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电镜配件

仪器信息网电镜配件专题为您提供2024年最新电镜配件价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括电镜配件参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的电镜配件您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合电镜配件相关的耗材配件、试剂标物,还有电镜配件相关的最新资讯、资料,以及电镜配件相关的解决方案。

电镜配件相关的仪器

  • 【产品背景】  在以纳米技术和生物技术为主的产业领域里,从物质的微细结构到组成成分,SEM在多种多样的观察与分析中得到了灵活应用。SEM用途日益扩大,但对于钢铁等工业材料和汽车零配件等超大/超重样品,由于电镜样品台能对应的样品尺寸和重量受到限制,所以观察时需要进行切割等加工。因此,对超大样品不施以加工处理,便可直接观察表面微细形貌和进行各种分析则成为重要的课题。  近年来为了实现各种材料的高功能化和高性能化,需要观察并优化材料的微细结构。目前SEM的应用除了以往的研究开发以外,已扩展到质量和生产管理方面,使用频率日益高涨。同时市场也对仪器的操作性能提出了更高的要求,以进一步减轻操作人员的负担。  此次发售的“SU3800”与“SU3900”,支持超大/超重样品的观察,特别是大型扫描电镜“SU3900”,可选配最 大直径300mm *1、最 大承重5kg样品(比前代机型提高2.5倍*2)的样品台,即使是超大样品也无需切割加工即可观察。  同时操作性能也得到了全面升级。样品安装完成后,通过自动光路调整及各种自动功能调整图像,随后可立即获得样品图像,真正实现了快速观察。  前代机型是仅仅通过CCD导航相机的单一彩色图像寻找视野*3。新机型则通过旋转样品台,分别拍摄样品各个部分,再将各个图像拼接成1张大图像,实现了大视野的相机导航观察,十分适用于超大样品的大范围观察。 【主要特点】  (1) 支持超大/超重样品测试  可搭载的最 大样品尺寸:“SU3800” 标配可搭载直径200mm样品的样品仓,可应对最 大高度为80mm、重量为2kg的样品。 “SU3900”作为日立高新技术的大型扫描电镜,标配可搭载最 大直径300mm样品的样品仓,可应对最 大高度为130mm、重量为5kg(比前代机型提高2.5倍*2)的样品  (2) 支持大视野观察  ■“SU3800”与“SU3900”的最 大观察范围分别是:直径130mm、直径200mm  ■安装有“SEM MAP”导航功能,只需在导航画面上指定观察目标位置,即可移动视野  ■安装有“Multi Zigzag”系统,可在不同的视野自动拍摄多张高倍率图像,并将取得的图像拼接在一起,生成大视野高像素图像  (3) 通过自动化功能提高操作性能  ■通过自动光路调整和各种自动化功能,样品设置完后立即可以开始观察。关于图像调整,自动功能执行时的等待时间比前代机型*4缩短了三分之一以下  ■安装有“Intelligent Filament Technology(IFT)”软件,自动监控钨灯丝*5的状况,显示预计的更换时期。在长时间的连续观察和颗粒度解析等大视野分析时,也可避免长时间测试过程中因钨灯丝使用寿命到期所造成的中断观察。
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  • [ 产品简介 ]蔡司钨灯丝扫描电镜EVO系列,作为高性能的扫描电子显微镜,可为显微镜专家和新用户带来直观、简便的使用体验。该系列有丰富的配件选项,无论是应用在生命科学,材料科学,抑或是工业测量等领域,都可以根据您的需求量身定制。且具有超大样品舱室、自动化工作流程以及简单易用等特点,是实验室日常检测、工业常规质量控制和失效分析等领域必不可少的综合型显微分析设备。[ 产品特点 ]&bull 30kV加速电压下二次电子图像分辨率高达3.0nm&bull 超大样品观察-最大直径300mm,最大高度210mm &bull 智能化导航-导航相机让样品定位更加便捷&bull 关联显微分析-与蔡司的光学显微镜联用&bull ZEN软件-完整的数据管理和分析功能&bull 自动化工作流程[ 应用领域 ]&bull 汽车行业,如清洁度分析,失效分析&bull 钢铁行业,如夹杂物分析,相分析&bull 电子半导体行业,如缺陷检测,断面失效分析&bull 地矿行业,如岩相分析,自动矿物分析&bull 制造与装配工业,如质量分析,非金属夹杂物分析&bull 材料科学,如金属、陶瓷、高分子等样品表征&bull 生命科学,如动植物分析,微生物研究&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复10kV下集成电路成像低真空下纤维织物成像低真空下橘子组织成像20kV下轴承滚珠表面图像
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  • 二手电镜 400-860-5168转5095
    丰富的电镜配件及耗材库存:公司仓储中心储备了大量的电子显微镜配件和耗材,满足不同需求。多品牌多型号的二手电镜:提供多种品牌和型号的二手电子显微镜,供客户选择购买或租用。价格优惠与灵活互通:配件价格具有竞争力,同时提供租赁服务,确保客户可以根据自己的需求灵活选择。本地化仓库及充足备货:拥有本地化的仓库,确保配件和耗材的供应充足,快速响应客户需求。终身技术服务:提供终身的技术服务支持,确保客户在使用过程中得到持续的帮助。国产配件研发生产能力:公司具备国产电子显微镜配件的研发和生产能力,能够提供质量可靠的配件。专业技术团队服务保障:拥有专业的技术团队,为客户提供专业的服务保障,确保客户使用无忧。
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  • 扫描电镜含水样品舱 400-860-5168转1516
    SEM液态样品套件SP-102-24WETSEM技术是基于一个应用于标准SEM样品台的专利样品舱。该舱体的中心为一层透明的纳米技术薄膜,电子束可透过薄膜并完全将含水样品与电镜真空腔隔离。SEM液态样品处理SP-102-24套件适用于扫描液态及溶液中颗粒样品,包含QX-102样品舱体及所有必需配件。QX-102样品舱QX-102样品舱适用于多种含水丰富的材料和生物样品,比如食物、化妆品、油、墨水、溶液中的颗粒、附着或非附着细胞、微生物等。使用QX-012样品舱可以很容易观察不同粘稠度的样品如泡沫状、凝胶状、奶油状、乳胶状。样品既可以直接观察,也可以做适当的染色增强对比或标记处理。该样品舱就像一个细胞培养皿,特别为SEM设计。样品不需要包被及嵌入处理,和光学显微镜相比,电镜成像的样品处理更加简单。MP-10 Multi多孔板多孔板为同时处理多个QX-102样品舱设计,在样品处理过程中保持其湿度,并能与实验室标准仪器兼容。多孔板经无菌处理,一盒2个。IB-64 Imaging BufferQX Imaging Buffer适用于QX-102样品舱在SEM扫描前处理样品,能降低电子束对样品的损伤。经无菌处理,冷冻保存。RT-56标准样品舱标准样品舱帮助第一次使用WETSEM的用户找到扫描电镜成像时的合适参数。标准试剂盒包含40nm和500nm两种不同大小的纳米粒子。纳米粒子很容易在电镜中观察到,帮助确定适合的参数。AT-60 移液器枪头移液器枪头可安全方便的从单个QX-102样品舱中吸取液体样品。枪头适用于任何标准的移液器。如使用多个试剂盒或多个液体样品,推荐使用MA-4多孔移液器,可以同时提取多个液体样品。灭菌的移液器枪头一盒60个。 SEM动态水合作用套件SK-202C-24WETSEM技术是基于一个应用于标准SEM样品台的专利样品舱。该舱体的中心为一层透明的纳米技术薄膜,电子束可透过薄膜并完全将含水样品与电镜真空腔隔离。SK-202C-24套件包括QX-202C样品舱及所有必需配件。QX-202C 样品舱QX-202C主要用于不同动态水合过程电镜原位图像制作,例如水泥,石膏等材料的水合过程。QX-202C独特的设计可以应用于SEM真空腔。动态过程最长可达24小时,不再需要多个样品成像或反复抽真空。样品不需包被,干燥及冰冻,可简单放入试剂盒密封观察,可直接用BSE检测器观察。MP-12 多孔板多孔板为同时处理多个QX-202C设计,方便多个样品制备时的处理和保存。QX Imaging Buffer QX-Imaging buffer适用于SEM成像的标准样品舱。冰冻储存。标准样品舱标准样品舱帮助第一次使用WETSEM的用户找到扫描电镜成像时的合适参数。标准试剂盒包含40nm和500nm两种不同大小的纳米粒子。纳米粒子很容易在电镜中观察到,帮助确定适合的成像参数。Aplicator (Microman M25 and tips)Gilson Microman 移液器专门为精确移取少量粘稠液体和混合液而设计。同时提供Microman M25连接活塞和枪头。SEM含水固体样品套件SK-302-12WETSEM技术是基于一个应用于标准SEM样品台的专利样品舱。该舱体的中心为一层透明的纳米技术薄膜,电子束可透过薄膜并完全将含水样品与电镜真空腔隔离。SK-302-12套件包括QX302样品舱及所有必需配件。QX-302样品舱QX-302样品舱适用于多种含水固体样品,例如活体组织切片,自然状态的植物材料等。样品舱可用于多种样品大小,直径最大为3mm,厚度最大为1mm。扫描样品不需包被及嵌入,与光学电镜相比,电子显微镜成像样品处理更简单。MP-12 多孔板MP-12 多孔板为同时处理多个QX-302样品舱而设计,方便样品制备及储存。IB-74 Imaging BufferQX-Imaging buffer适用于SEM标准样品舱。冰冻保存。RT-58-标准样品舱 标准样品舱帮助第一次使用WETSEM的用户找到扫描电镜成像时的合适参数。标准试剂盒包含40nm和500nm两种不同大小的纳米粒子。纳米粒子很容易在电镜中观察到,帮助确定适合的成像湿度参数。
