扫描热探针热仪

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  • 天津丘山仪器科技有限公司 铜牌2年
    400-860-5168转5974
    丘山仪器致力于材料研发相关的高通量实验仪器及测试服务，包括高通量扫描四探针电阻测量仪、电阻-温度传感芯片及其测试系统、差分纳米量热仪、纳米量热传感器、扫描液滴电化学测试系统、高通量霍尔效应测试仪等囊括电学、热学、电化学、力学等多方面自动化高通量实验仪器。可以广泛应用于金属玻璃、形状记忆合金、高温热障涂层、锂离子电池、平板显示器以及半导体芯片工艺检测等。我们也提供相关材料的表征测试服务。
    主营产品： 其它物性测试仪器  
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  • 中科艾科米（北京）科技有限公司
    中科艾科米（北京）科技有限公司坐落于北京怀柔科学城，是一家专注于超高真空扫描探针显微镜（SPM）系统及相关部件的研发、设计及生产的公司。团队在相关领域的科学研究及科研仪器设备的研制方面具有十多年的技术积累和扎实的基础，掌握目标仪器装备的多项核心技术和专利，具有自主知识产权。公司以科研客户需求为导向，结合国内外前沿科研技术及成果，致力于打造国内先进科研仪器的技术创新平台，为国内外相关科研人员提供科学实验的解决方案。目前已在SPM及相关领域研发出多种性能稳定、性价比高的产品，并获得了20余项实用技术专利。主要产品包括：闭循环无液氦扫描探针显微镜系统（UHV-Cryogen-free SPM SYSTEM）超高真空变温扫描隧道显微镜系统（UHV-VT STM SYSTEM）、原子层沉积系统（ALD）、光学兼容超高真空低温扫描探针显微镜-分子束外延联合系统（UHV-LT-SPM-MBE ）等成套系统以及电阻式加热蒸发源（K-cell）及控制器、电子束加热蒸发源（E-beam）及控制器、碱金属蒸发源、温度控制器（TC）、针尖腐蚀仪、SPM扫描探头等部件及电控单元。
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  • 载德半导体技术有限公司 铜牌11年
    400-860-5168转3241
    载德半导体技术有限公司是专业的半导体及微电子领域仪器设备供应商，载德所代理的仪器设备广泛用于高校、研究所、半导体高新企业。载德半导体技术有限公司目前代理的主要产品包括： - 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System)； - 快速退火炉(RTP)； - 回流焊炉，真空烧结炉(Reflow Solder System)； - 探针台(Probe Station)，低温探针台(Cryogenic Probe Station)； - 贴片机(Die Bonder)，划片机(Scriber)，球焊机/锲焊机(Wire Bonder)； - 原子层沉积系统(ALD)，等离子增强原子层沉积设备(PEALD)； - 磁控溅射镀膜机(Sputter)，电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator)，热蒸发镀膜机(Thermal Evaporator)，脉冲激光沉积系统(PLD) - 低压化学气相沉积系统(LPCVD)，等离子增强化学气相沉积系统(PECVD)，快速热化学气相沉积系统(RTCVD)； - 反应离子刻蚀机(RIE)，ICP刻蚀机，等离子体刻蚀机； - 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate)； - 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe)，光反射膜厚仪(Reflectometer)； 等等...
