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光学薄膜

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光学薄膜相关的资讯

  • 光学薄膜的真空镀膜设备
    光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw) 光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw)光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw)光学薄膜的真空镀膜设备 型号:BMC1100DS,带Windows软件自动控制系统(SDC)/日本 制造时间:2003年 状态:运行极好 生产厂家:Shincron (http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1100mmxH 1600mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2 EB Guns (JEOL)  JEBG-102UHO(&phi 35ccx20) JST-16F (16kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器: 无 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 最大350℃± 10℃(36kw) 型号:RMC1100,带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间:2003年8月 状态:运行极好 生产厂家:Rock Giken Inc (http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html) 技术规格: 真空腔体尺寸: &phi 1150mmxH 1500mm 衬底圆顶尺寸: &phi 950 (3~30rpm) 耐加热系统: &phi 20mm 4kw 蒸发源: 2EB Guns (Plasma System)  G-12100(&phi 35ccx20) D-10001 (10kw)  IAD 系统: 无 光学厚度监控器: 380~1500nm(波长) (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器: XTC-2(Inficon) 真空泵单元: MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统: 300℃± 10℃(21kw)
  • 每年3倍!宁波激智已成最大液晶光学薄膜厂商
    宁波激智一名员工在新投产的流水线上检验产品质量  宁波激智新材料科技有限公司成立于2007年3月,是一家集光学薄膜和特种薄膜研发、生产、销售为一体的高科技公司,是中国首家TFT-LCD光学膜片生产基地,也是国内唯一一家在TFT-LCD光学膜领域中拥有自主知识产权的企业。宁波激智已就关键核心技术申请了13项国家发明专利,其中7项已授权。  据悉,宁波激智产的BritNit系列光学扩散膜、增光膜和反射膜,已经成功进入国际市场,打破了美国、日本和韩国企业对此行业的垄断。宁波激智在国内的主要客户有TCL、海信、长虹、康佳、创维、海尔等国内著名家电企业,而且也成为了冠捷等液晶显示器厂商的主要供应商,并且已经进入三星、LG、夏普、菲利普、苹果等国际大公司的供应链体系。  宁波激智的销售额,2009年为1025万元,2010年为3798万元,2011年为1.01亿元,2012年达到了近3亿元。几乎每年都是前一年三倍的惊人发展速度,使其短短数年间便成为国内最大的液晶光学薄膜生产厂商。宁波激智的成功,再次凸显自主创新和知识产权对高新技术产业发展的重要性。
  • 中科大张斗国教授团队研制出基于光学薄膜的平面型显微成像元件
    近日,中国科学技术大学物理学院光电子科学与技术安徽省重点实验室/合肥微尺度物质科学国家研究中心教授张斗国研究组提出并实现了一种基于光学薄膜的平面型显微成像元件,用作被测样本的载波片,可在常规的明场光学显微镜上实现暗场显微成像和全内反射成像,从而获取高对比度的光学显微图像。研究成果以Planar photonic chips with tailored angular transmission for high-contrast-imaging devices为题,发表在Nature Communications上。光学显微镜利用光学原理,把人眼不能分辨的微小物体放大成像,进而拓宽人类观察物质结构的空间尺度范围。通用的光学显微镜是明视场显微镜(Brightfield Microscopy),它利用光线照明,样本中各点依其光吸收的不同在明亮的背景中成像。但对于一些未经染色处理的生物标本或其他透明样本,由于对光线的吸收少,其明视场显微镜像的对比度差,难以观测。为解决以上问题,科学家们发展出暗视场显微镜(Darkfield Microscopy):其照明光线不直接进入成像物镜,只允许被样品反射和衍射的光线进入物镜。无样品时,视场暗黑,不可能观察到任何物体;有样品时,样品的衍射光与散射光等在暗的背景中明亮可见,因此其成像对比度远高于明场光学显微镜,如图1a所示。另外一个解决方案是,利用光线全反射后在介质另一面产生衰失波(又称表面波)来照明样品,无样本时,衰失波光强在纵向呈指数衰减的特性使得其不会辐射到远场,视场暗黑;有样品时候,衰失波会被散射或衍射到远场,从而在暗背景下形成物体的明亮像,该显微镜被称为全内反射显微镜(Total internal reflection microscopy, TIRM),同样可以提高成像对比度。衰失波光强在纵向呈指数衰减的特性,只有极靠近全反射面的样本区域会被照明,大大降低了背景光噪声干扰观测标本,故此项技术广泛应用于物质表面或界面的动态观察,如图1b所示。然而,上述两种显微镜均需要复杂的光学元件,如暗场显微镜需要特殊的聚光镜来实现照明光以大角度入射到样品;全内反射显微镜需要高折射率棱镜或高数值孔径显微物镜来产生光学表面波;这些元件体积大,不易集成,成像效果严格依赖于光路的精确调节,增加了其操作复杂度。研究提出的基于光学薄膜的平面型显微成像元件可有效弥补上述不足。图1c为该元件结构示意图,主要包含三部分:中间部分是掺杂有高折射率散射纳米颗粒的聚合物薄膜,利用纳米颗粒的无序散射来拓展入射光束的传播角度范围;上部和下部是由高低折射率介质周期性排布形成的光学薄膜,利用其来调控出射光束的角度范围。通过光子带隙设计,下部光学薄膜只允许垂直入射的光束透过,其他角度光束的均被抑制;上部光学薄膜在750 nm波长入射下,只有大角度的光束才能透射;在640 nm波长下任何角度的光均不能透射,只能产生全内反射。图1. 传统暗场照明(a)与全内反射照明(b)光学显微镜,基于光学薄膜结构的显微成像照明元件(c)因此,在正入射下,经过该光学薄膜器件的光束出射角度或大于一定角度(对应750 nm波长),或在薄膜表面产生光学表面波(对应640 nm 波长)。利用一块光学薄膜器件,在常规的明场显微镜上(图2a),可同时实现暗场显微成像与全内反射成像。成像效果如图2b,2c所示,相对于明场光学显微镜像,其成像对比度有大幅提升。该方法不仅适用于空气中的样品,也适用于液体环境中生物活细胞的成像,如图2d所示。进一步实验结果表明,该方法可以实现介质薄膜上的表面波,并可用于金属薄膜表面等离激元,如图3所示,研究利用其作为照明光源,实现了新的表面等离激元共振显微镜架构,相较于目前广泛使用的基于油浸物镜的表面等离激元共振显微镜,基于光学薄膜器件的表面等离激元显微镜结构简单,成本低、操作便利,易于集成。图2. 基于光学薄膜结构的全内反射照明与暗场照明显微成像图3. 利用光学薄膜结构激发表面等离激元实现新型表面波光学显微镜上述实验结果表明,无需改变现有显微镜的主体光路架构,通过设计、制作合适的显微镜载玻片可以有效提升其成像对比度,拓展其成像功能。研究工作得到国家自然科学基金委员会、安徽省科技厅、合肥市科技局等的支持。相关样品制作工艺得到中国科大微纳研究与制造中心的仪器支持与技术支撑。论文链接
  • 日立UH4150再次携手光学薄膜专业软件Macleod培训班
    作为光学薄膜测量专业光度计生产商,日立高新于2016年7月22日再次携手光学薄膜设计软件Essential Macleod在中国的独家代理讯技光电科技(上海)有限公司,参加了台湾国立中央大学李正中教授主讲的“薄膜光学与镀膜技术培训班”。此次培训班吸引了全国各地的知名薄膜制造企业,以及中科院和高效的专家学者参与。   日立高新发表了题为《日立UV-VIS-NIR光度计-光学薄膜测量实例和技巧》的报告,介绍了光学器件专用测量仪器UH4150型紫外-可见-近红外分光光度计在此行业的多种应用方案及测量技巧。方案包括棱镜、偏振片、透镜、镜片、各种微小样品、大型建筑玻璃、以及成品镜头等。   UH4150是专业的光学测量仪器,Macleod是中国市场占有率第一的光学薄膜设计软件。日立光度计uds格式数据可直接导入Macleod软件,避免了手动载入的误差和麻烦。日立和讯技公司联手,将硬件和软件结合,为客户同时提供专业的成套解决方案,对客户有重要的意义。 关于日立紫外/可见/近红外分光光度计UH4150,请点击链接:http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102446/C185793.htm关于日立高新技术公司:日立高新技术公司,于2013年1月,融合了X射线和热分析等核心技术,成立了日立高新技术科学。以“光”“电子线”“X射线”“热”分析为核心技术,精工电子将本公司的全部股份转让给了株式会社日立高新,因此公司变为日立高新的子公司,同时公司名称变更为株式会社日立高新技术科学,扩大了科学计测仪器领域的解决方案。日立高新技术集团产品涵盖半导体制造、生命科学、电子零配件、液晶制造及工业电子材料,产品线更丰富的日立高新技术集团,将继续引领科学领域的核心技术。更多信息敬请关注:http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102446/
  • 光学薄膜研究利器-日立紫外可见近红外分光光度计
    第12届上海国际高功能薄膜展会于5月17日在上海国家会展中心盛大召开,本届展会吸引了约600家薄膜相关行业的生产商和供应商。  对于光学薄膜等相关行业用户来说,必须借助紫外-可见-近红外分光光度计进行光学性能分析。  日立高新技术作为全球高端紫外-可见-近红外分光光度计生产商,参与了此次会议并,向与会者介绍了日立UH4150型分光光度计为光学薄膜研究者和生产者所能提供的专业解决方案,受到了与会用户的关注与一致好评。  日立UH4150是一款专业级别的分光光度计,对象定位于向各类光学样品。具有噪音低、准确性好、重现性高、检测器切换差异小、附件种类丰富等特点,能为客户提供完善的解决方案。 关于日立紫外/可见/近红外分光光度计UH4150,请点击链接:http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102446/C185793.htm 关于日立高新技术公司:日立高新技术公司,于2013年1月,融合了X射线和热分析等核心技术,成立了日立高新技术科学。以“光”“电子线”“X射线”“热”分析为核心技术,精工电子将本公司的全部股份转让给了株式会社日立高新,因此公司变为日立高新的子公司,同时公司名称变更为株式会社日立高新技术科学,扩大了科学计测仪器领域的解决方案。日立高新技术集团产品涵盖半导体制造、生命科学、电子零配件、液晶制造及工业电子材料,产品线更丰富的日立高新技术集团,将继续引领科学领域的核心技术。更多信息敬请关注:http://www.instrument.com.cn/netshow/SH102446/
  • 豪迈集团海洋光学薄膜分部独立成新公司
    新公司成为豪迈集团健康光学与光子学部下属公司  微型光子学行业的领军人,海洋光学宣布旗下薄膜分部独立成为一家新公司,取名为海洋薄膜公司(www.oceanthinfilms.com ), 主要应用在科学、生物医药、国防、计量和娱乐行业,设计和制造获得专利的二向色滤光片及精密光学部件。     始创于1999年,海洋薄膜最初为海洋光学的分部,主要设计生产大量的二向色光学滤光片,用于根据波长选择性的光传输。这些精密光学滤光片及其他光学部件可整合到一些其它的应用上,例如可用于建筑及娱乐用安装的变色灯,可用于CCD相机及光谱成像等科学仪器,以及可用于国防目标命中系统。2008年11月,海洋薄膜收购了美国欧瑞康(Oerlikon)光学公司旗下的科罗拉多业务部门,这增强了海洋薄膜在生命科学、医疗和其他一些科学应用方面的光学部件及配件的供应能力。  海洋薄膜总裁费尔• 布什巴母(Phil Buchsbaum)说,“我们一直就被自己公司已有的挑战和机遇所激励。再加上收购欧瑞康为我们带来了额外的专业技术和生产能力,加之近期扩充了佛罗里达的生产设施,我们已经做好充分的准备立即开展工作,为各行各业生产新一代高品质的,具有创新性的光学元器件及薄膜产品。”  海洋薄膜位于美国科罗拉多,拥有110名雇员,并于近期扩充了其位于美国佛罗里达的生产设施。该团队使用高级光刻设备及真空淀积系统,为生产系统及原型光学系统提供模式化最优解决方案。  关于海洋光学——总部设在美国佛罗里达州的Dunedin市,是世界领先的光学感应解决方案供应商 - 提供光与物体相互作用的测量与解读的基本方法。加上海洋光学亚洲(中国)分部,海洋光学欧洲公司(荷兰)和Mikropack公司(德国),海洋光学自1989年以来在世界范围内销售了10万多台各种光谱仪。海洋光学的产品范围包括各种化学、生化传感器、分析测试仪器、光纤、样品池、采样附件、薄膜及光学元器件等。这些产品都广泛地被应用于医学和生物研究、环境监测、科学教育及娱乐灯光与展示等多种用途。海洋光学是豪迈集团公司下属的安全与探测部门的一个重要的子公司。
  • 薄膜光学重点实验室揭牌
    军工企业在本市首家重点实验室——天津市薄膜光学重点实验室正式揭牌。该所依托于中国航天科工集团八三五八研究所建设,在薄膜光学领域具有很强的基础研究、技术开发和工程应用能力,为航天、航空、船舶等诸多国家重大或重点工程项目研制、开发做出了重要贡献。现承担国家级重大军工项目,工艺攻关课题两项、省部级科研项目十余项。  据介绍,该实验室主要研究领域为薄膜光学理论及应用,以薄膜光学中的理论问题、前沿问题和国家需求为主要研究内容,以获取原始创新成果和自主知识产权为主要研究目标,以基础研究和高新工程应用相结合为特色,形成了激光光学薄膜、超硬光学薄膜、光电功能薄膜三大研究方向。
  • 光学薄膜透射反射性能检测方法进展
    随着智能穿戴设备、消费电子设备应用兴起,生物识别、物联网、自动驾驶、国防/安防等领域对光电镀膜材料的需求日益旺盛。不同行业根据使用场景,对光学镀膜的性能提出了更加多样化的需求,越来越多需要测试镀膜样品的变角度透射、变角度反射信号。传统变角度反射测试一般为相对反射率测试,需要通过参比镜进行数据传递,往往参比镜在不同角度下的绝对反射率曲线很难获取,给测试带来很大困难,同时在数据传递中也会增加误差的来源。随着智能穿戴设备、消费电子设备应用兴起,生物识别、物联网、自动驾驶、国防/安防等领域对光电镀膜材料的需求日益旺盛。不同行业根据使用场景,对光学镀膜的性能提出了更加多样化的需求,越来越多需要测试镀膜样品的变角度透射、变角度反射信号。传统变角度反射测试一般为相对反射率测试,需要通过参比镜进行数据传递,往往参比镜在不同角度下的绝对反射率曲线很难获取,给测试带来很大困难,同时在数据传递中也会增加误差的来源。本文主要介绍采用PerkinElmer紫外可见近红外光谱仪配置可变角度测试附件,直接测试样品不同角度下绝对反射率、透射率曲线,无需参比镜校准,操作简单方便,测试结果更加准确。附件为变角度绝对反射、变角度透射率测试附件,如下图所示,检测器和样品台均可以360度旋转,通过样品台和检测器配合旋转,测试不同角度下透射和反射信号。PerkinElmer Lambda1050+ 光谱仪自动可变角附件光路图图1 仪器外观图固定布局 工具条上设置固定宽高背景可以设置被包含可以完美对齐背景图和文字以及制作自己的模板下分别选取不同应用场景下的典型样品,对测试数据进行简要介绍。以下分别选取不同应用场景下的典型样品,对测试数据进行简要介绍。以下分别选取不同应用场景下的典型样品,对测试数据进行简要介绍。样品变角度透射测试采用自动可变角附件可以方便快捷的测试样品不同角度下透射数据,自动测试样品不同角度下P光和S光下透射率曲线,一次设置即可完成所有角度在不同偏振态下透射率曲线测试,无需多次操作,测试曲线如下图所示。图2 样品不同角度和偏振态下透射率测试数据样品变角度透射/反射曲线测试同一个样品,可以通过软件设置一次性测试得到样品透射和反射率曲线,如下图所示,该样品在可见波长下反射率大于99.5%,透射率低于0.5%,可同时表征高透和减反性能。图3 样品45度透射和反射曲线测试NIST标准铝镜10度反射率曲线测试采用自动可变角附件测试NIST标准铝镜10度下反射率曲线,如下图所示,黑色曲线为自动可变角附件测试曲线,红色为NIST标准值曲线,发现两条测试曲线完全重合,进一步证明测试系统的可靠性,可以准确测试样品的光学数据。图4 NIST标准铝镜10度反射率曲线测试(红色为NIST标准曲线)样品变角度全波长反射曲线测试(200-2500nm)软件设置不同的测试角度和偏振方向,自动测试样品不同角度下P光和S光偏振态下反射率曲线,如下图所示,200-2500nm整个波段下测试曲线均有优异信噪比,尤其是在紫外区(200-400nm),可以完成各波长范围的反射性能测试。图5 样品全波段(200-2500nm)变角度反射率测试不同膜系设计的镀膜样品性能验证测试样品600-1400nm下45度反射率曲线,该样品在1200nm以上属于高反射率,反射率大于99.5%,同时需要关注600-1200nm范围各个吸收峰情况,该波段下吸收峰非常尖锐,同时吸收峰较多,需要仪器具备高分辨率,从而准确测试出每一个尖锐吸收峰信号。图6 膜系设计验证样品45度反射率测试双向散射分布函数(BSDF)测试除了测试常规变角度透射和反射曲线外,自动可变角附件可以自动测试样品不同角度下透射和反射率信号,可以得出样品不同角度下的透射分布函数(BTDF)和反射分布函数(BRDF)信号,最终得到双向散射分布函数(BSDF)。采用该附件可方便测试样品双向散射分布函数(BSDF)、双向反射分布函数(BRDF)、双向透射分布函数(BTDF)等光学参数测试,测试结果如下图所示:图7 BRDF和BTDF测试如下图所示,测试样品不同波长下BSDF分布函数曲线(BRDF + BTDF),从而可以得出样品随不同角度下透射和反射信号变化情况。图8 样品不同波长下BSDF(BRDF+BTDF)测试窄带滤光片测试Lambda系列光谱仪为双样品仓设计,自动可变角测试附件可与标准检测器、积分球检测器自由更换。对于窄带滤光片样品,即需要准确测设带通区域的透过率、半峰宽,也需要准确测试截止区吸光度值(OD值),可直接切换标准检测器进行检测。图9 用于生物识别的滤光片透射和OD值测试数据图10 用于激光雷达的镀膜镜片透射和OD值测试数据综上,采用Lambda系列紫外/可见/近红外分光谱仪,搭配自动可变角测试附件、标准检测器、积分球等多种采样附件,可以组合出完备的材料光学性能测试平台,满足光学镀膜测试的多样化需求,更加准确便捷地得到样品的光学检测数据。
  • 标际参展第六届中国国际高性能薄膜展圆满成功
    广州标际包装设备有限公司于11月25日-27日前往深圳(福华三路)会展中心参加2013第六届中国国际高性能薄膜制造技术展览会,广州标际此次参展取得圆满成功。 图1,标际展台布置展会信息:展会名:2013第六届中国国际高性能薄膜制造技术展览会时间:2013年11月25日—27日地点:深圳会展中心(福华三路)标际展位:3号馆A350展台展会网站:www.film-expo.com标际网站:www.gdtest.com.cn www.gbtest.cn 【Film Expo 2013 展出范围】※高功能薄膜展区※光学薄膜、锂离子电池隔离膜、喷涂替代薄膜、触控式面板用薄膜、电解质薄膜燃料电池、光触媒薄膜、 半导体用薄膜、塑料基板薄膜 、太阳能/充电式电池用薄膜、生物可分解塑胶膜 、其他功能性薄膜等;※成型?转换?二次加工展区※ 分切分条机、涂布印刷设备、干燥设备、表面处理/硬化装置、紫外线照射装置、电晕处理机、刀/切割工具,模切机、挤压机、伸线机、混和机,搅拌器、滚轮/卷芯 、T-印模?膨脹印模?多层印模、捲取机,複捲机、打样切割机、輸送带/节省人力机器、铸造设备、压膜机、过滤器及其他薄膜加工技术等;※薄膜检查/測量/分析展区※ 缺陷检查系统、反射检查装置、气泡检查系统、热收缩測定系统、厚度、硬度測量系统、其他相关设备系统等; ※功能材料展区※ R原材料/添加剂、粘着性材料、积层膜/镀膜材料、其他功能材料等;※无尘/静电防护展区※ 清洁室系统、无尘清洁滚轮及刷、静电/防静电产品、无尘清洁裝、空调设备、其他清洁无尘产品等; 图2,公司员工给顾客热情讲解仪器信息 广州标际携最新研发的各大系列包装检测仪器盛装出展,仪器性能稳定,性价比高,赢得广大参展客户的一致好评。其中广州标际的WGT-S雾度透光率测定仪成为本次参展明星仪!其他好评仪器有:透氧仪,透湿仪,透气仪,气调保鲜箱,全自动封管机等。感谢广大客户对本公司的大力支持,同时也热烈祝贺广州标际包装设备有限公司在本次展会上取得圆满成功!
