电镀膜分析仪

深圳电镀膜厚测试镀层厚度检测镀层分析安普检测的服务优势在于以更短的检测周期和更低的服务价格，为客户节约成本和周期，帮助客户快速获取准确有效数据，并为客户提供后期技术服务支持。安普检测作为平台化运营品牌，与国内外多家实验室建立了良好的合作关系，旨在为客户、行业提供更优质的检测咨询服务镀层厚度测试检测材料表面的金属和氧化物覆层的厚度测试。检测方法有 1. 金相法 2. 库仑法 3. X-ray 方法。 金相法：采用金相显微镜检测横断面，以测量金属覆盖层、氧化膜层的局部厚度的方法。一般厚度检测需要大于1um，才能保证测量结果在误差范围之内；厚度越大，误差越小。库仑法：适合测量单层和多层金属覆盖层厚度阳极溶解库仑法，包括测量多层体系，如Cu/Ni/Cr以及合金覆盖层和合金化扩散层的厚度。不仅可以测量平面试样的覆盖层厚度，还可以测量圆柱形和线材的覆盖层厚度，尤其适合测量多层镍镀层的金属及其电位差。测量镀层的种类为Au、Ag、Zn、Cu、Ni、dNi、Cr。X-ray 方法：适用于测定电镀及电子线路板等行业需要分析的金属覆盖层厚度。 包括：金（Au），银（Ag），锡（Sn），铜（Cu），镍（Ni），铬（Cr）等金属元素厚度。本测量方法可同时测量三层覆盖层体系，或同时测量三层组分的厚度和成分。检测标准：1. GB/T 6462-2005金属和氧化物覆盖层 厚度测量 显微镜法2. ASTM B487-85(2007) Standard Test Method for Measurement of Metal and Oxide Coating Thickness by Microscopical Examination of a Cross Section3. ASTM B764-04 Standard Test Method for Simultaneous Thickness and Electrode PotentialDetermination of Individual Layers in Multilayer Nickel Deposit (STEP Test)4. GB/T4955-1997金属覆盖层 覆盖层厚度测量5. GB/T16921-2005 金属覆盖层 覆盖层厚度测量 X射线光谱方法6. ASTM B568-98(2004) Standard Test Method for Measurement of Coating Thickness by X-Ray Spectrometry

上海镀层厚度检测丨电镀膜厚测试丨镀层分析行业安普检测的服务优势在于以更短的检测周期和更低的服务价格，为客户节约成本和周期，帮助客户快速获取准确有效数据，并为客户提供后期技术服务支持。安普检测作为平台化运营品牌，与国内外多家实验室建立了良好的合作关系，旨在为客户、行业提供更全面、更优质的检测咨询服务镀层厚度测试检测材料表面的金属和氧化物覆层的厚度测试。检测方法有 1. 金相法 2. 库仑法 3. X-ray 方法。 金相法：采用金相显微镜检测横断面，以测量金属覆盖层、氧化膜层的局部厚度的方法。一般厚度检测需要大于1um，才能保证测量结果在误差范围之内；厚度越大，误差越小。库仑法：适合测量单层和多层金属覆盖层厚度阳极溶解库仑法，包括测量多层体系，如Cu/Ni/Cr以及合金覆盖层和合金化扩散层的厚度。不仅可以测量平面试样的覆盖层厚度，还可以测量圆柱形和线材的覆盖层厚度，尤其适合测量多层镍镀层的金属及其电位差。测量镀层的种类为Au、Ag、Zn、Cu、Ni、dNi、Cr。X-ray 方法：适用于测定电镀及电子线路板等行业需要分析的金属覆盖层厚度。 包括：金（Au），银（Ag），锡（Sn），铜（Cu），镍（Ni），铬（Cr）等金属元素厚度。本测量方法可同时测量三层覆盖层体系，或同时测量三层组分的厚度和成分。检测标准：1. GB/T 6462-2005金属和氧化物覆盖层 厚度测量 显微镜法2. ASTM B487-85(2007) Standard Test Method for Measurement of Metal and Oxide Coating Thickness by Microscopical Examination of a Cross Section3. ASTM B764-04 Standard Test Method for Simultaneous Thickness and Electrode PotentialDetermination of Individual Layers in Multilayer Nickel Deposit (STEP Test)4. GB/T4955-1997金属覆盖层 覆盖层厚度测量5. GB/T16921-2005 金属覆盖层 覆盖层厚度测量 X射线光谱方法6. ASTM B568-98(2004) Standard Test Method for Measurement of Coating Thickness by X-Ray Spectrometry

