原子等离子体仪

绿色、环保、低成本、空气运行的元素分析技术 安捷伦4100 MP-AES拥有更安全、更经济、更高效的运行速度。更高的灵敏度、更低的检测限（亚ppb级）、全面超越火焰原子吸收光谱仪的分析效率。最具创新的是：安捷伦4100 MP-AES 采用了空气运行，无需再使用易燃及昂贵的气体，极大地降低了运行成本，提升了实验室的安全保障。产品特点最低的运行成本：安捷伦 4100 MP-AES 无需使用易燃、昂贵的气体，可实现无人值守操作，大大降低了运行成本高性能：电磁耦合微波等离子体光源相比原子吸收的火焰原子化器， 提供了更加优异的集体耐受力和适应力，以及更加出色的检测限简洁实用：专业的应用软件程序设计，即插即用的硬件设置，确保任何用户都能够快速安装操作，无需复杂的方法开发、校准或培训更高的实验室安全：除了无需使用易燃的氧化性气体外，4100 MP-AES使实验室无需引入多种复杂气体，无需人工搬运气体钢瓶可靠、耐用： 4100 MP-AES 运行稳定，适应性强。适用于危险气体采购价格昂贵、运输不便的边远地区，是采矿、食品及农业、化工、石化和制造等行业的理想选择

珀金埃尔默全新Avio 500 ICP-OES：专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，完美应对复杂的环境、化学和工业样品 作为原子光谱领域的领导者和创新者，珀金埃尔默公司于2017年7月6日发布全新Avio 500电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-OES）。这款ICP-OES是专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，可以应对各个领域的多种类型样品。 作为一款真正的同步检测ICP-OES，Avio 500具备同步背景校正功能，可提供更高的样品通量和数据可靠性；超群的基体耐受性；以及业内最低的氩气消耗量。无论待测元素的种类和浓度范围再宽，Avio 500都可以有效应对，使用户的检测工作符合行业规范。Avio 500的可兼容多个应用领域，包括环境、石化（尤其是润滑油服役情况分析）、地矿、食品、制药、制造业（包括电池制造）等。 以下关键功能使得Avio 500具备卓越的性能：为提升样品通量而设计的同步数据采集功能、为节约使用成本设计的业内最低的氩气消耗量、为缩短样品前处理流程设计的超宽线性范围。无论样品多么复杂，这些功能都可确保检测数据的准确性。 带有快速拆装炬管座的垂直炬焰设计：带来强悍基体耐受性，有效缩短样品预处理时间；平板等离子体™ 技术：仅消耗同类产品一半的氩气就可以生成稳定的等离子体炬，无论样品基体多么复杂；双向观测技术：可同时对等离子体进行全波长轴向和径向观测，高低含量元素一次进样同时分析；全谱全读技术：对全波长进行同步数据采集，无需重复进样就可以获得全部光谱数据；空气刀（PlasmaShear™ ）技术：无需氩气，即可消除等离子体冷尾焰产生的基体干扰，而且完全无需维护；全彩等离子体观测（PlasmaCam™ ）技术：提供全彩色的等离子体实时影像，简化方法开发工作，并使远程诊断成为可能。 此外，Avio 500配备跨平台的Syngistix™ 操作软件，AA、ICP、ICP-MS操作无缝对接。更多有关Avio 500的信息请请访问PerkinElmer官方网站。

双腔体等离子体原子层沉积系统 QBT-T原子层沉积（Atomic layer deposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术，具有自限性和自饱和。原子层沉积技术主要应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。 产品描述厦门韫茂科技公司的双腔体等离子体原子层沉积系统（QBT-T），设备采用双腔体设计，腔体之间可实现独立控制，双倍产出。腔体分别为PEALD腔室，粉末ALD腔室。由于双腔体双功能的独特设计，使设备可以在平片上实现等离子体ALD的生长工艺以及粉末ALD包覆工艺，设备配有独立控制的300℃完整加热反应腔室系统，保证工艺温度均匀。该系统具有专利粉末样品桶、晶圆载盘、全自动温度控制、ALD前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制，以及现场RGA、QCM、臭氧发生器、手套箱、极片架等设计选项。是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料,半导体领域研究与应用的最佳研发工具之一。主要技术参数QBT-T 技术参数 Technical Specifications （TiN, ZnO, Al2O3, TiO2等制备）腔体双腔体设计（1个硅片PEALD腔室，1个粉末ALD腔室），每个腔体独立控制，双倍产出等离子体 Plasma最大3kW RF自匹配电源最大基板尺寸Max Wafer SizeФ150mm (可定制）高精准样品加热控制 Wafer HeatingRT-300±1℃前驱体 Max Precursor最大可包括3组等离子体反应气体 8组液态或固态反应前驱体, Max 3 Gas and 8 Liquid/Solid Precursors 臭氧发生器Ozone Generator可选配，生产效率15g/h人机界面 HMI全自动化人机操作界面安全Safety工业标准安全互锁Industry Safety Interlock，报警Alarm，EMO

简介Online 5100 MP多参数重金属在线分析仪使用发射光谱来分析溶液中的元素含量。高温状态下，处于基态的原子或离子跃迁到激发态，处于激发态的原子回到基态时又发射出不同波长的光，发射谱线的波长与特定元素有关，而谱线的强度与浓度有关，Online 5100 MP就是基于这一原理进行分析的。功能特点 ▲ 原子发射光谱原理，方法成熟▲ 分析元素包括金属和非金属▲ 多元素同时分析，可扩展应用，多达70多种元素▲ 宽线性范围：ppb~ppm▲ 宽波长范围：176nm~780nm▲ 检测限低：与实验室ICP-AES相当▲ 耐盐高：可耐受高达3%TDS▲ 工业电脑控制，人性化操作界面▲ CCD固态检测器：可同时进行背景及干扰校正▲ 低运行成本：从空气中提取氮气，不使用昂贵气体▲ 安全：无需易燃或氧化气体，消除安全隐患▲ 快速：只需数分钟即可分析多个元素▲ 整体式矩管：省略了矩管调整和气体管路的繁琐连接▲ 氮气等离子体：温度控制在5000K技术参数 分析元素：用户选择 (多达70多种元素可选)测量原理：原子发射光谱准 确 度：优于±2% (标准样品)重 复 性：优于2%线 性：优于0.9999分析时间：约1min/单元素（不含预处理）仪器校准：自动电 源：220V±10% VAC，50±1Hz预 处 理：根据用户情况配置