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  • 日本电子扫描电镜JSM-6510A/JSM-6510LA详细介绍日本电子扫描电镜JSM-6510A/JSM-6510LA型与日本电子公司的元素分析仪(EDS),统合于一体。结构紧凑的EDS由显微镜主体系统的电脑控制,操作员只用一只鼠标,就可完成从图像观测到元素分析的整个过程。扫描电镜最基本的功能是对各种固体样品表面进行高分辨形貌观察。大景深图像是扫描电镜观察的特色,应用于生物学、植物学、地质学、冶金学等领域。观察可以是一个样品的表面,也可以是一个切开的面,或是一个断面。冶金学家已兴奋地直接看到原始的或磨损的表面。可以很方便地研究氧化物表面,晶体的生长或腐蚀的缺 陷。它一方面可更直接地检查纸,纺织品,自然的或制备过的木头的细微结构,生物学家可用它研究小的易碎样品的结构。例如:花粉颗粒,硅藻和昆虫。另一方面,它可以拍出与样品表面相应的立体感强的照片。电子束与样品作用区内,还发射与样品物质其他性质有关信号。例如:与样品化学成分分布相关的,背散射电子,特征X射线,俄歇电子,阴极荧光,样品吸收电流等;与样品晶体结构相关的,背散射电子衍射现象的探测;与半导体材料电学性能相关的,二次电子信号、电子束感生电流信号;在观察薄样品时产生的透射电子信号等。目前分别有商品化的探测器和装置可安装在扫描电镜样品分析室,用于探测和定性定量分析样品物质的相关信。操作窗口:直观的操作界面的设计,简明易懂便于迅速掌握操作。支持多用户:单个用户可以根据常用功能设置相应的图标,营造快捷的操作环境。用户登录时,即可加载已注册过的设定。同时显示两幅图像:画面上并列显示二次电子成像和背散射电子成像这两种实时图像。可同时观察样品的形貌和组成分布。微细结构测量:适合于多种测量功能。可在观察图像上直接进行测量。也可将测量结果贴至SEM图像,保存在文件中。标准的全对中样品台,能收录三维照片3D Sight(选配件),能够进行平面测量和高度测量,实现立体俯视图。从图像观察到元素分析,配合连贯一条龙分析型扫描电子显微镜配备两台监视 器,一台用于SEM图像观察和另一台用于元素分析(EDS)。一只通用鼠标即可同时控制两台监视 器。大尺寸画面使操作更加简便与舒 适。维护简便:工厂预置中 心灯丝,十分便于更换。因此,可长期保持稳定的高性能。此外,操作界面还能以映像形式显示灯丝维护的步骤说明。可信赖的真空系统:真空系统使用高性能的扩散泵保证了洁净的高真空状态。扩散泵内部无活动部件,体现了操作稳定,维护简便的特色。 日本电子扫描电镜JSM-6510A/ JSM-6510LA型的规格保证分辨率3.0nm(30kV)8.0nm(3kV)15nm(1kV)放大倍数5至300,000x加速电压0.5kV至30kV电子枪工厂预对中灯丝聚光镜变焦聚光镜物镜锥形物镜样品台全对中样品台X-Y80mm-40mmZ5mm至48mm旋转360°倾斜-10°至+90°排气系统(高真空模式)DPx1,RPx1排气系统(低真空模式)DPx1,RPx2日本电子最 大的亮点——方便的导航系统
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  • 场发射扫描电镜 MIRA MIRA3 XM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜,可在高真空和低真空模式下操作,其具有突出的光学性能,清晰的数字化图像,成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集,可以保存标准文件格式的图片,可以对图像进行管理、处理和测量,实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。 概述分析潜力 XM样品室配备有5轴马达驱动的全计算机化优中心样品台,完美的几何设计更适合安装能谱仪(EDS)、波谱仪(WDX)、电子背散射衍射(EBSD) 优化几何设计的许多接口,更适合安装能谱仪(EDS)、波谱仪(WDX)、电子背散射衍射(EBSD)和其他探头 一流YAG闪烁器式探头 可选各种探头和配件 在涡轮分子泵和无油干式泵的工作下,几分钟就可以达到仪器工作需要的真空,电子枪的真空度由离子泵保持 在低真空模式下可以观测不导电的样品,观测磁性样品的效果非常好 可选样品室大小与镜筒防振方式MIRA3配置MIRA3 XMH大样品室高真空式电镜,配备有可选的马达驱动样品台,适合观测导电的样品。MIRA3 XMU可变真空式SEM,体现了高真空模式和低真空模式的优点。在低真空模式下可以观测不导电的样品,不需要喷金。软件:标配: 测量 图象处理 3维扫描 硬度测量 多图像校准 对象区域 自动关机时间 公差 编程软件 定位 投影面积 EasySEMTM 选配:根据实际配置和需求 配件 二次电子探头(SE),ET型二次电子探头(YAG 闪烁体) 可移动式背散射电子探头(RBSE)*,可移动环行闪烁体类(YAG)具有高灵敏度和原子序数分辨率(0.1Z) 低真空二次电子探头 探针电流测量 压差式防碰撞报警装置 可观察样品室内部的红外线摄像头等,各种配件可供选择
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  • 钨灯丝扫描电镜 VEGA VEGA3 XM是一款由计算机控制,可在高低真空模式下工作的全自动钨灯丝扫描电子显微镜,具有突出的光学性能,清晰的数字化图像,成熟的操作软件,用户界面友好等特征。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作方式和完整的图像采集功能,可以保存标准文件格式的图片,可以对图像进行管理、处理和测量,实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。 概述分析潜力 XM样品室配备有5轴马达驱动样品台 多于12个接口,优化的几何设计更适合安装能谱仪(EDS)、波谱仪(WDX)、电子背散射衍射(EBSD) 一流YAG闪烁器式探头 可选各种探头和配件 涡轮分子泵和机械泵同时工作,几分钟即可达到仪器操作需要的真空状态 在可变真空模式下可观测不导电的样品(XMU型号) 可选样品室减振方式 3维Metrology软件提供了三维重构与3维测量功能VEGA3配置XM型号适合观测大样品。VEGA3 XMH超大样品室,高真空模式,适用于观测大型导电材料。VEGA3 XMU可变真空式扫描电镜,体现了高真空模式和低真空模式的优点。在低真空模式下可以观测不导电的样品,不需要喷金。 软件标配:测量图象处理3维扫描硬度测量多图像校准对象区域自动关机时间公差编程软件定位投影面积EasySEMTM根据实际配置和需求 技术规格 配件 二次电子探头(SE),ET型二次电子探头(YAG 闪烁体) 可移动式背散射电子探头(RBSE)*,可移动环行闪烁体类(YAG)具有高灵敏度和原子序数分辨率(0.1Z) 低真空二次电子探头 探针电流测量 压差式防碰撞报警装置 可观察样品室内部的红外线摄像头 冷台等,各种配件可供选择
