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薄膜物理分析仪

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薄膜物理分析仪相关的论坛

  • 《薄膜物理》

    薄膜物理[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=15937]薄膜物理[/url]

  • 薄膜综合物性分析仪（导热，赛贝克，电阻率，霍尔，迁移率

    薄膜综合物性分析仪（导热，赛贝克，电阻率，霍尔，迁移率

    薄膜综合物性分析仪（导热系数，电导率，电阻率，赛贝克系数，霍尔系数，迁移率 载流子浓度 发射率）同步测量苏需要的热物性参数，消除样品的几何尺寸，样品物质组分和热分布不均的影响，结果非常具有可靠性。可测量30nm-30μm的涂层与薄膜样品，样品面积约25mm²采用芯片式设计，样品于传感器紧密接触，构成一个缩小的热带发导热测量模型，可配置锁相放大器，以适应3ω法对样品的in-plance和cross-plance导热进行测量。可以适应不同材质样品。无论是金属，陶瓷，半导体等无机薄膜还是有机薄膜，都可以用TFA测量模块化设计， 根据需求，添加测量模块。1：瞬态导热测量磨坏：锁相放大器 配置3ω测量单元，可测平面，交叉面导热系数，比热等2: 霍尔效应测量模块： 配置磁场单元，可测霍尔电压，迁移率，载流子浓度。3 低温附件模块：-150°-400°C 样品两侧均安装LN2管道， 有利于样品两侧温度控制。导热系数：稳态热带法，3ω法。电阻于霍尔系数：范德堡法赛贝克：静态直流法http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/01/201601151255_581948_3060548_3.jpghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/01/201601151255_581949_3060548_3.pnghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2016/01/201601151255_581950_3060548_3.png

  • 【求助】关于GaN薄膜断面分析

    【求助】关于GaN薄膜断面分析

    所传图片为GaN薄膜的断面分析，该图片有点不是太明白，想请各位前辈指导一下。在图中“A”代表什么？“B”是不是薄膜的最外层？“C”是不是超晶格结构层？“D”是不是也是一层GaN薄膜？在该图中基片层是不是没有显示出来？已知该薄膜为在蓝宝石衬底上生产的GaN薄膜，其中有超晶格结构。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/02/200902241106_134986_1874631_3.jpg[/img]

  • CZTS 薄膜的拉曼光谱分析

    CZTS 薄膜的拉曼光谱分析，紫外拉曼找到新的用途，普通拉曼一般无法鉴别CZTS 薄膜中的ZnS，而紫外拉曼可以。

  • 【求助】关于薄膜断面透镜分析

    【求助】关于薄膜断面透镜分析

    本人在透镜断面分析方面遇到一些问题，想向各位前辈请教一下。下面的几幅图片都是同一个样品的断面分析照片，不知道该怎么分析，希望能够得到各位前辈的指点。谢谢。 该样品是在蓝宝石衬底上生长的GaN薄膜，其中含有超晶格结构。在图片“001”里面，请问“A”“B”“C”“D”分别代表什么层？“B”是不是样品的最外层薄膜？“C”是不是超晶格结构层？“D”是不是里面的一层薄膜？在该图片中，衬底蓝宝石是不是没有显示出来？[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/02/200902281157_135935_1874631_3.jpg[/img][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/02/200902281157_135937_1874631_3.jpg[/img][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/02/200902281158_135938_1874631_3.jpg[/img][img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/02/200902281158_135939_1874631_3.jpg[/img]

  • 薄膜表面穿透孔的孔径检测

    我现在使用的薄膜，可以渗透水蒸气，但是不能透过液态水。所以想找相关得仪器测试测试一下薄膜表面能够穿透薄膜的孔的大小，做过扫面电镜和比表面积及孔径分析仪的检测，扫面电镜只能看到薄膜表面的凹坑，不能确定这个凹坑是否穿透薄膜。孔径分析也是这样，测得都是凹坑的孔径分布。但我现在想做穿透孔的测试，望大神们给予建议，谢谢！

  • 【求助】请教高手关于非晶碳薄膜的拉曼分析

    本人最近刚接触拉曼光谱，恳请大侠们不吝赐教！前期做了一些非晶碳薄膜材料，用磁控溅射方法制备，想利用Raman分析薄膜中sp2C和sp3C杂化态及其含量，看文献中介绍D峰和G峰，还是不太明白具体含义，请高手详细解释一下！另外，ID/IG如何获得？其比例能否代表sp2C和sp3C的含量？

