光学薄膜

教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等，也可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术，膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱，也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析，结合多次反射原理，给出膜层的厚度和光学常数（n，k)，到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 100nm-30微米；波长范围: 300-1000nm 探测器：650像素Si CCD阵列，12bit A/D精度：1%斑点大小：0.5mm 光源：钨灯-汞灯（360-2000nm)所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：320x360x180mm 重量：9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

目标应用： 半导体薄膜（光刻胶） 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜（光刻胶） ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*（H90+H140）测试支架（配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘）测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm（标配，可以根据用户要求配置）样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标（THICKNESS SPECIFICATION）：产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1（厚度要求）N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量，实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅（500纳米）测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.

手持式薄膜测厚仪配件是全球首款便携式光学薄膜厚度测量仪,可测量透明或半透明单层薄膜或膜系的薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率，薄膜反射率，荧光等。手持式薄膜测厚仪可测量膜层的厚度,光学常量（折射率n和k)，薄膜厚度测量范围为350-1000nm，不需要电线连接，也不需要实验室安装空间，它从USB连接中获取工作电源，这种独特设计方便客户移动测量，只需USB线缆从计算机控制测量即可，采用全球领先的3648像素和16bit的光谱仪，具有超高稳定性的LED和荧光灯混合光源，光源寿命高达20000小时，手持式薄膜测厚仪配件特色USB接口供电，不需要额外的线缆供电超级便携方便现场使用超低价格手持式薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 15nm-90微米；波长范围: 360-1050nm 探测器：3648像素Si CCD阵列，16bit A/D精度：1nm 斑点大小：0.5mm 光源：LED混合光源（ 360-1050nm )所测样品大小：10-150mm, 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：300x110x500mm 重量：600克手持式薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量，用于化学和生物薄膜测量，传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量

聚合物薄膜测厚仪配件用于测量聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜和 光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意研发了专业的软件和算法，使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标：例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (Tg)，热分解温度，薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。聚合物薄膜测厚仪配件在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据，能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据，并且能够控制薄膜加热和制冷的速度，是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究，例如：薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究，薄膜光学性质随温度的变化，薄膜预烘烤Post Apply Bake，光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。对于薄膜的厚度测量，这款聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪要求薄膜衬底是透明的，背面是不反射的。它能够处理最高4层薄膜的膜堆layer stacks，给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。这套聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能，光刻薄膜的热处理影响分析，Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。聚合物薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5%分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：13.5kg 电力要求：110/230VAC聚合物薄膜测厚仪配件应用聚合物薄膜测量光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 半导体薄膜厚度测量在线测量光学镀膜测量聚合物薄膜厚度测量polymer films测量测量有机薄膜厚度测量光致抗蚀剂薄膜测光刻胶膜测厚测量光刻薄膜厚度测量光阻薄膜测厚测量光阻膜厚度

显微薄膜测量仪配件是一款超级紧凑而功能多样的薄膜测试仪系统，可以结合显微镜测量薄膜的吸收率，透过率，反射率以及测量点的荧光。薄膜测试仪通过反射率的测量，测量点处的薄膜厚度，薄膜光学常量（n &k)以及thick film stacks都能在瞬间测量出来。整套显微薄膜测量仪的组成是：光栅光谱仪（200-1100nm)+显微镜目镜 适配器+软件+显微镜（可选）。其中目镜适配器包含镜头，可增加光的收集。标准的40X物镜可做到测量点直径约200微米。更高倍数的物镜的测量点更小。整套薄膜测量仪和薄膜测试仪到货即可使用，仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可，操作非常方便。 安装到显微镜上的薄膜测量仪照片 薄膜测试仪SiO2薄膜测量结果（20X物镜）薄膜厚度测试仪配件软件 这款薄膜测试仪配备专业的仪器控制，光谱测量和薄膜测量功能的软件，具有广阔的应用范围。该薄膜厚度测试仪软件能够实时采集吸收率，透过率，反射率和荧光光谱，并且能够能够快速计算出结果。对于吸收率/透过率模式的配置，所有的典型参数如 A, T可快速计算出来。其他的非标准参数，如signal integration也能测量出来。对于反射率测量，该薄膜厚度测试仪软件能够精确测量膜层小于10层薄膜厚度（《10nm到100微米）， 光学常量（n & k)。 薄膜厚度测试仪配件参数 可测膜厚： 10nm-150微米； 波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 光源：使用显微镜光源 光斑大小：由显微镜物镜决定 计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口； 尺寸：120x120x120mm 重量：1.2kg 薄膜厚度测试仪配件应用 测量薄膜吸收率,透过率 测量化学薄膜和生物薄膜测量 光电子薄膜结构测量 半导体制造 聚合物测量 在线测量 光学镀膜测量

薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化，是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品，使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部，距离玻璃窗口非常接近，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据。另外，根据需要，我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer，提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具，以固定小尺寸的硅样品或3' ' ，4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同，如溶解速度的不同，它能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程，而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量，薄膜溶解测厚仪需要光滑，具有反射性的衬底，对于光学常数测量，平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的，衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量，已经成功应用于测量反射衬底（Si晶圆）上各种光滑，透明或轻度吸收薄膜的溶解过程，可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜，聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：15kg 电力要求：110/230VAC薄膜溶解测量仪应用：聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量 能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。

薄膜偏振片英文名Thin film polarizer，薄膜偏振片是一种介质镀膜偏振片把s光和p光分开，适合高功率激光或高能量激光应用，适合内腔和外腔应用。布儒斯特型薄膜偏振片又叫Thin film polarizer,布儒斯特角偏振片，是一种适合高能激光应用的偏振片，损伤阈值高达10J/cm2 @1064nm 8ns. 薄膜偏振片常常作为格兰泰勒棱镜和偏振立方分束器（偏振立方体）的替代用品使用。常用的基质材料是BK7和紫外熔炉石英。56度入射角（布儒斯特角）情况下的 偏振比值Tp/Ts=200：1.特点：1）薄膜偏振片,Thin film polarizer有效地分开s光和p光 2）薄膜偏振片,Thin film polarizer配备有库存，可以立刻发货。薄膜偏振片标准参数 材料：BK7, UVFS直径公差：+0.0/-0.12mm厚度公差：+/-0.2mm净孔径：90%表面质量： 20-10 scratch&dig表面平整度：Lambda/10 @633nm平行度：30arec sec 消光比Tp/Ts：200:1典型透过率： Tp90%典型反射率：Ts99.5%激光损伤阈值： 5J/cm2 10ns 1064nm现有产品：266nm,343nm, 355nm, 400nm, 515nm, 532nm,780nm, 780-820nm, 795-805nm,940nm980nm, 1020-1040nm, 1064nm, 1550nm偏振片中国领先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪！

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29 氧化硅薄膜窗氧化硅薄膜窗RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列产品。与氮化硅相比，氧化硅更易遭受化学侵蚀，且坚固性更差。但在X-射线显微镜中，由于没有N原子存在而倍受青睐。 氧化硅与氮化硅薄膜窗比较：相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 RISUN氧化硅薄膜窗特点许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小，此项研究人员也同样会发现SPI氧化硅薄膜窗格的价值。 SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 X射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 RISUN氧化硅薄膜窗规格 薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸型号50nm1.5X1.5mm5.0X5.0mmRISUN100nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm200nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm硅片厚度：200um、381um、525um； 定制系列RISUN也可以根据用户需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。本产品为一次性产品，不建议用户重复使用；本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 应用简介实际上，RISUN氧化硅薄膜应用范围非常广，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：1. 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。2. 作为耐用（如“强力”）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。3. 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。4. 聚焦离子束（FIB）样本的装载。5．用作Ti、V、Mo等滤光器基质；用于X-射线光学设备中，如分光器定制服务：本公司接受特殊规格的产品预订，价格从优。详情请咨询：admin@instsun.com

XRF样品膜、XRF测试薄膜、、EDX样品膜、EDX薄膜样品薄膜、X-RAY样品膜、ROHS测试膜、X-ray样品膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品膜、迈拉膜、麦拉膜、Mylar膜XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜样品薄膜XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品膜、EDX薄膜样品薄膜美同达提供chemplex各种样品薄膜和样品杯，如有需要，请。 Chemplex样品杯是使用方便简捷，无污染的测试用样品杯，广泛应用于牛津、斯派克、岛津、热电、帕纳科、日本理学等各种品牌的XRF光谱仪。 产品详情： 1、1000系列：样本杯与SPECTROSULFUR分析仪杯，TRIMLESS套筒能套住薄膜样本支撑窗并清除过量剪屑。 适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix，Panalytical Venus 与Rigaku（日本理学株式会社）仪器。 产品编号：10601双开端、1065单开端、1070双开端、1075单开端、1080双开端、1083单开端、1085单开端、1095双开端带通风盖与球形柄。 2、1300系列：可重复密封的可通风式XRF样本杯，集成外部溢流储液槽，并可选择使用集成的薄膜样本支撑窗修剪器。 适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号：1330双开端、1330-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1340双开端。 3、1400系列：单开端可通风XRF样本杯。 适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号：1430单开口端ThermoPlastic?密封排气、1430-SE、1440单开口端密封排气、1440L*特长单开口端。 4、1500系列：双开口端XRF样本杯。 适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix等仪器。 产品编号：1530双开口端、1530-SE直接固定环带有集成的薄膜修整器、1540双开口端。 5、1600系列：狭缝通风样本杯盖，适用于1500系列XRF样本杯。 样品编号：1630样本杯盖、1640样本杯盖。 6、1700系列：集成的咬合式通风XRF样本杯。 适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号：1730咬合式通风、1730-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1740Snap-Post通风。 7、1800系列：单开口端XRF样本杯，集成的外部溢流储液槽，通风装置；与可选用的集成薄膜样本支撑窗修整器。 适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号：1830ThermoPlastic?密封通风、1830-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1840ThermoPlastic?密封通风。 8、1850系列：单开口端SPECTROSULFUR?分析仪样本杯，Thermoplastic Seal?通风 ，集成外部溢流储液槽和排泄装置，适用于X射线光学系统“SINDIE?”仪器与其它硫分析仪。 9、1900系列：双开口端XRF样本杯，顶部样本注入与可选用的集成薄膜样本支撑窗修剪器。 适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器；适应于Oxford Lab-X仪器。 产品编号：19301双开口端、1930-SE1直接固定拥有集成的薄膜修整器、19401双开口端、1940L2双开口端。 10、1935-OX系列：双开口端XRF样本杯与通风盖，适用于牛津分析仪。用作替换的腔室和盖子，适用于牛津CK-100，耗材元件，零件编号54-CK-100。 11、2100系列：双开口端TRIMLESS?套筒XRF样本杯、内部溢流储液槽，通风的直接固定盖，TRIMLESS?套筒薄膜样本支撑窗附着。 产品编号：2132 、2135、2140、2143、2144、2145、2146、2195。 12、3100系列：SPECTROMICRO?样本杯，采用“FUNNELSHAPE?”（漏斗形） 样本杯技术。 产品编号：3106、3110、3115、3120。

