离子体原射仪

产品说明、技术参数及配置ICP-3000电感耦合等离子体发射光谱仪是天瑞仪器公司经多年技术积累开发出的一款性能优异的全谱直读型光谱仪，用于测定不同物质（可溶解于盐酸、硝酸、氢氟酸等）中的微量、痕量元素含量。自动化程度高，操作简便，稳定可靠。目前仪器广泛应用于稀土、地质、冶金、化工、环保、临床医药、石油制品、半导体、食品、生物样品、刑事科学、农业研究等各个领域。性能优势全自动化设计整台仪器除了电源开关，仪器所有功能都通过计算机控制，可靠、安全、方便。蠕动泵蠕动泵为十二转子四通道全自动设计，蠕动泵转速可根据需求流量设置调节；通过蠕动泵平稳进样和排除废液，确保进样速度与废液排除速度一致，客户可以根据需要适当调节速度，确保进样系统稳定。气体流量自动控制进样系统中，载气、等离子气、辅气均采用先进的质量流量控制器（MFC）来控制，具有流量连续可调、流量稳定等优点，确保了进样系统的稳定，为光源的稳定奠定了坚实的基础。稳定先进的全固态射频电源仪器采用的射频电源为天瑞仪器自主研发的全固态射频电源，具有体积小、效率高、输出功率稳定、带有各种保护功能等诸多优点，进一步提高了仪器的稳定性与安全性。快速准确的全自动匹配功能负载终端采用天瑞仪器自主研发的全自动匹配技术，具有匹配速度快、精度高等优点，确保了输出功率大限度地加予负载，提高了电源的使用效率，从而提高仪器的稳定性，并使得整个点火过程简单方便。先进的进样系统进样系统高效、稳定，可配备国内外各种雾化器、雾化室，可以配备高盐雾化器、耐氢氟雾化器等，满足客户的各种需求；同时天瑞自主研发的自动进样器让测试操作更加便捷，进一步提高测试效率。独特精密的光学系统采用中阶梯光栅-棱镜交叉色散方式，专业的光学优化设计使得光通量大化的同时保证了优异的光谱分辨率；无任何移动光学元件，保证了良好的长期稳定性；超低杂散光设计配合独特的光学设计，大大降低了背景光的干扰，进一步提高检出限；高效的氮气分布式吹扫光室配合高品质的光学元件保证了深紫外区特别是P、S、As等元素的测量。精准的波长定位智能精确的自动波长校准算法，无需进行额外的谱峰校正即可进行测量，保证准确测量的同时节约大量的标液和测量时间。性能优异的探测器采用大尺寸CID探测器，先进、成熟、稳定；大靶面尺寸，百万级像素；165-900nm范围连续覆盖，一次曝光，全谱显示；非破坏性读取(NDRO) 功能，改善了弱分析线的信噪比，提高了结果的准确性，并且数据采集与分析均优于CCD； 极佳的线性动态范围和与生俱来的抗溢出功能确保任意强弱的谱线可在一次曝光内测量并进行分析，同时为方法选择理想波长提供了灵活性（可选第二、第三或更次灵敏线来排除干扰）。超快的测试速度各分析谱线可以在曝光时间内设置任意合适的积分时段来实现测量的优化；可以一次曝光读出所有分析谱线的强度积分值加快分析速度；还可以指定谱线独立读出，读出时间不超过2ms。强大的软件分析功能软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能，具有仪器诊断优化功能，灵活的全谱研究功能，强大的离线再处理功能，具有科学智能的背景校正、去除干扰的算法功能，让测试变得更加专业与准确。技术参数射频发生器技术指标输入电源：交流220V，电流20A输出功率：700~1600W调节精度：2W工作频率：27.12MHz频率稳定性：＜0.05%输出功率稳定性：＜0.1%匹配方式：自动匹配电磁场泄漏辐射强度：距机箱30cm处电场强度E：＜0.5V/m进样装置技术指标输出工作线圈：内径25mm、3匝三同心石英炬管：外径20mm；根据中心通道大小有多种型号可选高效进口雾化器：同心型雾化器，外径6mm ；多型号可选，高盐、耐HF等雾化室：双筒型雾化室，可以选配旋流式雾化室，外径57.2mm蠕动泵：十二转子四通道，转速可根据需求流量设置调节（即根据进样速度设定，直观，准确）总氩气消耗量：氩气总消耗量小于14L/min氩气流量计和载气压力表规格：1.等离子气流量计（100~1000）L/h (1.6~16L/min)2.辅助气流量计（6~60）L/h (0.1~1L/min)3.载气流量计（6~60）L/h (0.1~1L/min)4.载气稳压阀（0.2MPa）5.冷却水：水温20~25℃ 流量5L/min 水压0.1MPa分光器技术指标光栅：中阶梯光栅，52.67 lp/mm，64闪耀角，采用德国肖特公司热膨胀系数接近于零的Zerodur材料做基底，性能更出众棱镜：超纯康宁紫外熔融石英，在170nm处内透过率99.6%波长范围：165nm~900nm焦距：430mm数值孔径：F/8，超高的光通量保证仪器的检出限和灵敏度分辨率：0.0068nm@200nm杂散光：10000ppmCa 溶液在As189.042nm处的等效背景浓度2ppm光室：精密恒温，35±0.1℃分布式氮气吹扫，正常吹扫2L/min，快速吹扫4L/min检测装置技术指标检测器类型：电荷注入式检测器（CID）靶面尺寸：27.6mm×27.6mm，1024×1024寻址检测单元读取方式：非破坏性读取(NDRO) ，全幅读取（FF）和任意读取积分（RAI）线性动态范围：108波长响应范围：165nm~1000nm电子快门：单独设置各谱线的积分时间；可指定谱线独立读出，读出时间＜2ms量子效率：无任何镀膜，200nm紫外区可达35％以上检测器冷却：高效三级半导体制冷，制冷温度-45℃仪器技术指标观测方式：垂直观测液体含量：0.01ppm~几千ppm固体含量：0.001%~70%重复性：（即短期稳定度）相对标准偏差RSD0.5%稳定性：相对标准偏差RSD1% @2小时测试速度：单个谱线CID读出时间仅需2ms，一分钟内可实现所有元素的测量元素检出限（μg/L）：大部分元素1ppb~10ppb仪器尺寸：台式1300mm*840mm*740mm应用领域1.硅工业：磁性材料加工行业2.冶金工业：可分析对金属材料质量影响很大的As、Bi、Pb、Sb、Sn等杂质元素3.水质分析：可检测水质污染的八大重金属等元素4.地质、矿石分析：岩石样品中Ca、Mg、Na、Fe、Cu、Mn、Zn、Co、Ni、Au、Ag等元素的测定5.石油化工和轻工领域的应用：测试原油中的30多种元素，主要有Fe、Na、Mg、Ni、V、Ca、Pb、Mo、Mn、Cr、Co、Ba、As等6.医疗、卫生、农业环保、商品、食品质量检测