Picosun等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统 PICOPLASMA Picosun公司新型PICOPLASMA™ 等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统是基于先进的自由离子远程等离子源设计的，其性能已经得到世界范围内的诸多ding 级研究团队的肯定。多种激发源（如氧、氢和氮等）配置能够zui大化拓展ALD的工艺范围，尤其是低温沉积金属和金属氮化物薄膜。由于远程等离子源所产生的等离子体束流中离子的含量低，因此即使是zui敏感的衬底，也不会出现等离子损伤，而等离子束流中含有高浓度的活性粒子，保证很快的生长速度。PICOPLASMA™ 源系统既可以安装在现有的PICOSUNTM ALD反应器上，也可以将整个PEALD组装为yi个整体。它具有占地面积小、易维护和低运行成本等优点。通过预真空系统，PICOPLASMA™ 集成在PICOPLATFORM™ 集群系统中后可实现自动化操作。 PICOPLASMA™ 远程等离子体系统技术参数 对衬底无等离子损伤 导电材料不会产生短路现象 无前驱源背扩散→ 等离子发生器无薄膜形成 等离子体点火期间无压力振荡→ 无颗粒形成 等离子体源与衬底之间无闸门阀→ 无颗粒形成 等离子体源材料无刻蚀→ 金属和氧化物薄膜低杂质 简单和快速服务并通过维护舱口改变腔室 无硬件修改使热ALD和等离子ALD工艺在同yi沉积腔室中进行成为可能 应用领域部分PEALD材料的薄膜均匀性的例子，采用PICOSUN™ 设备沉积。晶圆尺寸150/200 mm(6/8”)材料非均匀性(1σ)AI2O3 0.50%AlN0.62%In2O30.87%SiO2 (low-T)1.10%SiN (low-T)1.58%TiN2.16%ZnO2.64%TiAlN2.87%

ICP电感耦合等离子体原子发射光谱仪过程主要分三步，即激发、分光和检测。第一步：激发光源使试样蒸发汽化，离解或分解为原子状态，原子也可能进一步电离成离子状态。原子及离子在光源中激发发光；第二步：利用分光器把光源发射的光色散为按波长排列的光谱；第三步：利用光电器件检测光谱，按所测得的光谱波长对试样进行定性分析，或按发射光强度进行定量分析。1、软件操作系统的特点1.1全中文操作界面，具有绘图功能，简便易用 1.2计算机控制自动寻峰,自动扫描,自动衰减1.3单一及复杂的元素间干扰校正1.4自动背景校正和背景扣除1.5谱线库储存有24000多条分析谱线，可自行添加1.6开机自动诊断调试1.7二次回归和高斯曲线计算含量的测量方式 应用：1、可检测物体分类包括：金属(钢铁,有色金属)、化学、药品、石油、树脂、陶瓷等；生物、医药、食品等环境(自来水,环境水,土壤,大气粉尘)等2、检测范围ICP原子发射光谱仪是一种可以测定试样中的金属元素和部非金属元素的大型分析仪器，可以对试样进行定性、半定量和定量分析。它的测量范围可从微量到常量3、光谱仪可检测元素检出限公司经营产品覆盖电感耦合等离子体发光光谱分析（ICP）、X射线荧光光谱仪（XRF）、离子色谱仪（IC）、高效液相色谱仪（HPLC）、气相色谱仪（GC）、原子吸收光谱仪（AAS）、微波消解仪、纯水机等仪器及其配件。公司秉承“立诚信之本，方品质之规，体科学之道"的企业精神，以“诚信为本，品质至上，客户第一"的经营理念，以专业、全面的技术支持和快捷的售后服务为后盾。公司服务客户群体遍布制药、环保、食品、政府、高校、化工、第三方检测等领域。公司提供优质的产品和服务，得到广大客户的高度认可。公司将与客户一起携手并进，互惠互利、共同发展。

产品详情德国Sentech等离子体增强原子层沉积机PE-ALD 原子层沉积（ALD）是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入前置物实现。等离子增强原子层沉积（PEALD）是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ALD性能的先进方法。 SENTECH基于多年研发制造PECVD和ICPECVD的经验，包括专有的PTSA技术，推出第一台PEALD设备。新的ALD设备应用SENTECH椭偏仪，使热辅助和等离子辅助的操作和沉积过程都能得到监控。 SENTECH使用激光椭偏仪和宽量程分光椭偏仪的前沿技术——超快在线椭偏仪来监控逐层膜生长。 第一台PEALD设备已经在布伦瑞克科技大学（TU Braunschweig）投入使用，用于生长超高均匀性和密度的氧化膜，如Al2O3和ZnO等。 在Al2O3沉积过程中，三甲基铝（TMA）等离子产生的氧原子反应，衬底温度为80到200℃。PEALD薄膜厚度均匀性高、折射率变化小的特点。

产品详情德国Sentech等离子体增强原子层沉积机PE-ALD 原子层沉积（ALD）是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入前置物实现。等离子增强原子层沉积（PEALD）是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ALD性能的先进方法。 SENTECH基于多年研发制造PECVD和ICPECVD的经验，包括专有的PTSA技术，推出第一台PEALD设备。新的ALD设备应用SENTECH椭偏仪，使热辅助和等离子辅助的操作和沉积过程都能得到监控。 SENTECH使用激光椭偏仪和宽量程分光椭偏仪的前沿技术——超快在线椭偏仪来监控逐层膜生长。 第一台PEALD设备已经在布伦瑞克科技大学（TU Braunschweig）投入使用，用于生长超高均匀性和密度的氧化膜，如Al2O3和ZnO等。 在Al2O3沉积过程中，三甲基铝（TMA）等离子产生的氧原子反应，衬底温度为80到200℃。PEALD薄膜厚度均匀性高、折射率变化小的特点。 下图是ALD与PEALD的沉积结果对比