  • 扫描电镜测试法:我国首个光学功能薄膜微观结构厚度测试标准正式实施
    近日,由中国航天科技集团有限公司中国乐凯研究院起草的国家标准GB/T 42674-2023《光学功能薄膜 微结构厚度测试方法》正式实施。(文末附下载链接)该标准规定了通过扫描电子显微镜(SEM)检测光学功能薄膜横截面微结构厚度的方法,适用于微米、纳米级光学功能薄膜各功能层微观结构测试。这是我国首个覆盖光学功能薄膜全领域的微米-纳米级各功能层微观结构的测试标准。该标准的制定与实施,对于准确测定光学功能薄膜微结构厚度、规范行业测定方法、促进行业发展具有重要意义。GB/T 42674-2023《光学功能薄膜 微结构厚度测试方法》详细内容标准下载链接:https://www.instrument.com.cn/download/shtml/1198352.shtml
  • 光学制造行业硝烟四起,哪类仪器后劲最足?
    从光学材料、元件、 镜头组件到整机仪器生产领域,光学制造的上中下游产品呈现出各异的市场现状,整条产业链出现不同的发展趋势。  光学材料:新一代光学元件来势汹汹  目前光学材料的种类多达几十种:无色光学玻璃和有色光学玻璃,红外光学材料,光学晶体,光学石英玻璃,人造光学石英晶体,微晶玻璃,光学塑料,光学纤维,航空有机玻璃,乳白漫射玻璃以及有关液体材料等。其中光学玻璃在成像元件中使用得最多。  由于现代光学工业同电子工业、信息技术、通信技术的紧密结合,光电子技术、光子技术、电子工业技术在光学制造上的应用,突破了在光学元件和光学加工行业中的传统观念,目前,非球面、衍射光学元件、用超高精密薄膜技术加工的WDM波分复用器件、用新一代光刻设备制造的超高精度光学元件等主导着新一代光学元件的主流。  镜头组件:全球市场向中国转移  随着电子科学、互联网等现代科学技术的迅速发展,光学镜头的应用范围不断向数码相机、笔记本电脑、移动电话、安防监控摄像机、车载可视系统、智能家居和航拍无人机等与人类生活密切相关的众多光学成像领域渗透。尤其是2000 年以来,通讯网络及互联网等行业发展迅速,中国凭借此类庞大的下游市场需求发展成为全球光学镜头最重要的市场之一。  2010年我国光学镜头行业产量约11.82亿个,到2014年我国光学镜头行业产量达到了22.25亿个。2008-2014年我国光学镜头行业产量情况  2014年我国光学镜头出口数量为7439.84吨,出口总金额为16.36亿美元 进口数量为2645.27吨,进口总金额为10.17亿美元。2009-2014年中国光学镜头进出口数据分析(千克,千美元)  光学薄膜:液晶显示带来增长机遇  近年来,我国光学膜产值规模逐年增长,2014年达到了270亿元。这得益于国内液晶显示行业的快速崛起。2009年以来,我国进入大尺寸LCD面板的投资高峰,上游光学薄膜等配套产业将迎来爆发式的增长机遇,预计2020年我国光学薄膜产值达到676亿元。光学膜应用领域情况分析2015-2020年我国光学薄膜产值预测趋势图  整机仪器:高中档实验设备需求增长  伴随着下游应用领域需求的日益增长,近年来国内光学仪器制造行业市场规模也呈现快速扩张态势。国家统计局数据显示,截至2014年年末,我国光学仪器制造行业规模以上企业有277家。2014年全国累计生产光学仪器7654.05万台,同比下降6.8% 年内全行业实现销售收入465.88亿元,同比下降6.27%。  光学仪器产品技巧差距大,中高级市场被进口产品占据,结构调剂问题明显。部分中、低档产品出现供过于求状况,而高档产品品种少、缺门多、而且与国外产品的性能存在明显的差距。随着微机的迅速发展,大中型成套设备的微机化、模块化设计以及网络控制技术日益发展,使实验室仪器的智能化产品需求上升。2004-2014年中国光学仪器制造行业产量情况2014年中国光学仪器制造行业客户结构  光学下游产品  光学检测 光衍射/干涉 光折射/反射 光谱相关 光学软件 显微镜及系统 分析仪器 精密仪器 相机相关 望远镜 光学安全 摄像相关 手机、投影仪、光学膜 其他光学产品  光学中游产品  光学镜片 光学加工 非球面元件 光学设计 光学镜头 CCD/CMOS 微纳制造 滤光/分光 光传感及光源 光学元器件 光学芯片模组  光学上游产品  光学材料/晶体 薄膜及镀膜产品 光学辅料 真空镀膜及加工设备 镀膜材料
  • 我国学者研制出可拓展成像质量的新型光学元件
    记者从中国科学技术大学获悉,近期该校张斗国教授研究组研制出一种基于光学薄膜的平面型显微成像元件,用于被测样本的载玻片,可在常规的明场光学显微镜上实现暗场显微成像和全内反射成像,获取高对比度的光学显微图像。  利用光学原理,光学显微镜可把人眼不能分辨的微小物体放大成像。常规的光学显微镜是明场显微镜,它利用光线照明和样本中各点依其光吸收的不同,在明亮的背景中成像。但对于一些未经染色处理的生物标本或其他透明样本,由于其对光线的吸收很少,因而对比度差,难以观测。暗场显微镜、全内反射显微镜的问世,可解决这一难题,但它们需要复杂的光学元件,这些元件体积较大,不易集成且操作难度高。  近期,张斗国教授研究组通过巧妙设计,研制出一种基于光学薄膜的平面型显微成像元件,该元件在常规明场显微镜上,可同时实现暗场显微成像和全内反射成像。相对于明场光学显微镜像,其成像对比度有大幅度提升。  同时,这一元件结构简单,易于集成,成本较低,操作便利,不仅适用于空气中的样本成像,也适用于液体环境中生物活细胞的成像。  实验结果表明,无需改变现有显微镜的主体光路架构,通过设计、制作合适的显微镜载玻片,就可以有效提升其成像对比度,拓展其成像功能。  日前,国际权威学术期刊《自然通讯》发表了这一研究成果。
  • “曼”谈光谱 | 熟悉又陌生的金刚石薄膜
    一提到金刚石这个词想必大家都不陌生了,今天要说的也是金刚石家族的一个成员——金刚石薄膜。什么是金刚石薄膜?金刚石薄膜是20世纪80年代中后期迅速发展的一种优良的人工制备材料。通常以甲烷、乙炔等碳氢化合物为原料,用热灯丝裂解、微波等离子体气相淀积、电子束离子束轰击镀膜等技术,在硅、碳化硅、碳化钨、氧化铝、石英、玻璃、钼、钨、钽等各种基板上反应生长而成。几乎透明的金刚石薄膜(图片来源:网络)集诸多优点于一身的金刚石薄膜,它不仅具有金刚石的硬度,还有良好的导热性、良好的从紫外到红外的光学透明性以及高度的化学稳定性。在半导体、光学、航天航空工业和大规模集成电路等领域拥有广泛的应用前景。至今为止,已在硬质切削刀具、X射线窗口材料、贵重软质物质保护涂层等应用中具有出色的表现。随着金刚石薄膜的研发需求和生产规模不断壮大,是否有一套可靠的表征方法呢?当然有!拉曼光谱用于碳材料的分析已有四十多年,时至今日也形成了很多比较完善的理论。对于不同形式的碳材料,如金刚石、石墨、富勒烯等,其拉曼光谱具有明显的特征谱线差异。此外,拉曼光谱测试是非破坏性的,对样品没有太多要求,不需要前处理过程,可以直接检测片状、固体、微粉、薄膜等各种形态的样品。金刚石薄膜的应力值是非常重要的质量指标。金刚石薄膜和基体之间热膨胀的差异以及其他效应(如点阵错配、晶粒边界的成键和薄膜生长过程中的成键变化等)导致了生长后的薄膜存在残余应力。典型可见光激光激发的拉曼光谱在1000-2000cm-1包含了金刚石薄膜的应力信息。对于较小的应力,拉曼谱图表现为偏离本征频率的一个单峰,并且谱峰会变宽。在高达140GPa的压力下,拉曼位移甚至能够偏移到1650cm-1,与此同时线宽增加了2cm-1。下图是安东帕Cora5001拉曼光谱仪检测的一张典型的非有意掺杂的金刚石薄膜的拉曼谱图。图中可以发现,除了位于1332cm-1的一阶拉曼谱线以外,也能够观测到其他很多拉曼谱峰,典型谱峰的位置和指认如表1中所示。Cora 5001系列拉曼光谱仪在金刚石材料的检测中具备很大优势:碳材料分析模式:智能分析软件中的Carbon Analysis Model可以自动进行寻峰、进行峰形拟合,再计算碳材料特征拉曼峰的信息。一级激光:金刚石材料的拉曼检测多使用532nm激发,有时也需要使用785nm激光激发,Cora5001可以做到一级激光的安全性能。自动聚焦:Cora5001 (Direct)样品仓室内配置了自动聚焦调整样品台,根据仪器自带的聚焦算法可以轻松实现聚焦,使拉曼测试变得简单便捷。双波长可选:金刚石家族的拉曼光谱与入射激光波长密切相关,多一种波长选择也许会得到不同的信息,这为信息互补提供必要条件。“双波长拉曼”每个波长都配置独立的光谱系统,只需按一下按键即可从一个波长轻松切换到另一个波长,无需额外调整样品。
  • 新型空穴型透明导电薄膜问世
    记者1月25日从中国科学院合肥物质科学研究院了解到,该院固体物理研究所功能材料物理与器件研究部和本院等离子所等单位科研人员合作,在空穴型近红外透明导电薄膜研究方面取得新进展:他们设计并制备了新型空穴型铜铁矿薄膜,并通过参数优化让新型薄膜获得了较高的近红外波段透过率和较低的室温方块电阻。相关研究结果日前发表在《先进光学材料》杂志上。  透明导电薄膜是一类兼具光学透明和导电性的光电功能材料,在触摸屏、平板显示器、发光二极管及光伏电池等光电子器件领域有着广泛应用。目前,商用的透明导电薄膜均为电子型,空穴型透明导电薄膜由于空穴有效质量大、空穴迁移率低和空穴掺杂性差,其光电性能远落后于电子型透明导电薄膜,这严重阻碍了新型透明电子器件的发展。  在国家自然科学基金的支持下,研究人员通过理论计算发现,含有铑、氧等元素的铜铁矿结构材料是一种间接带隙半导体,其中的铜离子与氧离子的原子轨道可进行杂化,从而减弱价带顶附近载流子的局域化,实现空穴型高电导率;另一方面该材料在可见光及近红外波段表现出弱的光吸收行为,具有高透过率。研究人员在前期金属型铜铁矿薄膜的研究基础上,采用非真空工艺进一步获得了大尺寸空穴型铜铁矿透明导电薄膜。该薄膜表现出主轴自组装织构的生长特征,有利于其内载流子的传输,提高空穴的迁移率。另外,由于三价铑离子的离子半径可实现空穴型载流子重掺杂,使得镁掺杂铜铁矿结构材料具有非常高的室温导电率、较高的近红外波段透过率以及低的室温方块电阻。  这种高性能的空穴型透明导电薄膜的发现,为后续基于透明电子型及空穴型薄膜的高性能全透明异质结构的研发及应用提供了一种潜在的候选材料。
  • 【征文通知】第八届亚太光学制造会议暨第三届国际先进光学制造青年科学家论坛
    大会背景航天航空、空间观测、纳米光刻、同步辐射、高端光学测量仪器等诸多领域,对先进光学制造技术提出了迫切需求。先进光学制造技术正朝着“一大一小”、“两特殊”的方向发展,并向光学智能制造迈进,呈现超精密制造、精密测量、智能传感与控制、材料科学等多学科协同发展的态势。 中国光学工程学会于2023年8月在深圳召开“第八届亚太光学制造会议暨第三届国际先进光学制造青年科学家论坛”,从应用端和技术端牵引,结合国防和工业应用,搭建产学研平台。重点探讨先进光学制造技术及装备的最新发展动态。会议邀请相关领域全球资深专家以及中青年一线专家作报告。为相关从业人员以及研究生提供合作交流平台,使先进光学制造领域产学研紧密结合。 录用论文收录在美国SPIE国际会议文集序列暨其数字图书馆中,EI核心检索,全球出版发行,同时也有众多国内优质光学期刊参与本次会议全文收录。活动包括会议、展览、产业论坛、培训、参观访问等多种形式。活动内容国际会议交流会议旨在解决工业,学术和有关组织对如何克服现有制造限制,设计,制造,测量中的相关问题。专家报告采用申请+邀请制,会议活动包括但不限于主旨报告交流、专家报告交流、口头报告交流、Poster海报展示、优秀学生论文评选(颁发证书)、论文发表等。光学制造产业展包括产品展示、人才招聘、校企对接会、院企对接会等活动。技术及技能培训为相关从业人员提供实例分析、概念讲解和技能实训等方面技术及技能培训。产业化论坛以光学领域中的重大应用与关键技术入手,邀请代表性企业与院校,探讨产品需求及技术攻关等热点话题。参观访问由当地企业和高校提出申请,参会人员自愿报名参观。组织机构主办单位:中国光学工程学会承办单位:深圳大学深圳技术大学南方科技大学上海理工大学香港理工大学超精密加工技术国家重点实验室复旦大学上海超精密光学制造工程技术研究中心中国光学工程学会先进光学制造青年专家委员会联办单位:(更新中)广东工业大学国防科技大学哈尔滨工业大学(深圳)天津大学北京空间机电研究所天津津航技术物理研究所深圳职业技术学院支持单位:(更新中)霖鼎光学(上海)有限公司大会名誉主席范滇元院士,深圳大学庄松林院士,上海理工大学蒋庄德院士,西安交通大学大会主席郭东明院士,大连理工大学谭久彬院士,哈尔滨工业大学毛军发院士,深圳大学Paul Shore, 剑桥大学大会执行主席张学记,深圳大学姚英学,哈尔滨工业大学(深圳)张学军,中科院长春光学精密机械与物理研究所王小勇,北京空间机电研究所戴一帆,国防科技大学组织委员会Benny Chi Fai Cheung,香港理工大学吴宗泽,深圳大学委员Huang Han,澳大利亚昆士兰大学Kim Seung-woo,韩国科学技术院ChenLiang-Chia,台湾大学ChenShih Chi,香港中文大学Fengzhou Fang,爱尔兰都柏林大学Lei Wei,新加坡南洋理工大学Chen,Wei-Jun,德国蔡司Xichun Luo,英国思克莱德大学Kazuya Yamamura,日本大阪大学YSAOM2023会议主席团主席孔令豹,复旦大学张大伟,上海理工大学龚 峰 ,深圳大学李莉华,深圳技术大学共主席(按姓氏拼音排序)高 平 ,中科院光电技术研究所郭 江,大连理工大学冀世军,吉林大学刘华松,天津津航技术物理研究所彭小强,国防科技大学彭云峰,厦门大学任明俊,上海交通大学王素娟,广东工业大学王永刚 ,北京空间机电研究所魏朝阳,中国科学院上海光学精密机械研究所薛常喜,长春理工大学薛栋林,中科院长春光学精密机械与物理研究所张继友,浙江大立科技有限公司张效栋,天津大学宗文俊,哈尔滨工业大学活动主题(分专题组织机构成员按姓氏拼音排序)【专题1:大尺寸光学反射镜与望远镜技术】本专题拟反映大尺寸光学反射镜与望远镜技术及装备的最新进展,重点包括但不限于:科学目标观测与光学工程技术、大型轻量化光学反射镜优化设计、先进光学与结构材料、高精度高稳定性反射镜及结构支撑技术、拼接式合成孔径光学系统测量与调控技术、大型光电仪器一体化设计、主动光学与自适应光学技术、巨型跟踪结构及其高精度稳定控制技术、空间望远镜天地一致性技术、大型光电仪器精密装配技术、复杂光学元件及系统试验/测试与计量技术,大尺寸光学反射镜高性能及智能制造技术。主席:薛栋林(中科院长春光学精密机械与物理研究所)共主席:Chen,Wei-Jun(Zeiss Group)范 斌(中科院光电技术研究所)王永刚(北京空间机电研究所)程序委员会:王 虎(中科院西安光学精密机械研究所)王 伟(复旦大学)王 炜(中科院国家天文台)袁 群(南京理工大学)张军平(中科院南京天文光学技术研究所)专题秘书:李龙响(中科院长春光学精密机械与物理研究所)【专题2:微纳结构光学器件及制造方法】 本专题拟反映微纳结构光学器件及制造方法的最新进展,重点包括但不限于:微纳结构光子及微电子集成器件的光学制造新方法,亚波长结构及器件的高效率制造方法,超分辨/超衍射制造新机理与新方法,短/超短激光脉冲制造技术,超分辨光学增材/减材制造技术及应用,光学微纳制造的性能评测方法及配套精密光学检测技术等。主 席:高 平(中科院光电技术研究所)共主席:陈岐岱(吉林大学)徐 挺(南京大学)专题秘书:李泰北(中科院光电技术研究所)【专题3:光学复杂曲面及功能结构超精密加工技术】 本专题拟反映光学复杂曲面及功能结构的超精密加工工艺及技术最新进展,重点包括但不限于:超精密车、铣、磨、抛等工艺,激光加工,新型微纳加工,模压及注塑成型,微纳压印,增减材复合工艺,多能场辅助加工,刀具设计及制造,加工路径规划及优化,工艺链过程建模与仿真、材料去除机理,表面全频段误差分析及控制,加工检测一体化等。主 席:孔令豹(复旦大学)共主席:关朝亮(国防科技大学)Xichun Luo(英国思克莱德大学)魏朝阳(中科院上海光学精密机械研究所)程序委员会:曹中臣(天津大学)胡 皓(国防科技大学)李 铎(哈尔滨工业大学)李加胜(中国工程物理研究院机械制造工艺研究所)肖华攀(香港理工大学)姚永胜(中国科学院西安光学精密机械研究所)张云飞(中国工程物理研究院机械制造工艺研究所)赵泽佳(深圳大学)周 平(大连理工大学)专题秘书:王施相(复旦大学)【专题4:超精密光学测量技术及装备】 本专题拟反映超精密光学测量技术及装备的最新进展,重点包括但不限于:光学测试和测量基标准、计量与在线数字校准、先进光学制造过程中的测量问题、光学元件几何参数和物理特性测量方法、光学测量系统中关键光学器件研制、基于光栅、光纤等光学器件的测试测量技术、微纳制造中的先进测量方法、宏微观测量技术、精密和超精密加工测量、精密和超精密测量的现代光学技术和仪器、光学测量中的数据处理方法、新型光学测试测量原理、新型光学测量仪器与设备、新型仪器理论与设计方法、微纳米测试与计量方法、极大极小尺寸光学测量方法、视觉测量技术等。