电位差测厚仪

现在，您可选择！独立系统控制的电位滴定仪。轻松控制多达4个独立平行任务工作站。可增加了4组滴定工作站和搅拌器，终端用户可以简单方便地同时进行电位差滴定、光度滴定等不同操作。另外还可以通过自动进样转换器进行多任务滴定工作站。滴定管和滴定工作站设计新颖、结构紧凑。与传统型号的产品相比，该系列产品采用新型设计，减少了25%的工作台空间。新型B-1700滴定管适用于传统的COM系列滴定仪。COM-1700系列功能先进，操作性能卓越！

产品特点：将UJ系列电位差计、光电检流计、标准电池等集成一体，体积小，重量轻，便于携带；数字显示：电位差值七位显示，数值直观清晰、准确可靠；既可使用内部基准进行校准，又可外接标准电池作基准进行校准，使用方便灵活；保留电位差计测量功能，真实体现电位差计对比检测误差微小的优势；电路采用对称漂移抵消原理，克服了元器件的温漂和时漂，提高测量的准确度；采用无极波段开关，可任意调节；可用内标或外标进行标定。技术指标：测量范围：0～±5V分 辨 率：1uV；内标：1V基准。

Couloscope CMS2库仑法测厚仪菲希尔代理fischer德国Fischer Couloscope CMS2 库伦测厚仪如果不能使用非破坏性方法，Couloscope CMS2是测量金属或非金属基材上几乎任何金属涂层厚度的理想仪器，尤其是多层涂层。欢迎来到无锡骏展仪器有限责任公司网站， 我们主要经营仪器仪表、超声波探伤仪、磁粉探伤仪、超声波测厚仪、镀层测厚仪、表面粗糙度仪、里氏硬度计。我公司主要供应仪表量具/测量仪表粗糙度计等产品，我们的产品都是货真价实，性能可靠。COULOSCOPE CMS2 STEP：除了与COULOSCOPE CMS2相对应的涂层厚度测量外，COULOSCOPE CMS2 STEP还提供符合ASTM B764 - 04和DIN EN 16866的STEP测试功能.COULOSCOPE CMS2 STEP非常适合测量单个涂层厚度和 多种镍涂层的潜在差异以简单的标准符合方式。COULOSCOPE CMS2仪器可测量金属或非金属基材上几乎任何金属涂层的厚度。仪器功能• 单涂层和多涂层系统的测量• 图形显示，可清晰地显示测量值，设定的涂层系统以及作为去镀速率和测试区域尺寸的参数• 液晶显示屏上的电池电压图形显示• 适用于大多数金属涂层的许多预定义测量应用• 可选测量单位：μm或密耳• 欧洲，南美和亚洲展示语言COULOSCOPE CMS2 STEP• 与COULOSCOPE CMS2附录中描述的相同功能用于STEP测量测量• 可调节的除镀电流• 使用光标确定涂层厚度和潜在差异• 自动测量序列，用于调节银参比电极（产生所需的AgCl涂层）STEP测试（同时厚度和电化学势测定），ASTM B764，DIN EN 16866测量原理STEP Test 是(Simultaneous Thickness and Electrochemical Potential determination)（同时测量镀层厚度和化学电位差）的简写， 是已经标准化很久的测量方法。它可以同时测量各镀层厚度和多层镍系统中两层之间的电化学电位差。 厚度测量时用库仑法来测量，电位差通过外面镀一层 AgCl 的银参比电极来测量。电压曲线可以显示在屏幕上，镀层厚度和电位差可以在图上读出。为了获得可以比较的稳定电位差测量结果，参比电极到工件的距离必须始终保持不变。 这个问题通过特殊的测量槽得到解决 .

菲希尔电解法测厚仪Couloscope CMS2 STEP简介：CouloScope CMS STEP在电镀行业中，对多层镍镀层中各自层的同时的厚度和电极电位的测定变成了一个越来越重要的需求。的多镀层组成为不含硫的半光亮镍层和含硫的光亮镍层。这两个镍层间足够的电位差导致了光亮镍层优先腐蚀于半光亮镍层。这种次序也就延迟了整个镍层的穿透速度，并且给了基材相对于单镀层更好的防腐保护。 COULOSCOPE CMS STEP多层镍测厚仪器根据库仑电量分析法进行测量，符合 DIN EN ISO 2177、50022 和 ASTM B764标准通过电位差测试仪器可以简便的对镍镀层之间的电化学的电位差进行测量。 可以用于测量铜基层、镍多层涂层和铬涂层的厚度。COULOSCOPE CMS STEP可以通过定位于电位-时间表中相关部分的双指针来方便地测出镀层厚度和电位差。这个图表能够外部保存或通过RS232转换到PC电脑中。特性：吸引人的设计，大的液晶显示器和清晰安排的键盘。操作简单，菜单指引的操作提示。电解区域直径从0.6 mm (24 mils) 至3.2 mm (128 mils)。大约100个预先定义好的应用程式适用于大多数的金属镀层，包括测量线材。特点：吸引人的设计，大的液晶显示器和清晰安排的键盘。操作简单，菜单指引的操作提示。电解区域直径从0.6 mm (24 mils) 至3.2 mm (128 mils)。大约100个预先定义好的应用程式适用于大多数的金属镀层，包括测量线材。标准：DIN EN ISO 2177 ； ASTM B504大屏幕点阵液晶显示屏，可显示文字与图形：126 * 70 mm可设置和储存：50个应用程式、600个数据组；3 000个数据统计：平均值、zui大值、zui小值、标准偏差、测量次数、Cp、Cpk 和直方图使用多层菜单和软键，使操作更方便RS232 接口可通过电缆和传输软件将数据传到 PC模拟输出： 0 ～ -18V输入阻抗： ＞ 2 KΩ工作温度： 10 ℃ ～ 40 ℃仪器重量： 6 kg 电源： AC 220 V ，50-60 Hz；zui大功耗 ≤ 85 VA尺寸： 350W * 140H * 200D mmCOULOSCOPECMSCOULOSCOPECMS STEP库仑镀层厚度测试仪分步测量： 镀层厚度和电位差无锡骏展仪器有限责任公司经过多年的运作，建立了完善的产品体系。通过传统渠道与互联网渠道的结合，形成完整的营销语境，使得交易模式更加高效和丰富。无锡骏展仪器有限责任公司视高品质的服务为企业的生命，为了让广大用户享受到完善的配套服务、完善的技术咨询和完善的售后服务，多年来产品服务不断升级，深受广大用户的好评!欢迎到我们公司实地考察!