ICP-3000电感耦合等离子体发射光谱仪是天瑞仪器公司经多年技术积累开发出的一款性能优异的全谱直读型光谱仪，用于测定不同物质（可溶解于盐酸、硝酸、氢氟酸等）中的微量、痕量元素含量。自动化程度高，操作简便，稳定可靠。目前仪器广泛应用于稀土、地质、冶金、化工、环保、临床医药、石油制品、半导体、食品、生物样品、刑事科学、农业研究等各个领域。性能优势全自动化设计整台仪器除了电源开关，仪器所有功能都通过计算机控制，可靠、安全、方便。蠕动泵蠕动泵为十二转子四通道全自动设计，蠕动泵转速可根据需求流量设置调节；通过蠕动泵平稳进样和排除废液，确保进样速度与废液排除速度一致，客户可以根据需要适当调节速度，确保进样系统稳定。气体流量自动控制进样系统中，载气、等离子气、辅气均采用先进的质量流量控制器（MFC）来控制，具有流量连续可调、流量稳定等优点，确保了进样系统的稳定，为光源的稳定奠定了坚实的基础。稳定先进的全固态射频电源仪器采用的射频电源为天瑞仪器自主研发的全固态射频电源，具有体积小、效率高、输出功率稳定、带有各种保护功能等诸多优点，进一步提高了仪器的稳定性与安全性。快速准确的全自动匹配功能负载终端采用天瑞仪器自主研发的全自动匹配技术，具有匹配速度快、精度高等优点，确保了输出功率大限度地加予负载，提高了电源的使用效率，从而提高仪器的稳定性，并使得整个点火过程简单方便。先进的进样系统进样系统高效、稳定，可配备国内外各种雾化器、雾化室，可以配备高盐雾化器、耐氢氟雾化器等，满足客户的各种需求；同时天瑞自主研发的自动进样器让测试操作更加便捷，进一步提高测试效率。独特精密的光学系统采用中阶梯光栅-棱镜交叉色散方式，专业的光学优化设计使得光通量大化的同时保证了优异的光谱分辨率；无任何移动光学元件，保证了良好的长期稳定性；超低杂散光设计配合独特的光学设计，大大降低了背景光的干扰，进一步提高检出限；高效的氮气分布式吹扫光室配合高品质的光学元件保证了深紫外区特别是P、S、As等元素的测量。精准的波长定位智能精确的自动波长校准算法，无需进行额外的谱峰校正即可进行测量，保证准确测量的同时节约大量的标液和测量时间。 性能优异的探测器采用大尺寸CID探测器，先进、成熟、稳定；大靶面尺寸，百万级像素；165-900nm范围连续覆盖，一次曝光，全谱显示；非破坏性读取(NDRO) 功能，改善了弱分析线的信噪比，提高了结果的准确性，并且数据采集与分析均优于CCD； 极佳的线性动态范围和与生俱来的抗溢出功能确保任意强弱的谱线可在一次曝光内测量并进行分析，同时为方法选择理想波长提供了灵活性（可选第二、第三或更次灵敏线来排除干扰）。超快的测试速度各分析谱线可以在曝光时间内设置任意合适的积分时段来实现测量的优化；可以一次曝光读出所有分析谱线的强度积分值加快分析速度；还可以指定谱线独立读出，读出时间不超过2ms。强大的软件分析功能软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能，具有仪器诊断优化功能，灵活的全谱研究功能，强大的离线再处理功能，具有科学智能的背景校正、去除干扰的算法功能，让测试变得更加专业与准确。技术参数射频发生器技术指标输入电源：交流220V，电流20A输出功率：700~1600W调节精度：2W工作频率：27.12MHz频率稳定性：＜0.05% 输出功率稳定性：＜0.1%匹配方式：自动匹配电磁场泄漏辐射强度：距机箱30cm处电场强度E：＜0.5V/m进样装置技术指标输出工作线圈：内径25mm、3匝三同心石英炬管：外径20mm；根据中心通道大小有多种型号可选高效进口雾化器：同心型雾化器，外径6mm ；多型号可选，高盐、耐HF等雾化室：双筒型雾化室，可以选配旋流式雾化室，外径57.2mm 蠕动泵：十二转子四通道，转速可根据需求流量设置调节（即根据进样速度设定，直观，准确）总氩气消耗量：氩气总消耗量小于14L/min氩气流量计和载气压力表规格：1.等离子气流量计（100~1000）L/h (1.6~16L/min) 2.辅助气流量计（6~60）L/h (0.1~1L/min) 3.载气流量计（6~60）L/h (0.1~1L/min)4.载气稳压阀（0.2MPa）5.冷却水：水温20~25℃ 流量5L/min 水压0.1MPa分光器技术指标光栅：中阶梯光栅，52.67 lp/mm，64闪耀角，采用德国肖特公司热膨胀系数接近于零的Zerodur材料做基底，性能更出众棱镜：超纯康宁紫外熔融石英，在170nm处内透过率99.6%波长范围：165nm~900nm焦距：430mm数值孔径：F/8，超高的光通量保证仪器的检出限和灵敏度分辨率：0.0068nm@200nm杂散光：10000ppmCa 溶液在As189.042nm处的等效背景浓度2ppm光室：精密恒温，35±0.1℃分布式氮气吹扫，正常吹扫2L/min，快速吹扫4L/min检测装置技术指标检测器类型：电荷注入式检测器（CID）靶面尺寸：27.6mm×27.6mm，1024×1024寻址检测单元读取方式：非破坏性读取(NDRO) ，全幅读取（FF）和任意读取积分（RAI）线性动态范围：108波长响应范围：165nm~1000nm电子快门：单独设置各谱线的积分时间；可指定谱线独立读出，读出时间＜2ms量子效率：无任何镀膜，200nm紫外区可达35％以上检测器冷却：高效三级半导体制冷，制冷温度-45℃仪器技术指标观测方式：垂直观测液体含量：0.01ppm~几千ppm固体含量：0.001%~70%重复性：（即短期稳定度）相对标准偏差RSD0.5%稳定性：相对标准偏差RSD1% @2小时测试速度：单个谱线CID读出时间仅需2ms，一分钟内可实现所有元素的测量元素检出限（μg/L）：大部分元素1ppb~10ppb仪器尺寸：台式1300mm*840mm*740mm应用领域1.硅工业：磁性材料加工行业2.冶金工业：可分析对金属材料质量影响很大的As、Bi、Pb、Sb、Sn等杂质元素3.水质分析：可检测水质污染的八大重金属等元素4.地质、矿石分析：岩石样品中Ca、Mg、Na、Fe、Cu、Mn、Zn、Co、Ni、Au、Ag等元素的测定5.石油化工和轻工领域的应用：测试原油中的30多种元素，主要有Fe、Na、Mg、Ni、V、Ca、Pb、Mo、Mn、Cr、Co、Ba、As等6.医疗、卫生、农业环保、商品、食品质量检测