主 席:杨树明(西安交通大学)共主席:陈善勇(国防科技大学)李文昊(中科院长春光学精密机械与物理研究所)陆振刚(哈尔滨工业大学)赵晨阳(哈尔滨工业大学(深圳))程序委员会:陈修国(华中科技大学)胡鹏程(哈尔滨工业大学)胡 摇(北京理工大学)沈 华(南京理工大学)谈宜东(清华大学)王 允(北京理工大学)吴冠豪(清华大学)虞益挺(西北工业大学)张效栋(天津大学)专题秘书:张国锋(西安交通大学)【专题5:短波长光学元件高性能制造技术】 本专题反映高性能光学系统制造技术发展新进展,重点包括但不限于:紫外、X射线等短波长光学元件制造、轻量化光学系统制造、高能激光元件抗损伤制造、掠入射光学元件加工检测技术、超精密光学元件检测评价技术等。主 席:彭小强(国防科技大学)共主席:李 明(中国科学院高能物理研究所)康城玮(西安交通大学)Kazuya Yamamura(日本大阪大学)专题秘书:薛 帅(国防科技大学)【专题6:高效光学精密加工技术及新方法】 本专题拟反映高效精密加工技术中的新工艺、新技术和新方法的最新进展,重点包括但不限于:光学超精密加工技术中单点金刚石超精密加工技术、磁流变抛光技术、离子束加工技术、数控研磨抛光技术、玻璃模造成型技术,注塑成型技术的高效实现途径、方法和工艺优化,以及光学设计过程中光学制造工艺可行性,提出新工艺、新材料、新方法、新思路、新概念,实现复杂曲面、金属光学、难加工材料光学等创新性高效精密光学先进制造技术,实现精密制造技术高效的新工艺、新技术、新方法和工艺技术途径优化,促进光学精密加工技术的高效和工艺优化。主 席:王孝坤(中科院长春光学精密机械与物理研究所)共主席:吴仍茂(浙江大学)薛常喜(长春理工大学)专题秘书:杨 超(长春理工大学)【专题7:高性能光学微细结构制造工艺及装备】 本专题拟反映高性能光学微细结构制造与工艺方面的最新进展,重点包括但不限于:面向尺寸特征为几十-几百微米的光学微阵列结构的高性能光学微细结构超精密加工技术,高性能光学微细结构保形抛光技术,光学微细结构高效、超低损伤加工技术,光学微细结构快速、高精度一体化原位检测技术,微细结构光学元件使役性能评价技术,大规模微细结构高精度快速制造技术等。主 席:郭 江(大连理工大学)共主席:王春锦(香港理工大学)许金凯(长春理工大学)程序委员会:侯 溪(中科院光电技术研究所)童 振(上海交通大学)王振忠(厦门大学)于 楠(英国爱丁堡大学)朱吴乐(浙江大学)专题秘书:李琳光(大连理工大学)【专题8:前沿光学薄膜技术及设备】 本专题涵盖光学薄膜材料、设计方法、制备表征技术及设备的最新进展和重大项目领域的应用成效,重点包括但不限于:从X射线到远红外谱段的新型光学薄膜材料、微纳功能薄膜材料研究的新进展;以X射线、激光和红外典型光学谱段为代表的高性能光学薄膜设计与制造技术、多功能跨维度光学薄膜设计与制备技术(光、热、力、电);面向应用需求的薄膜性能测试技术,如超宽谱段光学常数表征技术、低损耗光学薄膜性能测试技术、特种环境下光学薄膜性能的评估与测试方法等;光学薄膜制造设备与检测仪器的最新进展等。主 席:刘华松(天津津航技术物理研究所)共主席:程鑫彬(同济大学)Sven Schroder(德国弗劳恩霍夫IOF研究所)程序委员会:付秀华(长春理工大学)何文彦(中科院光电技术研究所)邵宇川(中科院上海光学精密机械研究所)沈伟东(浙江大学)王笑夷(中科院长春光学精密机械与物理研究所)汪 洋(光驰科技(上海)有限公司)卫耀伟(中物院激光聚变研究中心)专题秘书:王利栓(天津津航技术物理研究所)【专题9:光学设计、装调与系统建模技术】 本专题拟反映光学设计、光学装调与系统集成测试、光学领域数字化和系统化工程仿真等方面最新研究进展,重点包括但不限于:新型光学系统,新型光谱类成像仪,新型精密计量和激光测量类仪器,航空/航天光学遥感系统、激光探测及激光雷达类产品等等光学设计与仿真、光学杂散光仿真与抑制设计、光学系统装调与性能评价技术、复杂光学系统装调与测试技术、空间复杂焦面拼接与配准测试技术、内方位元素与畸变测试技术、无应力胶合及无应力装配技术;模型驱动的光学系统工程、工程基础数据库、核心理论与算法模型、虚拟制造系统、数字孪生技术、光学建模及精确度分析、光学软件系统工程、复杂光学系统算法优化方案、光学制造装备测试与控制系统、光学系统性能分析及应用评价等。主 席:张继友(浙江大立科技有限公司)共主席:冀世军(吉林大学)马 臻(中国科学院西安光学精密机械研究所)【专题10:光流控与液晶光学技术及应用】 本专题拟反映光流控与液晶技术及其应用的最新进展,重点包括但不限于:探讨利用微流控技术、液晶技术制造各种光学元器件的研究进展,以及利用不同光学制造技术制备微流控芯片的研究进展。分析光流控元器件及液晶器件的特点和优势,展示光流控与液晶技术在光学检测、生物医学、化学分析、即时检测中的应用。旨在利用这些新技术为下一代光学系统、生化分析、医学检测、环境监测等精密光学系统提供更好的解决方案。主 席:张大伟(上海理工大学)共主席:Francis Lin(加拿大曼尼托巴大学)杨 奕(武汉大学)张需明(香港理工大学)郑致刚(华东理工大学)程序委员会:龚 元(电子科技大学)胡 伟(南京大学)刘言军(南方科技大学)穆全全(中科院长春光学精密机械与物理研究所)水玲玲(华南师范大学)王光辉(南京大学)巫建东(中科院深圳先进技术研究院)专题秘书:王 琦(上海理工大学)【专题X:柔性光电材料与智能传感】 本专题拟反映柔性光电传感器件在制造与应用方面的新进展,重点包括但不限于:激光加工柔性表面器件;激光诱导石墨烯(LIG)传感器;柔性传感器件的制造与集成;柔性光电、压力等传感器件的测试与开发;面向主动健康监测的柔性传感应用;基于柔性传感器的泛在感知健康监测无人系统。主 席:臧剑锋(华中科技大学)共主席:郭传飞(南方科技大学)魏 磊(新加坡南洋理工大学)张 希(深圳大学)程序委员会:李 辉(深圳大学)林启敬(西安交通大学)谢颖熙(华南理工大学)徐凯臣(浙江大学)张晓慧(西安交通大学)专题秘书:温 博(深圳大学)【专题Y:智能工业视觉检测及装备】本专题拟反映智能工业视觉检测领域的最新进展,包括但不限于:成像技术,光学检测技术,多模式视觉传感器和高维视觉传感器;面向工业应用的图像处理,计算机视觉和深度学习;云-边-端协同的智能检测系统,人机协同的智能检测系统和具备自学习能力的检测系统;半导体晶圆检测设备,自由光学曲面检测设备,微纳光学器件检测设备和锂电池检测设备等。主 席:田宜彬(深圳大学)共主席:刘 东(浙江大学)刘 诚(中国科学院上海光学精密机械研究所)Zhimin Shi(美国Meta Reality Labs)王 谦(华为先进制造实验室)专题秘书:于 赛(华为先进制造实验室)投稿须知1 支持期刊PhotoniX(SCI)、Light:Science & Applications(SCI)、Optical Engineering(SCI)、Journal of Micro/Nanolithography、MEMS、and MOEMS(SCI)、Photonic Sensors (SCI)、Opto-Electronic Advances(OEA)(SCI)、《信息与电子工程前沿(英文)》(FITEE)(SCI)、International Journal of Extreme Manufacturing(ESCI、Ei)、《红外与激光工程》(Ei)、《液晶与显示》(ESCI)、《中国光学》(ESCI、Ei)、《光子学报》(ESCI、Ei)、《发光学报》(Ei)、《光学精密工程》(Ei)、SPIE Proceedings(Ei)、Light: Advanced Manufacturing(DOAJ)、eLight、《光电工程》、《航天返回与遥感》etc.2 SPIE文集,EI核心收录 投稿请登陆投稿网站先提交英文摘要(不少于500字),组委会请学术委员会审查后发邮件通知作者录用情况。按照论文质量推荐发表在不同期刊和大会文集上,录用通知根据提交摘要的前后顺序发放。 会议支持不发表文章,只做会议交流。 会议支持凭摘要参会。3 投稿链接:https://b2b.csoe.org.cn/submission/YSAOM2023.html 4 截稿时间摘要截稿时间:2023年5月6日(第一轮)报名须知1 报名方式无论有无投稿,均欢迎注册参会!参会者请务必到以下网址进行会议注册:https://b2b.csoe.org.cn/registration/YSAOM2023.html会议费:3050元/人,2023年7月25日前缴费优惠为2650元/人。学生优惠为2250元/人(不含在职学生),2023年7月25日前缴费优惠为2050元/人。会议费包括资料袋、报告文集、会议指南文件、会议杂支、税等,不含论文版面费和住宿费。论文版面费2500元,相同第一作者不超过两篇。2 付款方式在线支付:注册完成后,可跳转到在线支付页面,选择“支付宝”在线完成支付。汇款转账:开户银行:工行北京科技园支行户名:中国光学工程学会账号:0200296409200177730,汇款时作者请务必注明“姓名+稿件编号”,非作者请注明“YS+姓名”,以便核对。会议将提供正规会议费发票。3 会议注册费退款注册费会前2周(14天)可退全款,超过2周时间因产生会议成本将不再支持退款。4 会议注册费发票会议注册费发票将在会前两周和会后一周集中处理。展览展示范围精密光学制造光学材料(玻璃、光纤、陶瓷、晶体等)光学辅料(抛光液、抛光胶、抛光皮、磨头、砂轮等)光学元件(平面、球面-非球面、自由曲面、棱镜、柱面镜、微透镜、注塑和模压元件等)光学精密加工检测设备(快速抛光机、铣磨机、古典抛光机、数控抛光机、机器人抛光、精密车床、半导体晶圆加工设备;三坐标、轮廓仪、干涉检测仪、球径仪、疵病仪、应力仪等)极端制造技术(微纳加工、超表面-超结构、特种加工等)其他光学元器件光源 (激光器、LED等)镀膜材料(膜料、镀膜辅料等)光学镀膜元件(反射元件、窗口、偏振片、滤光片、衰减片等)光栅(镀膜、曝光、刻蚀、机械刻划等)CCD、CMOS、光学芯片等其他光学整机、镜头及光学模组精密镜头(手机、车载、红外夜视等)望远镜、显微镜、光学分析仪器等光学平台、调整架、电动位移台等精密装配技术光学设计、光机电一体化其他光学仪器设备光学检测设备(分光光度计、光谱仪、台阶仪、测厚仪)镀膜机(电子束、离子束、溅射等)材料力学性能试验设备无损检测仪器、分析测试仪器、计量仪器及设备软件、实验室信息管理系统等环境监测仪器仪器配件及零部件配套企业的技术及产品其他同期活动短课程培训:(23年培训主题包括:超精密加工、玻璃模压、自由曲面加工、成像衍射光学等)主席:薛常喜(长春理工大学)产业化论坛:主 席:任明俊(霖鼎光学(上海)有限公司、上海交通大学)共主席:徐学科(上海恒益光学精密机械有限公司、中国科学院上海光学精密机械研究所)熊 涛(湖北久之洋红外系统股份有限公司)罗少卿(湖南天创精工科技有限公司)石 峰(国防科技大学)沈正祥(同济大学)戴 博(上海理工大学)鲁艳军(深圳大学)大会秘书处负责人:王海明(中国光学工程学会)wanghaiming@csoe.org.cn022-59013420会议咨询(报名/投稿):宁家明(中国光学工程学会)ningjiaming@csoe.org.cn010-83326359张国庆(深圳大学)zhanggq@szu.edu.cn0755-26536306李迎春(长春工业大学)liyingchun@ccut.edu.cn产业化论坛:吕子辰(中国光学工程学会)lvzichen@csoe.org.cn13810226340鲁艳军(深圳大学)luyanjun@szu.edu.cn15919878348企业赞助:吕子辰(中国光学工程学会)lvzichen@csoe.org.cn13810226340培训咨询:宁家明(中国光学工程学会)ningjiaming@csoe.org.cn010-83326359赵泽佳(深圳大学)zhaozejia@szu.edu.cn15019476845
  • 微纳加工薄膜应力检测的国产化破局
    1.为什么要检测薄膜应力?薄膜应力作为半导体制程、MEMS微纳加工、光电薄膜镀膜过程中性能测试的必检项,直接影响着薄膜器件的稳定性和可靠性,薄膜应力过大会引起以下问题:1.膜裂;2.膜剥离;3.膜层皱褶;4.空隙。针对薄膜应力的定量化表征是半导体制程、MEMS微纳加工、光电薄膜制备工艺流程中品检、品控和改进工艺的有效手段。(见图一)图一、薄膜拉/压内应力示意图(PIC from STI 2020: Ultraviolet to Gamma Ray, 114444N)2.薄膜应力测试方法及工作原理目前针对薄膜应力测试方法主要有两种:X射线衍射法和基片轮廓法。前者仅适用于完全结晶薄膜,对于纳米晶或非晶薄膜无法进行准确定量表征;后者几乎可以适用于所有类型的薄膜材料。关于两种测试方法使用范围及特点,请参考表一。表一、薄膜应力测试方法及特点测试方法适用范围优点局限X射线衍射法适用于结晶薄膜1.半无损检测方法;2.测量纯弹性应变;3.可测小范围表面(φ1-2mm)。1.织构材料的测量问题;2.掠射法使射线偏转角度受限;3.X射线应力常数取决于材料的杨氏模量E;4.晶粒过大、过小影响精度。基片轮廓法几乎所有类型的薄膜材料激光曲率法:1.非接触式/ 无损;2.使用基体参数,无需薄膜特性参数;3.大面积测试范围、快速、简单。1.要求试样表面平整、反射;2.变形必须在弹性范围内;3.毫米级范围内平均应力。探针曲率法(如台阶仪):1.使用基体参数,无需薄膜特性参数;2.微米级微区到毫米级范围。1.接触式/有损;2.探针微米级定位困难导致测量数据重复性不够好。速普仪器自主研发生产的FST5000薄膜应力测量仪(见图二)的测试原理属于表一中的激光曲率法,该技术源自于中国科学院金属研究所和深圳职业技术学院相关研究成果转化(专利号:CN204854624U;CN203688116U;CN100465615C)。FST5000薄膜应力测量仪利用光杠杆测量系统测定样片的曲率半径,参见图三FST5000薄膜应力测量仪技术原理图。其中l和D分别表示试片(Sample)和光学传感器(Optical Detector)的移动距离, H1和H2分别表示试片与半透镜(Pellicle Mirror),以及半透镜与光学传感器之间的光程长。 图二、速普仪器FST5000薄膜应力测量仪示意图图三、FST5000薄膜应力测量仪技术原理图3.速普仪器FST5000薄膜应力测量仪技术特点及优势a.采用双波长激光干涉法,利用Stoney公式获得薄膜残余应力。该方法是目前市面上主流测试方法,包括美、日、德等友商均采用本方法,我们也是采用该测量方法的国内唯一供应商。并且相较于进口友商更进一步,速普仪器研发出独特的光路设计和相应的算法,进一步提高了测试精度和重复性。通过一系列的改进,使我们的仪器精度在国际上处于领先地位。(参考专利:ZL201520400999.9;ZL201520704602.5;CN111060029A)b.自动测量晶圆样品轮廓形貌、弓高、曲率半径和薄膜应力分布。我们通过改进数据算法,采用与进口友商不同的软件算法方案,最终能够获得薄膜应力面分布数据和样片整体薄膜应力平均值双输出。(参考中国软件著作权:FST5000测量软件V1.0,登记号:2022SR0436306)c.薄膜应力测试范围:1 MPa-10 GPa,曲率半径测试范围:2-20000m。基于我们多年硬质涂层应力测试经验,以及独特的样品台设计和持续改进的算法,FST5000薄膜应力测量仪可以实现同一台机器测试得到不同应用场景样品薄膜应力。具体而言,不但可以获得常规的小应力薄膜结果(应力值<1GPa,曲率半径>20m),同时我们还能够测量非常规小曲率半径/大应力数值薄膜(应力值>1GPa,曲率半径<20m)。目前即使国外友商也只能做到小应力测试结果输出。d.样品最大尺寸:≤12英寸,向下兼容8、6、4、2英寸。FST5000薄膜应力测量仪能够实现12英寸以下样品测试,主要得益于我们独特的样品台设计,光路设计及独特的算法,能够实现样品精准定位和数据结果高度重复性。(参考专利:ZL201520400999.9;ZL201520704602.5;CN111060029A)e.样品台:电动旋转样品台。通过独特的样品台设计,我们利用两个维度的样品运动(Y轴及360°旋转),实现12英寸以下样品表面全部位置覆盖及精准定位。(参考专利:ZL201520400999.9)f.样品基片校正:可数据处理校正原始表面不平影响(对减模式)。通过分别测量样品镀膜前后表面位形变化,利用原位对减方式获得薄膜残余应力面型分布情况。同样得益于我们独特的样品台设计和光路设计,保证镀膜前后数据点位置一一对应。4.深圳市速普仪器有限公司简介速普仪器(SuPro Instruments)成立于2012年,公司总部位于深圳市南山高新科技园片区,目前拥有北京和苏州两个办事处。速普仪器是国家高新技术企业和深圳市高新技术企业。公司拥有一群热爱产品设计与仪器开发的成员,核心团队来自中国科学院体系。致力于材料表面处理和真空薄膜领域提供敏捷+精益级制备、测量和控制仪器,帮助客户提高产品的研发和生产效率,以及更好的品质和使用体验。速普仪器宗旨:致力于材料表面处理和真空薄膜领域提供一流“敏捷+精益”级制备、测量和控制仪器。速普仪器核心价值观:有用有趣。
