光学膜厚测量仪

美国Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪自动化薄膜厚度分布图案系统F60-c 光学膜厚测量仪先进的薄膜光谱反射系统，可以很简单快速地获得薄膜的厚度及 n&k， 采用 r-θ 极坐标移动平台，可以在几秒钟的时间内快速的定位所需测试的点并测试厚度， 可随意选择一种或极坐标形、 或方形、或线性的图形模式，也可以编辑自己需要的测试点。 针对不同的晶圆尺寸，盒对盒系统可以很容易的自动转换，匹配当前盒子的尺寸。 49点的分布图测量只需耗时约 45秒。可测样品膜层基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测量。例如氧化硅 氮化硅 类金刚石 DLC光刻胶 聚合物 聚亚酰胺多晶硅 非晶硅 硅免费现场演示/支持点几下鼠标就可以在网络上在线看到现场演示！请联系我们，我们的应用工程师会在电脑上为您演示薄膜测量是多么容易Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪

Filmetrics F3 薄膜厚度测量仪经济适用的反射率测试系统F3系统是专门为采集反射率光谱曲线设计的，并且可选配至厚度和指数测试功能，基本通用型拥有40000个小时适用寿命的光源及自动波长校准，大大提高了测试准确度。快速厚度测试升级厚度测试软件许可后，厚度值将在测试数据结果中直观的显示。软件中存入了常用的介质材料及半导体层的光学常数。指数测试功能（n 和 k）对于更高级用户来说， 指数测试软件升级能在短时间内提供折射率和消光系数。Filmetrics的优势桌面型薄膜厚度测量专家24小时电话，Email，在线支持直观的分析软件附 加 特 性 嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能，帮助用户有效的存储，重现与绘制测试结果免费现场演示/支持点几下鼠标就可以在网络上在线看到现场演示！请联系我们，我们的应用工程师会在电脑上为您演示薄膜测量是多么容易 相关应用半导体制造 光刻胶 氧化物 氮化物 光学镀层 硬涂层 抗反射层 滤光器液晶显示器 盒厚 聚酰亚胺 ITO 生物医学 聚对二甲苯 生物膜 消化纤维

无标题文档Filmetrics F20 薄膜厚度测量仪测量厚度从 1nm 到 10mm 的先进膜厚测量系统不论您是想要知道薄膜厚度、光学常数，还是想要知道材料的反射率和透过率，F20都能满足您的需要。仅需花费几分钟完成安装，通过USB连接电脑，设备就可以在数秒内得到测量结果。基于模块化设计的特点，F20适用于各种应用。一：测量厚度、折射率、反射率和穿透率：单层膜或多层膜叠加单一膜层液态膜或空气层二：不同条件下的测量，包括： 在平面或弯曲表面光斑最小可达20微米桌面式、XY坐标自动化膜厚测量，或在线配置所有的这些功能都伴随着直观的软件界面以及我们即时的电话和互联网支持（24小时/每周5工作日）。这就是Filmetrics的优势，欢迎您试一试！ 膜层范例基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测量。这包括几乎所有的电介质与半导体材料，例如：应用范围SiNXTiO2DLC光刻胶SU-8聚合物有机电致发光器AIQ材料非晶硅ITO硒化铜铟镓CIGS 厚度测量范围测量原理为何？软件功能以使用者为导向 其他的选用配件选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量专家24小时电话，E-mail和在线支持所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果应用半导体膜层 液晶显示器光刻胶 OLED加工膜层玻璃厚度介电层ITO和TCOs光学镀层生物医学硬涂层 聚对二甲苯抗反射层 医疗器械

Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统 Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行，或者其他应用要求光斑小至1微米时，F40是不错的选择。使用先前足部校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值 选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜

Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统 Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行，或者其他应用要求光斑小至1微米时，F40是你的好选择。使用先前足部校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值 选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜

F10-HC薄膜厚度测量仪具有价格优势的先进薄膜测量系统以F20平台为基础所发展的F10-HC薄膜测量系统，能够快速的分析薄膜 的反射光谱资料并提供测量厚度，加上F10-HC软件特有的先进模拟演算法的设计，能够在厚膜中测量单层与多层(例如：底漆或硬涂层等)。简易的操作界面现在，具有新样板模式功能的F10-HC将更容易使用，这个功能允许用户汇入样品的影像(请参考下页)，并直接在影像上定义测量位置。系统会自动通知使用者本次测量结果是否有效，并将测量的结果显示在汇入的影像上让用户分析。不需要手动基准校正F10-HC现在能够执行自动化基准矫正以及设置自己的积分时间这个创新的方法不需要频繁的执行基准矫正就可以让使用者立即的执行样本的测量。背面反射干扰背面反射干扰对厚度测量而言是一个光学技术的挑战，具有F10-HC系统的独特接触式探头能将背面反射干扰的影响最小化，使用者能以较高的精准度来测量涂层厚度。选择Filmetrics的优势 桌面式薄膜厚度测量专家 24小时电话，E-mail和在线支持 所有系统皆使用直观的标准分析软件 附加特性 嵌入式在线诊断方式 免费离线分析软件 精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果

产品特点： ? 薄膜到厚膜的测量范围、UV～NIR光谱分析。? 高性能的低价光学薄膜测量仪。? 藉由绝对反射率光谱分析膜厚。? 完整继承FE-3000高端机种90%的强大功能。? 无复杂设定，操作简单，短时间内即可上手。? 非线性最小平方法解析光学常数(n:折射率、k:消光系数)。产品规格： 型号FE-300VFE-300UVFE-300NIR对应膜厚标准型薄膜型厚膜型超厚膜型样品尺寸最大8寸晶圆（厚度5mm）膜厚范围100nm~40μm10nm~20μm3μm~30μm15μm~1.5mm波长范围450nm~780nm300nm~800nm900nm~1600nm1470nm~1600nm膜厚精度±0.2nm以内±0.2nm以内--重复再现性(2σ)0.1nm以内0.1nm以内--测量时间0.1s～10s以内测量口径约Φ3mm光源卤素灯UV用D2灯卤素灯卤素灯通讯界面USB尺寸重量280（W）×570（D）×350（H）mm，约24kg软件功能标准功能波峰波谷解析、FFT解析、最适化法解析、最小二乘法解析选配功能材料分析软件、薄膜模型解析、标准片解析 应用范围： ? 半导体晶圆膜(光阻、SOI、SiO2等)? 光学薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)应用范例： ? PET基板上的DLC膜? Si基板上的SiNx

