进口离子溅射仪

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进口离子溅射仪相关的厂商

  • OPS Plasma专注于等离子表面处理,集设备开发与设备制造、工艺开发与方案解决为一体,为各行业提供高效、节能、环保的等离子表面处理方案,包括等离子清洗、等离子活化、等离子改性、等离子接枝与聚合、等离子刻蚀、等离子沉积等。 OPS Plasma的创始人在德Fraunhofer Institute期间积累了丰富的设计开发经验,研发团队拥有10年以上的等离子系统设计经验、5年以上的等离子设备制造经验,是国内最大的等离子应用技术方案解决专家,不仅能为客户提供优质的等离子处理设备,还能为客户提供整套的解决方案和工艺指导。 OPS Plasma的制造团队多年从事等离子设备制造,成功开发出多款设备。设备采用具有独立知识产权的电极系统和进气系统,保证电场和气场的均匀分布,并完美地解决了真空动密封、真空冷却等一系列问题。 OPS Plasma的等离子设备广泛地应用在光学电子、太阳能、半导体、生物医疗、纳米材料、及通用工业领域,销往各大知名院校、科研机构和企业。在全国范围内超过100台实验设备和工业设备的良好运行,充分证明了OPS Plasma等离子系统的优越品质。 OPS Plasma致力于用国际的品质、国内的价格和优质的服务为全球各行业客户提供等离子处理设备和解决方案,成为全球行业领先的等离子应用技术方案解决专家。
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  • 公司坐落在美丽的、盛产“神湾菠萝”的中山市神湾镇,西临西江,东接珠三角环线高速,环境优美、交通便利;中山市枭射频科技有限公司是一家专业从事射频设备研发和销售的创新科技企业。公司重点专注于射频等离子清洗机(13.56MHz\27.12MHz\40.68MHz)、射频热封仪、射频美容仪、射频感应加热机、射频等离子源等研究发展方向,将秉持创新、专业、专注的企业精神,始终贯彻服务一流、稳定品质、超高性价比的发展战略和经营理念,立志做射频领域专业的设备供应商和服务商,期待您我的携手,谱写完美合作的篇章。
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  • 鹏城半导体技术(深圳)有限公司,由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造,具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司主营业务微纳米材料与器件、微纳米制造工艺、微纳工艺装备、工艺自动化及软件系统化合物半导体衬底材料和外延片|化合物半导体系列氮化镓、碳化硅、氧化镓、砷化镓、金刚石等|物理气相沉积(PVD)系列磁控溅射、电子束、热蒸发、离子束溅射、离子辅助磁控溅射、多弧离子镀、磁控溅射与离子束溅射复合、磁控溅射与多弧离子镀复合|化学气相沉积(CVD)系列PECVD、ICPECVD、MOCVD、LPCVD、热丝CVD、微波CVD|超高真空系列MBE分子束外延设备(科研型、生产型)、超高真空磁控溅射外延设备(10-8Pa)|其它ICP等离子刻蚀机、半导体合金退火炉、等离子清洗机、真空机械手、金刚石薄膜与厚膜生长设备|团簇式设备系列太阳能薄膜电池设备:PECVD+磁控溅射+样品预处理+真空自动机械手OLED中试设备:热蒸发+电子束+磁控溅射+PECVD+样品预处理+真空自动机械手+手套箱封装室综合薄膜制备和器件制造实验平台:以内置真空机械手的样品传递室为中心(配4~8个进出口),配置各真空工艺室|技术服务非标成套薄膜制备设备设计制造、薄膜制备设备升级改造、自动化软硬件设计承接工艺研发、样品试制与打样、进口设备真空零部件的维修和替换及控制系统更新本科及研究生的毕业课题立项及实训培养、工程师培训
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进口离子溅射仪相关的仪器

