质谱计量

即时掌握分析结果赋予强大力量无论您是要缩短药物发现周期、拓展客户服务范围，还是只希望提高在周转时间方面的竞争力，均可运用直接质谱分析大幅提升系统效率，助您实现运营目标。RADIAN ASAP功能灵活、操作简便且分析速度快，不需要进行复杂的样品前处理、分离，也无需具备丰富的质谱经验，即可帮助您和您的实验室实现更多目标。1）操作简便，数据解析容易2）大幅减少样品前处理步骤3）无需分离4）实时获得结果并进行分类。设计紧凑，性能优异RADIAN ASAP是一款专门用于直接分析的新型系统，专为实现快速、简便、低成本的液体和固体分析而设计。RADIAN ASAP系统在设计上采用稳定可靠的单四级杆质谱技术，同时结合大气压固相分析探头(ASAP)使用，占用空间小，简便易用，而且能提供高质量数据。单四极杆质谱检测器能够提供高质量质谱数据，用户无需经过任何特殊培训或具备专业知识即可操作，因此无需将分析工作外包给专业分析服务实验室，节省了漫长的等待时间。灵活的工作流程解决方案，完成分析只需简单四步RADIAN ASAP操作简单直观，使用户能够在样品前处理工作非常少甚至没有的情况下快速生成结果，是实验室制定明智决策的理想工具。该系统能够直接从液体或固体中电离分子，因此适用于多种应用和工作流程。法医学对查获的药物进行快速分类利用RADIAN ASAP和LiveID即时掌握分析结果，可确保取证实验室能够比对已知化合物谱库迅速筛查样品，进行非法药物的快速、可靠鉴定。质谱分析的灵敏度和选择性可确保药物检测分类工作流程简便、高效。食品与环境研究食品真伪评估食品掺假带来的威胁对食品行业和监管机构提出了更多要求，以保护食品消费者安全和维护品牌声誉。利用RADIAN ASAP和LiveID即时掌握分析结果，是将质谱分析与化学计量学建模强强联合的有效方法，让用户能够轻松、高效进行样品筛查并加快决策速度。化学品与材料原料质量控制利用RADIAN ASAP和IonLynx即时掌握分析结果，有助于化学行业的QC和研发实验室降低成本并提高分析效率。产品放行检测或制剂性能检测等工作流程得以简化。包括热梯度分析在内的各项功能均非常适用于化学行业的的复杂样品检测。制药药物发现反应监测目前，业界对加快药物发现和开发进程的需求高涨。利用RADIAN ASAP即时掌握分析结果，帮助合成化学人员轻松获取质谱数据，以便迅速完成反应进程评估和纯化馏分鉴定工作，提升实验室分析效率。学术研究本科教学和方法开发对于任务繁重并且需要稳定可靠解决方案的学术实验室，兼具简便性和易用性的RADIAN ASAP是您的理想选择。用于快速解析和分类的软件解决方案LiveID软件可通过RADIAN ASAP对样品进行实时分类。用户可在分析时立即获取信息，以便实时做出正确决策，消除关于样品鉴定的疑虑。LiveID - 真伪试验对于调查食品或原料真伪、掺假和质量的客户，LiveID使用统计模型对样品进行分类。首先，利用经过真伪验证的正品样品创建并验证统计模型。然后，采用经过验证的模型分析测试样品，并对其进行实时分类。最终结果是非常简单的“是/否”。LiveID - 谱库匹配LiveID还可支持实时谱库匹配工作流程，利用软件将谱库中的所有化合物与各分析样品进行匹配，总分为1000分，若分值接近1000，则表示该样品中可能存在目标化合物；得分较低则表明该样品中不太可能存在相应化合物。自动化数据处理与报告功能OpenLynx处理功能为用户提供自定义选项，能够自动化生成PDF、打印版或浏览器格式的质量数确认报告。IonLynx使用户能够确定复杂样品中目标分析物的含量和相对比率，从而帮助制定有关QC和制剂监测的决策。IonLynx可以自动处理和报告非色谱数据集，例如由RADIAN ASAP生成的数据。

赛默飞的质谱仪包括：LC-MS液质联用仪、GC-MS气质联用仪、DFS高分辨率磁式质谱仪、IO-MS同位素质谱仪、GD-MS辉光放电质谱等。赛默飞质谱仪拥有无与伦比的出色性能和易用性，利用这些质谱仪在实验中令人惊讶的表现能力和超高的灵敏度，您能够以更高的速率获得更可靠更丰富的结果。 产品范围：三重四级杆串联液质三重四级杆串联气质高分辨质谱离子阱质谱高分辨磁质谱无机质谱液相和离子源高分辨气质更多信息：请访问赛默飞世尔科技质谱分析的展台，展位号：SH103458。或直接登陆以下网址：http://www.instrument.com.cn/netshow/SH103458/

赛默飞旗下液相色谱LC、气相色谱GC、离子色谱（IC）、质谱（LC-MS/MS、GC-MS/MS、LCHRMS、GCHRMS、IOMS）、痕量元素分析（TEA）和样品前处理系统，是业界领先产品，能为科学分析创造出全新的可能性。主要产品：液相色谱（LC）液质联用（LC-MS/LC-MSMS）高分辨液质离子阱质谱气相色谱（GC）气质联用（GC-MS/GC-MSMS）高分辨气质痕量元素分析产品（AAS, ICP, ICP无机质谱离子色谱（IC）样品前处理设备（SP）水质分析仪（CDD）色谱数据系统（CDS）网络讲堂同位素技术在葡萄酒真伪鉴定和产地溯源中的应用离子色谱在有机化合物分析中的应用研究赛默飞三重四极气质联用仪在疾控领域中的应用赛默飞CSR(大体积进样技术)和NCI（负离子化学电离技术）在电子电器产品有害化合物分析中的应用赛默飞液相色谱柱在制药领域中的应用赛默飞2015版《国家药包材标准》色谱、光谱及元素分析解决方案赛默飞iCAP RQ ICP-MS新产品介绍及最新应用进展赛默飞色谱、光谱对食品中有毒有害物质分析应用更多信息：请访问赛默飞色谱与质谱分析的展台，展位号：SH100244。或使用域名登陆：http://www.instrument.com.cn/netshow/SH100244/

随着对离子化合物检测灵敏度要求越来越严格，将离子色谱仪与质谱（IC-MS）联用，以解决高极性或可电离化合物的高灵敏度度检测需求。该系统由离子色谱仪Essentia IC-16与质谱仪LCMS-8050完美结合。离子色谱仪Essentia IC-16具有出色的性能与稳定性，有效增强离子分析能力；三重四极杆质谱仪LCMS-8050带来优异的传输速度，凸显质谱的高灵敏度、高选择性优势。另外还有多款单四极杆质谱仪、三重四极杆质谱仪、高分辨质谱仪供您选择。

iMScope QT保留岛津质谱成像的高空间分辨率和光学显微镜融合特点的同时，连接 LCMS-9030，以MALDI-Q-TOF提高成像速度和灵敏度。iMScope QT还可以把显微镜-MALDI单元简单地分离和组装，实现了一台仪器多用途使用，从而完成定性，定量，定位的整体流程。iMScope QT 主要特点：显微镜观察和质谱成像分析的融合。高分辨率光学显微镜完美地融合在成像质谱仪，可对微小区域进行观察和分析，通过叠加光学显微镜图和质谱成像图，更准确地进行定位。高空间分辨率，高速，高精度，高效率的成像分析。使用5 μm空间分辨率，20,000 Hz的激光频率，结合LCMS-9030的快速检测系统，成像分析速度可达到50像素/秒，分析100 x 100像素的图像仅需数分钟即可完成。LCMS-9030高性能的MS/MS分析，可快速提供目标分子的结构信息和高特异性成像数据。一台质谱即可获得LC-MS的定性、定量信息和质谱成像的位置信息。iMScope QT成像单元和LCMS-9030质谱单元可以组装和分离，轻松实现质谱成像分析和LC-Q TOF定性定量分析的切换，同时满足定量成像分析的需求。?

1.ChemPattern简介 ChemPattern先进化学计量学系统解决方案软件通过仪器分析与化学计量学大数据分析的紧密融合，为复杂体系解析提供一站式解决方案，可用于基于各类色谱、质谱、光谱、核磁共振数据的指纹图谱分析、代谢组学分析、非目标分析及在线过程控制等。作为目前唯一的跨分析仪器平台的增强型工作站与大数据分析系统，ChemPattern通过标准数据接口技术提供针对各类高维、高分辨分析仪器大数据的前处理及定性、定量分析功能，特别是基于海量数据可视化的多元校正、多元统计分析、回归建模、模式识别、数据挖掘及人工智能等化学计量学算法的支持。ChemPattern 2017所支持的分析仪器解决方案类型ChemPattern系统由仪器数据处理子系统、分析化学数据处理子系统、化学计量学及大数据分析子系统、大规模数据可视化表达子系统、实验室信息管理系统子系统、以及分析系统管理子系统等6部分组成。并全面符合实验室信息管理系统（LIMS）及电子数据和电子签名法案（FDA 21 CFR part 11）的规范要求。软件中各个分析仪器模块所集成的功能均颇具特色，如LC/GC模块的保留时间自动校正和数字定量勾兑系统，MS模块的质谱解卷积、DART/MS指纹图谱分析及质谱成像系统等。该套系统目前已广泛应用于临床医药、食品安全、烟草白酒、石油化工、检验检疫、环境监测、国土安全以及司法鉴定等复杂体系相关的分析领域，并为用户的生产和科研活动创造了高附加值。以新药研发领域为例，代表性客户包括中国医学科学院药物所、药用植物研究所、中国中医科学院中药研究所、中科院上海药物所等。2.分析仪器数据处理模块简介 ChemPattern所拥有的跨仪器种类的分析化学数据共平台定量分析技术，可提供包括色谱、质谱及光谱等仪器种类在内的分析化学数据的一站式处理与分析解决方案。该系统通过通用数据接口技术实现了仪器分析的湿法实验环节与数据分析的干法实验环节的无缝联接，并针对不同分析仪器的特点分别提供相应的信号处理、校正等工作站软件功能。该系统的应用同时解决了如何对分析仪器所获取的持续呈几何级增长的高维高分辨海量数据进行高效分析处理，以及不同类型及型号的分析仪器所测得数据、模型的迁移和共平台综合比对分析这两个化学计量学所关心的核心问题，并采用标准化的操作方式对各类分析仪器的复杂体系数据处理和分析全过程加以规范。2.1 ChemPattern 2017支持的分析仪器厂家及数据类型ChemPattern解决方案所支持的数据类型及仪器厂家2.2 质谱法系统解决方案质谱法特别是色谱－质谱联用技术是开展复杂体系样本分析不可或缺的重要手段，所获取的高维高分辨数据对于复杂体系质量控制与研究都极具价值。ChemPattern对不同离子源的质谱联用技术如ESI-MS, DART-MS及ICP-MS等所代表的各型数据提供广泛和深入的数据处理支持，其部分特点如下： ● 质谱解卷积。该功能将GC-MS的解卷积功能扩展到信息更为复杂的LC-MS应用中。经过高度优化的快速解卷积算法可兼容各种质量的质谱数据（不同分辨率和采样频率等）。 ● 分子特征匹配。其综合采用化合物的质谱与色谱信息对解卷积色谱峰进行样品间的自动对齐，从而实现化合物的快速精确匹配。 ● 质谱共有模式。根据代表性样品质谱图生成的共有模式可进行基于质谱图的精确匹配，适用于DART-MS及ICP-MS等数据的深入分析。由上至下，由左至右：1、MS Profiler质谱总离子流色谱图视图；2-3、MS Profiler质谱解卷积结果示意图（显示各峰置信度以及右图的数据平滑后的校正保留时间）；4、MS Profiler质谱解卷积分子特征匹配视图；5、MS Profiler解卷积质谱共有模式示意图；6、MS Profiler的DART及ICP质谱样品匹配视图化学计量学算法简介 ChemPattern的化学计量学解析过程与仪器分析步骤密切相关，并完全满足开展定量分析的要求。分析过程系统集成了包括自变量筛选、数据预处理、数据降维，以及交叉验证等在内的一系列数据解析流程。各类核心算法均经过参数优化设计，易于操作掌握，通常只需点击几下鼠标即可获得详尽的交互式图表计算结果。具体功能组成如下: ● 数据预处理（自变量标准化、因变量标准化，数据降维等） ● 多元统计分析（PCA, PLS, PLS-DA, OPLS-DA, SIMCA, MANOVA等） ● 聚类分析（HCA, HCA heat-map等） ● 相似度分析（相关系数，夹角余弦，马氏距离，欧氏距离等） ● 回归建模化学模式识别（kNN, SIMCA, PLS-DA, OPLS-DA, SVM, SOM等） ● 支持向量机与人工神经网络（SVM）与人工神经网络（ANN, SOM） ● 高通量、高内涵人工智能分析与数据挖掘策略由上至下，由左至右：1、ChemPattern系统聚类分析图；2、ChemPattern自组织映射聚类图；3、ChemPattern双向系统聚类分析二维图由上至下，由左至右：1、相似度分析柱状图；2、PCA（主成分分析）得分与载荷三维散点图；3、PLS-DA(偏最小二乘判别)得分与载荷散点图；4、自变量箱状统计图；5、SIMCA（簇类独立软模式法）子模型判定限对数散点图；6、SIMCA子模型投影散点图由上至下，由左至右：1、自变量相关性趋势图；2、SOM（自组织映射人工神经网络）组分权重热图；3、SVM（支持向量机）子分类器支持向量散点图；4、SVM参数网格优化搜索结果等高线图科迈恩（北京）科技有限公司