德国Fischer Couloscope CMS2 库伦测厚仪如果不能使用非破坏性方法，Couloscope CMS2是测量金属或非金属基材上几乎任何金属涂层厚度的理想仪器，尤其是多层涂层。COULOSCOPE CMS2 STEP：除了与COULOSCOPE CMS2相对应的涂层厚度测量外，COULOSCOPE CMS2 STEP还提供符合ASTM B764 - 04和DIN EN 16866的STEP测试功能.COULOSCOPE CMS2 STEP非常适合测量单个涂层厚度和 多种镍涂层的潜在差异以简单的标准符合方式。COULOSCOPE CMS2仪器可测量金属或非金属基材上几乎任何金属涂层的厚度。仪器功能• 单涂层和多涂层系统的测量• 图形显示，可清晰地显示测量值，设定的涂层系统以及作为去镀速率和测试区域尺寸的参数• 液晶显示屏上的电池电压图形显示• 适用于大多数金属涂层的许多预定义测量应用• 可选测量单位：μm或密耳• 欧洲，南美和亚洲展示语言COULOSCOPE CMS2 STEP• 与COULOSCOPE CMS2附录中描述的相同功能用于STEP测量测量• 可调节的除镀电流• 使用光标确定涂层厚度和潜在差异• 自动测量序列，用于调节银参比电极（产生所需的AgCl涂层）STEP测试（同时厚度和电化学势测定），ASTM B764，DIN EN 16866测量原理STEP Test 是(Simultaneous Thickness and Electrochemical Potential determination)（同时测量镀层厚度和化学电位差）的简写， 是已经标准化很久的测量方法。它可以同时测量各镀层厚度和多层镍系统中两层之间的电化学电位差。 厚度测量时用库仑法来测量，电位差通过外面镀一层 AgCl 的银参比电极来测量。电压曲线可以显示在屏幕上，镀层厚度和电位差可以在图上读出。为了获得可以比较的稳定电位差测量结果，参比电极到工件的距离必须始终保持不变。 这个问题通过特殊的测量槽得到解决 .

全自动电位滴定仪产品介绍：●支持2ch同时滴定（双系统）、可连接2台转台TTT-710。 ●标配USB（主机）、LAN。 支持多种滴定：pH/mV输入为2ch标配。3ch和4ch还可以增加可 ● 选滴定单元（光度、极化、电导率、电位差）。 电极输入最多 行少量滴定 为 的 4c 电 h， 极 最 阵 多 容 连 。 ●可进 接10台滴定仪。 ●可进行多样本测定（连接转盘）。●彩色图形LCD显示。

▏模块设计 ▏自由组合 ▏Origaflex电化学综合测试系可满足从单通道到多通道的灵活配置，每一个测试通道集恒电位仪、恒电流仪于一体．配PH测量和温度测量输入端， 用户可通过连接PH电极和温度探头，进行电化学测试的同时测量PH值和温度，提供更多的解决方案．Origaflex采用模块化设计，不但能满足研究的需要，还可通过增加选件模块对仪器进行升级和扩展，满足未来研究的需要．How it Works工作环境温度：5 - 40。C湿度：20 - 80 %实验方法：开路电位法电位指示计时安培法交互式循环伏安线性波循环伏安法循环伏安法四电位式循环伏安法交流阻抗法动电位电化学交流阻抗固定频率电化学交流阻抗（电容法）计时电流法计时电量法计时电位法交互式恒电位法通用差分脉冲伏安法恒电位差分脉冲恒电位方波伏安法点蚀测量常规腐蚀测量（极化电阻）电偶腐蚀（Evans法）极化曲线（Tafel）充电/放电恒功率测量pH定点校准pH自动校准pH测量电位测量

CMI830电解测厚仪（便携盒） 库仑法测厚仪CMI830 Coulometric Coating Thickness Tester1. 产品用途：电镀层厚度及多镍镀层电位测量2. 应用领域：汽车摩托车、自行车、航天航海、电子电器、线路板、五金锁具、洁具卫浴、塑胶电镀、标准件、钕-铁-硼、技术监督部门及科研机构。3．技术特性：测量镀种：装饰铬、镍、铜、锌、锡、银、金、镉、硬铬、化学镍、多层镍，复合镀层（如Cr/Ni/Cu）约30几种镀层/基体组合。如需测量其他镀层可事先提出镀层底材：金属、非金属、钕铁硼等镀层层数：单层及复合多层测试尺寸：&phi 2.4mm(B型测试胶圈)、&phi 1.7mm(S型测试胶圈)测量范围： 0.1～35&mu m（保证精度情况下，更厚镀层也可测量，误差会逐渐变大）示值误差： &le ± 10%分 辨 率： 金、装饰铬0.01&mu m；其它镀种0.1&mu m数据处理：电脑显示器实时显示测试过程中厚度及电位变化曲线；测试结果可保存于电脑中，可随时查阅；可打印测试报告电 源： 交流220V± 10%，50/60Hz，30W4．仪器清单:CMI830电解测厚仪便携数据盒1个、测试软件安装光盘1张、测试架(含电解池1只、大/小胶圈各1只)1套、串口连接电缆1根、电解液（120ml）4瓶、滴管4只、移液瓶1只、清洗瓶1只、镊子1把、橡皮擦1块、纸巾1包、说明书1份、保修卡1张、合格证1张5．库仑法测厚仪选购件：激光打印机、喷墨打印机、线材测试附件、进口250ml移液瓶、进口250ml吸液瓶、进口镀层校准板、STD-L线材测试架、STD08测试架