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  • 热场发射电子源大束国产电子源型号921 5736可替代进口FEI电子源4035 272 7572 NG场发射灯丝(Helios专用) 921 5736 RBLD,NGSEM HOTSWAP MOD大束科技自主研发的场发射灯丝适用于Helios400,Helios400S,Helios600,Helios600i等机型。电子显微镜通过发射电子与样品相互作用成像,用来“照射”样品的可靠电子源是电镜最重要的部分之一。电子显微镜对电子束的要求非常高。目前只有两种电子源满足要求:热电子发射源和场发射电子源。目前商用的,热电子发射源用的是钨灯丝(较少见)或六硼化镧( )晶体(较常见);场发射电子源用的是很细的针状钨丝(具体分为肖特基发射源和冷场发射源)。大束科技成立于2018年,是一家以自主技术驱动的电子显微镜核心配件研发制造商及配套服务商。 目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场,此外,还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务,以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源(电子显微镜灯丝)、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。大束科技致力于成为电子显微镜行业上游配件的研发制造供应商;未来将在满足本土市场的同时,进军国际高端电子显微镜市场。
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  • Diener电镜专用等离子清洗机用途: 主要用于除去透射电镜样品及样品杆上的污染,防止碳沉积以降低图像分辨率及对样品微区分析造成误判。还可以利用该仪器清洗各类光阑等电子显微镜配件。特别适用于场发射扫描电镜和场发射透射电镜。用这种低能高频等离子体清洗样品表面,不会改变样品元素成份和表面结构特征。主要技术参数:1. 可对多孔碳膜进行高效且无破坏的清洗,提高样品在低电压下的成像能力,在化学微量分析时提高其精度2. 无油真空系统:泵体部分由多级隔膜泵和超净音分子泵组成,在保证真空度的同时,可在两分钟之内达到抽真空和放气过程,整个清洗过程在4分钟内可以完成3. 可清洗标准透射电镜样品杆4. 可清洗多孔碳膜5. 清洗时间:普通污染样品小于2分钟,重度污染样品小于10分钟 6. 重现性:可以自动记录下同类产品清洗的条件,下次清同类产品时可以样条件进行技术规格:控制方式手动控制发生器40KHz,0~100W腔体材质高硼硅玻璃腔体尺寸Dia.90*L280mm气路单路???清清时间旋钮式计时器0~99hour压力控制范围0~2mbar外型尺寸W345*D420*H211mm???电源电压单相AC230V,16A真空泵排气速度4m3/hour,极限真空度0.5Pa选配????发生器2.45GHz和13.56MHz腔体材质石英玻璃气路双路计时器数字式计时器减压阀配专用气路接口钢瓶10L
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  • 场发射扫描电镜 MIRA MIRA3 GM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜,可在高真空和低真空模式下操作,其具有突出的光学性能,清晰的数字化图像,成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集,可以保存标准文件格式的图片,可以对图像进行管理、处理和测量,实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。配件: 二次电子探头(SE),ET型二次电子探头(YAG 闪烁体) 可移动式背散射电子探头(RBSE)*,可移动环行闪烁体类(YAG)具有高灵敏度和原子序数分辨率(0.1Z) 低真空二次电子探头 探针电流测量 压差式防碰撞报警装置 可观察样品室内部的红外线摄像头等,各种配件可供选择 概述:分析潜力 GM样品室配备有5轴马达驱动的全计算机化优中心样品台,完美的几何设计更适合安装能谱仪(EDS)、波谱仪(WDX)、电子背散射衍射(EBSD) 优化几何设计的许多接口,更适合安装能谱仪(EDS)、波谱仪(WDX)、电子背散射衍射(EBSD)和其他探头 一流YAG闪烁器式探头 可选各种探头和配件 在涡轮分子泵和无油干式泵的工作下,几分钟就可以达到仪器工作需要的真空,电子枪的真空度由离子泵保持 在低真空模式下可以观测不导电的样品,观测磁性样品的效果非常好 可选样品室大小与镜筒防振方式MIRA3配置MIRA3 GMH大样品室高真空式电镜,配备有可选的马达驱动样品台,适合观测导电的样品。MIRA3 GMU可变真空式SEM,体现了高真空模式和低真空模式的优点。在低真空模式下可以观测不导电的样品,不需要喷金。 软件:标配: 测量 图象处理 3维扫描 硬度测量 多图像校准 对象区域 自动关机时间 公差 编程软件 定位 投影面积 EasySEMTM选配:根据实际配置和需求
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  • 场发射扫描电镜 MIRA MIRA3 LM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜,可在高真空和低真空模式下操作,其具有突出的光学性能,清晰的数字化图像,成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集,可以保存标准文件格式的图片,可以对图像进行管理、处理和测量,实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。 概述分析潜力 LM样品室配备有5轴马达驱动全计算机化优中心样品台,完美的几何设计更适合安装能谱仪(EDS)、波谱仪(WDX)、电子背散射衍射(EBSD) 优化几何设计的许多接口,更适合安装能谱仪(EDS)、波谱仪(WDX)、电子背散射衍射(EBSD)和其他探头 一流YAG闪烁器式探头 可选各种探头和配件 在涡轮分子泵和无油干式泵的工作下,几分钟就可以达到仪器工作需要的真空,电子枪的真空度由离子泵抽真空保持 在低真空模式下可以观测不导电的样品,观测磁性样品的效果非常好 可选样品室大小与镜筒防振方式MIRA3配置MIRA3 LMH大样品室高真空式电镜,配备有可延长的马达驱动样品台,适合观测导电的样品。MIRA3 LMU可变真空式SEM,体现了高真空模式和低真空模式的优点。在低真空模式下可以观测不导电的样品,不需要喷金。 软件标配: 测量 图象处理 3维扫描 硬度测量 多图像校准 对象区域 自动关机时间 公差 编程软件 定位 投影面积 EasySEMTM选配:根据实际配置和需求 技术规格 配件 二次电子探头(SE),ET型二次电子探头(YAG 闪烁体) 可移动式背散射电子探头(RBSE)*,可移动环行闪烁体类(YAG)具有高灵敏度和原子序数分辨率(0.1Z) 低真空二次电子探头 探针电流测量 压差式防碰撞报警装置 可观察样品室内部的红外线摄像头 等,各种配件可供选择
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  • CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计,并可自动切换,一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤,同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源,射频功率5-100W可调,自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器(MFC),精确测量自动控制气体流量,不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计, 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制,中英文互动操作界面电源/功率220V,50/60Hz,300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器, 氢气纯度﹥99.999%,输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保,终身维护
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  • CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计,并可自动切换,一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤,同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源,射频功率5-100W可调,自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器(MFC),精确测量自动控制气体流量,不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计, 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制,中英文互动操作界面电源/功率220V,50/60Hz,300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器, 氢气纯度﹥99.999%,输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保,终身维护
