耗极少，分析质量范围宽，对有机、无机材料都有很好的分析能力。

尽管质谱仪更多的应用于生命科学相关领域，但是还是有一些质谱(MS)技术是专门用于表面科学研究。其中最突出的是二次离子质谱(SIMS)。像大多数涉及电子或离子光学的表面科学技术一样，二次离子质谱是在真空条件下进行。二次离子质谱用一次离子束轰击表面，将样品表面的原子溅射出来成为带电的离子，这些二次离子利用质谱分析器进行分析，得到样品的元素组成数据。可用的质量分析器包括单四极、飞行时间和磁分析器等。离子束是扫描过样品，得到一个样品表面的二维图像。离子束还可以逐层溅射样品，进行深度剖面分析。 2012年二次离子质谱行业市场需求分布 　　二次离子质谱广泛应用于分析半导体等材料、数据存储等电子产品，二次离子质谱对表面非常灵敏，使其可以分析沉积在这些材料上的薄膜；二次离子质谱也被用于科研单位及政府机构的实验室；虽然材料分析是二次离子质谱比较常见的，但也可以用于环境领域空气中颗粒物分析。2012年，二次离子质谱的市场总需求不到1亿美元。 　　上述数据摘录于2013年10月SDi发布的市场分析和预测报告&ldquo Mass Spectrometry: Limitless Innovation in Analytical Science&rdquo 。 编译：刘丰秋

TOF-SIMS(飞行时间二次离子质谱)采用一次离子轰击固体材料表面，产生二次离子，并根据二次离子的质荷比探测材料的成分和结构。TOF-SIMS是一种非常灵敏的表面分析技术，可以精确确定样品表面元素的构成：通过对分子离子峰和官能团碎片的分析可以方便的确定表面化合物和有机样品的结构，配合样品表面的扫描和剥离，可以得到样品表面甚至三维的成分图。相对于XPS、AES等表面分析方法，TOF-SIMS可以分析包括氢在内的所有元素，可以分析包括有机大分子在内的化合物，具有更高的分辨率。 　　2013年，德国ION-TOF公司在中国成功安装了4台TOF-SIMS，据介绍该仪器目前在中国的保有量也不过10台左右。在2013 全国表面分析科学与技术应用学术会议召开期间，德国ION-TOF公司中国区总代理北京艾飞拓科技有限公司总经理高聚宁接受了仪器信息网编辑的采访，介绍了德国ION TOF公司的基本情况，以及TOF-SIMS技术目前的发展应用情况。 北京艾飞拓科技有限公司总经理高聚宁 　　Instrument：首先，请您介绍一下ION TOF公司，及其TOF-SIMS产品的技术发展历史? 　　高聚宁 ：国际上对TOF-SIMS分析研究已经有近35年历史，代表性单位是德国ION-TOF公司所在的德国明斯特大学。可以说，ION-TOF的历史就是TOF-SIMS的发展史。下面的照片是1977年在德国明斯特召开的第一届国际SIMS会议的参加者。ION-TOF公司创建于1989年，是专门研究和生产飞行时间二次离子质谱仪器(TOF-SIMS)的高科技公司。其创始人贝宁豪文(Beninghoven)教授是静态二次离子质谱的奠基人，创建并长期担任国际二次离子质谱学会议主席。 1977年在德国明斯特召开的第一届国际SIMS会议的参加者 ION-TOF创始人贝宁豪文教授 　　ION-TOF公司创立前，在Beninghoven教授指导下，明斯特大学物理系已经开发了第一代到第三代的二次离子质谱仪器，公司创建后的产品是从第三代TOF-SIMS开始销售的。2003年10月，ION-TOF推出了第五代TOF.SIMS 5仪器。2005年，ION-TOF推出了具有独立专利的Bi源，可以完全取代原来的Ga源和金源。该分析源对无机物和有机大分子等的分析都可以胜任，并且在不损失系统的空间分辨率的前提下大大提高其质量分辨率。 第一代SIMS(1982年)　　2010年，ION-TOF开发了第二代Bi源，使得空间分辨率和质量分辨率又上了一个新台阶。第二代Bi源还可以提供Mn离子，对国际最新的G-SIMS(Gentle-SIMS)分析提供支持。 　　2012年，ION-TOF公司对分析器新研制了EDR功能，对系统结果矫正和定量分析很有帮助。还推出了可以用于有机大分子和生物分析的Gas Cluster Source。新的研究成果将TOF-SIMS的分析从无机物拓展到有机大分子和生物分析领域，可以广泛应用在半导体，物理，化学，材料，生命科学，医药等领域。 　　Instrument：请您谈谈TOF-SIMS技术未来的发展趋势? 　　高聚宁：TOF-SIMS未来的发展趋势，我认为主要在以下三个方面： 　　一是应用领域的拓展，尤其是在生物和有机大分子应用方面的拓展。这包括多方面的内容，如对有机分析源的开发完善，有机分析源已经从Au，C60，发展到现在的Bi源和气体团簇离子源(GCIB)。对于生物和有机分子的分子离子峰获得已经取得突破性进展。而在另一方面，有机材料的结果非常复杂，需要有经验的专门分析人员。我们正在尝试一种简化谱图的方法，G-SIMS提供了一种思路，但仍有待完善。 　　其次是定量分析。由于Matrix效应，某种元素的离子产额是与当时所处的化学环境相关的。所以TOF-SIMS的定量分析比较复杂，需要对标准样品同时进行分析对比。另外，成份含量可以相差到十几个量级。如何保证在如此大的跨度下不损失，不丢失测试信号也是一个难点。ION-TOF已经有很好的尝试，如与XPS结合，EDR功能的开发等。 　　最后是与其他表面分析手段的结合，如形貌(AFM)，SEM，XPS，LEIS（Low-Energy Ion Spectroscopy），激光共聚焦显微镜等。这些分析手段可以帮助用户获得全方位的表面和界面信息，并通过结果对比，解析出样品表面和界面的原始状态。但这些手段实现原位分析还需要一个过程。ION-TOF正在着手这方面的研究，并已经取得了部分成果。 　　Instrument：您认为TOF-SIMS的市场发展前景怎么样? 　　高聚宁：目前，国际上一致公认TOF-SIMS将是XPS之后的可以广泛应用的分析平台，所以对其前景非常看好。现在，国际上已经安装了约280套TOF-SIMS，每年约20-25台的增长量。相比之下，中国的TOF-SIMS研究刚刚起步，目前仅有约10套系统，这还包括ION-TOF今年安装的4套系统!按照我们的分析，中国TOF-SIMS的保有量和年销量都应该达到世界的1/4。这还需要很多的培训和推广工作。 　　Instrument：您如何看待TOF-SIMS在中国高校科研院所及企业单位的市场需求前景? 　　高聚宁：目前，世界上TOF-SIMS的用户群半导体工厂和科研院所用户各占半壁江山。如韩国Samsung集团就安装了超过10台的TOF-SIMS。然而，随着TOF-SIMS在生物分析领域的拓展，科研院所和高校的需求将会增加。对中国的用户，我们在生物领域的研究已经达到世界先进水平，尤其是中医中药的研究也非常需要TOF-SIMS这样的分析手段，所以我个人非常看好TOF-SIMS在中国科研单位的前景。而对于工厂企业的需求，一些半导体工厂已经在中国设立了研究基地。而配合生产线进行失效分析也会有大量的需求。其他分析领域，如钢材，汽车等领域，国外已经广泛应用TOF-SIMS，而国内仍然需要一定时间追赶国际步伐。