    主营产品： 退火炉   镀膜机   霍尔效应测试   探针台  
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  • 扫描NV探针显微镜 SNVM 4008-166-717
    扫描NV探针显微镜SNVM 扫描NV探针显微镜（Scanning nitrogen-vacancy probe microscope，SNVM）是一款结合了金刚石氮-空位色心（Nitrogen-Vacancy, NV）光探测磁共振（Optically Detected Magnetic Resonance, ODMR）技术和原子力显微镜（Atomic Force Microscope，AFM）扫描成像技术的量子精密测量仪器，可实现对磁性样品高空间分辨率、高灵敏度、定量无损的磁成像。应用领域测试案例
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    厂商： 国仪量子技术（合肥）股份有限公司
    品牌： 国仪量子/CIQTEK
    型号： SNVM
    价格： 面议
  • 布鲁克扫描探针显微镜Innova 400-895-0897
    仪器简介：Innova扫描探针显微镜（SPM）具有高扫描分辨率、出色品质，可应用于物理、生命科学和材料科学等诸多领域。Innova具有很强的灵活性，能以较低成本满足各种科研应用要求。采用独一无二的闭环扫描线性系统，卓越的设计及工艺确保测量精度以及接近于开环运行时的噪音水平。Innova可以轻松的在90微米扫描管上实现原子级分辨率。集成的高分辨率彩色光学系统，以及可编程和电动Z轴载物台，使得寻找、对准被测区域，更换针尖或样品更加快速简便。技术参数：闭环扫描管：XY 90 &mu m，Z 7.5 &mu m开环扫描管：XY 5 &mu m, Z 1.5 &mu m样品尺寸： X-50 mm x 50 Y-mm x Z-18 mm电动Z轴载物台：Z轴行程： 18mm光学系统： 摄像头： 轴线彩色CCD，带电动变焦视场： 1.24mm x0.25mm (电动变焦，10x物镜)分辨率： 2&mu m，标准10x物镜(50x物镜0.75&mu m)电子电路：20位DAC控制器，100kHz、± 10v ADCs，数字反馈器件系统软件：用于数据采集和分析的SPMLab&trade v7.0，Windows® XP主要特点：Innova在同类SPM中，性价比最高· 独有的闭环扫描控制，在开环噪声水平上提供三维精确测· 高分辨光学系统辅助精确探针定位· 快速更换探针, 开放的样品台设计使得使用更方便，更容易· 拥有所有SPM操作模式，为科学研究提供更高的应用灵活性· 卓越的信号读录与输入功能便于用户自己设计研究方法 布鲁克纳米表面仪器部开通优酷视频专辑Bruker Nano Surfaces YouKu Channel &mdash 欢迎订阅优酷上Bruker Nano Surfaces的相关视频，观看最新的AFM产品和相关技术进展，以及历届网络研讨会和培训资料，精彩内容持续更新中！布鲁克纳米表面仪器部 Bruker Nano Surfaces 北京办公室 北京市海淀区中关村南大街 11号光大国信大厦6层 6218室电话： 传真：上海办公室 上海市徐汇区漕河泾开发区桂平路 418号新园科技广场 19楼E-mail： 产品咨询热线：
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    厂商： 布鲁克纳米表面仪器部(Bruker Nano Surfaces)
    品牌： 布鲁克/Bruker
    型号： Innova
    价格： 50万 - 100万元
  • 第八代多功能扫描探针显微镜Bruker 400-895-0897
    仪器简介： MultiMode平台是世界上应用最广泛的扫描探针显微镜（SPM），已经在全球成功安装使用了近万套。它的成功基于其领先的高分辨率和高性能，无与伦比的多功能性，以及已经得到充分证实的效率和可靠性。现在，MultiMode扫描探针显微镜以其独特的ScanAsyst模式，采用其先进的自动图像优化技术，使得用户无论具备什么技能水平，也能在材料科学，生命科学，聚合物研究领域的研究中最迅速地获得符合要求的研究成果。 SPM的控制电路也是影响性能的重要因素，第五代的NanoScope V控制器具有先进的数字架构：具有高数据带宽，低噪声数据采集和无与伦比的数据处理能力。布鲁克的最先进的技术已经开创工业上的新标准，例如：ScanAsyst 模式 & PeakForce QNM 模式。 Multimode 的加热和制冷装置能对样品进行加热与制冷，适合于生物学，聚合物材料以及其他材料研究应用。