  • 薄膜表面穿透孔的孔径检测

    我现在使用的薄膜，可以渗透水蒸气，但是不能透过液态水。所以想找相关得仪器测试测试一下薄膜表面能够穿透薄膜的孔的大小，做过扫面电镜和比表面积及孔径分析仪的检测，扫面电镜只能看到薄膜表面的凹坑，不能确定这个凹坑是否穿透薄膜。孔径分析也是这样，测得都是凹坑的孔径分布。但我现在想做穿透孔的测试，望大神们给予建议，谢谢！

  • 【求购】沥青薄膜烘箱仪、自动软化点仪、延长度测定仪等

    我欲选购如下几种沥青性质分析仪器： 薄膜烘箱分析仪，要求比老式仪器有更好的性能。 自动软化点测定仪。 延长度测定仪。 欢迎各厂家提供详细信息，包括仪器的性能，价格，适用标准，还有哪些厂在使用等等。 原来使用的仪器有些老旧，有的性能无法达到标准要求需更换。 急需这方面的信息！！！请尽快提供。

  • 不会分析蓝宝石上薄膜xrd

    用MOCVD在a面蓝宝石上渡上GaN薄膜，xrd图谱中去掉背景后变成了三个峰，没有去时，只有一个峰，去掉后的三个峰中面间距差不多，都是五点几埃，有一个最强峰，右边有两个小小的峰，物相分析时无法找到GaN，最强峰可以与蓝宝石吻合，为什么啊，谢谢

  • 【求助】XRD掠入射衍射分析薄膜表面的结构

    XRD掠入射衍射是分析薄膜表面结构的极为有效的放发，可以对薄膜进行深度分层分析，其参与散射的晶面接近垂直于薄膜表面。采用位敏探测器，可以在固定的入射角度同时记录散射强度随出射角的变化，等同于晶体截断杆扫描，扫描时晶体绕平行于表面法向的轴转动，因而可以记录在不同Qz处QxQy面内的散射强度分布。那么可不可以采用掠入射衍射方法表征垂直于薄膜便面的结构呢？比如说一个1-3型的薄膜样品，一相以柱状结构embedded in另外一相的matrix中。可不可以这样：扫描不同Qz层的强度分布，如果每层的分布强度一样或者接近，则可认为存在这样1-3型的柱状结构？

  • 【转帖】CPP薄膜的技术进展及市场分析

    摘要：本文简要介绍了流延聚丙烯薄膜（CPP）在生产工艺、生产设备、原料等几个方面的技术进展，对一些新产品进行初步探讨，根据市场状况提出一些看法。关键词：聚丙烯 流延 薄膜 技术进展 市场前言 我国CPP薄膜起步于20世纪80年代，刚开始由国外引进单层流延设备，宽只有1~1.5m，年生产能力约1000~1500吨/台，进入90年代，从奥地利兰精公司、日本三菱重工、德国Reifenhauser 、 W＆H 、 意大利Colines、 Dolci、 美国Battenfeld等引进了多层共挤流延膜生产线，宽2~2.5 m，年生产能力3000~4000吨/台，2000年以来更是突飞猛进，引进了更为先进的生产线，宽4~4.5 m，年生产能力5000~6000吨/台的多层共挤流延膜生产线。同时，国产设备也得到快速度发展。原料从刚开始完全依赖进口到现在均聚、二元共聚料国产料已基本可以替代进口；产品从刚开始单一的复合级发展到现在有镀铝级、蒸煮级、印刷级及其他功能性薄膜；CPP薄膜已发展成为最主要的包装薄膜之一，当然市场供求关系亦从原来的供不应求发展到现在生产能力过剩的状态。

  • 【原创】薄膜物性测量中的假象分析(2)-想说铁电很容易吗?::Artifacts in films' characterizations(2)-fake ferroelectric hysteresis.

    【原创】薄膜物性测量中的假象分析(2)-想说铁电很容易吗?::Artifacts in films' characterizations(2)-fake ferroelectric hysteresis.