禾工科仪 ALT电镀产线三价铬、次磷酸钠在线分析仪是一款由禾工科仪自主研发的无人值守的工业过程在线分析滴定仪，取代人工分析，可实现自动取样、上样、信号测量、滴定分析、自动清洗、自动分析、在获取分析结果后根据生产工艺控制加药泵对槽液进行精确配比加药，将槽液指标维持在生产工艺的预设范围内，还可将分析结果和加药量发送给服务器的数据库进行存储和统计，满足现代化生产过程控制的要求。ALT电镀产线三价铬、次磷酸钠在线分析仪采用A8处理器，模块化设计， 七英寸中文人机对话全彩触摸屏，高精度滴定管、电磁切换阀、长寿命溶剂泵，高分辨率的颜色采集模块和多样的检测模块，可通过测量电极的电位变化和颜色变化的自动判断，来指示滴定的终点，根据样品性质，仪器选用不同电极和检测器进行自动颜色滴定、pH滴定、氧化还原滴定、络合滴定、非水滴定和沉淀滴定等多种滴定，适用于化工、环保、食品、制药、造纸、纺织、冶金、金属表面处理、水质处理等领域。ALT电镀产线三价铬、次磷酸钠在线分析仪 功能示意图在线设备的开发标准:结果准确，控制精确，可靠稳定，智能可控。禾工科仪目前具备下列行业及生产控制领域的样品在线检测及现场药水添加系统开发经验:工业涂装工艺流程生产线、印染工艺生产线、PCB印刷生产流水线、冶金治炼流水线、各类化工过程槽液浓度参数控制等领域的酸值、碱值、水质硬度、钙镁等金属与氯氟等非金属离子的在线浓度监测与药水添加系统。ALT电镀产线三价铬、次磷酸钠在线分析仪 产线应用示意图* 根据行业生产线专业定制研发，在线分析，无人值守，可完全替代人工；* 在线分析模块可进行分析自动化进程的编辑、修改和存储；包括在线自动取样，自动上样，自动分析，自动清洗，自动数据存储；计算公式可进行编辑和存储，分析完成后自动计算最终结果并发送给服务器；* 过程控制模块可监控多台在线分析仪的状态，并可根据客户需要开发配合自动化生产控制功能，本设备具有监控报警功能，可设置，液体，电源及分析结果等异常报警功能；★配置清单（基本配置）：数量1、主机控制单元 1套2、高精度滴定馈液单元2套3、搅拌滴定台（通用）1个4、电位滴定（PH滴定）模块1套5、双铂针测量电极1支6、精密辅助泵（含控制系统）2个7、通讯模块（RS232,TCP/IP,MODBUS）1套8、滴定控制软件(在线滴定，自动计算，自动输出)1套9、整机安装及机箱与包装1套10、新机安装培训服务及12个月有限保修服务1台