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性： 该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

玻璃纸保护袋用于Ø 1英寸光学元件2英寸 x 2英寸的保护袋，含带盖以10件装出售这些玻璃纸保护袋可以将Ø 1英寸光学元件装入其中，使光学元件在不使用时不受到环境因素带来的损坏。这些玻璃纸保护袋使用了少量粘合剂进行制作，但其中的化学物质不会对存放在其中的光学元件造成损坏。这些保护袋不会损坏光学元件的表面或其上附着的镀膜。*每套保护袋都含有10个空白不干胶标签，便于光学元件的辨识。右图显示了一个Ø 1英寸光学元件装在一个玻璃纸保护袋中，上面贴有对应的标签。*警告：不能使用这两种保护袋存放薄膜分束器、光栅或激光二极管，否则会损坏这些产品。带标签的BAG10GL中存放了一个Ø 1英寸的光学元件

这是一个量身定做的石墨烯产品。将您的基板发送到我们的实验室（包括您的订购ID和您的电子邮件地址作为参考），我们使用我们创新的方法把单层石墨烯转移在它的上面并发送到您指定的地址。我们已经成功地转移石墨烯到以下物质：设备、太阳能电池、发光二极管、黄金。氧化铝、眼镜和蓝宝石。石墨烯薄膜：增长方法：CVD合成、转移方法：清洁转印方法、质量控制：光学显微镜、拉曼光谱、扫描电镜和透射电镜批签，外观（颜色）：透明，透明度97%,外观：膜。覆盖范围95%、石墨烯层数量1，厚度0.345nm，场效应管电子流动率AI2O3 2,800cm2/VS，对二氧化硅来说流动率为3,500cm2/VS，表面电阻：170 Ohms/sq,尺寸10μm。

TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性：减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75° 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境： 1000°C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm 多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列，8个窗口250X250μm，1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm200μm50nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm50μm8nm单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；Φ3mm200μm 应用简介： 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

由化学蒸气沉淀形成，转移到多碳孔支持膜横向电磁场的网格上，石墨烯悬浮没有底层，比碳孔高2微米。石墨烯薄膜生长方法：CVD合成、转移方法：干净转移，质量控制：光学显微镜、拉曼光谱、扫描电镜和透射电镜批签，大小：3毫米，外观（颜色）：透明，透明度：97%,外观（形状）：薄，覆盖率：95%，石墨烯层数：1，厚度（原理上）：0.345毫微米，场效应管电子AI203迁移率：2,800cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率：3,500cm2/Vs,表面电阻：170欧姆平方米，晶粒尺寸：约10μm，横向电磁场网格：类型：多孔碳支持膜 ?R2/4，孔大小：2微米，孔间距：4微米，孔直径：3毫米，涂层：镀金。

Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统Specac的等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定，根据热压制膜原理，所得到的样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供三种等厚度薄膜制样工具，不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还能将粒状，块状或板材，如药包材料，包装材料，特殊包裹材料等不规则的聚合物变成可以检测的薄膜。 GS15800高温薄膜制样系统技术参数： 最高操作温度高达400℃ 满足高端科研的要求 一周期40分钟 通过CE安全认证 集成的供热制冷设备? 2T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 压力范围0-2吨 一体式加热盘系统 双数字显示，精度1度 安全切换装置：70℃ 切断加热希同/55℃ 重启加热系统 一体式冷却盘高温薄膜制样机P/N GS15800有一组加热板是嵌入到薄膜制样机中的，所以当P/N GS15800装载在压 片机上时， 是不需要额外的Atlas 加热压盘P/NGS15515的。订购信息GS15640标准薄膜制样机特点：独立加热压盘，满足不同直径薄膜需要独立冷却盘，可缩短制膜周期重现性哈，制备过程简单 制膜过程无需化学品，成本低6种不同厚度的垫圈，适合各种高分子材料技术参数： 操作温度高达300℃ 一周期30分钟 4T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 双数字显示，精度℃ 可配套加热板P/N GS15515使用 冷却系统停止时切断加热系统 冷却水流速大于0.2/min时重启加热系统 独立冷却盒订购信息GS15640 Atlas™ 标准薄膜制样机包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250和0.500 mm 垫圈铝膜 直径40mm(200 片)Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250and 0.500 mm 垫圈铝膜直径40mm(200 片)制作铝膜样品杯的工具Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子高稳定性及高精度的温度控制器(400℃) 薄膜制样套装GS15631 Atlas™ 标准型薄膜制样套装1包括: 薄膜制样系统(GS15640) 加热板和加热压盘以及数字全自动温控器(300°C) (GS15515)GS15633 Atlas™ 标准型薄膜制样套装2包括: 薄膜制样系统(GS15640)加热板和加热压盘以及数字温控器(300oC) (GS15515)15T手动液压机(GS15011)(对于GS15800,GS15631和GS15633，请指定220V或110V电压和使用的国家。)GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统套装 包括: 高温薄膜制样系统(GS15800) 15T手动液压机(GS15011)(请指定220V或110V电压和使用的国家。)备件及耗材GS03800 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架 (100张/盒)GS03805 用于固定易伸缩薄膜样品的尼龙卡簧(20)GS03810 10mm x 25mm 矩形通光孔Specacards (100)GS03820 磁性薄膜样品架 圆形通光孔直径25mmGS15627 直径为40mm的铝膜(200)GS15641 冷却盒 用于标准薄膜制样系统 替换GS15642 标准薄膜制样压盘套装GS15629 标准薄膜制样机可替换的垫圈组件GS15805 高温薄膜制样机可替换的垫圈组件

特殊应用光学元件德国Layertec公司始建于1990年，是专业生产各种高质量光学镜片的厂家。这些镜片的工作波段覆盖VUV（157nm）到NIR（4μm）。其主要产品有： ● 常规激光光学元件 ● 飞秒激光光学元件 ● 特殊应用光学元件 从1990年开始，Layertec就和很多大学和研究机构激光部门合作。目前员工超过125人，强大的研发队伍使我们不但能够提供各种标准产品，还能满足客户的各种定制要求。 特殊应用光学元件（飞秒激光光学元件）按照其工作特行来划分，主要包含以下几类： 光参量振荡器（OPO）激光光学元件宽带和扫描镜滤波片薄膜偏振片低损耗光学元件镀膜晶体 一、光参量振荡器（OPO）激光光学元件 二、宽带和扫描镜 三、滤波片 三、薄膜偏振片 五、低损耗光学元件六、镀膜晶体

成卷的或预先切成方形或圆形的Prolene，超聚酯，聚丙烯，Mylar，聚碳酸脂和聚酰亚胺样品支撑薄膜。 成卷的薄膜(7.6cm×15.2m） 正方形薄膜（63.5mm×63.5mm） 圆形薄膜（直径63.5mm） 多孔聚丙烯薄膜（6.4cm×5.1m）