  • 全自动知识产品没有热损伤,效率更高,颗粒度更细,更适合高分辨电镜镀金仪应用领域1、高分辨扫描电镜样品制备(实际放大倍数≥100K)2、电极制备-可制备各种金属电极、ITO电极高真空磁控离子溅射仪(镀金仪)配置与技术参数名称&型号高真空磁控离子溅射仪GVC-2000T真空系统涡轮分子泵(进口 ):德国莱宝90i (单磁悬浮分子泵,抽速为90L/s)旋片式真空泵:浙江飞越VRD-4 (抽速为 1 .1L/s)真空测量全量程复合真空规(进口):1.0E5Pa-1E-4Pa系统极限真空≤5E-3Pa溅射电源磁控溅射电源,最大功率150W可用靶材所有金属靶材,ITO靶材溅射电压300-600V,根据选择靶材、控制参数不同而变化溅射电流0-200mA连续可调,步长5mA溅射时间0-9999s, 连续可调步长1s操作界面7英寸TFT彩色液晶触摸屏,分辨率800×480操作方式一键操作抽气节拍<15分钟控制方式只需设定溅射电流和时间即可,全自动控制具备预溅射挡板(预溅射时间可设定),全自动控制保护功能软硬件互锁、防止误操作,具备电流、真空保护等样品台直径φ125mm,可自转,可自动手动控制,转速4-40rpm可调真空室高硅硼玻璃,规格尺寸约φ200×130mm电源供电220V 50Hz 最大功率800W尺寸&重量重量 424(长) ×345(深) ×420mm(高)、 25 kg (净重)冷却方式内部风冷选配样品台选择、膜厚控制、温度监测等镀膜样品示例: 靶材-银 靶材-钨 靶材-铬 靶材-镍 靶材-钒 靶材-锡 靶材-铜 靶材-钽 靶材-贴 靶材-钛 靶材-铅 靶材-钼 靶材-铝 靶材-铂 靶材-金 靶材-锆 靶材-铒 靶材-ITO
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  • 小型离子溅射仪 400-860-5168转1013
    仪器简介: JS-600小型离子溅射仪采用二极(DC)直流溅射原理设计,操作简单方便,适用于扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极的制作。 用户可以根据自己的需要自行选择不同的真空条件,溅射电流。大尺寸的真空腔体设计,满足大样品的溅射需求。标配一片金靶,纯度为99.999%,为获得高质量的金膜提供了良好的基础。技术参数:1.靶(上部电极):材料:金,直径:50mm,厚度:0.1mm 纯度:99.999%2、真空样品室:直径:160mm,高:110mm3.样品台(下部电极):溅射面积:直径:50mm4.工作真空: 2×10-1—10-1 mbar5.离子电流表:0-50mA6.计时器:根据溅射习惯设定单次溅射时间。7.溅射电压:-1600DVC8.飞越真空泵(VRD-4):1.1L/S9.工作室工作媒介气体:空气或氩气等多种气体10.针阀: 配有进气口,微量充气调节,可连接φ4*2.5mm软管。主要特点: 1.轻便、溅射面积大 2.靶材可按用户要求加工制作备注:JS-600小型离子溅射仪可适用的靶材:金、铂、银
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  • 全自动离子溅射仪 400-860-5168转6180
    GVC-1000 全自动离子溅射仪主要应用于配套扫描电镜的样品制备工作,同时可以满足不同用户对样品涂层的制备要求。拥有优秀的溅射系统,可以更换不同的金属靶材(金,铂,银,铱,铬,铜等),实现高要求的细粒涂层。GVC-1000 全自动离子溅射仪(射频磁控溅射镀膜仪)主要应用于配套扫描电镜的样品制备工作,同时可以满足不同用户对样品涂层的制备要求。拥有优秀的溅射系统,可以更换不同的金属靶材(金,铂,银,铱,铬,铜等),实现高要求的细粒涂层。GVC系列为您提供优质的样品制备,轻松助您取得更好地材料研究样品, 获得高质量的显微镜观测效果。GVC-1000 全自动离子溅射仪(射频磁控溅射镀膜仪)性能参数1、离子溅射仪工作原理:磁控溅射2、可选靶材:金,铂,金钯合金,铅,银,铜,铬,锑等3、真空室:φ128×100高硅硼玻璃4、全自动操作,简单易用,非常适用钨灯丝、台式扫描电镜等(1)溅射电流自动调整——设定溅射电流后,系统自动调节真空度,从而达到设定的溅射电流,调整时间<5s,波动范围<±5%;(2)无需按“实验”键调整溅射电流、无需操作“进气阀”。(3)溅射时间自动记忆——同类样品一次设定即可;(4)参数改变自动调整——溅射过程中可以随时调整溅射电流和溅射时长,系统自动计算叠加,无需终止溅射过程;(5)工作完成自动放气;(6)样品台高度调节1秒完成;(7)溅射过程可以利用曲线显示,清晰直观。(8)极限真空:小于1Pa5、软硬件互锁,防误操作,安全可靠(1)真空度高于100Pa,启动真空保护,无法溅射;(2)溅射电流高于50mA,停止溅射过程;(3)真空泵工作时,系统无法进行放气操作;6、镀层均匀,导电性良好。
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进口离子溅射仪相关的资讯