产品特点：1.采用全集成电路设计，对消平衡法2.内置高精度电势基准，可做内标，也可以外标2.七位数码显示*3.全新长寿命，微触感，360°旋转开关4.稳定性好，低功耗，低漂移，高精度技术指标：1.测量范围：0～1.999999V，可扩展到±5V2.精度：0.005%FS3.分辨率：0.01mV*4.内部基准：1.25V±1%5.规格尺寸：360×235×120mm

JS94HX絮凝剂Zeta电位测量仪产品详细介绍：絮凝剂Zeta电位是胶体化学中的一个重要概念.带电的胶体颗粒在电场作用下,固液两相之间产生相对运动,使固相界面处的水化层有一相对于液相的电位差,称为Zeta电位.絮凝剂 Zeta电位测量仪可用于测定分散体系颗粒物的固－液界面电性（ζ电位），也可用于测量乳状液液滴的界面电性，也可用于测定等电点、研究界面反应过程的机理。通过测定颗粒的Zeta电位，求出等电点，是认识颗粒表面电性的重要方法，在颗粒表面处理中也是重要的手段。与国内外其它同类型仪器相比，它具有显著的优越性。可广泛应用于环境保护、海洋化学等行业，测量技术特点1. 仪器采用新设计的新型简便的电泳池，采用0.5cm 厚的玻璃杯，电极内置在池内。电泳杯与内置电极经精密的微流场计算、表面处理，组成一套与传统的电泳池完全不一样电泳装置。测试时样品用量极少，每次仅 0.5ml，易于清洗，使用方便，经济实用。2. 采用经过精心设计的电极支架，与电泳杯紧密配合，形成一个杯形开放式电泳装置，电极采用银、铂和钛金属丝制成，经表面处理后工作状态稳定。3. 制作精良的十字标，置入电泳杯后放在三维平台上，调整三维平台，在计算机屏幕看到清晰的十字图像，便找到测定位置，没有静止层问题。4. 该电泳仪采用半导体发光近场光学系统，功率仅几十微瓦，不会因发热而影响测量环境和测量精度，并调整了光学系统 ，加大了放大倍率 ，采用波长较短的蓝光和绿光，因此可以看清更小的颗粒。5. 采用恒压低频转换电源, 可以防止极化，同时又可大大提高测量速度。正负换向时间为0.30秒至1.20秒连续可调，采样时间仅需 3～10秒。电极间电压可根据需要调节。6. 采用温度采样探头, 自动连续对环境温度进行采样, 返回计算机，自动调整参数，用于计算Zeta电位。采用计算机多媒体技术, 在给定的节拍下, 自动对经高倍放大1200倍的超细颗粒连续“拍照”，提供双向共四幅灰度图像进行分析计算。技术参数：颗粒范围： JS94HX 适用于0.5～20um的分散体系（水性体系）钻ZETA值范围：－3000mv～＋3000mv 误差：5％ pH范围： 一般应用于2.0～12.0，亦可在1.6～13.0范围内使用，步长0.1温度：5℃到35℃，精度0.1℃，建议在恒温防尘室内使用使用环境：防震平台电源电压：220V 50Hz 功耗：150W

产品详细介绍：絮凝剂Zeta电位是胶体化学中的一个重要概念.带电的胶体颗粒在电场作用下,固液两相之间产生相对运动,使固相界面处的水化层有一相对于液相的电位差,称为Zeta电位.絮凝剂 Zeta电位测量仪可用于测定分散体系颗粒物的固－液界面电性（&zeta 电位），也可用于测量乳状液液滴的界面电性，也可用于测定等电点、研究界面反应过程的机理。通过测定颗粒的Zeta电位，求出等电点，是认识颗粒表面电性的重要方法，在颗粒表面处理中也是重要的手段。与国内外其它同类型仪器相比，它具有显著的优越性。可广泛应用于环境保护、海洋化学等行业，测量技术特点1. 仪器采用新设计的新型简便的电泳池，采用0.5cm 厚的玻璃杯，电极内置在池内。电泳杯与内置电极经精密的微流场计算、表面处理，组成一套与传统的电泳池完全不一样电泳装置。测试时样品用量极少，每次仅 0.5ml，易于清洗，使用方便，经济实用。2. 采用经过精心设计的电极支架，与电泳杯紧密配合，形成一个杯形开放式电泳装置，电极采用银、铂和钛金属丝制成，经表面处理后工作状态稳定。3. 制作精良的十字标，置入电泳杯后放在三维平台上，调整三维平台，在计算机屏幕看到清晰的十字图像，便找到测定位置，没有静止层问题。4. 该电泳仪采用半导体发光近场光学系统，功率仅几十微瓦，不会因发热而影响测量环境和测量精度，并调整了光学系统 ，加大了放大倍率 ，采用波长较短的蓝光和绿光，因此可以看清更小的颗粒。5. 采用恒压低频转换电源, 可以防止极化，同时又可大大提高测量速度。正负换向时间为0.30秒至1.20秒连续可调，采样时间仅需 3～10秒。电极间电压可根据需要调节。6. 采用温度采样探头, 自动连续对环境温度进行采样, 返回计算机，自动调整参数，用于计算Zeta电位。采用计算机多媒体技术, 在给定的节拍下, 自动对经高倍放大1200倍的超细颗粒连续&ldquo 拍照&rdquo ，提供双向共四幅灰度图像进行分析计算。技术参数：颗粒范围： JS94HX 适用于0.5～20um的分散体系（水性体系）絮凝剂ZETA值范围：－3000mv～＋3000mv误差：5％pH范围： 一般应用于2.0～12.0，亦可在1.6～13.0范围内使用，步长0.1温度：5℃到35℃，精度0.1℃，建议在恒温防尘室内使用使用环境：防震平台电源电压：220V 50Hz功耗：150W