上海伯东日本 Atonarp Aston&trade 质谱仪 ALD 工艺控制的原位计量原子层沉积 ALD 是一种广泛且越来越多地用于先进半导体制造存储器（3D-NAND 和新兴的堆叠式 DRAM ）和先进逻辑制程（例如全环绕栅极）的工艺.这些工艺的特点是需要控制几十个分子厚的薄膜层, 通常测量只有几十埃（1&angst =1x10-10m）.使用 ALD 可以沉积多种材料, 包括氧化物, 氮化物和金属. ALD 工艺被广泛使用, 因为它提供了超薄, 高度可控的单层材料, 这些材料本质上是保形和无针孔的. 从 2020 年到 2025 年, ALD 市场预计将以 16%-20% 的复合年增长率增长（来源: ASM）.上海伯东 Aston&trade 质谱分析仪是一款快速, 强大的化学特异性气体质谱仪, 提供 ALD 过程控制解决方案, 可在这些非等离子体（“lights-off”）过程中提供原位计量和控制. 它可以实现快速, 化学特定的原位定量气体分析, 低至十亿分之几的水平, 提供 ALD 过程控制所需的实时数据.上海伯东日本 Aston&trade 质谱仪提供“lights-out” ALD 工艺的原位计量解决方案为实现 ALD 工艺监测和控制, 需要一种高速化学特定量化计量解决方案, 该解决方案可以处理苛刻的工艺气体, 例如盐酸或氢氟酸副产物, 并且可以处理在过程中可能在腔室表面形成的冷凝颗粒.计量解决方案需要量化存在的气体, 以便在多个操作阶段之间实现准确, 快速的转换: 前体气体注入, 气体吹扫, 反应气体注入和副产品气体去除. 通常, 每个完整的周期只需几秒钟, 因此计量解决方案需要以高采样率和灵敏度实时工作.然而, 大多数 ALD 工艺没有等离子体或使用弱的远程等离子体源. 这意味着诸如光学发射光谱 OES 等传统的原位计量技术在黑暗中迷失.由于没有强等离子源使其能够运行, 因此由于信噪比低或根本没有信号, 它们无法提供所需的信息.如果没有原位计量, 这些工艺步骤转换通常会运行固定的持续时间, 这会导致处理效率低下, 因为需要在步骤之间留出足够的余量以确保前体和反应气体不会无意中混合到腔室中. 在没有计量的情况下运行 ALD 工艺也会面临严重的生产线产量损失或工艺偏差的风险, 例如, 如果其中一种反应气体浓度波动高或低.上海伯东 Aston&trade 质谱仪可在这些非等离子体（“lights-off”）过程中提供原位计量和控制. 它可以实现快速, 化学特定的原位定量气体分析, 低至十亿分之几的水平, 提供 ALD 过程控制所需的实时数据.Atonarp Aston&trade 技术参数类型Impact-300 Impact-300DPPlasma-200Plasma-200DPPlasma-300Plasma-300DP型号AST3007AST3006AST3005AST3004AST3003AST3002质量分离四级杆真空系统分子泵分子泵隔膜泵分子泵分子泵隔膜泵分子泵分子泵隔膜泵检测器FC /SEM质量范围2-2852-2202-285分辨率0.8±0.2检测限0.1 PPM工作温度15-35“℃功率350 W重量15 kg尺寸299 x 218 x 331 LxWxH(mm)400 x 240 x 325 LxWxH(mm)Atonarp Aston&trade 质谱仪优点1. 耐腐蚀性气体2. 抗冷凝3. 实时, 可操作的数据4. 云连接就绪5. 无需等离子体6. 功能: 稳定性, 可重复性, 传感器寿命, 质量范围, 分辨率, 最小可检测分压, 最小检测极限 PP,灵敏度 ppb, 检测速率.Atonarp Aston&trade 质谱仪半导体行业应用1. 介电蚀刻: Dielectric Etch2. 金属蚀刻: Metal Etch EPD3. CVD 监测和 EPD: CVD Monitoring and EPD4. 腔室清洁 EPD: Chamber Clean EPD5. 腔室指纹: Chamber Fingerprinting6. 腔室匹配: Chamber Matching7. 高纵横比蚀刻: High Aspect Ratio Etch8. 小开口面积 0.3% 蚀刻: Small Open Area 0.3% Etch9. ALD10. ALE若您需要进一步的了解 Atonarp Aston&trade 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

公司网址：质谱机械泵减噪仪（隔音罩）订购热线：刘经理，欢迎定制采购。公 司 简 介Company profile 北京瑞元立信科技有限公司专注于实验室隔音降噪，尤其专注于质谱机械泵的隔音降噪。瑞元立信是一家专业从事现代实验室整体规划、实验室家具，质谱机械泵减噪仪生产、销售、安装及售后服务于一体的高科技企业。 公司引进德国、意大利全套进口生产线，针对不同的客户群体，结合国内外先进技术，不断优化产品结构与质量，结合客户的需求状况，不断推出创新产品。自行研发出全钢系列、钢木系列、铝木系列、全木系列等实验室家具。具备各类实验室整体规划设计经验及配套服务能力。 　面对激烈的市场竞争，瑞元立信始终坚持“客户满意，信誉至上，质量上乘，服务周到”的经营宗旨。瑞元人本着科学、务实、严谨的工作态度，把诚信作为企业生存的根本。技术革新作为企业发展的宗旨。携手广大实验室工作者共筑美好未来。 我们生产的降噪减噪仪广泛应用于各类质谱真空泵、循环水冷却机、水凉器、超声波清洗机、空气压缩机、氮气发生器等产生噪音的设备。 我们提供以下领域的解决方案：工业噪声、实验室噪声、机械噪声、环境噪声等。 实验室噪音会分散注意力，导致疲劳，使人不安和紧张，长期在噪音污染环境下工作，对您的健康损害很大。瑞元科技提供的质谱机械泵减噪仪能够非常有效的降低质谱机械泵噪音。 北京瑞元立信科技有限公司质谱机械泵隔音罩已广泛为当前主流仪器厂商（ Agilent 、Edwards、SOGEVAC、AB、Bruker、JEOL、Leco、PE、Shimadzu、Thermo、Waters等）的各类型质谱仪（ LC-MS、GC-MS、ICP-MS，QTOF-MS）配套使用，也广泛适用于其它各类高真空或空压系统的仪器（电镜、核磁共振谱仪、光电子能谱仪等）。 目前瑞元质谱机械泵隔音罩系列产品已广泛应用于出入境检验检疫，食药局、计量院，省市疾控中心，环境所，科研院所、医院质谱室、高校化学院、生物企业、茶叶企业、制药企业等各类质谱实验室，食品安全实验室，药品实验室。深得客户的认可和喜爱，一致认为我们的产品给他们提供了整洁，安静的工作环境。

Aston™ 质谱分析仪安全地减少设备停机时间预防性维护是良好晶圆厂管理与安全第一的理念支柱. 刻蚀和沉积设备需要定期脱机进行深度清洁和/或打开工艺室进行部件更换. 考虑到沉积或蚀刻工艺设备的每小时折旧和生产损失可能轻易超过 1000美元/小时, 减少设备停机时间是至关重要的. 但是, 考虑到许多工具都有高度腐蚀性的清洁气体或工艺副产物气体, 如 HCl, NF3, HBr, HF, F, Cl, 如何安全地停机维护是一个挑战.问题在打开腔室进行日常维护之前, 需要安全地清除腔室内的工艺副产品或清洁循环中的残留工艺气体, 然而,挑战在于如何确保腔室在打开之前是安全的并且没有有害残留气体. 已知的一个方法, 确保工艺室不含有害残留气体（包括由表面去吸收产生的残留气体）的方法是运行（过长）长压力循环吹扫气体. 在没有计量或反馈的情况下, 吹扫周期需要足够长以确保腔室没有有害物质, 这会导致效率低下, 周期长和设备停机时间长. 由于灵敏度和等离子体可用性的问题, 不能使用常见的计量解决方案, 例如光学发射光谱. 传统的残余气体分析仪在腐蚀性气体环境中工作时面临挑战, 这可能导致电子冲击灯丝在长吹扫周期中腐蚀和故障.上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪减少设备停机时间解决方案Aston 原位质谱仪可以进行快速, 化学特异性原位定量气体分析, 以实现准确和快速的腔室吹扫终点检测. 与典型的基于时间的清洗程序相比, 这可以节省大量的设备停机时间。 由于 Aston™ 质谱分析仪可用于加速泄漏检测和腔室老化到已知良好腔室化学指征, 因此可以实现清洁后的进一步停机.在不需要等离子体的情况下, 每秒可以采集数十个样本, 灵敏度低至 100 PPB（十亿分之几）水平. 除了基于灯丝的电子碰撞电离源外, Aston Plasma 还提供内部等离子电离能力. 双电离源支持较宽的工艺压力范围, 等离子电离允许分析较高压力下的苛刻气体, 而不会出现残留气体分析仪中常见的灯丝腐蚀问题.通过减少设备停机时间和重新调试, 可以在不到 12 个月内实现回报, 此外, Aston™ 质谱分析仪还为现场过程监控和管理提供了价值优势.Aston™ 质谱分析仪是一种具有成本效益的解决方案, 可在日常维护和后续维护后投产调试前实现快速, 安全的腔室清洗. 除了 Aston ™ 在沉积和蚀刻过程控制中提供的过程监控优势外, 还可以通过原位测量灵敏度和速度来显着减少设备停机时间.若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