等离子体增强原子层沉积系统（Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition System，PEALD)产地：美国埃米 主要产品系列：1.ALD (传统的热原子层沉积)；2.PEALD (等离子增强原子层沉积)；3.Powder ALD (粉末样品的原子层沉积)； 仪器简介：原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD），也称为原子层外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），或原子层化学气相沉积（Atomic Layer Chemical Vapor Deposition，ALCVD）。原子层沉积是在一个加热反应的衬底上连续引入至少两种气相前驱体源，化学吸附至表面饱和时自动终止，适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。一个基本的原子层沉积循环包括四个步骤：脉冲A，清洗A，脉冲B和清洗B。沉积循环不断重复直至获得所需的薄膜厚度，是制作纳米结构从而形成纳米器件极佳的工具。ALD的优点包括：1. 可以通过控制反应周期数精确控制薄膜的厚度，从而达到原子层厚度精度的薄膜；2. 由于前驱体是饱和化学吸附，保证生成大面积均匀性的薄膜；3. 可生成极好的三维保形性化学计量薄膜，作为台阶覆盖和纳米孔材料的涂层；4. 可以沉积多组份纳米薄层和混合氧化物；5. 薄膜生长可在低温下进行（室温到400度以下）；6. 可广泛适用于各种形状的衬底；7. 原子层沉积生长的金属氧化物薄膜可用于栅极电介质、电致发光显示器绝缘体、电容器电介质和MEMS器件，生长的金属氮化物薄膜适合于扩散势垒。 技术参数：基片尺寸：4英寸、6英寸、8英寸、12英寸；加热温度：25℃—400℃（可选配更高）；均匀性： 1%；前驱体数：4路（可选配6路）；兼容性： 可兼容100级超净室；尺寸：950mm x 700mm；ALD及PE-ALD技术； 原子层沉积ALD的应用包括：1) High-K介电材料 (Al2O3, HfO2, ZrO2, PrAlO, Ta2O5, La2O3)；2) 导电门电极 (Ir, Pt, Ru, TiN)；3) 金属互联结构 (Cu, WN, TaN,Ru, Ir)；4) 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2, V2O5)；5) 纳米结构 (All ALD Material)；6) 生物医学涂层 (TiN, ZrN, TiAlN, AlTiN)；7) ALD金属 (Ru, Pd, Ir, Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni)；8) 压电层 (ZnO, AlN, ZnS)；9) 透明电学导体 (ZnO:Al, ITO) 10) 紫外阻挡层 (ZnO, TiO2) 11) OLED钝化层 (Al2O3) 12) 光子晶体 (ZnO, ZnS:Mn, TiO2, Ta3N5) 13) 防反射滤光片 (Al2O3, ZnS, SnO2, Ta2O5)；14) 电致发光器件 (SrS:Cu, ZnS:Mn, ZnS:Tb, SrS:Ce) 15) 工艺层如蚀刻栅栏、离子扩散栅栏等 (Al2O3, ZrO2) 16) 光学应用如太阳能电池、激光器、光学涂层、纳米光子等 (AlTiO, SnO2, ZnO) 17) 传感器 (SnO2, Ta2O5) 18) 磨损润滑剂、腐蚀阻挡层 (Al2O3, ZrO2, WS2)； 目前可以沉积的材料包括：1） 氧化物: Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2, SnO2, ZnO, La2O3, V2O5, SiO2,...2） 氮化物: AlN, TaNx, NbN, TiN, MoN, ZrN, HfN, GaN, ...3） 氟化物: CaF2, SrF2, ZnF2, ...4） 金属: Pt, Ru, Ir, Pd, Cu, Fe, Co, Ni, ...5） 碳化物: TiC, NbC, TaC, ...6） 复合结构材料: AlTiNx, AlTiOx, AlHfOx, SiO2:Al, HfSiOx, ...7） 硫化物: ZnS, SrS, CaS, PbS, ...

系统配置：■安捷伦4100MP-AES微波等离子体原子发射光谱仪■必须的组件（管道、线路）这台仪器状况良好，已经在SpectraLabScientific进行了测试。所有套件和组件均包含90天保修。仪器实物图：仪器简介：◇最低的运行成本——安捷伦4100MP-AES无需使用易燃、昂贵的气体，可实现无人值守操作，大大降低了运行成本◇高性能——电磁耦合微波等离子体光源相比原子吸收的火焰原子化器，提供了更加优异的集体耐受力和适应力，以及更加出色的检测限

激光诱导击穿光谱技术(LIBS)，利用脉冲激光产生的等离子体烧蚀并激发样品（通常为固体）中的物质，并通过光谱仪获取被等离子体激发的原子所发射的光谱，以此来识别样品中的元素组成成分，进而可以进行元素鉴定、材料的识别、分类、定性以及定量分析。 CNI生产的激光诱导等离子体光谱仪中，激光器稳定可靠，光谱仪分辨率高，软件分析快速准确，是实验室、工业现场的实用分析仪器。■ 基本组成 脉冲激光器、光纤光谱仪、聚焦透镜、样品、转台、耦合透镜、光纤座、光纤。■ 激光器的选择固态物质LIBS检测金属样品(金属、合金、钢、矿石等组分检测)高能脉冲激光器E:100μJ~10mJ样品导热性好，激光器能量足够高即可非金属多组分样品(土壤中重金属、氮磷钾肥检测、煤质分析等)低频高能脉冲激光器E:10mJ~100mJ样品导热性，高温易化学反应或燃烧液态物质LIBS检测液体样品(海水、工业污水检测等)高能脉冲激光器E:100mJ~500mJ由于等离子体冲击波作用，液面波动影响探测稳定性气态物质LIBS检测气体或气溶胶(空气成分、大气污染物、汽车尾气、工业废气检测等)低频高能脉冲激光器E:100mJ~1000mJ气体击穿阈值大，需要高能激光作为激发光源

双腔体等离子体原子层沉积系统 QBT-T 原子层沉积（Atomic layer deposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术，具有自限性和自饱和。原子层沉积技术主要应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。 等离子体增强原子层沉积 (PlasmaEnhancedAtomicLayerDeposition，PEALD)是对ALD技术的扩展，通过等离子体的引入，产生大量活性自由基，增强了前驱体物质的反应活性，从而拓展了ALD对前驱源的选择范围和应用要求，缩短了反应周期的时间，同时也降低了对样品沉积温度的要求，可以实现低温甚至常温沉积，特别适合于对温度敏感材料和柔性材料上的薄膜沉积。主要技术参数QBT-A 技术参数 Technical Specifications （超导NbN, TiN以及 Al2O3, SiO2等制备)高真空HV腔体2个腔室，包括进样室和ALD，LoadLock极限真空 Ultimate Pressure9E-6Torr工艺腔极限真空 Ultimate Pressure5E-7Torr等离子体 Plasma最大600W RF自匹配电源最大基板尺寸Max Wafer SizeФ200mm，氧化铝均匀性1%高精准样品加热控制 Wafer HeatingRT-500±1oC前驱体 Max Precursor最大可包括3组等离子体反应气体 4组液态或固态反应前驱体臭氧发生器Ozone Generator可选配，生产效率15g/h传输高真空自动化传输人机界面 HMI全自动化人机操作界面安全Safety工业标准安全互锁Industry Safety Interlock，报警Alarm，EMO测试结果展示