    [img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2008/07/200807280008_100339_1611921_3.jpg[/img]图1 一个典型的"铁电"薄膜样品的假象铁电回线分析图[color=#dc143c]本贴首先从材料和仪器的介绍入手，然后讨论当前在材料尤其是薄膜材料的铁电分析中不引人注意的非常容易出假象的地方，最后给出一套合理的规避假象的铁电性表征和分析的方法和建议。[/color]图1所示是一个典型的"铁电"薄膜样品的假象铁电回线分析图，为什么说它是假象，让我们先从基本的材料和仪器讨论开始。铁电体是一定温度范围内具有两种或多种稳定的自发极化状态的介电体。因此一般说来，铁电体具有以下两个显著的特点：特定温度下的铁电相变；和居里温度以下自发存在相互之间极化取向角确定，而在外场作用下(电场或应力场)又可以相互切换的区域，称为电畴。一言以蔽之，铁电体即在特定温度下具有电极化记忆能力的一类材料。近年来铁电相关材料在全球占有的市场份额每年达几十亿美元，它们主要被应用在高介电电容、压电换能器、正/负温度系数型电阻、传感器、存储和光学器件中。Kelvin(1883)曾启示我们，当我们讨论一个物理现象的时候，只有当我们可以对它进行测量的时候，我们才算是开始真正认识它。对铁电体自发极化的测量原本非常简单，据我所知，最早报道的铁电性能测量相当久远,Sawyer and Tower, 1930，其基本的思想是：极化的测量即电荷的测量，电荷的测量通过串联大电容转化成大电容的电压测量。尽管基本的Sawyer-Tower电路中存在一定的近似和一些固有的噪音，但它却是一个非常有里程碑意义的原型，以至于至今仍有人照搬它的模式，如果是对薄膜样品测量，甚至一个简单的信号发生器、一个示波器加一个足够大的电容即可进行一项有效的测量，参比电容的大小，综合考虑近似条件和测量噪音二者之间的trade-off，选用电容在待测样品的10倍和100倍之间为宜。后来，自发极化的测量出现了其他方法，如脉冲法(Camlibel, 1969)，但由于该方法无法对样品的极化过程进行控制，至今几乎无人问津；另一种值得一提的方法利用铁电相变的特性从顺电相降温并对热电电流积分获得铁电材料的自发极化值(Chynoweth, 1956)，尽管跨越铁电相变的变温度测量原理使其具有令人信服的铁电性测量结果，尽管电测量模块实现也极其简单，只需一只电量表即可，但由于它的核心部分涉及到温度精确控制的技术并由之带来的比电性测量本身昂贵得多的"附加"仪器成本，又由于它对材料有选择性，只有绝缘性能非常好的材料适用于热电电流积分的方法，再由于它积分零点和降温/积分过程中材料极化状态的也难以精确预知的特点更加局限了这种方法的受青睐程度。因此，当今最为流行的铁电分析仪(如Radiant的RT66/RT6000/Premier/Precision和aixACCT的TF2k)实际上仍然是源于Sawyer-Tower电路的测量思想，最直接的原因恐怕是这种方法能在一个温度点，如室温下，方便的对材料极化过程进行操纵，获得一系列铁电回线，当然当今的设备相对比原型有一系列技术细节上的改进，这也是当今的铁电分析仪的价格相比原型有了成十倍上百倍的提高。[color=#dc143c]---更多内容请见下一楼层--[/color]测量假象分析系列上一个专题：[url=http://www.instrument.com.cn/bbs/shtml/20080622/1321753/]【原创】薄膜物性测量中的假象分析(1)-难分难解的介电“弛豫”[/url]测量假象分析系列下一个专题：[url=http://www.instrument.com.cn/bbs/shtml/20080922/1497806/]【原创】薄膜物性测量中的假象分析(3)-异常磁电耦合效应的背后?[/url]