BenchTOF2 飞行时间质谱为现代实验室重新定义GC–MS分析，全新的BenchTOF2质谱仪能够在单个平台上执行可靠的目标物和非目标物分析，是应对具有挑战性的传统气相色谱和全二维气相复杂应用的理想选择。全新一代BenchTOF2不仅在灵敏度、谱图质量、特异选择性、分析速度和稳定性进行了优化提升，而且在硬件和软件方面都有创新的性能改进。技术特点l 定性结果更加准确— 通过SIM级的灵敏度，高质量的质谱，卓越的选择性和智能的数据处理软件工具进行灵活组合确保定性结果准确性。l 灵敏度更高—利用全谱信息提高检测灵敏度，因此可以更加方便地检索到感兴趣的新化合物，从而在一次分析中检测到更多种类的痕量化合物。l 定量浓度范围更广—定量动态范围达到五个数量级，准确定量高浓度化合物，同时保持较低的检测下限，从而消除稀释或重复分析的需要。l 兼容性更强—BenchTOF2具有可调的快速采集速率，可实现与GC和GC×GC系统联用。l 数据采集效率高—使用获得专利的TI电离技术同时获取硬电离和软电离的质谱信息，从而在全分析工作流程中自信地识别具有挑战性的化合物(例如同分异构体)。l 分析通量更大—使用氢气作为载气提高分析效率，从而降低成本、快速投资回报、更快的色谱分离速度，并更容易在新实验室中实施。l 操作简单易于上手—BenchTOF2软件中将仪器控制，方法开发，数据分析和化学计量学功能进行图形化显示，人机交互操作简单直观，无需太多的专业培训和质谱使用经验。目标应用BenchTOF2 非常适合于那些希望使用飞行时间质谱，但不需要进行复杂培训及改变现有工作流程的实验室用户：智能、互联的工作流程

1.ChemPattern简介 ChemPattern先进化学计量学系统解决方案软件通过仪器分析与化学计量学大数据分析的紧密融合，为复杂体系解析提供一站式解决方案，可用于基于各类色谱、质谱、光谱、核磁共振数据的指纹图谱分析、代谢组学分析、非目标分析及在线过程控制等。作为目前唯一的跨分析仪器平台的增强型工作站与大数据分析系统，ChemPattern通过标准数据接口技术提供针对各类高维、高分辨分析仪器大数据的前处理及定性、定量分析功能，特别是基于海量数据可视化的多元校正、多元统计分析、回归建模、模式识别、数据挖掘及人工智能等化学计量学算法的支持。ChemPattern 2017所支持的分析仪器解决方案类型ChemPattern系统由仪器数据处理子系统、分析化学数据处理子系统、化学计量学及大数据分析子系统、大规模数据可视化表达子系统、实验室信息管理系统子系统、以及分析系统管理子系统等6部分组成。并全面符合实验室信息管理系统（LIMS）及电子数据和电子签名法案（FDA 21 CFR part 11）的规范要求。软件中各个分析仪器模块所集成的功能均颇具特色，如LC/GC模块的保留时间自动校正和数字定量勾兑系统，MS模块的质谱解卷积、DART/MS指纹图谱分析及质谱成像系统等。该套系统目前已广泛应用于临床医药、食品安全、烟草白酒、石油化工、检验检疫、环境监测、国土安全以及司法鉴定等复杂体系相关的分析领域，并为用户的生产和科研活动创造了高附加值。以新药研发领域为例，代表性客户包括中国医学科学院药物所、药用植物研究所、中国中医科学院中药研究所、中科院上海药物所等。2.分析仪器数据处理模块简介 ChemPattern所拥有的跨仪器种类的分析化学数据共平台定量分析技术，可提供包括色谱、质谱及光谱等仪器种类在内的分析化学数据的一站式处理与分析解决方案。该系统通过通用数据接口技术实现了仪器分析的湿法实验环节与数据分析的干法实验环节的无缝联接，并针对不同分析仪器的特点分别提供相应的信号处理、校正等工作站软件功能。该系统的应用同时解决了如何对分析仪器所获取的持续呈几何级增长的高维高分辨海量数据进行高效分析处理，以及不同类型及型号的分析仪器所测得数据、模型的迁移和共平台综合比对分析这两个化学计量学所关心的核心问题，并采用标准化的操作方式对各类分析仪器的复杂体系数据处理和分析全过程加以规范。2.1 ChemPattern 2017支持的分析仪器厂家及数据类型ChemPattern解决方案所支持的数据类型及仪器厂家2.2 光谱法系统解决方案 以多元校正定量分析为代表的光谱分析技术是化学计量学的重要组成。ChemPattern对以近红外为代表的光谱法数据处理提供系统支持，并充分支持复杂体系分析样品的光谱在线分析和快速无损分析功能。由左至右：1、IR Profiler近红外光谱校正功能视图；2、化学计量学通用解决方案界面示意图；3、化学计量学通用解决方案样品叠加示意图3.化学计量学算法简介 ChemPattern的化学计量学解析过程与仪器分析步骤密切相关，并完全满足开展定量分析的要求。分析过程系统集成了包括自变量筛选、数据预处理、数据降维，以及交叉验证等在内的一系列数据解析流程。各类核心算法均经过参数优化设计，易于操作掌握，通常只需点击几下鼠标即可获得详尽的交互式图表计算结果。具体功能组成如下: ● 数据预处理（自变量标准化、因变量标准化，数据降维等） ● 多元统计分析（PCA, PLS, PLS-DA, OPLS-DA, SIMCA, MANOVA等） ● 聚类分析（HCA, HCA heat-map等） ● 相似度分析（相关系数，夹角余弦，马氏距离，欧氏距离等） ● 回归建模化学模式识别（kNN, SIMCA, PLS-DA, OPLS-DA, SVM, SOM等） ● 支持向量机与人工神经网络（SVM）与人工神经网络（ANN, SOM） ● 高通量、高内涵人工智能分析与数据挖掘策略由上至下，由左至右：1、ChemPattern系统聚类分析图；2、ChemPattern自组织映射聚类图；3、ChemPattern双向系统聚类分析二维图由上至下，由左至右：1、相似度分析柱状图；2、PCA（主成分分析）得分与载荷三维散点图；3、PLS-DA(偏最小二乘判别)得分与载荷散点图；4、自变量箱状统计图；5、SIMCA（簇类独立软模式法）子模型判定限对数散点图；6、SIMCA子模型投影散点图由上至下，由左至右：1、自变量相关性趋势图；2、SOM（自组织映射人工神经网络）组分权重热图；3、SVM（支持向量机）子分类器支持向量散点图；4、SVM参数网格优化搜索结果等高线图科迈恩（北京）科技有限公司

1.ChemPattern简介 ChemPattern先进化学计量学系统解决方案软件通过仪器分析与化学计量学大数据分析的紧密融合，为复杂体系解析提供一站式解决方案，可用于基于各类色谱、质谱、光谱、核磁共振数据的指纹图谱分析、代谢组学分析、非目标分析及在线过程控制等。作为目前唯一的跨分析仪器平台的增强型工作站与大数据分析系统，ChemPattern通过标准数据接口技术提供针对各类高维、高分辨分析仪器大数据的前处理及定性、定量分析功能，特别是基于海量数据可视化的多元校正、多元统计分析、回归建模、模式识别、数据挖掘及人工智能等化学计量学算法的支持。ChemPattern 2017所支持的分析仪器解决方案类型ChemPattern系统由仪器数据处理子系统、分析化学数据处理子系统、化学计量学及大数据分析子系统、大规模数据可视化表达子系统、实验室信息管理系统子系统、以及分析系统管理子系统等6部分组成。并全面符合实验室信息管理系统（LIMS）及电子数据和电子签名法案（FDA 21 CFR part 11）的规范要求。软件中各个分析仪器模块所集成的功能均颇具特色，如LC/GC模块的保留时间自动校正和数字定量勾兑系统，MS模块的质谱解卷积、DART/MS指纹图谱分析及质谱成像系统等。该套系统目前已广泛应用于临床医药、食品安全、烟草白酒、石油化工、检验检疫、环境监测、国土安全以及司法鉴定等复杂体系相关的分析领域，并为用户的生产和科研活动创造了高附加值。以新药研发领域为例，代表性客户包括中国医学科学院药物所、药用植物研究所、中国中医科学院中药研究所、中科院上海药物所等。2.分析仪器数据处理模块简介 ChemPattern所拥有的跨仪器种类的分析化学数据共平台定量分析技术，可提供包括色谱、质谱及光谱等仪器种类在内的分析化学数据的一站式处理与分析解决方案。该系统通过通用数据接口技术实现了仪器分析的湿法实验环节与数据分析的干法实验环节的无缝联接，并针对不同分析仪器的特点分别提供相应的信号处理、校正等工作站软件功能。该系统的应用同时解决了如何对分析仪器所获取的持续呈几何级增长的高维高分辨海量数据进行高效分析处理，以及不同类型及型号的分析仪器所测得数据、模型的迁移和共平台综合比对分析这两个化学计量学所关心的核心问题，并采用标准化的操作方式对各类分析仪器的复杂体系数据处理和分析全过程加以规范。2.1 ChemPattern 2017支持的分析仪器厂家及数据类型ChemPattern解决方案所支持的数据类型及仪器厂家2.2 色谱法系统解决方案ChemPattern为常用色谱法提供种类丰富的信号处理及校正功能，其部分特点如下： ● 色谱峰保留时间校正功能提供对色谱峰保留时间漂移和峰重叠情况进行高效准确的自动与手动校正； ● 含量测定具备外标法校正因子和分组校正等功能，适用于大样本集复杂体系样品的多组分含量测定； ● 多元的共有模式建模参数确保整个共有峰筛选过程完全以统计学方式进行。由上至下，由左至右：1、LC Profiler LCxLC数据3D视图；2、LC Profiler样品保留时间校正视图；3、LC Profiler加校正因子的外标法含量测定；4、LC Profiler样品共有峰归属视图；5、TLC Profiler薄层色谱图3D视图；6、TLC Profiler样品数字扫描轮廓图3.化学计量学算法简介 ChemPattern的化学计量学解析过程与仪器分析步骤密切相关，并完全满足开展定量分析的要求。分析过程系统集成了包括自变量筛选、数据预处理、数据降维，以及交叉验证等在内的一系列数据解析流程。各类核心算法均经过参数优化设计，易于操作掌握，通常只需点击几下鼠标即可获得详尽的交互式图表计算结果。具体功能组成如下: ● 数据预处理（自变量标准化、因变量标准化，数据降维等） ● 多元统计分析（PCA, PLS, PLS-DA, OPLS-DA, SIMCA, MANOVA等） ● 聚类分析（HCA, HCA heat-map等） ● 相似度分析（相关系数，夹角余弦，马氏距离，欧氏距离等） ● 回归建模化学模式识别（kNN, SIMCA, PLS-DA, OPLS-DA, SVM, SOM等） ● 支持向量机与人工神经网络（SVM）与人工神经网络（ANN, SOM） ● 高通量、高内涵人工智能分析与数据挖掘策略由上至下，由左至右：1、ChemPattern系统聚类分析图；2、ChemPattern自组织映射聚类图；3、ChemPattern双向系统聚类分析二维图由上至下，由左至右：1、相似度分析柱状图；2、PCA（主成分分析）得分与载荷三维散点图；3、PLS-DA(偏最小二乘判别)得分与载荷散点图；4、自变量箱状统计图；5、SIMCA（簇类独立软模式法）子模型判定限对数散点图；6、SIMCA子模型投影散点图由上至下，由左至右：1、自变量相关性趋势图；2、SOM（自组织映射人工神经网络）组分权重热图；3、SVM（支持向量机）子分类器支持向量散点图；4、SVM参数网格优化搜索结果等高线图科迈恩（北京）科技有限公司