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  • CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计,并可自动切换,一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤,同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源,射频功率5-100W可调,自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器(MFC),精确测量自动控制气体流量,不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计, 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制,中英文互动操作界面电源/功率220V,50/60Hz,300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器, 氢气纯度﹥99.999%,输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保,终身维护
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  • CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计,并可自动切换,一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤,同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源,射频功率5-100W可调,自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器(MFC),精确测量自动控制气体流量,不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计, 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制,中英文互动操作界面电源/功率220V,50/60Hz,300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器, 氢气纯度﹥99.999%,输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保,终身维护
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  • CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计,并可自动切换清洗源,一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤,同时可实现常规等离子清洗功能。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40(CF40)工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源,射频功率5-150W可调,远程等离子源,自动匹配器气体控制标配单路质量流量计(MFC)可选双路。50毫分/分,自动控制气体流量,不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制皮拉尼真空计,测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制,中英文互动操作界面电源/功率220V,50/60Hz,300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器, 氢气纯度﹥99.999%,输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保,终身维护
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  • 钨灯丝扫描电镜 VEGA VEGA3 LM是一款由计算机控制,可在高真空和低真空模式下工作全自动化钨灯丝扫描电子显微镜,具有突出的光学性能,清晰的数字化图像,成熟的操作软件,用户界面友好等特征。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作方式和完整的图像采集功能,可以保存标准文件格式的图片,可以对图像进行管理、处理和测量,实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。 概述分析潜力: LM大样品室、5轴马达驱动样品台 样品室有11个接口,适用于安装EDX、EBSD、EBIC等探头 一流YAG 闪烁体探头 选配包括了各种探头于可选的配件 涡轮分子泵和机械泵同时工作,几分钟可达到仪器操作需要的真空状态 在可变真空模式下可观测不导电的样品(LMU型号) 可选的样品室减振方式 3维Metrology软件提供了三围重构与3维测量功能VEGA3配置VEGA3 LMH高真空式SEM,配备有5轴马达驱动样品台,适用于观测小型导电样品。VEGA3 LMU可变真空式SEM,体现了高真空模式和低真空模式的优点。在低真空模式下可以观测非导电样品,不需要喷金。 0钨灯丝扫描电镜 VEGA VEGA3 SB VEGA3 SB - EasyProbe VEGA3 LM VEGA3 XM VEGA3 GM产品列表-- 选择产品 --应用实例 更多图片 软件标配: 测量 图象处理 3维扫描 硬度测量 多图像校准 对象区域 自动关机时间 公差 编程软件 定位 投影面积 EasySEMTM选配:根据实际配置和需求 技术规格Electron Gun:钨灯丝/LaB6Resolution:高真空(SE):3 nm @ 30 kV / 2 nm @ 30 kV8 nm @ 3 kV / 5 nm @ 3 kV低真空模式(LVSTD,BSE):3.5 nm @ 30 kV / 2.5 nm @ 30 kV Magnification:2~1,000,000xMaximum Field of View:Accelerating Voltage:从200 V 至 30 kVProbe Current: 配件标配: 二次电子探头(SE),ET型二次电子探头(YAG 闪烁体) 可移动式背散射电子探头(RBSE)*,可移动环行闪烁体类(YAG)具有高灵敏度和原子序数分辨率(0.1Z) 探针电流测量 压差式防碰撞报警装置 可观察样品室内部的红外线摄像头 冷台 等,各种附件可供选择
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  • 隔音箱-电镜隔音箱-屏蔽罩-Herzan 描述:隔音箱-电镜隔音箱-屏蔽罩-Herzan 的AEK-2002是一款经过现场测试和优化的隔音箱,采用了HERZAN专利多层可变密度隔音材料,在50-5,000 Hz范围内的隔音性能可高达45 dB,有利于保护敏感仪器免受破坏性噪音的干扰。 此外,隔音箱-电镜隔音箱-可针对单个应用进行定制和升级,通过提供具体应用的隔音解决方案,为用户的研究仪器提供安静的操作环境以便进行高精度研究。 隔音箱-电镜隔音箱-屏蔽罩-Herzan 工作原理:声学噪声常以不同的方式影响仪器,具体取决于仪器的检测方法和精度水平。对于成像设备,它会导致图像模糊或边缘出现锯齿图案。对于定量仪器,它会降低测量精度。在极端情况下,噪声会完全阻碍测量。由于噪声水平全天波动,因此噪声也会降低测量的可重复性。采用隔音设备对于促进研究和科学发展就有十分重要的意义。 隔离仪器噪音基本上有两种方法:减少噪音或吸收噪音。降噪是声能的阻挡或转移。实现降噪的最佳方法是使用刚性,块状和高密度的材料。柔软或低密度的材料容易传播噪音,不适合转移噪音。吸收噪音需要不同的特性。实际上,较软的材料可以非常有效地吸收声音。具有高表面积的柔软材料(例如泡沫板)非常适合吸收和消除高频噪声。根据频率和能量水平,有些噪声更容易发生转移,而有些则更容易吸收,可以使用密度可变的材料来实现最大程度的降噪。 