ALT电镀液硫酸在线分析仪是一款由禾工科仪自主研发的无人值守的工业过程在线分析滴定仪，取代人工分析，可实现自动取样、上样、信号测量、滴定分析、自动清洗、自动分析、在获取分析结果后根据生产工艺控制加药泵对槽液进行精确配比加药，将槽液指标维持在生产工艺的预设范围内，还可将分析结果和加药量发送给服务器的数据库进行存储和统计，满足现代化生产过程控制的要求。ALT电镀液硫酸在线分析仪采用A8处理器，模块化设计， 七英寸中文人机对话全彩触摸屏，高精度滴定管、电磁切换阀、长寿命溶剂泵，高分辨率的颜色采集模块和多样的检测模块，可通过测量电极的电位变化和颜色变化的自动判断，来指示滴定的终点，根据样品性质，仪器选用不同电极和检测器进行自动颜色滴定、pH滴定、氧化还原滴定、络合滴定、非水滴定和沉淀滴定等多种滴定，适用于化工、环保、食品、制药、造纸、纺织、冶金、金属表面处理、水质处理等领域。ALT电镀液硫酸在线分析仪 功能示意图在线设备的开发标准:结果准确，控制精确，可靠稳定，智能可控。禾工科仪目前具备下列行业及生产控制领域的样品在线检测及现场药水添加系统开发经验:工业涂装工艺流程生产线、印染工艺生产线、PCB印刷生产流水线、冶金治炼流水线、各类化工过程槽液浓度参数控制等领域的酸值、碱值、水质硬度、钙镁等金属与氯氟等非金属离子的在线浓度监测与药水添加系统。ALT电镀液硫酸在线分析仪 产线应用示意图* 根据行业生产线专业定制研发，在线分析，无人值守，可完全替代人工；* 在线分析模块可进行分析自动化进程的编辑、修改和存储；包括在线自动取样，自动上样，自动分析，自动清洗，自动数据存储；计算公式可进行编辑和存储，分析完成后自动计算最终结果并发送给服务器；* 过程控制模块可监控多台在线分析仪的状态，并可根据客户需要开发配合自动化生产控制功能，本设备具有监控报警功能，可设置，液体，电源及分析结果等异常报警功能；★配置清单（基本配置）：数量1、主机控制单元 1套2、高精度滴定馈液单元2套3、搅拌滴定台（通用）1个4、电位滴定（PH滴定）模块1套5、双铂针测量电极1支6、精密辅助泵（含控制系统）2个7、通讯模块（RS232,TCP/IP,MODBUS）1套8、滴定控制软件(在线滴定，自动计算，自动输出)1套9、整机安装及机箱与包装1套10、新机安装培训服务及12个月有限保修服务1台

ALT电镀产线硫酸铜、镍离子在线分析仪是一款由禾工科仪自主研发的无人值守的工业过程在线分析滴定仪，取代人工分析，可实现自动取样、上样、信号测量、滴定分析、自动清洗、自动分析、在获取分析结果后根据生产工艺控制加药泵对槽液进行精确配比加药，将槽液指标维持在生产工艺的预设范围内，还可将分析结果和加药量发送给服务器的数据库进行存储和统计，满足现代化生产过程控制的要求。 ALT电镀产线硫酸铜、镍离子在线分析仪采用A8处理器，模块化设计， 七英寸中文人机对话全彩触摸屏，高精度滴定管、电磁切换阀、长寿命溶剂泵，高分辨率的颜色采集模块和多样的检测模块，可通过测量电极的电位变化和颜色变化的自动判断，来指示滴定的终点，根据样品性质，仪器选用不同电极和检测器进行自动颜色滴定、pH滴定、氧化还原滴定、络合滴定、非水滴定和沉淀滴定等多种滴定，适用于化工、环保、食品、制药、造纸、纺织、冶金、金属表面处理、水质处理等领域。ALT电镀产线硫酸铜、镍离子在线分析仪 功能示意图ALT电镀产线硫酸铜、镍离子在线分析仪 产线应用示意图* 根据行业生产线专业定制研发，在线分析，无人值守，可完全替代人工；* 在线分析模块可进行分析自动化进程的编辑、修改和存储；包括在线自动取样，自动上样，自动分析，自动清洗，自动数据存储；计算公式可进行编辑和存储，分析完成后自动计算最终结果并发送给服务器；* 过程控制模块可监控多台在线分析仪的状态，并可根据客户需要开发配合自动化生产控制功能，本设备具有监控报警功能，可设置，液体，电源及分析结果等异常报警功能； ★配置清单（基本配置）：数量1、主机控制单元 1套2、高精度滴定馈液单元2套3、搅拌滴定台（通用）1个4、电位滴定（PH滴定）模块1套5、双铂针测量电极1支6、精密辅助泵（含控制系统）2个7、通讯模块（RS232,TCP/IP,MODBUS）1套8、滴定控制软件(在线滴定，自动计算，自动输出)1套9、整机安装及机箱与包装1套10、新机安装培训服务及12个月有限保修服务1台