产品特点： ? 薄膜到厚膜的测量范围、UV～NIR光谱分析。? 高性能的低价光学薄膜测量仪。? 藉由绝对反射率光谱分析膜厚。? 完整继承FE-3000高端机种90%的强大功能。? 无复杂设定，操作简单，短时间内即可上手。? 非线性最小平方法解析光学常数(n:折射率、k:消光系数)。产品规格： 型号FE-300VFE-300UVFE-300NIR对应膜厚标准型薄膜型厚膜型超厚膜型样品尺寸最大8寸晶圆（厚度5mm）膜厚范围100nm~40μm10nm~20μm3μm~30μm15μm~1.5mm波长范围450nm~780nm300nm~800nm900nm~1600nm1470nm~1600nm膜厚精度±0.2nm以内±0.2nm以内--重复再现性(2σ)0.1nm以内0.1nm以内--测量时间0.1s～10s以内测量口径约Φ3mm光源卤素灯UV用D2灯卤素灯卤素灯通讯界面USB尺寸重量280（W）×570（D）×350（H）mm，约24kg软件功能标准功能波峰波谷解析、FFT解析、最适化法解析、最小二乘法解析选配功能材料分析软件、薄膜模型解析、标准片解析 应用范围： ? 半导体晶圆膜(光阻、SOI、SiO2等)? 光学薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)应用范例： ? PET基板上的DLC膜? Si基板上的SiNx

C12562 纳米膜厚测量仪系列C12562型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。光学膜厚测量仪系列可以测量薄至10nm的薄膜，而可测范围达到10nm到1100μm，因此可用来测量多种目标。此外，该测量仪可达到100Hz的高速测量，因此可进行快速移动的产品线进行测量。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性可测量10nm薄膜缩短测量周期（频率高达100Hz）增强型外部触发（适合高速测量）涵盖宽波长范围（400 nm到1100 nm）软件增加了简化测量功能可进行双面分析不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C12562-02可测膜厚范围（玻璃）10 nm to 100 μm*1测量可重复性（玻璃）0.02 nm*2 *3测量准确度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源卤素灯测量波长400 nm to 1100 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间3 ms/点*5光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C, Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗80W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*5：连续数据采集时间不包括分析时间

FT-100 薄膜厚度测量仪薄膜厚度测量范围 （Thickness Range）: 1 nm - 1.8 mm波长范围 （Wavelength Range）: 200 nm - 1700 nm精度 （Precision）: 0.01 nm or 0.01%稳定性 (Stability): 0.02 nm or 0.03%光斑大小 （Spot Size）: Depends on objective (4 um to 200 um. 2mm） 功能： 测量薄膜厚度、光学常数，反射率和透过率单层膜或多层膜叠加层； 适用于几乎所有透明，半透明，低吸收系数的薄膜测量，包括液态膜或空气层。测试条件： 平面或曲面可配XY平台实现全样品膜厚 mapping 可集成于以上测试平台 （ 三维轮廓仪，微纳米压痕/划痕仪，摩擦磨损仪等）

综合概述 SM200是一款利用利用薄膜反射光干涉原理研 制而成的自动薄膜厚度测绘仪。它利用波长范围最宽 为200-1700nm的光垂直入射到薄膜表面，只要薄膜有 一定程度的透射，SM200就能根据反射回来的干涉光 谱拟合计算出薄膜的厚度，以及其他光学常数如反射 率、折射率和消光系数等，其厚度最大测绘范围可以 达到1nm~250um。SM200自动光学薄膜厚度测绘仪由测绘主机、测 绘平台、Y型光纤及上位机软件搭建而成，核心器件 采用高分辨率、高灵敏度光谱仪结合奥谱天成独有的 算法技术，为用户提供的全新一代领先的自动光学薄 膜厚度测量仪。产品特征  非接触式、非破坏性的测试系统； 超长寿命光源，更高的发光效率；  高分辨率、高灵敏度光谱仪，测量结果更准确可靠； 软件界面直观，操作方便省时；  历史数据存储，帮助用户更好掌握结果；  桌面式分布设计，适用场景丰富；  维护成本低，保养方便；应用领域 基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测绘，这几乎包含了所有的电介质和半导体材料，包括： 氧化硅、氮化层、类钻薄膜、多晶硅、光刻胶、高分子、聚亚酰胺、非晶硅等。  半导体镀膜：光刻胶、氧化物、淡化层、绝缘体上硅、晶片背面研磨  液晶显示：间隙厚度、聚酰亚胺、ITO 透明导电膜  光学镀膜：硬涂层、抗反射层；  微电子系统：光刻胶、硅系膜状物、印刷电路板；  生物医学：医疗设备、Parylene产品外观

C11627-01 纳米膜厚测量仪系列 C11627-01型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。因其将光源、分光光度计和数据分析单元集成为一个单元，所以其配置紧凑，仅由一个主单元和光纤组成。此仪器设计紧凑，节省空间，适合安装进用户的系统中，可进行多种目标的测量。此外，该仪器为无参照物测量，因此省略了烦人的参照物测量，可长时间稳定地进行高速、高准确度测量。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性无参照物工作尺寸紧凑，节省空间高速、高准确度不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C11627-01可测膜厚范围（玻璃）20 nm to 50 μm*1测量可重复性（玻璃）0.02 nm*2 *3测量准确度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源LED测量波长420 nm to 720 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间19 ms/点*5光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C,Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗70W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*5：连续数据采集时间不包括分析时间