Herzan隔声箱由不锈钢隔音箱外壳和支架由组成;隔音箱内层采用多层可变密度隔音材料。隔音箱通过密闭的金属箱体结构隔绝空气流动并起到支撑负重的作用,并通过多孔复合材料吸收从100Hz到2000Hz范围内的声波振动,防止空气流动和声音引起设备振动,从而保证光学实验中的精密仪器和器件在稳定的环境下运行。 隔音箱-电镜隔音箱-屏蔽罩-Herzan 产品亮点: 保护最敏感的研究仪器免受嘈杂环境影响多层可变密度隔音材料宽带隔音(50-5,000 Hz)高达45 dB提供性能,可访问性,可用性升级为最终用户和OEM提供100%机箱定制 隔音箱-电镜隔音箱-屏蔽罩-Herzan 应用范围: 原子力显微镜(AFM)扫描探针显微镜(SPM)高精度计量产品测试精密显微镜 升级选项:隔振台集成(主动或被动)隔音性能升级EMI电磁屏蔽NanoDamp框架气体吹洗温度稳定性定制尺寸和颜色 隔音箱-电镜隔音箱-屏蔽罩-Herzan 技术参数:内部尺寸(W x D x H): 25.6 x 28.8 x 24 in/650 x 731.5 x 609.6 mm外部尺寸 (W x D x H): 32.1 x 34.6 x 55.3 in/815.3 x 878.8 x 1404.6 mmAEK-2002 是 Herzan公司至今为止最畅销的隔声设备, 为原子显微镜制造商和使用者提供高品质的设计和高性能的隔声设备. AEK-2002 拥有众多符合标准的高级功能和额外可选的功能.隔音箱-电镜隔音箱-屏蔽罩-Herzan 性能30 dB @ 100 Hz35 dB @ 500 Hz40 dB @ 1000 Hz即使在嘈杂的生产环境中也能提供一个安静的测试环境可选配件让性能提高
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  • 离子源,应用于FEI(赛默飞)的聚焦离子束设备。液态镓离子源 寿命大于1000小时 发射电流 2.0uA821 6845 离子源168 821 7150 离子源171 两种离子源适用机型不同需要根据客户使用机器的具体型号来配置,大束科技自主研发离子源发射电流2.0uA,使用寿命大于1000小时。大束科技成立于2018年,是一家以自主技术驱动的电子显微镜核心配件研发制造商及配套服务商。 目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场,此外,还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务,以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源(电子显微镜灯丝)、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。大束科技致力于成为电子显微镜行业上游配件的研发制造供应商;未来将在满足本土市场的同时,进军国际高端电子显微镜市场。
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  • 钨灯丝扫描电镜 VEGA VEGA3 SB是一款完全由计算机控制的全自动钨灯丝扫描电子显微镜,具有突出的光学性能,清晰的数字化图像,成熟的操作软件,用户界面友好等特征。基于Windows™ 平台,VEGA系列的操作系统配置了包括中文在内的多语种扫描电镜操作界面(唯yi使用核心汉化操作软件的扫描电镜),获取图片后可以用常见的标准格式存储图像,强化了图片归档、图像处理和测量、电镜自动化及其他的一些自动功能。 概述 软件 技术规格 配件 图片 其他分析潜力 SB型号样品室装有3轴马达驱动的样品台 一流YAG 闪烁体探测器 样品室有10个接口可用于安装EDX、EBSD、EBIC等探测器 可选配其他探测器和附件 涡轮分子泵和机械泵同时工作几分钟可达到仪器操作需要的真空状态 在可变真空模式下可观察非导电的样品(SBU型号) 利用3 D Metrology软件可以实现3维重构及测量功能VEGA3配置VEGA3 SBH高真空型SEM,配备有3轴马达驱动样品台,适用于观察小型导电样品。VEGA3 SBU可变真空型扫描电镜,体现了高真空模式和低真空模式的优点,可以在不喷金的情况下利用低真空模式直接观察不导电样品。
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  • 北京金竟科技有限责任公司自主研发的超低温冷台(型号:GSC-MK系列)是极具特色的电镜周边配件之一。它拓宽了扫描电镜观察样品的范围,使得对液体、含水样品、温度敏感和电子束辐照敏感样品等在内的多种样品的直接观测成为可能。可控低温环境为研究材料物理性质随温度变化的特性奠定了基础,例如半导体材料的荧光特性和温度的密切相关性。某些III-V族合金的阴极荧光(简称为CL)发射光谱,需要使用液氮乃至液氦的超低温冷台,因为这些光谱在常规室温的温度下是无法有效检测到的。低温冷台在材料、半导体、生物样品等的检测中具有广泛的应用。在半导体光电领域,低温冷台有助于提高光电材料在较低温度下的发光效率。在相同的入射电子束激发能量下,低温环境下的检测可以获得更高强度的CL发射,同时锐化系统的光谱,因此能够更加有效地研究弱光信号发射。低温CL测量的一个重要应用是解析大量的线谱,这些线谱可以用基本的原子和量子力学术语来解释,并与相应的理论相关联。产品主要组成部分 制冷系统:超低温冷台的核心部分,能够将温度降低到所需的超低温水平。 低温样品台:放置实验样品的地方,需要能够保持温度稳定,并具有良好的隔热性能。 控制系统:用于控制超低温冷台的各项操作,例如温度控制、样品移动等。 其他辅助设备:例如液氮/液氦罐、低温传输管线等,用于维持冷台的稳定运行。
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  • Diener电镜专用等离子清洗机用途: 主要用于除去透射电镜样品及样品杆上的污染,防止碳沉积以降低图像分辨率及对样品微区分析造成误判。还可以利用该仪器清洗各类光阑等电子显微镜配件。特别适用于场发射扫描电镜和场发射透射电镜。用这种低能高频等离子体清洗样品表面,不会改变样品元素成份和表面结构特征。主要技术参数:1. 可对多孔碳膜进行高效且无破坏的清洗,提高样品在低电压下的成像能力,在化学微量分析时提高其精度2. 无油真空系统:泵体部分由多级隔膜泵和超净音分子泵组成,在保证真空度的同时,可在两分钟之内达到抽真空和放气过程,整个清洗过程在4分钟内可以完成3. 可清洗标准透射电镜样品杆4. 可清洗多孔碳膜5. 清洗时间:普通污染样品小于2分钟,重度污染样品小于10分钟 6. 重现性:可以自动记录下同类产品清洗的条件,下次清同类产品时可以样条件进行技术规格:控制方式手动控制发生器40KHz,0~100W腔体材质高硼硅玻璃腔体尺寸Dia.90*L280mm气路单路清清时间旋钮式计时器0~99hour压力控制范围0~2mbar外型尺寸W345*D420*H211mm电源电压单相AC230V,16A真空泵排气速度4m3/hour,极限真空度0.5Pa选配发生器2.45GHz和13.56MHz腔体材质石英玻璃气路双路计时器数字式计时器减压阀配专用气路接口钢瓶10L
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  • 产品创新点上市时间:2019年4月此次发售的“SU3800”与“SU3900”,支持超大/超重样品的观察,特别是大型扫描电镜“SU3900”,可选配最大直径300mm *1、最大承重5kg样品(比前代机型提高2.5倍*2)的样品台,即使是超大样品也无需切割加工即可观察。   同时操作性能也得到了全面升级。样品安装完成后,通过自动光路调整及各种自动功能调整图像,随后可立即获得样品图像,真正实现了快速观察。   前代机型是仅仅通过CCD导航相机的单一彩色图像寻找视野*3。新机型则通过旋转样品台,分别拍摄样品各个部分,再将各个图像拼接成1张大图像,实现了大视野的相机导航观察,十分适用于超大样品的大范围观察。产品简介【产品背景】在以纳米技术和生物技术为主的产业领域里,从物质的微细结构到组成成分,SEM在多种多样的观察与分析中得到了灵活应用。SEM用途日益扩大,但对于钢铁等工业材料和汽车零配件等超大/超重样品,由于电镜样品台能对应的样品尺寸和重量受到限制,所以观察时需要进行切割等加工。因此,对超大样品不施以加工处理,便可直接观察表面微细形貌和进行各种分析则成为重要的课题。近年来为了实现各种材料的高功能化和高性能化,需要观察并优化材料的微细结构。目前SEM的应用除了以往的研究开发以外,已扩展到质量和生产管理方面,使用频率日益高涨。同时市场也对仪器的操作性能提出了更高的要求,以进一步减轻操作人员的负担。