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压印地坪

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压印地坪相关的仪器

  • 重庆车库地坪涂料(谭总)重庆科冠涂料有限公司专业供应【023_6869_6660】,销售重庆车库地坪漆,地坪漆厂家,重庆车库地坪工程,地坪漆施工,环氧地坪漆,重庆地板漆施工,重庆厂房地坪防腐涂料;适用范围:1、原基础表面平整度、硬度较好的地面,或轻度毛糙的地面--因基础面平整度、硬度相对较高,无需靠过多填充料修复即可保证地坪漆完成效果达到要求的地面。2、对完成效果要求不高的地面,如,对使用要求不高、载荷较轻的地面,如车库停车位区域,车间过道以外的区域,轻载荷库房等。施工步骤: 施工步骤工艺功能备注一步打磨、拉毛、清灰打磨时需更换成合适的研磨机磨盘,将地面表层作适度打磨拉毛,并做好清洁处理,利于地坪材料与基面粘接牢固。打磨是以清理地表浮浆和拉毛为目的,不能改变地面平整度。二步环氧树脂底漆1-2遍(根据地面情况决定几遍)采用渗透型封闭底漆,使地坪中涂层材料与基层粘接牢固。干燥4-8小时三步环氧树脂中涂腻子层2遍环氧中涂层作用:增加环氧面漆与底层附着力(粘接),使地面美观。调整地面平整度,避免面漆色差。干燥8-12小时四步环氧树脂封面漆1遍使地面颜色均匀统一,美观。五步罩光耐磨层1遍增加环氧地坪表面光洁度及耐磨性能。利于清洁,防滑防渗,耐磨耐用。地坪保养环氧地坪施工完成后7日内为养护期,原则上3天内不可上人行走,7天后才能允许机动车行走。使用过程中应避免尖锐物划伤地面,车辆应匀速行驶,避免急刹、猛转弯等操作。售后服务本公司对所有承建的工程,提供终身保修服务,其中第1年内免费质保(人为因素损坏、原地坪基础原因或自然灾害损坏除外),后期按实际情况收取人工及材料成本费用
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  • 水性环氧地坪涂料-水性环氧地坪漆重庆科漆士品牌厂家批发 水性环氧地坪漆 自流平地坪涂料 丙烯酸地坪涂料-科冠厂出售重庆-四川成都-贵州贵阳等区域:谭经理:023^68696660;仓库、地下停车场、机械制造企业厂房等场所要求地面不能起砂尘,并能经受各种车辆(如汽车、叉车、推车等)的碾轧,因此这些场所的地坪不仅要具备一般地坪保护系统平整、光滑的装饰效果,还需具有耐磨性和抗压性。环氧树脂地坪系统是采用环氧抗压耐磨砂浆与环氧面漆结合而成的耐磨抗压地面,是解决重型机械制造企业厂房、工业及商业仓库、地下停车场等地面保护问题的地坪系统。 性能特点:◇ 耐冲击、耐重压、机械性能;◇ 防尘、防霉、耐磨、硬度好;◇ 硬化后收缩率小,无裂缝;◇ 耐水、耐油污、耐酸碱等一般化学腐蚀;◇ 外观平整亮丽、色彩多样;◇ 无接缝、便于清洁、维护方便。 适用范围:◇ 超市、楼厅、仓库、汽车展厅、汽车修理厂、汽车停车场等特殊场所的地面;◇ 机械性能要求高的区域,具有一定冲击性的机械、电子、电器、仪表 纺织、服装、食品、等企业厂房的地面。参考施工:1、本品应按规定组份进行配比,随配随用,用多少配多少,配后应在8h内用完。施工配漆配比量要准确,否则影响产品性能;2、组份一和组份二在施工前按照20:3(重量比)混合,搅拌均匀,熟化20Min后施工;3、稀释用专用稀释剂;4、本品刷涂、滚涂刮涂均可,推荐采用辊涂方式,添加适量稀释剂辊涂2-3遍;5、水泥地面必须干燥、清洁。自然干燥(23±1℃湿度50±5℃)24h后方可涂刷下遍。
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  • 贵州地坪漆工程施工_贵阳地坪涂料施工工程_优惠定做(刘经理:023^68696660)仓库、地下停车场、机械制造企业厂房等场所要求地面不能起砂尘,并能经受各种车辆(如汽车、叉车、推车等)的碾轧,因此这些场所的地坪不仅要具备一般地坪保护系统平整、光滑的装饰成效,还需具有较强的耐磨性和抗压性。环氧树脂地坪系统是采用环氧抗压耐磨砂浆与环氧面漆结合而成的高耐磨抗压地面,是解决重型机械制造企业厂房、工业及商业仓库、地下停车场等地面保护问题的地坪系统。 产品技术指标:项 目指 标颜色外观各色干燥时间(h)表干≤2实干≤24附着力(划格法,级)≤1耐磨性(750g/500r,失重,g)≤0.01耐机油性(45#机油)3个月,无变化耐水性(蒸馏水侵泡)1年,无变化耐酸性(10%硫酸)30d,无变化耐碱性(10%NaOH)30d,无变化 重庆科冠涂料微信公众号搜索:科冠油漆涂料。以上部分内容来源于网络,仅作为展示之用,版权归原作者所有;如有不适,请告知,我们会尽快删除。
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  • 厂家直销地坪漆环氧地坪漆 环氧树脂地坪漆 丙烯酸水泥地坪漆【谭女士】;公司位于重庆市九龙坡区火炬大道千叶大厦2-23-6;欢迎订询【023.6869.6660】;本产品为双组份涂料,由特种环氧树脂、颜料、填料、助剂经研磨配制为甲组份,特种固化剂为乙组份。具有常温自干、附着力强、耐磨、耐冲击、抗划伤等机械性能,具有良好的耐水、耐油、耐化学腐蚀等特点。产地成都是否进口否类别环氧自流平地坪漆按溶剂类型分油性漆品牌冠牌颜色各色单件净重20000(g)保质期12(个月)功能硬度高 耐酸耐腐蚀 耐磨 易清洁 平整防尘 防水用途范围车间 工厂 车库应用范围:适用于仓库、会议室、医院、机场走廊、车库、工厂车间等木材、水泥、水磨石及钢材地面的保护装饰,防止地面起尘,容易清洁。 三、技术要求:1、颜色及外观 漆膜平整光滑2、干燥时间25℃ 表干≤4小时 实干≤24小时 3、粘结强度(Mpa) ≥24、耐磨性(750g/300r,失重,g) ≤0.025、抗压强度(Mpa) 806、拉伸强度(Mpa) 107、抗弯强度(Mpa) 158、耐H2SO4,30% 30天轻微变色9、耐HaOH,30% 30天无变化10、耐盐水,3% 30天无变化11、耐汽油,120# 耐12、配比(重量比) 甲:乙=4:1 13、适用期25℃ 甲乙组份混合均匀静置10~20分钟开始使用,6小时之内用完 四、施工及贮运:1、涂装前,认真清理基面,保持基面平整,无油污,无疏散颗粒。在涂有封闭底漆或地坪中层漆后,再进行涂装。2、按规定比例配漆,充分搅匀,静置10~20分钟后使用。3、采用镘涂方法施工,层间施工间距20小时以上,每道膜厚500-1000μm。4、环境温度低于5℃,相对湿度大于85%时不宜施工。5、存放于阴凉通风处,严禁水分进入,存期一年。6、运输过程中避免碰撞、日晒、雨淋、火源。