采用加热和制冷装置后MULTIMODE 可在零下35º C到250 º C范围内对样品进行温度控制；并可以在水，溶液或缓冲剂的液体环境中进行扫描。当在气体环境下对样品进行扫描时，采用环境控制舱可以在大气压标准下控制环境气体的成分。技术参数：1. 显微镜：多种可选Multimode SPM扫描头AS-0.5系列：横向(X-Y)范围0.4µ m× 0.4µ m,竖直(Z)范围0.4µ mAS-12系列：横向(X-Y)范围10µ m× 10µ m,竖直(Z)范围2.5µ mAS-130系列：横向(X-Y)范围125µ m× 125µ m,竖直(Z)范围5.0µ mPF50：横向(X-Y)范围40µ m× 40µ m,竖直(Z)范围20µ m2. 噪声：垂直(Z)方向上的RMS值＜0.3埃 （带防震系统的测量值）3. 样品大小：直径&le 15mm, 厚度&le 5mm4. 针尖/悬臂支架： 空气中轻敲模式/接触模式(标准) 液体中轻敲模式/力调制(可选) 空气中力调制(可选)；电场模式(可选) 扫描热(可选-需要大的光学头或者外加的应用组件) STM转换器(可选) 低电流STM转换器(可选)；接触模式液体池(可选) 电化学AFM或STM液体池(可选) 扭转共振模式(可选)5. 防震和隔音： 硅胶共振模式(可选) 防震三脚架(可选) ；防震台(可选) 集成的防震台和隔音罩(可选)主要特点：1. 世界上最高的分辨率2. 出众的扫描能力3. 优异的可操作性4. 非凡的灵活性与功能性5. 无限的应用扩展性Multimode可以实现全面的SPM表面表征技术，包括： 轻敲模式(Tapping Mode AFM) 接触模式(Contact Mode AFM) 自动成像模式(ScanAsyst) 相位成像模式(Phase Imaging) 横向力术模式(laterial Force Microscopy, LFM) 磁场力显微术(Magnetic Force Microscopy, MFM) 扫描隧道显微术(Scanning Tunneling Microscopy, STM) 力调制(Force Modulation) 电场力显微术(Electric Force Microscopy, EFM) 扫描电容扫描术(Scanning Capacitance Mcroscopy, SCM) 表面电势显微术(Surface Potential Microscopy) 力曲线和力阵列测量(Force-Distance and Force Volume Measurement) 纳米压痕/划痕(Nanoindenting/Scratching) 电化学显微术(Electrochemical Microscopy, ECSTM and ECAFM) 皮牛力谱(PicoForce Force Spectroscopy) 隧道原子力显微术(Tunneling AFM, TUNA) 导电原子力显微术(Conductive AFM, CAFM) 扫描扩散电阻显微术(Scanning Spreading Resistance Microscopy, SSRM) 扭转共振模式(Torsional Resonance mode, TR mode) 压电响应模式(Piezo Respnance mode, PR mode) 其他更多模式.... 布鲁克纳米表面仪器部开通优酷视频专辑Bruker Nano Surfaces YouKu Channel &mdash 欢迎订阅优酷上Bruker Nano Surfaces的相关视频，观看最新的AFM产品和相关技术进展，以及历届网络研讨会和培训资料，精彩内容持续更新中！布鲁克纳米表面仪器部 Bruker Nano Surfaces 北京办公室 北京市海淀区中关村南大街 11号光大国信大厦6层 6218室上海办公室 上海市徐汇区漕河泾开发区桂平路 418号新园科技广场 19楼E-mail： 产品咨询热线：
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    厂商： 布鲁克纳米表面仪器部(Bruker Nano Surfaces)
    品牌： 布鲁克/Bruker
    型号： MultiMode 8
    价格： 150万 - 200万元
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  • Nature子刊带大家进入热扫描探针构筑的奇妙纳米世界