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理当激光照射到分散于液体介质中的微小颗粒时，由于颗粒的布朗运动引起散射光的频率偏移，导致散射光信号随时间发生动态变化，该变化的大小与颗粒的布朗运动速度有关，而颗粒的布朗运动速度又取决于颗粒粒径的大小，颗粒大布朗运动速度低，反之颗粒小布朗运动速度高，因此动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。2、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比； 采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。3、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。5、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。6、优化的反演算法：采用优拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。纳米粒度及zeta电位分析仪测量纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定， 因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循 Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1.利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。2.先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。3.基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。Henry函数的取值：当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合， 得到优化Henry函数表达式.强大易用的控制软件ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强， 无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪的技术指标

CMI830电解测厚仪（便携盒）CMI830 Coulometric Coating Thickness Tester 1. 产品用途：电镀层厚度及多镍镀层电位测量2. 应用领域：汽车摩托车、自行车、航天航海、电子电器、线路板、五金锁具、洁具卫浴、塑胶电镀、标准件、钕-铁-硼、技术监督部门及科研机构。3．技术特性：测量镀种：装饰铬、镍、铜、锌、锡、银、金、镉、硬铬、化学镍、多层镍，复合镀层（如Cr/Ni/Cu）约30几种镀层/基体组合。如需测量其他镀层可事先提出镀层底材：金属、非金属、钕铁硼等镀层层数：单层及复合多层测试尺寸：&phi 2.4mm（B型测试胶圈）、&phi 1.7mm（S型测试胶圈）测量范围： 0.1～35&mu m（保证精度情况下，更厚镀层也可测量，误差会逐渐变大）示值误差： &le ± 10%分 辨 率： 金、装饰铬0.01&mu m；其它镀种0.1&mu m数据处理：电脑显示器实时显示测试过程中厚度及电位变化曲线；测试结果可保存于电脑中，可随时查阅；可打印测试报告电 源： 交流220V± 10%，50/60Hz，30W4．仪器清单:CMI830电解测厚仪便携数据盒1个、测试软件安装光盘1张、测试架（含电解池1只、大/小胶圈各1只）1套、串口连接电缆1根、电解液（120ml）4瓶、滴管4只、移液瓶1只、清洗瓶1只、镊子1把、橡皮擦1块、纸巾1包、说明书1份、保修卡1张、合格证1张5．选购件：激光打印机、喷墨打印机、线材测试附件、进口250ml移液瓶、进口250ml吸液瓶、进口镀层校准板、STD-L线材测试架、STD08测试架

薄膜测厚仪 金属箔片厚度测量仪 无纺布材料厚度检测仪无纺布材料厚度检测仪是一种专业设备，用于精确测量无纺布以及其他薄型材料的厚度。这类仪器设计精密，确保在生产、质量控制和研究中提供准确的厚度数据。以下是基于通用参数和功能的详细介绍：薄膜测厚仪 金属箔片厚度测量仪 无纺布材料厚度检测仪基本参数与特点：测量范围：0～2 mm（标准量程）（0-6mm，0-12mm可选，其它行程可订制）。分辨率：高精度仪器的分辨率可达到1微米（um），确保测量的细微差异也能被捕捉。测量原理：采用接触式测量技术，接触式通常通过压头轻触材料表面。重复性：高质量的检测仪重复性误差小于0.5%，保证每次测量的一致性。显示与操作：配备清晰的LCD显示屏，显示即时测量结果，操作界面简单直观，便于快速读取和操作。兼容标准：设计符合GB/T 3820等国家标准，确保测试结果的标准化和可比性。适用材料：不仅限于无纺布，还适用于薄膜、纸张、金属箔、纺织品等薄型材料。稳定性与耐用性：具有良好的稳定性和耐用性，适合在实验室和生产线上长期使用。数据处理：部分高级型号可能支持数据存储、输出至电脑，便于数据分析和记录管理。校准功能：内置校准机制，确保长期使用的准确性，用户可定期进行校准以维持测量精度。薄膜测厚仪 金属箔片厚度测量仪 无纺布材料厚度检测仪操作流程：准备样品：确保无纺布样品平整无皱。放置样品：将样品置于测量区域，保持稳定。启动测量：按下测量按钮，仪器自动进行厚度读取。读取结果：显示屏上显示即时的厚度数据。记录与分析：根据需要记录数据，进行进一步的质量评估或分析。

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理当激光照射到分散于液体介质中的微小颗粒时，由于颗粒的布朗运动引起散射光的频率偏移，导致散射光信号随时间发生动态变化，该变化的大小与颗粒的布朗运动速度有关，而颗粒的布朗运动速度又取决于颗粒粒径的大小，颗粒大布朗运动速度低，反之颗粒小布朗运动速度高，因此动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。2、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比； 采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。3、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。5、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。6、优化的反演算法：采用zui优拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。纳米粒度及zeta电位分析仪测量纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定， 因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪原理带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循 Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点1.利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。2.先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。3.基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用最小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。Henry函数的取值：当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用最小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合， 得到优化Henry函数表达式.强大易用的控制软件ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强， 无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪的技术指标