中性密度(ND)层压滤光片薄膜高刚性和耐久性增透膜(AR)滤光片薄膜可减少眩光易于操作和安装中性密度(ND)层压滤光片薄膜采用柯达Wratten 2 中性密度(ND)层压滤光片制作而成，外加单面增透膜(AR)层压以提高刚性和耐久性，并使其更易于处理。本滤光片薄膜备有多种尺寸，并与我们的标准光学固定架和模组安装组件兼容。这种滤光片储藏在潮湿的环境中容易损坏，zui好不要长期存储在超过50摄氏度的环境温度中。注意： 光密度值和透射率值是指未经层压的滤光片薄膜。层压一般会更改光学密度（光密度），幅度少于±0.1 OD。查看曲线以了解具体性能数据。 中性密度(ND)层压滤光片薄膜的增透膜(AR)可减少眩光和反射率，且对整体光学密度的影响不大。一般上，Wratten滤光片较为脆弱，且难以处理，使安装和系统集成较为困难。但在滤光片薄膜的一面添加AR镀膜则能够提高刚性和耐久性，增加尺寸选择并使其更易于安装和进行系统集成。常用规格基底Laminated Wratten 2订购信息：直径 (mm)光密度 OD尺寸 (mm)透射率 (%)产品号12.50.1-80#84-00912.50.2-63#84-01012.50.3-50#84-01112.50.4 -40#84-01212.50.5-32 #84-01312.50.6-25#84-01412.50.7-20#84-01512.50.8-16#84-01612.50.9-13#84-01712.51-10#84-01812.52-1#84-01912.53-0.1#84-02012.54-0.01#84-021250.1-80#84-022250.2-63#84-023250.3-50#84-024250.4-40#84-02525 0.5-32#84-026250.6- 25#84-027250.7-20#84-028250.8-16#84-029250.9-13#84-030251-10#84-031252-1#84-032253-0.1#84-033254-0.01#84-034500.1-80#84-035 500.2-63#84-036500.3-50#84-037500.4-40#84-038500.5-32#84-039 500.6-25#84-040500.7 -20#84-041500.8-16 #84-042500.9-13#84-043501-10#84-044502-1#84-045503-0.1#84-046504-0.01#84-0470.1 50.0 x 50.080#84-0480.250.0 x 50.063#84-0490.350.0 x 50.050#84-0500.4 50.0 x 50.040#84-0510.550.0 x 50.032#84-052 0.650.0 x 50.025#84-0530.750.0 x 50.020#84-0540.850.0 x 50.016#84-0550.950.0 x 50.013#84-056150.0 x 50.010#84-057250.0 x 50.01#84-058350.0 x 50.00.1#84-059450.0 x 50.00.01#84-060