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  • 地坪压痕试验仪YH-500 400-860-5168转3372
    上海荣计达仪器科技有限公司成立于2015年。地址位于中国上海市闵行区浦江镇沈杜公路3259号,专业从事试验仪器制造、加工,建材仪器领域的技术开发、技术咨询、技术转让。产品涉及水泥砂浆检测仪器、混凝土检测仪器、公路土工检测仪器、沥青防水材料检测仪器、油漆涂料物理性能检测恒温恒湿试验箱、高低温试验箱、高低温交变湿热试验箱、高低温冲击试验箱、超低温试验箱、氙灯耐候试验箱、甲醛释放舱、VOC释放舱、步入式高低温环境试验箱沙尘试验箱淋雨试验箱橡胶臭氧老化箱、耐老化试验系列、盐雾试验箱振动、跌落试验系列、电磁式振动试验台、模拟运输振动台、跌落试验台等几大类。公司技术力量雄厚,检测手段先进,生产经验丰富,长期以来我们以专业技术向市场推介优质的设备与仪器,用专业态度高效率服务于市场,凭借健全的管理制度保障服务质量,依靠高素质的技术人才保证服务水准,为客户提供实验室仪器及电子行业生产设备的整体解决方案和服务。公司产品凭借过硬的质量、完善的售后服务、合理的价格畅销各大院校、检测单位、建材企业、工程建设单位,用户遍布国内近三十个省市、自治区,并远销国外,与用户建立了长期稳定的合作关系。同时有专业技术人员提供仪器咨询、技术讲解、安装调试、设备维修等,均以过硬的产品质量和优质的服务在客户和同行中为企业赢得了良好的口碑。公司有健全的管理制度和完善健全的质量管理体系。并有反应迅速、服务周到的售后服务系统。我们将不懈努力、一如既往以优异的品质为客户服务.一、地坪压痕试验仪YH-500产品简介适用于水泥基耐磨地坪系统、渗透型液体硬化地坪系统、水泥基自流平地坪系统、树脂整体面层地坪系统和普通混凝土地坪系统的硬度测量。该产品原理是对一定直径的钢球施加一定的试验载荷压入待测地坪表面,经规定的保持时间后,卸除试验载荷,测量待测地坪表面压痕直径。本产品具有外观新颖,操作简单,试验结果准确等特点。二、地坪压痕试验仪YH-500技术参数:1、钢球直径: 10±0.01mm2、荷载重量: 10±0.1N3、配重砝码: 500±5N4、千分表精度: 0.001mm5、千分表量程: 0-12.7mm6、外形尺寸: 520X520X650mm7、整机重量:120kg点击搜索:地面防滑性能试验机
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  • 水性环氧地坪漆成为当下地面装修材料市场迫切需要的一种环保地坪涂料..【重庆水性环氧地坪漆/水性环氧地坪涂料订购-询价:谭经理】重庆科冠涂料工厂价拿货【公司热线:】;冠牌水性环氧地坪漆,是一种以水为介质,可溶于水的绿色环保涂料。施工时无需添加其它化学溶剂,无刺激性气味,对环境与施工人员的健康无害无影响。产品描述:水性环氧地坪漆也称功能型地面装饰材料,是能够快速,经济和有效地得到平整,牢固或者具有装饰性地面的一类材料。环氧自流平地坪漆其特点 洁净程度高、耐污无菌等特点。适用范围: 水性环氧地坪漆主要用于要求高度清洁、美观、无层、无菌的电子,微电子行业,实行 GPM 标准的制药行业,血液制品行业,也可用于学校、办 公室、家庭等地坪。 性能特点: 1.选用无溶剂高级环氧树脂加优质固化剂制成; 2.表面平滑、美观,达镜面效果; 3.耐酸、碱、盐、油类介质腐蚀,特别耐强碱性能好; 4.耐磨、耐压、耐冲击,有一定弹性。施工工艺: 1.基面处理; 2.涂刷封闭底涂; 3.批刮环氧砂浆; 4.批刮自流平腻子; 5.打磨,吸尘; 6.镘涂自流平色漆;
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  • 水泥地面打磨机 环氧树脂地坪打磨机 无尘施工打磨机一、关于环氧地坪打磨机用途环氧地坪打磨机是采用进口电机和吸尘电机,多功能吸磨一体打磨机,可以边打磨边吸尘,环氧地坪打磨机能有效打磨混凝土表面以提高材料和地面的粘接度,同时保证地面的平整度,可用于环氧中涂腻子打磨提高环氧砂浆层的平整度,也可以用于面积旧环氧、旧涂层去除打磨。二、关于地坪打磨机性能特点1、可自由顺衍换底盘,耗材可以自由配置(金刚石,砂轮片),装金刚石磨头主要用于水泥素地、旧环氧地面打磨;装砂纸盘用于中涂腻子层打磨。2、使用380v电源的打磨电机为您提供全程无忧的长时间打磨作业。3、自带吸尘器,在施工过程中不会扬尘,提供无尘作业。4、长寿命设计,进口德国西门子电机。使用橡胶连接器连接打磨盘,完全避免设备使用一段时间后因机械磨损所造成震动现象。5、操作简便舒适,劳动强度低,是环氧施工的zui佳选择。6、工作效率高,打磨效果好,打磨后的地面平整度高,避免材料浪费。7、经济适用,打磨头耗材价格便宜,打磨面积广。三、关于地面打磨机技术参数型号:顺衍-380B 吸尘器电机功率:750W主电机功率:3.0KW(德国西门子电机和国产电机)处理面积:380MM 重量:120千克磨头:3片/付(也可使用磨盘,效果顺衍佳。注:出厂配置磨头和砂皮纸一张,和砂皮盘一个)工作效率:2500平方米/8小时,每小时可以打磨300平方的环氧地面金刚石磨头使用寿命:2000平方左右 沙皮纸使用寿命:200-300平方左右联系人:刘欣 电话:QQ: 网址: 水泥地面打磨机 环氧树脂地坪打磨机 无尘施工打磨机
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  • 贵州贵阳环氧自流平地坪漆/自流平漆厂商直供(刘经理:023^68696660)本产品分:地坪面漆型、中涂漆、普通型和防静电型。 施工参数:1、防水处理:一楼地面需已做好防水处理。2、素地处理:依素地状况做好打磨、修补、除尘。3、防静电底漆:采用渗透性及附着力特强的防静电底漆滚涂一道,增强表面附着力。4、防静电中涂:将防静电中涂树脂加入适量的石英砂,用镘刀将其均匀涂布1~2道。5、铜箔铺设:导电铜箔采用井型铺设,有效排除累积之静电,并做接地处理。6、防静电批土:依实际需要施工数道,要求达到平整无孔洞、无批刀印及吵磨印为准。7、防静电面涂:防静电自流平镘面一道或喷涂面二道,其体积/表面电阻平均系数值105Ω~108Ω。完工后整体地面光亮洁净、颜色均一、无空鼓。8、施工完成:24小时后方可上人,72小时后方可重压(以25℃为准,低温时间放时间需适度延长)。 重庆科冠涂料微信公众号搜索:科冠油漆涂料。以上部分内容来源于网络,仅作为展示之用,版权归原作者所有;如有不适,请告知,我们会尽快删除。