  • 【原创大赛】薄膜的物理气相沉积——溅射法

    【原创大赛】薄膜的物理气相沉积——溅射法

    溅射制膜的过程：气体辉光放电、等离子体、靶、溅射、沉积到衬底（一）与蒸发法相比，溅射沉积的主要特点：①沉积原子能量高，因此薄膜的组织更致密，附着力也可以得到明显改善；②制备合金膜时，其成分的控制性能好；③靶材可以是极难熔的材料；④可利用反应溅射技术，从金属无素靶材制备化合物薄膜；⑤由于被沉积的原子均携带有一定的能量，因而有助于改善薄膜对于复杂形状表面的覆盖能力，降低薄膜表面的粗糙度。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151100_555534_2989334_3.jpghttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（二）溅射沉积分类主要的溅射方式可以根据其特征分为四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151102_555536_2989334_3.jpg图1 不同溅射方法的靶电流密度和靶电压的比较http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（1）直流溅射直流溅射又称为阴极溅射或二极溅射图2直流溅射沉积装置示意图，其典型的溅射条件为：工作气压10Pa，溅射电压3000V，靶电流密度0.5mA/cm2，薄膜的沉积速率低于0.1μm/min直流溅射过程中常用Ar作为工作气体。工作气压是一个重要参数，它对溅射速率以及薄膜的质量都有很大影响直流溅射设备的优点和缺点：优点：简单缺点：使用的气体压力高，溅射速率较低，这不利于减小气氛中的杂质对薄膜的污染以及溅射效率的提高。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151105_555538_2989334_3.jpg图2直流溅射沉积装置示意图http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（2 ）射频溅射直流溅射要求靶材有较好的导电性，可以很大方便地沉积各类合金膜。对于导电性很差的非金属材料的溅射，我们需要一种新的溅射方法—射频溅射。射频溅射是适于各种金属和非金属材料的一种溅射沉积方法射频场对于靶材的自偏压效应。在衬底或薄膜本身是绝缘体的情况下，采取对其施加一个射频电压的方法，也可以起到对其施加负偏压的作用。（3）磁控溅射相对于蒸发沉积来说，一般的溅射沉积方法具有两个缺点。第一，溅射方法沉积薄膜的沉积速度较低；第二，溅射所需的工作气压较高 这两个缺点的综合效果是气体分子对薄膜产生污染的可能性较高。而磁控溅射技术：沉积速度较高，工作气体压力较低。工作原理：磁场对电弧运动有一定的约束作用（绕磁场螺旋前进）；（1）电子的电离效率高，有效提高了靶电流密度和溅射效率，（2）较低气压下溅射原子被气体分子散射的几率较小（三）气体放电是离子溅射过程的基础（1）首先介绍直流电场作用下的物质的溅射现象预抽真空，充入适当压力的惰性气体，如Ar气，10-1～10Pa；在正负电极间外加电压的作用下，电极间的气体原子将被大量电离；Ar—→Ar++e，Ar+被电场加速后射向靶材，撞击出靶材原子（分子），靶材原子脱离靶时仍具有一定能量，飞向衬底，电子被电场加速飞向阳极；http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151107_555542_2989334_3.jpg图3直流气体放电体系模型及伏安特性曲线http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif电压进一步增大，发生极板两端电压突然降低，电流突然增大，并同时出现带有颜色的辉光，此过程称为气体的击穿；击穿后气体的发光放电称为辉光放电；这时电子和正离子是来源于电子的碰撞和正离子的轰击，即使自然游离源不存大，放电也将继续下去。而且维持辉光放电的电压较低，且不变，此时电流的增大显然与电压无关，而只与阴极板上产生辉光的表面积有关；正常辉光放电的电流密度与阴极材料和形状、气体种类和压强有关；由于正常辉光放电时的电流密度仍比较小，所以在溅射方面均是选择在非正常辉光放电区工作。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151110_555543_2989334_3.jpg图4示意性地画出了在离子轰击条件下，固体表面可能发生的物理过程http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151111_555544_2989334_3.jpg图5所示，不同能量离子与固体表面相互作用的过程不同当离子入射到靶材上时，对于溅射过程来说，比较重要的过程有两个：其一是物质的溅射；其二是二次电子发射：二次发射电子在电场作用下获得能量，进而参与气体分子的碰撞，并维持气体的辉光放电过程。http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gifhttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif （四）合金的溅射和沉积用溅射法沉积合金膜，比蒸发法易于保证薄膜的化学配比；溅射过程中入射离子与靶材之间有很大的能量传递。因此，溅射出的原子将从溅射过程中获得很大的动能，其数值一般可以达到5~20eV；一方面，溅射原子具有很宽的能量分布范围，其平均能量约为10eV左右；另一方面，随着入射离子能量的增加，溅射离子的平均能量也有上升的趋势；溅射过程还会产生很少的溅射离子，它们具有比溅射出来的原子更高的能量。能量较低的溅射离子不易逃脱靶表面的鞘层电位的束缚，将被靶表面所俘获而不能脱离靶材；由蒸发法获得的原子动能一般只有0.1eV，两者相差两个数量级；在溅射沉积中，高能量的原子对于衬底的撞击一方面提高了原子自身在薄膜表面的扩散能力，另一方面也会引起衬底温度的升高。