溅射离子枪主要用途:溅射清洗/表面科学中样品表面处理, MBE and HV 溅射过程离子辅助沉积离子束溅射镀膜反应离子刻蚀技术指标:离子能量25eV - 5keV总的离子束电流1mA (at 5kV with Argon)High Current Version: up to 4mA (at 5kV with Argon)电流密度120μA/cm2 at 100mm working distance离子束发散角Ion energy dependant (typically 15°)工作距离100 mm (typically)等离子体杯Alumina (superior than other dielectric materials due to highest yield of secondary electrons)气体进气口径CF-16 (1.33“OD)气体流速1 - 5 sccm (1,5 sccm typical, gas dependant)工作真空度10-6mbar - 10-3mbar (1x10-5mbar typical in chamber with 300l/s pimp). Low 10-6 mbar range possible - beam current then 140μA max.激发模式微波放电等离子体 (无灯丝)安装口径CF-35 (2.75“OD)枪直径34mm (真空端)泄露阀需要气体质量流量计第二代等离子体源，可以提供离子源，原子源，离子/原子混合源原子源主要用途：制备氮化物， e.g. GaN, AlN, GaAsN, SiN etc.氢原子清洗，氢原子辅助MBE.制备氧化物， e.g. ZnO, Superconductors, Optical coatings, Dielectrics. 掺杂， e.g. ZnSe离子源用途:离子束辅助沉积(IBAD) for both UHV and HV processes溅射沉积，双离子束溅射，Sputter deposition and dual ion beam sputtering溅射清洗/表面科学中的样品表面处理，Sputter cleaning / surface preparation in surface science, MBE and HV sputter processes.原位刻蚀， e.g. Chlorine 技术参数：真空兼容性：完全UHV兼容可烘烤：200°C微波功率：最大250W，2.45GHz磁铁类型：永久稀土。可在不破坏真空的情况下进行烘烤安装：NW63CF（4.5“OD）真空长度：300mm（可定制长度）：真空直径最大值=57mm光束直径：源处约25mm（较窄的光束也容易产生）等离子杯：氧化铝孔径：氧化铝或氮化硼气体流速：0.01-100sccm，取决于所选孔径工作压力：约10-7托至5x10-3托，取决于孔径、泵和应用-请联系tectra讨论您的应用。提供差动泵选项工作距离：50mm-300mm。150mm（典型值）冷却：全水冷（包括磁控管）电源：微波炉电网供电**仅限离子源和混合源19“机架安装。3U高度。230VAC，50Hz或115VAC，60Hz19“机架安装。3U高度。230VAC，50Hz或115VAC，60Hz主要特点：无灯丝适用于大多数气体，包括反应性气体，如氧气、氯气、氢气、氮气等。无微波调谐出厂设置，只需打开和关闭等离子。用户可配置提取光学器件设计为可快速方便地更换，允许用户自定义其来源，以适应样本大小、工作压力和电流密度的特定组合。易于更换的孔径使光束直径、气体负载和原子通量得以优化。简单烘烤制备新的可烘烤ECR磁体只需松开4个螺钉，即可进行简单的烘烤准备。磁体不需要移除，但仍位于封闭冷却回路的空气侧。因此，没有烧结材料暴露在真空中。Al2O3等离子区氧化铝等离子杯作为标准，具有更高的二次电子产量、更好的抗腐蚀性气体（如氧气）和理想的等离子打击能力从法兰（刀口侧）到外壳端，空气侧环境坡度的最小值仅为258mm

价格电议KRI 射频离子源 RFICP 系列 上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的套装, 套装包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.射频离子源 RFICP 系列技术参数:型号RFICP 40RFICP 100RFICP 140RFICP 220RFICP 380Discharge 阳极RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频离子束流100 mA350 mA600 mA800 mA1500 mA离子动能100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V栅极直径4 cm Φ10 cm Φ14 cm Φ20 cm Φ30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm5-30 sccm5-30 sccm10-40 sccm15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr长度12.7 cm23.5 cm24.6 cm30 cm39 cm直径13.5 cm19.1 cm24.6 cm41 cm59 cm中和器LFN 2000射频离子源 RFICP 系列应用:离子辅助镀膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )离子溅镀 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)上海伯东离子源典型应用: 射频离子源 RFICP 325 安装在 1650 mm 蒸镀机中, 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean, 完成 LED-DBR 镀膜生产右图: 在高倍显微镜下检视脱膜测试, 样品无崩边上海伯东离子源典型应用: 安装在离子蚀刻机中的 KRI 射频离子源, 对应用于半导体后端的6寸晶圆进行刻蚀. 右图: 射频离子源 RFICP 安装于腔内 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 欢迎联络上海伯东叶女士,分机109

仪器简介：典型应用是氩离子溅射清洗表面(中科院物理所配置多套IG2型离子源)溅射清洗 /表面准备，用于表面科学， MBE ，高真空溅射过程离子辅助沉积离子束溅射镀膜反应离子刻蚀高性价比IG2溅射离子枪套件是低成本离子束蚀刻和溅射清洁样品的完美解决方案，用于表面分析、清洁STM尖端、一般真空科学和纳米技术应用。如果您只想清洁样品或 STM 吸头的表面，为什么要支付超出您需要的费用？这种操作简单且可靠的溅射离子枪和控制构成了当今市场上价格最低的封装！IG2 还可以使用惰性气体（如氩气和氧气）运行。操作理论IG2离子源产生高能惰性气体离子束，用于溅射蚀刻固体表面。该源需要使用惰性气体（如氩气）的静压为 5x10-5 torr（有关兼容气体列表，请参见数据表）。离子在离子源的双丝电离室内由电子撞击产生，然后以高达2 kV的能量聚焦在目标上。通过使用离轴灯丝几何形状，离子束的杂质含量最小化。聚焦透镜允许在给定的工作压力和源到样品距离下获得高离子电流密度。双钨丝组件允许在第根灯丝打开时继续运行。在推荐的工作条件下，灯丝组件的预期寿命在正常使用下为数年。灯丝组件在现场很容易更换。32-165 型 2 kV 离子源控制器提供操作 04-165 2 kV IG2型离子源所需的所有必要电压和电流。光束电压可以手动、远程或使用内置定时器激活。此外，阳极（离子）和灯丝电流以及光束和聚焦电压可以在外部进行监控，以确保溅射条件的准确再现。

离子源，应用于FEI（赛默飞）的聚焦离子束设备。液态镓离子源 寿命大于1000小时 发射电流 2.0uA821 6845离子源168821 7150离子源171两种离子源适用机型不同需要根据客户使用机器的具体型号来配置，大束科技自主研发离子源发射电流2.0uA，使用寿命大于1000小时。大束科技成立于2018年，是一家以自主技术驱动的电子显微镜核心配件研发制造商及配套服务商。 目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。大束科技致力于成为电子显微镜行业上游配件的研发制造供应商；未来将在满足本土市场的同时，进军国际高端电子显微镜市场。

美国SVT公司的RF等离子源适用于多个公司多种型号。 法兰接口包括： 2.75' ' 、4.5' ' 、6' ' 。 等离子源用于离解双原子氮、氧和氢。离解过程中不会产生高能离子。 产生的束流含有零离子，有助于生长高质量的薄膜，也可以在不损伤衬底表面的情况下清洗衬底。 高生长率等离子体源能够在生长速率大于4μm/hr的情况下生长高质量的薄膜。 光阑和等离子腔形状可以顾客定制，以满足客户对不同流量的需求。 软件作为可选项，能够实现自动操作，允许用户保存数据，编写工艺程序。特点可提供N2、O2、H2等离子源生长速率大于4μm/hr源设计有等离子体观察窗口光阑和等离子腔形状可以客户定制RF自动调节可选RF 功率200-600W气体流量0.1-10SCCM法兰4.50’’ CF 源直径2.35’’水冷却0.17GPM 流量(0.227m3/hr)RF匹配网络手动调节(自动调节可选)等离子腔PBN，氧化铝，石英

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 140上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中，射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1200 eV 范围内获得很高的离子密度. 可以输出最大 600 mA 离子流.KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:阳极电感耦合等离子体1kW & 1.8 MHz射频自动匹配最大阳极功率1kW最大离子束流 500mA电压范围100-1200V离子束动能100-1200eV气体Ar, O2, N2,其他流量5-40sccm压力 0.5mTorr离子光学, 自对准OptiBeamTM离子束栅极14cm Φ栅极材质钼, 石墨离子束流形状平行,聚焦,散射中和器LFN 2000高度25.1 cm直径24.6 cm锁紧安装法兰12”CFKRI 射频离子源 RFICP 140 应用领域：预清洗表面改性辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗女士