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  • 铝镁合金收光大抹子的抹子板为镁铝合金材质,表面非常平整.主要用在地坪面稍干的表层提浆,收光 或者手扶磨光机工作后的痕迹抹平铝镁合金收光大抹子主要有三根1.8米铝合金手柄,一体铸造的铝合金连接器和镁铝合金抹子板组成
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  • 一、超平地坪平整度测量仪RJD-6荣计达仪器概述超平地坪检测仪整体地坪现场验收通用方法相关要求进行研发生产。同时也满足美国ASTM E1155M标准。仪器由检测机架和平板电脑构成,组装维护方便;测试软件为全中文,符合国人使用习惯,简单易用;既可以直接读取当前测试的地坪剖面线的平整度FF和FL值,也可以对所有测试数据进行Excel数据表存档,便于后期分析。二、超平地坪平整度测量仪RJD-6荣计达仪器用途及规范 2.1用途地坪平整度包括地面的平整度和水平度,直接影响行驶其表面的叉车、货车以及其他货物装卸工具,平整度差的地面会使行驶车辆的抖动更大,操作人员更易产生疲劳,也会降低车辆的工作速度,影响工作效率。目前,国内地坪平整度检测主要有靠尺法和泼水观测法。靠尺法是采用2米或者3米靠尺和契形塞尺在地坪表面进行检测,具体做法是把靠尺放置在地坪表面然后找到靠尺和地面的最大间隙并用契形塞尺进行测试间隙的大小。这种方法既不科学也无法重复,同时测试效率低,费时费力;另外,这种方法由于采用了2m或者3m的靠尺,因此只能检测2m或者3m以内的地面平整度,基本不能检测更大范围的水平度。2.1规范地坪平整度F数值测试标准美国ASTM E1155M(地坪平整度FF和地坪水平度FL数值标准测试方法)F数值为美国混凝土协会(AmericanConcreteInstitute#117)及加拿大标准协会(CanadianStandardAssociation#A23.1)为规范及测量混凝土地坪平整及高差的标准。此规范包括两个F数值:FF为平整度,FL为高差值,平整度关系着地坪的隆起与凹陷;高差值关系着地坪的倾斜或高差。也就是说平整度FF表示地坪整体意义的起伏程度,水平度FL表示地坪整体意义的倾斜程度。愈高的F数值代表地坪的平整度愈佳。三、超平地坪平整度测量仪RJD-6荣计达仪器主要参数方向:Z向线性:±0.001%FS单步量程:300mm重复精度:0.1mm工作温度:0~+85通讯方式:WIFI无线连接液晶屏供电电压:DC12V主机供电电压:DC8.4V液晶屏:SEETEC WINCE高度:290mm材质:304不锈钢四、装箱单1、主机一台2、充电器一件3、平板电脑一台4、电脑充电器一件5、电脑数据线一件6、说明书一份7、合格证一份
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  • 一、地面砂浆耐磨性测定仪地坪耐磨试验机BAC-III产品简介:地面砂浆耐磨性测定仪适用于水泥基自流平地面面层现场耐磨试验,也可以用于砂浆及找平层耐磨性的测定,地面砂浆耐磨性测定仪采用伺服电机驱动,3钢制磨轮摩擦,轮围绕磨头圆盘沿环形轨迹滚动,模拟了地坪使用过程中严重的一种磨损情况,即钢轮在拐弯处对地面的磨损,更为直观的体现地坪材料在现场使用中的耐磨性能。二、地面砂浆耐磨性测定仪地坪耐磨试验机BAC-III技术参数:◆磨轮数量:3个均布◆转速:0-200 rpm◆磨轮自转直径:76mm◆磨轮宽度:20mm◆磨轮组绕轴旋转直径:225mm◆磨轮表面硬度:735HV◆配重:65±0.5kg◆计数范围:0-9999转◆外形尺寸:220×280×254mm◆重量:120kg三、地面砂浆耐磨性测定仪地坪耐磨试验机BAC-III特点:伺服电机驱动:转速可调(用于科研)。主机体积小,重量轻,不丢转。驱动器内置:防止运输时磕碰损坏。配重与主机可分离,便于运输。配重与主机设可靠顺滑导向和定位,保证碾轮与地面间压力准确。控制器与主机可分离,便于运输,一航插连接。
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  • 重庆混凝土密封固化剂/地坪密封剂批发直销(刘经理:023^68696660)本产品处理过后的镘光混凝土地坪会出现大理石光泽,使用越久光泽度越好。 适用范围:适用于水泥地面起砂、粉化、强度低、灰尘大、耐磨性差的水泥基材质类的地面,使用年限达10年以上。 施工流程:基层处理→冲刷湿润地面→清理路面明水→搅拌材料→滚刷材料→保护晾干→工作完成。 1、基层要求:对于起砂地面进行清扫,无浮灰,保持干燥(可允许潮湿,但不得有明水); 裂缝及缺损部位应用高强修补料修补后,再用混凝土起砂处理剂进行硬化处理。 2、增硬处理:直接喷洒起砂处理剂,让基层浸润吸收,随时补充被吸收的处理剂,保持浸润状态,使整个地面全部浸透;随时将低洼处多余的起砂处理剂扫到已吸收处,2小时内基层吸收起砂处理剂,且不应有余料堆积;起砂严重的地面可连续三天重复喷洒起砂处理剂一遍。 重庆科冠涂料微信公众号搜索:科冠油漆涂料。以上部分内容来源于网络,仅作为展示之用,版权归原作者所有;如有不适,请告知,我们会尽快删除。
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  • EVG系列纳米压印设备之紫外纳米压印:600 一、 简介 EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司,可为客户提供完整的纳米压印方案,包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印,可以保证大面积纳米压印的均匀压力,从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面:LEDS 制作,LED PSS纳米压印工艺,LED纳米透镜阵列;微流体学;芯片实验室;抗反射层; 纳米压印光栅; 莲花效应;光子带隙;光学及通讯:光晶体,激光器件;生物技术解决方案:医药分析,血液分析,细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷;u 紫外光曝光;u 配备专用的紫外纳米压印工具;u 适于软或硬印章压印;u 适用衬底:Si,玻璃,化合物半导体; 四、技术参数亚科电子设备咨询电话:(微信同号);欢迎您的来电咨询!