Chemplex样品薄膜、麦拉膜、迈拉膜、XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品薄膜、EDX薄膜、样品薄膜、ROHS测试膜、X荧光光谱仪样品膜、光谱仪样品薄膜、CAT.NO：106麦拉膜、CAT.NO：150麦拉膜、CAT.NO：250麦拉膜、CAT.NO：256麦拉膜、CAT.NO：257麦拉膜、CAT.NO：416麦拉膜、CAT.NO：426麦拉膜、3014麦拉膜、欢迎咨询 美国Chemplex 杯膜 XRF样品杯，又名X荧光光谱仪样品杯、XRF样品杯、X-ray光谱仪样本杯、ROHS专用样品杯、高纯度聚脂测试杯，是应用于X荧光光谱仪XRF上的一次性量杯，广泛应用于牛津、斯派克、岛津、热电、帕纳科、日本理学等各种品牌的XRF光谱仪。 产品类型：XRF样品杯Sample Cups 品 牌：美国Chemplex型 号：所有型号（欢迎来电索取产品目录）产 地：美国 产品介绍： Chemplex XRF样品杯用于RoHS、WEEE专业测试仪器盛放小颗粒固体，粉末，液体，适用于各种品牌的X射线荧光光谱仪。对特别配制的塑料和保持其物理和化学属性一致性的特别关注，使得Chemplex XRF样本杯在XRF物质成分分析应用范围和性能上无与伦比。Chemplex的许多XRF样本杯被列为新颖独特的设计和应用，并被美国专利商标局授予知识产权地位。 Chemplex独有的SpectroCertified? X荧光光谱仪（XRF）样本杯的质量始于一种特别配置的聚乙烯！ Chemplex样本杯由专为该应用配制的专用高密度聚乙烯注模制成。该材料的特点有：1、符合RoHS指令； 2、不含有可能影响X射线数据的“白化”因子；3、光滑，能够促进薄膜样本支撑窗口的光滑和稳固附着；4、耐热和抗辐射的物理性能特点；5、能抵抗与无法确定的样本材料物质接触时产生的化学污染； 6、低微量元素杂质。 Chemplex Industries有限公司专业从事样品前处理设备、耗材研发和生产的公司，是X射线光谱仪（XRF）配件耗材领域的全球知名厂商。从产品研发和设计新概念，在内部生产，Chemplex工业公司是形成了样品制备方法的基础的重大贡献。样本杯的设计始于一个开发一种用于承装和处理X射线分析的液体和粉末状样本物质的方法的创意。 谱飞科技作为美国Chemplex公司的中国代理商，提供Chemplex所有系列用于对应欧盟ROHS和WEEE环保检测仪器——X射线荧光光谱仪（XRF）的检测实验消耗产品！主要有：高纯度聚脂样品杯，铝制样品杯，样品薄膜等。 我们不仅提供各种尺寸和属性的XRF样本杯、样品薄膜，还能根据您的样品类型和仪器品牌/型号为您选择合适的样品杯、样品薄膜。 二、XRF样品杯尺寸、属性和仪器兼容性： 为了对样本杯与仪器提供的样本夹持设备（金属样本杯、旋转盘、滑动平台、固定台等）进行匹配，购买样本杯前请告知您使用的X荧光光谱仪品牌和型号，或请直接测量仪器样本夹持设备的内径、高度和孔径。 我们列出了各种类型的样本杯的属性以更好地服务于应用，有需要的客户请联系本公司。本公司免费为客户提供包括样品杯的式样、尺寸、价格、编号、适用仪器型号等信息的产品目录。 适用仪器： 德国斯派克Spectro、英国牛津Oxford、日本堀场Horiba、飞利浦/帕纳科Philips/Panalytical、德国布鲁克Bruker、美国赛默飞世尔科技（热电）Thermo，瑞士ARL及日本理学Rigaku, Siemens, Spectrace,Jordan, Kevex, Metorex,Fisons, Asoma，Venus 200,Valley等生产的X荧光光谱仪(XRF)。 （适用X射线荧光光谱仪品牌型号：所有X射线荧光光谱仪包括：尼通(NITON)：Xlt797z 、Xlt794、Xlt898 ；伊诺斯(Innov-X)：AlPHA6000；牛津(Oxford)：Met-5000；帕纳科(Panalytical)：Minipal4、Minipal2；精工(Seiko)：SEA1000A；斯派克（Spectro）：XEPOS、 MIDEX M；热电(Thermo)：ARL Quant’X；日本电子（JEOL）JSX－3400R；Horriba等。） 三、Chemplex产品系列： 注册商标有：Chemplex、SpectroCertified、SpectroSulfur?、SpectroMicro?、TrimLessTM、ThermoPlasticTM、TrimLessTM、FunnelShapeTM等XRF样品杯。 四、产品系列：1000系列带有紧固套的单和双开口32和40mm薄膜支撑样品杯,和带有紧固盖和排气室的45mm样品杯 1300系列带有旋转咬合盖和咬合圈的双开口32和40mm样品杯 1400系列带有排气和小样品管的单开口32和40mm样品杯 1500系列带有多孔薄膜和咬合附件的双开口32和40mm样品杯 1545系列适用于样品表面水平和样品表面倾斜的XRF系统的样品杯 1700系列带有咬合排气和排气室的单开口32和40mm样品杯 1800系列带有排气装置和排气室的单开口32和40mm样品杯 1080,1085,1850系列带有排气装置和排气室的单和双开口47mm样品杯。 1、1000系列：TRIMLESS?套筒样本杯与SPECTROSULFUR?分析仪杯，TRIMLESS?套筒能套住薄膜样本支撑窗并清除过量剪屑。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix，Panalytical Venus与Rigaku（日本理学株式会社）仪器。产品编号：10601双开端、1065单开端、1070双开端、1075单开端、1080双开端、1083单开端、1085单开端、1095双开端带通风盖与球形柄。2、1300系列：可重复密封的可通风式XRF样本杯，集成外部溢流储液槽，并可选择使用集成的薄膜样本支撑窗修剪器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1330双开端、1330-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1340双开端。3、1400系列：单开端可通风XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。 产品编号：1430单开口端ThermoPlastic?密封排气、1430-SE、1440单开口端密封排气、1440L* 特长单开口端。4、1500系列：双开口端XRF样本杯。 适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix等仪器。产品编号：1530 双开口端、1530-SE直接固定环带有集成的薄膜修整器、1540 双开口端。5、1600系列：狭缝通风样本杯盖，适用于1500系列XRF样本杯。样品编号：1630样本杯盖、1640样本杯盖。6、1700系列：集成的咬合式通风XRF样本杯。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1730 咬合式通风、1730-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1740Snap-Post通风。7、1800系列：单开口端XRF样本杯，集成的外部溢流储液槽，通风装置；与可选用的集成薄膜样本支撑窗修整器。 适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器。产品编号：1830 ThermoPlastic?密封通风、1830-SE直接固定环拥有集成的薄膜修整器、1840ThermoPlastic?密封通风。8、1850系列：单开口端SPECTROSULFUR?分析仪样本杯，Thermoplastic Seal?通风，集成外部溢流储液槽和排泄装置，适用于X射线光学系统“SINDIE?”仪器与其它硫分析仪。9、1900系列：双开口端XRF样本杯，顶部样本注入与可选用的集成薄膜样本支撑窗修剪器。适用仪器：适用于Spectro & SpectroAsoma Xepos, X-Lab 2000, Xepos Low S, 200, 200T Titan, Phoenix仪器；适应于Oxford Lab-X仪器。产品编号：19301双开口端、1930-SE1直接固定拥有集成的薄膜修整器、19401双开口端、1940L2 双开口端。10、1935-OX系列：双开口端XRF样本杯与通风盖，适用于牛津分析仪。用作替换的腔室和盖子，适用于牛津CK-100，耗材元件，零件编号54-CK-100。11、2100系列：双开口端TRIMLESS?套筒XRF样本杯、内部溢流储液槽，通风的直接固定盖，TRIMLESS?套筒薄膜样本支撑窗附着。产品编号：2132 、2135、2140、2143、2144、2145、2146、2195。12、3100系列：SPECTROMICRO?样本杯，采用“FUNNELSHAPE?”（漏斗形）样本杯技术。产品编号：3106、3110、3115、3120。更多信息咨询美同达科技