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRi 射频离子源 RFICP 系列上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.射频离子源 RFICP 系列技术参数:型号RFICP 40RFICP 100RFICP 140RFICP 220RFICP 380Discharge 阳极RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频离子束流100 mA350 mA600 mA800 mA1500 mA离子动能100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V栅极直径4 cm Φ10 cm Φ14 cm Φ20 cm Φ30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm5-30 sccm5-30 sccm10-40 sccm15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr长度12.7 cm23.5 cm24.6 cm30 cm39 cm直径13.5 cm19.1 cm24.6 cm41 cm59 cm中和器LFN 2000 射频离子源 RFICP 系列应用:离子辅助镀膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)离子溅镀 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures) 上海伯东美国考夫曼 KRi 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸离子束刻蚀机, 作为蚀刻机的核心部件, KRI 射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求!1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗女士

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRi 射频离子源 RFICP 220上海伯东代理美国原装进口 KRi 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 射频离子源 RFICP 220 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 标准配置下射频离子源 RFICP 220 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 1000 mA.KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:阳极电感耦合等离子体2kW & 2 MHz射频自动匹配最大阳极功率1kW最大离子束流 1000mA电压范围100-1200V离子束动能100-1200eV气体Ar, O2, N2, 其他流量5-50 sccm压力 0.5mTorr离子光学, 自对准OptiBeamTM离子束栅极22cm Φ栅极材质钼离子束流形状平行,聚焦,散射中和器LFN 2000, MHC 1000高度30 cm直径41 cm锁紧安装法兰10”CFKRI 射频离子源 RFICP 220 基本尺寸KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域：预清洗表面改性辅助镀膜 (光学镀膜) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE射频离子源 RFICP 220 集成于半导体设备, 实现 8寸芯片蚀刻1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光工艺 IBF 等领域, 上海伯东是美国 KRi 考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗女士

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 40上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内. 离子源 RFICP 40 设计采用创新的栅极技术用于研发和开发应用. 离子源 RFICP 40 无需电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用. 标准配置下 RFICP 40 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.射频离子源 RFICP 40 特性:1. 离子源放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.2. 离子源结构模块化设计, 使用更简单 基座可调节, 有效优化蚀刻率和均匀性.3. 提供聚焦, 发散, 平行的离子束4. 离子源自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行5. 栅极材质钼和石墨,坚固耐用6. 离子源中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性KRI 射频离子源 RFICP 40 技术参数:型号RFICP 40Discharge 阳极RF 射频离子束流100 mA离子动能100-1200 V栅极直径4 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr长度12.7 cm直径13.5 cm中和器LFN 2000KRI 射频离子源 RFICP 40 应用领域： 预清洗 表面改性 辅助镀膜 (光学镀膜 ) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

1.应用范围：ICP-7800型全谱直读型电感耦合等离子体发射光谱仪，具有突出的抗干扰和分析检测性能，应用于研发、检测等高端分析需求， 可方便进行定性、半定量和精确定量分析，是常量、微量和痕量无机元素同时分析的理想仪器。2.工作环境电压：220V AC±10%\\MKJ 室温：环境温度（10-30）℃ 相对湿度：（20-80）%RH3.技术规格3.1.等离子体射频源：3.1.1：全数字控制的双电源设计射频电源，更宽功率范围500-1600W，功率可调，具有更强的样品适应性； 3.1.2：自激式RF射频发生器：自激式电源匹配速度快，功率负载能力强，可以直接分析100%的甲苯样品。自动调谐，水冷散 热，适应复杂样品分析功率切换，无运动部件，抗震抗干扰，更加可靠；3.1.3：LOW模式：提供500W超低功率待机，降低氩气消耗50%以上，待机时氩气用量≤5L/min；3.1.4：等离子体观测方式：可配置轴向、径向、双向和同时双向四种观测模式。垂直矩管可避免高盐沉积，延长炬管使用寿命， 降低炬管耗材支出。轴向观测使用金属冷锥去除尾焰，获得较高的灵敏度，无需配置空气压缩机，节省外部配件及消耗。径向观 测的等离子观测位置可调，针对不同元素的分析需求，具有更强的抗干扰能力； 3.1.5：智能衰减：具有轴向衰减和径向衰减功能，可衰减100倍以内浓度的样品，使得样品高含量元素，能够一次分析完成，不 需要反复稀释，降低样品前处理难度，支持简化分析； 3.1.6：RF射频频率：27.12MHz，耦合效率大于80%；3.1.7：RF功率稳定性: ≤0.1%；RF频率稳定性：≤0.01%； 3.2.光学系统： 3.2.1：恒温三维光学系统，反射次数少，光能量损失低。所有光学元件均密封于热平衡光室中，主机与光室热隔 离设计，更好的抵御外界环境温度变化。光室：精密恒温36℃±0.1℃，驱氩气；3.2.2：稳定高效的全固定中阶梯光栅分光系统，无运动部件，抗震强，稳定可靠； 3.2.3：波长范围：165-900nm，全波长覆盖；3.2.4：单色器：焦距：400mm，全反射成像光路，石英棱镜二维色散系统；3.2.5：中阶梯光栅：53.6L/mm，63.5度闪耀，刻数越多，分辨率越高； 3.2.6：波长校正: 每次点火，仅用Ar谱线，自动进行光谱位置校正，保证分析波长的正确性，无须波长校正溶液；3.2.7：全谱实时校准技术（TARC）：利用无干扰的氖特征谱线，对光谱的细微偏移进行实时校正，实现光谱的最 优积分，确保长期稳定性，良好消除光谱漂移对于测量的影响。 3.2.8：吹扫型光室：对189nm以下波长测定，选择氩气进行光路吹扫，无需使用真空泵，避免真空返油，污染光 室； 3.2.9：杂散光：≤2.0mg/L（10000mg/L Ca溶液在As 188.980nm处测定）； 3.2.10：光学分辨率（FWHM）：≤7pm @200 nm（分辨率和检出限须在相同条件获得）； 3.2.11：可扩展深紫外Cl/Br分析功能：双光栅设计，使得光谱分析下限达到130nm深紫外区域。3.3.检测器：像元级制冷的专有大面阵ECCD检测器 3.3.1：检测单元：1024*1024像素大面阵CCD检测器，一次曝光；3.3.2：成像尺寸：25.4mm×25.4 mm大面阵成像感光单元，采用24×24um大像元，带来高灵敏度的响应，整 体面幅大，能够在高分辨率的同时，获得更宽的光谱范围； 3.3.3：像元级制冷：封装在传感器内部的TEC制冷，直接作用像元，制冷温度大于-10℃，有效防止CCD表面冷 凝，无需气体吹扫保护；3.3.4：防饱和溢出：针对每一个像素进行背泄式防溢出保护设计，彻底消除谱线饱和溢出问题，无需担心谱线饱 和对邻近谱线的影响；3.3.5：智能积分设计：信号背景同步采集，曝光时间取决于谱线的光强，自动计算谱线最佳曝光时间，同时以最 佳信噪比获得高强度信号和弱信号，拓宽的动态范围，使高低含量元素可以同时检测，避免试样反复稀释；3.3.6： 检测器表面无任何光转换化学涂膜，不会因为涂层老化而导致检测器损坏更换。 3.4.样品导入系统： 3.4.1：波长校正: 每次点火，仅用Ar谱线，自动进行光谱位置校正，保证分析波长的正确性，无须波长校正溶液； 确保稳定进样的同时，可支持进样管、内标管、废液管和辅助试剂进样管（氢化物发生器）同时运行，有利于复杂 样品分析； 3.4.2：气路控制：采用精密质量流量控制器控制多路气体流量，最多可控制五路，包括雾化气、辅助气、冷却气 和可扩展的附加气体（O2和Ar），精度0.01L/min。 - 3.5. 软件性能：3.5.1：图形化操作界面，软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能； 3.5.2：基于分类和版本的方法库管理软件，便于方法的管理、维护和传承；内置部分标准方法，有助于提高分析 效率； 3.5.3：具有同时记录所有元素谱线全谱数据采集功能，数据可安全存储，支持分析数据保存和检索功能，方便日 后再分析；3.5.4：具有50000条以上的谱线库，每条谱线至少可以选择30个象素点进行测量；3.5.5：具有全谱采集功能，软件上可直接获取完整全谱图，了解样品光谱及光谱干扰状态；3.5.6：具有多种干扰校正方法和实时背景扣除功能：如标准比较法、内标法、干扰元素校正系数法（IEC）、标 准加入曲线法等，丰富了用户多种分析研究的手段； 3.5.7：具有仪器校准功能，支持炬管准直、光源优化等功能，方便用户日常维护；具有可视化的仪器运行状态监 控； 3.5.8：具有登录口令保护，多级操作权限设置和网络安全管理，永久历史记录保存； 3.5.9：具有可视化炬焰观测模块；3.5.10：同时具有中英文版本软件；3.5.11：具有网络远程服务功能，自带远程服务助手，远程诊断，4G网络数据连接技术服务部门对于仪器实现远 程诊断维修； 3.5.12：软件设计全面符合电子签名管理的21 CFR Part 11管理法规，软件具有三级管理权限和审计追踪功能， 符合3Q认证等法规要求； 3.5.13：可集成自动化分析仪器平台、在线分析仪器平台的软件操作。3.6.分析性能： 3.6.1：分析速度：约每分钟200条谱线； 3.6.2：样品消耗量：仅需2ml ；3.6.3：测定谱线的线性动态范围：≥105（以Mn257.6nm 来测定，相关系数≥0.999）；3.6.4：精密度：测定1ppm或10ppm多元素混合标准溶液，重复测定十次的RSD≤0.5%； 3.6.5：稳定性：测定1ppm或10ppm多元素混合标准溶液， 8小时的长时间稳定性RSD≤1%； 3.6.6：检出限：(单位ug/L，按JJG768-2005规定的元素) 可对分析元素的任何一条谱线进行定性、半定量和定量分析，支持内标法、标准加入法、干扰元素校正等 方法；3.6.7：预热时间：从待机状态到等离子体点燃时间小于5分钟。 3.7. 仪器接口（含联用分析软件）： 3.7.1可实现自动化消解样品处理工作站联用(消解系统采用石墨消解电热模式，实现消解、定容、进样自动化操作， 支持48位以上样品同时处理） 3.7.2具有有机样品直接进样分析系统接口（提供样品制冷功能，温度小于-15摄氏度以下）； 3.7.3具有在线消解模块接口（支持在线全自动电热消解和浓度控制、进样管路自动清洗功能）；3.7.4具有在线氢化物发生分析系统接口（支持反应液体自动添加和浓度控制、进样管路自动清洗功能）； 3.7.5可连接离子交换工作站进行价态分析或低浓度富集高基体去除的分析；3.7.6可连接自动进样器进行分析（支持样品位240以上可配置）；4附件系统：4.1计算机系统 4GB内存，500G硬盘，配DVD和键盘鼠标。 4.2冷却循环水系统 制冷量1490W，温度范围5-35℃。4.3激光打印机 黑白激光打印机 4.4单相交流稳压器 10KVA，精度1%，输入电压160V-280V，输出电压220V。