Qualilab 是一个电镀溶液分析工具，采用CVS伏安循环法，能够定量测定所以电镀溶液中的有机添加剂和测定无极成份，广泛用于PCB 等行业。 Qualilab QL-5EZ是最新一代的CVS仪器，仪器由软件控制，QL-5EZ自动执行分析，提示用户在整个过程中计算和记录电镀液中添加剂的活性浓度和成份。ECI的几十年的电分析经验已编入新的软件平台，以提升用户体验和业务能力。 QL-5EZ为最新的化学品提供更好的分析性能，减少了分析和操作时间，并引入了新的功能和程序，如：多个任务组合成一个序列，先进的报告和数据处理工具，包括校正系数，方便的用户界面和故障排除功能。研究系列用户，可以选择多通道系统，用于试验摸索。特征：高精度和重复性 可更换的电极头使CVS和滴定之间轻松转换自动的注射器分配系统最大的行业应用程序库模块化的设计便于升级可靠、持久硬件软件平台：自动化的多任务测序减少分析时间先进的报告和数据处理包括统计，趋势分析，以及历史管理XML连接到实验室信息管理系统Get Me Expert™ 最终用户故障诊断包R&D软件版本直观的用户界面可从旧的软件中导入实用程序典型应用：电镀及化学镀工艺控制的理想的分析仪,如：铜、锡、镍、银、铬、及铝阳极氧化溶液和清洁剂准确、可靠的监测有机添加剂、无机成分和污染物添加剂的来料检验和出厂检验优化和监测碳处理程序研究成份消耗率优化新的电镀工艺和开发新配方