Smart SAGA 亚微米薄膜进行掠入射分析附件Thermo Scientific Smart SAGA 适用于对金属基上的亚微米薄膜进行掠入射分析。Smart SAGA（高光带孔掠射角）极易操作，性能优异，样品区辨识能力极高。 只需将样品平放在水平采样台上，用激光雕刻隔栅进行定位，如需要则转动转轮以设置孔尺寸，然后扫描。掠射角反射系数是用以分析薄涂层或沉淀物的选择性方法，因为高入射角可以增大穿过感兴趣材料的红外光束的光程长度，从而大大改善灵敏度。 由于高入射角和选择性偏极化，因此可获取单层灵敏度。描述80° 固定入射角全金反射光学器件可以分析 10 埃 至 0.5 微米的薄膜永久性固定的偏光镜可以大大减小无益于表面光谱数据的‘S’偏光，从而可以改善灵敏度和采样速度独特的内部滑孔组件可快速调节至四种不同的样品定义形状与尺寸，无需设置孔径。采样板上的激光雕刻隔栅便于在进行定量分析时，重复进行样品定位和遮盖。SpecificationsAngle of Incidence: 80° 平均固定角度Sampling Area两个圆形活动区域： 5mm和 8mm一个椭圆形活动区域： 16 × 8mm开束Optics: 金反射器件Sample Positioning: 样品台上的激光雕刻测量隔栅Polarizer: 锗超薄涂层金属基上的被吸附物润滑剂表面污染物残留物分子单层订货信息：货号类型0033-197For Nicolet Avatar0033-199Specular Reflectance00331XXSmart SAGA

薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪，可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器，可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪，比如标准吸收/透过率，反射率的测量，薄膜的测量，薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件：核心模块----光谱仪；外壳模块----各种精密精美的仪器外壳；工作面积模块----测量工作区域；光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件；测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型，不同光谱范围和光源，满足各种测量应用

薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪介绍：LQJ211万能材料试验机有着超大数显控制系统-为主机曲线、力值、速度和变形动态显示，加上电脑可实现微机操作，参数随意设定，可以做不同材料30KN以内的拉伸、压缩、弯曲、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验.可根据国际标准ISO.JIS.ASTM.DIN等国际标准和国外标准进行试验和提供数据.以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控. 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪技术参数 Main specifications 1、最大负荷Load Accuracy： 30KN（任意选） 2、荷重元精度Load Accuracy： 0.01% 3、测试精度Measuring accuracy： ± 0.5% 4、操作方式Control： 全电脑控制,windows模式操作 5、有效试验宽度Valid width： 约420mm 6、有效拉伸空间Stroke： 约800mm 7、试验速度Tetxing speed : 0.001~500mm/min 8、速度精度 Speed Accuracy：: ± 0.5%以内； 9、位移测量精度Stroke Accuracy： ± 0.5%以内； 10、变形测量精度Displacement Accuracy： ± 0.5%以内 11、安全装置 Safety device： 电子限位保护，紧急停止键 Safeguard stroke 12、机台重量Main Unit Weight ： 约140kg

specac_迷你等厚度薄膜制样套装 等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定。根据热压制膜原理，所得到样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供了3种等厚度薄膜制样工具。不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还可以将粒状、块状或板材等不规则形状的聚合物变成可以用光谱检测的薄膜。 视频：http://v.youku.com/v_show/id_XNDg3ODI1OTc2.html 点击观看视频