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 100上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 400 mA 离子流. 考夫曼型离子源 RFICP 100 源直径19cm 安装在10”CF 法兰, 在离子溅镀时, 离子源配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现完美的薄膜特性. 在离子刻蚀工艺中, 离子源与离子光学配合, 蚀刻更均匀. 标准配置下 RFICP 100 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.KRI 射频离子源 RFICP 100 技术参数型号RFICP 100Discharge 阳极RF 射频离子束流350 mA离子动能100-1200 V栅极直径10 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量5-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr长度23.5 cm直径19.1 cm中和器LFN 2000KRI 射频离子源 RFICP 100 应用领域 预清洗 表面改性 辅助镀膜(光学镀膜) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE客户案例: 超高真空离子刻蚀机 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系统配置如下美国 KRI 射频离子源 RFICP 100美国 HVA 真空闸阀德国 Pfeiffer 分子泵 HiPace 23001978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请联络上海伯东。上海伯东版权所有, 翻拷必究！

离子溅射仪喷金仪镀膜仪SD-900实验室仪器SEM镀膜博远微纳VPI离子溅射仪外观亮丽，做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅射电流大小，成膜速度快，质量好；功能控制和定时皆由CPU调度，使用范围广。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得最佳镀膜效果。 离子溅射仪喷金仪镀膜仪SD-900实验室仪器SEM镀膜博远微纳VPI是一款最常用的离子溅射仪，是一切溅射仪的基础。是以金属靶材和样品台分别作为阴阳两极，在真空状态下产生辉光放电，使金原子与残存的气体不断碰撞而沉积成薄膜。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材。 具有成膜均匀，操作简单，所需时间短，过程可控，数码计时等优点。 配有高位定性飞越真空泵参数：主机规格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）靶（上部电极）：50mm×0.1mm（D×H）靶材：Au（标配）也可根据实际情况配备银靶、铂靶等。样品室：硼硅酸盐玻璃160mm×120mm（D×H）样品台尺寸：可安装直径50mm和直径70mm的样品台，也可根据自身要求定制样品台靶材尺寸：Ф50mm 真空指示表：1Pa离子电流表：50mA定时器：0-999S微型真空气阀：可连接φ3mm软管可通入气体： 多种最高电压： -1600 DCV机械泵：标准配置2L/S（国产VRD-8） 输入电压：220V(可做110V),50HZ特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。3、SETPLASMA手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的损伤。4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。5、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、钯等），以达到更细颗粒的涂层。6、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。需要镀膜的样品1、电子束敏感的样品:主要包括生物样品，塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；2、非导电的样品:由于样品不导电，其表 面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消除荷电效应，可在样 品表面镀一层金属导电 层，镀层作为一个导电 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量。3、新材料:非导电材料和半导体材料通过国际CE认证。