膜厚仪EDX-8000T 型XRF镀层测厚仪/电镀液分析仪Simply The Best垂直光路设计，专为镀层厚度分析而设计高分辨率硅针检测器 (Si-pin) ，适合于多元素镀层的高灵敏度分析，比起传统的封气正比计数器，Si-pin探测器具有更佳分辨率、更低的背景噪声（最高 S/N 比）长期稳定性以及更长的使用寿命工业级高清样品观测系统，精确的点位测量功能有助于提高测量精度易于使用，新型用户界面专为非XRF专家用户设计。直观而整洁，只需点击鼠标即可进行正确的分析背景介绍人们在同腐蚀作斗争中，采取了许多行之有效的措施，电镀就是其中的重要手段之一，电镀能提高金属零件在使用环境中的抗蚀性能；装饰零件的外表，使其光亮美观；提高零件的工作性能，如硬度，耐磨，导电性，电磁性、耐热性，钎焊性及其他特殊性能。英飞思开发的EDX8000T 镀层测厚仪是专门针对于镀层材料成分分析和镀层厚度测定。其主要优点是测试速度快：检测时间快，数秒内可完成检测，可在短时间内进行大量样品测试测试再现性佳：不会因不同人员测试同一样品产生手法差异分析结果异同，相较湿式化学分析较受前处理因素同时分析多元素：一次检测电镀液内的所有金属成分，无元素检测限制。非破坏性检测：样品内若有贵重成分，检测完成后均可回收无复杂样品前处理：不需专业实验室与操作人员及复杂的前处理检测浓度弹性：标准液可根据被测溶液浓度灵活调整，无固定浓度要求膜厚仪EDX8000T 应用场景测量的对象包括镀层、敷层、贴层、涂层、化学生成膜等可测量离子镀、电镀、蒸镀、等各种金属镀层的厚度镀铬，例如带有装饰性镀铬饰面的塑料制品钢上锌等防腐涂层贵金属成分分析，贵金属镀层，如金基上的铑材料分析分析硬质材料涂层，例如 CrN、TiN 或 TiCN可拓展增加RoHS有害元素分析功能，电镀液离子浓度分析膜厚仪EDX8000T产品特点超大样品腔一键测试，一键打印报告与其他软件的无缝集成使其能够轻松导出数据，兼容LIMS数据库经久耐用，在充满考验的生产或实验室环境中使用寿命长膜厚仪EDX8000T 可分析的常见镀层材料可测试重复镀层、非金属、轻金属、多层多元素以及有机物层的厚度及成分含量。单涂镀层应用：如可检测铁镀镍、铜镀镍、铁镀铬、铜镀锡、铜镀金、铜镀银等单镀层的厚度和元素成分多涂镀层应用：如Ni/Cu/Fe铁镀铜镀镍，Au/Ni/Cu铜镀镍镀金，Sn/Ni/Cu铜镀镍镀锡等合金镀层应用：如ZnNi/Fe铁镀镍锌合金, ZnAl/Ni/Cu铜镀镍镀铝锌合金等技术参数仪器外观尺寸:400mm*500mm*350mm仪器重量: 34KG镀层分析范围：锂Li（3）- 铀U（92）成分分析范围：硫S（16）- 铀U（92）可分析含量范围：1ppm- 99.99%涂镀层最低检出限：0.005μm，可同时分析5层以上镀层成分分析含量范围：5ppm-99.99%探测器：高分辨率铍窗电制冷Si-Pin Detector 多道分析器:4096道DPP analyzerX光管：50W高功率光管准直器：标配Φ0.5mm，选配Φ0.2mm滤光片：3种可切换可选配纯元素标样，镀层校准片电压：220ACV 50/60HZ环境温度：-10°C到35°C

Qualilab QL-10EZ是最新一代的CVS仪器，用CVS伏安循环法，能够定量测定所以电镀溶液中的有机添加剂和测定无极成份，广泛用于PCB 等行业。仪器由软件控制，QL-10EZ自动执行分析，提示用户在整个过程中计算和记录电镀液中添加剂的活性浓度和成份。ECI的几十年的电分析经验已编入新的软件平台，以提升用户体验和业务能力。QL-10EZ为最新的化学品提供更好的分析性能，减少了分析和操作时间，并引入了新的功能和程序，如：多个任务组合成一个序列，先进的报告和数据处理工具，包括校正系数，方便的用户界面和故障排除功能。QL-10EZ带自动进样功能和15位样品转盘，自动进样分析，提高了分析效率，节省人力和时间。特征：高精度和重复性可更换的电极头使CVS和滴定之间轻松转换自动的注射器分配系统最大的行业应用程序库模块化的设计便于升级可靠、持久硬件 典型应用：电镀及化学镀工艺控制的理想的分析仪,如：铜、锡、镍、银、铬、及铝阳极氧化溶液和清洁剂准确、可靠的监测有机添加剂、无机成分和污染物添加剂的来料检验和出厂检验优化和监测碳处理程序研究成份消耗率优化新的电镀工艺和开发新配方 软件平台：自动化的多任务测序减少分析时间先进的报告和数据处理包括统计，趋势分析，以及历史管理XML连接到实验室信息管理系统Get Me Expert™ 最终用户故障诊断包R&D软件版本直观的用户界面可从旧的软件中导入实用程序 最终用户：Dow(陶氏化学)、ATO（安美特）、Enthone(乐思化学）、Ebara(荏原)、Okuno(奥野）、麦德美、宝利、麦德隆、信科、德安、成功科技、益丰化学、格全、贝加尔、国远化工、江南精细化工