此次发售的“SU3800”与“SU3900”,支持超大/超重样品的观察,特别是大型扫描电镜“SU3900”,可选配最 大直径300mm *1、最 大承重5kg样品(比前代机型提高2.5倍*2)的样品台,即使是超大样品也无需切割加工即可观察。同时操作性能也得到了全面升级。样品安装完成后,通过自动光路调整及各种自动功能调整图像,随后可立即获得样品图像,真正实现了快速观察。前代机型是仅仅通过CCD导航相机的单一彩色图像寻找视野*3。新机型则通过旋转样品台,分别拍摄样品各个部分,再将各个图像拼接成1张大图像,实现了大视野的相机导航观察,十分适用于超大样品的大范围观察。【主要特点】  (1) 支持超大/超重样品测试  可搭载的最 大样品尺寸:“SU3800” 标配可搭载直径200mm样品的样品仓,可应对最 大高度为80mm、重量为2kg的样品。 “SU3900”作为日立高新技术的大型扫描电镜,标配可搭载最 大直径300mm样品的样品仓,可应对最 大高度为130mm、重量为5kg(比前代机型提高2.5倍*2)的样品  (2) 支持大视野观察  ■“SU3800”与“SU3900”的最 大观察范围分别是:直径130mm、直径200mm  ■安装有“SEM MAP”导航功能,只需在导航画面上指定观察目标位置,即可移动视野  ■安装有“Multi Zigzag”系统,可在不同的视野自动拍摄多张高倍率图像,并将取得的图像拼接在一起,生成大视野高像素图像  (3) 通过自动化功能提高操作性能  ■通过自动光路调整和各种自动化功能,样品设置完后立即可以开始观察。关于图像调整,自动功能执行时的等待时间比前代机型*4缩短了三分之一以下  ■安装有“Intelligent Filament Technology(IFT)”软件,自动监控钨灯丝*5的状况,显示预计的更换时期。在长时间的连续观察和颗粒度解析等大视野分析时,也可避免长时间测试过程中因钨灯丝使用寿命到期所造成的中断观察。
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  • 聚焦离子束(Xe)扫描电镜 FERA FERA3 GM是一款由计算机完全控制的Xe等离子聚焦离子束(i-FIB)场发射扫描电子显微镜,可选配气体注入系统 (GIS),可在高真空和低真空模式下工作,其具有突出的光学性能、清晰的数字化图像、成熟和用户界面友好的SEM/FIB/GIS操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简单的电镜操作和图像采集,可以保存标准文件格式的图片,可以对图像进行管理、处理和测量,实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。 概述 软件标配:测量图象处理3维扫描硬度测量多图像校准对象区域自动关机时间公差编程软件定位投影面积EasySEMTM选配:根据实际配置和需求 技术规格 配件二次电子探头 背散射电子探头 In-Beam SE In-Beam BSE 探针电流测量 压差式防碰撞报警装置 可观察样品室内部的红外线摄像头 TOP-SIMS 二次离子探头 等,各种配件可供选择 图片 其他分析潜力 高亮度肖特基发射可获得高分辨率、高电流和低噪声的图像 选配的In-Beam二次电子探头可获取超高分辨率图像 三透镜大视野观察(Wide Field Optics™ )设计提供了多种工作模式和显示模式,体现了TESCAN特有可优化电子束光阑的中间镜设计 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪(In-Flight Beam Tracing™ )可模拟和进行束斑优化 成像速度快 低电压下的电子束减速模式(Beam Deceleration Technology – BDT)可获取高分辨率图像 (选配) In-Beam背散射电子探头,用于在小工作距离下得BSE图像(选配),甚至适合铁磁性样品 全计算机化优中心电动载台设计优化了样品操控 完美的几何设计更适合安装能谱仪(EDX)、波谱仪(WDX)、背散射电子衍射仪(EBSD) 由于使用了强力的涡沦分子泵和干式前置真空泵, 因而可以很快达到电镜的工作真空,电子枪的真空由离子泵维持 自动的电子光路设置和合轴 网络操作和内置的远程控制/诊断软件 3维电子束技术提供实时立体图像 在低真空模式下样品室真空可达到500Pa 用于观测不导电样品 独特的离子差异泵(2个离子泵)使得离子散射效应超低 聚焦离子束镜筒内有马达驱动高重复性光阑转换器 聚焦离子束的标配包括了电子束遮没装置和法拉第筒 高束流下超高的铣削速度和卓越的性能 FIB切割、信号采集、3维重构(断层摄影术),3D EBSD、3D EBIC与集成3维可视化 成熟的SEM/FIB/GIS操作软件,图像采集、存档、处理和分析功能FERA3配置FERA3 GMH是一款完全由计算机控制的Xe等离子聚焦离子束(i-FIB)场发射扫描电子显微镜,可选配气体注入系统(GIS),在高真空模式下工作。FERA3 GMU是一款完全由计算机控制的Xe等离子聚焦离子束(i-FIB)场发射扫描电子显微镜,可选配气体注入系统(GIS),可在高真空和低真空模式下工作。
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  • FEI Quanta Inspect低真空扫描电子显微镜1.设备生产日期:2013年,设备目前在使用状态,一切良好2.设备到位时间:合同签订后,预付6个月押金后的1个月内。3.金鉴承诺服务:(1)安装调试,使用培训(2)3个月保修(3)过保修期,配件,耗材客户自行找二手设备商更换,金鉴可帮介绍二手设备商4.设备特点:(1)分辨率高,放大2万倍依然很清晰(2)原价180万,配置高,探头多。相对于传统配置,多了红外探头、低真空模式探头和背散射探头(3)其低真空模式二次电子探头低真空扫描电镜可直接检验非导电导热样品,无需进行处理,但是低真空状态下只能获得背散射电子像。 低真空扫描电镜可以对各种固体和液体样品进行形态观察和元素(C-U)定性定量分析,对部分溶液进行相变过程观察。对于生物样品、含水样品、含油样品,既不需要脱水,也不必进行导电处理,可在自然的状态下直接观察二次电子图像并分析元素成分。5.设备参数:FEI Quanta Inspect低真空扫描电子显微镜Quanta Inspect Specifications(Quanta Inspect 低真空扫描电子显微镜技术参数)Resolution(分辨率):- 3.0nm @30 kV High vacuum mode(高真空模式下30 kV时,3.0nm)- 3.0nm @30 kV Low vacuum mode(低真空模式下30 kV时,3.0nm)Magnification(放大倍数):- 7x to 600,000x连续可调Accelerating voltage(加速电压):- 200V to 30 kV (200V~30kV)连续可调Filament(灯丝)- W. hairpin filament(钨灯丝)Maximum probe current(最大束流):- 2μAChamber vacuum(样品室真空):- 6x10-4 to 270Pa(6x10-4 ~270Pa )Two modes: high vacuum, low vacuum(两种模式:高真空,低真空)Vacuum system(真空系统):- 1x250 Vs TMP(1个250 Vs分子涡轮膜)- 2x2 PVP (2个机械泵)- Through-the-lens differential pumping(透镜内距差真空系统)Detectors(探测器):- Eyehardt Thornley SED(高真空模式E-T二次电子探头)- Large Field Gaseous SED(低真空模式LF GSED 二次电子探头)- IR-CCD (红外CCD机)- Solid-State SED(固体电子探头)Chamber(样品室)-284nm left to right(左右长度284nm)-10nm analysis WD (10nm 分析二次距离)Image processor(图像处理):- Up to 3584x3094 pixels(最大3584x3094像素)- File type: TIFF(8 or 16 bit), BMP, or JPEG(图像格式:TIFF,BMP或JPEG)Image display (图像显示):-17’’LCD,SVGA 1280X1024(17’’LCD显示器,1280X1024分辨率)-Single frame image display(单核图像显示)-Frame average integration(帧平均成积分)System control(系统控制):-32-bit graphical user interface, with Windows XP keyboard, optical mouse(32位图形用户界面,Windows XP键盘,鼠标)Installation requirement(安装要求):-Power(电源) -Voltage(电压):230V(6%,10%) -Frequency(频率):50Hz or 60Hz -Power consumption (耗电量)<15A for basic electroplate (电镀基本系统<15A) -Earth resistance(地面电阻):<1Ohm-Environment(环境) -Temperature (温度):13-30℃ -Relative humidity(相对湿度):≦80%6.应用案例:(1)500放大倍率: (2)5000放大倍率:(3)10000放大倍率: (4)20000放大倍率:
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  • 聚焦离子束(Xe)扫描电镜 FERA FERA3 XM是一款由计算机全控制的Xe等离子聚焦离子束(i-FIB)场发射扫描电子显微镜,可选配气体注入系统 (GIS),可在高真空和低真空模式下工作,其具有突出的光学性能、清晰的数字化图像、成熟和用户界面友好的SEM/FIB/GIS操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集,可以保存标准文件格式的图片,可以对图像进行管理、处理和测量,实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。 概述 软件 技术规格 配件 图片 其他分析潜力 高亮度肖特基发射可获得高分辨率,高电流和低噪声的图像 选配的In-Beam二次电子探头可获取超高分辨率图像 三透镜大视野观察(Wide Field Optics™ )设计提供了多种工作模式和显示模式,体现了TESCAN特有可优化电子束光阑的中间镜设计 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪(In-Flight Beam Tracing™ )可模拟和进行束斑优化 成像速度快 低电压下的电子束减速模式(Beam Deceleration Technology – BDT)可获取高分辨率图像(选配) In-Beam背散射电子探头,用于在小工作距离下得BSE图像(选配),甚至适合铁磁性样品 全计算机化优中心电动载台设计优化了样品操控 完美的几何设计更适合安装能谱仪(EDX)、波谱仪(WDX)、背散射电子衍射仪(EBSD) 由于使用了强力的涡沦分子泵和干式前置真空泵,因而可以很快达到电镜的工作真空。电子枪的真空由离子泵维持。 自动的电子光路设置和合轴 网络操作和内置的远程控制/诊断软件 3维电子束技术提供实时立体图像 低真空模式下样品室真空可达到500Pa用于观测不导电样品 独特的离子差异泵(2个离子泵)使得离子散射效应超低 聚焦离子束镜筒内有马达驱动高重复性光阑转换器 聚焦离子束的标配包括了电子束遮没装置和法拉第筒 高束流下超高的铣削速度和卓越的性能 FIB切割、信号采集、3维重构(断层摄影术),3D EBSD、3D EBIC与集成3维可视化 成熟的SEM/FIB/GIS操作软件,图像采集、存档、处理和分析功能FERA3配置FERA3 XMH是一款完全由计算机控制的Xe等离子聚焦离子束(i-FIB)场发射扫描电子显微镜,可选配气体注入系统(GIS),在真空模式下工作。FERA3 XMU是一款完全由计算机控制的Xe等离子聚焦离子束(i-FIB)场发射扫描电子显微镜,可选配气体注入系统(GIS),可在高真空和低真空模式下工作。
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  • FEI扫描电镜 400-860-5168转3136
    扫描电子显微镜Apreo 材料科学应用功能最为丰富的高性能 SEMApreo 性的复合透镜设计结合了静电和磁浸没技术,可产生前所未有的高分辨率和信号选择。这使得 Apreo 成为研究纳米颗粒、催化剂、粉末和纳米器件的理想平台,并且不会降低磁性样品性能。Apreo 受益于独特的透镜内背散射探测,这种探测提供卓越的材料对比度,即使在倾斜、工作距离很短或用于敏感样品时也不例外。新型复合透镜通过能量过滤进一步提高了对比度并增加了用于绝缘样品成像的电荷过滤。可选低真空模式现在的样品仓压力为 500 Pa,可以对要求最严苛的绝缘体进行成像。通过这些优势(包括复合末级透镜、高级探测和灵活样品处理),Apreo 可提供出色的性能和多功能性,帮助您应对未来的研究难题。体验 Apreo SEM 带来的优势 独有的复合末级透镜可在任何样品(即使在倾斜时或进行地形测量时)上提供优异的分辨率(1 kV 电压下为 1.0 nm),而无需进行电子束减速。 作用极大的背散射探测 - 始终保证良好的材料对比度,即使以低电压和电子束电流并以任何倾斜角度对电子束敏感样品进行 TV 速率成像时也不例外。 无比灵活的探测器 - 可将各个探测器部分提供的信息相结合,获得至关重要的对比度或信号强度。 各种各样的电荷缓解策略,包括样品仓压力为 500 Pa 的低真空模式,可实现任何样品的成像。 卓越的分析平台提供高电子束电流,而且光斑很小。样品仓支持三个 EDS 探测器、共面的 EDS 和 EBSD 以及针对分析进行了优化的低真空系统。 样品处理和导航极其简单,具有多用途样品支架和 Nav-Cam+。 通过高级用户指导、预设和撤消功能为新用户提供专家级结果。Apreo FAQ在切换到低真空模式之前,是否需要插入 GAD 探测器?低真空模式可在没有安装任何配件的情况下使用。可达到的压力范围将达到 50 Pa。使用压力限制孔 (PLA),如气体分析探测器 (GAD),结果将进一步改善。此外,借助 GAD,压力可以达到 500 Pa。浸没透镜的“选配”是什么意思?配置系统时不需要浸没透镜,如果安装,也不需要使用。每个 Apreo 可在 1 kV 下实现 1.3 nm 分辨率。通过安装和激发浸没透镜,可在 1 kV 下提高到 1.0 nm。此外,还提供了额外的复合透镜过滤功能。静电镜筒关闭时,您可以使用浸没吗?原则上来说没有。加速管和浸没透镜均打开时可以获得效果。没有仅用于浸没的明确使用情况。默认情况下,Apreo 在操作时开启加速管,在必要时开启浸没。镜筒内探测器(T1、T2、T3)是否能在 TV 速率下工作?是的,可以工作。您说在倾斜样品上不可能实现电子束减速。为什么?电子束减速 (BD) 在样品和极片之间形成了一个静电场。使用倾斜的样品,场线将成一定角度,这会在图像中导致歪曲。这也发生在具有较大地形特征的样品上。因此,即使 BD 是一个非常有用的功能,并且是 Apreo 的标配功能,它也不能在所有情况下使用。因此,Apreo 不依靠 BD 来实现其分辨率。对于浸没系统,在不使用 BD 时,在 1 kV 下的分辨率为 1.0 nm,在不使用浸没透镜时,在 1 kV 下的分辨率为 1.3 nm。
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  • FEI扫描电镜 400-860-5168转6135
    扫描电子显微镜Apreo 材料科学应用功能最为丰富的高性能 SEMApreo 性的复合透镜设计结合了静电和磁浸没技术,可产生前所未有的高分辨率和信号选择。这使得 Apreo 成为研究纳米颗粒、催化剂、粉末和纳米器件的理想平台,并且不会降低磁性样品性能。Apreo 受益于独特的透镜内背散射探测,这种探测提供卓越的材料对比度,即使在倾斜、工作距离很短或用于敏感样品时也不例外。新型复合透镜通过能量过滤进一步提高了对比度并增加了用于绝缘样品成像的电荷过滤。可选低真空模式现在的样品仓压力为 500 Pa,可以对要求最严苛的绝缘体进行成像。通过这些优势(包括复合末级透镜、高级探测和灵活样品处理),Apreo 可提供出色的性能和多功能性,帮助您应对未来的研究难题。体验 Apreo SEM 带来的优势 独有的复合末级透镜可在任何样品(即使在倾斜时或进行地形测量时)上提供优异的分辨率(1 kV 电压下为 1.0 nm),而无需进行电子束减速。 作用极大的背散射探测 - 始终保证良好的材料对比度,即使以低电压和电子束电流并以任何倾斜角度对电子束敏感样品进行 TV 速率成像时也不例外。 无比灵活的探测器 - 可将各个探测器部分提供的信息相结合,获得至关重要的对比度或信号强度。 各种各样的电荷缓解策略,包括样品仓压力为 500 Pa 的低真空模式,可实现任何样品的成像。 卓越的分析平台提供高电子束电流,而且光斑很小。样品仓支持三个 EDS 探测器、共面的 EDS 和 EBSD 以及针对分析进行了优化的低真空系统。 样品处理和导航极其简单,具有多用途样品支架和 Nav-Cam+。 通过高级用户指导、预设和撤消功能为新用户提供专家级结果。Apreo FAQ在切换到低真空模式之前,是否需要插入 GAD 探测器?低真空模式可在没有安装任何配件的情况下使用。可达到的压力范围将达到 50 Pa。使用压力限制孔 (PLA),如气体分析探测器 (GAD),结果将进一步改善。此外,借助 GAD,压力可以达到 500 Pa。浸没透镜的“选配”是什么意思?配置系统时不需要浸没透镜,如果安装,也不需要使用。每个 Apreo 可在 1 kV 下实现 1.3 nm 分辨率。通过安装和激发浸没透镜,可在 1 kV 下提高到 1.0 nm。此外,还提供了额外的复合透镜过滤功能。静电镜筒关闭时,您可以使用浸没吗?原则上来说没有。加速管和浸没透镜均打开时可以获得效果。没有仅用于浸没的明确使用情况。默认情况下,Apreo 在操作时开启加速管,在必要时开启浸没。镜筒内探测器(T1、T2、T3)是否能在 TV 速率下工作?是的,可以工作。您说在倾斜样品上不可能实现电子束减速。为什么?电子束减速 (BD) 在样品和极片之间形成了一个静电场。使用倾斜的样品,场线将成一定角度,这会在图像中导致歪曲。这也发生在具有较大地形特征的样品上。因此,即使 BD 是一个非常有用的功能,并且是 Apreo 的标配功能,它也不能在所有情况下使用。因此,Apreo 不依靠 BD 来实现其分辨率。对于浸没系统,在不使用 BD 时,在 1 kV 下的分辨率为 1.0 nm,在不使用浸没透镜时,在 1 kV 下的分辨率为 1.3 nm。