Filmetrics F3-CS 薄膜厚度测量仪Filmetrics设计F3-CS，主要针对于微小视野及微小样品测量设计。从产线的操作人员到技术人员都可以在短时间内测试比如聚对二甲苯和真空镀膜类膜层。我们的自动基准校正功能缩短了测量前期搭建和机械化校准。在免提模式下，仅仅需要设定薄膜上下层信息就可以测量。系统可以测试数以百计的类型的膜层，不论是透明或不透明的基地材料。快速厚度测量选配FILMeasure厚度测试软件升级，当设定好样品信息后就可以很容易的测试膜层厚度。包括通常的介质材料和半导体层（包括C、N和HT）。厚度数据结果在短时间内就可以在测试结果中显示。针对更高级的用户，F3-CS也可以升级至测试反射率。F3-CS在Windows XP&trade 到64-bit Windows 8&trade 系统中都可以运行,并且一个USB线就可实现电源供应及通讯连接功能Filmetrics的优势桌面型薄膜厚度测量专家24小时电话，Email，在线支持直观的分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能，帮助用户有效的存储，重现与绘制测试结果免费现场演示/支持点几下鼠标就可以在网络上在线看到现场演示！请联系我们，我们的应用工程师会在电脑上为您演示薄膜测量是多么容易

C10178-01 纳米膜厚测量仪系列 C10178-01型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。通过光谱相干，可快速、高灵敏度、高准确度地测量膜厚。由于使用我公司的光子多通道分析仪（PMA）为探测器，在测量多种滤光片、镀膜等的膜厚的同时，还可以测量量子收益、反射率、透射率以及吸收系数等多种项目。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性高速、高准确度实时测量映射功能不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制与特定附件配合，可测量量子收益、反射率、透射率以及吸收系数等。参数型号C10178-01测量模型标准型（通用测量）可测膜厚范围（玻璃）20 nm to 50 μm*1测量可重复性（玻璃）0.01 nm*2 *3测量准确度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源卤素灯测量波长400 nm to 1100 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间19 ms/点*5光纤接口形状φ12套筒型外部控制功能RS-232C, 通过PIPE或Ethernet进行内部软件数据传输接口USB2.0电源AC100 V to 120 V/ AC200 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗250W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*5：连续数据采集时间不包括分析时间

光反射薄膜测厚仪原产国：美国薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。该产品是一款价格适中、功能强大的膜厚测量仪器，近几年，每年的全球销售量都超过200台。根据型号不同，测量范围可以从10nm到250um，它最高可以同时测量4个膜层中的3个膜层厚度（其中一层为基底材料）。该产品可应用于在线膜厚测量、测氧化物、SiNx、感光保护膜和半导体膜。也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。 应用领域理论上讲，我们的光干涉膜厚仪可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下为我们最熟悉的应用领域(半导体薄膜，光学薄膜涂层，在线原位测量，粗糙或弧度表面测量)：□ 晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...)；□ 晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...)；□ DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层；SOI硅片；□ MEMs厚层薄膜(100μm up to 250μm)；□ DVD/CD涂层；□ 光学镜头涂层；□ SOI硅片；□ 金属箔；□ 晶片与Mask间气层；□ 减薄的晶片( 120μm)；□ 瓶子或注射器等带弧度的涂层；□ 薄膜工业的在线过程控制；等等… 软件功能丰富的材料库：操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据，基本上的常用材料都包括在这个材料库中。用户也可以在材料库中输入没有的材料。软件操作简单、测速快：膜厚测量仪操作非常简单，测量速度快：100ms-1s。软件针对不同等级用户设有一般用户权限和管理者权限。软件带有构建材料结构的拓展功能，可对单/多层薄膜数据进行拟合分析，可对薄膜材料进行预先模拟设计。软件带有可升级的扫描功能，进行薄膜二维的测试，并将结果以2D或3D的形式显示。软件其他的升级功能还包括在线分析软件、远程控制模块等。

油膜厚度测量仪全自动化EHL模块允许在广泛的速度、载荷和温度 范围内研究油膜厚度。此外，高精度的干涉光学和 易用性使其能够以nm级精度测量油膜厚度。

C11011-01W 微米膜厚测量仪 C11011-01W型光学微米膜厚测量仪利用激光相干度量学原理，测量速度达60Hz，适用于产品线上在线测量。此外，选配的映射系统可以测量指定样品的厚度分布。C11011-01W应用广泛，比如用于产品制造过程监控或质量控制。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性利用红外光度测定进行非透明样品测量测量速度高达60 Hz测量带图纹晶圆和带保护膜的晶圆长工作距离映射功能可外部控制参数型号C11011-01W可测膜厚范围（玻璃）25 μm to 2900 μm*1可测膜厚范围（硅）10 μm to 1200 μm*2测量可重复性（硅）100 nm*3测量准确度（硅） 500 μm: ±0.5 μm； 500 μm: ±0.1 %*3光源红外LED（1300 nm）光斑尺寸φ60 μm*4工作距离155 mm*4可测层数一层（也可多层测量）分析峰值探测测量时间22.2 ms/点*5外部控制功能RS-232C / PIPE接口USB2.0电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗50W*1：SiO2薄膜测量特性*2：Si薄膜测量特性*3：测量6 μm厚硅薄膜时的标准偏差*4：可选配1000mm工作距离的模型C11011-01WL*5：连续数据采集时间不包括分析时间

F3-sX 系列薄膜厚度测量仪满足薄膜厚度范围从15nm到3mm的先进厚度测试系统 F3-sX家族利用光谱反射原理，可以测试众多半导体及电解层的厚度，可测最大厚度达3毫米。此类厚膜，相较于较薄膜层表面较粗糙且不均匀，F3-sX系列配置10微米的测试光斑直径因而可以快速容易的测量其他膜厚测试仪器不能测量的材料膜层。而且仅在几分之一秒内完成。波长选配 F3-sX采用的是近红外光（NIR）来测量膜层厚度，因此可以测试一些肉眼看是不透明的膜层（ 比如半导体膜层） 。980nm波长型号，F3-s980，专门针对低成本预算应用。F3-s1310针对于高参杂硅应用。F3-s1550则针对较厚膜层设计。配件 配件包括自动绘图平台、测量点可视化的摄像机, 和可见光波段选项，使测量厚度能力最小达到15纳米。此外数据采集速率达到1kHz，让F3-sX系列成为许多在线应用的第一选择（比如“roll-to-roll”工艺）。 测量原理为何？FILMeasure分析-薄膜分析的标准部件可选配件 应用&bull Si晶圆厚度测试&bull 保形涂层&bull IC 芯片失效分析&bull 厚光刻胶（比如SU-8光刻胶）选择Filmetrics的优势&bull 桌面式薄膜厚度测量的专家&bull 24小时电话，E-mail和在线支持&bull 所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性&bull 嵌入式在线诊断方式&bull 免费离线分析软件&bull 精细的历史数据功能，帮助用户有效地&bull 存储，重现与绘制测试结果