    上世纪五十年代末期，诺奖得主、物理学鬼才理查德费曼在加州理工学院的物理年会上，作了题为《There' s Plenty of Room at the Bottom》的报告，具前瞻性地提出了他对于纳米尺度操作及控制的框架性想法，并由此开启了无数科研工作者在纳米尺度上探究物质奥秘并通过相关的纳米技术来改变、造福人类的道路。同样是在上世纪五六十年代，采用平面处理工艺批量制备晶体管的策略出现，由此开启了集成电路产业的飞速发展。摩尔博士在六十年代中期提出了著名的摩尔定律“当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍”。而其中元器件数量的增多，是通过不断缩小元器件的关键尺寸来实现的。不论是在纳米尺度上进行探索，或是与人们生活息息相关的集成电路产业发展，都需要制备各种各样的纳米结构、纳米功能单元或纳米器件。而在制备各类纳米结构的过程中，为重要的操作就是通过光刻来实现在不同的材料上定义图案区域。目前，在工业上，先进的EUV光刻机具备7 nm技术节点的制备工艺中所需的图形加工能力，但其单值高，比一架F-35战斗机的价格还会高出不少。对于科研工作者来说，目前通常采用的基于光学曝光原理的科研光刻设备（科研的无掩模曝光系统、掩模对准式曝光系统等），能够实现的图形加工分辨率一般在微米尺度或亚微米尺度。而随着研究对象尺度的不断减小，对纳米尺度结构构筑的需求，上述基于光学曝光原理的科研光刻系统显然是不能够完全满足的。基于聚焦电子束、离子束的各类图案化加工设备，比如电子束光刻系统、聚焦离子束系统等，能够有效满足科研中对于纳米尺寸的图形加工需求。然而，由于电子束流和离子束流需要聚焦，这类设备通常由较为复杂的电子光学系统构成，因此价格相较于上述科研光学光刻设备要高出很多（即使是科研的电子束曝光系统，其单值也远超科研的光学曝光设备）。另一方面，聚焦电子束、离子束系统的复杂性也对操作人员和设备维护人员提出了较高的要求。 图1 热扫描探针光刻系统诱导材料局部变化的三种机制 在科研领域中，扫描探针光刻（thermal scanning probe lithography）是另一种颇受关注的图案化工艺方案，能够实现纳米（甚至原子的）图案制备的需求，其核心思路是通过纳米针诱导材料表面局部的改性来实现图案化。纳米针诱导材料表面改性的机制有很多种，包括力学、电学、热学、扩散等等，也由此产生了许多不同的扫描探针光刻技术。在诸多的扫描探针光刻技术中，热扫描探针光刻技术（thermal scanning probe lithography，t-SPL）是近年来发展起来的一种可快速、可靠、高精度地实现纳米图案化工艺，其技术核心是利用加热针的热能来诱导局部材料的改性。通常，热是材料转化中较为普遍的驱动因素，在很多材料中能诱导结晶、蒸发、熔化等改性现象。在纳米尺度上，由于只有很小的体积被加热，所以材料改性的特征时间是以纳秒量来计算的。因此，加热几微秒就足以改变针下的材料。对于刻写速度而言，悬臂梁的机械扫描运动成为图案化工艺速度方面的主要限制。然而，凭借扫描探针领域良好的技术积累，目前可以实现高达20 mm/s的刻写速度，能够满足大多数科研上的图案化制备工艺需求。同时在微纳图案结构的加工精度及分辨率方面，热扫描探针光刻技术可以实现特征线宽在10 nm以下的微纳结构的制备。图2 利用热扫描探针光刻进行热敏抗刻蚀剂的图案化工艺后，结合各类工艺实现的微纳结构及器件案例 作为一种高精度图案化工艺设备，近些年来热扫描探针光刻技术得到飞速发展，然而很多研究人员还比较陌生。着眼于此，洛桑联邦理工的S. T. Howell博士以及瑞士Swisslitho的F. Holzner博士撰写了综述《Thermal scanning probe lithography—a review》（已于2020年4月6日刊载在NPG旗下期刊Microsystems & Nanoengineering，详细信息可参考链接https://doi.org/10.1038/s41378-019-0124-8），Howell等人向大家详细介绍了热扫描探针光刻的历史、原理、图案转移工艺以及在基于新型低维材料的微纳电子器件、自旋电子器件、光子学微纳结构、微纳流控、微纳机电等领域的应用案例。图3 利用热扫描探针光刻进行定域材料转换的应用案例 另一方面，不同于很多新型光刻策略还停留在实验室中，瑞士Swisslitho公司已经成功将热扫描探针光刻技术商品化，名为NanoFrazor。在国内外的诸多用户当中，已有不少基于NanoFrazor制备的结构而开展的研究，相关结果也都发表在了Science、Nature、PRL、等高水平期刊上。图4 热扫描探针诱导的增材工艺的应用案例
    时间： 2020-04-26
    作者： QUANTUM量子科学
  • 热扫描探针光刻技术消除二维半导体材料-金属肖特基势垒——不止于操作便捷，更在于特性提升