XTD-200是一款专用于检测各种异形件，特别适用于五金类模具、卫浴产品、线路板以及高精密电子元器件表面处理的成分和厚度分析。该系列仪器不但可以应对平面、微小样品的检测，在面对凹槽曲面深度0-90mm以内的异形件具备巨大的优势；搭载全自动可编程移动平台，无人值守，便可实现多样品的自动检测。被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。产品优势：先进的EFP算法：多层多元素、各种元素及有机物，甚至有同种元素在不同层也可准确测量上照式设计：实现可对大型工件进行快、准、稳高效率测量自动对焦：高低大小样品可快速清晰对焦变焦装置算法：可对0-90mm深度的凹槽高低落差件直接检测小面积测量：测量面积小至0.002mm2可编程自动位移：选配自动平台，X210*Y230*Z145mm行程内无人值守自动测量● 自动、智能、在线检测自动：可编程自动位移平台，无人值守、自动检测样品；一次编程便可实现成百上千个样品点的高效检测智能：实现自动AI影像智能寻点，编程档案自动匹配测试位置，在面对大批同类型样品检测时，具备明显的优势在线：根据客户要求可个性化定制产线在线式检测，为工业4.0提供在线检测整体解决方案，提高检测效率，实现全自动智能化工厂1.元素分析范围：氯（Cl）- 铀（U）2.涂镀层分析范围：锂（Li）- 铀（U）3.厚度检出限：0.005μm4.成分检出限：1ppm5. 测量直径小至0.05mm（最小测量面积0.002mm2）6.对焦距离：0-90mm7.样品腔尺寸：530mm*570mm*150mm8.仪器尺寸：760mm*550mm*635mm9.仪器重量：120KG广泛应用于半导体行业、新能源行业、5G通讯、五金建材、航空航天、环保行业、汽车行业、卫浴装饰、精密电子、电镀行业等多种领域。选择一六仪器的四大理由：1.一机多用，无损检测2.测量面积小至0.002mm23.可检测凹槽0-90mm的异形件4.轻元素，重复镀层，同种元素不同层亦可检测

Q150V Plus系列镀膜仪适用于高真空应用中的超精细导电镀膜 Q150V Plus针对高真空应用进行了进一步优化，最终真空度优于1×10-6mbar，同时配置全量程规，能够溅射具有晶粒尺寸更细的金属膜，适用于超高分辨率成像。得益于更低的背景真空，能够有效的从腔室中去除氧气、氮气和水蒸气避免了溅射过程中的化学反应，有效的消除镀层中的杂质或缺陷。能够实现制备低散射高纯度金属膜以及高密度的非晶碳膜等。Q150V Plus提供了Q150T Plus的所有功能，同时具有更精细的晶粒尺寸和更薄的镀层，适用于超高分辨率成像应用。

XTU-4C是一款设计结构紧凑，模块精密化程度高的镀层测厚仪，采用了下照式C型腔体设计，不但可以测量各种微小样品，即使大型超出样品腔尺寸的工件也可测量，是一款测量涂镀层成分及厚度性价比高、适用性强的机型。该系列仪器使用于平面、微小样品或者微凹槽曲面深度30mm以内的样品涂镀层检测。被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。快速准确移动定位：高精密微型移动滑轨，10-30mm（X-Y）/圈，精度0.005mm微焦X射线装置：检测面积可小于0.002mm2的样品，可测试各微小的部件高效率正比接收器：即使测试0.01mm2以下的样品，几秒钟也能达到稳定性变焦装置及算法：可对各种异形凹槽进行检测，凹槽深度测量范围可达0-30mm对焦方便：下照式设计可以快速定位对焦样品1.元素分析范围：氯（Cl）- 铀（U）2.涂镀层分析范围：氯（Cl）/锂（Li）- 铀（U）3.厚度检出限：0.005μm4.成分检出限：1ppm5. 测量直径小至0.2mm（测量面积小至0.03mm2）6.对焦距离：0-30mm7.样品腔尺寸：500mm*360mm*215mm8.仪器尺寸：550mm*480mm*470mm9.仪器重量：45KG10.XY轴工作台移动范围：50mm*50mm11.XY轴工作台承重：5KG广泛应用于电镀行业、通讯行业、汽车行业、五金建材、航空航天、水暖卫浴、精密电子、珠宝首饰和古董等多种领域。选择一六仪器的四大理由：1.一机多用，无损检测2.测量面积小至0.002mm23.可检测凹槽0-30mm的异形件4.轻元素，重复镀层，同种元素不同层亦可检测