  • 光学领域三个标准化技术委员会成立
    近日,3个国家标准化技术委员会——全国光学功能薄膜材料、全国数码影像材料与数字印刷材料、全国磁记录材料标准化技术委员会在合肥成立。  据介绍,我国是光学材料、数码影像与数字印刷材料、磁记录材料技术研发和应用的大国之一,全国光学功能薄膜材料等3个国家级标准化技术委员的成立,标志着光学功能薄膜材料、全国数码影像材料与数字印刷材料、全国磁记录材料领域的技术标准战略实施有了具体的实践者和科学的领航者,同时也标志着其产业聚集度将进一步提高,产业发展将取得新水平和新突破。在建立完善我国光学功能薄膜材料、数码影像材料与数字印刷材料、磁记录材料标准体系,主导制定行业标准、国家标准乃至国际标准、实质性参与国际标准化活动方面实现新的发展。全国光学功能薄膜材料、全国数码影像材料与数字印刷材料、全国磁记录材料标准化技术委员会在合肥成立,必将对光学功能薄膜材料领域的国家标准制定、修订工作起到很好的规范作用,对合肥乐凯光学薄膜产业的发展具有重大推动意义。  据悉,3个标准化技术委员会的委员们就光学功能薄膜材料领域的11个国家标准、两个化工行业标准,数码影像材料与数字印刷材料领域的两个国家标准、4个化工行业标准进行了审查。全国光学功能薄膜材料、数码影像材料与数字印刷材料、磁记录材料标准化技术委员会秘书处设在合肥。
  • 乐凯放弃胶卷转型光学材料 胶卷时代落幕
    9月5日,乐凯胶卷的杭州代理商清点库存的乐凯彩色胶卷。  继今年年初美国柯达宣告破产保护申请、日本富士胶卷转型化妆品后,曾经的国产胶片巨头乐凯也停止了彩色胶卷的生产,曾经辉煌无比的胶卷时代就此整体落幕。  9月4日晚间,乐凯发布公告称,由于数码影像对银盐影像产品的替代作用,导致近几年彩色胶卷的市场需求量急剧下降,公司该产品已无法实现经济批量生产。经董事会研究决定,停止彩色胶卷的生产,并授权公司总经理负责清理与彩色胶卷相关的专用资产的工作,同时努力做好库存彩色胶卷的销售工作。  在乐凯工作了15年的朱海河见证了胶卷时代的跌宕起伏。朱回忆说,2000年,国际影像感光技术会议在加拿大召开,作为银盐技术三剑客的柯达、富士、乐凯悉数到场。会议争论的一个焦点是,新崛起的数码成像技术还需要多长时间才能赶上传统的银盐感光成像技术?争论的结果大家认为,数码成像对消费者来说更便捷可靠,但质量与银盐成像相差太大,因此不可能取代银盐成像。未来成像很可能是数码和银盐并存的格局。  或许正是这种行业性的整体误判加速了胶卷时代的终结。“产品的生命周期往往是抛物线式的过程,但是整个胶卷行业都没有预料到,从顶端下滑的时候,趋势几乎是自由落体式的垂直跳水。新的数码技术成熟得太快了,它的成像技术、价格体系都迅速成熟,很快的攻城掠地,席卷了整个市场,这些是胶卷行业所有人都始料未及的。”朱海河说。  乐凯胶卷兴衰  乐凯集团的前身是始建于1958 年7月1日的中国化工部第一胶片厂,1998年作为大股东组建了乐凯胶片股份有限公司,同年在上海证券交易所上市。  上个世纪90年代后期,柯达在中国胶卷市场的市场占有率达到50%以上,而乐凯胶卷和相纸的国内市场占有率已分别达到25%和20%,是国内唯一可以与美国柯达和日本富士并驾齐驱的胶卷生产企业。  2000年,乐凯集团占有国内100%的航空航天胶片市场、70%的电影胶片市场、50%的黑白胶片份额以及30%左右的彩色胶片份额。而乐凯也在当年达到了业绩的顶峰,净利润2.15亿元,主要都来自彩色胶卷。  日本富士胶卷公司曾对媒体评价说:“ 彩色胶卷的整个世界总需求量在2000年达到最高点,之后每年平均以30%左右的比例在下滑。”  乐凯的好日子也逐渐走到了尽头。行业统计显示,2001年乐凯胶片的年净利润仅为1.4亿元。同期下滑53.57%;2003年进一步跌破1亿元,仅为8002万元;2004年乐凯净利润跌至7803万元;2005年乐凯再度猛跌到2233万元,成为其成立来的历史最低点。5年时间内,乐凯盈利能力下降了将近90%。  数码技术的出现在短暂的几年内,以令人意想不到的速度迅速攻陷了胶卷产业的领地。曾任乐凯集团党委书记、总经理的张建恒说:“还记得1994年自己在柯达公司见到世界上第一台数码相机时的反应,那真是一个大家伙,足有一个单人大沙发那么大个儿,但拍摄出来的质量,根本不能与传统胶卷拍摄的照片相比。这么一个新鲜事物让普通大众使用,恐怕还要有很长一段时间。”  而有这种想法的不止张建恒一人。当时在柯达内部,对从传统影像向数码影像的转变需要多久也曾出现争议,甚至直接导致柯达将这项专利进行了冻结。  朱海河回忆说:“2011年,胶卷业务在乐凯总营收的占比不足1%,但在历史最高时期,胶卷业务的贡献高达22.6%。”  在行业性的集体艰难挣扎后,美国柯达于今年年初时向美国联邦法院提出申请破产保护,以进行财务重组。这家世界胶卷巨头从1997年时的310亿美元资产缩水成目前的21亿美元,股价长期不足1美元。  对于乐凯而言,央企的背景令其命运尚不至于如此残酷。2012年6月25日,乐凯集团公司在内召开改制工作启动大会时表示,根据母公司中国航天科技集团公司部署,乐凯将在今年年内完成整体改制。只是在整体改制后,“胶片”二字将从公司的名称上永久消失。  朱海河说:“其实胶卷没有完全的告别乐凯,好歹我们还保留了黑白胶卷的生产,提供给那些发烧友和摄影教学的客户。”  后时代转型  其实,乐凯也曾在早前尝试过去胶片化的转型。据朱海河回忆说,2000年的时候,公司曾经在数码相机、立体成像、数码喷墨耗材等领域都做过一些探索。但是,由于缺乏核心技术和激烈的市场竞争环境,在后来的日子里这些探索大多折戟沉沙。  在数码相机市场井喷后,意识到落伍的乐凯开始下大决心转型。2004年,乐凯把发展数码影像技术列为企业的发展计划之一。而这一年,数码影像技术的天下已定,核心技术基本上都掌握在日本、美国企业手上,乐凯在数码影像领域几乎处于一片空白,由此不得不另谋出路。  “2003年后,乐凯开始加大转型力度,2005年开始,现在的主业光学薄膜业务开始逐渐走上正轨,取代了胶片业务。”朱海河表示。  2005年,乐凯进行了业务结构调整,投建第一条TAC光学薄膜生产线,而后的2006年,又在合肥开建光学级聚酯薄膜基地,借此进入平板显示上游材料领域。2008年,乐凯对不盈利的业务进行了取舍,砍掉了曾经尝试的数码相机等业务板块。  乐凯集团副总经理王英茹说:“一个企业做战略调整是非常艰难的。我一直把乐凯进行的这种调整比作浴火重生。在乐凯过去几十年的发展历程中一直也在进行产品结构的调整,如从电影胶片转到民用胶片,从黑白胶片转到彩色胶片。现在数字化的发展是一场革命,我们在这个过程中也非常震惊和迷茫。”  相比柯达的转型艰难,包袱更小的乐凯终究还是扛了过来。2011年,光学薄膜销售收入已占乐凯集团收入的22%,利润占到42%。  “微粒、成膜、涂层”是乐凯曾用于胶片生产的三大核心技术,而乐凯发现,研发光学薄膜基于的也是这三项技术。  正略钧策管理咨询合伙人、副总裁吕谋笃向本报记者评价说:“西方科技革命带来洪流势无可挡,但是在艰难求存中,乐凯找到了转型的核心方向,这是乐凯比诺基亚和柯达幸运的地方,后者还找不到新的发力产品和方向。”
  • 中国光学学术年会召开 王大珩光学奖颁布
    8月23至26日,由中国光学学会主办的2010年光学学术年会在天津召开。“环境光学技术与应用”专题是首次设置在该学术年会中,会议主席是安徽光机所所长刘文清,该所环境光学中心在此项专题中有近20个学术报告。  刘文清应大会邀请作了“环境监测技术需求与发展趋势”的特邀报告,主要从监测技术需求背景、监测技术目前状况和发展趋势几个方面提纲挈领的介绍了该所光学监测仪器的研制和广泛应用以及对环境监测的重要意义。安徽光机所环境光学中心在“环境光学技术与应用”专题中报告了环境光学应用环境光学及环境监测技术,大气光学及大气探测技术,海洋光学、光学遥感及应用几个子课题的研究进展和内容,得到了在座专家学者的热烈掌声,并针对报告内容展开了讨论。  年会共设光学材料研究进展与应用、光学计量与测试技术、光学薄膜技术新进展等十八个专题,“环境光学技术与应用”专题首次设置于光学年会中,就得到了相关领域单位和专家学者们的大力支持——共收到投稿七十余篇,到场人员近百人。两天的报告会吸引了许多其他专题的一些老师学生听取报告,座无虚席。  本次学术年会,还进行了中国光学学会成立30周年庆祝大会,对光学学会的历史进行了回顾之后颁发了“王大珩光学奖中青年奖”、“王大珩光学奖中学生奖”及“王大珩杯优秀论文奖”。安徽光机所毕业生李宏斌在该所期刊“量子电子学报”中发表的论文以及该所夏慧、张晶晶等的论文都荣获了本次年会颁发的“优秀论文奖”这一殊荣。
  • 纳米薄膜材料制备技术新进展!——牛津大学也在用的薄膜沉积系统,有什么独特之处?
    一、纳米颗粒膜制备日前,由英国著名的薄膜沉积设备制造商Moorfield Nanotechnology公司生产的套纳米颗粒与磁控溅射综合系统在奥地利的莱奥本矿业大学Christian Mitterer教授课题组安装并交付使用。该设备由MiniLab125型磁控溅射系统与纳米颗粒溅射源共同组成,可以同时满足用户对普通薄膜和纳米颗粒膜制备的需求。集成了纳米颗粒源的MiniLab125磁控溅射系统 传统薄膜材料的研究专注于制备表面平整、质地致密、晶格缺陷少的薄膜,很多时候更是需要制备沿衬底外延生长的薄膜。然而随着研究的深入,不同的应用方向对薄膜的需求是截然不同。在表面催化、过滤等研究方向,需要超大比表面积的纳米薄膜。在这种情况下,纳米颗粒膜具有不可比拟的优势。而传统的磁控溅射在制备纯颗粒膜方面对于粒径尺寸,颗粒均匀性方面无法实现控制。气相沉积法、电弧放电法、水热合成法等在适用性、操作便捷性、与传统样品处理的兼容性等方面不友好。在此情况下,Moorfield Nanotechnology推出了与传统磁控溅射和真空设备兼容的纳米颗粒制备系统。不同条件制备的颗粒粒径分布(厂家测试数据)不同颗粒密度样品(厂家测试数据)纳米颗粒制备技术特点:▪ 纳米颗粒的大小1 nm-20 nm可调;▪ 多可达3重金属,可共沉积,可制备纯/合金颗粒;▪ 材料范围广泛,包括Au、Ag、Cu、Pt、Ir、Ni、Ti、Zr等▪ 拥有通过控制气氛制造复合纳米粒子的可能性(类似于反应溅射)▪ 的纳米颗粒层厚度控制,从亚单层到三维纳米孔▪ 纳米颗粒结构——结晶或非晶、形状可控纳米颗粒膜的应用方向:▪ 生命科学和纳米医学: 癌症治疗、药物传输、抗菌、抗病毒、生物膜▪ 石墨烯研究方向:电子器件、能源、复合材料、传感器▪ 光电研究:光伏研究、光子俘获、表面增强拉曼▪ 催化:燃料电池、光催化、电化学、水/空气净化▪ 传感器:生物传感器、光学传感器、电学传感器、电化学传感器 二、无机无铅光伏材料下一代太阳能电池的大部分研究都与铅-卤化物钙钛矿混合材料有关。然而,人们正不断努力寻找具有类似或更好特性的替代化合物,想要消除铅对环境的影响,而迄今为止,这种化合物一直难以获得。因此寻找具有适当带隙范围的无铅材料是很重要的,如果将它们结合起来,就可以利用太阳光谱的不同波长进行发电。这将是提高未来太阳能电池效率降低成本的关键。近期,牛津大学的光电与光伏器件研究组的Henry Snaith教授与Benjamin Putland博士研究了具有A2BB’X6双钙钛矿结构的新型无机无铅光伏材料。经过计算该材料具有2 eV的带隙,可用做光伏电池的层吸光材料与传统Si基光伏材料很好的结合,使光电转换效率达到30%。与有机钙钛矿材料相比,无机钙钛矿材料具有结构稳定使用寿命更长的优势。而这种新材料的制备存在一个问题,由于前驱体组分的不溶性和复杂的结晶过程容易导致非目标性的晶体生长,因此难以通过传统的水溶液法制备均匀的薄膜。Benjamin Putland博士采用真空蒸发使这些问题得以解决。使用Moorfield Nanotechnology的高质量金属\有机物热蒸发系统,通过真空蒸发三种不同的前驱体,研究人员成功沉积制备出了所需要的薄膜。真空蒸发具有较高的控制水平和可扩展性,使得材料的工业化制备成为可能。所制备的薄膜在150℃退火后,XRD图。所制备的薄膜在150℃退火后,表面SEM图 三、Moorfield 薄膜制备与加工系统简介Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 – MiniLab旗舰系列和nanoPVD台式系列是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的结晶。产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统,可用于高质量的科学研究和中试生产。设备的功能和特点:▪ 蒸发设备:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发▪ 磁控溅射:直流&射频溅射、共溅射、反应溅射▪ 兼容性:可与手套箱集成、满足特殊样品制备▪ 其他功能设备:二维材料软刻蚀、样品热处理▪ 设备的控制:触屏编程式全自动控制
  • 拉曼光谱:精准量化微晶硅薄膜晶化率
    引言微晶硅薄膜是纳米晶硅、晶粒间界、空洞和非晶硅共存的混合相无序材料,具有稳定性好、掺杂效率高、长波敏感性较强、可低温大面积沉积、原材料消耗少以及能在各种廉价衬底材料上制备的优点,为了使太阳能电池能够大规模连续化生产并且具有更高的效率,硅异质结太阳能电池开始使用微晶硅薄膜替代非晶硅层。升级后的硅异质结太阳能电池的光电转换效率与微晶硅薄膜的结晶度密切相关。其中,结晶率指晶态硅与晶界占非晶态、晶态、晶界总和的质量百分比或体积百分比,是评价结晶硅薄膜晶化效果的一项重要指标。在行业内通常使用拉曼光谱分析法评估微晶硅薄膜的晶化率[1,2]。实验与结果分析晶体硅排列有序,键角和键长高度一致,拉曼峰形尖锐位于520cm-1附近,无定形硅结构相对无序,拉曼峰形展宽位于480cm-1附近。采用两种结构的拉曼特征峰值(峰强或峰面积)可以实现硅晶化率的分析,晶化率计算公式如下:其中和表示在520cm-1 和480cm-1附近的拉曼峰的面积,中心为520 cm-1附近的拉曼峰是晶体硅的特征峰,位于480 cm-1附近的拉曼峰是非晶硅的约化声子谱密度。本文采用卓立汉光自主研制的Finder 930全自动共聚焦显微拉曼光谱仪分析了硅基底上微晶硅薄膜晶化率,拉曼光谱实测数据及多峰拟合结果如图1所示。可以观测到拉曼峰位在310cm-1附近的类纵声学模(类TA 模)特征峰,在480 cm-1附近的类横光学模(类TO模)分解为峰位在470 cm-1附近(Prim TO)和在490 cm-1处(Seco TO)两个特征峰。对于出现晶态硅特征峰的样品对应于峰位在510cm-1附近的晶粒间界拉曼散射成分(GB)特征峰[3]。 卓立汉光自主开发了晶化率自动计算软件,可以实现自动分峰拟合和晶化率计算,软件操作简单,易于使用,晶化率拟合结果如图2所示,自动计算结果可知晶化率为33.52%. 图2 采用自主研制软件拟合结果拉曼光谱技术可以无损分析微晶硅薄膜晶化率,在晶硅(晶体硅)与无定型硅(非晶硅)的定量鉴别及晶化率评估中展现出优异性能,通过解析特征峰的强度或面积,直接计算得出材料的晶化率,为材料性能评估提供了实验依据。参考文献[1]赵之雯,刘玉岭.微晶硅薄膜稳定性的研究[J].河北工业大学学报,2011,40(02):13-15[2] 高磊等. 微晶硅薄膜沉积工艺的研究方法及其应用[P].2023.06.23.[3] 范闪闪,郭强,杨彦彬,等.相变区硅薄膜拉曼和红外光谱分析[J].光谱学与光谱分析,2018,38(01):82-86.