  • 【转帖】薄膜-TOC不确定度评估

    在网上看见这篇文章，摘来大家看看，希作者别见怪！薄膜—电导率法总有机碳分析仪测量结果不确定度的评定严湘青1，吴旭梅2（1.浙江省计量科学研究院，杭州 310013；2.杭州泰林生物技术设备有限公司，杭州 310052）摘要 目的：建立薄膜—电导率法总有机碳分析仪测量结果不确定度的评定方法。方法：分析了测量过程中不确定度的主要来源，即工作曲线的不确定度、测量仪器读数分辨率导致的不确定度、测量不重复性引起的不确定度、标准溶液引起的不确定度等，分别量化后合成标准不确定度，得到总有机碳测量的扩展不确定度。结果：通过对HTY-2500总有机碳分析仪在2000μg• L-1测量点测量结果不确定度的评定，其扩展不确定度为U95 = 49（μg• L-1）（k=2）。结论：本方法所建立的测量结果不确定度评定方法准确、可靠，可为薄膜-电导率法总有机碳分析仪的测量结果不确定度评定提供较为准确简便的方法。关键词：总有机碳；测量不确定度；薄膜—电导率法中图分类号：R917 文献标识码：A 文章编号：0254-1793（2008）12-0-0Evaluation of Measurement Uncertainty for the Total Organic Carbon Analyzer with Membrane Conductmetric Detection Technology YAN Xiang-qing1，WU Xu-mei2(1.Zhejiang Province Institute of Metrology, Hangzhou, 310013, China 2. Hangzhou Tailin Bioengineering Equipments Co. LTD, Hangzhou, 310052, China)Abstract: Purpose: The article set up an evaluation method of measurement uncertainty for the total organic carbon analyzer with membrane conductmetric detection technology. Method: The article analyzed the main resources of the uncertainty of the measurement, which include uncertainty of the working curve, uncertainty of the resolution ratio of the instrument, uncertainty of measure unrepeatability, uncertainty of standard solution, etc. It quantified these uncertainties respectively and composed them to a standard uncertainty. Finally it got the expanded uncertainty of the total organic carbon measurement. Result: It evaluated the measurement uncertainty of the total organic carbon analyzer at 2000μg• L-1 and got the expanded uncertainty which is U95 = 49（μg• L-1）（k=2）. Conclusion: The evaluation method of measurement uncertainty set up by the article is accurate, reliable, and it can offer comparatively exact and convenient method for measurement uncertainty evaluation of the total organic carbon analyzer with membrane conductmetric detection technology. Key words: total organic carbon uncertainty of a measurement membrane-conductometric detection technology

  • 【求助】薄膜的吸光度测量

    [i]最近有很多老师的科研是在玻璃（或者石英等其他）衬底上沉积一层膜，比如说氧化锌薄膜，拿来做紫外吸收，以前做的都是溶液，现在这个膜的如果按照溶液的方法来做可不可以？不知道怎么才能给他们做好。请专家帮忙分析一下，最好从开始基线扫描那一步开始，详细给我建议，谢谢了！[/i]

  • 测量薄膜的紫外可见最大吸收波长的对薄膜的要求？

    测量薄膜的紫外可见最大吸收波长的对薄膜的要求？

    请问各位大侠，在测量薄膜的紫外可见最大吸收波长时，要求薄膜时透明的吗？乳白的的可以吗？我的是PET薄膜，通过不同的溶解方法再旋转涂膜得到两种完全不同的薄膜，见图，一种是乳白色不透明，一种无色透明我的实验目的是在PET薄膜中加入一种染料使其变色，以不加染料的PET薄膜作为参比，测量加染料薄膜的紫外可见最大吸收波长请问各位大侠前辈哪种才适用于我的目的呢？现在还没有做出加染料的薄膜。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/04/201304122026_435158_2341438_3.jpghttp://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/04/201304122026_435159_2341438_3.jpg