    二维半导体材料，比如二硫化钼（MoS2），表现出了诸多新奇的特性，从而使其具有应用于新型电子器件领域的潜力。目前，研究人员常用电子束光刻的方法，在此类仅若干原子层厚的材料表面定域制备图形化电，从而研究其电学特性。然而，采用此类方法常遇到的问题之一是二维半导体材料与金属电之间为非欧姆接触，且具有较高的肖特基势垒。近期，刊载在Nature Electronics上的Patterning metal contacts on monolayer MoS2 with vanishing Schottky barriers using thermal nanolithography一文（Nature Electronics volume 2, pages17–25 (2019)），针对以上问题展开了研究。文中，Zheng等人采用热扫描探针光刻（thermal scanning probe lithography，t-SPL）的方法，在二维原子晶体表面成功制备了图形化电。此方法具有高的可重复性，并且具有小于10 nm的分辨率，以及可观的产率（单根针达到105?μm2?h?1）。相较于电子束光刻方法而言，此方法可以同时进行图形化工艺并原位对图形化工艺后的结果进行成像表征，而且不需要真空腔体以及高能电子束。采用这一技术方案，Zheng等人在单层MoS2上制备了具有栅和背栅结构的场效应晶体管。在未采用负电容或异质堆叠等方案的前提下，Zheng等人制备的器件中的二维半导体材料与金属电之间的肖特基势垒趋于0 meV，开关比达到1010，且亚阈值摆幅低至64 mV/dec，大大优于此前诸多其他方案所制得的类似器件的电学特性。 图1 器件制备流程及主要步骤后的样品形貌表征表1 采用两种不同方法（热扫描探针光刻与电子束光刻）制备的基于MoS2的FET的电学特性对比 值得指出的是，文中Zheng等人实现图形化掩膜制备所用的设备，是由瑞士Swisslitho公司所研发的NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机，该系统实现图形化工艺主要是基于前文所述的热扫描探针光刻技术。热扫描探针光刻技术的核心，是利用高温纳米针与一种热解胶（PPA）作用，热解胶在高温作用下会挥发，从而使热针“画”过的区域没有热解胶而热针没有“画”过的区域留存有热解胶，从而实现对热解胶的图形化处理。工艺过程中，图形的刻写精度与针的曲率半径以及针的温度控制水平息息相关。依托成熟的微加工工艺以及微系统设计经验，Swisslitho设计并制备了具有纳米曲率半径的针的悬臂梁，并且在悬臂梁上集成了用于控制及反馈针温度的电学系统，可以在室温至1100 ℃的范围内对针的温度进行准确地控制及监测，从而使得NanoFrazor的图形加工精度可以达到10 nm量的水平，且工艺具有佳的稳定性和重复性。图2 针处于加热状态下的悬臂梁图像另一方面，从工作原理不难看出，热扫描探针光刻不需要额外的显影操作。只要是用高温纳米探针在热解胶表面一“画”，热解胶表面相应区域就会挥发掉，从而在表面留下痕迹。着眼于这一特点，Swisslitho的研发人员巧妙地在悬臂梁上集成了轮廓探测器，可以原位对热解胶表面留下的痕迹进行形貌表征，从而实现闭环图形加工功能。NanoFrazor使用户可以实时了解图形加工的情况，并进行修正，大大缩减了图形化工艺所用的时间，提升了效率。 此外，由于NanoFrazor特殊的结构特点，使得NanoFrazor在进行套刻工艺时，可以方便快捷地直接定位到样品表面的目标区域并进行套刻工艺，无须预先在样品表面制备对准标记，亦可省去进行传统光学光刻或电子束光刻对准过程中的繁琐步骤。 为重要的是，由于工艺过程中用针的热与热解胶作用替代了电子束或光束与光刻胶作用，可以有效减少图形化工艺过程中对样品中介质材料的电荷注入所引起的损伤，从而提升微纳结构电学特性的可靠性，亦可有效提升器件的电学特性。
    时间： 2019-01-29
    作者： QUANTUM量子科学
  • 南大张伟华&鲁振达团队丨热扫描探针刻写助力单量子点确定性组装
    纳米颗粒（特别是当粒径小于20 nm时）所展现出的诸多新奇光学性质，一直是令无数研究人员着迷的话题。研究人员一方面不断探索、发掘新的现象并尝试给予解释，一方面积地尝试将各种新奇的性质应用于改善人们的生活。随着纳米颗粒相关领域研究的蓬勃发展，高品质纳米颗粒的合成以及宏量制备已经成为现实。然而，随着研究需求与实际应用需求的不断提升，不论是实验抑或是生产，对纳米颗粒的定位与组装的精度和可靠性的要求也越来越高。由于纳米颗粒的特殊物性，以及其与衬底及周围环境的作用方式，展现出了诸多新奇的特点，从而使得对于颗粒的定位、组装伴随着新的挑战。尤其是当颗粒粒径小于20纳米时，迄今仍缺少简单高效、工艺兼容性好、度高的组装及定位方式。