  • 2022年先进光学制造技术及应用国际会议暨第二届国际先进光学制造青年科学家论坛
    2022年先进光学制造技术及应用国际会议暨第二届国际先进光学制造青年科学家论坛International Conference on Advanced Optical Manufacturing Technologies & Applications 2022 & 2nd International Forum of Young Scientists on Advanced Optical Manufacturing(AOMTA & YSAOM 2022)2022年7月29-31长春国际会展中心大饭店https://b2b.csoe.org.cn/meeting/YSAOM2022.html光学在制造业中的作用日益凸显,在应用需求的推动下,大会预计将在2022年7月29-31日于长春国际会展中心大饭店举办。本次大会将重点探讨先进光学制造技术及装备的最新发展动态。会议邀请相关领域全球资深专家做大会报告以及国内外中青年专家作专题报告,同时欢迎广大青年才俊自荐报告展示最新成果。为相关从业人员以及研究生提供合作交流平台,使先进光学制造领域产学研紧密结合。录用论文收录在美国SPIE国际会议文集序列暨其数字图书馆中,EI核心检索,全球出版发行,同时也有众多国内优质光学期刊参与本次会议全文收录。活动包括会议、展览、培训等多种形式。活动内容国际会议交流:专家报告采用申请+邀请制,会议活动包括但不限于主旨报告交流、专家报告交流、口头报告交流、Poster海报展示、优秀学生论文评选(颁发证书)、论文发表等。光学制造产业展:包括产品展示、校企对接会、院企对接会等活动。技术及技能培训:为相关从业人员提供实例分析、概念讲解和技能实训等方面技术及技能培训。组织机构:主办单位:中国光学工程学会承办单位:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所长春理工大学吉林大学长春工业大学上海理工大学复旦大学上海超精密光学制造工程技术研究中心中国光学工程学会先进光学制造青年专家委员会联办单位:天津津航技术物理研究所清华大学国家光栅制造与应用工程技术研究中心中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室支持单位:湖南天创精工科技有限公司长春长光大器科技有限公司长春长光精瓷复合材料有限公司布鲁克(北京)科技有限公司大连盛航科星科技发展有限公司北京欧唐科技发展有限公司长春吉萤光电科技有限公司安捷伦科技(中国)有限公司武汉红星杨科技有限公司成都兴南科技有限责任公司光驰科技(上海)有限公司恒迈光学精密机械(杭州)有限公司上海至臻超精密光学有限公司大会荣誉主席:庄松林 院士 上海理工大学王家骐 院士 中科院长春光学精密机械与物理研究所郭东明 院士 大连理工大学蒋庄德 院士 西安交通大学大会主席:姜会林 院士 长春理工大学谭久彬 院士 哈尔滨工业大学罗先刚 院士 中科院光电技术研究所国际主席:Prof. Saulius Juodkazis, Swinburne University of Technology, Australia大会执行主席:张学军 研究员 中科院长春光学精密机械与物理研究所孙洪波 教 授 清华大学付跃刚 教 授 长春理工大学组织委员会主席:董科研 长春理工大学岳晓峰 长春工业大学张 舸 中科院长春光学精密机械与物理研究所青年科学家论坛主席团:• 主席孔令豹 复旦大学张大伟 上海理工大学薛栋林 中科院长春光学精密机械与物理研究所薛常喜 长春理工大学• 共主席(按姓氏拼音排序):高 平 中科院光电技术研究所郭 江 大连理工大学冀世军 吉林大学李文昊 中科院长春光学精密机械与物理研究所刘华松 天津津航技术物理研究所刘智颖 长春理工大学彭小强 国防科技大学彭云峰 厦门大学任明俊 上海交通大学王素娟 广东工业大学魏朝阳 中科院上海光学精密机械研究所张继友 浙江大立科技有限公司宗文俊 哈尔滨工业大学大会报告人Plenary Speakers(更新中):郭东明院士,大连理工大学——高性能光学制造技术Prof. Saulius Juodkazis, Swinburne University of Technology, Australia——Ultra-short laser pulses for high precision laser fabricationProf. Wounjhang Park, University of Colorado Boulder, USA——Upconversion Nanomaterials for Biosensing and Imaging Applications张学军研究员,中科院长春光学精密机械与物理研究所——Ultra-precision optical component manufacturing and measurement technology胡鹏程教授,哈尔滨工业大学——超精密激光干涉位移测量技术研究进展与挑战研讨主题(分专题组织机构成员按姓氏拼音排序):• 专题1:大尺寸光学反射镜与望远镜技术本专题拟反映大尺寸光学反射镜与望远镜技术及装备的最新进展,重点包括但不限于:科学目标观测与光学工程技术、大型轻量化光学反射镜优化设计、先进光学与结构材料、高精度高稳定性反射镜及结构支撑技术、拼接式合成孔径光学系统测量与调控技术、大型光电仪器一体化设计、主动光学与自适应光学技术、巨型跟踪结构及其高精度稳定控制技术、空间望远镜天地一致性技术、大型光电仪器精密装配技术、复杂光学元件及系统试验/测试与计量技术。主 席:薛栋林(中科院长春光学精密机械与物理研究所)共主席:Chen,Wei-Jun(Zeiss Group)范 斌(中科院光电技术研究所)程序委员会:李龙响(中科院长春光学精密机械与物理研究所)王 虎(中科院西安光学精密机械研究所)王 伟(复旦大学)王 炜(中科院国家天文台)王永刚(北京空间机电研究所)杨继兴(天津津航技术物理研究所)袁 群(南京理工大学)张军平(中科院南京天文光学技术研究所)• 专题2:超精密光学加工技术及装备本专题拟反映超精密光学制造装备、制造技术手段及工艺方法的最新进展,重点包括但不限于:超精密车、铣、磨、抛等工艺,激光加工,特种加工,新型微纳加工,模压及注塑成型,微纳压印,增减材复合工艺,多能场辅助加工,刀具设计及制造,刀具磨损,加工误差诊断与优化,加工路径规划及优化,工艺链过程建模与仿真、材料去除机理,有限元和分子动力学分析,振动控制,表面全频段误差分析及控制,加工精度保持及可靠性,加工检测一体化,机床核心功能器件(高性能电机、主轴、光栅尺、运动控制器、导轨、转台等),超精密加工系统及模组,精密加工关键算法及软件等。主 席:孔令豹(复旦大学)共主席:彭云峰(厦门大学)王素娟(广东工业大学)魏朝阳(中科院上海光学精密机械研究所)程序委员会:曹中臣(天津大学)陈国达(浙江工业大学)陈杉杉(西安交通大学)黄 鹏(南京理工大学)孙占文(广东工业大学)王海涛(深圳职业技术学院)杨 高(深圳大学)于文慧(山东理工大学)张国庆(深圳大学)赵泽佳(深圳大学)专题秘书:王施相(复旦大学)• 专题3:光学测试、测量技术及设备本专题拟反映光学测试、测量技术及仪器设备的最新进展,重点包括但不限于:光学测试和测量基标准、计量与在线数字校准、先进光学制造过程中的测量问题、光学元件几何参数和物理特性测量方法、光学测量系统中关键光学器件研制、基于光栅、光纤等光学器件的测试测量技术、微纳制造中的先进测量方法、宏微观测量技术、精密和超精密加工测量、精密和超精密测量的现代光学技术和仪器、光学测量中的数据处理方法、新型光学测试测量原理、新型光学测量仪器与设备、新型仪器理论与设计方法、微纳米测试与计量方法、极大极小尺寸光学测量方法、视觉测量技术等。主 席:李文昊(中科院长春光学精密机械与物理研究所)共主席:陆振刚(哈尔滨工业大学)闫钰锋(长春理工大学)杨树明(西安交通大学)程序委员会:陈梅云(广东工业大学)陈修国(华中科技大学)胡鹏程(哈尔滨工业大学)胡 摇(北京理工大学)任明俊(上海交通大学)单明广(哈尔滨工程大学)沈 华(南京理工大学)谈宜东(清华大学)王 允(北京理工大学)吴冠豪(清华大学)虞益挺(西北工业大学)张文喜(中科院空天信息创新研究院)张效栋(天津大学)专题秘书:刘兆武(中科院长春光学精密机械与物理研究所)• 专题4:新体制、新概念设计技术和方法本专题拟反映新体制、概念、设计、工艺和方法的最新进展,重点包括但不限于:新的光学设计、光学制造、光学检测、光学装调,突出新概念、新方法、新思路、新材料、新设计、新工艺,实现复杂曲面、金属光学、难加工材料光学等数学描述和非传统光学系统的创新性光学设计,及其通过超精密单点车削技术、磁流变/离子束/数控研磨抛光、光学玻璃模造成型和光学塑料注塑成型技术等超精密光学先进制造技术,实现新型光学元件的设计与制造,提出检测新方法,制造方法和装配方法的新概念。主 席:薛常喜(长春理工大学)共主席:王孝坤(中科院长春光学精密机械与物理研究所)吴仍茂(浙江大学)徐 亮(中科院西安光学精密机械研究所)张云龙(西安应用光学研究所)程序委员会:郭 兵(哈尔滨工业大学)潘敏忠(福建富兰光学股份有限公司)王道档(中国计量大学)章少剑(南昌大学)朱 钧(清华大学)专题秘书:杨 超(长春理工大学)• 专题5:光学微纳制造技术及应用本专题拟反映光学微纳制造技术及应用的最新进展,重点包括但不限于:超分辨/超衍射制造新机理与新方法,超分辨光学增材/减材制造技术及应用,高效率亚波长结构制造方法,激光微纳制造新机理与新技术,光子及微电子集成芯片的光学制造新方法,三维全息显示器件的低成本制造方法,光学微纳制造的性能评测方法及配套精密光学检测技术等。主 席:陈岐岱(吉林大学)共主席:高 平(中科院光电技术研究所)周见红(长春理工大学)程序委员会:高洪跃(上海大学)李连升(北京控制工程研究所)王文君(西安交通大学)吴 东(中国科学技术大学)岳伟生(中科院光电技术研究所)周 锐(厦门大学)专题秘书:王 磊(吉林大学)• 专题6:高性能光学制造技术及装备本专题拟反映高性能光学制造、测量技术及装备的最新进展,重点包括但不限于:高性能光学微细结构及自由曲面控形控性超精密加工技术及装备,能场辅助难加工材料极端制造技术,原子级超光滑表面制造技术,高性能光学元件高效、超低损伤制造技术,高性能光学元件几何参数高精度测量技术,高性能光学元件服役性能测试及评价技术,大规模微纳尺度微细结构高精度快速制造技术等。主 席:郭 江(大连理工大学)共主席:崔海龙(中物院机械制造工艺研究所)王春锦(香港理工大学)许金凯(长春理工大学)朱吴乐(浙江大学)程序委员会:邓伟杰(中科院长春光学精密机械与物理研究所)侯 溪(中科院光电技术研究所)康城玮(西安交通大学)童 振(哈德斯菲尔德大学)王振忠(厦门大学)姚 鹏(山东大学)于 楠(爱丁堡大学)张建国(华中科技大学)专题秘书:杨 哲(大连理工大学)• 专题7:制造新技术、新工艺和新方法本主题旨在反映新型制造技术、工艺和方法的最新发展,包括但不限于:新型纳米抛光技术、超表面/超构材料设计制造、先进束能抛光、特种材料加工技术等;先进的表面处理技术;新型加工装备、工具的设计开发,新型超硬材料刀具;制造工艺链的设计与优化、系统设计与仿真等。主 席:徐学科(上海恒益光学精密机械有限公司)共主席:陈俊云(燕山大学)戴 博(上海理工大学)许剑锋(华中科技大学)程序委员会:蔡玉奎(山东大学)姜 超(中南大学)刘 超(北京航空航天大学)鲁艳军(深圳大学)穆德魁(华侨大学)石 峰(国防科技大学)苏 星(中物院机械制造工艺研究所)谭启玚(澳大利亚昆士兰大学)王 朋(天津津航技术物理研究所)王绍凯(哈尔滨工业大学)熊 涛(湖北久之洋红外系统股份有限公司)专题秘书:方媛媛(中科院上海光学精密机械研究所)• 专题8:前沿光学薄膜技术及设备本专题拟反映光学薄膜设计、制备、表征技术及设备的最新进展和重大项目领域的应用成效,重点包括但不限于:涵盖从X射线到远红外光学谱段的新型光学薄膜材料,光学薄膜材料性能调控的新进展;以X射线、激光和红外典型光学谱段为代表的高性能光学薄膜设计与制造技术、多维功能表面薄膜设计与制备技术、多功能光学薄膜设计与制备技术(光、热、力、电);面向应用需求的薄膜性能测试技术,如超宽谱段光学常数表征技术、低损耗光学薄膜性能测试技术、特种环境光学薄膜性能评估与测试方法等;光学薄膜制造设备与检测仪器的最新进展等。主 席:张锦龙(同济大学)共主席:程鑫彬(同济大学)刘华松(天津津航技术物理研究所)程序委员会:何文彦(中科院光电技术研究所)李 刚(中科院大连化学与物理研究所)邵宇川(中科院上海光学精密机械研究所)沈伟东(浙江大学)王笑夷(中科院长春光学精密机械与物理研究所)汪 洋(光驰科技(上海)有限公司)卫耀伟(中物院激光聚变研究中心)专题秘书:杨 霄(天津津航技术物理研究所)• 专题9:光学系统装调,系统集成与评价技术本专题拟反映光学制造及装备中的光学系统集成的最新进展,重点包括但不限于:空间复杂焦面拼接与配准测试技术、复合光路高精度定心与装调测试技术、立体测绘相机系统集成与测试技术、内方位元素与畸变测试技术、低温光学装调与性能评价技术、红外光学系统装调与性能评价技术、激光跟踪系统装调与性能评价技术、精密光谱仪高精密装调与检测技术、大口径光学系统装调测试技术、计算机辅助装调技术、无应力胶合及无应力装配技术、原位检测技术、高精度定位及多自由度装调技术、基于频率组分的光学面形评价技术、波前探测技术、高功率激光系统装调技术、多波段共光路光学系统精密装调技术、多光轴一致性精密调整技术。主 席:张继友(浙江大立科技有限公司)共主席:沈正祥(同济大学)吴雪峰(哈尔滨理工大学)程序委员会:毕 勇(中科院南京天文仪器有限公司)李重阳(北京空间机电研究所)李 忠(华中光电技术研究所)魏 来(中物院激光聚变研究中心)伍雁雄(佛山科学技术学院)虞林瑶(中科院长春光学精密机械与物理研究所)张 振(天津津航技术物理研究所)专题秘书:王东杰(北京空间机电研究所)• 专题10:光流控与液晶技术及应用本专题拟反映光流控与液晶技术及其应用的最新进展,重点包括但不限于:探讨利用微流控技术、液晶技术制造各种光学元器件的研究进展,以及利用不同光学制造技术制备微流控芯片的研究进展。分析光流控元器件及液晶器件的特点和优势,展示光流控与液晶技术在光学检测、生物医学、化学分析、即时检测中的应用。旨在利用这些新技术为下一代光学系统、生化分析、医学检测、环境监测等精密光学系统提供更好的解决方案。主 席:张大伟(上海理工大学)共主席:Francis Lin(University of Manitoba,Canada)杨 奕(武汉大学)张需明(香港理工大学)郑致刚(华东理工大学)程序委员会:龚 元(电子科技大学)胡 伟(南京大学)刘言军(南方科技大学)穆全全(中科院长春光学精密机械与物理研究所)水玲玲(华南师范大学)王光辉(南京大学)巫建东(中科院深圳先进技术研究院)专题秘书:王 琦(上海理工大学)• 专题11:激光与光电子器件及应用本专题拟反映激光与光电子器件及应用技术的最新进展,重点包括但不限于:激光物理与非线性光学技术、超快激光技术、中红外激光器、高功率光纤激光器、高功率半导体激光器、可调谐半导体激光器、固体激光技术和设备、光纤通信技术、空间激光通信技术、光通信与网络技术、非线性光学设备和全光信号处理技术、集成光电子器件、智能光电器件与光交换技术,以及新一代激光设备和器件在激光加工、生物医疗、人工智能等交叉领域中的应用技术。主 席:王天枢(长春理工大学)共主席:胡贵军(吉林大学)郭春雨(深圳大学)程序委员会:常国庆(中科院物理研究所)方晓东(深圳技术大学)林学春(中科院半导体研究所)裴 丽(北京交通大学)王安邦(太原理工大学)韦小明(华南理工大学)韦 欣(中科院半导体研究所)杨爱英(北京理工大学)义理林(上海交通大学)余 辉(浙江大学)郭 丽(大族激光科技产业集团股份有限公司)何 飞(武汉安扬激光技术股份有限公司)林怀钦(深圳市创鑫激光股份有限公司)邵国栋(武汉华日精密激光股份有限公司)赵 磊(四川中久大光科技有限公司)专题秘书:马万卓(长春理工大学)• 专题12:基于模型的光学系统工程本专题拟反映光学领域数字化、系统化工程的最新研究进展。广义上讲,涉及到光学工程研究过程中的设计、加工、测量和性能分析等新理论模型的创立、新算法的探索、新软件的开发及应用、系统化设计与系统工程。具体包括:基础数据库、核心理论与算法模型、软件模块化功能、虚拟制造系统、数字孪生技术、软件设计开发理论与技术、光学建模软件精确度分析、软件配置管理技术、软件测试应用方案、模型导航及数据访问技术、软件模块优化设计技术、软件与应用程序间的数据传输技术、光学软件平台交互操作技术、算法导入以及系统效应模拟技术、编程扩展及设计准则优化技术、复杂光学系统算法优化方案、光学制造装备测试与控制软件、测量加工系统迭代制造技术、数字化性能分析、数字化评价体系、光学系统工程、全生命周期预测。主 席:冀世军(吉林大学)共主席:陈 磊(西南交通大学)樊 成(苏州大学)胡珊珊(广西大学)屈玉福(北京航空航天大学)宗文俊(哈尔滨工业大学)程序委员会:蔡 军(宜诺来超精密设备上海有限公司)韩艳君(西南交通大学)李 阳(东北电力大学)卢 磊(苏州大学)罗明星(西南交通大学)齐立涛(黑龙江科技大学)王东方(中科院上海技术物理研究所)王可军(苏州大学)王懋露(哈尔滨工业大学)尤芳怡(华侨大学)袁志山(广东工业大学)张子北(合肥知常光电科技有限公司)赵 军(浙江工业大学)专题秘书:张 旺(吉林大学)会议日程(以现场为准):时间 内容地点 29th 714:00-20:00大会注册 酒店大堂09:00-16:302022年难加工材料元件的超精密金刚石加工技术及光学自由曲面设计与检测短课程培训一楼5号会议室17:30-19:30晚 餐 以餐券为准30th 709:00-09:30大会开幕式三楼乾元宴会厅09:30-12:00大会主旨报告交流12:00-13:30午 餐以餐券为准13:00-13:30Poster交流Poster区13:30-17:00分专题邀请报告会,口头报告会分会场1:专题1:大尺寸光学反射镜与望远镜技术 & 专题4:新体制、新概念设计技术和方法一楼8号会议室分会场2:专题3:光学测试、测量技术及设备 & 专题7:制造新技术、新工艺和新方法一楼9号会议室分会场3:专题5:光学微纳制造技术及应用 & 专题10:光流控与液晶技术及应用一楼百合厅分会场4:专题8:前沿光学薄膜技术及设备 & 专题12:基于模型的光学系统工程一楼5号会议室分会场5:专题6:高性能光学制造技术及装备 & 专题9:光学系统装调,系统集成与评价技术二楼剑桥厅分会场6:专题2:超精密光学加工技术及装备& 专题11:激光与光电子器件及应用二楼清华厅18:00-20:00晚 餐以餐券为准31st 709:00-12:00分专题邀请报告会,口头报告会分会场1:专题1:大尺寸光学反射镜与望远镜技术 & 专题4:新体制、新概念设计技术和方法一楼8号会议室分会场2:专题3:光学测试、测量技术及设备 & 专题7:制造新技术、新工艺和新方法一楼9号会议室分会场3:专题5:光学微纳制造技术及应用 & 专题10:光流控与液晶技术及应用一楼百合厅分会场4:专题8:前沿光学薄膜技术及设备& 专题12:基于模型的光学系统工程一楼5号会议室分会场5:专题6:高性能光学制造技术及装备 & 专题9:光学系统装调,系统集成与评价技术二楼剑桥厅分会场6:专题2:超精密光学加工技术及装备& 专题11:激光与光电子器件及应用二楼清华厅12:00-13:30午 餐以餐券为准13:00-13:30Poster交流Poster区13:30-17:00分专题邀请报告会,口头报告会分会场1:专题1:大尺寸光学反射镜与望远镜技术 & 专题4:新体制、新概念设计技术和方法一楼8号会议室分会场2:专题3:光学测试、测量技术及设备 & 专题7:制造新技术、新工艺和新方法一楼9号会议室分会场3:专题5:光学微纳制造技术及应用 & 专题10:光流控与液晶技术及应用一楼百合厅分会场4:专题8:前沿光学薄膜技术及设备一楼5号会议室分会场5:专题6:高性能光学制造技术及装备 & 专题9:光学系统装调,系统集成与评价技术二楼剑桥厅分会场6:专题2:超精密光学加工技术及装备& 专题11:激光与光电子器件及应用二楼清华厅17:00-17:15大会闭幕,优秀学生论文颁奖一楼9号会议室大会报告(以现场为准):7月30日上午 30th July AM时间报告题目报告人09:30-10:00高性能光学制造技术High Performance Optical Manufacturing Technology郭东明院士大连理工大学10:00-10:30Ultra-short laser pulses for high precision laser fabrication (online)Prof. Saulius Juodkazis(Swinburne University of Technology, Australia)10:30-11:00Ultra-precision optical component manufacturing and measurement technology张学军研究员中科院长春光学精密机械与物理研究所11:00-11:30Upconversion Nanomaterials for Biosensing and Imaging Applications (online)Prof. Wounjhang Park(University of Colorado Boulder, USA)11:30-12:00Development and