膜厚测量仪-MPROBE - MAKING THIN FILMS THICKNESS MEASUREMENT EASY产品负责人：姓名：魏工(David)电话：（微信同号）邮箱：美国Semisonsoft公司MProbe系列薄膜测厚仪测量厚度可以低至1nm，厚至1.8mm，埃级分辨率，非接触式无损快速测量。广泛应用在各种生产或研究中，比如测量薄膜太阳能电池的CIGS层，触摸屏中的ITO层等。大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。测量原理：当指定波长范围的光照射到薄膜上时，从不同界面上反射的光相位不同，从而引起干涉导致强度相长或相消。而这种强度的振荡是与薄膜的结构相关的。通过对这种振荡拟合和傅里叶变换就可获得样品厚度和相关的光学常数。比如：半导体（硅，单晶硅，多晶硅）半导体化合物（AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS）微电子机械（MEMS）氧化物/氮化物光刻胶硬涂层（碳化硅，类金刚石炭）聚合物涂层（聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺）高分子聚合物MProbe膜厚测量仪操作简单，只需一键操作即可获得样品的厚度、折射率（n, k）和表面粗糙度等信息，膜厚测量设备可支持不同光谱范围，光谱范围可达200-1700nm，因此可测量厚度范围可从1nm到2mm。 设备中无移动组件，所以测量结果几乎是即时得到的；TFCompanion测量软件使得测量过程非常简单且透明，测量历史、动态测量、模拟、颜色分析、直接在样品图像上显示结果。膜厚测量仪分类：1、单点膜厚测量——MPROBE-20MPROBE-20膜厚测量仪是一款台式单点膜厚测量设备，设备操作简单，一键获得样品的厚度和折射率，并可提供不同波段范围（适用于不同厚度薄膜）选择。MPROBE-20具有以下几种型号，客户可根据自己所需的波长范围和薄膜厚度进行选择。可供选择型号：型号波长范围核心配置厚度范围VIS200nm -1100nmF3 Ariel Spectrometer, 2048/4096 pix cmos, 16 bit ADC, 5W Tungsten-Halogen lamp10nm – 75 μmUVVISSR700nm -1100nmF4 Spectrometer, 2048 pix (backthinned),16 bit ADC 20W TH lamp, 30W Deuterium short-ark lamp1nm -75μmVIS-HR900nm-1700nmF4 Spectrometer, 2048 pix (backthinned),16 bit ADC, 5W TH lamp 1μm-400μmNIR200nm-800nmF4 spectrometer, InGaAs detector 512 pix., 16 bit ADC, 5W TH lamp50nm – 85μmUVVisF200nm -1700nmF4 spectrometer, Si detector 2048 pixels ccd, 16 bit ADC, 10W Xe flash lamp1nm – 5μmUVVISNIR1500nm-1550nmF4 Spectrometer, 2048pix (backthinned),16 bit ADC 20W TH lamp, 30W Deuterium short-ark lamp. F4spectrometer, InGaAs detector 512 pix., 16 bit ADC, 5W TH lamp1nm -75μmNIRHR200nm -1100nmF4 spectrometer, InGaAs detector 512 pix., 16 bit ADC, 5W TH lamp or SLDoption 10μm-1800μm (glass)4μm-400μm (Si)2、单点手持膜厚测量——MPROBE HCMPROBE HC膜厚测量仪是一款基于MPROBE-20平台开发专用于测量曲面和大型零件上的涂层，用手动探针代替样品台。膜厚测量仪主要参数：精度0.01nm或0.01%准确度0.2%或1nm稳定性0.02nm或0.03%聚焦点尺寸0.2mm或0.4mm样品尺寸25mm厚度范围0.05-70um3、聚焦光斑膜厚测量仪——MPROBE 40MPROBE 40是一款聚焦的小光斑膜厚测量系统，该产品将显微系统和膜厚测量设备结合起来，用于对膜厚的微区测量，光斑可达2μm。该设备集成相机和软件，可精确显示待测位置，并同时显示测量结果。该设备有不同波长范围可选，可供选择的产品型号如下：4、原位测量膜厚测量仪——MPROBE 50 INSITUMPROBE 50 INSITU是一款支持原位测量膜厚测量仪，该设备采用门控数据采集方式因此可以在高环境光的条件下工作。此外该型号膜厚测量仪支持定制以满足不同形状的真空腔。根据可用的光学窗口，支持斜入射和垂直入射。光线可以聚焦样品表面或准直,探测探头可以放置在沉积室光学端口内部或外部，由于该膜厚测量仪没有移动部件，通常测量时间约10ms。此外该型号还有多种波段范围可选，可供选择型号如下5、支持Mapping的聚焦膜厚测量仪——MPROBE 60MPROBE 60是一款聚焦并可做mapping的膜厚测量设备，重复精度可达0.01nm，精度可达1nm，mapping面积可达300*300mm。并支持多种波长范围可选。可选波长型号：6、在线膜厚测量仪——MProbe 70MProbe 70是一款高性能膜厚测量仪，主要设计用于24/7生产线上的连续测量。该设备主要有两种配置一个是在产线上配备多个固定的探头，第二种是将探头装在扫描仪上扫描。

菲希尔膜厚测量仪菲希尔膜厚测量仪X-RAY系列产品主要用于检测各产品部件上的涂层，镀层，膜厚，元素等的测量分析。其在各个环节中的用途如下：菲希尔膜厚测量仪产品用途：由于能量色散X射线荧光光谱法可以分析材料成分和测量薄镀层及镀层系统，因而应用广泛 在电子和半导体产业里，测量触点上薄金，铂和镍层厚度或痕量分析。在钟表和珠宝行业或采矿精炼工业中，精确分析贵金属合金组分。在质量管控和来料检验中，需要确保产品或零部件完全满足材料设计规范。如在太阳能光伏电池产业中，光伏薄膜的成分组成和厚度大小决定了光伏电池的效率。在电镀行业中，则需要测量大批量部件的厚度。对于电子产品的生产者和采购者，检验产品是否符合《限制在电子电气产品中使用有害物质的指令》（ROHS指令）也是十分关键的。在玩具工业中，也需要有可靠的有害物质检测手段对于以上测量应用，菲希尔的FISCHERSCOPE X-射线光变仪都能完美胜任。 菲希尔膜厚测量仪产品特点：快速无损的镀层厚度测量（单层或多镀层）分析固态，粉末或液态样品有害特痕量分析高精度和准确度十分广泛的应用准确测量基材是磁性和导电的材料样品制备非常简单测试方法安全，没有使用危害环境的化学制品无耗品，物超所值 菲希尔膜厚测量仪应用领域：钟表，首饰，眼镜 汽车及紧固件 卫浴五金连接器化学药水通信半导体封装测试电子元器件 PCB更多关于菲希尔膜厚测量仪请致电咨询。我司不仅是菲希尔膜厚测量仪代理商，同时也是一家PCB精密检测仪器及材料的生产厂家。