  • 前十月进口额远超去年全年:等离子体干法刻蚀机海关进口数据分析
    自美国提出终断该国企业与华为多年的芯片供应以来,研制中国自己的国产芯片提上了我国的发展日程,也是当前中国市场最为紧迫的一项技术,关于芯片技术发展的讨论不仅在专业领域盛行,也成为了普通民众议论的焦点所在。而芯片的制造离不开刻蚀设备,其中等离子体刻蚀机更是先进制程中必不可少的设备,是重中之重。2021年是“十四五”开局之年,中国政府也推出了一系列激励政策来鼓励半导体产业发展,明确了半导体产业在产业升级中的重要地位,同时全球自2020年爆发的“芯片荒”在全球范围内愈演愈烈,却迟迟得不到缓解,各行各业都受到了一定的影响,受此影响包括仪器产业、新能源产业等在内的诸多产业都面临产品涨价、缺货的危机。危中有机,全球半导体行业的巨震却是中国半导体产业的发展契机。通过分析海关等离子体刻蚀机的进口情况,可以从一个侧面反映出中国等离子体刻蚀机市场的一些情况,进而了解到中国半导体产业的一些情况。为了解过去2021年中等离子体刻蚀机的进出口情况,仪器信息网特别对2021年1-10月,等离子体干法刻蚀机(商品编码84862041)进口数据进行了分析汇总,为大家了解中国目前等离子体刻蚀机市场做一个参考。2021年1-10月进口等离子体刻蚀机贸易伙伴变化(人民币/万元)贸易伙伴进口额(元)进口数量(台)均价(元/台)美国777014343651615058418日本621252727637416611035韩国328231684432710037666中国台湾18771365038921091421新加坡181269896211316041584马来西亚17790801177723104937英国544211135786977066德国203676120414967710中国1296367043240918荷兰632916423164582法国415082322075412波兰643071643072021年1-10月各贸易伙伴进口总额(人民币/元)2021年1-10月,中国进口等离子体干法刻蚀机总额约235亿元,总台数达1624台,其中美国进口金额最多约78亿元,台数达516台,占比高达33%,日本进口金额紧随其后约62亿元,374台,占比达26%。可以看出,目前等离子体刻蚀机主要来自于美国和日本,进口均价都超1500万元/台,此类等离子体刻蚀机以高端产品为主,主要用于生产。值得注意的是,波兰进口的一台等离子体刻蚀机仅6万多元,此设备可能是用于科研领域的低端产品或配件。从此前统计的【2020年等离子体刻蚀机海关进出口数据盘点】可以看出,2020年1-12月,我国共进口等离子体刻蚀机1276台,进口额约为170亿元,而今年仅前十个月就已超去年全年的进口额。这表明,今年我国晶圆代工厂的建设热度不减,这也和如今的半导体投资热、芯片荒有关。2021年1-10月等离子体干法刻蚀机进口数据(人民币/万元)从进口额的时间变化趋势可以看出,等离子体刻蚀机进口额在4-6月出现了一个高峰,进口额连续大幅度增长,而在七月份却断崖式下跌,直到回归正常水平。这一变化可能和疫情有关,在夏季全球疫情由于气温上升得到缓解,海关进口更畅通,而春秋季节气温较低,全球疫情出现反复。另一个可能的原因是海运费用暴涨导致六月以后进口额降低。2021年1-10月等离子体刻蚀机各注册地进口数据变化(单位/万元)2021年1-10月等离子体干法刻蚀机注册地进口额分布那么这些等离子体刻蚀机主要销往何处?通过对进口数据的注册地进行分析发现,陕西省、上海市和湖北省的进口额最多,分别为54亿元、43亿元和41亿元。等离子体刻蚀机主要应用于集成电路生产中,这表明这些地区在新建或改造集成电路生产线上投入较大,对等离子体刻蚀机的需求也在激增。我国在1-10月从韩国进口等离子体刻蚀机总额约33亿元,其中注册地为陕西省的进口额约19亿元,占比约59%。这表明,陕西省等离子体刻蚀机的进口可能和三星等韩国企业在西安的半导体生产线有关。
  • 720万!武汉大学离子减薄仪、微束定点离子减薄仪、显微激光拉曼光谱仪、X射线衍射仪采购项目
    项目编号:WHCSIMC2022-1602807ZF(H)项目名称:武汉大学离子减薄仪、微束定点离子减薄仪、显微激光拉曼光谱仪、X射线衍射仪采购项目预算金额:720.0000000 万元(人民币)最高限价(如有):720.0000000 万元(人民币)采购需求:1.本次公开招标共分4个项目包,具体需求如下。详细技术规格、参数及要求见本项目招标文件第(三)章内容。第一包:(1) 项目包名称:离子减薄仪(2) 类别:货物(3) 数量:一套(4) 简要技术要求:详见招标文件第三章(5) 采购预算:140万元人民币(6)其他:本项目包接受进口设备投标第二包:(1) 项目包名称:微束定点离子减薄仪(2) 类别:货物(3) 数量:一套(4) 简要技术要求:详见招标文件第三章(5) 采购预算:350万元人民币(6)其他:本项目包接受进口设备投标第三包:(2) 项目包名称:显微激光拉曼光谱仪(3) 类别:货物(4) 数量:一套(5) 简要技术要求:详见招标文件第三章(6) 采购预算:100万元人民币(7)其他:本项目包接受进口设备投标第四包:(2) 项目包名称:X射线衍射仪(3) 类别:货物(4) 数量:一套(5) 简要技术要求:详见招标文件第三章(6) 采购预算:130万元人民币(7)其他:本项目包接受进口设备投标合同履行期限:第一包:交货期 :合同签订后150日内;质保期 :本项目免费质量保证期要求不低于5年。免费质量保证期从货物供货、安装、调试正常且经采购人确认验收合格之日起算。第二包:交货期 :合同签订后150日内;质保期 :本项目免费质量保证期要求不低于5年。免费质量保证期从货物供货、安装、调试正常且经采购人确认验收合格之日起算。第三包:交货期 :合同签订后180日内;质保期:本项目免费质量保证期要求不低于1年。免费质量保证期从货物供货、安装、调试正常且经采购人确认验收合格之日起算。第四包:交货期 :合同签订后10个月内;质保期 :本项目免费质量保证期要求不低于1年。免费质量保证期从货物供货、安装、调试正常且经采购人确认验收合格之日起算。本项目( 不接受 )联合体投标。
  • 先导集团拟建半导体设备产业园,生产磁控溅射、离子蚀刻等设备
    据广州南沙发布消息,6月28日,广州市南沙区在明珠湾大桥桥面举办重大项目集中签约动工竣工(投产)暨明珠湾大桥通车活动。76个项目于当天集中签约、动工竣工(投产),涵盖新能源汽车、芯片等先进制造产业。在当天的签约仪式上,10个重点项目分两批进行现场签约,总投资额160亿元,达产产值796亿元,其中包括湾区半导体高端设备智造基地。据介绍,湾区半导体高端设备智造基地是先导集团拟在南沙投资建现代化的半导体设备产业园,项目建成后拥有生产各类镀膜沉积设备、磁控溅射设备、离子蚀刻设备及交钥匙工程的综合生产能力。先导集团目前已掌握核心专利和工艺技术,项目产品将拥有100%自主产权,满足半导体产业链国产化替代的需求。广州南沙发布消息指出,目前,南沙正积极促进第三代半导体与新能源汽车产业的融合创新,成立第三代半导体创新中心,形成以晶科电子、芯粤能、爱思威为代表,以联晶智能、芯聚能为龙头的从晶圆生产到芯片设计、封装及应用的第三代半导体全产业链,为将来三千亿级新能源汽车产业集群发展提供“芯”能量。