派瑞林镀膜的方式为气相沉积CVD，其防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，广泛应用于电路板PCBA、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、LED/OLED、传感器、电池、医疗产品等，上述产品经parylene镀膜后可起到防水、耐腐蚀、耐高压、耐盐雾的作用，可大大提高产品性能，延长使用寿命。 此设备适用于磁性材料、橡胶件、金属件、电路板、医疗器械等产品的立式固定涂敷，以达到防霉菌、防潮湿、防盐雾的三防效果，并且对于磁性材料、电路板等产品也有较理想的耐压功能，延长产品的寿命，提高产品可靠性

派瑞林镀膜的方式为气相沉积CVD，其防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，广泛应用于电路板PCBA、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、LED/OLED、传感器、电池、医疗产品等，上述产品经parylene镀膜后可起到防水、耐腐蚀、耐高压、耐盐雾的作用，可大大提高产品性能，延长使用寿命。 此设备适用于磁性材料、橡胶件、金属件、电池等产品的滚动涂敷，以达到防霉菌、防潮湿、防盐雾的三防效果，并且对于电池等产品也有较好的耐压功能，延长产品的寿命，提高产品可靠性。

在线电镀液多通道分析系统MAU-EL系列支持非标定制秒准MAYZUM多通道电镀液在线分析系统MAU-EL-简 介：该系统可集成浓度探头、温度探头、PH探头、ORP溶氧值、电导率、流量、液位……等任意具有485通讯协议的设备，实时采集数据，自动保存历史记录，数据曲线等。应用领域：用于各种电镀液、前处理脱脂剂的浓度/PH/ORP/流量/液位监控，帮企业准确核算成本及质量控制。秒准MAYZUM多通道电镀液在线分析系统MAU-EL-产品特点：1.快速准确测定电镀液浓度（可选集成PH/ORP/流量/液位监控等带有通讯协议的探头）；2.无需耗材，无需人工操作，24小时实时监控；3.自动生成数据报表，历史记录一目了然；4.自动上下限报警；依据现场工况控制自动加药；5.标配4个探头接口（4-20ma/RS485），可拓展最多120个通道；6.可选内置wifi连接，数据实时无线远传；7.支持多种通信方式及通信协议，实现数据的上传电脑远程查看和管理；8.更多功能等您定义……秒准MAYZUM多通道电镀液在线分析系统MAU-EL-显示介面图：电镀液多通道分析系统、电镀液浓度监控仪、电镀液在线浓度检测仪、前处理脱脂剂浓度监控仪、脱脂剂浓度计、电镀液比重浓度测试仪、电镀液在线浓度监控仪、电镀液在线浓度检测仪、电镀液在线浓度计、PH液位流量、电镀液在线分析系统检测仪、电镀液离子浓度分析仪、电镀液离子浓度计、电镀液比重浓度计、脱脂剂浓度检测仪、电镀液在线分析系统检测仪