challenge of ultra precision laser interferometric displacement measurement technology胡鹏程教授哈尔滨工业大学12:00-13:30午餐 & Poster交流分专题日程(以现场为准):分会场1:专题1:大尺寸光学反射镜与望远镜技术 & 专题4:新体制、新概念设计技术和方法地点:一楼8号会议室7月30日下午 30th July PMSession 1大尺寸光学反射镜与望远镜技术I 主持人:薛栋林 (中科院长春光学精密机械与物理研究所) 时间 Time报告题目 Speech13:30-13:50王炜(中科院国家天文台)——天邻项目:一个瞄准宜居世界的大型紫外光学空间望远镜13:50-14:10叶贤基(中山大学)——空间引力波探测中的激光干涉测量技术14:10-14:30王兆明(北京空间机电研究所)——两面共体非球面反射镜的光轴一致性测量14:30-14:50杨忠明(山东大学)——基于涡旋光干涉的拼接镜共相误差检测14:50-15:10王朋(天津津航技术物理研究所)——大口径功能光学陶瓷构件精密制造技术研究15:10-15:20茶歇 Coffee BreakSession 2:新体制、新概念设计技术和方法 I主持人:王孝坤(中科院长春光学精密机械与物理研究所)15:20-15:45石峰(国防科技大学)——近表层功能基元设计与等离子体诱导序构方法 Keynote15:45-16:05于清华(中科院上海技术物理研究所)——棋盘式成像仪的设计与应用展望16:05-16:25闫力松(华中科技大学)——半导体前道工艺缺陷检测设备的设计与开发16:25-16:45杨晓飞(苏州大学)——用于托卡马克核聚变装置的工业内窥镜光学系统以及不锈钢(316L)非球面镜研究16:45-17:05周剑(合肥工业大学)——玻璃模压界面分离的宏观力学行为和微观形貌特征17:05-17:15YSAOM2022-04-001, Zenghui Ge(Changchun University of Science and Technology)——Effect of the fill factor on microlens array scanning systems(Oral)17:15-17:25YSAOM2022-04-004, Wang Baohua(Beijing Institute of Space Mechanics & Electricity)——Optical System Design of Spaceborne High-resolution Hyperspectral Imager(Oral)7月31日上午 31st July AMSession 3大尺寸光学反射镜与望远镜技术II主持人:张舸(中科院长春光学精密机械与物理研究所)时间 Time报告题目 Speech09:00-09:20Guoyu Yu(University of Huddersfield)——The Challenges in Processing Large Aspherical Aluminium Prototype Mirror for Cherenkov Telescope Array09:20-09:40姚永胜(中科院西安光学精密机械研究所)——基于驻留转速控制的多机器人协同加工大尺寸光学反射镜09:40-10:00张凯(中科院国家天文台南京天文光学技术研究所)——系外行星研究与GTC高分辨率光谱仪10:00-10:20冯麓(中科院国家天文台)——激光导星发射系统及丽江1.8米激光导星发射系统新进展10:20-10:30茶歇 Coffee BreakSession 4新体制、新概念设计技术和方法 II主持人:吴仍茂(浙江大学)10:30-10:55白杨(中科院长春光学精密机械与物理研究所)——水基磁流变抛光液制备及抛光应用Keynote10:55-11:20刘国淦(上海现代先进超精密制造中心有限公司)——改性光学表面抛光特性研究11:20-11:40王健健(清华大学)——单晶硅表面浮雕光栅的振动切削加工技术研究11:40-12:00赵烈烽(浙江舜宇光学有限公司)——消费级镜头关键技术研究12:00-12:20耿瑞文(三峡大学)——硒化锌晶体激光辅助单点金刚石切削机理研究12:20-13:30午 餐13:00-13:30海报交流7月31日下午 31st July PMSession 5大尺寸光学反射镜与望远镜技术III主持人:范 斌 (中科院光电技术研究所)时间 Time报告题目 Speech13:30-13:50李龙响(中科院长春光学精密机械与物理研究所)——基于工业机器人的大口径复杂曲面光学加工技术13:50-14:10孙国燕(中科院西安光学精密机械研究所)——超精密磨削表面中频误差与损伤抑制技术研究14:10-14:30施佳林(中科院沈阳自动化研究所)——基于原子力显微镜的大尺寸复杂形状光学器件原位纳米测量技术14:30-14:40茶歇 Coffee BreakSession 6新体制、新概念设计技术和方法 III主持人:薛常喜(长春理工大学)14:40-15:00朱志伟(南京理工大学)——光学透镜三维立体打印15:00-15:20刘华(东北师范大学)——高效、高精度复合加工微光学元件以及系统15:20-15:40冯泽心(北京理工大学)——面向光分布调控的计算光学设计分会场2:专题3:光学测试、测量技术及设备 & 专题7:制造新技术、新工艺和新方法地点:一楼9号会议室7月30日下午 30th July PMSession 1光学测试、测量技术及设备 I主持人:陆振刚(哈尔滨工业大学)时间 Time报告题目 Speech13:30-13:50易定容(华侨大学)——差动点阵共聚焦三维显微成像与测量方法13:50-14:10吴斌(天津大学)——非正交轴系三维测量仪器及其应用14:10-14:30陈修国(华中科技大学)——IC纳米结构三维形貌散射测量技术14:30-14:50苏榕(中国科学院上海光学精密机械研究所)——表面测量领域的干涉显微技术进展14:50-15:10胡摇(北京理工大学)——非球面参数误差干涉测量方法15:10-15:20YSAOM2022-03-002, Zhiyang Lv(Changchun University of Science and Technology)——Analysis of Fill Factor and Diffraction Influence on Micro-lens Array Imaging System(Oral)15:20-15:30YSAOM2022-03-004, Dongming Yan(Changchun University of Science and Technology)——Research on Large-scale Measurement Field Deployment Technology Based on FBI Algorithm(Oral)15:30-15:40YSAOM2022-03-010, Xiaoyue Qiao(Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, CAS)——Measurement and Correction of Lateral Distortion in Fizeau Interferometer Based on Self-calibration Technique(Oral)15:40-15:50茶歇 Coffee BreakSession 2:制造新技术、新工艺和新方法I主持人:陈俊云(燕山大学)15:50-16:15穆德魁(华侨大学制造工程研究院)——硬脆单晶的超薄切磨工具制备与评价Keynote16:15-16:40陈俊云(燕山大学)——应用于超精密切削的无粘结剂多晶金刚石刀具制造新技术Keynote16:40-17:05蔡玉奎(山东大学)——激光烧蚀不锈钢功能性表面 Keynote17:05-17:25黄水泉(燕山大学)——光电单晶材料的延性域磨削技术17:25-17:45李加胜(中物院机械制造工艺研究所)——光学晶体超精密切削表面中频波纹误差精确溯源与抑制方法研究7月31日上午 31st July AMSession 3光学测试、测量技术及设备 II主持人:杨树明(西安交通大学)时间 Time报告题目 Speech09:00-09:20严利平(浙江理工大学)——基于双动态电光频率梳的绝对距离测量09:20-09:40付海金(哈尔滨工业大学)——亚纳米至皮米级光学非线性:工作机制,抑制与测试技术09:40-10:00倪凯(清华大学深圳国际研究生院)——双光频梳光谱中的数字误差校正技术10:00-10:20高旭(长春理工大学)——光栅式至电容式角位移编码测量技术的研究进展10:20-10:30YSAOM2022-03-007, Yue Liu(Changchun University of Science and Technology)——Surface Deformation Technology of Large-scale Complex Components Based on Laplace(Oral)10:30-10:40茶歇 Coffee BreakSession 4制造新技术、新工艺和新方法II主持人:石峰(国防科技大学)10:40-11:05杨卓青(上海交通大学)——超细圆柱基表面上MEMS器件集成制造技术与应用Keynote11:05-11:30谭启玚(昆士兰大学)——金属3D打印技术最新进展Keynote11:30-11:50宋辞(国防科技大学)——高效率可扩展磁流变抛光技术研究11:50-12:10吴伦哲(中科院上海光学精密机械研究所)——基于柔性工具的工业机器人抛光原理及实现12:10-12:30胡满凤(佛山科学技术学院)——金属粉末辅助激光加工玻璃表面微结构技术及光学应用12:00-13:30午 餐13:00-13:30海报交流7月31日下午 31st July PMSession 5光学测试、测量技术及设备 III主持人:闫钰锋(长春理工大学)时间 Time报告题目 Speech13:30-13:50沈常宇(中国计量大学)——基于倾斜光纤光栅的微流方向和流速传感器13:50-14:10胡春光(天津大学)——关键角椭偏术表征原子厚度表界面特性14:10-14:30刘彬(哈尔滨工程大学)——基于光纤传感的微型声测试关键技术研究14:30-14:50张子北(合肥知常光电科技有限公司)——大口径曲面元件多模式检测技术及应用14:50-15:00茶歇 Coffee BreakSession 6制造新技术、新工艺和新方法III主持人:徐学科(上海恒益光学精密机械有限公司)15:00-15:20王立辉(广东省科学院半导体研究所)——基于动态视觉追踪和光雕投影的混合现实交互15:20-15:40张昊(天津津航技术物理研究所)——AFJ技术在车削表面保形抛光方面的应用15:40-16:00刘超(北京航空航天大学)——大视场连续光学变焦显微成像技术16:00-16:20鲁艳军(深圳大学)——微结构LED光学器件设计、制造及应用16:20-16:40李萍(广州大学)——单向热管的设计与制造分会场3:专题5:光学微纳制造技术及应用 & 专题10:光流控与液晶技术及应用地点:一楼百合厅7月30日下午 30th July PMSession 1光学微纳制造技术及应用I主持人:李星辉(清华大学深圳国际研究生院)时间 Time报告题目 Speech13:30-13:55王文君(西安交通大学)——复眼透镜的制造及其功能调控 Keynote 13:55-14:15吴东(中国科学技术大学)——Femtosecond laser microfabrication towards high efficiency, new materials and advanced devices14:15-14:35徐少林(南方科技大学)——Self-aligned plasmonic lithography for maskless fabrication of large-area long-range ordered nanostructures 14:35-15:00Mangirdas Malinauskas(Vilnius University)——Ultrafast laser 3D lithography for micro-nano additive manufacturing of bioresins and inorganics Keynote15:00-15:20孙允陆(复旦大学)——题目待定15:20-15:30YSAOM2022-05-002, Peichao Wu(Ningbo Institute of Materials Technology & Engineering, CAS)——Fabrication of microlens on fused silica by femtosecond laser combined with wet etching(Oral)15:30-15:40茶歇 Coffee BreakSession 2:Optical sensors & tweezers主持人:张大伟(上海理工大学)15:40-16:05辛洪宝(暨南大学)——光学捕获与生物微马达驱动 Keynote16:05-16:25施宇智(同济大学)——光流控光镊超精密操控的基础理论和生物应用16:25-16:45廖常锐(深圳大学)——3D打印的光纤传感器16:45-17:05龚朝阳(南洋理工大学)——基于光微流激光的超敏生物传感17:05-17:15YSAOM2022-10-001, Zhang Yi(Changchun University of Science and Technology)——Non-mechanical photoelectric tracking technology using liquid crystal phased array(Oral)17:15-17:25YSAOM2022-10-003, Longfei Chen(Wuhan University)——Touchable intelligent optofluidic system for accurate and convenient point-of-care blood diagnoses7月31日上午 31st July AMSession 3光学微纳制造技术及应用II主持人:梁中翥(东北师范大学)时间 Time报告题目 Speech09:00-09:25高洪跃(上海大学)——3D全息微纳制造 Keynote09:25-09:50程光华(西北工业大学)——Nano-Spheroid Formation on YAG Surfaces Induced by Single Ultrafast Bessel Laser Keynote09:50-10:10张琬皎(上海微技术工业研究院)——纳米压印技术在斜齿光栅和超透镜制造中的低成本实现方案10:10-10:30潘如豪(中科院物理研究所)——FIB Defined Origami for Chiral Metasurface with Giant Circular Dichroism10:30-10:40茶歇 Coffee BreakSession 4 Biomedical imaging & detection主持人:杨 奕(武汉大学)10:40-11:00费鹏(华中科技大学)——高时空分辨率的四维荧光显微成像技术及其应用11:00-11:20雷诚(武汉大学)——基于光学时域拉伸成像的高通量细胞筛选11:20-11:40陈艳(中科院深圳先进技术研究院)——同心梯度纳米等离子光学传感芯片及其在肿瘤外囊泡检测中的应用11:40-12:00王玲(天津大学)——仿生液晶智能材料12:00-12:10YSAOM2022-10-002, Jin-Kun Guo(Xidian University)——Laser micro-nano manufacturing technology for liquid crystal microdroplets with diverse inner structures(Oral)12:00-13:30午 餐13:00-13:30海报交流7月31日下午 31st July PMSession 5光学微纳制造技术及应用III主持人:吴东(中国科学技术大学)时间 Time报告题目 Speech13:30-13:55梁中翥(东北师范大学)——Study on Infrared Absorption Structure Based on Surface Plasmon Resonance Keynote13:55-14:15李星辉(清华大学深圳国际研究生院)——Recent progress of microstructures patterning enabled by laser interference lithography14:15-14:35王磊(吉林大学)——Polarization manipulation by polarized laser-induced nanogratings for eternal data storage14:35-14:55何伟(纳克微束(北京)有限公司)——题目待定14:55-15:15Keiko Munechika(HighRI Optics)——题目待定15:15-15:25茶歇 Coffee BreakSession 6 Liquid crystal applications主持人:郑致刚(华东理工大学)15:25-15:45胡伟(南京大学)——基于手性超结构的软光子学15:45-16:05刘言军(南方科技大学)——类液晶态超表面用于光的自旋控制16:05-16:25穆全全(中科院长春光学精密机械与物理研究所)——液晶几何相位器件及其应用16:25-16:45陈鹭剑(厦门大学)——手性液晶超结构的微流控构筑与光子学应用分会场4:专题8:前沿光学薄膜技术及设备 & 专题12:基于模型的光学系统工程地点:一楼5号会议室7月30日下午 30th July PMSession 1光学薄膜前沿应用主持人:刘华松(天津津航技术物理研究所)时间 Time报告题目 Speech13:30-13:55张众(同济大学)——题目待定 Keynote13:55-14:15赵娇玲(中科院上海光学精密机械研究所)——磁控溅射制备短波长薄膜研究进展14:15-14:35刘震(中科院长春光学精密机械与物理研究所)——基于移动磁控溅射阴极的大口径反射镜高反射膜研制14:35-14:55王胭脂(中科院上海光学精密机械研究所)——题目待定14:55-15:15杨磊(哈尔滨工业大学)——题目待定15:15-15:25茶歇 Coffee BreakSession 2:基于模型的光学系统工程I主持人:冀世军(吉林大学)15:25-15:45尤芳怡(华侨大学)——铝合金表面激光熔覆加工温度场的建模仿真15:45-16:05蔡军(宜诺来超精密设备(上海)有限公司)——自由曲面高效超精密加工及非接触在线检测方案16:05-16:25温秋玲(华侨大学)——硬脆单晶材料各向异性对激光划片的影响研究16:25-16:45刘建春(厦门理工学院)——风机叶片三维重建系统及算法研究16:45-17:05顾天奇(福州大学)——复杂表面形貌参数评定理论与算法17:05-17:25唐大为(University of Huddersfield)——光谱干涉仪表面在线测量7月31日上午 31st July AMSession 3激光薄膜研究进展主持人:张锦龙(同济大学)时间 Time报告题目 Speech09:00-09:20刘华松(天津津航技术物理研究所)——题目待定09:20-09:40李刚(中科院大连化学物理研究所)——高质强光光学元件研制进展09:40-10:00孙建(中科院上海光学精密机械研究所)——紫外波段激光薄膜研究进展10:00-10:20张飞(中物院激光聚变研究中心)——题目待定10:20-10:40钮信尚(同济大学)——连续激光作用薄膜器件损伤机理及控制技术研究10:40-10:50茶歇 Coffee BreakSession 4:基于模型的光学系统工程II主持人:樊 成(苏州大学)10:50-11:10梁福生(苏州大学)——题目待定11:10-11:30刘强(吉林大学)——二维椭圆振动辅助自由曲面金刚石车削11:30-11:50倪自丰(江南大学)——题目待定11:50-12:10卢磊(苏州大学)——自由曲面加工动态优化与调控机制研究12:10-12:30韩艳君 (西南交通大学)——新型脉动气射流抛光工艺研究12:00-13:30午 餐13:00-13:30海报交流7月31日下午 31st July PMSession 5先进薄膜材料及制备技术主持人:王笑夷(中科院长春光学精密机械与物理研究所)时间 Time报告题目 Speech13:30-13:50胡超权(吉林大学)——题目待定13:50-14:10魏铭(中科院光电技术研究所)——题目待定14:10-14:30陈牧(巨波固能(苏州)薄膜材料有限公司)——无机电致变色器件及薄膜性能研究14:30-14:50潘永刚(长春理工大学中山研究院)---混合低温等离子体的产生及在光学薄膜中的应用14:50-15:10汪洋(光驰科技(上海)有限公司)——晶圆级光学薄膜的低Particle解决方案15:10-15:30陈坚(合肥知常光电科技有限公司)——题目待定15:30-15:40茶歇 Coffee