上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪无等离子体设计,可以实现快速, 化学特定的原位定量气体分析, 与光学发射光谱 OES 对比, Aston™ 质谱仪 的 OA% 灵敏度显示为 0.25%, 适用于半导体工艺中蚀刻计量控制, ALD, 3D-NAND 和新兴的堆叠式 DRAM.半导体蚀刻工艺挑战日益增加蚀刻是半导体制造中常用的工艺之一. 介电蚀刻用于形成绝缘结构, 触点和通孔, 多晶硅蚀刻用于在晶体管中创建栅极, 金属蚀刻去除材料以显示电路连接图案并钻穿硬掩模.连续蚀刻铝 Al, 钨, 铜 Cu,钛 Ti 和氮化钛 TiN 等工艺金属具有挑战性, 因为许多金属会形成非挥发性金属卤化物副产品（例如六氯化钨 WCl6）, 这些副产品会重新沉积在蚀刻侧壁上, 导致成品率降低（通过微粒污染或沉积材料导致短路）.随着半导体行业不断缩小关键特征尺寸并采用垂直扩展 (如 3D-NAND 存储器和全环绕栅极先进技术节点), 各种新的蚀刻挑战已经出现. 这些包括在晶圆上蚀刻更小的特征, 高展弦比 HAR 沟槽蚀刻 (具有小的开放面积百分比- OA%), 以及在新兴的非挥发性存储器和高 k介质中蚀刻金属闸极, 稀土金属等新材料. 对于先进的纳米级工艺, 如蚀刻到硅介质和金属薄膜, 选择性处理, 如原子层蚀刻 ALE 一次去除材料的几个原子层. ALE 提供了比传统蚀刻技术更多的控制. 对于 3D-NAND 和先进 DRAM 来说, 向批量生产过渡的重大挑战包括解决导体蚀刻困难的要求, 满足积极的生产斜坡和实现所需的吞吐量, 以推动成本效益.上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪提供高性能, 嵌入式和可靠的原位定量分子气体计量已经成为验证工艺室和持续监测工艺化学过程的关键工具, 确保生产环境中的高产率和更大吞吐量.Aston™ 质谱分析仪提供全腔室解决方案使用上海伯东 Atonarp Aston™ 质谱仪通过实时, 定量和精确的分子传感器来解决半导体新兴蚀刻工艺技术相关的关键挑战. 通过解决传感器耐久性, 灵敏度, 匹配, 系统集成和易用性等方面的挑战, 日本 Atonarp Aston™ 质谱仪升级了传统的气体分析计量方法. Aston 是一种全室解决方案, 用于在各种工艺步骤中实时监测前体, 反应物和副产物.这些包括基准室和过程指证, 腔室清洁, 过程监测 (包括存在腐蚀性气体), 颗粒沉积和气体污染物凝结. 小的占地面积和灵活的通信接口允许在室内安装和集成到过程设备控制系统. 为了集成到半导体工艺工具中, Aston 质谱分析仪的高性能和可靠性设计用于生产晶圆的大批量生产过程控制.Aston™ 质谱分析仪半导体蚀刻计量控制半导体行业正从二维结构的扩展转向复杂三维结构的挑战性要求. 传统的离线晶圆测量已不足以实现性能和良率目标, 原位蚀刻测量传统上缺乏生产所需的鲁棒性和可重复性. Aston™ 质谱分析仪的结构中嵌入了专利技术, 使其具有卓越的分析和操作性能. 为了满足过程控制和跨工厂生产工具匹配的严格要求, Aston 从头开始设计, 高运行时间和低维护的吞吐量, 长期信号稳定性和可重复性.为了承受腐蚀和沉积过程的恶劣环境, Aston™ 引入了两个的功能: 等离子电离和自清洁 (ReGen™模式). 等离子体电离消除了由于与腐蚀性气体(如NF3, CF4, Cl2)的反应而导致的灯丝降解. 此外, 除去(正硅酸四乙酯) TEOS 等颗粒和蒸汽污染物沉积, 同时定期进行室内清洁循环, 延长了 Aston™ 质谱仪的使用寿命. ReGenTM 模式使仪器能够使用高能等离子离子清洗自身, 通过去除在膜沉积过程中可能发生在传感器和腔室壁上的沉积. 结合这两个功能, 传感器的灵敏度可维持在数百个RF(射频)小时的操作. Aston质谱仪支持的基于测量的控制, 有可能延长清洗间隔 MTBC 的平均时间. MTBC 的增加意味着工具可用性和长期吞吐量的增加. 除了等离子电离器(用于工艺), 传感器还配备了传统的电子冲击 EI 灯丝电离器, 用于基线和校准.分子传感器的分析级是使用微米级精密双曲电极的四极杆. 由高度线性射频(RF)电路驱动, Aston 质谱的HyperQuad 传感器在 2到300 amu的质量范围内具有更高的分析性能.Aston™ 质谱分析仪技术参数参数值质量分辨率0.8u质量数稳定性0.1u灵敏度(FC / SEM)5x10-6 / 5x10-4 A/Torr最低可检测的部分压力(FC / SEM)10-9 / 10-11 Torr检测极限10 ppb最大工作压力1X10-3 Torr每 u 停留时间40 ms每u扫描更新率37 ms发射电流0.4 mA发射电流精度0.05 %启动时间5mins离子电流稳定 ±1%浓度的准确性 1%浓度稳定±0.5%电力消耗350w重量13.7kg尺寸400 x 297 x 341mm高展弦比 HAR 3D 蚀刻随着多模式技术和 3D器件结构的出现, 高度密集的蚀刻和沉积过程驱动了计量需求. 3D多层膜栈, 如 NAND 存储架构, 代表复杂的, 具有挑战性的蚀刻过程, 具有关键的蚀刻角度, 统一的通道直径和形状要求, 尽管高蚀刻纵横比通道 100:1 是常见的. 对于 3D-NAND, 关键导体蚀刻过程包括阶梯蚀刻(下图)和用于垂直通道和狭缝的 HAR 掩模打开. 通过硝酸硅和氧化硅交替层蚀刻需要高速定量终点检测. 对于 DRAM, 蚀刻过程包括 HAR 门, HAR 沟槽和金属隐窝. 对于阶梯蚀刻, 关键是在整个 3D堆栈的每个介质膜对的边缘创建等宽的“步骤”, 以形成阶梯形状的结构. 在器件加工过程中, 这些步骤的大量重复要求蚀刻高吞吐量和严格的过程控制.多功能现场气体计量需要在一个工具中执行多种监测功能:• 检测和量化污染, 交叉污染, 气体杂质和工艺室内的工艺化学• 评估已开发的蚀刻过程在生产工具 / 运行的复杂功能上的性能• 测量刻蚀后的清洁 (包括先进的无晶圆自动清洁 WAC) 作为腔条件对于消除工艺漂移和确保可重复性性能是至关重要的• 快速准确的蚀刻端点检测 EPD, 通过等离子体或气体监测, 因为这是一个关键的控制功能. 举例包括一氧化碳 CO 副产物在介电蚀刻中下降或氯 Cl 反应物在多晶硅和金属蚀刻端点上升.• 全面的实时计量数据, 允许过程等离子体和反应物的动态腐蚀控制, 以管理要求的腐蚀剖面Aston™ 质谱分析仪无等离子体终点检测虽然光学发射光谱 OES 已被广泛用于蚀刻 EPD, 但低开放面积 OA 和 HAR 设计的趋势使其在许多蚀刻任务中无效. OES 技术需要等离子体'开'和发光物种. 随着昏暗和远程等离子体越来越多地用于 3D设备和原子水平蚀刻 ALE 工艺, 需要更多敏感的数据和分析技术来实现迅速和确定的 EPD. 此外, 脉冲等离子体通常用于管理 HAR 和 低 OA% 工艺的蚀刻剖面, 这使得 OES 对于 EPD 来说是一个不切实际的解决方案. 在3D 结构中, 多层薄膜和多个接触深度阻碍了每一行触点到达底部时端点的光学发射信号的急剧步进变化其他 OES 限制包括:• 在电介质蚀刻中, 在 OA 5% 的模式上进行 EPD一直具有挑战性, 因为 OES 在低浓度下具有低信噪比.在高压Si深蚀刻(例如博世工艺)中, 要求 OA% 的 EPD低于 0.3%, OES 中较大的背景噪声水平抑制了对发射种数量的任何变化的检测.• 在金属蚀刻中, OA% 可能低于10%, 这取决于所涉及的互连尺寸. 对于接触和通过蚀刻, OA 可以在0.1-0.5%之间或更低, 这取决于所涉及的特征的大小. 在钨 W 蚀刻的情况下, 随着 OA的减小, 氯 Cl 反应物的消耗减少, 由于材料运输到 HAR 蚀刻特征, 蚀刻趋于放缓. 这两个因素都降低了反应气的消耗率. 因此, 由于等离子体中反应物的耗尽, 很难看到在终点处 OES信号的显著变化.Aston™ 质谱仪可以利用蚀刻反应物和 EPD 的副产物. 此外, Aston 能够在小的, 有限体积的传感器上运行周期性清洗, 以保持其性能(灵敏度), 在延长晶圆运行次数的情况下获得更大的正常运行时间. 然而, OES 要求在腔室上有一个需要保持清洁的访问窗口，以获得足够强度的稳定信号。通常，加热石英窗用于减缓工艺产品的堆积. 使用 Aston™质谱分析仪，在低浓度下的检测不受等离子体发射的背景光谱的影响, 也不受射频功率脉冲期间等离子体强度波动的影响.图 3a/3b 显示了 CO+和 SiF3 +的副产物 OA%下降到0.25%的电介质腐蚀EPD数据数据清楚地显示了线性行为和在低浓度下的检测不受等离子体发射的背景光谱影响. Aston 质谱的 ppb 灵敏度是针对 0.1%以下的 OA性能.原子级蚀刻 ALE在三维结构中, ALE 过程中的逐层去除需要脉冲射频电源来控制自由基密度和较低的离子能量, 以减少表面损伤和保持方向性. 在这样的光源中, 等离子体的整体光强较低, 并表现出波动幅度. 通常等离子体离晶圆区很远(距晶圆区25厘米), 而且等离子体激发的副产物很少, 使得光学测量不切实际.在 ALE中, 由于每个周期都是自我限制的, 端点检测可能不那么重要. 然而, 在缺乏气体分析的情况下, 工艺工程师对监测腔室和工艺健康状况“视而不见”, 因为无法看到化学状态, 特别是在工艺步骤 (吸附/净化/反应/净化) 之间过渡时的动态状态, ALE 的自限性并不能使它不受过程漂移的影响. 此外, 由于 ALE 不是基于等离子体的, 因此过程中的化学变化不一定可以通过等离子体监测检测到.有一种误解, 认为 ALE 技术实际上是一次一个原子层 相反, 它们每循环的去除/沉积量可能比单分子膜多一点(或少一点). 由于真空泵性能, 晶圆温度或离子轰击能量 (电压) 的变化分别导致表面饱和度和表面反应性的变化, 工艺移位(Å/周期的变化)可能发生.在 ALE (下图)中,由于等离子体的使用不一致, 化学监测方面的差距就不那么明显了. 在这种情况下, Aston™ 质谱仪具有以下优点:• 在每个工艺步骤中建立一个腔室化学状态的指证. 这可以参照其自身的正常行为, 也可以参照标准腔• 描述和监控与化学变化相关的动态过程中, 从一个步骤过渡到下一个步骤• 监测在 ALE 循环第一步之后从系统中清除吸附物质的时间. 等离子体通常用于产生吸附物质(自由基), 但它是在远离晶圆片的地方产生的• 监测 ALE 循环第二步反应产物的变化. 等离子体光强通常较低, 因为它使用了低占空比的脉冲射频• 监测反应产物和反应物在ALE循环第二步后被净化的时间结论原子级蚀刻只能使用像上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱仪这样的分子传感器进行真正的测量和监测. 它的高灵敏度, 速度和对等离子体强度变化的低敏感性产生可靠的定量测量, 即使在低浓度的反应物和副产物, 具有低于1% 水平的高精度, 可以监测微妙的过程漂移和过程变化效应, 提供了可用于机器学习模型的见解.利用其高扫描速度, 通过监测反应产物减少的时间来实现步进时间优化, 因为它是表面反应活性变化的指示, 增加了总体吞吐量.ALE 是先进的蚀刻技术, 上海伯东 Aston 质谱仪为 ALE 提供了先进的化学计量技术, 可以测量和控制反应及其持续时间, 为大批量生产提供了可靠的解决方案.若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