简介Online 5100 MP多参数重金属在线分析仪使用发射光谱来分析溶液中的元素含量。高温状态下，处于基态的原子或离子跃迁到激发态，处于激发态的原子回到基态时又发射出不同波长的光，发射谱线的波长与特定元素有关，而谱线的强度与浓度有关，Online 5100 MP就是基于这一原理进行分析的。功能特点 ▲ 原子发射光谱原理，方法成熟▲ 分析元素包括金属和非金属▲ 多元素同时分析，可扩展应用，多达70多种元素▲ 宽线性范围：ppb~ppm▲ 宽波长范围：176nm~780nm▲ 检测限低：与实验室ICP-AES相当▲ 耐盐高：可耐受高达3%TDS▲ 工业电脑控制，人性化操作界面▲ CCD固态检测器：可同时进行背景及干扰校正▲ 低运行成本：从空气中提取氮气，不使用昂贵气体▲ 安全：无需易燃或氧化气体，消除安全隐患▲ 快速：只需数分钟即可分析多个元素▲ 整体式矩管：省略了矩管调整和气体管路的繁琐连接▲ 氮气等离子体：温度控制在5000K技术参数 分析元素：用户选择 (多达70多种元素可选)测量原理：原子发射光谱准 确 度：优于±2% (标准样品)重 复 性：优于2%线 性：优于0.9999分析时间：约1min/单元素（不含预处理）仪器校准：自动电 源：220V±10% VAC，50±1Hz预 处 理：根据用户情况配置

THA2700氦等离子体发射光谱分析模块仪器功能 THA2700氦等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。工作原理氦等离子体发射光谱分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。技术参数 工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min。技术指标分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；载气：高纯氦气；检出限：≤10×10-9；含尘量：≤0.1um；重量：约1.5kg；主体尺寸：约170*111*90mm。技术优势u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，仪器使用寿命长。典型工程应用领域u 空分氦气分析u 高纯气体分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱

ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪产品介绍： ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪是公司经多年技术积累而开发的电感耦合等离子体发射光谱仪，用于测定各种物质（可溶解于盐酸、硝酸、氢氟酸等）中的微量、痕量金属元素或非金属元素的含量，自动化程度高、操作简便、稳定可靠。 ICP-6800SD型电感耦合等离子体发射光谱仪广泛应用于稀土、地质、冶金、化工、环保、临床医药、石油制品、半导体、食品、生物样品、刑事科学、农业研究等各个领域。工作环境：内容 适应范围贮存运输温度 15℃-25℃贮存运输相对湿度 ≤70％大气压 86-106 kPa电源适应能力 220±10v 50-60MHz工作湿度 ≤70％工作温度 15℃-30℃ 技术指标：固态电源技术指标电路类型：电感反馈式自激振荡电路，同轴电缆输出，匹配调谐，功率反馈闭环自动控制工作频率：27.12MHz±0.05%频率稳定性：＜0.1%输出功率：800W—1200W输出功率稳定性：＜0.3%电磁场泄漏辐射强度：距机箱30cm处电场强度E：＜2V/m 进样系统技术指标输出工作线圈内径25mm矩管，三同心型，外径20mm的石英矩管同轴型喷雾器外径6mm双筒形雾室外径34mm 氩气流量计规格和载气压力表规格1.等离子气流量计（100-1000）L/h (1.6-16L/min)2.辅助气流量计（10-100）L/h (0.16-1.66L/min)3.载气流量计（10-100）L/h (0.16-1.66L/min)4.载气稳压阀（0-0.4MPa）5.冷却循环水：水温20-25℃ 流量5L/min 水压0.1MPa 单色器技术指标光路：Czerny-Turner焦距：1000mm光栅规格：离子刻蚀全息光栅，刻线密度3600线/mm(可选用刻线密度2400线/mm)线色散率倒数：0.26nm/mm分辨率：≤0.007nm(3600刻线）. ≤0.015nm(2400刻线）扫描波长范围：3600线/mm扫描波长范围：190—500nm 2400线/mm扫描波长范围：190—800nm步进电机驱动最小步距:0.0006 nm出射狭缝：12μm入射狭缝：10μm 光电转换器技术指标光电倍增管规格：R293或R298光电倍增管负高压：0-1000V稳定性＜0.05% 整机技术指标：扫描波长范围：195nm～500nm（3600L/mm光栅）195nm～800nm（2400L/mm 光栅）重复性：（即短期稳定度）相对标准偏差RSD≤1.5％稳定性：相对标准偏差RSD≤2％

简单介绍：Thermo iCAP 6000 ICP-OES全谱直读等离子体发射光谱仪新一代ICP可称得上是小身材，高性能。凭借在ICP市场多年累计得经验，赛默飞世尔科技（原热电公司）研发出这款集小型化、集成化、人性化和智能化于一身得新一代ICP, 从而实现了 优异得仪器性能 高的工作效率 简便的操作 低的运行成本。详细介绍：Thermo iCAP 6000 ICP-OES全谱直读等离子体发射光谱仪新一代ICP可称得上是小身材，高性能。凭借在ICP市场多年累计得经验，赛默飞世尔科技(原热电公司)研发出这款集小型化、集成化、人性化和智能化于一身得新一代ICP, 从而实现了更优异得仪器性能 高的工作效率 简便的操作 低的运行成本。Thermo iCAP 6000 ICP-OES全谱直读等离子体发射光谱仪技术参数当今世界体积zui小的新型iCAP 6000系列等离子体发射光谱仪 优异的仪器性能 高的工作效率 方便的操作 低的运行成本 广泛应用于环境、石化、冶金、食品饮料、地球化学和水泥行业的普通和元素分析实验室Thermo iCAP 6000 ICP-OES全谱直读等离子体发射光谱仪主要特点降低了气体消耗 改善了对于诸如砷（As）、锑（Sb）、硒（Se）和碲（Te）的元素分析性能全自动波长校正和补偿校正保证了长时间的优异稳定性第四代电荷注入式（CID）检测器RACID86 快速、可靠和便捷性能的常规分析，既可采用单一的等离子体炬垂直观测，也可采用双向观测 【谱质分析检测技术（上海）有限公司】谱质分析检测技术（上海）有限公司是位于国内二手分析仪器行业领头狮，二手分析仪器租赁，公司由原厂致力于产品研发的工程师、为客户提供技术支持与销售服务的市场人员和商业 人士组成。在国内二手分析仪器领域不断为用户提供着世界上主流仪器 与服务。 专注于生物、化学、 环境、农残、第三方检测、实验室等行业分析仪器。主要从事 品牌安捷伦、Waters、岛津、PE、Thermo赛默飞、热电等二手色谱、质谱和光谱等设备的翻新、销售和售后。 提供多种分析仪器，包括：液相色谱仪、气相色谱仪、单四级杆质谱仪、三重四级杆质谱仪、离子肼质谱仪、飞行时间质谱仪、液质联用仪、气质联用仪、原子吸收光谱仪、等离子体发射光谱仪、傅立叶变换红外光谱仪、生命科学仪器、核磁共振波谱仪、色谱耗材配件、顶空进样器、气相色谱/质谱仪、液相色谱/质谱仪等分析仪器，以及Q/TOF、TSQ、LCT、ICP/MS、GC/MS等联用仪。 经营品牌有Agilent（安捷伦）、Waters（沃特世）、Thermo（赛默飞）、AB sciex、Perkin Elmer（珀金埃尔默）、Dionex（戴安）、SHIMADZU（岛津）等品牌仪器，力求达到您的不同需求。关于谱质的服务： 1.仪器经过工程师维修测试，具备可以与新机相的性能状态，使您的科学实验流畅运行！ 2.二手仪器价格让您不为实验室建设资费不足而烦恼，节省出的经费则可以投入重要的实验项目！ 3.原厂的售后技术服务标准为您解决后顾之忧，团队为您的仪器提供长期维修支持！ 4. 仪器库存，无论是液相色谱、气相色谱、液质联用、气质联用以及仪器的维修配件，均能现货供应！【谱质分析检测技术（上海）有限公司】联系人：李先生联系地址：上海市嘉定区金园四路501号东锦国际大厦14F