Break15:40-16:00罗振飞(中物院激光聚变研究中心)——题目待定16:00-16:20吴悦(中物院激光聚变研究中心)——题目待定16:20-16:40曾鹏(中科院光电技术研究所)——题目待定分会场5:专题6:高性能光学制造技术及装备 & 专题9:光学系统装调,系统集成与评价技术地点:二楼剑桥厅7月30日下午 30th July PMSession 1高性能光学制造技术及装备I主持人:许金凯(长春理工大学)时间 Time报告题目 Speech13:30-13:55郭江(大连理工大学)——面向高性能的光学加工及检测技术Keynote13:55-14:15张效栋(天津大学)——光学元件/系统高精度测量技术14:15-14:35姚鹏(山东大学)——微柱面透镜阵列的超精密磨削加工14:35-14:55王春锦(香港理工大学)——光学元件高效抛光技术研究14:55-15:15海阔(中物院机械制造工艺研究所)——磁流变抛光中彗尾缺陷生成与抑制机理研究15:15-15:35卢明明(长春工业大学)——非共振三维椭圆振动辅助车削技术15:35-15:45YSAOM2022-06-002, Zhe Yang(Dalian University of Technology)——Research on processing of super-smooth surface for polycrystalline yttrium aluminum garnet(Oral)15:45-15:55茶歇 Coffee BreakSession 2:光学系统装调,系统集成与评价技术I主持人:张继友(浙江大立科技有限公司)15:55-16:15张晨钟(天津津航技术物理研究所)——题目待定16:15-16:35范龙飞(北京空间机电研究所)——面向遥感星座的高效率空间光学系统装调技术16:35-16:55宋俊儒(北京空间机电研究所)——反射式低温光学系统性能评价16:55-17:05YSAOM2022-09-001, Guo Chengliang(Beijing Institute of Space Mechanics & Electricity)——Alignment of a catadioptric infrared optical system(Oral)17:05-17:15YSAOM2022-09-003, Huang Yang(Beijing Institute of Space Mechanics & Electricity)——A Method for Measuring Optical Parameters of Infrared Lens based on Auto-collimation and Tracking Technology(Oral)17:15-17:25YSAOM2022-09-006, 张志飞(北京空间机电研究所)——快速消泡技术在反射镜粘接的应用(Oral)17:25-17:35YSAOM2022-09-009, Wang Haichao(Beijing Institute of Space Mechanics & Electricity)——Study on the properties of new optical mechanical structure adhesive(Oral)17:35-17:45YSAOM2022-09-014, Li Mengxu(Beijing Institute of Space Mechanics & Electricity)——Intelligent Measurement Technology for Surface Figure of Space Optical Mirror(Oral)7月31日上午 31st July AMSession 3高性能光学制造技术及装备II主持人:郭 江(大连理工大学)时间 Time报告题目 Speech09:00-09:25侯溪(中科院光电技术研究所)——超高精度非球面光学检测关键技术及应用Keynote09:25-09:45周天丰(北京理工大学)——多尺度光学透镜玻璃模压成形技术09:45-10:05蔡晓江(上海航天控制技术研究所精密与超精密加工技术中心)——面向高性能光电载荷的微结构超精密加工技术10:05-10:25程健(哈尔滨工业大学)——大口径强激光元件表面缺陷精密微修复技术与装备10:25-10:35茶歇 Coffee BreakSession 4光学系统装调,系统集成与评价技术II主持人:沈正祥(同济大学)10:35-10:55魏来(中物院激光聚变研究中心)——题目待定10:55-11:15岳丽清(北京空间机电研究所)——空间机械臂可见光测量相机坐标系高精度引出技术11:15-11:25YSAOM2022-09-007, HUO Tengfei(Beijing Institute of Space Mechanics and Electricity)——Phase-retrieval wave-front sensing for large aperture optical system(Oral)11:25-11:35YSAOM2022-09-008, Li Bin(Beijing Institute of Space Mechanics and Electricity)——Overview of vertical adjustment technology of large aperture remote sensing camera(Oral)11:35-11:45YSAOM2022-09-010, Yao Liqiang(Beijing Institute of Space Mechanics and Electricity)——Research on a Vertical Large Aperture Plane Mirror Device(Oral)11:45-11:55YSAOM2022-09-011, CHEN Xi(Beijing Institute of Space Mechanics and Electricity)——High precision focal length measurement technology based on vertically mounted camera(Oral)11:55-12:05YSAOM2022-09-012, Liu Junhang(Beijing Institute of Space Mechanics and Electricity)——Accurate positioning technology of primary mirror bonding block based on BOPID structure support(Oral)12:00-13:30午 餐13:00-13:30海报交流7月31日下午 31st July PMSession 5高性能光学制造技术及装备III主持人:朱吴乐(浙江大学)、田业冰(山东理工大学)时间 Time报告题目 Speech13:30-13:50王锋(中物院应用电子学研究所)——小型光学应用系统研发对光机制造的需求13:50-14:10张建国(华中科技大学)——超声椭圆振动切削系统的设计与应用14:10-14:30张鑫泉(上海交通大学)——5+轴超精密切削加工技术14:30-14:50陈远流(浙江大学)——超精密切削加工在线检测关键技术14:50-15:10赵瑞(南京邮电大学)——电润湿相位调制器15:10-15:30叶敏恒(中物院机械制造工艺研究所)——高效率、高稳定性磁流变抛光液研究进展15:30-15:50黎克楠(郑州磨料磨具磨削研究所有限公司)——光纤阵列精密磨削加工关键技术研究15:50-16:00茶歇 Coffee BreakSession 6光学系统装调,系统集成与评价技术III主持人:吴雪峰(哈尔滨理工大学)16:00-16:20董志超(中科院理化技术研究所)——高精度柱面镜的加工和检测16:20-16:40李星辉(清华大学深圳国际研究生院)——面向合成孔径光学系统的多自由度位姿测量16:40-17:00王东杰(北京空间机电研究所)——基于近景摄影测量技术的航天遥感器复合材料形变测量分会场6:专题2:超精密光学加工技术及装备& 专题11:激光与光电子器件及应用地点:二楼清华厅7月30日下午 30th July PMSession 1超精密光学加工技术及装备-I主持人:孔令豹(复旦大学)、王素娟(广东工业大学)时间 Time报告题目 Speech13:30-13:55Mustafizur Rahman(National University of Singapore)——Recent Advances in Ultra-Precision Machining for Functional Optics Keynote13:55-14:15田业冰(山东理工大学)——难加工材料磁性剪切增稠抛光技术研究14:15-14:35陈杉杉(西安交通大学)——基于相移调制的高精度微结构阵列超精密磨削加工技术14:35-14:55Jeffrey Roblee(AMETEK Precitech)——A newly developed machining strategy of offset diamond turning lenslet arrays in XZCW mode with a FTS 500014:55-15:05YSAOM2022-02-003, ZHU Jianhui(Zhengzhou Research Institute for Abrasive & Grinding Co., Ltd.)——Simulation and Experimental Study on Lapping Uniformity of MPCVD Polycrystalline Diamond Film(Oral)15:05-15:15茶歇 Coffee BreakSession 2:Ultrafast lasers: technology and applications主持人:王天枢(长春理工大学)15:15-15:40林学春(中科院半导体研究所)——高功率脉冲激光器及激光清洗应用 Keynote15:40-16:00韦小明(华南理工大学)——高功率GHz重频飞秒光纤激光及应用16:00-16:20陈宇徽(深圳大学)——超灵敏和超快速湿度传感器16:20-16:40周桂耀(华南师范大学)——铒/镱共掺多芯微结构光纤放大器16:40-17:00郭晓杨(深圳技术大学)——高重频超强超短激光技术研17:00-17:20何飞(武汉安扬激光技术有限责任公司)——30瓦飞秒紫外光纤激光器及其应用17:20-17:30YSAOM2022-11-001, Yinlei Hao(Zhejiang University)——Optical Waveguide Manufactured in Photo-Thermo-Refractive Glass Substrate by Ion Exchange(Oral)7月31日上午 31st July AMSession 3超精密光学加工技术及装备-II主持人:彭云峰(厦门大学)、魏朝阳(中科院上海光学精密机械研究所)时间 Time报告题目 Speech09:00-09:25陈云(广东工业大学)——紫外激光诱导石墨烯及其在柔性器件中的应用Keynote09:25-09:45吕冰海(浙江工业大学)——Shear thickening polishing method09:45-10:05王施相(复旦大学)——基于点激光传感系统的辅助基准原位测量光学超精密曲面10:05-10:25杨高(深圳大学)——光学玻璃微结构热压印技术10:25-10:35YSAOM2022-02-012, Yang Yang(Harbin Institute of Technology, Shenzhen)——Development of the cooperative vibration texturing for one-step machining freeform optical surfaces(Oral)10:35-10:45茶歇 Coffee BreakSession 4 Fiber technology and lasers主持人:胡贵军(吉林大学)10:45-11:10常国庆(中科院物理研究所)——超快光纤激光中的非线性放大技术Keynote11:10-11:30徐飞(南京大学)——光纤端面集成技术与器件11:30-11:50闫培光(深圳大学)——面向6G技术的太赫兹探测器11:50-12:10林迪(广东工业大学)——高功率、大能量飞秒涡旋脉冲光纤锁模激光器与放大器研究进展12:00-13:30午 餐13:00-13:30海报交流7月31日下午 31st July PMSession 5 Lasers technology and their applications主持人:郭春雨(深圳大学)时间 Time报告题目 Speech13:30-13:50郭丽(大族激光科技产业集团股份有限公司)——高功率超快激光器产业化13:50-14:10邵国栋(武汉华日精密激光股份有限公司)——国产高功率飞秒光纤激光器的发展和应用14:10-14:30赵磊(四川中久大光科技有限公司)——全域控制高亮度光纤激光光源的关键技术及应用潜力14:30-14:50林怀钦(深圳市创鑫激光股份有限公司)——创鑫激光光纤激光器及其应用(新能源)14:50-15:10陈超(中科院长春光学精密机械与物理研究所)——高线偏振、窄线宽半导体激光器15:10-15:30贾志旭(吉林大学)——基于氟碲酸盐玻璃光纤的中红外波段超连续光源投稿须知:(1)支持期刊:PhotoniX(SCI)、Optical Engineering(SCI)、Journal of Micro/Nanolithography、MEMS、and MOEMS(SCI)、Photonic Sensors (SCI)、Opto-Electronic Advances(OEA)(SCI)、《信息与电子工程前沿(英文)》(FITEE)(SCI)、International Journal of Extreme Manufacturing(ESCI、Ei)、《红外与激光工程》(Ei)、《中国光学》(ESCI、Ei)、《光子学报》(ESCI、Ei)、《光学精密工程》(Ei)、SPIE Proceedings(Ei)、《光电工程》etc.(2)SPIE文集,EI核心收录投稿请登陆投稿网站先提交英文摘要(不少于500字),组委会请学术委员会审查后发邮件通知作者录用情况。按照论文质量推荐发表在不同期刊和大会文集上,录用通知根据提交摘要的前后顺序发放。(3)不发表文章,只做会议交流会议支持凭摘要参会。摘要投稿链接:https://b2b.csoe.org.cn/submission/YSAOM2022.html摘要截稿时间:2022年7月15日(最终轮)报名须知:(1)报名方式无论有无投稿,均欢迎注册参会!参会者请务必到以下网址进行会议注册:https://b2b.csoe.org.cn/registration/YSAOM2022.html会议费:2650元/人,2022年7月15日前缴费优惠为2450元/人。学生优惠为1450元(不含在职学生)。会议费包括资料袋、报告文集、会议指南文件、会议杂支、税等,不含论文版面费和住宿费。论文版面费2500元,相同第一作者不超过两篇。(2)付款方式:1.在线支付:注册完成后,可跳转到在线支付页面,选择“支付宝”在线完成支付。2.汇款转账:开户银行:工行北京科技园支行户名:中国光学工程学会账号:0200296409200177730 汇款时作者请务必注明“姓名+稿件编号”,非作者请注明“YS+姓名”,以便核对。会议将提供正规会议费发票。会议酒店:长春国际会展中心大饭店(吉林省长春市经济技术开发区会展大街100号)酒店预订方式:陈经理(18166846117)可享受会议价标间(双早):308元/天和288元/天展览展示范围:• 精密光学制造• 光学材料(玻璃、光纤、陶瓷、晶体等)• 光学辅料(抛光液、抛光胶、抛光皮、磨头、砂轮等)• 光学元件(平面、球面-非球面、自由曲面、棱镜、柱面镜、微透镜、注塑和模压元件等)• 光学精密加工检测设备(快速抛光机、铣磨机、古典抛光机、数控抛光机、机器人抛光、精密车床、半导体晶圆加工设备;三坐标、轮廓仪、干涉检测仪、球径仪、疵病仪、应力仪等)• 极端制造技术(微纳加工、超表面-超结构、特种加工等)• 其他• 光学元器件• 光源 (激光器、LED等)• 镀膜材料(膜料、镀膜辅料等)• 光学镀膜元件(反射元件、窗口、偏振片、滤光片、衰减片等)• 光栅(镀膜、曝光、刻蚀、机械刻划等)• CCD、CMOS、光学芯片等• 其他• 光学整机、镜头及光学模组• 精密镜头(手机、车载、红外夜视等)• 望远镜、显微镜、光学分析仪器等• 光学平台、调整架、电动位移台等• 精密装配技术• 光学设计、光机电一体化• 其他• 光学仪器设备• 光学检测设备(分光光度计、光谱仪、台阶仪、测厚仪)• 镀膜机(电子束、离子束、溅射等)• 材料力学性能试验设备• 无损检测仪器、分析测试仪器、计量仪器及设备• 软件、实验室信息管理系统等• 环境监测仪器• 仪器配件及零部件• 配套企业的技术及产品• 其他同期活动:• 2022年难加工材料元件的超精密金刚石加工技术及光学自由曲面设计与检测短课程培训https://b2b.csoe.org.cn/meeting/YSAOM2022SC.html大会秘书处:负责人:王海明(中国光学工程学会)wanghaiming@csoe.org.cn,022-59013420会议咨询(报名/投稿):王海明(中国光学工程学会)wanghaiming@csoe.org.cn,022-59013420李迎春(长春工业大学)liyingchun@ccut.edu.cn企业合作:吕子辰(中国光学工程学会)lvzichen@csoe.org.cn,13810226340培训咨询:王海明(中国光学工程学会)wanghaiming@csoe.org.cn,022-59013420刘兴旺(中国光学工程学会)liuxingwang@csoe.org.cn,022- 58168885
  • 基于介质多层薄膜的光谱测量元器件
    近日,南京理工大学理学院陈漪恺博士与中国科学技术大学物理学院光电子科学与技术安徽省重点实验室张斗国教授合作,提出并实现了一种基于介质多层薄膜的光谱测量元器件,可用于各类光信号的光谱表征;其核心部件厚度仅微米量级,可附着在常规显微成像设备或微型棱镜上完成光谱测量,实验光谱分辨率小于0.6nm。研究成果以“Planar Photonic Chips with Tailored Dispersion Relations for High-Efficiency Spectrographic Detection”为题发表在国际学术期刊ACS Photonics。光谱探测技术被广泛应用在科学研究和工业生产,在材料科学、高灵敏传感、药物诊断、遥感监测等领域具有重要应用价值。近年来,微型光谱仪的研究受到了广泛关注,其优点在于尺寸小,结构紧凑,易于集成、便携,成本低。特别是随着纳米光子学的发展,光谱探测所需的色散元件、超精细滤波元件以及光谱调谐级联元件等,都可以利用超小尺寸的微纳结构来实现。如何兼顾器件的小型化、集成化,与光谱测量分辨率、探测效率一直是该领域的重点和难点之一。截至目前,文献报道的集成化微型光谱仪大多利用线性方程求解完成反演测算,信号模式之间的非简并性(不相似性)决定了重建光谱仪的分辨能力。这种基于逆问题求解的光谱反演技术易于受到噪音的干扰,从而降低微型光谱仪的探测分辨率和效率。近期研究工作表明,通过合理设计结构参数,调控介质多层薄膜的色散曲线,同时借助介质多层薄膜负载的布洛赫表面波极低传输损耗特性,可以实现了光源波长与布洛赫表面波激发角度之间的近似一一对应关系,如图1a,1b所示。它意味着无需方程求解,即可以完成光谱的探测与分析,避免了逆问题求解过程中外界环境噪声对反演过程的干扰,节约了时间成本,提升了探测效率。该介质多层薄膜由高、低折射率介质(氮化硅和二氧化硅)薄膜交替叠加组成,可通过常规镀膜工艺(如等离子体增强化学的气相沉积法)在各种透明衬底上大面积、低成本制备,其制作难度与成本远小于基于微纳结构的光谱测量元件。图1:一种基于介质多层薄膜的光谱探测元件,可用于各类光信号的光谱表征;其核心部件厚度仅微米量级,可附着在常规显微成像设备或微型棱镜上完成光谱测量,实验光谱分辨率小于0.6nm。作为应用展示,该光谱探测元器件被放置于微型棱镜或者常规反射式光学显微镜上,当满足布洛赫表面波激发条件时,即可实现光谱探测。如图1c,当激光和宽带光源分别入射到介质多层薄膜上时,采集到的反射信号分别为暗线和暗带,其强度积分及对应着光源的光谱(图1d,1e所示)。钠灯的光谱测量实验结果表明,该测量器件能达到的光谱分辨率小于0.6 nm (图1f所示)。不同于常规光谱仪需要在入射端加载狭缝,该方法无需狭缝对被测光源进行限制,从而充分利用信号光源,有效提升了光谱探测的信噪比和对比度,因此器件可以应用于荧光光谱和拉曼散射光谱等极弱光信号的光谱表征,展现出其在物质成分和含量探测上的能力,如图1g,1h所示。介质多层薄膜的平面属性,使得其可以在同一基底上加载不同结构参数的介质多层薄膜,从而实现宽波段、多功能光谱探测器件。该项工作表明,借助于介质多层薄膜负载布洛赫表面波的高色散、低损耗特性,可以实现低成本、高效率、高分辨率的光谱测量,为集成化微型光谱仪的实现提供了新器件。该项工作也拓展了介质多层薄膜的应用领域,有望为薄膜光子学研究带来新的生长点。陈漪恺博士为该论文第一作者,张斗国教授为通讯作者。上述研究工作得到了科技部,国家自然科学基金委、安徽省科技厅、合肥市科技局、唐仲英基金会等项目经费的支持。相关样品制作工艺得到了中国科学技术大学微纳研究与制造中心的仪器支持与技术支撑。