动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪技术是分析样品颗粒的散射光强随时间的涨落规律，使用光子探测器在固定的角度采集散射光，通过相关器进行自相关运算得到相关函数，再经过数学反演获得颗粒粒径信息。纳米粒度及Zeta电位分析仪是一种用于环境科学技术及资源科学技术领域的物理性能测试仪器，简单、方便而且准确，主要作用就是测量胶体颗粒表面电位电势。其独特的开放式样品槽设计与频谱漂移分析技术相结合，使其具有极高的分辨率，足以分辨等电点附近的多峰电泳分布情况。　　仪器原理　　带电颗粒在电场力作用下向电极反方向做电泳运动，单位电场强度下的电泳速度定义为电泳迁移率。颗粒在电泳迁移时，会带着紧密吸附层和部分扩散层一起移动，与液体之间形成滑动面，滑动面与液体内部的电位差即为zeta电位。Zeta电位与电泳迁移率的关系遵循Henry方程，通过测量颗粒在电场中的电泳迁移率就能得出颗粒的zeta电位。　　动态光散射纳米粒度及zeta电位分析仪优势　　1、高效的光路系统：采用固体激光器和一体化光纤技术集成的光路，充分满足空间相干性的要求，极大地提高了散射光信号的信噪比。　　2、数据筛选功能：引入分位数检测异常值的方法，鉴别受灰尘干扰的散射光数据，并剔除异常值，提高粒度测量结果的准确度。　　3、优化的反演算法：采用拟合累积反演算法计算平均粒径及多分散系数，基于非负约束正则化算法反演颗粒粒度分布，测量结果的准确度和重复性都优于1%。　　4、高精度温控系统：基于半导体制冷技术，采用自适应PID控制算法，使样品池温度控制精度达±0.1℃。　　5、高灵敏度光子探测器：采用计数型光电倍增管或雪崩光电二极管，对光子信号具有极高的灵敏度和信噪比；采用边沿触发模式对光子进行计数，瞬间捕捉光子脉冲的变化。　　6、大动态范围高速光子相关器：采用高、低速通道搭配的结构设计光子相关器，有效解决了硬件资源与通道数量之间的矛盾，实现了大的动态范围，并保证了相关函数基线的稳定性。　　纳米粒度及zeta电位分析仪测量　　纳米粒度及zeta电位分析仪是表征分散体系稳定性的重要指标zeta电位愈高，颗粒间的相互排斥力越大，胶体体系愈稳定，因此通过电泳光散射法测量zeta电位可以预测胶体的稳定性。　　纳米粒度及zeta电位分析仪性能特点　　1、利用光纤技术集成发射光路和接收光路，替代传统电泳光散射的分立光路，使参考光和散射光信号的传输不受灰尘和外界杂散光的干扰，有效地提高了信噪比和抗干扰能力。　　2、先对散射光信号进行频谱预分析，获取需要细化分析的频谱范围，然后在窄带范围内进行高分辨率的频谱细化分析，从而获得准确的散射光频移。　　3、基于双电层理论模型，求解颗粒的双电层厚度，获得准确的颗粒半径与双电层厚度的比值，再利用最小二乘拟合算法获得精确的Henry函数表达式，进而有效提高了纳米粒度及zeta电位分析仪的计算精度。　　Henry函数的取值：　　当双电层厚度远远小于颗粒的半径，即ka1，Henry函数近似为1.5。双电层厚度远远大于颗粒半径时，即ka1，Henry函数近似为1.0。使用最小二乘曲线拟合算法对Wiersema计算的精确Henry函数值进行拟合，得到优化Henry函数表达式。　　强大易用的控制软件　　ZS-920系列纳米粒度及zeta电位分析仪的控制软件具有纳米颗粒粒度和zeta电位测量功能，一键式测量，自动调整散射光强，无需用户干涉，自动优化光子相关器参数，以适应不同样品，让测量变得如此轻松。控制软件更具有标准化操作(SOP)功能，让不同实验室、不同实验员间的测量按照同一标准进行，测量结果更具有可比性。测量完成自动生成报表，以可视化的方式展示测量结果，让测量结果一目了然。　　注意事项　　1、测量粒径前，需查知样品分散剂的粘度、折光指数（Refractive Index）；　　2、用卷纸轻轻点拭样品池外侧水滴，切勿用力擦拭，以防将样品池划伤，如发现样品池有划纹，需更换；　　3、手尽量避免触摸样品池下端，否则会影响光路；　　4、一定要去除样品池内的气泡；　　5、实验室提供的样品池为聚苯乙烯材质，不可用于测量有机分散体系；　　6、实验室提供的样品池,测量温度不可高于50摄氏度；　　7、如需测量有机分散体系或高于50摄氏度，请自带石英比色皿；　　8、使用滤纸过滤时，舍去过滤后的d一滴样品，以防滤纸上杂质进入样品池；　　9、测量时需自带：卷纸、多个注射器、多个离心管（用于稀释样品）。