有鉴于前述问题，南京大学张伟华教授与鲁振达教授课题组，发展了一种改性模板技术来实现高精度的纳米颗粒组装技术。相关成果以 “Deterministic Assembly of Single Sub-20 nm Functional Nanoparticles Using a Thermally Modified Template with a Scanning Nanoprobe”为题目刊载于知名材料科学刊物Advanced Materials上。南京大学现代工学院官网，亦对此工作进行了详细报道。 以下内容转载自南京大学现代工学院官网“当尺寸下降到20纳米或以下时，纳米颗粒常会呈现出宏观所不具备的特性，如分立能，高吸收性，超顺磁等。特别的，半导体纳米颗粒（量子点）由于其特的量子发光特性，已被广泛的应用在显示、传感、量子信息处理等领域。今天，随着合成技术的发展，各类功能纳米颗粒可控的合成已经成为现实，但如何将这些纳米“乐高”逐个拼接在一起，组成复杂结构甚至器件仍是一个未决的难题。为此，在过去二十年间科学家尝试了各种技术路径，通过化学修饰、静电、颗粒操控等方法实现了微米及亚微米颗粒的组装。但对于20纳米之下的颗粒，由于颗粒-衬底相互作用弱，迄今仍缺少简易、高效、、广适用面的组装方法。目前相对有效的方法依赖表面化学改性与静电作用，其模板制备复杂，仅针对单一材料，难以制备纳米颗粒团簇，更无法解决多种材料异质集成的问题。 有鉴于此，张伟华教授与鲁振达教授课题组合作开发了一种基于热扫描探针改性模板的单颗粒组装技术。该技术将扫描探针的针加热至900 ℃以上，可对聚合物表面刻蚀的同时实现表面改性，使微结构区域的表面能显著升高。实验测量与理论计算显示，改性后局域吸附能的提高可达2倍以上，从而大幅度提高了纳米颗粒在改性区域的组装效率。此外，表面能的升高也使液面在微结构内的接触角降低，增强了颗粒所受毛细力，使其更易于被束缚在微结构当中。图1热表面改性模板辅助纳米组装技术示意图：模板制备与纳米组装过程 该方法不涉及特殊化学键或静电作用，为此对纳米颗粒的材料没有特定要求，相比于传统方法具有更广的适用性。为证实这一点，文章演示了包括单颗10纳米量子点（65%），20纳米金颗粒（95%），20纳米聚苯乙烯荧光小球（97%）等材料的高效组装。通过调整微结构的几何尺寸，该方法能还够制备金纳米颗粒各种规则形状的密堆团簇。 图2小尺寸纳米颗粒的组装结果 a)10纳米量子点 b)20纳米聚苯乙烯荧光小球 c)20纳米金颗粒 d)20纳米金颗粒的各种规则密堆团簇 此外，由于该方法基于扫描探针技术可获取表面形貌信息，使得多步组装结构的对准成为可能。利用此优势，工作演示了量子点-纳米银线耦合结构的制备，展示了该技术在多材料跨尺度异质面的巨大潜力。图3量子点-银纳米线异质结构的制备 a)制备过程示意图 b1)单根银纳米线光镜照片 b2)对应的银纳米线形貌扫描图 b3)在银纳米线部制备微结构 b4)组装量子点后的荧光图像 由于其高精度、高确定性与广适用面，并可与已有工艺结合，该方法有望为集成量子光学信息、光学超分辨、纳米生化传感器等方向带来更多的可能性，推动相关领域的发展。”在此论文当中所谈及的热扫描探针光刻技术（thermal scanning probe lithography，t-SPL），衍生于IBM Research的研发成果，是近年来发展起来的一种可快速、可靠、高精度地实现纳米图案制备的直写技术，其技术核心是利用加热针的热能来诱导局部材料的改性，从而实现图案化。由于特的技术原理，使其具有刻写图案精度高（水平方向特征线宽15 nm/纵向台阶精度2 nm）、原位成像/闭环光刻、套刻与拼接精度高（25 nm）等诸多优势。 热扫描探针刻写技术的更多信息：1. 可参考刊载于Microsystems & Nanoengineering（volume 6, Article number: 16 (2020)）的综述“Thermal scanning probe lithography—a review”。
    时间： 2021-01-05
    作者： QUANTUM量子科学
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  • 【分享】扫描探针显微镜及其在光盘开发中的应用