  • 在线色差仪进行塑料薄膜颜色检测
    塑料薄膜的颜色是产品设计和品牌营销中至关重要的元素。通过选择适当的颜色,塑料薄膜能够吸引消费者的目光,从而增加产品的吸引力和销售潜力。同时,特定的颜色也可以建立品牌的识别度和差异化,使消费者能够迅速辨认出属于特定品牌的产品。颜色不仅传达产品的特性和价值,还能够激发消费者的情感共鸣,与他们建立情感连接。因此,塑料薄膜的颜色选择应该经过精心考虑,以确保与产品定位、目标受众和品牌形象相契合,从而实现市场竞争的优势和品牌的成功。本文将介绍ERX130在线色差仪在塑料薄膜的色彩颜色解决方案。ERX130在线色差仪用于测量和评估塑料薄膜颜色的准确性和一致性。它是一种高精度的仪器,采用先进的光学技术和色度学算法,可提供可靠的颜色测量结果。ERX130在线色差仪具有生产线反射测量、与ESWinQC或CLCC连接、300mm测量距离和90mm测量光斑以及在线反射测量等优点,提供便捷、准确和实时的塑料薄膜颜色测量解决方案。这种仪器专为小型结构化图案样品的反射测量而设计。它的目标是帮助操作人员及时预警色彩问题,以避免生产过程中可能导致昂贵的浪费、返工和推迟上市等问题。当与ESWinCLCC软件配套使用时,ERX130在线色差仪将成为自动化在线质量控制系统的关键组成部分,实现自动调整色彩,从而满足各种工业应用的要求。另外,ERX130非接触式在线色差仪可用于避免生产线出现错误。它可以在整个生产过程中进行反射测量,确保及时发现并纠正色差问题,无需停止生产。配合ESWinQC软件使用,该仪器能够为操作人员提供实用的指导,使其能够立即采取措施来纠正问题。该仪器操作简单,支持与特定标准或绝对测量值进行比较,能够在人眼察觉色差之前识别出问题,并及时进行调整,从而避免批次损失而且凭借同轴光学测量结构、远距离测量和大测量光斑特点,ERX130在线色差仪非常适合监测各种带纹理、精细图案和反光工业材料,包括乙烯基、纺织品、颜料、油漆、石膏、薄膜以及粉末和沙子等散装货物。ERX130在线色差仪作为高精度的工具,为塑料薄膜颜色的准确性提供了可靠的解决方案。它的使用能够提高生产效率、降低成本,并确保产品的色彩一致性和质量稳定性。作为色彩管理的可靠伙伴,ERX130在线色差仪为企业实现市场竞争优势和品牌成功提供了有力支持。“爱色丽彩通”是丹纳赫公司旗下的品牌,总部位于美国密歇根州,成立于1958年。作为全球领先的色彩趋势、科学和技术公司,爱色丽彩通提供服务和解决方案,帮助品牌、制造商和供应商管理从设计到最终产品的色彩。
  • ?国内首个薄膜材料检测实验室挂牌光谷
    本报讯(记者王大千)武汉在攻克纳米级薄膜材料检测的世界难题上再出硕果——“功能薄膜材料物理性能检测技术湖北省工程实验室”在武汉未来科技城挂牌成立,该实验室由武汉嘉仪通科技有限公司与华中科技大学共同筹建。随着新材料的发展与应用,纳米级薄膜材料在许多领域中被广泛使用,国际上却没有可直接检测薄膜热特性的设备。“1纳米仅为1根头发丝直径的六万分之一,如何检测薄膜的热特性成为国际难题。”嘉仪通公司总经理王愿兵表示,过去需要先把薄膜沉积得很厚,再把待测薄膜材料刮下来,形成一定质量的粉末后,才能进行破坏性检测。经多年技术攻坚,华中科技大学“长江学者”缪向水教授团队,率队研发出我国首台光功率热分析仪,检测薄膜厚度可至5纳米。据介绍,光功率热分析仪是将激光照射到纳米薄膜材料表面上,通过反射光功率检测薄膜的相变温度点和热膨胀系数。这项科技成果在嘉仪通成功转化,并走向产业化。作为国内首家功能薄膜材料物理性能检测技术研究基地,本次组建省级工程实验室后,将下设薄膜材料热分析、薄膜材料样品制备与加工、薄膜材料电磁分析、薄膜材料力学分析、薄膜材料光学分析5个垂直研究实验室。“薄膜材料是对全球科技进步的颠覆性技术,随着薄膜技术越做越薄,需要颠覆性的测试设备。”清华大学教授、国家重点研发计划专家组组长潘峰告诉长江日报记者,科技部已设立材料基因组重大研发专项,其中一个重要任务就是攻克高通量的表征检测技术,湖北可依托薄膜检测研发的领先优势,作出更大的科学贡献。
  • 重磅 | 国内首家薄膜材料测试服务平台在中国光谷成立
    近日,国内首家薄膜材料测试服务平台——武汉光谷薄膜测试服务有限公司在中国光谷正式批复成立! 该服务平台为嘉仪通科技的全资子公司,依托于功能薄膜材料物理性能检测技术湖北省工程实验室和武汉市工程技术研究中心,将为全国各大专院校、科研院所、材料企业、钢铁、汽车制造、航空航天、军事科研单位、第三方检测机构、出入境海关检测等单位提供专业的材料样品制备和测试服务,以及技术委托开发、培训等其他相关服务!一、样品制备和加工 众所周知,材料样品的制备和加工是一个非常复杂和繁琐的精细活。武汉光谷薄膜测试服务公司为广大客户的薄膜材料性能检测提供制样准备服务,以满足仪器的检测需要。该测试服务平台拥有薄膜制备仪器:磁控溅射镀膜仪、离子束溅射镀膜系统。可以制备各种薄膜:陶瓷氧化物、氮化物膜、金属多层膜,以及各种超晶格;同时,可合成纳米管、纳米粉末,以及量子点。精密切割机、研磨抛光机、光刻机对块体和薄膜样品表面进行微加工处理,满足不同的测样要求。 某薄膜材料的制备工艺流程二、材料物理性能的分析与检测 作为薄膜材料物理性能的领跑者,嘉仪通科技旗下的测试服务平台,不仅可以解决材料制样难的烦恼,而且可以解决没有合适的仪器测试最新研发新材料的烦恼!可测试各类新材料尤其是薄膜材料的相变温度、热膨胀系数、Seebeck系数、电导率、热导率、载流子浓度、迁移率、霍尔系数等一系列重要参数。薄膜热导率的测试实例三、产品试用与购买 除了为广大客户提供块体、薄膜等新材料的制样和分析测试,解决样品制备和实际测试的烦恼,嘉仪通还为广大材料科研机构和个人提供免费产品试用服务,进一步打消对嘉仪通产品性能的疑虑,用实际测试数据来赢得消费者的信赖!嘉仪通产品免费试用政策 此外,嘉仪通还拥有分析和测试材料热学、电学、磁学、光学、电学等方面物理性能重要参数的一系列优质产品。只要您是做材料物理性能分析领域相关研究的,总有一款好的产品适合您!嘉仪通部分序列产品
  • 薄膜沉积工艺和设备简述
    薄膜沉积(Thin Film Deposition)是在基材上沉积一层纳米级的薄膜,再配合蚀刻和抛光等工艺的反复进行,就做出了很多堆叠起来的导电或绝缘层,而且每一层都具有设计好的线路图案。这样半导体元件和线路就被集成为具有复杂结构的芯片了。化学气相沉积(CVD)化学气相沉积(CVD)通过热分解和/或气体化合物的反应在衬底表面形成薄膜。CVD法可以制作的薄膜层材料包括碳化物、氮化物、硼化物、氧化物、硫化物、硒化物、碲化物,以及一些金属化合物、合金等。化学气相沉积是目前很重要的微观制造方法,因为它有如下的这些特点:1. 沉积物种类多: 可以沉积金属薄膜、非金属薄膜,也可以按要求制备多组分合金的薄膜,以及陶瓷或化合物层。2. CVD反应在常压或低真空进行,镀膜的绕射性好,对于形状复杂的表面或工件的深孔、细孔都能均匀镀覆。3. 能得到纯度高、致密性好、残余应力小、结晶良好的薄膜镀层。由于反应气体、反应产物和基材的相互扩散,可以得到附着力好的膜层,这对表面钝化、抗蚀及耐磨等表面增强膜是很重要的。4. 由于薄膜生长的温度比膜材料的熔点低得多,由此可以得到纯度高、结晶完全的膜层,这是有些半导体膜层所必须的。5. 利用调节沉积的参数,可以有效地控制覆层的化学成分、形貌、晶体结构和晶粒度等。6. 设备简单、操作维修方便。7. 反应温度太高,一般要850~ 1100℃下进行,许多基体材料都耐受不住CVD的高温。采用等离子或激光辅助技术可以降低沉积温度。化学气相沉积过程分为三个重要阶段:1、反应气体向基体表面扩散2、反应气体吸附于基体表面3、在基体表面发生化学反应形成固态沉积物及产生的气相副产物脱离基体表面CVD的主要有下面几种反应过程:i). 多晶硅 PolysiliconSiH4 — Si + 2h2 (600℃)沉积速度 100 - 200 nm /min可添加磷(磷化氢)、硼(二硼烷)或砷气体。多晶硅也可以在沉积后用扩散气体掺杂。ii). 二氧化硅 DioxideSiH4 + O2→SiO2 + 2h2 (300 - 500℃)SiO2用作绝缘体或钝化层。通常添加磷是为了获得更好的电子流动性能。当硅在氧气中存在时,SiO2会热生长。氧气来自氧气或水蒸气。环境温度要求为900 ~ 1200℃。氧气和水都会通过现有的SiO2扩散,并与Si结合形成额外的SiO2。水(蒸汽)比氧气更容易扩散,因此使用蒸汽的生长速度要快得多。氧化物用于提供绝缘和钝化层,形成晶体管栅极。干氧用于形成栅极和薄氧化层。蒸汽被用来形成厚厚的氧化层。绝缘氧化层通常在1500nm左右,栅极层通常在200nm到500nm间。iii). 氮化硅 Siicon Nitride3SiH4 + 4NH3 — Si3N4 + 12H2(硅烷) (氨) (氮化物)化学气相沉积CVD 设备CVD反应器有三种基本类型:◈ 大气化学气相沉积(APCVD: Atmospheric pressure CVD)◈ 低压CVD (LPCVD:Low pressure CVD,LPCVD)◈ 超高真空化学气相沉积(UHVCVD: Ultrahigh vacuum CVD)◈ 激光化学气相沉积(LCVD: Laser CVD,)◈ 金属有机物化学气相沉积(MOCVD:Metal-organic CVD)◈ 等离子增强CVD (PECVD)物理气相沉积(PVD)在真空条件下,采用物理方法,将材料源(固体或液体) 表面材料气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积不仅可沉积金属膜、合金膜, 还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤:(1)镀料的气化:即使镀料蒸发,升华或被溅射,也就是通过镀料的气化源。(2)镀料原子、分子或离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后,产生多种反应。(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。物理气相沉积技术工艺过程无污染,耗材少。成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层 。物理气相沉积也有多种工艺方法:◈ 真空蒸度 Thin Film Vacuum Coating◈ 溅射镀膜 PVD-Sputtering◈ 离子镀膜 Ion-Coating
  • 岛津积极参与福建省光电薄膜科技茶会
    近日,由福州大学和福建省发改委6.18组委会办公室主办、福建省平板显示技术工程实验室和6.18项目成果交易服务中心承办、岛津国际贸易(上海)有限公司赞助的福建省光电薄膜科技茶会于福州大学召开。参会来宾有福建省发改委和福州大学的领导、福建省光电薄膜行业的相关专家和上下游企业领导。岛津公司积极参与了本次科技茶会。茶会会场情景 大会由福州大学的郭守良教授主持,福州大学的领导首先致欢迎词、福州大学郭守良教授介绍了福建省平板显示技术工程实验室功能及技术成果;福州大学于光龙博士介绍了光电薄膜技术;福州大学李福山博士介绍了有机光电薄膜技术及其应用。 岛津国际贸易(上海)有限公司上海分析中心王娟娟介绍了题为《岛津紫外可见近红外分光光度计在光学镀膜、半导体等行业的应用》,介绍了岛津UV3600和SoldSpec-3700特点以及在光学镀膜、半导体等行业的应用实例。近年来,随着光学材料的发展,对近红外波段的反射和透过的测量也越来越重视。岛津UV-3600是具有世界领先水平的高性能的紫外可见近红外分光光度计,具备高灵敏度的世界上独一无二的三检测器系统,保证了整个测量范围的高灵敏度,并采用高性能的双单色器实现了超高的分辨率和超低的杂散光。测量范围覆盖紫外、可见和近红外区域,满足多种领域的测量要求。岛津的紫外可见分光光度计产品线非常丰富,从最普通的单光束分光光度计到测量范围可以扩展到深紫外、近红外区域的UV-VIS-NIR分光光度计。岛津高端产品SolidSpec-3700/3700DUV采用了PMT/InGaAs/PbS三个检测器,新加入的InGaAs实现了近红外区的超高灵敏度;并重新设计光路,设计了超大的样品室,实现了大样品的无损测试,同时在主机标准配置了积分球装置;通过使用最新设计的检测器,光源,以及积分球,使得SolidSpec-3700DUV的测试范围可以扩展到165nm。岛津紫外产品的先进性和其独特的应用引起与会者的高度关注。岛津公司上海分析中心王娟娟介绍岛津紫外可见近红外分光光度计在光学镀膜、半导体等行业的应用 会议最后,福建省发改委项目成果推进处的聂秉丰对大会做了总结发言。会后,会代表参观了福州大学的福建省平板显示技术工程实验室,并在参观过程中进行了热烈的讨论。与会者参观福州大学的福建省平板显示技术工程实验室 关于岛津 岛津国际贸易(上海)有限公司是(株)岛津制作所为扩大中国事业的规模,于1999年100%出资,在中国设立的现地法人公司。 目前,岛津国际贸易(上海)有限公司在中国全境拥有12个分公司,事业规模正在不断扩大。其下设有北京、上海、广州分析中心;覆盖全国30个省的销售代理商网络;60多个技术服务站,构筑起为广大用户提供良好服务的完整体系。 岛津作为全球化的生产基地,已构筑起了不仅面向中国客户,同时也面向全世界的产品生产、供应体系,并力图构建起一个符合中国市场要求的产品生产体制。 以&ldquo 为了人类和地球的健康&rdquo 为目标,岛津人将始终致力于为用户提供更加先进的产品和更加满意的服务。 更多信息请关注岛津公司网站www.shimadzu.com.cn。
  • 2013年全国光学大会长沙召开
    8月17日,2013年全国光学大会在国防科技大学召开。来自全国高等院校、科研院所、企事业单位从事光学及光学工程领域教学、科研、生产等方面的专家学者,围绕光学薄膜技术新进展、瞬态光子学、全息与光学信息处理等19个专题进行探讨交流。中国科学院院士、中国光学学会理事长周炳琨,副省长李友志,国防科大副校长庄钊文,中国科协副主席、湖南省科协主席、中国工程院院士黄伯云等十余名中国科学院、中国工程院院士出席开幕式。  据了解,此次会议设立了19个专题分会场,其中第19个专题为中国光学学会和美国光学学会共同举办的光学教育课程专题,这也是全国光学大会首次设置国际合作专题分会场。大会期间,主办方还同期举行了中国光学工程学科发展史工作会议、中国光学名词审定工作会议等学术会议。与会人员围绕光学材料研究进展与应用、光学计量与测试技术等进行了交流,探讨光学科技发展的前沿动态。对促进光学与光学工程领域科技创新和成果转化具有重要意义。开幕式上还举行了&ldquo 王大珩光学奖&rdquo 颁奖仪式,中国科技大学教授李传锋和中国科学院西安光学精密机械研究所研究员刘雪明获得中青年科技人员光学奖。
  • 高性能碳纳米管透明导电薄膜研究取得进展
    p style="text-indent: 2em "透明导电薄膜是触控屏、平板显示器、光伏电池、有机发光二极管等电子和光电子器件的重要组成部件。氧化铟锡(ITO)是当前应用最为广泛的透明导电薄膜材料,但ITO不具有柔性且铟资源稀缺,难以满足柔性电子器件等的发展需求。单壁碳纳米管(SWCNT)相互搭接形成的二维网络结构具有柔韧、透明、导电等特点,是构建柔性透明导电薄膜的理想材料。但已报道SWCNT薄膜的透明导电性能仍与ITO材料有较大差距。/pp style="text-indent: 2em "因此,进一步提高SWCNT薄膜的透明导电特性是实现其器件应用的关键。分析表明,SWCNT透明导电薄膜中的管间接触电阻和管束聚集效应是制约其性能提高的主要瓶颈。一方面,由于SWCNT之间的接触面积小且存在肖特基势垒,载流子在搭接处的隧穿效应较弱,使得管间接触电阻远高于SWCNT的自身电阻;另一方面,虽然SWCNT的直径一般仅为1-2nm,但由于范德华力的作用其通常聚集成直径几十、上百纳米的管束以降低表面能;管束内部的SWCNT会吸光而降低薄膜的透光率,但对薄膜的电导几乎没有贡献。因此,研制高性能SWCNT柔性透明导电薄膜的关键是获得单根分散、低接触电阻的SWCNT网络结构。/pp style="text-indent: 2em "最近,中国科学院金属研究所与上海科技大学物质学院联合培养的博士研究生蒋松在金属所先进炭材料研究部的导师指导下与合作者采用浮动催化剂化学气相沉积法制备出具有“碳焊”结构、单根分散的SWCNT透明导电薄膜(图1A)。 /pp style="text-indent: 2em text-align: center "span style="text-align: center text-indent: 0em "img src="http://img1.17img.cn/17img/images/201805/insimg/d1a3d102-e0c5-4683-b29e-cc493258961c.jpg" title="1 高性能碳纳米管透明导电薄膜研究取得进展 仪器信息网.jpg"/ /span/pp style="text-align: center text-indent: 2em "span style="color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px "图1. 单根分散、具有碳焊结构的SWCNT网络。/span/pp style="text-indent: 2em text-align: center "span style="color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px "(A)典型TEM照片;(B)单根SWCNT的百分含量统计;/span/pp style="text-indent: 2em text-align: center "span style="color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px "(C-D)无碳焊结构的金属性-半导体性SWCNT的I-V传输特性;/span/pp style="text-indent: 2em text-align: center "span style="color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px "(E-F)有碳焊结构的金属性-半导体性SWCNT的I-V传输特性。/span/pp style="text-indent: 2em "通过控制SWCNT的形核浓度,所得薄膜中约85%的碳管以单根形式存在(图1B),其余主要为由2-3根SWCNT构成的小管束。进而,通过调控反应区内的碳源浓度,在SWCNT网络的交叉节点处形成了“碳焊”结构(图1A)。/pp style="text-indent: 2em "研究表明该碳焊结构可使金属性-半导体性SWCNT间的肖特基接触转变为近欧姆接触(图1C-F),从而显著降低管间接触电阻。由于具有以上独特的结构特征,所得SWCNT薄膜在90%透光率下的方块电阻仅为41Ω □-1;经硝酸掺杂处理后,其方块电阻进一步降低至25Ω □-1,比已报道碳纳米管透明导电薄膜的性能提高2倍以上,并优于柔性基底上的ITO(图2A-B)。利用这种高性能SWCNT透明导电薄膜构建了柔性有机发光二极管(OLED)原型器件,其电流效率达到已报道SWCNT OLED器件最高值的7.5 倍(图2C-D),并具有优异的柔性和稳定性。/pp style="text-align: center text-indent: 2em "img src="http://img1.17img.cn/17img/images/201805/insimg/31a1c88d-964d-4fda-af47-d5b192bb42f2.jpg" title="2高性能碳纳米管透明导电薄膜研究取得进展 仪器信息网.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 2em "span style="font-size: 14px color: rgb(127, 127, 127) "图2. SWCNT 柔性透明导电薄膜和SWNCT 有机发光二极管。/span/pp style="text-indent: 2em "span style="font-size: 14px color: rgb(127, 127, 127) "(A-B)SWCNT 柔性透明导电薄膜的光学照片及其透明导电性能对比;(C-D)SWCNT 有机发光二极管原型器件的光学照片及其光电性能对比。/span/pp style="text-indent: 2em "该研究从SWCNT网络结构的设计与调控出发,有效解决了限制其透明导电性能提高的关键问题,获得了具有优异柔性和透明导电特性的SWCNT薄膜,可望推动SWCNT在柔性电子及光电子器件中的实际应用。主要研究结果于5月4日在Science Advances在线发表(Sci. Adv. 4, eaap9264 (2018),DOI: 10.1126/sciadv.aap9264)。该研究工作得到了科技部、基金委、中科院等部署的相关项目的支持。/p
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