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价格货期电议KRI 考夫曼离子源 KDC 100上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴极灯丝和自对准栅极, 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数：型号KDC 100供电DC magnetic confinement - 阴极灯丝2 - 阳极电压0-100V DC电子束OptiBeam&trade - 栅极专用, 自对准 -栅极直径12 cm中和器灯丝电源控制KSC 1212配置- - 阴极中和器Filament, Sidewinder Filament 或LFN 2000 - 安装移动或快速法兰 - 高度9.25' - 直径7.6' - 离子束聚焦平行散设 -加工材料金属电介质半导体 -工艺气体惰性活性混合 -安装距离8-36” - 自动控制控制4种气体* 可选: 可调角度的支架KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域： 溅镀和蒸发镀膜 PC辅助镀膜(光学镀膜)IBAD表面改性, 激活 SM离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准大口径射频离子源 RFICP 380 上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 最大离子束流 1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用. 广泛 应用于离子束刻蚀机.KRi 射频离子源 RFICP 380 特性1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配2. 离子源结构模块化设计3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行4. 全自动控制器5. 离子束动能 100-1200eV 6. 栅极口径 38cm, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用射频离子源 RFICP 380 技术规格:阳极电感耦合等离子体2kW & 1.8 MHz射频自动匹配最大阳极功率1kW最大离子束流 1000mA电压范围100-1500V离子束动能100-1200eV气体Ar, O2, N2,其他流量5-50sccm压力 0.5mTorr离子光学, 自对准OptiBeamTM离子束栅极38cm Φ栅极材质钼离子束流形状平行,聚焦,散射中和器LFN 2000高度38.1 cm直径58.2 cm锁紧安装法兰12”CF射频离子源 RFICP 380 基本尺寸: 上海伯东美国考夫曼 KRI 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域.作为蚀刻机的核心部件, KRI 射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求!若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

技术参数： 可测元素70多种； 分析速度快，一分钟可测5-8个元素； 多元素同时分析，客户可以自由选择元素数量与安排测量顺序； 检出限低，达到ppb量级，Ba，Cu等甚至达到0.7ppb； 线性动态范围宽，高达6个数量级，高低含量可以同时测量； 分析成本低，一瓶氩气(瓶压10Mpa)可以用8个小时； 全反射消色差光学系统 采用凹面反射镜代替凸透镜作为光学聚焦元件，解决了不同元素焦点不同而引起的色差问题，同时提高光学系统效率。 波长范围宽 选择3600条刻线光栅，波长范围可达180nm-500nm 选择2400条刻线光栅，波长范围可达180nm-800nm 全自动化设计 自动化程度高，整台仪器除了电源开关，仪器所有功能都是通过计算机控制，可靠、安全、方便。 先进的进样系统 进样系统高效、稳定，可配备国内外各种雾化器、雾化室，可以配备高盐雾化器，耐氢氟酸雾化器等，满足不同客户的需求。 稳定先进的全固态射频电源： 仪器采用的射频电源为公司自主研发的全固态射频电源，具有体积小、效率高、输出功率稳定、带有各种保护功能等诸多优点，进 一步提高了仪器的稳定性与安全性。 快速准确的全自动匹配功能 负载终端采用自主研发的全自动匹配技术，具有匹配速度快、精度高等优点。确保输出功率最大限度的加到负载，提高电源的使用 效率，从而提高仪器的稳定性，使得整个点火过程方便简单。 一键点火：用户只需点击一个启动按钮，仪器自动进行气体压力、冷却水、电源开关检查、点火、匹配等诸多动作，并将信息实时 传递给客户。 观察高度调节 不同的元素有不同的最佳观察高度，客户可以根据经验或者比较，适当的通过软件调整火焰的观察高度，在最佳的位置得到最好的 测量效果。强大的图形诊断功能 强大的图形诊断功能可以帮助客户充分的了解当前仪器的工作状态，并通过适当的参数设置来观察不同条件下仪器的运行状况，以 把握最佳的测量条件。 多元素自动测量 选择需要测量的各个元素，设定好测量参数，一切交给仪器，最后直接得到所有元素的测量结果，简单、省事。 强大的数据库管理 拥有几千条谱线，可以根据需要与爱好选择适当的谱线，避开可能存在的干扰，为您提供更多的选择，更合理的推荐，让测试变得 更加专业与准确。 软件功能强大，操作人性化 软件功能强大，全中文更适合国人使用。可进行定性、定量分析；有数据再处理功能；自动计算元素含量，自动生成测试报告；具有 数据筛选功能，剔除不想要的数据；数据库管理完善，可以自由保存与删除。 测试完毕后可以生成检测报告，检测报告内容可以根据用户需求选择，包括方法名称、仪器型号、元素、波长、强度、含量、相对标 准偏差、单位、检测员、备注、校正人等，方便用户分析。 软件界面设计人性化，简单明了，大大提高了分析效率。软件主界面集成软件的主要功能，包括控制等离子体状态、仪器状态、分析 参数、分析谱线、波长谱图显示、曲线拟合、数据处理、历史谱图、历史数据、用户管理等诸多功能。