为了保证功能涂层在任何工作环境中都能发挥其作用，油漆涂装技术正在朝着精细化控制优化生产工艺和确保经济可持续发展方向努力。例如：家电行业希望油漆涂层更加耐用，能够适应各种各样家用电器和厨房器具的要求；而建筑行业则期望粉末涂层能够耐用且适应不同环境，特别是防腐涂料，期望能够经受得住太阳暴晒和风雨冲刷。过薄涂层无法保证涂料充分发挥功能作用；过厚涂层则会造成表面不平整，导致光泽度不同；对于机械阻力而言，越厚涂层硬度越大，则越容易断裂，因此生产厂家必须严格控制涂装工艺质量，令产品膜厚快速精准控制在合格范围内，从而满足不同的使用需求。目前市场上普遍使用的是几十年前开发的接触式磁性测厚仪和涡流测厚仪，或者是超声波测厚仪，这些测厚仪器虽然是非破坏式测厚，但是只能等待涂层固化后才能测量膜厚，无法在湿膜状态下测出固化后干膜厚度。为了更好实现测湿膜直接显示干膜厚度功能，瑞士涂魔师非接触无损测厚仪应运而生。涂魔师膜厚测量仪是一款非接触无损涂层测厚仪，不管漆膜是烘干后还是未烘干，粉末涂料是固化前还是固化后，涂魔师都可以轻松测出其干膜厚度。涂魔师膜厚测量仪工作原理涂魔师膜厚测量仪采用ATO光热法原理和数字信息处理技术(DSP），通过计算机控制光源以脉冲方式加热待测涂层，其中内置的高速红外探测器从远处记录涂层表面温度分布并生成温度衰减曲线。表面温度的衰减时间取决于涂层厚度及其导热性能。最后利用专门研发的算法分析表面动态温度曲线计算测量待测的涂层厚度。涂魔师膜厚测量仪优势---精准协助厂家提高产线的喷涂效率及产品合格率湿膜状态下测出干膜厚度涂魔师膜厚测试仪能在涂层烘干前测出干膜的真实厚度，并实时直接传入ERP/MES系统，可全程数据化监控，也便于下次调用生产或回溯分析。自动监控，减少次品率全程数据化追溯涂装工艺，有效协助涂装部门在生产过程中及时发现喷涂厚度问题，马上调整设备参数，优化工艺过程和消耗品的更换频率。快速研发，提高质量研发中心不必等待涂层干透，快速确保样品干膜厚度达标而做出测试样品，大幅缩短研发周期，助力制定新的质量标准、生产工艺，使产品更加有竞争力。喷涂厂家使用涂魔师膜厚测量仪测量未固化涂层即时得出固化后涂层厚度，并且全程能实现生产工艺的统计及不间断追溯，高效监控膜厚真实情况，进行数据的不间断监控记录和智能统一管理。翁开尔是涂魔师中国总代理，欢迎致电【400-6808-138】咨询关于涂魔师全自动涂层测厚仪更多产品信息、技术应用和客户案例。

C11665-01 微米膜厚测量仪 C11665-01型光学微米测厚仪是一款非接触薄膜测厚仪器，它将光源、探测器和数据分析模块集成到一个箱体里，实现了紧凑型设计。在半导体行业，TSV技术的广泛应用使得基底测厚成为至关重要的方面，与此同时半导体薄膜工业正将连接层制作的越来越薄。这些领域的进步需要1 μm到300 μm范围内高准确度的膜厚测量。C11665-01可对多种类型的材料（硅基底，薄膜等等）进行测厚，测量范围为0.5 μm 到 700 μm，这也是半导体和薄膜制造领域经常使用应用的厚度。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性无参照物工作尺寸紧凑，节省空间高速、高准确度不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C11665-01可测膜厚范围（玻璃）0.5 μm to 700 μm*1可测膜厚范围（硅）0.5 μm to 300 μm*2测量可重复性（硅）0.1 nm*3 *4测量准确度（硅）±1 %*4 *5光源LED测量波长940 nm to 1000 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*4工作距离5 mm*4可测层数最大10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间19 ms/点*6光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C / Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗85W*1：SiO2薄膜测量特性*2：Si薄膜测量特性*3：测量6 μm厚硅薄膜时的标准偏差*4：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*5：在标准量具的测量保证范围内*6：连续数据采集时间不包括分析时间

Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行，或者其他应用要求光斑小至1微米时，F40是你的好选择。使用先前足部校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家24小时电话，E-mail和在线支持所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜

C11295 多点纳米膜厚测量仪 C11295型多点纳米膜厚测量系统使用光谱相干测量学，用以测量半导体制造过程中的薄膜厚度，以及安装在半导体制造设备上的APC和薄膜的质量控制。C11295可进行实时多点测量，也可以在膜厚测量中同时测量反射率（透射率）、目标颜色以及暂时变化。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！ 特性多达15点同时测量无参照物工作通过光强波动校正功能实现长时间稳定测量提醒及警报功能(通过或失败)反射(透射)和光谱测量高速、高准确度实时测量不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C11295-XX*1可测膜厚范围（玻璃）20 nm to 100 μm*2测量可重复性（玻璃）0.02 nm*3 *4测量准确度（玻璃）±0.4 %*4 *5光源氙灯测量波长320 nm to 1000 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*4工作距离10 mm*4可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析测量时间19 ms/点*7光纤接口形状SMA测量点数2~15外部控制功能Ethernet接口USB 2.0（主单元与电脑接口）RS-232C（光源与电脑接口）电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗约330W（2通道）~450W（15通道）*1：-XX，表示测点数*2：以 SiO2折射率1.5来转换*3：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*4：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*5：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*6：卤素灯型为C11295-XXH*7：连续数据采集时间不包括分析时间