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  • 科研用CNI v3.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置,体积小,容易存放,最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板,但所有处理器都是全自动的,专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色:&bull 体积小巧,容易存放,桌面型;&bull 轻微复制微米和纳米级结构;&bull 热压印温度高达200℃;&bull 可选的高温模块,适用于250℃;&bull UV纳米压印,365nm曝光;&bull 可选的UV模块,适用于405nm曝光;&bull 真空纳米压印(腔室可抽真空至0.1mbar);&bull 纳米压印压力高达11bar;&bull 温度分布均匀、读数精准;&bull 笔记本电脑全自动控制,工艺配方编辑简单,完全灵活控制,自动记录数据;&bull 直径最大210mm(圆形)腔室;&bull 腔室高度为20mm;&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频
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  • 科研用polypico UniA6是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置,体积小,容易存放,最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板,但所有处理器都是全自动的,专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色:&bull 体积小巧,容易存放,桌面型;&bull 轻微复制微米和纳米级结构;&bull 热压印温度高达200℃;&bull 可选的高温模块,适用于250℃;&bull UV纳米压印,365nm曝光;&bull 可选的UV模块,适用于405nm曝光;&bull 真空纳米压印(腔室可抽真空至0.1mbar);&bull 纳米压印压力高达11bar;&bull 温度分布均匀、读数精准;&bull 笔记本电脑全自动控制,工艺配方编辑简单,完全灵活控制,自动记录数据;&bull 直径最大210mm(圆形)腔室;&bull 腔室高度为20mm;&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频
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  • 纳米压印设备之热压印:EVG510HE 一、 简介 EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的好的公司,可为客户提供完整的纳米压印方案,包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其zhuan li的极其优异的对准技术和好的的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG510HE是一款半自动的热压印设备,用于硬模压印和纳米印刷。该热压印系统配备了一个通用的热压腔室,具备高真空和高接触压力能力,可以处理用于热压印的所有聚合物材料。EVG510HE可以实现长宽比的热压印和多重脱模工艺,为客户提供高质量的图形转移和纳米级分辨率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面:LEDS 制作,LED PSS纳米压印工艺,LED纳米透镜阵列;微流体学;芯片实验室;抗反射层; 纳米压印光栅; 莲花效应;光子带隙;光学及通讯:光晶体,激光器件;生物技术解决方案:医药分析,血液分析,细胞生长。二、 主要特点u 用于聚合物衬底和旋涂树脂的热压印;u 自动化热压印程序;u EVGzhuan li的单独对准技术用于压印和印刷前对准;u 全程软件控制工艺流程的运行;
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  • 纳米压印系统 400-860-5168转5919
    v 兼容基底尺寸:直径≤100mmv 支持基底材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金属等v 纳米压印技术:旋涂胶基底高精度压印&点胶自动找平压印、旋涂胶基底压印、点胶自动找平压印模式v 压印精度:优于10nmv 结构深宽比:优于10:1v 残余层控制:可小于10nm 微米级TTV控制精度v 紫外固化光源:紫外LED(365nm)面光源,光强300mW/cm2v 自动压印/自动脱模/自动工作模具复制/主动找平压印/模自动点胶:支持v 模具基底对位系统:手动对位(选配)v 上下片方式:手动上下片随机提供全套纳米压印工艺与材料,包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构、微透镜阵列、匀光片结构等工艺流程,帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平
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  • 纳米压印机 400-860-5168转3827