PerkinElmer Optima 2100DV/全谱直读等离子体发射光谱仪/美国PerkinElmer 公司 Optima 2100DV型ICP-OESPerkinElmer公司的ICP-OES是世界上的品牌，二十多年来市场占有率一直以的稳居一的位置。 PerkinElmer Optima 2100DV/全谱直读等离子体发射光谱仪 ICP-OES可以分析元素周期表中所有金属元素，检出限在1ppb以下。同时可以分析绝大部分非金属元素，例如As、Se、P、S、Si、Te等，检出限低于10ppb，如果配合使用氢化物发生器，这些非金属的检出限可以改善10倍以上。 自60年代电感耦合等离子体（ICP）问世以来，由于它具有敏度高，稳定性好，基体效应小，线性范围宽及多元素同时测定等优点，因此以ICP为光源的发射光谱仪在分析领域内得到越来越广泛的应用。 ICP-OES主要由进样系统、射频（RF）发生器、分光系统、检测器和软件等五部分组成。 就电感耦合等离子体发射光谱技术的发展史来看大致经历了四个时代： 代：以棱镜为分光元件，以感光板为测量器的摄谱仪； 第二代：以固定棱镜或光栅为分光元件，以多个光电倍增管(PMT)为检测器的多道直读ICP光谱仪时代； 第三代：以转动平面光栅为分光元件，以单个光电倍增管(PMT)为检测器的单道扫描ICP光谱仪时代； 第四代：以中阶梯光栅+光栅或棱镜构成的二维色散系统为分光系统，以平面固体检测器为检测器的全谱直读ICP时代。 从ICP技术的发展历程来看，中阶梯光栅系统取代全息光栅；平面固体检测器取代光电倍增管；全谱直读型ICP取代早期的多道及单道ICP已经是不争的事实。 耐HF酸、耐高盐进样系统可以让用户放心地分析各种类型的样品 Optima 2100 DV标准配置的雾化系统为强耐腐蚀的配置。 雾化器为正交雾化器，其特点是高盐分进样时不会堵塞，可以直接进饱和食盐水溶液！此外在雾化器喷嘴装有耐腐蚀的宝石喷嘴，使其具有极强的耐HF、碱、王水、有机溶剂的能力！ 雾室采用耐腐蚀的Ryton专利技术制成，耐高浓度的HF、碱、王水、有机溶剂，且这种雾室物理强度大，不象玻璃雾室那么易碎，敏度高，稳定性好，记忆效应低。 总之，Optima 2100 DV进样系统没有更换雾室的繁琐操作，可进行50%HCl、HNO3、H2SO4、20%HF及30%NaOH分析，一套进样系统相当于其它公司的标准配置进样系统 ＋ 一套有机进样系统＋ 一套耐HF进样系统 ＋ 一套耐高盐进样系统。 【谱质分析检测技术（上海）有限公司】谱质分析检测技术（上海）有限公司是位于国内二手分析仪器行业领头狮，二手分析仪器租赁，公司由原厂致力于产品研发的工程师、为客户提供技术支持与销售服务的市场人员和商业 人士组成。在国内二手分析仪器领域不断为用户提供着世界上主流仪器 与服务。 专注于生物、化学、 环境、农残、第三方检测、实验室等行业分析仪器。主要从事 品牌安捷伦、Waters、岛津、PE、Thermo赛默飞、热电等二手色谱、质谱和光谱等设备的翻新、销售和售后。 提供多种分析仪器，包括：液相色谱仪、气相色谱仪、单四级杆质谱仪、三重四级杆质谱仪、离子肼质谱仪、飞行时间质谱仪、液质联用仪、气质联用仪、原子吸收光谱仪、等离子体发射光谱仪、傅立叶变换红外光谱仪、生命科学仪器、核磁共振波谱仪、色谱耗材配件、顶空进样器、气相色谱/质谱仪、液相色谱/质谱仪等分析仪器，以及Q/TOF、TSQ、LCT、ICP/MS、GC/MS等联用仪。 经营品牌有Agilent（安捷伦）、Waters（沃特世）、Thermo（赛默飞）、AB sciex、Perkin Elmer（珀金埃尔默）、Dionex（戴安）、SHIMADZU（岛津）等品牌仪器，力求达到您的不同需求。关于谱质的服务： 1.仪器经过工程师维修测试，具备可以与新机相的性能状态，使您的科学实验流畅运行！ 2.二手仪器价格让您不为实验室建设资费不足而烦恼，节省出的经费则可以投入重要的实验项目！ 3.原厂的售后技术服务标准为您解决后顾之忧，团队为您的仪器提供长期维修支持！ 4. 仪器库存，无论是液相色谱、气相色谱、液质联用、气质联用以及仪器的维修配件，均能现货供应！【谱质分析检测技术（上海）有限公司】联系人：李先生联系地址：上海市嘉定区金园四路501号东锦国际大厦14F

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PerkinElmer Optima 2100DV/全谱直读等离子体发射光谱仪/美国PerkinElmer 公司 Optima 2100DV型ICP-OESPerkinElmer公司的ICP-OES是世界上的品牌，二十多年来市场占有率一直以的稳居一的位置。 PerkinElmer Optima 2100DV/全谱直读等离子体发射光谱仪 ICP-OES可以分析元素周期表中所有金属元素，检出限在1ppb以下。同时可以分析绝大部分非金属元素，例如As、Se、P、S、Si、Te等，检出限低于10ppb，如果配合使用氢化物发生器，这些非金属的检出限可以改善10倍以上。 自60年代电感耦合等离子体（ICP）问世以来，由于它具有敏度高，稳定性好，基体效应小，线性范围宽及多元素同时测定等优点，因此以ICP为光源的发射光谱仪在分析领域内得到越来越广泛的应用。 ICP-OES主要由进样系统、射频（RF）发生器、分光系统、检测器和软件等五部分组成。 就电感耦合等离子体发射光谱技术的发展史来看大致经历了四个时代： 代：以棱镜为分光元件，以感光板为测量器的摄谱仪； 第二代：以固定棱镜或光栅为分光元件，以多个光电倍增管(PMT)为检测器的多道直读ICP光谱仪时代； 第三代：以转动平面光栅为分光元件，以单个光电倍增管(PMT)为检测器的单道扫描ICP光谱仪时代； 第四代：以中阶梯光栅+光栅或棱镜构成的二维色散系统为分光系统，以平面固体检测器为检测器的全谱直读ICP时代。 从ICP技术的发展历程来看，中阶梯光栅系统取代全息光栅；平面固体检测器取代光电倍增管；全谱直读型ICP取代早期的多道及单道ICP已经是不争的事实。 耐HF酸、耐高盐进样系统可以让用户放心地分析各种类型的样品 Optima 2100 DV标准配置的雾化系统为强耐腐蚀的配置。 雾化器为正交雾化器，其特点是高盐分进样时不会堵塞，可以直接进饱和食盐水溶液！此外在雾化器喷嘴装有耐腐蚀的宝石喷嘴，使其具有极强的耐HF、碱、王水、有机溶剂的能力！ 雾室采用耐腐蚀的Ryton专利技术制成，耐高浓度的HF、碱、王水、有机溶剂，且这种雾室物理强度大，不象玻璃雾室那么易碎，敏度高，稳定性好，记忆效应低。 总之，Optima 2100 DV进样系统没有更换雾室的繁琐操作，可进行50%HCl、HNO3、H2SO4、20%HF及30%NaOH分析，一套进样系统相当于其它公司的标准配置进样系统 ＋ 一套有机进样系统＋ 一套耐HF进样系统 ＋ 一套耐高盐进样系统。 【谱质分析检测技术（上海）有限公司】谱质分析检测技术（上海）有限公司是位于国内二手分析仪器行业领头狮，二手分析仪器租赁，公司由原厂致力于产品研发的工程师、为客户提供技术支持与销售服务的市场人员和商业 人士组成。在国内二手分析仪器领域不断为用户提供着世界上主流仪器 与服务。 专注于生物、化学、 环境、农残、第三方检测、实验室等行业分析仪器。主要从事 品牌安捷伦、Waters、岛津、PE、Thermo赛默飞、热电等二手色谱、质谱和光谱等设备的翻新、销售和售后。 提供多种分析仪器，包括：液相色谱仪、气相色谱仪、单四级杆质谱仪、三重四级杆质谱仪、离子肼质谱仪、飞行时间质谱仪、液质联用仪、气质联用仪、原子吸收光谱仪、等离子体发射光谱仪、傅立叶变换红外光谱仪、生命科学仪器、核磁共振波谱仪、色谱耗材配件、顶空进样器、气相色谱/质谱仪、液相色谱/质谱仪等分析仪器，以及Q/TOF、TSQ、LCT、ICP/MS、GC/MS等联用仪。 经营品牌有Agilent（安捷伦）、Waters（沃特世）、Thermo（赛默飞）、AB sciex、Perkin Elmer（珀金埃尔默）、Dionex（戴安）、SHIMADZU（岛津）等品牌仪器，力求达到您的不同需求。关于谱质的服务： 1.仪器经过工程师维修测试，具备可以与新机相的性能状态，使您的科学实验流畅运行！ 2.二手仪器价格让您不为实验室建设资费不足而烦恼，节省出的经费则可以投入重要的实验项目！ 3.原厂的售后技术服务标准为您解决后顾之忧，团队为您的仪器提供长期维修支持！ 4. 仪器库存，无论是液相色谱、气相色谱、液质联用、气质联用以及仪器的维修配件，均能现货供应！【谱质分析检测技术（上海）有限公司】联系人：李先生联系地址：上海市嘉定区金园四路501号东锦国际大厦14F

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