    【英文篇名】 The introduction of Scanning Probe Microscope and its application in optical disc R&D 【作者】 李伟权 【作者单位】 光盘及其应用国家工程研究中心 【刊名】 记录媒体技术 , China Mediatech, 编辑部邮箱 2004年 04期 期刊荣誉：ASPT来源刊 CJFD收录刊 【摘要】 本文简要介绍了扫描探针显微镜的原理和技术特点,并详细地阐述了它在光盘研究与开发中的应用。一、扫描探针显微镜扫描探针显微镜(ScanningProbeMicroscope),简称SPM。SPM技术是80年代发展起来的一种突破性的 【英文摘要】 The principle and technical features of Scanning Probe Microscope are introduced. Its application in R&D of optical disc is also illustrated in detail. 【DOI】 cnki:ISSN:1672-1268.0.2004-04-013 [img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=98699]扫描探针显微镜及其在光盘开发中的应用[/url]

  • 【原创】扫描探针显微镜操作规程

    扫描探针显微镜操作规程一、 接触模式：Contact mode1. 开启设备1.1 依次打开电脑、变压器电源、SPM 控制器电源。1.2 双击SPM 快捷方式，出现SPM manager 窗口，单击setting 的data path，预设数据的存储目录，待SPM 控制器电源显示栏底部显示ready 后点击online。2．固定样品，安装到检测台2.1 检查AFM 头部，确保探针与样品台之间有足够的空间放样，如果距离不够，点击工具栏中release 按钮，直至距离足够时，点击stop。2.2 用双面胶将样品固定于铁片中心上，随后将其置于样品台的中心位置。样品的最大尺寸不超过24mm（直径），8mm（高度）。3. 选择扫描模式在setting 下拉菜单中选择mode and scanner，选中扫描模式（contact mode）和扫描器的大小，点击ok。4. 光路调节4.1 打开setting 下拉菜单中scanner condition，将其operating 值设为0。4.2 打开setting 下拉菜单中panel display，选中vertical deflection，调节激光控制旋钮（样品台右边的前后旋钮），使激光打在悬臂尖端，至少保证信号显示面板上一半的LED 指示灯发亮。4.3 若显示面板上的数值在-5-5 之间，直接调节检测器控制旋钮（垂直方向，即样品台左边的后面旋钮）至显示面板上的数值为0；若显示面板上数值的绝对值大于5，需先调节反光镜使其在-5-5 之间（保持信号显示面板上至少一半的LED 指示灯发亮），再用同样方法将数值调零。4.4 选中panel display 中的horizontal deflection，调节检测器控制旋钮（水平方向，即样品台左边的前面旋钮）至显示面板上的数值为[

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  • AFM快扫描探针FS-1500 5根/盒
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    供应商： 牛津仪器科技（上海）有限公司
    品牌： 牛津仪器
    价格： 面议
  • 扫描探针显微镜(SPM)
    SPM的工作原理是基于微观或介观范围的各种物理特性，通过原子线度的极细探针在被研究物质的表面上方扫描时检测探针—样品两者之间的相互作用,以得到被研究物质的表面特性，不同类型的SPM之间的主要区别在于它们的针尖特性及其相应的针尖----样品相互作用方式的不同。
    供应商： 北京中镜科仪技术有限公司
    品牌： 中镜科仪
    价格： 面议
  • 中镜科仪 光阑专为扫描和透射电镜、电子探针、聚焦离子束和X-射线仪耗材
    高品质的光阑，专为扫描电镜和透射电镜、电子探针、聚焦离子束和X-射线仪而设计。高精密的钻孔和形状，可以避免电子散射。孔径符合制造商预先设计的严格的公差。材质有铂合金（Pt / Ir ，95:5 ％ ）、钼（Mo），金（Au）。每种孔径厚度的光阑又有A、B、C、D四种不同规格和形状，孔径可用于目前所有品牌的EM系统制造商： FEI /飞利浦，日本电子，日立，蔡司/ LEO ， CAMECA ，拓普康，TESCAN， CamScan等 。用户也可根据自己的实际需要设计加工新的光阑。产品包装实拍图：产品编号产品名称规格产地OZ63400黄金光阑直径：3mm 20um,AU中国
    供应商： 北京中镜科仪技术有限公司
    品牌： 中镜科仪
    价格： ¥3000
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