    台式R2P纳米压印机由Stensborg的现场工程师开发,与当今仍在行业中占据主导地位的传统纳米压印工具相比,它是一种小型且具有成本竞争力的卷对板压印机。这种智能技术是同类技术中的第一种;一种纳米压印光刻桌面和滚到板(R2P)设备。我们的辊对板NIL工艺使用了专利的辊隙压印工艺以及可调节的压印力,以最大限度地减少材料收缩,同时减少气泡问题。这种辊隙压印工艺减少了对基材一致性的需求,提供了更低的成本和更高的产量。Stensborg的工程师设计这款R2P纳米压印机时考虑到了成本节约,同时旨在制造一台具有高质量输出的机器;在高容量使用中,通过每小时进行多达60块板/晶片的定期性能审查,质量不会受到影响。
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  • 纳米压印胶 400-860-5168转1679
    仪器简介:公司拥有齐全的纳米系列压印胶材料,热压型纳米压印胶、热塑型纳米压印胶、紫外光固化型纳米压印胶、紫外光固化纳米压印和光刻两用胶、举离型传递层材料、刻蚀型传递层材料、各种与纳米压印技术相关的化学药品,如模板防粘剂、基片增粘剂等。适用于Obducat,Suss,HP,EVG等多种型号的纳米压印设备。技术参数: IPNR-T1000 Thermal plastic nanoimprint resist 热塑型纳米压印胶 IPNR-T2000 Thermal curable nanoimprint resist 热固化型纳米压印胶 IPNR-PC1000 Photo-curable nanoimprint resist (Free radical initiation) 光固化型纳米压印胶(自由基引发) IPNR-PC2000 Photo-curable nanoimprint resist (cation intiation) 光固化型纳米压印胶(阳离子引发) IPNR-UL1000 Under-layer polymer for lift off process 举离型传递层材料 IPNR-UL2000 Under-layer polymer etching mask process 刻蚀型传递层材料 IPNR-UPM Quick mold fabrication material 快速模板制作材料 IPNR-AP Chlorosilane based adhesion promoter 氯硅烷增粘剂 同时还能能够根据不同的模板提供相应的防粘试剂。
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  • Imprint Nano纳米压印 400-860-5168转1679
    仪器简介:纳米压印的技术与工艺特点,独创性地设计和制备工作于低真空环境下,结合正负压可控调节并利用压缩空气作为压印驱动力的,通过压力传导装置、缓冲与匀压、压力调节控制装置等手段实现平稳可靠可控的压印过程,借助于多种灵活的自动调节装置的巧妙设计与运用,实现压印中的自动找平调控,以保证模板纳米图案均匀精确的大面积复制转移。技术参数:YPL-NIL-SI400纳米压印系统: 温度范围从室温到350摄氏度; 压力范围从0到20个PSI(在4英寸晶元上); 紫外曝光系统; 真空范围从1个标准大气压到0.1帕; 水冷系统; 样品尺寸直径最大4英寸; PLC远程控制,带触摸屏; 手动装载样品和模板; 自带机器控制软件; 在软件控制下可实现自动增加和释放压力; 可定制更大样品尺寸或更大压力系统的纳米压印机。 YPL-NIL-SI400 NANOIMPRINT SYSTEM *Thermal ImprinterTemperature range of R.T. to 350℃ Pressure range of 0 to 20 atm *UV exposure system *Vacuum range of 1atm to 10-1 Pa * Sealed Bellows *Wafer/Mask Holders: maximum 4 inch dia. Samples: Smart Sample Holder for irregular shaped samples and piece parts. *Control electronics *PLC control and Touch Screen *Manual loading and unloading of wafers and masks *Proprietary Machine Control Software Including (A) SI400 nanoimprint system (B) training, Warranty, other, and (C) Options主要特点:该纳米压印机利用紫外曝光或者热压固化实现压印图案在压印高分子胶层中的复制,并通过各项功能与过程参量的优化与筛选,通过远程PLC控制系统结合触摸屏单元,实现纳米压印全过程的实时监控与全自动化控制。
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  • 纳米压印设备之紫外纳米压印:EVG600系列 一、 简介 EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及世界各地。EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等ling 域。EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著ming公司,可为客户提供完整的纳米压印方案,包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界ling 先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印,可以保证大面积纳米压印的均匀压力,从而保证获得很高的良率。 二、应用范围纳米压印技术主要应用于如下方面:LEDS 制作,LED PSS纳米压印工艺,LED纳米透镜阵列;微流体学;芯片实验室;抗反射层; 纳米压印光栅; 莲花效应;光子带隙;光学及通讯:光晶体,激光器件;生物技术解决方案:医药分析,血液分析,细胞生长。三、主要特点u 适用于紫外纳米压印和微接触印刷;u 紫外光曝光;u 配备专用的紫外纳米压印工具;u 适于软或硬印章压印;u 适用衬底:Si,玻璃,化合物半导体; 四、技术参数设备咨询电话:欢迎您的来电咨询!