日本 Atonarp Aston™ 质谱仪对小开口区域的蚀刻有更高的灵敏度随着特征尺寸和几何形状的不断缩小, 半导体工艺制造商面临着新的挑战. 对于高纵横比 3D-NAND 和关键尺寸的高级节点逻辑触点, 可靠地检测远低于 1%的开口区域的端点对产量和整体生产力至关重要.随着接触宽度随着工艺节点的减小而减小, 接触蚀刻的开口面积减小得更快，因为面积尺寸与接触宽度的平方成反比. 此外, 触点的电阻会负向增加, 从而影响晶体管的电气性能.关键的是, 需要通过场氧化物（二氧化硅）进行接触蚀刻的端点检测 EPD, 以尽可能降低接触电阻, 并确保与晶体管源极或漏极的良好电接触, 但不会出现过度蚀刻，从而导致栅极区域短路或基片损坏。更复杂的接触蚀刻是非平面晶圆拓扑结构，导致不均匀蚀刻和最终电气测试时的“甜甜圈”或“边缘”屈服模式.对于 3D NAND, 关键蚀刻工艺包括用于垂直沟道的小开口面积阶梯蚀刻和高纵横比开口面积，以及通过100层交替二氧化硅（Si02）和氮化硅（Si3N4）层的狭缝蚀刻. 蚀刻 100个交替层需要高速定量终点检测. 高灵敏度也是至关重要的, 因为多层阶梯式蚀刻减少了用于获得急剧阶梯变化终点的蚀刻副产物的丰度, 因为随着阶梯式蚀刻到达底部, 触点行数减少.上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱仪凭借高灵敏度提供解决方案为了确保一致和优化的接触蚀刻, 需要高灵敏度的原位分子诊断来提供蚀刻副产物的实时测量和量化, 并能够检测到明确定义的终点. 随着接触开口面积 OA% 的减少, 诸如光学发射光谱 OES 等传统计量解决方案缺乏准确检测蚀刻终点的灵敏度（低信噪比 SNR 比）. Aston™ 质谱仪 的 OA% 灵敏度显示为 0.25%, 其检测限比 OES（LOD 约 2.5%）高出一个数量级. 此外, Aston™内部产生的基于等离子体的电离源允许它在存在腐蚀性蚀刻气体的情况下工作, 无论处理室中是否存在等离子体源.Aston™ 质谱仪能够进行准确且可操作的端点检测, OA% 是传统 OES 计量解决方案的一个数量级（1/10）. Aston™ 质谱仪解决方案适用于具有高蚀刻吞吐量和大量重复相同步骤的工艺中的实时 EPD. 这是通过高信噪比 SNR 实现的, 从而避免了 OES 设备中常见的模棱两可和复杂的多变量分析算法.小开口面积 OA% (高纵横比 HAR) 蚀刻使用 Aston 的高灵敏度 (SEM) 提供可操作的数据, 以在小开口区域蚀刻实现终点检测Aston 0.3% OA% EPD 实现多种化学蚀刻: x10次OES 和 RGA 缺乏实现小开口区域蚀刻的灵敏度Aston 质谱在使用或不使用等离子的情况下, 均可工作Atonarp Aston™ 质谱仪优点1. 耐腐蚀性气体2. 抗冷凝3. 实时, 可操作的数据4. 云连接就绪5. 无需等离子体6. 功能: 稳定性, 可重复性, 传感器寿命, 质量范围, 分辨率, 最小可检测分压, 最小检测极限 PP,灵敏度 ppb, 检测速率.Atonarp Aston™ 质谱仪半导体行业应用1. 介电蚀刻: Dielectric Etch2. 金属蚀刻: Metal Etch EPD3. CVD 监测和 EPD: CVD Monitoring and EPD4. 腔室清洁 EPD: Chamber Clean EPD5. 腔室指纹: Chamber Fingerprinting6. 腔室匹配: Chamber Matching7. 高纵横比蚀刻: High Aspect Ratio Etch8. 小开口面积 0.3% 蚀刻: Small Open Area 0.3% Etch9. ALD10. ALE若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

ZLS-23B 是成都仪器厂“正流原理”的氦质谱检漏仪，仪器真空系统采用油扩散泵抽空机组。 主要技术参数： 最小可检漏率：优于2*10-11Pa.m3/s常用时启动时间：约1h。反应时间： 不大于3s质谱室允许工作的最高压强：1*10-2Pa检漏接口：KF25仪器的轮廓尺寸： 950*600*570 mm3仪器的重量： 约65Kg 主要配置： 油扩散泵（成都仪器厂） 1套 前级泵（浙江真空泵） 1台 校准漏孔 （计量证书） 1只 质谱分析室（成都仪器厂） 1套 控制电路（成都仪器厂） 1套 灯丝（成都仪器厂） 50只 喷枪 （成都仪器厂） 1只 仪器的使用条件 境温度：＋5℃～40℃环境相对湿度：小于80％供电电源：交流220V，功率约为2Kw （用户配置稳压器最佳）仪器附近无强电磁场干扰

为现代实验室重新定义GC–MS分析 全新的BenchTOF2质谱仪能够在单个平台上执行可靠的目标物和非目标物分析，是应对具有挑战性的传统气相色谱和全二维气相复杂应用的理想选择。全新一代BenchTOF2不仅在灵敏度、谱图质量、特异选择性、分析速度和稳定性进行了优化提升，而且在硬件和软件方面都有创新的性能改进。BenchTOF2 技术特点：定性结果更加准确— 通过SIM级的灵敏度，高质量的质谱，卓越的选择性和智能的数据处理软件工具进行灵活组合确保定性结果准确性。灵敏度更高—利用全谱信息提高检测灵敏度，因此可以更加方便地检索到感兴趣的新化合物，从而在一次分析中检测到更多种类的痕量化合物。定量浓度范围更广—定量动态范围达到五个数量级，准确定量高浓度化合物，同时保持较低的检测下限，从而消除稀释或重复分析的需要。兼容性更强—BenchTOF2具有可调的快速采集速率，可实现与GC和GC×GC系统联用。数据采集效率高—使用获得专利的TI电离技术同时获取硬电离和软电离的质谱信息，从而在全分析工作流程中自信地识别具有挑战性的化合物(例如同分异构体)。分析通量更大—使用氢气作为载气提高分析效率，从而降低成本、快速投资回报、更快的色谱分离速度，并更容易在新实验室中实施。操作简单易于上手—BenchTOF2软件中将仪器控制，方法开发，数据分析和化学计量学功能进行图形化显示，人机交互操作简单直观，无需太多的专业培训和质谱使用经验。目标应用BenchTOF2 非常适合于那些希望使用飞行时间质谱，但不需要进行复杂培训及改变现有工作流程的实验室用户：

上海伯东日本 Atonarp Aston™质谱仪设备与工艺协同优化 EPCO: 380亿美元的制造优化机会先进的工艺需要设备和工艺协同优化 EPCO. 麦肯锡公司 McKinsey & Co. 在2021年发表的一篇论文表明, 利用人工智能 AI 和机器学习 ML 进行半导体制造优化, 通过提高产量和吞吐量, 有望节省380亿美元的成本.麦肯锡强调, 帮助企业实现这些好处的干预点是调整工具参数, 使用当前和以前步骤的实时工具传感器数据, 使 AI/ML 算法优化工艺操作之间的非线性关系.成功部署 AI/ML 的关键是可操作的实时数据. 上海伯东 Aston™ 质谱仪的原位实时分子诊断和云连接数据是实现这一能力的关键技术, 从而解锁半导体设备与工艺协同优化的潜力.问题随着工艺节点的缩小, 影响工艺良率的新变量出现, 挑战了已建立的 Copy Exactly！ 方法论. 其中一些可能影响工艺性能的关键变量包括局部虚拟真空泄漏, 细微的反应气体分压变化, 由于泵送性能变化导致的晶片表面饱和, 由于晶片温度变化导致的表面反应性, 腔室清洁终点和腔室老化曲线.其他挑战, 如层间粘附, 300mm 晶圆机械应力, 新的原子级沉积和蚀刻化学, 特殊的低电阻接触和填充金属, 严格的交叉污染协议和提高吞吐量, 都需要更深入地了解工艺和设备的相互作用, 优化诸如此类的先进工艺现在需要更高精度的计量工具, 增加了 Copy Exactly! 方法学协议的原位分子复杂性.上海伯东日本 Atonarp Aston™质谱仪提供设备与工艺协同优化解决方案: 原位,实时数据半导体过程控制 FAB 环境中的数据主要分为三种类型:1. 在工艺工具上实时获取的现场数据2. 处理步骤后测量结果的在线数据（通常立即）3. 参数或 Fab 后数据（用于晶圆生产线良率和晶圆出货验收标准）此外, 这三个主要数据可以进一步分为三个子类型1. 目标数据, 即作为配方一部分的工具所针对的目标, 例如, 目标温度: 327 °C, 目标 SiF4 摩尔浓度: 100 mol/l2. 测量数据, 即在给定情况下测量的数据, 例如, 测量温度 9 °C, 实际 CF4 摩尔浓度: 0.097 mol/l3. 信息数据, 例如晶圆批号: 8F2342G, 设备序列号和腔室: 32FF4567-4在分子水平上测量原位实时数据可以真正洞察过程是如何设置和进行的, 提供丰富, 可操作和有影响力的数据. 反应物, 副产物和分压浓度可以被识别和量化, 允许动态过程控制, 以确保对给定过程模块在运行到运行, 腔室到腔室, 工具到工具之间进行严格的平均和标准偏差控制 -工具, 甚至站点到站点. 管理整体复杂的半导体工艺控制和生产线良率首先要严格控制各个工艺步骤, 并确保低可变性和严格的统计工艺控制 SPC.上海伯东日本 Atonarp Aston™质谱的设计初衷是为了满足原位分子分析的需求, 从而实现 EPCO, Aston 强大的实时原位分子传感器解决方案具有许多先进的性能优势, 包括:• 准确的实时终点检测• 逐次运行和实时 EPCO• 参数调整• 机器学习, 人工智能、• 过程统计过程控制和偏差识别• 生产线良率根本原因分析• 优化的预防性维护• 跟踪重要工具或流程Aston™ 质谱仪特点应用1. 耐腐蚀性气体2. 抗冷凝3. 实时, 可操作的数据4. 云连接就绪5. 无需等离子体6. 功能: 稳定性, 可重复性, 传感器寿命, 质量范围, 分辨率, 最小可检测分压, 最小检测极限 PP,灵敏度 ppb, 检测速率.1. 介电蚀刻: Dielectric Etch2. 金属蚀刻: Metal Etch EPD3. CVD 监测和 EPD: CVD Monitoring and EPD4. 腔室清洁 EPD: Chamber Clean EPD5. 腔室指纹: Chamber Fingerprinting6. 腔室匹配: Chamber Matching7. 高纵横比蚀刻: High Aspect Ratio Etch8. 小开口面积 0.3% 蚀刻: Small Open Area 0.3% Etch9. ALD10. ALE若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

