透射样品进样器

透射样品掉进样品室（整个样品和铜环），请问高手这个需要开镜筒吗？开镜筒是不是很复杂，一般请透射公司来开镜筒的费用是多少？电镜的型号是Philips CM200 。

请问金属锂样品在普通电镜（80kv/200kv）下作透射的可能性是否存在。各位有没有做过金属锂样品的透射的，都是怎么制样的呢？

专家你好，我公司做碳化硅微粉的呈象是用透射仪器好还是用扫描的仪器好？如果使用透射电子显微镜如何观察粉末状的粒？如何操作？怎么样将样品放到样品杆里？

请问一下哪里能做生物样品的透射电镜啊，我的样品时酿酒酵母，前处理很复杂，要固定，包埋，切片，染色等，请问一下那有专业一点的能做制样和透射都做得，还有请问一下怎样收费。谢谢

为什么我的截面样品最近好几次看透射电镜发现很脏，为什么呢？大家讨论一下吧

西安交通大学电信学院国际电介质中心透射电镜实验室是正在建设的世界一流电镜实验室，负责人为“千人计划”学者贾春林教授。实验室所配置的透射电镜有一台FEI Titan G2物镜球差校正电镜，一台JEOL ARM200F聚光镜球差校正电镜，以及一台JEOL2100常规电镜，另外扫描电镜有FEI Helios600i FIB，FEI Quanta250FEG ESEM以及全套的透射电镜，扫描电镜样品制备系统。目前我们希望招两名技术人员一名会制备透射电镜样品，以及可以熟练使用Gatan公司样品制备系统；一名会使用扫描电镜，负责两台电镜的日常维护，使用以及学生的培训。本科学位，并有相关经验者优先考虑。请发送简历至tem@mail.xjtu.edu.cn请注意，目前两个岗位是劳务派遣，合同3年一签。

现阶段FEI,蔡司的双束FIB系统用于透射取样设备，基本上是3轴方向： 伸缩，“左右”移动，“上下”倾斜而做过透射制样的人都会发现，如果在微操作手臂拿起透射薄片时，如果能360度旋转的话将对于透射样品的减薄具有非常重要的意义，也更加提高了透射样品制备效率。即一般FIB取样设备只能从透射薄片的一侧一直减薄Polish, 而此特殊Lift Out装置是可以让操作控制取出来透射薄片全方位（360度）任一角度进行减薄。即为4轴方向的移动。X 20mm Y 20mm Z 5mm R unlimited Tilt +/- 10 其他更大的移动范围可以定制

最近在制ZC系列的镁合金透射样品，遇到一些问题，希望能在此得到一些大侠们的指点：1.电解液问题。我是通过查文献找到的配方，课题组以前的师兄们也在用，这个问题不大，但现在用Fischione model 120 twin-jet electropolisher电解双喷仪减薄时，室温电流加上去没问题（最大可达150mA），但因镁锌系列本身特容易氧化，加液氮至－30～－40度，电流最大只能加到25mA，按前辈的经验值最佳在100mA左右，现电流加不上去可能是什么原因啊？如果控制在－20度左右，电流也只能35mA。。2.如上，即算喷出来的镁合金样品光亮，快速清洗放入乙醇暂时保存至最后放入真空样品室时，氧化相当严重！如何把握呢？3.薄区太少。即算穿孔了，老是找不到薄区，有薄区的地方也很脏氧化严重，急！望有做过镁合金透射样品的师兄师姐们指点！谢谢

透射样品需要喷度一层导电层吗？我从有关的资料上看到“对粉末样品来说，制样最后要度一层碳膜”，为什么呢，我认为透射样品不要求 必须导电的，只有扫描在高真空下才这样要求的。希望大家能给我一个明白的说法，谢了 ！

我想去做些透射电镜，不知该去哪家，如何联系，各位帮忙提供一些联系方式吧。 我是做催化的。想研究催化剂反应过程中的形貌变化。我的样品是粉末状的，反应后的样品怕水，氧气等氧化性物质。不知该如何保护才能方便测样，同时不被氧化。另外，利用1%O2/Ar气氛在常温下对样品进行钝化的保护方法适合作TEM吗