  • 压电薄膜传感器_压电薄膜传感器详情

    话说这个压电薄膜传感器是具有一种很独特的特性的，它是一种动态模式的应变性传感器，一般通过在人体的皮肤表层进行植入或者植入到人体内部，用来监测人体的一些生命迹象以及特征。其中压电薄膜传感器里面的一些薄膜元件是非常灵敏的，可以隔着外套探测出人体的脉搏。OFweek Mall传感器商城网说一下压电薄膜传感器在医疗行业的应用。1、压电薄膜传感器工作原理当你拉伸或弯曲一片压电聚偏氟乙烯PVDF高分子膜（压电薄膜），薄膜上下电极表面之间就会产生一个电信号（电荷或电压），并且同拉伸或弯曲的形变成比例。一般的压电材料都对压力敏感，但对于压电薄膜传感器来说，在纵向施加一个很小的力时，横向上会产生很大的应力，而如果对薄膜大面积施加同样的力时，产生的应力会小很多。因此，压电薄膜传感器对动态应力非常敏感，28μm厚的PVDF的灵敏度典型值为10~15mV/微应变（长度的百万分率变化）。使用'动态应力'这个术语是因为形变产生的电荷会从与薄膜连接的电路流失，所以压电薄膜传感器并不能探测静态应力。当需要探测不同水平的预应力时，这反而成为压电薄膜传感器的优势所在。薄膜只感受到应力的变化量，最低响应频率可达0.1Hz。2、压电薄膜传感器特点压电薄膜很薄，质轻，非常柔软，可以无源工作，因此可以广泛应用于医用传感器，尤其是需要探测细微的信号时。显然，该材料的特点在供电受限的情况下尤为突出（在某些结构中，甚至还可以产生少量的能量）。而且压电薄膜传感器极其耐用，可以经受数百万次的弯曲和振动。3、压电薄膜传感器医疗应用利用压电薄膜传感器的动态应变片特性，可以轻松的将压电薄膜直接固定在人体皮肤上（例如手腕内侧）。精量电子—美国MEAS传感器的产品型号1001777是一款通用传感器，传感器的一侧涂有压力敏感胶。但这款胶未经生物兼容性认证，在短期试验中可以将3M9842（聚亚安酯胶带）固定在皮肤上，再将压电薄膜传感器粘贴在3M胶带上。压电薄膜之所以即能探测非常微小的物理信号又能感受到大幅度的活动，是因为PVDF膜的压电响应在相当大的动态范围内都是线性的（大约14个数量级）。多数情况下，只要能明显区分目标信号和噪声的带宽，细小的目标信号都可以通过过滤器采集到。类似的压电薄膜传感器已在睡眠紊乱研究中用于探测胸部，腿部，眼部肌肉和皮肤的运动。另外，传感器可以通过探测肌肉（例如拇指和食指之间的肌肉）对电击的反应作为检验麻醉效果的指示器（神经肌肉传导）。压电薄膜传感器包含范围：[color=#333333]气体流量传感器丨微型压力传感器丨绝对压力变送器丨微量氧传感器丨[/color][color=#333333]数字温湿度[/color][color=#333333]传感器丨煤气检测传感器丨气压感应器丨一氧化碳传感器丨h2传感器丨压阻式压力变送器丨硫化氢传感器丨co2气体传感器丨光离子传感器丨ph3传感器丨百分氧传感器丨bm传感器[/color][color=#333333]丨[/color][color=#333333]风速传感器丨voc传感器丨[/color][color=#333333]光纤应变传感器[/color][color=#333333]丨位置传感器丨[/color][color=#333333]meas压力[/color][color=#333333]传感器丨[/color][color=#333333]称重传感[/color][color=#333333]器丨甲烷传感器丨微流量传感器丨光纤应变传感器丨称重传感器丨三合一传感器丨sst传感器丨gss传感器丨ch4传感器丨氟利昂传感器丨硫化物传感器丨o3传感器丨双气传感器丨[url=http://mall.ofweek.com/1877.html]压电薄膜传感器[/url]丨一氧化氮传感器丨透明度传感器丨二氧化硫传感器丨氰化氢传感器丨煤气检测传感器丨燃气检测传感器丨电流氧传感器[/color]

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