Clin-TOF II 飞行时间质谱系统作为国内最早推出MALDI-TOF MS的本土系列品牌，毅新质谱的Clin-TOF I、 Clin-ToF II先后于2014年、2016年获得CFDA医疗器械认证，在国内有极强的先发优势，拥有仪器+试剂+软件+数据库的完整产品线。Clin-TOF II具有较高的灵敏度和分辨率，实现了可以在一台仪器上同时进行基因组、微生物组、蛋白多肽组和糖基组等多应用领域检测的重大突破，技术完全达到国际领先水平。2017年，毅新基于Clin-ToF II核酸应用平台开发出了一系列新的产品、检测项目及科研服务，配合核酸质谱检测灵敏度高、稳定性好等特点，为临床基因检测提供了新的思路和方法。Clin-TOF II性能特点正离子模式和负离子模式，扩大被分析样品种类；离子偏转技术，扫除不想要的分子量，延长检测器寿命；延时脉冲技术，分辨率大大提高；自校准功能，更准确的测量数据；384 孔靶板，表面疏水性处理，高信噪比，高通量；采用 60Hz 激光器，采样时间短，20 秒完成一个点。 Clin-ToF II核酸应用平台 应用方向1、单核苷酸多态性检测2、基因突变检测3、DNA甲基化检测4、mRNA加帽检测5、耐药基因检测6、8重呼吸道疾病病原菌检测 核心产品及服务项目 1、耳聋相关基因检测 可对耳聋相关突变位点进行检测，从而及早对遗传性耳聋患者或高风险人群进行干预与治疗，有效避免药物性及跌倒性等耳聋的发生。 临床意义：耳聋是最常见的出生缺陷之一，我国新生儿严重听力障碍发生率为1%-3%，遗传因素导致的耳聋约占60%左右。正常人群中有5%—6%携带耳聋基因突变，80%以上的聋儿是由听力正常的父母所生。传统听力筛查有缺陷，只能筛查出先天性耳聋，无法检出药物性耳聋及迟发性耳聋。毅新质谱耳聋相关基因检测可在飞行时间质谱检测平台上在一个反应体系内，对耳聋相关突变位点进行检测，弥补了传统听力筛查的不足，在第一时间发现耳聋易感基因携带者及迟发型听力受损儿童，明确病因，及早采取干预措施，有效地预防耳聋的发生。2、MTHFR、MTRR、VDR基因检测可在一次实验一个反应体系内，对MTHFR、MTRR基因及VDR基因5个位点的基因型进行检测，叶酸和钙双覆盖指导补充量。临床意义：孕妇补充叶酸和维生素D十分必要，但是叶酸和维生素D补充过多或过少都不利于孕妇和胎儿健康。科学地补充叶酸和维生素D，关键在于找到最适合自身的剂量。每个人对叶酸和维生素D的吸收、利用能力不同，因此每个人最适合的补剂量不同。人体对叶酸和维生素D的吸收利用能力与基因密切相关。毅新质谱MTHFR、MTRR、VDR基因检测通过检测叶酸和维生素D代谢通路中的关键基因位点，得知孕妇对叶酸和维生素D的吸收利用能力，从而科学指导叶酸和维生素D补充剂量。3、高血压基因检测可对五大类降压药物相关位点（利尿剂、β受体阻滞剂、钙通道拮抗剂(CCB)，血管紧张素抑制剂(ACEI)和血管紧张素II受体阻滞剂(ARB)）和叶酸代谢相关的MTHFR、MTRR 基因进行检测。我国成人高血压的患病率高达32.5%，治疗率为25%，控制率仅为6%。不合理用药导致高血压控制不良，并导致心、脑、肾产生不可逆的损伤，为患者带来极大的经济和健康负担。毅新高血压芯片涵盖高血压治疗药物及叶酸相关位点，检测更全面，检测灵敏度和特异性高；通过一个反应体系，可同时对12个位点进行检测，显著降低检测成本，缩短了实验周期。4、氯吡格雷精准用药基因检测可在一个反应体系内检测CYP2C19*2、CYP2C19*3、CYP2C19*4、CYP2C19*5、CYP2C19*17、ABCB1C3435T共6个位点的基因型，为临床医生个体化用药提供参考。抗血小板药物（氯吡格雷）是心血管疾病治疗的基石，然而大量的临床数据证明，4%-30%的患者却在治疗期间出现氯吡格雷药效下降、甚至氯吡格雷抵抗，导致心源性死亡、缺血性脑卒中、心肌梗死及血栓等不良心血管事件发生。对于正在或考虑接受氯吡格雷抗血小板治疗的患者，国家卫计委建议进行CYP2C19和ABCB1基因检测，以预先判断患者对氯吡格雷的代谢速率类型和生物利用度，指导临床建立精准的抗血小板治疗方案，减少心血管不良事件的发生。5、循环肿瘤DNA（ctDNA）精准基因检测毅新循环肿瘤DNA（ctDNA）精准基因检测，通过飞行时间质谱平台对肿瘤相关基因靶向药物敏感基因突变位点进行检测，为临床治疗方案的确定提供指导，具有所需样本量少、检测灵敏度高、操作简便、检测样本通量灵活等优势。核心优势 1、无需采用荧光标记，直接检测核酸分子量2、精准：SNP金标准3、多位点：可以检测5-200位点4、快速：质谱检测用时小于1分钟/样本5、高灵敏度：灵敏度＜3个拷贝6、样品用量少：＜10ng DNA7、野生/突变检出限：0.1% Clin-ToF II微生物鉴定平台 在科技部国家重大专项的支持下，由军事科学院牵头，毅新与国家疾控中心、协和医院、301医院、302医院、中科院微生物所等多家权威单位合作，历时五年，共同建立了强大的微生物飞行时间质谱数据库，配合独创的鉴定算法及“非线性拟合系统生成”建库算法，为鉴定结果的准确、快速、稳定提供保障，同时可结合医院LIS系统，实现鉴定本地化，及时为临床提供报告。此外，毅新血培养阳性病原菌飞行时间质谱鉴定，可直接提取血培养阳性标本上机鉴定，比传统方法二级报告至少缩短一天时间，大大提高了血流感染病人的存活率。而通过B族链球菌质谱检测对B族链球菌同时进行鉴定和验证，可在4小时左右为围产期妇女的产前筛查提供准确结果，为临床诊断提供有力的支持和科学依据。Clin-ToF II蛋白多肽检测平台MALDI-TOF是蛋白质多肽研究的常用平台，其多肽指纹图谱技术可通过对比不同疾病组间的峰图建立检测模型，并通过模型对样本进行分类。该技术不仅在科研领域广泛应用，在临床诊疗方面也具有极大的开拓空间。毅新是国内少数拥有通过检测血清多肽进行化疗药物疗效预测专利技术的企业之一。目前，毅新正与中国医学科学院肿瘤医院、北京大学肿瘤医院、301医院等多家医院开展基于此技术的多中心临床合作，造福更多患者。

3D NAND 工艺通过堆叠存储单元, 提供更高的比特密度, 上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪适用于先进半导体工艺（如沉积和蚀刻）所需的定量气体分析. 沉积应用中: 实时过程气体监控，以驱动自动化工具调整以实现过程控制, 沉积步骤之间的终点检测, 实现层的化学计量工程 蚀刻应用中: 以 ppb 为单位测量的工艺气体和副产品, 启用端点腔室清洁.3D NAND 工艺概述工艺步骤 堆叠沉积: 交替氧化物（蓝色）和氮化物（绿色）薄膜沉积（每个堆叠 200 对） 通道蚀刻: 沉积硬掩模, 形成开口, 高纵横比通道贯穿所有层（每个晶片1 万亿个孔） 阶梯蚀刻: 字线的接触焊盘是使用产生阶梯结构的受控蚀刻来创建的. ASTON 优势 均匀的厚度对电气性能至关重要. Aston™ 质谱分析仪可实现厚度控制, 层定义和化学计量工程. 高纵横比通道孔需要从上到下完整且均匀, 没有弯曲或扭曲. Aston™ 质谱能够在腔内测量蚀刻反应物. 蚀刻轮廓控制精度（埃）. 蚀刻深度能力（微米）.Aston™ 质谱仪通过动态测量化学物质来实现蚀刻 工艺步骤 狭缝蚀刻: 沉积硬掩模层, 形成硬开口图案, 蚀刻狭缝以分离通道孔列. 这将创建一个存储单元阵列. 字线沉积: 在一些 3D NAND 方案中, 去除氮化物层, 然后使用由内向外的原子层沉积工艺（紫色）创建钨字线. 晶圆上最终 3D NAND 结构的横截面 ASTON优势 Aston™ 质谱仪通过连续测量反应物来实现蚀刻的均匀性和精度. 去除氮化层并填充钨. Aston™ 质谱仪实现了分子水平的控制. 来源: Lam Research: 3D NAND - Key Process Steps (2016) url: https://www.youtube.com/watch?v=hglK1cf3meM Aston™ 质谱仪优势ppb 级灵敏度的高速采样非常适合高纵横比的 3D 结构耐腐蚀性气体, 坚固紧凑易于集成到工具平台中沉积应用中: 实时过程气体监控，以驱动自动化工具调整以实现过程控制, 沉积步骤之间的终点检测, 实现层的化学计量工程蚀刻应用中: 以 ppb 为单位测量的工艺气体和副产品, 启用端点腔室清洁 Atonarp Aston™ 质谱分析仪技术参数类型Impact-300Impact-300DPPlasma-200Plasma-200DPPlasma-300Plasma-300DP型号AST3007AST3006AST3005AST3004AST3003AST3002质量分离四级杆真空系统分子泵分子泵隔膜泵分子泵分子泵隔膜泵分子泵分子泵隔膜泵检测器FC /SEM质量范围2-2852-2202-285分辨率0.8±0.2检测限0.1 PPM工作温度15-35“℃功率350 W重量15 kg尺寸299 x 218 x 331 LxWxH(mm)400 x 240 x 325 LxWxH(mm)若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

全二维气相色谱—飞行时间质谱联用仪Comprehensive Two-Dimensional Gas Chromatography with Time-of-Flight Mass Spectrometer继4D大行于世后，BT4D代表行业水平新标杆！GCxGC技术结合Pegasus BT飞行时间质谱让您轻松面对复杂样品的分析。无需再受限于传统的两维度分析，BT4D系统提供了更完整的四个维度的分析。拥有BT4D，您将可以在平时GCMS两三百结果的样品中发现标记成千上万个未发现的化合物。功能强大、简单易用的ChromaTOF软件，海量数据的自动化定性定量批处理能力，让分析工作从所未有的简单，极大提升您的效率和产出。 Pegasus BT 4D 通过将我们的Pittcon金奖产品的升级换代台式 Pegasus BT 与行业金标准的高性能 GCxGC 调制系统相结合，大大提高了灵敏度、通量和数据量。 这款组合使 Pegasus BT 4D 能够在需要最佳灵敏度的情况下检测具有挑战性的样品。 独特而强大的软件和硬件功能简化了定量分析，同时也极大地使 GCxGC 易于使用和掌握。 金标准的两级四喷口热调制器系统为分析最复杂样品的提供市场上最高的灵敏度，广谱高速全采集，明察秋毫无遗漏！ 我们新的免消耗电制冷调制器、流路流量调制器系统对于那些希望进入多维世界用户来说提供了更多的选择。 业内领先的色谱分离度和峰容量 集GC、调制器、飞行时间质谱和自动进样器的集成一体化，商业化整机 全面的目标物定量分析 自动峰识别和保真信号解卷积算法ChromaTOF软件ChromaTOF软件享誉全二维色谱和飞行时间质谱用户世界，是软件化学家团队和LECO领先用户针对高端科学研究实验室的现实需求而开发。ChromaTOF软件拥有先进的保真信号解卷积（True Signal Deconvolution, TSD）第二代算法（Non-target Deconvolution, NTD）和自动峰识别(Peak Find)算法、比对Reference和分类功能Script以及许多自动化功能来帮助用户提取和处理采集到的复杂数据。目标物精确定量功能(Target Analyte Finding,TAF) 保证优于四级杆的定量性能。Statistical compare 和Tile 全二维组学统计功能软件，使大批量分组抽样调研样品的统计学计量变成傻瓜式AI自动执行程序。

仪器简介：ZLS-24D/M型氦质谱检漏仪（以下简称仪器）是成都仪器厂“正流原理”的真空检漏仪：机内采用涡轮分子泵作主排气机，启动快（仅五分钟即可使用）。仪器可以在测试口压强大约为1000Pa时，采用逆扩散方式进行大漏检漏，也可以在测试口压强为优于50Pa时采用常规方式进行检漏；用常规方式检漏时，可以在分流状态下检漏（测试口压强在50～10-1 Pa），也可以在不分流状态下检微小的漏隙（测试口压强在优于10-1Pa时）。仪器能自动寻峰，读数方便,有音响报警装置。主要技术参数：仪器的启动时间： 不大于5min最小可检漏率：优于1× 10-11Pa.m3/s(负压法)反应时间： 不大于3s质谱室允许工作的最高压强：1× 10-2Pa测试口允许工作的最高压强：1000Pa检漏接口：KF25仪器的轮廓尺寸： 640*550*980 mm3仪器的重量： 约75Kg主要配置： 涡轮分子泵 一台 前级机械泵 一台 粗抽机械泵 一台 校准漏孔1只（有计量校验证书） 质谱分析室1套（成都仪器厂） 控制电路及电磁阀（成都仪器厂） 工控计算机 1台 喷枪1套（成都仪器厂） ZLS氦质谱检漏仪控制分析系统V1.0仪器供电电源：220V 10%，功率约为2Kw