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  • 纳米压印系统 400-860-5168转1431
    桌面型纳米印系统,优异的设计理念,专门针对大学实验室、研究所微纳米加工研究设计,配备温度控制和低压控制系统,使用方便,性能稳定可靠;同时配合专业设计的压印模板,可实现各种微纳米图形加工,特征线宽小于20nm;主要特点:1.桌面型设计;2.热压印技术;3.UV压印技术;3.模板整合温度控制;4.快速升温、快速降温,大大缩短热循环加工周期;5.低压控制技术;6.自动压入、脱模设计;7.适用于各种微纳米加工研究(2inch~4inch,其他定制);8.特征线宽小于20nm;安装要求:1.真空0.4 to 0.8 bar(实验室真空要求),流速至少1mL/min;2.压缩空气或压缩氮气6-10 bar;3.电源:110-240V (50-60 Hz, larger than 200W);
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  • EVG 纳米压印光刻 400-860-5168转4552
    纳米压印光刻(NIL)EVG是纳米压印光刻(NIL)设备和集成工艺的市场领先供应商。 EVG从15年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。 NIL是产生纳米尺度分辨率图案的最有前途且最具成本效益的工艺,可用于生物MEMS,微流体,电子学以及最近各种衍射光学元件的各种商业应用。 UV-NIL /SmartNIL系统EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻(UV-NIL)提供完整的产品线,包括不同的单步压印系统,大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻(UV-NIL)提供完整的产品线,包括不同的单步压印系统,大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL,EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高效,强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度,高度均匀的图案层和最少的残留层,并具有易于调整的晶圆尺寸和产量。 EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期承诺,即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能,低成本和具有批量生产能力的技术。选择您的UV-NIL /SmartNIL系统 EVG610 UV-纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,从小件到最大150毫米 EVG620NT SmartNILUV纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统,采用EVG专有的SmartNIL技术,最大可达100 mm EVG6200NT SmartNILUV纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统,采用EVG专有的SmartNIL技术(最大150毫米)。 EVG720 自动化的SmartNILUV纳米压印系统具有EVG专有的SmartNIL技术的自动全场UV纳米压印解决方案最大可达150毫米。 EVG7200 自动化SmartNILUV纳米压印光刻系统具有EVG专有的SmartNIL技术的自动全场UV纳米压印解决方案最大200毫米 EVG7200LA 自动化的大面积SmartNILUV纳米压印光刻系统大面积无与伦比的共形纳米压印光刻技术。 HERCULESNIL 完全集成的SmartNILUV-NIL系统完全集成的纳米压印光刻解决方案,用于大规模生产,具有EVG专有的SmartNIL压印技术。 EVG770 分步重复纳米压印光刻系统分步重复纳米压印光刻技术,可实现高效的母版制作。 IQAligner 自动化紫外线纳米压印光刻系统高精度UV压印系统,用于晶圆级透镜成型和堆叠。热压花系统EVGroup的一系列高精度热压花系统基于该公司市场领先的晶圆键合技术。热压印是一种具有很高复制精度的经济高效且灵活的制造技术。EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场领先的晶圆键合技术。 出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。 热压印是一种经济高效且灵活的制造技术,对于尺寸低至50 nm的特征,其复制精度非常高。 该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。 压模与基板对齐的组合可将热压纹与预处理的基板结构对齐。 EVG510HE 热压花系统高度灵活的热压花系统,用于研发和小批量生产。 EVG520HE 热压花系统经过通用生产验证的热压花系统可以满足最高要求。
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  • 桌面纳米压印机,易于复制微米和纳米级结构。纳米压印(热和紫外线)直径高达210mm圆形模板,带紫外线150 * 150mm方片模板,采用热处理工艺热压印操作简单直观用途广泛即插即用专为研发而设计 CNI v3.0 PV是用于纳米压印和热压印的小型桌面工具,可完成微米和纳米结构从模板复制到基质。CNI v3.0 PV纳米压印机可以执行热压印以及紫外压印,CNI纳米压印机是纳米复制的完美起点,同时也支持成熟和高级的开发工作,纳米压印机操作简单,坚固耐用,便于非标准流程和新实验。 易于安装 即插即用(不到20分钟的时间内就可运行工作)优势 凭借其热压印和紫外压印的功能,如果需要,在真空中,CNI v3.0 PV纳米压印机在其产品中是独一无二的,并支持许多不同的技术和工艺。