透射电子显微镜是材料微观结构表征的重要仪器，由于电镜的结构特点，磁性粉末样品很容易污染电镜，造成分辨率的下降。现有磁性样品的预处理方法，不能完全避免磁性样品对电镜的损坏。根据透射电镜的测试经验，我们利

薄膜样品，镀在玻璃片上的硅薄膜，怎样才能把其制成透射样品。[em61] [em62]

二氧化锰是磁性样品吗？可以直接在透射电镜下观察吗，制样的时候是否需要特殊处理？

请教各位：树脂胶液（酚醛树脂中分散有纳米材料）的透射电镜样品怎么制备啊？能否直接抹到铜网上观测？一般透射电镜能直接观测液体吗？据说场发射电镜可以观测吧，而且制样相对简单一些，不知道是不是真的？

Talos f200s透射电镜在使用过程中软件卡死，重新启动后摇杆在X和Z轴方向无法移动，显示"Compustage disabled"，是样品杆卡住了？请问这种情况下用什么方法可以修护呢？着急，在线等，谢谢大家。

有谁可以用简图画出透射束在经过样品时所发生的主要事件?

透射电镜的样品制备是一项较复杂的技术，它对能否得到好的ＴＥＭ像或衍射谱是至关重要的．投射电镜是利用样品对如射电子的散射能力的差异而形成衬度的，这要求制备出对电子束＂透明＂的样品，并要求保持高的分辨率和不失真．　　电子束穿透固体样品的能力主要取决加速电压，样品的厚度以及物质的原子序数．一般来说，加速电压愈高，原子序数愈低，电子束可穿透的样品厚度就愈大．对于１００～２００ＫＶ的透射电镜，要求样品的厚度为５０～１００ｎｍ，做透射电镜高分辨率，样品厚度要求约１５ｎｍ（越薄越好）．　　透射电镜样品可分为：粉末样品，薄膜样品，金属试样的表面复型．不同的样品有不同的制备手段，下面分别介绍各种样品的制备．　　（１）粉末样品　　因为透射电镜样品的厚度一般要求在１００ｎｍ以下，如果样品厚于１００ｎｍ，则先要用研钵把样品的尺寸磨到１００ｎｍ以下，然后将粉末样品溶解在无水乙醇中，用超声分散的方法将样品尽量分散，然后用支持网捞起即可．　　（２）薄膜样品　　绝大多数的ＴＥＭ样品是薄膜样品，薄膜样品可做静态观察，如金相组织；析出相形态；分布，结构及与基体取向关系，错位类型，分布，密度等；也可以做动态原位观察，如相变，形变，位错运动及其相互作用．制备薄膜样品分四个步骤：　　ａ将样品切成薄片（厚度１００～２００微米），对韧性材料（如金属），用线锯将样品割成小于２００微米的薄片；对脆性材料（如Ｓｉ，ＧａＡｓ，ＮａＣｌ，ＭｇＯ）可以刀将其解理或用金刚石圆盘锯将其切割，或用超薄切片法直接切割．　　ｂ切割成φ３ｍｍ的圆片　　用超声钻或ｐｕｎｃｈｅｒ将φ３ｍｍ薄圆片从材料薄片上切下来．　　ｃ预减薄　　使用凹坑减薄仪可将薄圆片磨至１０μｍ厚．用研磨机磨（或使用砂纸），可磨至几十μｍ．　　ｄ终减薄　　对于导电的样品如金属，采用电解抛光减薄，这方法速度快，没有机械损伤，但可能改变样品表面的电子状态，使用的化学试剂可能对身体有害．　　对非导电的样品如陶瓷，采用离子减薄，用离子轰击样品表面，使样品材料溅射出来，以达到减薄的目的．离子减薄要调整电压，角度，选用适合的参数，选得好，减薄速度快．离子减薄会产生热，使样品温度升至１００～３００度，故最好用液氮冷却样品．样品冷却对不耐高温的材料是非常重要的，否则材料会发生相变，样品冷却还可以减少污染和表面损伤．离子减薄是一种普适的减薄方法，可用于陶瓷，复合物，半导体，合金，界面样品，甚至纤维和粉末样品也可以离子减薄（把他们用树脂拌合后，装入φ３ｍｍ金属管，切片后，再离子减薄）．也可以聚集离子术（ＦＩＢ）对指定区域做离子减薄，但ＦＩＢ很贵．　　对于软的生物和高分子样品，可用超薄切片方法将样品切成小于１００ｎｍ的薄膜．这种技术的特点是样品不会改变，缺点是会引进形变．　　（３）金属试样的表面复型　　即把准备观察的试样的表面形貌（表面显微组织浮凸）用适宜的非晶薄膜复制下来，然后对这个复制膜（叫做复型）进行透射电镜观察与分析．复型适用于金相组织，断口形貌，形变条纹，磨损表面，第二相形态及分布，萃取和结构分析等．　　制备复型的材料本身必须是＂无结构＂的，即要求复型材料在高倍成像时也不显示其本身的任何结构细节，这样就不致干扰被复制表面的形貌观察和分析．常用的复型材料有塑料，真空蒸发沉积炭膜（均为非晶态物质）　．　　常用的复型有：ａ塑料一级复型，分辨率为１０～２０ｎｍ；ｂ炭一级复型，分辨率２ｎｍ，ｃ塑料－炭二级复型，分辨率１０～２０ｎｍ；ｄ萃取复型，可以把要分析的粒子从基体中提取出来，这种分析时不会受到基体的干扰．　　除萃取复型外，其余复型只不过是试样表面的一个复制品，只能提供有关表面形貌的信息，而不能提供内部组成相，晶体结构，微区化学成分等本质信息，因而用复型做电子显微分析有很大的局限性，目前，除萃取复型外，其他复型用的很少．