实时直接分析（DART）为新型原位电离新技术，是继电喷雾离子化（ESI）及大气压化学电离（APCI）成功解决了生物和有机分子的分析之后，又一个具有划时代意义的质谱离子化技术，用以满足实验室对样品高通量分析的要求和对现场、无损、快速、低碳、原位、直接分析的需求。该技术由美国的 Robert Cody 博士和 Jim Laramee 博士于 2002 年发明，于 2005 由 JEOL 和 IonSense 公司商品化并获得当年匹兹堡仪器博览会撰稿人金奖和美国 R&D 100 创新大奖。DART 原理是在常温常压下，载气（如氦气或氮气）经放电产生的激发态原子，解吸并离子化样品中的化合物，进而以质谱或串联质谱检测。该技术不需要（像 ESI 那样）引入其他溶剂来影响离子的形成过程，真正实现直接、快速或无损、无接触分析。由于溶剂、基质（如蛋白质）、盐类对 DART 离子化过程不产生抑制效应，因而该技术对样品基质不需要进行特殊的前处理或繁琐、冗长、耗溶剂的色谱分离。通过自动化样品扫描功能和基于苹果 iPad 图形化的操作界面，DART 结合串接质谱（MSMS）或高分辨质谱（HRMS）能充分实现几秒钟内的快速、高通量的样品分析，大大提高大批量样品的瞬时定量和定性分析能力。 DART 典型客户包括美国 FDA、FBI、EPA 等政府实验室，比如，DART 用于特勤局的货币检查、国会图书馆的文档验证；美国食品药品管理局 (FDA) 物证鉴定中心研究发表了 DART 串联高分辨质谱快速筛选 500 多种农药的方法。FDA 在海关配置 DART ，旨在快速鉴定蔬菜、水果的多种农药残留。在全美和世界各地的法医法检中心领域，DART 的应用也很广泛。在著名药物研发机构如 Merck、Pfizer、Roche、GSK 等，保化品 NMC 跨国企业如资生堂、欧莱雅等，都能看到 DART 的身影。国际知名的学术研究机构如 Purdue，Rice，Harvard，北大、浙大、NIH、中科院等运用 DART-MS 做出了许多先进的发明和发现。近两年，中国食品药品检定研究院（sFDA）、北京市药品检验所、中国计量院等国内顶尖药品、食品检验检测机构也陆续采纳了 DART 技术，运用在药品、食品、包材、化妆品等质量安全检验和检测分析。DART 操作简单，样品置放于 DART 源出口和一台 LC-MS 质谱仪的离子采样口，便可进行分析。DART 适用于分析液、固、气态的各类型样品。已广泛应用于药物发现与开发（ADME）、食品药品安全控制与检测、司法鉴定、临床检验、材料分析、环境、天然产品品质鉴定、及相关化学和生物化学等领域。升级版 DART-JS (HTS) 利用脉冲气体控制，实现更完美峰形（改进的峰形和分离度可实现自动峰检测） 更快速采集，缩短分析时间 更省载气（节约90-95%的氦气用量，不影响性能的情况下节省大量成本） 消除环境背景离子，减少基质干扰 AnalyzerPro 自动寻峰、批量处理，更快的数据分析 热图分析、统计学分析（PCA 主成分分析） 创新点介绍： 和液质联用相比，DART 具备诸多优势，使质谱分析“更直接、更快速”。例如：（1）直接分析：DART 基本不需要样品制备，样品分析时间很短（几秒钟），满足了现代社会对高通量样品快速分析的需求；（2）操作简便、节省人力：研究人员仅需要调节 DART 源的温度和正负极，不必花费太多时间和精力去优化其他操作参数；（3）绿色、低碳：分析过程几乎不需要化学溶剂，仅以氮气或氦气等做载气，耗能少，且减少了外来污染源；（4）可在常压下分析液体、固体、气体样品，或任何形状的样品（比如药片、叶子、粉末、食用油、食品、农产品、水产品、玩具、包材）。由于 DART 离子化机理不同于电喷雾等传统方式，基质如蛋白质和盐类对分析结果几乎没有影响。（5）能同时离子化极性、中极性、和弱极性的活性化合物、药物、毒物、和残留有机物。对中性化合物如食用油中的甘油三酯、蜡、聚合物，以及螯合盐等同样灵敏有效，且不需像 ESI 或 MALDI 那样必须先行溶解样品；（6）不产生加合盐离子，离子信号仅包括所有能离子化的待测组分的单电荷离子，简化定量分析和谱图解析；（7）样品分析非常简便，只需将样品手动或自动置放于 DART 出口和质谱仪离子采样口之间；可调节参数只有三个，优化操作异常方便。iPad 图形化操作界面更轻松帮助实现全自动操作和现场分析；（8）和众多主流质谱厂商（如 SCIEX、Agilent、Bruker、ThermoFisher、Waters、Shimadzu、JEOL 等）各种类型的质谱仪如飞行时间、离子阱、三级四极杆及各类混联质谱联用。仪器或技术设备名称：l “实时直接分析离子源 – 串联质谱系统（DART-MS/MS）”或“实时直接分析质谱离子源”，作为质谱仪的配件设备主要用途：DART 与串联质谱如 DART - SCIEX 5500Q MS/MS；DART- Agilent 6460 MS/MS；DART-Waters TQD MS/MS 等中高端质谱仪或更高或稍低档次的 MS/MS 串联质谱仪联机，利用其强大的原位电离、简化的样品预处理、直接快速的进样分析和 MRM 多反应离子检测、中性丢失扫描、前端离子扫描等功能，实现食品中痕量、超痕量的有毒有害、营养和功能成分的快速筛选、快速鉴定和高通量定量分析。无需样品前处理可直接、常压下分析固相、气相、或凝固相样品，直接高敏分析检验检疫物品的有机化合物、药物、毒物、或代谢物；同时离子化及识别样品中不同种类（极性、非极性、弱极性）的化学成分，包括痕量、超痕量的生物标记物、有毒有害物质、营养或功能成分的定性、定量。实现有机和生物样本的无基质分子轮廓分析或组学分析，无歧视离子化和广谱化，同时筛查大、中、小有机化合物的关键物质信息及分布信息；兼容实验室各品牌的质谱仪，扩展质谱设备的能力，提升质谱仪测样服务水平。为什么要选择 DART？1、获美国 Pittcon 大奖，R & D 100 大奖 ；2、不同质谱/不同应用，发表新技术文章潜力大 ；3、不需溶剂，仅用氮气或氦气，真正绿色低碳 ；4、简便无损分析，无需样品制备和处理，自动操控 ；5、快速灵敏，几秒钟定性定量，亚pg级检出 ；6、广谱：可检测液、气、固态样品或材料；7、和众多主流质谱厂商各种类型的质谱仪兼容。生产商为 IonSense Inc（美国）；大中华区代理为华质泰科生物技术（北京）有限公司。

上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱仪保护环境免受有害气体排放污染半导体和薄膜太阳能工艺使用并产生各种工艺气体和颗粒材料副产品, 有害气体需要以受控方式进行处理. 许多废料的处理受环境法规的规定，如美国 NESHAP 标准. 此规则规定的主要有害空气污染物包括但不限于占有害空气污染物排放总量 90% 以上的五种化学物质: 盐酸 HCl , 氟化氢 HF, 乙二醇醚, 甲醇, 和二甲苯.美国环境保护局对混合空气毒物工艺通风孔 (有机和无机) 的排放限值为 14.22 PPM（按体积计算）. 监测并销毁额外的全氟化碳气体 PFC 和硅烷 SiH4 等自燃气体.问题减排面临着多重挑战. 需要监测来自减排系统的环境废气, 以确保符合法规要求, 需要一款具有高灵敏度, 实时, 现场计量, 且精度达到 PPM 级的质谱分析仪. 此外, 优化减排需要测量废气中进入减排系统的污染物浓度, 从而可以调节氮气稀释和减排燃烧气体消耗量, 以确保快速去除污染物. 天然气 (甲烷) 通常用于普通烧洗减排系统中的高温热气体分解, 优化其使用可降低减排过程成本和二氧化碳排放.上海伯东 Aston™ 质谱分析仪提供有害气体排放污染解决方案: 数据驱动的减排许多减排系统是“开环”运行的, 导致天然气和氮气消耗量较高. 此外, 通常不会对减排成功的分析数据进行监控和记录, 从而使公司面临环境监管责任. 使用 Atonarp Aston™ 质谱分析仪, 可以根据进入的废气浓度和测量的排放气体数据, 记录日志, 对减排燃烧过程进行现场优化控制, 以记录环境合规性. Aston™ Plasma 质谱分析仪能够承受严酷的 PFC 和酸性 (如 HF 和 HCl ）气体, 并能提供低至 PPB 水平的灵敏度. 通过快速, 准确的现场计量, 实现快速地减排气体监测和废气环境合规性.Atonarp Aston™ 质谱分析仪技术参数类型Impact-300Impact-300DPPlasma-200Plasma-200DPPlasma-300Plasma-300DP型号AST3007AST3006AST3005AST3004AST3003AST3002质量分离四级杆真空系统分子泵分子泵隔膜泵分子泵分子泵隔膜泵分子泵分子泵隔膜泵检测器FC /SEM质量范围2-2852-2202-285分辨率0.8±0.2检测限0.1 PPM工作温度15-35“℃功率350 W重量15 kg尺寸299 x 218 x 331 LxWxH(mm)400 x 240 x 325 LxWxH(mm)若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

先进半导体应用的原位过程控制上海伯东日本 Atonarp Aston™ Impact 和 Aston™ Plasma 是超紧凑型质谱仪, 适用于先进半导体工艺（如沉积和蚀刻）所需的定量气体分析.分子测量快速，灵敏度达到十亿分之一 检测残留气体 / 冷凝物污染.提高产量提供化学特定的可操作见解, 尽可能地提高产量提高安全性监测爆炸性气体. 检查排放和减排效果.Aston™ 质谱仪解决了关键的原位计量问题• 提高吞吐量: 端点检测而不是基于时间的流程• 提高产量: 以十亿分之一的灵敏度测量沉积和蚀刻工艺期间的工艺气体 / 副产物Aston™ 质谱仪先进工艺的优势ppb 级灵敏度的高速采样非常适合高纵横比的 3D 结构耐腐蚀性气体坚固紧凑易于集成到工具平台中沉积应用中: 实时过程气体监控，以驱动自动化工具调整以实现过程控制, 沉积步骤之间的终点检测, 实现层的化学计量工程蚀刻应用中: 以 ppb 为单位测量的工艺气体和副产品, 启用端点腔室清洁Atonarp Aston™ 技术参数类型Impact-300Impact-300DPPlasma-200Plasma-200DPPlasma-300Plasma-300DP型号AST3007AST3006AST3005AST3004AST3003AST3002质量分离四级杆真空系统分子泵分子泵隔膜泵分子泵分子泵隔膜泵分子泵分子泵隔膜泵检测器FC /SEM质量范围2-2852-2202-285分辨率0.8±0.2检测限0.1 PPM工作温度15-35“℃功率350 W重量15 kg尺寸299 x 218 x 331 LxWxH(mm)400 x 240 x 325 LxWxH(mm) Aston™ 质谱仪半导体制造应用先进的工艺原子层沉积 (ALD)化学气相沉积 (CVD)原子层蚀刻 (ALE)腔室管理干净的终点检测指纹识别和匹配 Sub-fab 安全性, 可持续性和节省优化过程安全监控干泵保护减排管理沉积化学气相沉积钨TEOS蚀刻介电,导电,金属高纵横比 1% 开放区域检测EUV/光刻SnH4 蚀刻光掩模蚀刻自主过程控制模型驱动的实时过程监控若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