使用方便 无需查看使用手册,每个人都能使用;紧凑尺寸 26*30*14cm(120mm腔室的尺寸); 42*44*14cm(210mm腔室的尺寸);安装 CNI结构紧凑,无需固定安装;高质量压印 能够将小于40nm的结构复制到大于100μm的结构;多功能 可使用任何尺寸的印章和模板,直径最大210mm(8英寸)圆形的模板;技术支持 提供个性化支持,专注于您的加工需求; 特征:桌面大小的纳米压印工具 热压印温度高达250℃ 紫外纳米压印,365nm曝光(or 405nm–自定义选项)压印压力从0.3到11bar 在真空压印1mbar 印章和基材尺寸:直径可达210mm 印章和基材没有固定的样式坚固且易于使用手动装卸印章和模板自动程控软件操作界面简单可记录所有步骤和流程 CNI V3.0支持许多不同的技术:热纳米压印UV纳米压印热压印微米结构压印聚合物粘合 举例:纳米结构压印微结构压印硅片上纳米间距的光栅压印在软性的基材上压印(如III-V材料,InP)印章生产高纵横比结构的热压印聚合物热压印热聚合物粘合 要求:现场安装的技术要求压缩干燥空气或氮气压力6-11bar,外径6mm连接器,流量至少应该1/2标准L/min;在10mm外径连接器中,真空度优于0.1mbar(如果有真空选项);功率:110-240V (50-60HZ, 大于200W);环境应安装在干净、无尘和无颗粒的环境,以达到最佳效果;工作温度范围10-35℃;工作湿度范围30-70%;其他增压器:如果你的实验室不能提供高于6 bar的压缩空气压力,NILT可以提供一个增压器,可以将3-5 bar加到6-10 bar;真空泵选项:NILT建议使用Edwards nXDS6i干式涡旋真空泵。任何其他相似或更好规格的泵也可正常工作; 规格:压力:0.3-11bar温度:高达200℃,精度+/-1℃,可选高温模块,适用于250℃紫外线曝光:在120mm腔室中,波长为365mm或405 nm的紫外线LED灯,光功率为12 W,在210 mm腔室中为~100mW/cm2或~165mW/cm2的光功率为57W真空:可将腔室抽真空至低于1mbar的压力腔室尺寸:- 直径120毫米,高度20毫米(最大可扩展到45毫米) - 直径为210毫米,高度最大为20毫米(无法扩展)自动复制过程:手动装载印章和基材 通过CNI软件控制,整个复制过程完全自动化软件:全程控制和灵活性 除了装载和卸载之外的所有东西都由软件处理CNI定制: 可根据您的需求定制在线视频说明:在线安装视频和操作提示可选项: 增压器可将实验室压缩空气供应从3-5bar提升至6-10bar,由NLT人员进行培训和/或安装
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  • NX-B100/B200整片基板纳米压印系统经过了大量的实时实地验证,质量可 靠,性能优越稳定。具备全部压印模式:热固化、紫外固化和压印。基于独 特保护的Nanonex气垫软压技术(ACP),不论模版或基板背面粗糙程 度如何,或是模版或基板表面波浪和弧形结构,NX-B100/B200均可对其校 正补偿从而获得无与伦比的压印均匀性, ACP消除了基板与模版之间侧向偏 移,有效地延长了模版使用寿命。通过微小热容设计可获得快速的热压印周 期,zui终得到快速的工艺循环。主要特点:所有形式的纳米压印热塑化紫外固化 (NX-B200)热压与紫外压印同时进行(NX-B200)热固化 气垫软压技术(ACP)Nanonex技术完美的整片基板纳米压印均匀性高通量低于10nm分辨率 快速工艺循环时间(小于60秒) 灵活性最大75毫米直径压印面积各种尺寸及不规则形状模板与基板均可压印方便用户操作基于超过12年、15代产品开发 经验的自动化压印操作Nanonex压印系统经过大量实 时实地验证,质量可靠,性 能优越稳定全自动纳米压印系统参数:热塑压印模块(NX-B100/B200) 温度范围0~250℃加热速度200℃/分钟制冷速度60℃/分钟压力范围0 ~ 3.45 MPa(500 psi)紫外固化模块(NX-B200)58mW/cm2紫外LED光源365纳米或395纳米波长可选全自动化控制模版装载功能最大3英寸模板可用于标配纳米压印系统基板装载标配纳米压印系统可装载3英寸基 板 各种尺寸及不规则形状模板与 基板均可压印 独特保护ACP技术可最大限度保护模板和基板,特别对于象磷化铟(InP)等极易碎模 板和基板给予最大限度。其他参数:配有微软Windows的电脑控制系统 用户友好的控制软件 程序化控制压印温度、压力和时间 真空和压缩空气操作由电脑控制 手动装载/拆卸基板 自动化压印操作 设备占地面积:32 × 34 英寸(810 mm × 860 mm) 应用领域:纳米电子和光电子、显示器、数据存储介质、先进材料、生物科技、纳米流道等。
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  • 科研用CNI v4.0是一种非常灵活的纳米压印机。它可提供加热型纳米压印、UV紫外纳米压印以及真空纳米压印。模块化系统可根据特定需求轻松配置,体积小,容易存放,最大可处理210mm(8英寸)圆形的任何尺寸印章和基材。该系统是手动装卸印章和模板,但所有处理器都是全自动的,专用软件用户可以完全控制压印过程。 纳米压印机特色:&bull 体积小巧,容易存放,桌面型;&bull 轻微复制微米和纳米级结构;&bull 热压印温度高达200℃;&bull 可选的高温模块,适用于250℃;&bull UV纳米压印,365nm曝光;&bull 可选的UV模块,适用于405nm曝光;&bull 真空纳米压印(腔室可抽真空至0.1mbar);&bull 纳米压印压力高达11bar;&bull 温度分布均匀、读数精准;&bull 笔记本电脑全自动控制,工艺配方编辑简单,完全灵活控制,自动记录数据;&bull 直径最大210mm(圆形)腔室;&bull 腔室高度为20mm;&bull 即插即用&bull 使用简单直观&bull 专为研发而设计&bull 提供安装和操作教程视频
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  • 滚筒式纳米压印机 400-860-5168转2831
    滚筒式纳米压印机产品负责人:姓名:谷工(Givin)电话:(微信同号)邮箱:滚筒式纳米压印机HoloPrint uniA6 DT是一种负担得起的、便携的、易于使用的桌面设备,用于实验室尺度的纳米压印光刻工作。这款滚筒式纳米压印机是快速成型、测试和表征结构性能、光固化树脂和印迹材料的完美设备。典型的应用范围包括印刻、芯片实验室、衍射光学元件和其他纳米印刻结构。HoloPrintuniA6 DT在其自身的保护环境中工作,因此,洁净室所需的投资可以分配到其他地方。滚筒式纳米压印机HoloPrintuniA6 DT是由Stensborg公司的工程师开发的,与占行业主导地位的传统纳米压印工具相比,它是一种体积更小、成本更有竞争力的辊-板压印机。由于有接触区,我们的辊到板零工艺利用可调的压印力,以大限度地减少材料收缩,同时减少气泡问题。我们的专利NIP工艺也降低了对基材一致性的需求,从而降低了成本,提高了成品率。这款桌面式纳米压印机NIL不仅具有很好的性价比,而且呈现出很高的生产潜能。