迷你薄膜制样套装一款5分钟就能实现红外透射分析专用的聚合物薄膜制样机特点：液压机与加热压盘以及温控器一体化的设计体积小巧，方便存储，携带薄膜重现性好，使用快捷 无需化学品，成本低,6种不同的垫圈这种设计允许加热板先进行预加热，温度升高至样品所需的熔点，并保持这个温度。样品在被引入到预加热板之前，薄膜制样机就可以独立的为几克的样品准备好相应的载荷和合适的定型圈。当薄膜制样机达到预设温度并稳定后，通常使用0.5T负载转动丝杆来热压薄膜。一旦从热压机上移走，低温块体薄膜制备制样机可以在冷却板上快速冷却到室温，压制成型的薄膜可以移除。薄膜样品可被镶嵌在一个3×2英寸的自粘帖卡片(Specacard) 上以用于红外透射光谱分析使用。与传统方法相比，这个过程可缩短薄膜制备的周期，实际上，制作一个薄膜样品的周期可小于5分钟。如何制备薄膜样品放置好隔热板, 选择好定型圈和较小的铝膜，放到下方组件上。1) 将样品放到铝膜的中央位置，然后在上面覆盖上较大的铝膜和上方组件2) 将准备好的以上组件整体放置到预加热板平面间，再施加1T位的载荷。3) 一旦样品完成压缩从压片机取出，分开组件，小心的将铝膜从样品上剥离。4) 制成的薄膜放入Specacard，然后一同放置到光谱仪器中进行分析。 技术参数： 快速，可重复的制备薄膜样品 样品熔点范围从室温到260℃ 标准薄膜厚度15,25，50, 100,250和500μm 直径15mm 压力范围0-2吨 制样包包括液压机和集成的加热板 周期5分钟 加热压盘直径25mm 加热压盘最大功率：35W 温度控制器：双数字显示，精度1℃ 加热压盘可调距离0-20mm 独立冷却盘 重量5.7kg 订购信息 迷你薄膜制样套装 GS03970 迷你薄膜制样套装 备件及耗材 GS03971 迷你薄膜制样组件 (包括压板组件，隔热板， 下压板组件，定型圈组件) GS03972 定型圈(15, 25, 50, 100, 250 和500 μm GS03973 铝膜(200 对) GS03974 迷你薄膜制样机冷却板 GS03975 迷你薄膜制样机压板(包括上压板，隔热板，下压板) GS03800 Specacards (100包) 直径10mm的圆形通光孔 GS15628 不锈钢镊子

金/铂是惰性金属，不容易发生氧化、水解和其它表面反应。普通金/铂电极制作需要反复抛光磨制，稳定性和重现性较差，不利于生物传感器的小型化和商品化。 Micrux公司采用100%金属材料（非金属/油墨印刷）制作的铂和金薄膜电极 - 适用于修饰和研发传感器或生物传感器 - 前处理方便，节省时间 - 可以多次重复使用，成本低廉 - 尺寸小，提供了很好的可靠性和可重复性，性噪比（S/N）佳。 电极设计： 1、SE-1设计，应用于铂和金薄膜电极，工作电极（WE）直径为1mm. 2、交叉指环型阵列电极（IDRA），由2对交叉的12电极组成。 3、交叉阵列电极（IDA），由2对交叉的12电极组成。 微电极设计，工作电极线宽和间隙都为10&mu m，和SE-1设计一样应用于铂和金薄膜电极。 电极适配器，使得薄膜（微）电极易于操作。 电极通过连接器可与各品牌电化学工作站匹配。 电极保存：干燥环境，旁边可以放置硅胶

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溶氧仪配件 tp351-003 薄膜按键

FEP薄膜：也叫特氟龙薄膜，聚全氟乙丙烯薄膜；其特征主要有：1、耐高低温:-200～205℃ ，外观透明如保鲜膜，使用方便，环保；2、具有不粘性,拼水,拼油:水接触角θ=114о 电可靠性，高绝缘，不漏电；3、高透明度:透明度参考家用保鲜膜，对紫外线、可见光有很好的穿透性；4、耐强酸强碱，耐各种有机及无机化学溶剂，丙酮、醇类等各种腐蚀性溶剂；5、多作为封口膜，用于密封一些强腐蚀型瓶口；隔离实验室的一些腐蚀性溶剂；6、典型用途实例：中科院地化所常用来野外考察收集样品时，接收雨水用，通常会配套我公司同系列的FEP 透明管使用；品名宽度（mm）厚度mmFEP薄膜 200-2500.02-0.0150.03-0.040.05-0.150.15-0.2可按照客户要求生产250-280250-300300-35050060080010001200 FEP材质其他产品FEP取样瓶、容量瓶、洗瓶、滴瓶、消解瓶、消解管、离心管、薄膜、移液管、透明管、烧杯、分液漏斗，其他实验室常用器皿耗材等等。

金/铂是惰性金属，不容易发生氧化、水解和其它表面反应。普通金/铂电极制作需要反复抛光磨制，稳定性和重现性较差，不利于生物传感器的小型化和商品化。 Micrux公司采用100%金属材料（非金属/油墨印刷）制作的铂和金薄膜电极 - 适用于修饰和研发传感器或生物传感器 - 前处理方便，节省时间 - 可以多次重复使用，成本低廉 - 尺寸小，提供了很好的可靠性和可重复性，性噪比（S/N）佳。 电极设计： 1、SE-1设计，应用于铂和金薄膜电极，工作电极（WE）直径为1mm. 2、交叉指环型阵列电极（IDRA），由2对交叉的12电极组成。 3、交叉阵列电极（IDA），由2对交叉的12电极组成。 微电极设计，工作电极线宽和间隙都为10&mu m，和SE-1设计一样应用于铂和金薄膜电极。 电极适配器，使得薄膜（微）电极易于操作。 电极通过连接器可与各品牌电化学工作站匹配。 电极保存：干燥环境，旁边可以放置硅胶