仪器简介：ZLS-26D/M 型氦质谱检漏仪是成都仪器厂开发的新一代是成都仪器厂“正流原理”的真空检漏仪。仪器采用计算机程序控制，通过触摸式显示屏按人机对话方式进行功能操作，具有检漏方式程序控制、检漏数据存储、分析、统计、打印及自动寻峰等功能，具备高度的智能化程度。技术参数：微机系统控制2.12寸触摸式液晶显示屏，大字符漏率显示，漏率直读，四种常用漏率单位转换 3.自动扫描氦峰，具有图形显示和保存功能 4.动态清除本底5.不同工件检漏曲线显示6.检漏数据保存和打印功能7.声讯报警，报警点可程序设置 主要技术参数：1.仪器最小可检漏率：优于5×10-12Pam3s-12.仪器的反应时间： 不大3s3.仪器质谱室允许工作的最高压强：1×10-2Pa4.仪器测试口允许工作的最高压强：1000Pa5.背压法检漏时间可调范围：5s～30s6.仪器的启动时间： 不大于5min7.仪器的轮廓尺寸： 640×550×980 mm38.仪器的重量： 约75kg9.仪器使用电源：220V±10％，50Hz 主要配置： 涡轮分子泵（品牌） 前级泵（品牌） 粗抽泵（品牌） 校准漏孔 1只（有计量校验证书） 质谱分析室 1套（成都仪器厂） 控制电路 1套（成都仪器厂） 工控计算机 1台（国产品牌） 喷枪、吸枪各一套 ZLS氦质谱检漏仪控制分析系统V1.0 主要特点：1.微机系统控制 ，2.12寸触摸式液晶显示屏，大字符漏率显示，漏率直读，四种常用漏率单位转换3.自动扫描氦峰，具有图形显示和保存功能4.动态清除本底5.不同工件检漏曲线显示及记录6.检漏数据保存和打印功能7.声讯报警，报警点可程序设置

岛津LCMS-2020液相质谱联用仪简介：采用全新设计的离子源和离子光学系统，具有超快速扫描、高速正负及性切换功能，实现高灵敏度、高稳定性。维护简单方便，更换除溶媒单元时无需卸除真空状态。有的多顺序测定方式，一次进样可测得多种分析条件下的数据，大幅提高分析效率。 岛津LCMS-2020液相质谱联用仪技术参数：灵敏度 ：1pg利血平，S/N150(RMS),ESI+扫描速度：15000Da/s正负及性切换时间：15ms上海斯迈欧经销代理众多进口品牌仪器（珀金埃尔默、赛默飞、岛津、安捷伦、沃特世、AB、耶拿、日立等），主营产品有气相色谱、液相色谱、原子吸收光谱仪、紫外分光光度计、气质联用仪、液质联用仪；斯迈欧团队成员均来自一线品牌仪器公司，具备丰富的仪器行业从业经历。公司站在用户角度，以企业“节约成本，提高质量，科学管理”为导向，担负着各行业“质量求发展”的使命，更好地为科研单位、企业生产、院校教学、第三方检测等领域而服务。斯迈欧公司自成立以来，始终秉承“诚信为根，服务为本”的经营理念，以敬业、创新、务实、拼搏的工作热忱，本着“精益求精、全心全力”的服务原则，为我们的客户提供准、精、科技、科学的计量检测仪器。

安捷伦 6490 串联三重四极杆液质联用系统具有的 iFunnel 技术使得灵敏度达到了新的水平，即检测灵敏度可达到10-21mol(Zeptomol)及ppq级别，这种灵敏度水平对于环境应用尤其重要，因为环境应用经常要求灵敏度达到 ppt 级。其他高灵敏度的应用还包括制药领域，如需要微量剂量、吸入药物检测以及干血斑点分析等。常规分析便能得到超高灵敏度性能，这也为临床、食品安全、蛋白质/多肽定量创造了新的机遇，并且全面、大幅地提高了常规检测稳定性及样品制备效率。与 1290 Infinity UHPLC 系统联用，结合 MassHunter 软件，1290/6490 系统可实现最高水平的 LC/MS 定量分析性能。技术参数：正负极性切换：30ms 分辨率0.4amu 质量精度0.1Da 动态范围6.0x106 扫描速度10,000Da/s zui小离子驻留时间1ms MRM检测：每次分析可40,000组 主要特点：灵敏度：zeptomole（10-21摩尔）级的重现性和稳定性超宽动态范围：六个数量级高通量MRM分析（一次进样10,000组）DMRM免时间窗口分析tMRM功能：更快、更灵敏的化合物同时定性定量分析全面、灵活的行业解决方案：600种农药及130种毒物的分析方法及MRM数据库全自动化智能操作：质谱参数自动优化软件（包括小分子化合物及多肽）zui高性能LC/MS的强强联合：1290/6490系统可实现zui高水平的LC/MS定量分析性能*iFunnel技术彻底变革了大气压离子采样过程，集离子化技术、离子传输及聚焦技术之大成，实现灵敏度的突破性提高的LENS2离子光学系统，提高灵敏度并具*抗污染特点90度圆锥碰撞反应池，结合高压线性加速技术，进一步降低噪音、明显提高灵敏度，同时采集速度更快且有效消除“记忆效应”独特的双打拿极技术明显提高（负）离子检测灵敏度并显著增强检测器寿命集成一体化液相及质谱的软件平台实现仪器的单点控制及数据分析，简单易用内置调谐标样可进行全自动调谐及质量轴校正全面的前端分离系统，包括HPLC,RRLC,UHPLC,CE系统等，广泛的应用范围产品配置：1. 安捷伦6490质谱主机（配备ESI离子源）2. 质谱专用前级真空泵3. 配套工作站软件和电脑（Masshunter 7.03系统软件）4. 配套氮气发生器（可选）5. UPS不间断保护电源（可选）

Aston™ 质谱分析仪为半导体 Sub-fab 提供安全, 可持续性和节约解决方案Sub-fab 一直是半导体制造设施的后端方案. 与 FAB 的主要加工走廊不同, Sub-fab 中的设备被归入与基本工具管理和废物处理相关的系统: 干式真空泵, 燃烧和吸收器减排系统, 水处理器和冷却器以及散装材料的输送和管理是 Sub-fab 设备执行的关键功能.上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪提供稳健, 量化和实时的计量. 原位量化计量在关键灵敏度 / 速度指标上比其他残留气体分析仪优于 10 倍至 100 倍, 并具有强大的等离子电离解决方案, 使它们能够处理苛刻的工艺气体和副产品. 为半导体 Sub-fab 提供安全, 可持续性和节约解决方案随着半导体制造足迹对环境的影响对晶圆厂运营商变得越来越重要, 在客户对更高可持续性的需求的推动下, Sub-fab 越来越被视为提高效率和可持续性的关键部分. 随着对安全的普遍需求, 对可持续性和效率的额外关注正在推动重新关注使用实时现场监控和控制更智能地运行 Sub-fab 设备.问题Sub-fab 管理的三大支柱, 即安全性, 可持续性和节约性正在重新受到关注.对于分子水平安全监测: 先进的工艺推动了对新型危险材料和副产品的需求, 对前沿逻辑工艺, 铸造和存储器工艺的需求不断增加, 特别是在 ALD 和 ALE 中使用选择性处理化学物质的情况下. 2019 年的一项研究表明, 在 2017 年 2019 年的 30 多起不良事件中, 包括爆炸, 火灾, 放热反应, 化学反应和排气. 大多数事件发生在从腔室到减排系统的排气处理路径中的 Sub-fab 中.目前使用分子安全监测的一些例子包括: 当爆炸锆金属颗粒是潜在的副产品时, 基于用于逻辑门和 DRAM 电容器结构的锆的高k介电材料. 此外, 在闪存制造中用于氧化硅原子级沉积的高阶硅烷化学对主动泄漏检测提出了挑战, 以防止需要监控和管理的产品气体和冷凝物引起的火灾和危险.除了安全之外, 可持续性也是重点: 最近的研究表明, 超过 80% 的智能手机碳足迹不是在使用过程中产生的, 而是在制造过程中产生的, 其中半导体占总量的比例大约（约 40%）并且还在不断增长. 虽然 FAB 中的绿色能源使用和水循环利用工作对温室气体和水消耗指标产生了重大影响, 但半导体 FAB 可持续性挑战的材料部分占总量的百分比继续增长. 寻找一种可靠的方法来监测和减少制造过程中使用的材料量是半导体行业的关键下一步, 并且需要一种创新的原位材料监测和量化方法. 关键的第一步是为当今的工艺和设备建立“基线”, 以便准确监测和量化材料使用的变化.从安全和可持续性举措中节省: 毋庸置疑, 与事故相关的员工, 设备, 生产和声誉成本相比, 安全设备部署的成本很小. 然而, 可持续发展计划更为复杂. 减少材料使用, 减少浪费, 并显着降低相关材料和减排相关成本. 然而, 除了与更有效地运行 FAB 相关的纯成本回收之外, 许多半导体消费者越来越多地将可持续性视为其供应商选择标准的一部分. 随着晶圆厂需要推动可持续发展目标,大量且利润丰厚的供应商合同正在增加,其中大部分工作发生在管理废物的 Sub-FAB 中.上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪 Sub-FAB 解决方案Sub-FAB 应用的安全性,可持续性和节约的共同点是, 为了改进它们, 需要测量和量化要管理的材料. 无论是在腔室上还是作为 Sub-FAB 基础设施的一部分, 都需要稳健, 量化和实时的计量. Atonarp 的 Aston 实时半导体计量解决方案系列提供的原位量化计量在关键灵敏度 / 速度指标上比其他残留气体分析仪优于 10 倍至 100 倍, 并具有强大的等离子电离解决方案, 使它们能够处理苛刻的工艺气体和副产品.Aston 先进的分子分析技术具有比其他残余气体分析仪高 10 到 100 倍的速度 / 灵敏度能力, 使 Sub-fab 应用能够提高安全性,可持续性并节省过程中的成本.若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

赛默飞的质谱仪包括：LC-MS液质联用仪、GC-MS气质联用仪、DFS高分辨率磁式质谱仪、IO-MS同位素质谱仪、GD-MS辉光放电质谱等。赛默飞质谱仪拥有无与伦比的出色性能和易用性，利用这些质谱仪在实验中令人惊讶的表现能力和超高的灵敏度，您能够以更高的速率获得更可靠更丰富的结果。 产品范围：三重四级杆串联液质三重四级杆串联气质高分辨质谱离子阱质谱高分辨磁质谱无机质谱液相和离子源高分辨气质更多信息：请访问赛默飞世尔科技质谱分析的展台，展位号：SH103458。或直接登陆以下网址：http://www.instrument.com.cn/netshow/SH103458/

赛默飞旗下液相色谱LC、气相色谱GC、离子色谱（IC）、质谱（LC-MS/MS、GC-MS/MS、LCHRMS、GCHRMS、IOMS）、痕量元素分析（TEA）和样品前处理系统，是业界领先产品，能为科学分析创造出全新的可能性。主要产品：液相色谱（LC）液质联用（LC-MS/LC-MSMS）高分辨液质离子阱质谱气相色谱（GC）气质联用（GC-MS/GC-MSMS）高分辨气质痕量元素分析产品（AAS, ICP, ICP无机质谱离子色谱（IC）样品前处理设备（SP）水质分析仪（CDD）色谱数据系统（CDS）网络讲堂同位素技术在葡萄酒真伪鉴定和产地溯源中的应用离子色谱在有机化合物分析中的应用研究赛默飞三重四极气质联用仪在疾控领域中的应用赛默飞CSR(大体积进样技术)和NCI（负离子化学电离技术）在电子电器产品有害化合物分析中的应用赛默飞液相色谱柱在制药领域中的应用赛默飞2015版《国家药包材标准》色谱、光谱及元素分析解决方案赛默飞iCAP RQ ICP-MS新产品介绍及最新应用进展赛默飞色谱、光谱对食品中有毒有害物质分析应用更多信息：请访问赛默飞色谱与质谱分析的展台，展位号：SH100244。或使用域名登陆：http://www.instrument.com.cn/netshow/SH100244/