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  • FEI Quanta 系列包括六款可变压力和环境扫描电子显微镜 (ESEM&trade )。所有这些产品均可满足工业工艺控制实验室、材料科学实验室和生命科学实验室的多种样本和成像要求。Quanta 系列扫描电子显微镜属于多功能、高性能仪器,并具有高真空、低真空和 ESEM 三种模式,能够处理的样本类型之多堪称 SEM 系统之最。所有 Quanta SEM 系统均可配备分析系统,比如能量色散谱仪、X 射线波长色散谱仪以及电子背散射衍射系统。此外,场发射电子枪 (FEG) 系统含有一个用于明场和暗场样本成像的 S/TEM 检测器。SEM 系统中的另一个可变配置是电动工作台的尺寸(分 50mm、100mm 和 150mm 三种)以及电动 Z 轴行程的大小(分别为 25mm、60mm 和 65mm)。Quanta 650 和 650 FEG 都设计了大标本室,能够分析和浏览大型标本。Quanta 的材料科学应用随着 Quanta 50 系列的推出,现在的 Quanta SEM 系列更为灵活。对于材料科学来说,这些全新仪器可满足对众多类型材料进行研究以及表征结构和成分的需求。FEI Quanta&trade 50 系列十分灵活,功能多样,能够应对当今众多研究领域的挑战。观测任意样本并获得所有数据 - 表面和成分图像可与配件结合起来,确定材料属性和元素成分。Quanta 旨在增加您实验室的可发表成果。Quanta 标准环境 SEM (ESEM) 功能可以提供额外的能力,用于处理您之前认为电子显微技术无法处理的样品和应用,同时协助预测长期的材料性能。 对水化物样品成像。 潮湿或热循环期间的结晶或相变。 悬浮或自组装过程中的粒子。 金属腐蚀。 拉伸试验(根据需要加热或冷却)。 Quanta 自身的多功能性使之非常适合用于材料科学。它善于执行传统高分辨率 SEM 成像/分析,在动态原位 实验方面同样游刃有余。Quanta 可以让您研究自然状态下的广泛样品,从而获得最准确的结构和组成信息: 氧化/腐蚀样品 陶瓷材料、复合材料、塑料 薄膜和涂层 软材料:聚合物、药物、凝胶 颗粒物、多孔材料、纤维合作、共赢!美国热电:直读光谱仪ARL8860、XRF、XRD ICP、电镜、电子能谱仪德国徕卡:金相显微镜、体视显微镜、电镜制样设备英斯特朗:疲劳试验机、万能试验机; 摆锤冲击试验机、落锤冲击试验机东京精密:圆度仪、轮廓仪、粗糙度仪、三坐标美国法如:激光跟踪仪、关节臂及扫描 日本奥林巴斯手持光谱仪 德国帕马斯颗粒计数器租赁检测:便携式三坐标、激光跟踪仪、3D扫描仪为客户提供专业的检测服务,帮客户挖掘新的赢利空间!上海澳信检测技术有限公司青岛澳信仪器有限公司青岛澳信质量技术服务有限公司联系地址:青岛市城阳区山河路702号上海地址:上海浦东新区川沙路1098号新美测(青岛)测试科技有限公司提供测试服务:静态力学测试主要包括拉伸、压缩、弯曲、剪切等;动态疲劳测试主要包括:拉拉疲劳、拉压疲劳、压压疲劳、裂纹扩展速率等
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  • 1. 悠久的电子显微镜研究及生产历史ZEISS公司具有悠久的电镜研究、生产历史,在世界上一直处于地位。当今的ZEISS公司纳米技术系统分部(The Nano Technology Systems Division of Carl Zeiss SMT)由德国本部电镜生产基地和英国剑桥厂及其他配件厂组成。积扫描电镜领域及透射电镜领域多年的研发经验,ZEISS电子束技术在世界上创造了数个一:一台静电式 TEM (1949)一台商用 SEM (1965)一台全数字 SEM (1985)一台带有成像滤波器的 TEM (1992)一台可变压力 FE-SEM (2001)一台具有Koehler照明的 200kV FE EFTEM (2003)一台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的EFTEM (2003) ZEISS电镜技术经历了Cambridge、OPTON、LEICA、LEO等发展阶段,现已具有钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等生产能力的厂家。其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。2. 先进的仪器结构设计ZEISS扫描电镜采用通用的镜体设计,可配备各种不同的附件,适应各种分析的需要。并具有灵活的可升级性,可按照用户研究工作发展的需要进行升级。各种类型的扫描电镜均有高真空、低真空(或超低真空)型号,以满足不同样品检测的需要。3. 卓越的技术性能高分辨率 : 目前,钨灯丝扫描电镜的分辨率达到3nm,能够满足失效分析、材料研究等方面的需要。大样品室: ZEISS扫描电镜具有世界上大的样品室,样品室内部尺寸为Φ365mm×275mm,全对中的样品台,可放置的大样品尺寸为Φ250mm×145mm,样品台大承载重量为5kg,方便各种大样品的分析。高效无污染真空系统: ZEISS各种型号的扫描电镜均采用了涡轮分子泵抽真空,其抽真空速度快、无污染、免维护是其大的优势。还可提供无油的真空系统。自动化操作: 新型的扫描电镜全部采用当前先进的计算机集成自动化控制,采用Windows视窗操作系统、图形用户控制界面,全部操作可用键盘和鼠标完成。样品台坐标轴全部马达驱动,软件功能强大,操作非常简单和方便。五轴马达自动控制全对中样品台:X:125mm Y:125mm Z:50mm T: 0~+90度 R:360度。高稳定性、可靠性: ZEISS扫描电镜具有很高的稳定性,镜筒、电路板等均采用了水冷,保证了其工作的稳定与可靠。做工的精湛,工艺的考究,也为世界之首。4. 全面的成像解决方案ZEISS的钨灯丝扫描电镜可以提供高真空、低真空和超低真空工作模式,对任何材料都没有局限性,满足金属、陶瓷、地矿、化工、半导体、生命科学等所有研究领域需要。其超大样品室预留足够端口,可搭配能谱、波谱、背散射电子衍射、阴极荧光等,样品台可装加热台、冷却台和拉伸台以满足各种研究需要。其大束流和优异的束流稳定度支持各种大束流和长时间的分析。扫描电镜的强大功能已使其成为研究所以及工厂的微观失效分析的一个基本工具,为失效分析提供真实确切的证据,提高相应领域的分析水平。广泛应用于航空航天、交通、材料、冶金、地矿、半导体、生命科学等方面。5. 低真空的应用在失效分析中,除了金属样品外,还有很多非金属样品,这些样品导电性很差。要分析这些非导电样品,样品的充电是不可避免的。由于电子束打到样品上使样品带电,其产生的电场影响了二次电子的产生和接收,使图像上呈现一片片亮的或暗的区域,无法进行正常观察。要对这些非导电样品进行分析,就必须排除样品充电的影响。其方法之一就是将样品上的电荷中和掉。ZEISS扫描电镜所采取的措施是:使样品室处于低真空状态,样品表面所产生的二次电子与样品室中的气体分子相碰撞,使气体电离,这些气体离子附着于样品表面,将样品上所带的电荷中和掉。使用专用的探测器,接收二次电子与气体分子相碰撞时产生的光子,这些光子也就代表了二次电子信号,使成像不受样品导电性的影响,在分析这些样品时能够得到理想的成像。对于一些含水、含油的样品,可以采用更低的真空度,使水分在该压力、温度下不至于挥发,这样便可观察到真实的生物样品形貌。6. 具有多种观察模式,分辨率模式、景深模式、分析模式、视场模式、鱼眼模式。
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