薄膜厚度测量仪CHY-CA薄膜测厚仪采用机械接触式测量原理，严格按照标准方法进行测量，有效保证了测试的规范性和准确性。专业适用于量程范围内的塑料薄膜、薄片、隔膜、纸张、箔片、硅片等各种材料的厚度测量。产品特点◎ 微电脑控制系统，大液晶显示、PVC操作面板，方便用户进行试验操作和数据查看。◎ 严格按照标准设计的接触面积和测量压力，同时支持各种非标定制。◎ 测试过程中测量头自动升降，有效避免了人为因素造成的系统误差。◎ 支持自动和手动两种测量模式，方便用户自由选择。◎ 系统自动进样，进样步距、测量点数和进样速度等相关参数均可由用户自行设定。◎ 实时显示测量结果的Z大值、Z小值、平均值以及标准偏差等分析数据，方便用户进行判断。◎ 配置标准量块用于系统标定，保证测试的精度和数据一致性。◎ 系统支持数据实时显示、自动统计、打印等许多实用功能，方便快捷地获取测试结果。◎ 标准的USB接口，便于系统与电脑的外部连接和数据。薄膜厚度测量仪测试原理CHY-CA薄膜测厚仪采用机械接触式测量原理，截取一定尺寸的式样；通过控制面板按钮，调节测量头降落于式样之上；依靠两个接触面产生的压力和两接触面积通过传感器测得的数值测量材料的厚度。测试标准该仪器符合多项国家和国标标准：ISO 4593、ISO 534、ISO 3034、GB/T 6672 、GB/T 451.3、 GB/T 6547、 ASTM D374、ASTM D1777TAPPI T411、JIS K6250、JIS K6783、JIS Z1702、 BS 3983、BS 4817。 售后服务承诺三月内只换不修，一年质保，终身提供。快速处理，1小时内响应问题，1个工作日出解决方案。 体系荣誉资质ISO9001：2008质量体系认证、计量合格确认证书、CE认证、软件著作权、产品实用新型、外观设计。实力铸造品牌三大研发中心，两条独立生产线，一个综合体验式实验室。赛成自2007年创立至今，全球用户累计成交产品破万台，完善四大产品体系，50多种产品。

塑料薄膜厚度测量仪随着塑料薄膜、拉伸缠绕膜、尼龙膜等包装材料的应用，食品保鲜膜等包装品也得到了大量应用。为了确保这些包装材料的厚度和品质，需要使用厚度测量仪器进行检测。本文将介绍一种厚度测量仪器的检测原理，该仪器采用机械接触式进行测量，能够准确地测量各种材料的厚度。 该厚度测量仪器由机械框架、测量头、驱动器、传感器和测量软件等组成。在测量过程中，测量头与被测材料接触，传感器会感知测量头与被测材料之间的距离，并将距离信号传输到测量软件中进行处理和计算。 该厚度测量仪器采用机械接触式进行测量，其检测原理是利用测量头与被测材料接触时，测量头受到被测材料的顶出力，该力会使测量头的位移发生变化。测量头位移的变化量与被测材料的厚度之间存在一定的关系，通过测量位移变化量就可以计算出被测材料的厚度。 具体来说，该厚度测量仪器在测量过程中，将测量头放置在被测材料的表面，并施加一定的压力，使测量头与被测材料紧密接触。当测量头向上移动时，由于被测材料顶出力的作用，测量头的位移将发生变化。该位移变化量通过传感器传输到测量软件中，测量软件根据位移变化量和机械框架的结构参数，计算出被测材料的厚度。 该厚度测量仪器能够准确地测量各种材料的厚度，如塑料薄膜、拉伸缠绕膜、尼龙膜等。同时，该仪器还可以用于食品保鲜膜等包装材料的厚度检测。由于该仪器采用机械接触式进行测量，其具有以下优点： 1、测量精度高：由于测量头与被测材料直接接触，能够更准确地感知被测材料的厚度变化。2、稳定性好：由于机械结构比较稳定可靠，因此测量的重复性和准确性都比较高。3、适用范围广：可以用于不同材料的厚度检测，如塑料薄膜、拉伸缠绕膜、尼龙膜等包装材料以及食品保鲜膜等。 技术参数 测量范围 0-2mm （其他量程可定制） 分辨率 0.1um 测量速度 10次/min（可调） 测量压力 17.5±1kPa（薄膜）；100±1kPa（纸张） 接触面积 50mm² （薄膜），200mm² （纸张） 注：薄膜、纸张任选一种 进样步矩 0 ～ 1300 mm(可调) 进样速度 0 ～ 120 mm/s(可调) 机器尺寸 450mm×340mm×390mm (长宽高) 重 量 23Kg 工作温度 15℃-50℃ 相对湿度 80%,无凝露 试验环境 无震动，无电磁干扰 工作电源 220V 50Hz 塑料薄膜厚度测量仪 此为广告

Filmetrics 薄膜厚度测量仪测厚仪F80-C膜厚测量仪使生产晶片的测量变得简单实惠工艺工程师希望薄膜厚度测量是快速容易的，现在高精度的厚度成像技术让 Filmetrics 可以快速建立配方，并且拥有快速的测试速度，而且价格仅仅是同行业测量设备的小部分。 F80 可以应用在化学机械抛光、化学气相沉积、蚀刻等工艺中，这是晶片追索工艺工程师所期待的。新技术= 低成本与传统的测量工具不同， F80 不需要高精度的移动硬件去找寻微小的测试 pads，相反的，它可以快速的测量每个 pad 附近数以千计点的厚度，然后处理“厚度成像”结果，进而找到正确的厚度。可以替换昂贵的移动硬件，进而节约很高的成本。使用方便因为使用厚度成像技术， F80 不依赖过时的基于视频的图像识别技术，这意味着在 CMP 应用中通常会遇到的前后表面光对照比不同的问题，在 F80 系统中是不存在的。 也意味着配方的建立更自动化和直观，数据可以及时存，从而节省了时间，训练及减少误操作引发的错误。快速因为厚度成像技术， 300 毫米晶片在 F80 上扫描 21 点仅仅只需要 29 秒的时间，非常快速。Filmetrics 薄膜厚度测量仪测厚仪Filmetrics 薄膜厚度测量仪测厚仪Filmetrics 薄膜厚度测量仪测厚仪