据测量这款滚筒式纳米压印机的的产量高达60片/晶圆每小时。原型设计研发的理想设备滚筒式纳米压印机HoloPrint uniA6 DT支持“快速失败”哲学思想,这将加速您的开发过程周期。通过快速测试新设计,它允许开发周期的快速迭代,因此,它是原型设计的完美设备。它使您能够试验和测试许多压印技术,正确类型的光固化树脂,以及处理参数,如压力,速度,和光强度,以表征重要的参数,然后规模化生产。因此,通过更少的迭代,您将能够在内部构建原型,并节省时间和资源。独特的光引擎大约十年前,我们的光引擎采用了发光二极管,用于大批量生产,以取代体积庞大的UV气体放电管式光引擎。光引擎是HoloPrint uniA6 DT的重要组成部分,因为它提供高度聚焦的光子能量,通过在可光固化树脂中产生化学反应,使树脂从弹性状态变为塑性状态,从而在滚轮咬合中进行固化。我们为独特的光学引擎设计申请了专利,使我们的HoloPrint uniA6 DT体积更小,成本更低。该压印机包括专利的光学引擎,其中包括具有被动冷却功能的长寿命395nm发光二极管(LED),以及可选的内置水冷却功能,以满足极限曝光要求。规格参数zui大压印尺寸:105x148mm (WxL),衬底厚度可达8mm复制速度:每小时60次手动复制(速度可达6米/分钟)两种输出:辊到印版和辊到箔片操作光学固化引擎:长寿命395nm LED,在6m/min时可达100mJ/cm2设备尺寸和重量:670x380x320mm (LxWxH), 26kg
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  • 卷对卷纳米压印系统 400-860-5168转2856
    德国Coatema R2R纳米压印系统-R2R生物微流控压印系统
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  • 荷兰SCIL纳米压印机 400-860-5168转4306
    荷兰SCIL公司简介 荷兰SCIL公司是知名的纳米压印设备供应商,是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一,“SCIL基底保形压印光刻”技术,结合了小面积硬压与大面积软压的优势,真正意义上实现了12寸晶圆高质量无基底损伤保形的纳米压印,已成功用于12寸量产线,已经被国际上很多知名fab厂采用。 “SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺,可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻对齐精度小于 1 μm 的图案。 荷兰SCIL公司同时开发了的无机玻璃纳米压印光刻胶,可直接作为功能层使用,可直接省去2个工艺步骤,大大降低了生产成本。 SCIL 目前可提供2” 至 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案,并可以帮助客户优化设备、耗材和流程,以实现大批量生产。SCIL 技术特色 - 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷(模板复制技术)。 - 独特的 SCIL 压印工艺可确保<10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。 - 套刻对齐精度: 1 μm - Sol-gel的优异蚀刻特性可得到极高的蚀刻率。 - Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和(UV)稳定性使其适合作为功能层。 - 使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。 - 总体而言,SCIL可将超高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。 LabSCIL型科研级纳米压印系统简介 LabSCIL专为有兴趣开发 SCIL 流程和应用程序的大学、研究所和公司的研发实验室开发,对于对可用于小批量试生产的工具感兴趣的公司,LabSCIL将是理想的选择。技术参数操作手动放片,纳米压印是全自动的晶圆尺寸最大8”,向下兼容晶圆厚度0.3 - 2.5 mm晶圆搬运托盘手动加载光刻胶类型Thermal sol-gelUV sol-gelUV organic压印技术低力软模基底保形纳米压印尺寸(WxLxH)1.8 x 1.4 x 2.2 m套刻精度 1μm应用 纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括: - 增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学 - MicroLED - MEMS和3D传感
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  • NILT纳米压印仪 400-860-5168转4149
    NIL TECHNOLOGY Aps (NILT) 位于丹麦的哥本哈根市的丹麦技术大学(TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK)校园里,是一家专门从事纳米光学、纳米结构制作和纳米压印设备制作的公司,公司与的丹麦国家微纳米实验中心(Danchip)是“合作伙伴”关系,并享有共同的超净设备和研发技术成果,公司同时从事欧盟诸多纳米制作项目的研发,并拥有多位教授和博士后团队。NILT 开发的CNI系列 实验室用台式纳米热压印机是专为实验室和研发机构设计和开发的简单易用、性能稳定的研发型设备,用户可以通过CNI设备高效、低成本地实现高精度的纳米热压工艺,许多知名的研发机构均购买了CNI的设备。Nano Fabriction Solution 技术方案已在多个领域为用户提供基于纳米技术的行业解决方案,包括: * LED纳米压印解决方案:LEDS 制作,LED PSS纳米压印工艺,LED纳米透镜阵 *μ-Fluidics 纳米应用流体学 * Lab-On-A-Chip 微流控纳米应用 *Anti-Reflection 抗反射纳米应用*Wire Grid Polarizer 纳米压印光栅 * Lotus Effect 莲花效应 *Photonic Band Gap (PBG) 光子带隙 *光学及通讯: 光晶体,激光器件 *LOC解决方案 *生物技术解决方案: 医药分析,血液分析,细胞生长
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