THA2700氦等离子体发射光谱分析模块仪器功能 THA2700氦等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。工作原理氦等离子体发射光谱分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。技术参数 工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min。技术指标分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；载气：高纯氦气；检出限：≤10×10-9；含尘量：≤0.1um；重量：约1.5kg；主体尺寸：约170*111*90mm。技术优势u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，仪器使用寿命长。典型工程应用领域u 空分氦气分析u 高纯气体分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱

珀金埃尔默全新Avio 500 ICP-OES：专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，完美应对复杂的环境、化学和工业样品 作为原子光谱领域的领导者和创新者，珀金埃尔默公司于2017年7月6日发布全新Avio 500电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-OES）。这款ICP-OES是专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，可以应对各个领域的多种类型样品。 作为一款真正的同步检测ICP-OES，Avio 500具备同步背景校正功能，可提供更高的样品通量和数据可靠性；超群的基体耐受性；以及业内最低的氩气消耗量。无论待测元素的种类和浓度范围再宽，Avio 500都可以有效应对，使用户的检测工作符合行业规范。Avio 500的可兼容多个应用领域，包括环境、石化（尤其是润滑油服役情况分析）、地矿、食品、制药、制造业（包括电池制造）等。 以下关键功能使得Avio 500具备卓越的性能：为提升样品通量而设计的同步数据采集功能、为节约使用成本设计的业内最低的氩气消耗量、为缩短样品前处理流程设计的超宽线性范围。无论样品多么复杂，这些功能都可确保检测数据的准确性。 带有快速拆装炬管座的垂直炬焰设计：带来强悍基体耐受性，有效缩短样品预处理时间；平板等离子体™ 技术：仅消耗同类产品一半的氩气就可以生成稳定的等离子体炬，无论样品基体多么复杂；双向观测技术：可同时对等离子体进行全波长轴向和径向观测，高低含量元素一次进样同时分析；全谱全读技术：对全波长进行同步数据采集，无需重复进样就可以获得全部光谱数据；空气刀（PlasmaShear™ ）技术：无需氩气，即可消除等离子体冷尾焰产生的基体干扰，而且完全无需维护；全彩等离子体观测（PlasmaCam™ ）技术：提供全彩色的等离子体实时影像，简化方法开发工作，并使远程诊断成为可能。 此外，Avio 500配备跨平台的Syngistix™ 操作软件，AA、ICP、ICP-MS操作无缝对接。更多有关Avio 500的信息请请访问PerkinElmer官方网站。

THA2700氦等离子体发射光谱分析模块仪器功能 THA2700氦等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。工作原理氦等离子体发射光谱分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。技术参数 工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min。技术指标分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；载气：高纯氦气；检出限：≤10×10-9；含尘量：≤0.1um；重量：约1.5kg；尺寸：170*111*90mm。技术优势u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，仪器使用寿命长。典型工程应用领域u 空分氦气分析u 高纯气体分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱

仪器简介：目前，等离子体光谱仪（ICP）越来越受到各行各业的青睐。但是，由于这种仪器的价格较为昂贵，令许多用户望而生畏！有些行业（如环保行业）的用户往往会选择分析性能有很大局限性的顺序型等离子体光谱仪（ICP）或原子吸收光谱仪。德国斯派克分析仪器公司新近开发的— SPECTRO GENESIS 是一种其性能远在顺序型等离子体光谱仪（ICP）或原子吸收光谱仪之上，但价位却可以与之媲美的全谱等离子体发射光谱仪。激发光源采用计算机控制、频率为27.12 MHz、输出功率0.7 - 1.7 kW的射频发生器。它具有自动等离子激发和待机运行模式等特点，可节省能耗和氩气耗量。适应样品种类的连续变换，可确保对多种样品甚至快速更换样品时始终具有稳定、有效的等离子体能量。另外，它还具有稳定、可靠、耐用等特点。 主要特点：

上海善福电子科技有限公司专业从事实验室仪器设 备、生物仪器设备、 配件耗材的销售、租赁、维修。公司主 营产品有色谱、质谱、光谱、测序仪等化学、生物类全新分 析仪器及二手仪器，如HPLC，GC，LCMS，GCMS，AAS，IPC， PCR等。公司经营品牌有Agilent、Waters、Thermo Fisher、 PerkinElmer、AB SCIEX、岛津等。公司为生物医药、第三方 检测、化工能源、食品环境等企业 及高校、科研院所提供 国内外*的分析技术产品。公司拥有专业的技术团队，可提供 稳定可靠的售后服务和技术支持，让客户无后顾之忧。公司 可为客户节约大量实验成本，并帮助客户得以快速发展。电感耦合等离子体原子发射光谱仪5110 ICP-OESAgilent 5110 同步垂直双向观测 (SVDV) ICP-OES 具有独特的智能光谱组合 (DSC) 技术，可以实现同步的水平和垂直测量。配合使用垂直炬管与速度更快且无需气体吹扫的 VistaChip II CCD 检测器，5100 ICP-OES（也称作 ICP-AES）能够以一半的氩气用量来运行最具挑战的样品，速度可提升 55%，并且不影响任何分析性能。产品特性：● 独特的智能光谱组合 (DSC) 技术可实现同步水平和垂直信号测量，消耗更少气体即可运行最快的 ICP-OES 分析● 高级阀系统 (AVS) 可降低每次分析成本并使分析效率提高一倍以上● 垂直炬管设计可以测量包括高基质和挥发性有机溶剂在内的复杂样品● 通过分析过程中精准气泡注入控制，可选 AVS 能够有效缩短样品提升、稳定时间和清洗延时，从而实现高精度的分析● 固态 RF 系统可提供稳定的等离子体，确保长期稳定的分析性能● IntelliQuant 模式使样品中的所有元素一目了然，大大简化了方法开发过程并实现了快速样品筛选● 直观的 ICP Expert 软件和 DSC 技术使方法开发更为便捷流畅● 完全集成式切换阀与即插即用式炬管极大程度减少了培训需求，确保实现快速启动。● 5110 提供三种灵活配置：同步垂直双向观测、垂直双向观测和垂直观测。