在玻璃基板上生成了介孔氧化硅薄膜，在XRD上看到了衍射峰，证明是存在介孔结构存在。由于本人第一次接触TEM，虽然看了一些关于透射电镜的资料，但问了测试中心，需要我自己制备测试样，请问如何制备测透射电镜的样品！由于临近放假，所以请求大家尽快给点意见，谢谢！

说是散架，因为不知道用什么词汇定义。就是样品做了复型后放入丙酮中，马上就分离了。。变成一小条一小条的，根本无法进行透射观察。。怀疑是喷碳的时候真空度不够，本人接触透镜没几天。。高手们知道一下啊

我没有做过透射电镜的实验，想了解一下，透射电镜抽真空花费的时间比较长吧，因为要测的样品比较多，那么一次只能做一个样，还是一次可以测试多组样品。谢谢！

透射样品制备高级技术 从原理到方法，再到注意事项，介绍的很全，强烈推荐给有条件自己动手制备样品的站友Advanced Techniques in TEM Specimen Preparation资料中心

最近要透射制样，想请问一下，那种粘结用的全透明石蜡在哪儿有卖的，它是一种什么样的蜡？谢谢！

请教：高分辨成像时，入射电子束穿过薄晶体形成弱衍射束与透射束，衍射束与透射束相位相差π/2，各位如何解释为什么？衍射束相位是滞后透射束π/2还是超前π/2。在欠焦位置，衍射束光程比透射束多1/4倍波长位置，其相位是否又比透射束超前（增加）π/2？在正焦点位置，教材上好像说，衍射束位相比在从样品出发时的增加π，为什么不是增加2π？好像光束从样品经过透镜聚焦到达像平面（正焦位置）相位不变（即2π的整数倍）。高分辨像最佳欠焦位置的暗点可否解释为原子列位置的透射波与邻近原子间隙位置的衍射波的合成波的强度，亮点为原子间隙位置的透射波与邻近原子位置的衍射波的合成波的强度？透射波与衍射波此时相位相同，合成波振幅大小=透射波与衍射波振幅大小之和。因为原子间隙位置的透射波强而衍射波弱，原子列位置的透射波弱而衍射波强，所以对应原子列位置的合成波强度较弱，形成暗点；而对应于原子列间隙位置的合成波强度较强，形成亮点。