厂家授权代理商——岱美仪器技术服务（上海）有限公司岱美有限公司与Filmetrics从03年开始的合作关系，单是国内于16年已卖出超过600台不同型号仪器，在国内有多个服务处均有工程师，保证能为客户提供及时的服务。 经济实惠的薄膜厚度测量系统的全球销售领头者，让复杂测量变得简单产品简介：美国 Filmetrics 公司生产的薄膜厚度测量仪利用反射干涉的原理进行无损测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是目前市场上极具性价比的薄膜厚度测量设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。其可测量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之间，测量精度高达1 埃，测量稳定性高达 0.7 埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。应用：通过Filmetrics膜厚测量仪新反射式光谱测量技术,多达3-4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如：半导体制造液晶显示器生物医疗元件微机电系统光学镀膜Photoresist光刻胶Oxides氧化物Nitrides氮化物SOI绝缘体上硅Cell Gaps液晶间隙Polyimide聚酰亚胺保护膜ITO纳米铟锡金属氧化物Polymer/Parylene Layers 聚合物/聚对二甲苯涂层Membrane/Balloon Wall Thickness 生物膜/气泡球厚度Drug-Coated Stent药物涂层支架Silicon Membranes硅膜AlN/ZnO Thin Film Filters氮化铝/氧化锌薄膜滤镜Hardness Coatings硬镀膜Anti-reflection Coatings增透镀膜Filters滤光膜层实例：几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括：SiO2（二氧化硅） SiNx（氮化硅） DLC（类金刚石碳）Photoresist（光刻胶） Polyer Layers（高分子聚合物层） Polymide（聚酰亚胺）Polysilicon（多晶硅） Amorphous Silicon（非晶硅） 基底实例：对于厚度测量，大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量，需要一块平整的镜面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要进行处理使之不能反射。包括：Silicon（硅） Glass（玻璃） Aluminum（铝）Gas（砷化镓） Steel（钢） Polycarbonate（聚碳酸脂）Polymer Films（高分子聚合物膜）产品应用，在可测样品基底上有了极大的飞跃：●几乎所有材料表面上的镀膜都可以测量，即使是药片，木材或纸张等粗糙的非透明基底。●玻璃或塑料的板材、管道和容器。●光学镜头和眼科镜片。服务：免费样机演示及测量 轻轻一按即可实现测量！ 请联系我们，专业的应用工程师将为你演示它是如此的方便！ 优势：* 提供在线诊断* 配送独立的软件包* 精通的历史功能即程序数据可存储、复制及策划结果* 免费软件升级 极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，Filmetrics提供以下型号以供选择:一、单点测量系统（从 1nm 到 13mm 单层及多层厚度测量） F20全世界销量好的薄膜测量系统，有各种不同附件和波长(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)覆盖范围，为任意携带型，可以实现反射率、膜厚、n、k值测量。F3-sX能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米, 例如硅片F10-ARc可测量镜片和其他曲面的反射率，用于涂层厚度测量F10-HC测量硬涂层和防雾层厚度和折射率，聚碳酸酯硬涂层在汽车等行业应用普通F3-CS提供微小视野及微小样品测量，USB连接电脑即可使用，携带方便F10-AR测量眼科镜头和其他弯曲表面的反射率。还可以提供测量硬涂层厚度和透射率的可选件F10-RT可同时测量反射率和透射率，也可选配测量膜层厚度和折射率。普遍应用于真空涂层领域在F20实现反射率跟穿透率的同时测量，特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。 二、F40 系列- 基于微米(显微)级别光斑尺寸厚度测量F40可以固定到您的显微镜上来测量小至 1um 光斑点的厚度和折射率这型号安裝在任何显微镜外，可提供小到1um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。三、F50/F60系列- 表面的自动测绘F50为我们的F20系列产品增添自动测绘能力，以每秒钟 2 个点的快速测绘厚度和折射率这型号配备全自动XY工作台，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能，可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。F54能以每秒测量两个点的速度快速的测绘薄膜厚度，样品直径可达450毫米F60-t满足生产环境的台式测绘系统，包括自动基准确定、凹槽定位、全封闭测量平台以及其它装置四、F30 系列- 在线厚度监控仪器 F30检测金属有机化学气相沉积(MOCVD)、阴极溅镀和其他沉积工艺中监控反射率、厚度和沉积率这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头，同时测量三个样品，具紫外线区或标准波长可供选择。F32实时监控薄膜顶部和底部的反射率和沉积速率公司网站：岱美中国：；岱美总部：上海分公司地址: 上海市浦东金高路 2216 弄 35 号6 幢 306-308 室电话: ，卜先生: 东莞分公司地址: 东莞市南城街道宏六路一号国金大厦401室电话: ，唐女士：北京分公司地址: 北京市丰台区丰台科技园汽车博物馆东路1号院诺德中心二期号楼1102室电话: ，贾先生: 岱美有限公司成立于1989年，是数据存储，半导体，光学，光伏和航空航天行业领头制造商和创新研发机构的先进设备分销商。在21世纪初期，Dymek已从我们在香港的总部扩展到亚洲，以满足客户的多样化需求。在当今全球化的市场中，我们的客户有连接东南亚各国的综合供应链已经成为基本。我们我们的专业人员随时准备与他们会面。我们总部设在香港，在中国（北京和上海，以及广东东莞）拥有强大的业务。我们还在马来西亚，新加坡，台湾，菲律宾和泰国的东南亚设有分支机构。我们所有的分支机构都已建立数十年，我们的许多客户对我们与他们建立的长达数十年的合作关系感到满意。我们的目标是建立持久的关系，满足东南亚快速增长企业的需求。对于我们的客户，我们不仅提供设备，还提供建议和技术指导，以及时了解我们不断发展的行业的新发展。对于我们的供应商，我们提供了深入的销售网络和数十年的东南亚复杂商业环境导航经验。我们将本地客户与来自欧洲，美国，日本和韩国的先进设备连接起来。可以立即联系我们，了解我们如何与您合作，实现您组织的长期财务目标。