产品概述WEPER ICPMS9000质谱仪稳定可靠、维护简便、配置灵活，配置长寿命稳定的ICP离子源、高灵敏度且宽动态范围的ETP检测器、消除质谱干扰的动能歧视碰撞反应池、双重离轴式离子传输系统，使WPER ICPMS9000同时拥有高性能、高稳定性、易用性的特点。开发了智能化的软件系统，具有简单易用的自动调谐、自动校正、自动优化和数据分析工具，与高性能质谱一起给您带来极致的测试体验。性能优势灵活的进样系统，用户可根据自身的应用需求灵活选择标准进样系统、耐氢氟酸进样系统、耐高盐进样系统；还可根据需要选配波尔贴半导体制冷装置，精确控制雾化室温度，降低基质干扰。采用一体式同心炬管，矩管基座导轨式设计，安装简便，自动定位，使得进样系统维护便捷和操作简单。采用高效稳定的全固态自激式射频发生器，保证样品原子化/离子化的稳定性和重复性。自激式射频发射器通过射频线圈将能量高效率传输至等离子体工作区域，功率在300～1600W范围连续可调，即使面对复杂基体样品，等离子体依然可以强劲高效激发。多重安全防控措施，确保仪器安全可靠的运行，避免用户误操作带来的风险。活动的锥接口设计，可使仪器在真空状态下更换锥接口和维护锥接口。新一代碰撞反应池技术，可消除多原子和双电荷离子干扰，提高数据准确性；同时还可以采用高纯氦气作为碰撞气体，设置简单安全，无需切换气体。智能化操作软件，支持用户自己编辑报告模板。应用领域环境保护：包括自来水，地表水 ，地下水，海水以及各种土壤、污泥 、废弃物等的分析食品安全：卫生防疫、商检、烟及酒等食品的质量控制，鉴别真伪等合金材料：钢铁合金、玻璃、陶瓷和矿冶等样品分析

PlasmaQuant MS：(1)最节省的等离子体：获得稳定强劲的等离子体所消耗氩气量仅为常规仪器的一半；(2)专利的iCRC碰撞反应池：有效去除多原子分子干扰，不损失其它干扰元素灵敏度的前提下获得更好的碰撞反应效果；气体切换快速，无需额外维护；(3)ReflexION离子反射技术：3D聚焦离子反射镜获得无与伦比的灵敏度，其灵敏度达到同类产品的5倍以上；(4)高解析四极杆：3MHz的扫描速度，可获得完美的质谱分离；检测驻留时间低至50μs；(5)数字和模拟双重检测器：既可在脉冲技术模式下提供11个数量级的线性动态范围，亦可在双模模式下实现；(6)强性能优异的真空系统：冷开机5min即可达到做样标准，真空度可达10-9τ；双分子涡轮泵，一般负载低于50%，使用寿命更长。这些技术的采用让PlasmaQuant MS在灵敏度、线性范围、检出限、稳定性等方面更上一个新台阶。其还可配备洁净室组件、样品导入系统、自动进样器等配件，可灵活、快速实现普通灵敏度模式和高灵敏度模式之间的切换，满足日常分析和研究级的各种应用。

产品说明：电感耦合等离子体(Inductive coupled plasma以下简称ICP)自60年代中期研制成功以来与原子发射光谱仪器(Atomic Emission Spectrometer以下简称AES)相结合，以它优越的激发性能，良好的精密度，宽广的动态范围，极低的检出限以及多元素同时快速测定等优点，已蓬勃发展为无机成分分析的重要手段，并广泛应用于地质矿产、冶金机械、石油化工、医药卫生、食品饮料、农业土壤、商检环保、科研教学等各个科技领域，而顺序扫描型ICP－AES仪器以其灵活、方便、价格低廉等优点成为分析仪器市场上一枝独秀，深受用户欢迎。我公司是我国最早开发研制成功ICP－AES光谱仪的厂家，数次迭代研发ICP6800-1电感耦合等离子体发射光谱仪，该产品在继承原产品诸多优点基础上，对原产品的软件、光学系统、电路系统等进行了大量的改进，是国内目前较为先进的产品。技术参数：1 、 主单色器Czerny-Turner装置 1.1 焦距1000mm。 1.2全息离子刻蚀闪耀光栅：刻线2400条或3600条或4320条/mm。 1.3 闪耀波长250nm。 1.4 波长范围：（180～800）nm(采用3600条/mm光栅时，长波只能达到450nm)。 1.5 色散率倒数：0.4nm/mm(2400条/mm光栅)、0.24nm/mm(3600条/mm光栅)。 1.6 入射和出射狭缝：20μm 2 、 高频发生器 2.1 频率（40.68±2） MHz,工作线圈内径25mm，三匝。 2.2 功率（0.6～1.5）kW，自激振荡式。2.3 电源：AC220V,30A,50Hz，单相交流电源。2.4 接地电阻≤10Ω，选用扁铜带与0.5m2的铜板焊接在一起深埋地下2m 以上，单独直接接地。 2.5 输出功率稳定性0.2%。 2.6 电磁场泄漏：距机箱30cm处测辐射强度，电场10V/m，磁场0.2A/m，远小于国家规定指标。 3 、 炬管、气路及进样系统 3.1 三管同轴式整体吹制的石英炬管，内径(17～18)mm，切线方向引入冷却气和辅助气。 3.2 雾化室为Scott型双筒同轴雾化室。 3.3 雾化器为气动玻璃同轴式雾化器，耐高盐分。 3.4 冷却气(10～14)L/min 辅助气(0～3)L/min 压力0.25MPa。 3.5 载气(0～1.0)L/min,载气流量由高精度质量流量计来控制，载气压力（0.3～0.4）MPa。 3.6 所用氩气99.99%以上。 4 、 扫描机构 4.1 主单色器扫描步距0.001nm/步。 4.2 扫描速度40nm/s。 5 、 测光系统 5.1 测光采样时间（0.1～10）s之间任选，间隔0.01s。 5.2 光电倍增管响应范围(160～800)nm。 5.3 负高压(-100～-1200)V之间任选，间隔1V，稳定性0.02% 5.4 动态范围(5～6)个数量级。 5.5 测光方式：峰高或定位测光。 6 、 数据采集与处理系统 视窗式菜单、汉字显示、模块结构、人机对话、谱线轮廓扫描、分析方法编制、背景扣除、干扰校正、波长校正、定量分析、标准曲线、定性分析、数据统计处理、报告打印等功能。 7 、 尺寸和重量 尺寸：长X宽X高= 160cm ×65cm ×70cm 重量: 200kg配置说明：发射光谱仪主机，冷却循环水箱，发射光谱仪操作软件，联想计算机，联想激光打印机