RT，做的是铁氧体的纳米颗粒，大概20nm左右，请问下这种磁性材料怎么做透射样品啊？消磁的话怎么操作才行啊？谢谢啦

小弟经常用透射电镜研究一些金属薄膜和氧化物薄膜，主要看晶格及界面，其中经常涉及到重要的非晶材料，但是制样中的ion milling及拍照中的电子束照射到低对样品的破坏程度有多严重？会不会把非晶的加热晶华？会不会把界面破坏或导致界面扩散？如果用温度衡量，相关的能量可导致多少升温？请各位大师赐教，不甚感激。

【网络讲座】：机械减薄+离子减薄制备透射电镜样品介绍【讲座时间】：2016年05月10日 14:00【主讲人】：李旭，中国计量科学研究院纳米新材料所。【会议简介】近年来，材料领域的透射电镜制样设备推陈出新，制样方法也随之越来越先进、高效。但是，对于薄膜/基体截面样品、金属样品、陶瓷样品、剪切带定点样品等制备难度较大的样品，如何使用这些先进的设备，快速制备出高质量的透射电镜样品，需要正确地使用制样设备，需要摸索一些技巧，需要不断积累经验。在此分享一些经验和体会。-------------------------------------------------------------------------------1、报名条件：只要您是仪器网注册用户均可报名，通过审核后即可参会。2、报名截止时间：2016年05月10日 13:303、报名参会：http://www.instrument.com.cn/webinar/meeting/meetingInsidePage/19294、报名及参会咨询：QQ群—171692483http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191700_667332_2507958_3.gif

透射样品的制备过程一般分两步：晶体薄膜样品制备和萃取复型样品制备，具体过程如下：（1）晶体薄膜样品制备首先用线切割加工出0.3mm×10mm×10mm的薄片，然后依次用400#、800#、1000#、1500#、2000#的水砂纸减薄到80μm附近，之后冲成φ3mm的小圆片。注意研磨过程中越往后用力越小、速度也不要太快，以防过度用力引入外来变形和温度过高。再将圆片由80μm研磨到40~50μm之间，然后用酒精洗净，准备双喷减薄，双喷减薄电解抛光溶液用5%高氯酸+95%酒精溶液。电压控制在50V左右，电流在15mA附近，温度用液氮控制在-20 ~ -30℃。待样品穿孔，透光孔中出现光亮，迅速关闭电源，取出样品用酒精多次洗净，晶体薄膜样品制备完成。（2）萃取复型样品制备前序步骤跟金相试样制备基本一样，预磨-抛光-浸蚀，但是要比光学金相试样浸蚀的稍微重一些，使析出相粒子从基体中凸出来才可能被萃取下来。浸蚀后的试样立即拿去喷碳，真空度要尽量高，以便减小碳颗粒对析出形貌的影响。另外碳膜不要喷太厚，因为析出相尺寸非常小，只有几纳米或十几纳米，过厚的碳膜影响析出相形貌观察效果。用锋利的刀具将喷碳后的试样碳膜划成小于3mm×3mm的小方格，再用92%酒精+8%硝酸的溶液浸泡碳膜，使其从基体表面脱落，用铜网将脱落的小方格碳膜捞到酒精中洗净，再放到去离子水中，利用水的张力使其展平（为了防止水张力过大使碳膜破碎，可滴入少量酒精），最后用铜网捞起碳膜，用滤纸将水吸干，以备透射电镜观察。

请问一下各位行家，场发射透射电镜和普通源透射电镜有什么区别？含有生物样品一般用什么电镜比较合适，要求能够比较清楚地分辨清楚细胞器。

我做7075铝合金的透射样品，电解液是高氯酸（10%）和乙醇的混合液，未加液氮冷却。结果制出的样品观察时实验员说薄区可能被腐蚀或者污染了。是制完样在无水乙醇里放了一个多小时就观察的，应该不大可能是这个过程中氧化或污染的。请问一下高手有可能是高氯酸氧化吗？7xxxx系铝合金的样品制备一般怎么做呢？谢谢！