进口离子溅射仪相关的方案

进口离子溅射仪相关的资料

进口离子溅射仪相关的论坛

  • ETD800离子溅射仪

    有谁用过北京意力博通的ETD800小型离子溅射仪?这个好像是最新型号的溅射仪。北京意力博通有好几个型号的溅射仪。

进口离子溅射仪相关的耗材

  • 溅射镀膜仪专用靶材
    纯英国进口溅射镀膜仪专用靶材产地:英国品牌:Cressington类型:Au, Pt, Au/Pd, Pt/Pd, Cr, Ir, W, Ti, Ag, 高纯碳棒等现阶段由于国内用户辨别能力不足导致市场上非常多的厂家用国产靶材冒充进口靶材现象,而国产靶材由于杂质多(虽然宣称纯度优于4个9),质量次会导致镀膜效果不均匀,污染溅射头等问题,主要区别:1. 国产靶材包装为简单的塑料密封包装,而进口靶材为特制硬纸板保护加真空包装;2. 国产靶材没有产地信息或简单贴牌,而进口靶材有明显的产品信息和编号;
  • 真空泵油喷碳仪离子溅射仪真空泵专用/0.5L
    【产品详情】 Pfeiffer P3号油可有效改善真空泵性能,适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵,尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。 【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3 mbar产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
  • 铬靶靶溅射靶材Cr
    【技术参数】 产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm 厚度 Agar Scientific所有型号Cressington 所有型号(308系列除外) 【产品详情】 离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材:铬靶 产品详细价格及资料,请登录电镜耗材在线商城网站查看。
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