1 模块功能THA2600型氩等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。2 技术参数 壳体接地、24V-接地适用载气：高纯氩气分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；输出接口： DB9公头；管脚定义说明1悬空2悬空324V+424V-*5悬空6高压使能与7脚短接时，内置高压电源工作；悬空或接24V时，内置高压电源停止工作。(如果内部已设置跳线，此引脚无作用)7GND*8信号-*9信号+*内部短接24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min～30mL/min；含尘量：≤0.1um；尺寸：170*111*90mm；重量：约1.5kg。3 工作原理分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。4 技术特点u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，使用寿命长。5 典型工程应用领域u 空分氩气分析u 高纯气体分析u 环境空气监测u 工业流程中乙炔及碳氢分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱

埃仑ICP-MS9800型电感耦合等离子体质谱仪该仪器是我公司研发的新型电感耦合等离子体质谱仪，仪器整体轻巧便捷，性能指标优异，性价比高；测试过程更加自动化，提高测试效率；采用新的碰撞反应池技术，能有效的消除多原子离子干扰，降低易受干扰元素的检出限；已广泛应用于环境、食品、半导体、核工业、石油化工、矿产、医药及生理分析领域等。产品特点1、先进等离子源采用新型的变频等离子体发生器，超常的可靠性，可直接对有机溶剂进行分析。2、先进等离子体屏蔽技术极大地提高仪器的灵敏度，改善低质量数元素的检出限，达到ppt水平。3、气路稳定可靠集成式气路设计，减少气路接头，采用抗震性更优的柔性连接技术。轻量化、模块化、抗震性设计，保障仪器便于移动工作；结构紧凑，三维移动平台，无需来回拖动 ICP 模块，提高仪器 稳定性。4、车载模式良好的抗震性设计、整机及整车散热系统，提高了仪器的稳定性，具有与实验室平台工作一样的检测性能。5、智能化软件平台图形化控制，更易于使用操作；可视化运行监测，关键运行参数实时显示，Windows 资源管理器风格的方法库管理，易于上手操作。6、定制化报表一键输出需要的数据结果；具有数据分析功能，根据实际报表需要，可任意添加删除样品信息。7、良好的拓展能力 可与 HPLC 联用，测定元素形态； 配置有机进样系统，可直接分析油品等有机物样品。

Agilent 7900 ICP-MS（电感耦合等离子体质谱）是一款灵活的单四极杆 ICP 质谱仪，可提供非常出色的基质耐受性、有效的氦碰撞模式、超低的检测限和宽广的动态范围。因此，无论样品类型如何，您都可以确信始终报告准确的数据，即使在痕量分析中也是如此。7900 ICP-MS 为要求苛刻的商业和工业应用提供了超高的性能，并具有研究和高级分析（例如形态分析）所需的灵活性。高灵敏度和瞬时信号的快速采集是单纳米颗粒 (spICP-MS)、单细胞分析和激光剥蚀所必需的，让您能够在竞争中脱颖而出。（一）产品特点：超稳定的（低 CeO/Ce）等离子体可提供出色的基质耐受能力超高基质进样系统 (UHMI) 使您能够运行总溶解固体量 (TDS) 高达 25% 的样品氦 (He) 池气体模式能够可靠地控制多原子干扰，从而改善准确度离轴透镜可在整个质量范围内提供高灵敏度和低检测限宽动态范围检测器使您可以在同一次样品运行中分析常量和痕量元素快速积分（驻留时间 0.1 ms）支持分析快速瞬态信号，例如单纳米颗粒 (spICP-MS)ICP-MS MassHunter 方法向导可帮助您自动构建方法配置灵活，可轻松连接至可选附件和外围设备，适用于高级应用（二）工作原理：1.什么是电感耦合等离子体质谱 (ICP-MS)？ICP-MS 是一种用于测量金属和其他元素浓度的分析技术。样品通常以液体形式引入，但 ICP-MS 也可用于测定固体材料以及气体中的元素浓度。ICP-MS 由高温离子源（等离子体）、质谱仪（通常是四极杆质量过滤器）和检测器组成。等离子体处于大气压下，质谱仪和检测器位于真空室中，因此 ICP-MS 还需要一个接口和离子透镜传递离子通过系统。2.电感耦合等离子体质谱 (ICP-MS) 的原理是什么？将液体样品泵入雾化器形成气溶胶，再随气流进入等离子体。等离子体是一种高温电火花，可蒸发样品材料，然后使元素原子化和离子化。离子通过一个接口进入真空室，再通过离子透镜和碰撞/反应池 (CRC) 与光子、中性粒子、干扰离子分离。分析物离子由四极杆质量过滤器分选，每个质量都被传递到检测器进行计数。3.电感耦合等离子体质谱 (ICP-MS) 的用途是什么？ICP-MS 用于从食品安全、环境监测及药物检测到半导体制造、地球化学分析和生命科学研究领域等几乎所有行业的多元素分析。ICP-MS 测定每个样品约需要 3 分钟，因此在高通量实验室中尤为有用。ICP-MS 几乎可以定量从 ppt 级到百分级浓度的每种元素（并测定其同位素组成），还可以连接到色谱系统进行形态分析。华侨仪器为您提供详细的日化实验室解决方案，更多相关产品信息，欢迎来电咨询！