库仑法是一种简单易用能够确定金属镀层厚度的电化学分析方法。这个方法主要应用于检查电镀层的质量，现在也适用于监控印刷线路板剩余纯锡的厚度。作为测量镀层厚度最简单的方法之一，库仑法可以用于各种镀层组合。 尤其对于多镀层结构， 当允许破坏性测量时，它提供了一个比X射线更经济的替代方法。测量原理 这个系列仪器根据DIN EN ISO 2177标准的库仑法。 金属或非金属基材上的金属镀层，通过在控制电流条件下电解腐蚀——实际上就是电镀的反过程。所载入的电流与要剥离的镀层厚度是成正比的，假如电流和剥离面积保持不变，镀层厚度与电解时间就是成正比的关系。测量槽——可比作微型电解缸——被用来剥离镀层。 测量面积由装在测量槽上的垫圈尺寸来决定。对不同的金属采用不同配方的电解液。通过载入电流开始电解过程。 电解过程由COULSCOPE仪器的电子部分控制， 用一个泵搅拌电解液来使电解区域电解液平稳腐蚀，保证电解液最佳利用。 根据测量区域的大小，各种直径的垫圈 可供选择。测量印刷线路板上剩余纯锡的厚度COULOSCOPE CMS2 CMS2可以测量几乎所有基材上金属镀层的厚度，包括多镀层结构 它的工作原理是根据阳极溶解的库仑法 （DIN EN ISO 2177）。 简单的操作和菜单化的操作指导使CMS2成为电镀行业生产监控和质量检验理想的解决方法。设备为不同的镀层结构配备了近100个预留的应用程式（例如，铁上镀锌，黄铜上镀镍）, 以及各种电解速度（例如1, 2, 5, and 10 μm/min）。这些应用程式适用于多镀层系统。COULOSCOPE CMS2的特征-大尺寸高分辨率的彩色显示器-简单的操作和图示的用户指导-使用V18支架实现半自动化测量-电解速度和测量面积的简单选择（0.1 - 50 μm/min） 和（0.6 -3.2 mm ?）-电压曲线图形显示-图形和统计分析 -多语言和计量单位可供选择COULOSCOPE CMS2 STEP CMS2 STEP 的特征是STEP测试功能（同时测定厚度和电位差）。 在多层镍的质量监控中用于对镀层厚度和电位差的标准化STEP测试 （根据ASTM B764-94和DIN 50022）。镀层厚度根据库仑法得出， 而电位差则由一个镀有AgCl的银电极得到。COULOSCOPE CMS2 STEP的特殊功能 -同时测量镀层厚度和电位差-银参比电极的简单准备-可调节的电解电流COULOSCOPE CMS2 STEP 测量： 带有球状支撑和可旋转支撑板的V18支架。测量槽存放架可存放3个100ml的实验室瓶。应用 强大并且用户友好的COULOSCOPE CMS2适用于电镀行业的生产监控和成品的质量检验。很多常见的单、双镀层例如铁镀锌或者铜镀镍镀锡都可以用CMS2简单快速地测量。这个方法为任何金属镀层提供了精确的测量。在厚度范围 0.05 - 50 μm内， 很多材料不需要预设定；基材组成和几何形状对于测量都是无关紧要的。最常见的应用之一就是测量线路板上剩余的纯锡，以确保可焊性。多镀层例如 Cr/ Ni/Cu在铁或者塑料（ABS）基材上，经常被用于高品质的浴室用品，也可以用这个方法进行测量。STEP Test是在允许腐蚀的情况下用来同时测量电位差和多层镍的镀层厚度，该方法是这个应用领域的标准。多层镍镀层的品质控制需要能在电镀完成后立刻检查厚度和电位差的仪器。 COULOSCOPE CMS2 STEP 就是为这个目的而设计的，它操作简单，参比电极使用起来也不复杂，非常适合电镀工厂苛刻环境下的这种应用。特别是汽车工业中，电镀镍部件在防腐蚀方面要满足很高的要求。单一镍层无法满足该要求。因此，目前正在开发非常复杂的镀层系统，其中包含两层、三层甚至四层镀镍层，还有铬或铜镀层。

仪器介绍：广州标际所生产的高端测厚仪，测厚仪，薄膜测厚仪适用于包装薄膜，片材等的氧气透过率的检测。 高端测厚仪_测厚仪_薄膜测厚仪功能用途GH-D型数字测厚仪是一种集光、机、电、算为一体的高精度数字测厚仪，操作方便。测量结果为数字显示。并且可以连接计算机进行自动控制。主要用于对塑料薄膜，纸张等直接测量或比较测量。 高端测厚仪_测厚仪_薄膜测厚仪产品特点测量精确，运行可靠，测量分辨率高达0.1微米；支持手动、自动双重测量模式；可单点测试也可多点测试自动进样间距、测量点数可调；液晶显示，可微机打印测试结果；测量过程即时显示最大值、最小值、平均值及当前值 可连接计算机,专业软件支持（可选）。 高端测厚仪_测厚仪_薄膜测厚仪技术参数测量范围：0~5mm分 辨 率：0.1&mu m进样间距：0~1000mm测量点数：0~10点