岱美有限公司与Filmetrics从03年开始的合作关系，单是国内16年间已卖出超过600台不同型号仪器，在国内有多个服务处均有工程师，保证能为客户提供及时的服务。 经济实惠的薄膜厚度测量系统的全球销售领头者，让复杂测量变得简单产品简介：美国 Filmetrics 公司生产的薄膜厚度测量仪利用反射干涉的原理进行无损测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是目前市场上极具性价比的薄膜厚度测量设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。其可测量薄膜厚度在 1nm 到 13mm 之间，测量精度高达1 埃，测量稳定性高达 0.7 埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。应用：通过Filmetrics膜厚测量仪新反射式光谱测量技术,多达3-4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如：半导体制造液晶显示器生物医疗元件微机电系统光学镀膜Photoresist光刻胶Oxides氧化物Nitrides氮化物SOI绝缘体上硅Cell Gaps液晶间隙Polyimide聚酰亚胺保护膜ITO纳米铟锡金属氧化物Polymer/Parylene Layers 聚合物/聚对二甲苯涂层Membrane/Balloon Wall Thickness生物膜/气泡球厚度Drug-Coated Stent药物涂层支架Silicon Membranes硅膜AlN/ZnO Thin Film Filters氮化铝/氧化锌薄膜滤镜Hardness Coatings硬镀膜Anti-reflection Coatings增透镀膜Filters滤光膜层实例：几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。包括：SiO2（二氧化硅） SiNx（氮化硅） DLC（类金刚石碳）Photoresist（光刻胶） Polyer Layers（高分子聚合物层） Polymide（聚酰亚胺）Polysilicon（多晶硅） Amorphous Silicon（非晶硅） 基底实例：对于厚度测量，大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量，需要一块平整的镜面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要进行处理使之不能反射。包括：Silicon（硅） Glass（玻璃） Aluminum（铝）Gas（砷化镓） Steel（钢） Polycarbonate（聚碳酸脂）Polymer Films（高分子聚合物膜）产品应用，在可测样品基底上有了极大的飞跃：●几乎所有材料表面上的镀膜都可以测量，即使是药片，木材或纸张等粗糙的非透明基底。●玻璃或塑料的板材、管道和容器。●光学镜头和眼科镜片。服务：免费样机演示及测量轻轻一按即可实现测量！请联系我们，专业的应用工程师将为你演示它是如此的方便！优势：* 提供在线诊断* 配送独立的软件包* 精通的历史功能即程序数据可存储、复制及策划结果* 免费软件升级 极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，Filmetrics提供以下型号以供选择:一、单点测量系统（从 1nm 到 13mm 单层及多层厚度测量） F20全世界销量好的薄膜测量系统，有各种不同附件和波长(由220nm紫外线区 至1700nm近红外线区)覆盖范围，为任意携带型，可以实现反射率、膜厚、n、k值测量。F3-sX能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米, 例如硅片F10-ARc可测量镜片和其他曲面的反射率，用于涂层厚度测量F10-HC测量硬涂层和防雾层厚度和折射率，聚碳酸酯硬涂层在汽车等行业应用普通F3-CS提供微小视野及微小样品测量，USB连接电脑即可使用，携带方便F10-AR测量眼科镜头和其他弯曲表面的反射率。还可以提供测量硬涂层厚度和透射率的可选件F10-RT可同时测量反射率和透射率，也可选配测量膜层厚度和折射率。普遍应用于真空涂层领域在F20实现反射率跟穿透率的同时测量，特殊光源设计特别适用于透明基底样品的测量。 二、F40 系列- 基于微米(显微)级别光斑尺寸厚度测量F40可以固定到您的显微镜上来测量小至 1um 光斑点的厚度和折射率这型号安裝在任何显微镜外，可提供小到1um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。三、F50/F60系列- 表面的自动测绘F50为我们的F20系列产品增添自动测绘能力，以每秒钟 2 个点的快速测绘厚度和折射率这型号配备全自动XY工作台，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通过快速扫瞄功能，可取得整片样品厚度分布情况(mapping)。F54能以每秒测量两个点的速度快速的测绘薄膜厚度，样品直径可达450毫米F60-t满足生产环境的台式测绘系统，包括自动基准确定、凹槽定位、全封闭测量平台以及其它装置四、F30 系列- 在线厚度监控仪器 F30检测金属有机化学气相沉积(MOCVD)、阴极溅镀和其他沉积工艺中监控反射率、厚度和沉积率这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。更可加装至三个探头，同时测量三个样品，具紫外线区或标准波长可供选择。F32实时监控薄膜顶部和底部的反射率和沉积速率公司网站：岱美中国：；岱美总部：上海分公司地址: 上海市浦东金高路 2216 弄 35 号6 幢 306-308 室电话: ，卜先生: 东莞分公司地址: 东莞市南城街道宏六路一号国金大厦401室电话: ，唐女士：北京分公司地址: 北京市丰台区丰台科技园汽车博物馆东路1号院诺德中心二期号楼1102室电话: ，贾先生: 岱美有限公司成立于1989年，是数据存储，半导体，光学，光伏和航空航天行业领头制造商和创新研发机构的先进设备分销商。在21世纪初期，Dymek已从我们在香港的总部扩展到亚洲，以满足客户的多样化需求。在当今全球化的市场中，我们的客户有连接东南亚各国的综合供应链已经成为基本。我们我们的专业人员随时准备与他们会面。我们总部设在香港，在中国（北京和上海，以及广东东莞）拥有强大的业务。我们还在马来西亚，新加坡，台湾，菲律宾和泰国的东南亚设有分支机构。我们所有的分支机构都已建立数十年，我们的许多客户对我们与他们建立的长达数十年的合作关系感到满意。我们的目标是建立持久的关系，满足东南亚快速增长企业的需求。对于我们的客户，我们不仅提供设备，还提供建议和技术指导，以及时了解我们不断发展的行业的新发展。对于我们的供应商，我们提供了深入的销售网络和数十年的东南亚复杂商业环境导航经验。我们将本地客户与来自欧洲，美国，日本和韩国的先进设备连接起来。可以立即联系我们，了解我们如何与您合作，实现您组织的长期财务目标。

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