Aurora Z10冷等离子体种子处理仪统提供“Activated Air”活性气体，就像雷击周围的空气一样，可以改善种子健康，提高整体植物产量。冷等离子体种子活化过程的核心优势是提高发芽的一致性和发芽率以及幼苗的生长速度，这反过来又提高了种植者的产量和产量。该系统是移动的，需要外部电源和互联网连接。系统通过云连接，远程机器监控易于掌控整个活化过程。特点：&minus CEA的先进种子健康系统，冷等离子体促进种子健康和作物产量&minus 仅使用空气和电力，不添加化学物质&minus 低工作功耗（200W）&minus 专为垂直农场和温室设计规格：样品仓：10L处理量：2升（1公斤）的种子10.4英寸触摸显示屏远程监控控制超低功耗小于200w重量：143Kg

安捷伦电感耦合等离子体质谱仪7800 ICP-MS 结合了成熟、可靠的硬件、自动优化工具和预设方法，可实现更简单的常规分析。凭借高基体耐受性能、宽动态范围，以及对多原子干扰的有效控制，该系统消除了分析复杂或多样化样品基质的不确定性。7800 ICP-MS 易于设置和使用，可为最广泛的样品类型提供可靠的结果。电感耦合等离子体质谱仪安捷伦ICP-MS系列的7800系统提供了宽广的动态范围，卓越的基质耐受性和卓越的干扰消除能力，简化了方法的开发和运行。“7800 ICP-MS可以预置解决方案”安捷伦光谱产品副总裁Philip Binns说，“它能够提供可靠、稳定的性能表现和更简便的应用，方便用户进行日常检测分析。”新功能和自动化工具使7800易于设置和操作。安捷伦提供了针对特定行业的应用程序包，以帮助用户快速轨道常规分析。已有的可用于饮用水、环境废物和制药应用领域。用于食品检测和其他应用程序的软件包也将很快面市。该软件包将包括标准作业程序、方法//特定批次的模板和预定义报表布局等。安捷伦7800 ICP-MS系统的设计，能够满足行业和合作实验室简化方法开发和提高生产效率的需求。安捷伦ICP-MS的MassHunter软件的新版本有很多预置方法，包括许多常见的应用程序和用户建立一个有关应用程序或样品类型的全功能方法向导。安捷伦新一代高性能SPS 4 自动进样器，它能够帮助实验室最大限度地提高生产力。能够与公司的AAS、MP-AES、ICP-OES和ICP-MS组合相兼容。电感耦合等离子体质谱仪ICP-MS 7800产品特性：1、快速提高常规金属分析效率 — ICP-MS MassHunter 软件包含预定义设置的可简便加载和运行的预设方法，预定义设置涉及从等离子体条件到分析物积分时间及内标。对于新方法，方法向导将根据样品类型和应用建立方法。了解关于饮用水、环境废弃物和制药产品解决方案中元素杂质的更多信息。2、减少样品前处理 — 7800 ICP-MS 标配独特的耐高盐进样 (HMI) 技术，无需稀释即可分析总溶解固体 (TDS) 含量高达 3% 的样品，减少了样品前处理并节省了时间。 3、最大限度减小信号抑制 — HMI 能减少信号抑制，因此可以准确测定高基体样品而无需标样的基体匹配。4、有效去除干扰，确保数据准确性 — 氦气 (He) 碰撞模式可在同一套质谱条件下去除所有多原子离子干扰，简化了方法开发与日常操作。He 模式无需基体特异性或分析物特异性反应池条件。 5、在一次运行中同时分析常量和痕量元素 — 宽动态范围正交检测器系统 (ODS) 可在一次运行中实现常量元素（数百或数千 ppm）与痕量元素（ppt 或亚 ppt 级）的直接分析。较高的上限浓度可减少由超量程结果造成的样品再运行。6、最大程度提高通量和分析效率 — 可选的集成式进样系统 (ISIS 3) 和 SPS 4 自动进样器可在不影响数据质量的前提下降低每个样品的分析成本。

EM-KLEEN电镜腔室清洁等离子体表面处理仪（电镜真空腔室等离子清洁仪；远程等离子清洁仪）美国PIE出品的EM-KLEEN电镜腔室清洁等离子体表面处理仪，广泛用于SEM扫描电镜,FIB聚焦离子束双束电镜,TEM透射电镜,XPS_X射线光电子能谱分析仪,ALD原子层沉积系统,CD-SEM, EBR, EBI, EUVL和其它高真空系统，可同时清洁真空腔室和样品！污染物对电子显微镜SEM/TEM和其它高真空系统产生的影响润滑剂、真空脂、泵油样品中的高分子聚合物，或未经处理的空气都会把碳氢污染物引到真空系统中。低蒸汽压下高分子重污染物会凝聚在样品表面和腔室壁上，而使用普通气体吹扫方法很难把碳氢污染物清除。电子和高能光子(EUV, X-ray)能够分解存在于真空系统中或样品上的碳氢污染物。碳氢化合物的分解产物沉积在被观测的样品表面或电子光学部件上。这种碳氢污染沉积会降低EUV的镜面反射率，降低SEM图像对比度和分辨率，造成错误的表面分析结果，沉积在光阑或其它电子组件的不导电碳氢污染物甚至会造成电子束位置或聚焦缓慢漂移。在ALD系统中，样品表面的碳氢污染物还会降低薄膜的界面匹配质量。远程等离子清洁的原理远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上，控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体，分解输入气体而产生氧或氢的活性基，活性基会扩散到下游的真空腔室，并与其中的污染物发生化学反应，反应产物能轻易地被抽走。远程等离子清洗机可同时清洁真空系统和样品。技术特点：快速清洁被污染的SEM样品。2-60秒氢等离子体清洁ALD样品。不需减速或关闭涡轮分子泵低等离子偏压设计减少离子溅射和颗粒生成。结合自有专用多级气体过滤技术，SEMI-KLEEN能够满足用户最苛刻的颗粒污染清除要求可选蓝宝石管腔体和耐腐蚀性气体的流量控制器，以便支持CF4, NF3, NH3, HF, H2S等应用拥有等离子强度传感器可实时监测等离子状态，用户对等离子状态一目了然基于压力传感回馈控制的自动电子流量控制器，无需手动调节针阀直观的触摸屏操作，可定义60条清洗程序方案拥有智能安全操作模式和专家控制模式；SmartScheduleTM定时装置，通过检测样品装载次数或时间间隔来定时清洁系统低电磁干扰设计，安静的待机模式