ZST-121-绝缘材料体积表面电阻率仪一、实验目的通过测试电阻率，了解绝缘材料的导电特性，以便正确地认识、改进与使用该材料；了解ZST-121超高值绝缘电阻率测试仪(简称高阻仪)的基本原理，掌握使用高阻仪测定绝缘材料材料的体积电阻，表面电阻和绝缘电阻的方法；了解影响测试结果的因素。二、实验仪器1 ．ZST-121 型绝缘材料体积表面电阻率仪简介ZST-121 型电阻仪是一种直流式的超高电阻计和微电流两用仪器。仪器的最高量限 1017 Ω 电阻值和 10-14A微电流。适用于科研、工厂、学校、对绝缘材料、电工产品、电子设备以及元件的绝缘电阻测 量和高阻兆欧电阻的测量，也可用于微电流测量。2 ．技术指标（1 ） 工作电源： 电压 ~220V 频率 50Hz 消耗功率： 15W（2 ） 测试电压及测试范围：1 ． 高电阻的测试电压：（1 ） 电压共分五档： 10 、100 、250 、500 、1000V（2 ） 电压偏差：不大于 5%（3 ） 电压稳定度：不大于 0.2%2 ． 高电阻测量：（1 ）测量范围： 1 × 106 ~ 1 × 1017 Ω共分八档3 ． 微电流测量（1 ）测量范围： 1 × 10-5 ~ 1 × 10-14A共分八档（2 ）电流极性： “+"或 “- "（3 ）仪器的零点漂移：一起在稳定的工作电压及无信号输入时（输入短路）；通电一小时后，在 8 小时 内零点漂移不大于全标尺 4% 。（4 ）仪器的时间响应：小于 30 秒（4 ） 仪器可连续工作 8 小时三、测试电路原理：仪器作为高电阻测量时其主要原理如图所示， 测试时， 被测试样与高阻抗直流放大器的输入电阻串联并跨接于直流高压测试电源上（由直流高压发生器产生）。高阻抗直流放大器将其输入电阻 上的分压讯号经放大输出至指示仪表，由指示仪表直接读出被测绝缘电阻值。仪器作为微电流测量时， 仅利用高阻抗直流放大器， 将被测微电流讯号进行放大， 由指示仪表 直接读出。 式中：U 一测试电源输出电压；Rx一试样电阻；Ri一微电流放大器的等效输入阻抗。电路结构：主要由下列五部分组成 1 ． 直流高压测试电源： 10 、100 、250 、500 、1000V 五档。2 ． 测试放电装置(包括输入短路开关)：将具有电容性较大的试样在测试前后进行充电和放电， 以减少介质吸收电流及电容充电时，电流对仪器的冲击和保障操作人员的安全。3 ． 高阻抗直流放大器：将被测微电流讯号放大后输入至指示仪表。4 ． 指示仪表：作为被测绝缘电阻和微电流的指示。5 ． 电源：供给仪器各部分工作电源。高阻仪应满足下列要求：(a)测量误差小于 20％；(b)零点漂移每小时不应大子全量程的 4％；(c)输入接线的绝缘电阻应大于仪器输入电阻的 100 倍；(d)测试电路应有良好的屏蔽。三、计算公式：π—3.1416；D2一保护电极的内径 (cm)；D1一测量电极的直径 (cn)；1n 一自然对数。 四、测试步骤：一、准备工作1 ．接通电源前的准备工作：（1 ）检查电源联系是否正确（2 ）测试电压选择开关置于放电位置，测试电压旋钮放在低档（ 10V 挡）。（3 ）倍率旋钮放在低量程上(4)将电表“+"、“一"极性开关放在“+"的一边。（5 ）输入短路开关应放在短路位置，使放大器输入端短路。（6 ）电表机械零点处于零出。2 ．接通电源及预热将电源开关打开，预热 15 分钟。（若用高倍率挡时应预热 1 小时）(1)将仪器连接线接好，操作仪器，使高阻表处于备用状态。 仪器的连接：(1)调整“调零"旋钮，使电表指针在“0"点。 (对欧姆刻度来说就是“∞"点)(2)将电缆线一端接在高阻仪面板上的输入插座中，另一端接至电极箱一侧 的测量插座中并旋紧固定套。（3 ）将测试电源线一端接在高阻仪面板上的测试电压接线柱Rx上（红色），另一端接至电 极箱一侧的测试电压接线柱上（红色）。(此时高阻仪面板上的“放电一测试"开关应置于“放 电位置"。 )（4 ）将接线地线一端接至高阻仪面板上的接地端钮上，另一端接到电极箱的接地端钮上， 然后一并接地。二、测试样品的连接将充分放电及干燥处理的试样(即当试样末加压时，应在仪器上没有明显的指示值)的三个 电极引线分别接于电极箱内相应的三个接线柱上，关闭电极箱盖。三、测量体积电阻值 Rv：（a ）将 Rv 、Rs 转换开关旋至 Rv 处。(b)将电压选择开关置于所需要的测试电压位置上，将“倍率选择"旋钮选 至所需的位置。 (在不了解测试值的数量级时，倍率应从低次方开始选择。 )(c)将“放电、测试"开关放在“测试"位置，检查电压应选择的位置，打 开输入短路开关(即按钮抬起来)，读取加上测试电压 1 分钟，指示电表显示的电 阻值。读数完毕，将“倍率"打回“ 10-1 "档。四、测量表面电阻值 Rs：(a)将 Rv 、Rs 转换开关旋至 Rs 处。(b)将电压选择开关置于所需要的测试电压位置上，将“倍率选择"旋至所 需要的位置。 (在不了解测试值的数量级时，倍率应从低次方开始选择。 )(c)将“放电、测试"开关放在“测试"位置，检查应选择的位置，打开输 入短路开关(即按钮抬起来)，读取加上测试电压 1 分钟时，指示电表显示的电阻 值。读数完毕，将“倍率"打回“ 10-1 "档。(d)接入短路开关，将“放电、测试"开关打回到“放电"位置。更换试样，重复以上操作，待全部试样测量完毕后，切除电源，除去各种连接线，按要求整理、 五、数据及处理：(1)将测得的数据填入下列表格的相应格中．(2)用所得的测试数据分别计算各试样的体积电阻率ρV ，及表面电阻率ρS， 将计算结果填入下表的相应格内．(3)根掂所做实验试分析产生误差的原因，及采取哪些缩小误差的措施。(4)对实验中出现的一些问题进行讨论。 五、实验思考题：l．电导率与电阻率的相互关系如何？2 ．影响材料电导率的因素有哪些？3 、材料电性能的主要测量方法有哪些？4 、 进行材料电阻系数的测定有何实际意义？5 、如何区分导体、半导体和绝缘体？ 6 、简单介绍测定时间、温度、湿度、测定电压、接触电极材料、间 隙 宽度和测试回路中标准电 阻对测定的影响。 六、背景知识测量材料电阻的方法很多，有高阻（106Ω ）测量和低阻（10-2Ω ）测量。根据材 料的电阻大小不同， 采用的测量方法各异， 包括： 惠斯顿单电桥法、双电桥测量法、电位差计测量和直流四探针法。它们主要测量材料的电阻率。以下重点介绍低电阻(106Ω) 的测量方法。1 、惠斯顿（Huiston ）单电桥法惠斯顿单电桥测量原理图见图 3-21 。图中 CD 之间串联一检流计 G ，Rp 为调节桥路 电流的滑线电阻器， 当 C 、D 两点同电位时， 通过检流计 G 的电流为零。 RN 、R1 、R2的电阻均已知，被测电阻 Rx 的计算为： 图 3-21 惠斯顿单电桥测量原理图在上面的测量中Rx实际并非真正的被测电阻， 测出的电阻包括A 、B两点的导线电 阻和接触电阻。当测量低电阻时， 由于结构和接触电阻无法消除， 灵敏度不高、测量数值偏差较大， 只有当被测电阻相对于导线电阻和接触电阻相当大时， Rx才接近于 RN 。因此惠斯顿单电桥的测量很少用于测量金属电阻，其测量电阻范围通常在在 10～ 106Ω。2 、 双电桥法双电桥法是目前测量金属室温电阻应用最广的方法， 用于测量低电阻（ 102～ 10-6Ω）。双电桥测量原理图见 3-223-22 双电桥测量原理图双电桥法测量时，待测电阻Rx和标准电阻RN 相互串连后，串入一有恒电流的回路 中。将可调电阻R1R2R3R4组成电桥四臂， 并与Rx 、RN 并连； 在其间B 、D点连接检流计 G ，那么测量电阻Rx归结为调节R1R2R3R4 电阻使电桥达到平衡， 则检流计为零（G=0）， 即VD=VB为了使上式简化， 在设计电桥时， 使R1 =R3，R2=R4 ，并将它们的阻值设计的比较大， 而导线的电阻足够小（选用短粗的导线）， 这样使 ? 趋向于零， 则附加项趋近于零，上式近似为：R = R1 R = R3 RR R当检流计为零时，从电桥上读出R1 、，R2 ，而RN 为已知的标准电阻，用上式可求出 Rx值。用双电桥测量电阻可测量 100～ 10-6Ω 的电阻，测量精度为 0.2%。在测量中应注意：连接Rx 、RN 的铜导线尽量粗而短，测量尽可能快。3 ．电位差计法电位差计法广泛应用于金属合金的电阻测量，可测量试样的高温和低温电阻，还可 以测试电位差、电流和电阻，它的精度比双电桥法精度高。可以测量 10-7 的微小电势。 电位差计是以被测电位差与仪器电阻的已知电压降平衡的原理为基础。电位差计的工作 原理图见图 3.-23 ，电位差计测量原理图见图 3.-24 3.-23 电位差计的工作原理图 3.-24 电位差计测量原理图电位差计测量电阻的原理：当一恒定电流通过试样和标准电阻时，测定试样和标准 电阻两端的电压降Vx和VN ，RN 已知，通过下式计算出Rx 电位差计法优点：导线（引线）电阻不影响电位差计的电势Vx 、VN ，的测量，而 双电桥法由于引线较长和接触电阻很难消除， 所以在测金属电阻随温度变化， 不够精确。4 ． 直流四探针法直流四探针法主要用于半导体材料或超导体等的低电阻率的测量。他具有设备简 单、操作方便，测量较精确等优点。常用于半导体单晶硅掺杂的电阻率测量。图 3-25 为四探针法的测量线路原理图及其接线探针排列。 图 3-25 四探针法的测量线路原理图如图 3-251 、2 、3 、4 四根金属探针彼此相距 1mm ，排在一条直线上，要求四根探 针与样品表面接触良好。由 1 、4 探针通入小电流，当电流通过时，样品各点将有电位 差，同时用高阻静电计、电子毫伏计测出 2 、3 探针间的电位差 V23 ，由下式可直接计 算出样品的电阻率：ρ = C C 是与被测样品的几何尺寸及探针间距有关的测量的系数，称为探针系数。 单位：（cm）；I 是探针通入的电流。当被测样品的几何尺寸相对于探针间距大的多时，即把样品看成半无限大，探针间距足够小时，则电阻率为：式中 S 是等距离四探针两针间的间距； 电流 I 的选择很重要， 如果电流过大， 会使样品 发热， 引起电阻率改变， 使测量误差变大。测量时， 四探针也可不排成一条直线， 可以 排成矩形或四方形。