本公司在该网站所展示的仪器均为实物拍摄，所有出售的仪器品牌全、种类多、成色新、价格低，总有一款适合您，例如二手ICPMS、二手ICP等，专业的工程师团队为您的仪器保驾护航，欢迎来电咨询。二手ICPMS：安捷伦 Agilent 7700 ICP-MS电感耦合等离子体质谱是一种新型的无机元素和同位素分析技术，可快速同时检测周期表上几乎所有元素。ICP-MS技术在分析能力上，超过传统的无机分析技术如电感耦合等离子体光谱技术(ICPAES)、石墨炉原子吸收(GFAAS)和汞冷原子吸收技术(CVAAS)的总和，被称为当代分析技术最激动人心的发展。二手安捷伦ICPMS 7500 气相色谱质谱联用仪技术的应用领域包括：环境样品分析，包括自来水、地表水、地下水、海水以及各种土壤、废弃物等的分析半导体材料分析玻璃、陶瓷和矿冶等样品分析地质学研究生物食品及医药临床研究核材料分析石油化工样品分析法医应用与研究最近，与分离技术联用进行环境毒理、生命科学等领域的元素价态、形态分析成为ICP-MS技术应用的一个焦点。二手安捷伦ICPMS 7500 气相色谱质谱联用仪分析特性：可快速同时检测周期表上几乎所有元素最低的检出限（低至ppq级）分析效益/成本比最佳最宽的线性动态范围—可直接检测从ppq到数百ppm浓度谱线最简单、干扰最小，准确度和精密度好需要样品量很低(ul至ml)，分析速度很快（1～3分钟/样品）检测模式灵活多样半导体工业常用材料中超痕量污染物分析固体：Si；GaAa单晶切片；石英、碳化硅等炉材料；高纯金属电极等液体：超纯水；HF；HNO3；HCI；H2SO4；H2O2；氨水等气体：SiH4；TE0S；NF3；N2等Agilent ICP-MS可直接分析有机样品。Agilent ICP-MS的高效能、高功率屏蔽矩冷等离子体技术已被用于测定一系列有机样品的ppt级痕量污染元素。对其中一些样品，其他方法无法得到满意的结果，高功率屏蔽矩冷等离子体技术是唯一的分析方法。强碱性清洗剂——四甲基氢氧化氨(TMAH)等常用有机溶剂——甲苯、二甲苯、IPA等高基体样品——光刻胶、液晶、BPSG、PSG等挥发性极强的清洗剂——丙酮、甲醇等购买二手ICPMS就选科沃安！！！

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等）未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

产品应用等离子体火炬（亦称等离子体发生器或等离子体加热系统）就是依据这一原理研制的专门设备。等离子体火炬通过电弧来产生高温气体，可在氧化、还原或惰性环境下工作，可以为气化、裂解、反应、熔融和冶炼等各种功能的工业炉提供热源。微波等离子体炬就是以微波为激发能量的开放式等离子体技术。产品特点1、微波激发开放式等离子体火炬产品平台，用于等离子状态下，气固液态材料的反应2、支持多种气氛条件的等离子体，3、支持混气和送样4、支持等离子体强度调节5、智能化控制系统，工艺可控技术参数（一）、微波系统1.微波功率：额定功率1000W / 2450MHz，无级非脉冲式连续微波功率输出2.微波等离子体激发腔设计：①中央聚焦强电磁场密度微波腔②内置微波调配系统（二）、功能系统1.等离子体系统：①开放式石英管等离子体反应系统②等离子体强度和主焰高度可调2.温度控制：①温度范围：1000℃，；②采用红外测温方式（700～1700℃），支持选配光学测温系统；3.气氛控制：①支持多种气氛条件的等离子体，②支持混气和流量控制，支持流动送样③支持选配尾气收集系统（三）、控制系统①采用PLC自动化控制：功率、强度、流量、时间可控②支持选配内腔视频系统，进行动态观察（四）、安全系统1.腔体多重联锁结构，开门断电，保护操作人员2.开口采用λ/4高阻抗微波抗流抑制结构，保证操作人员的健康安全，微波泄漏量：5mW/cm2 （优于国标）（五）、整机说明1.设备供电：220Vac / 50Hz，整机能耗：1500W2.设备供水：水冷系统3.外观尺寸：主体约：1400×1600×700mm（宽×高×深）4.设备重量：80kg5.公司产品通过ISO9001质量认证体系　整机质保一年

产品介绍：Agilent 7500 ICP-MS电感耦合等离子体质谱－ICP-MS，是一种新型的无机元素和同位素分析技术，可快速同时检测周期表上几乎所有元素。ICP-MS技术在分析能力上，超过传统的无机分析技术如电感耦合等离子体光谱技术(ICPAES)、石墨炉原子吸收(GFAAS)和汞冷原子吸收技术(CVAAS)的总和，被称为当代分析技术最激动人心的发展。最近，与分离技术联用进行环境毒理、生命科学等领域的元素价态、形态分析成为ICP-MS技术应用的一个焦点。产品参数：● 可快速同时检测周期表上几乎所有元素● 最低的检出限（低至ppq级）● 分析效益/成本比最佳● 最宽的线性动态范围—可直接检测从ppq到数百ppm浓度● 谱线最简单、干扰最小，准确度和精密度好● 需要样品量很低(ul至ml)，分析速度很快（1～3分钟/样品）● 检测模式灵活多样半导体工业常用材料中超痕量污染物分析：固体：Si GaAa单晶切片；石英、碳化硅等炉材料；高纯金属电极等液体：超纯水；HF HNO3 HCI H2SO4 H2O2 氨水等气体：SiH4 TE0S NF3 N2等Agilent ICP-MS可直接分析有机样品：Agilent ICP-MS的高效能、高功率屏蔽矩冷等离子体技术已被用于测定一系列有机样品的ppt级痕量污染元素。● 对其中一些样品，其他方法无法得到满意的结果，高功率屏蔽矩冷等离子体技术是唯一的分析方法。● 强碱性清洗剂——四甲基氢氧化氨(TMAH)等● 常用有机溶剂——甲苯、二甲苯、IPA等● 高基体样品——光刻胶、液晶、BPSG、PSG等挥发性极强的清洗剂——丙酮、甲醇等。