无锡市瑞金恒科技发展有限公司2012年10月落户于江苏无锡，以制造、贸易一体发展，产品——在线镀锌锌层测厚仪；——在线钢丝镀锌测厚仪；——在线硅钢干膜测厚仪，以“区别于其余产品”的设计原理，存于行业，以“为您提供一步到位的产品”为已任，为仪器制造产业争光增彩。 企业原则：以质量，诚信为根为本；企业宗旨：为您提供一步到位的产品。 服务产品：在线镀层测厚仪，在线镀锌层测厚仪，在线镀铝锌层测厚仪，在线镀锡层测厚仪，在线金属镀层测厚仪（镀锌测厚仪，锌层测厚仪，镀锌层测厚仪，镀铝锌层测厚仪，锡层测厚仪，镀银层测厚仪，锌层厚度检测仪，镀锌在线测厚仪） 在线钢丝镀锌层测厚仪，钢丝镀锌测厚仪，钢丝镀层测厚仪，钢丝在线检测仪，钢丝在线测厚仪，钢丝测厚仪，镀锌钢丝测厚仪 在线硅钢干膜测厚仪，硅钢干膜测厚仪，干膜厚度测厚仪，涂层干膜测厚仪，在线干膜测厚仪，干膜测厚仪，干膜涂层测厚仪

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