卷对卷式LB膜分析仪 请通过我们的联系我们！卷对卷式LB膜分析仪仪器用于在较长的柔性基底（如保鲜膜式柔性带状基底）上连续沉积单分子薄膜，也可把大尺寸刚性衬底粘接在皮带上进行镀膜，可进行无限多次LB薄膜沉积，可控制柔性基底顺时针或逆时针旋转，沉积X,Y,Z多种类型的LB薄膜结构。同时具备垂直镀膜与水平镀膜功能。衬底可以是卷式铝箔、卷式PET塑料薄膜等。设备包含镀膜槽，卷对卷样品传动装置，卷对卷转动滑障与水平移动滑障，表面压探头与镀膜头，自动进样装置：注射泵与蠕动泵，控制器，电脑。卷对卷式LB膜分析仪仪器是一种多功能的LB莫分析仪，具有柔性镀膜，刚性镀膜，垂直镀膜，水平镀膜功能。卷对卷式LB膜分析仪液体界面单分子薄膜镀膜仪器可进行无限多次薄膜沉积，可控制柔性基底顺时针或逆时针旋转，沉积x、y、z型结构的薄膜。卷对卷式LB膜分析仪技术指标：柔性基底镀膜尺寸范围：长度可达3m，宽度可达16.5cm，柔性基底传送速度范围： 0.4625-117 mm/s，调整步阶0.007725 mm/s。镀膜井尺寸：200x180x200 mm (w-d-h)，侵入液体的zui大基片尺寸不小于170x170x170 mm (w-d-h)，兼容常规片状固体基片。表面压传感器：带2个表面压传感器，分别测量镀膜区域与补样区域的表面压值，表面压传感器灵敏度：0.01 mN/m，测量范围：0-80 mN/m。

MBR 焊锡丝 低温焊锡线 活性焊丝 电镀焊丝MBR ELECTRONICS 低温合金焊丝Cerasolzer活性焊料合金可用于电子元件制造，接触电子/电子材料和平板玻璃/金属玻璃，因为它能提供独特的焊接工艺，取代常用的银烘烤、铟焊法、钼锰法和树脂（需助焊剂） 粘合法。运用于常规焊接工艺无法实现的玻璃、陶瓷、铝和不锈钢等母材的焊接。其工作原理是基于科学认可的由强力超声波冲击引起的超声波气穴现象。特点：1，无需助焊剂2，耐腐蚀3，焊接温度150℃-290℃4，可润湿玻璃＋陶瓷可焊接母材：1，铝 2，陶瓷3，导电 ITO 镀膜玻璃4，光学玻璃5，硅，石英玻璃6，各种玻璃7，导热材料8，钛9，结晶，纯化玻璃10，烧结金属磁性材料11，钽、 锡、 钛、 锌粘合机理：1，可除去母材表面的氧化物，使焊料和母材发生相互作用即粘合2，迫使液态焊料进入母材的微孔细缝中，密封住这些微孔细缝，使母材表面更加易于焊接3，超声波振动挤出液体焊料中的气泡，产生无气泡焊接4，CERASOLZER 含有少量以下元素：锌、钛、硅、铝和稀土等，这些元素都对氧气有很强的化学亲和力。在焊接过程中，一般认为这些元素和空气中的氧气接合形成氧化物，通过化学反应在玻璃、陶瓷、金属氧化物等表面形成氧化层。MBR 焊锡丝 低温焊锡线 活性焊丝 电镀焊丝 技术参数：

分析原理： ETI 3100 VA系列重金属分析仪采用改良的阳极溶出法，使用特制的电极和专利的电解池，可检测多种金属元素和非金属元素。分析包括两个步骤： 1、将分析溶液中的待测物在一定条件下进行预沉积，使得待测物以还原态沉积到工作电极上:Men++ne→Me； 2、沉积于工作电极上的待测物电解，以氧化态溶解到电解液中：Me → Men++ne，记录并检测此过程中工作电极上的电位变化。 每次分析都会自动扣除背景信号，得到真正的样品信号。待测物的浓度通过和标准溶液的对比而自动得到，整个测量过程不使用有毒试剂，特制的长寿命无汞、非镀膜电极更加保证了使用者及环境的安全。 应用领域：地表水、自来水、电镀、化工、冶炼、电池、皮革、…… 典型应用：Pb、Cd、Hg、As、Cr、Cu、Mn、Sb、Fe、Ni……（更有多达几十种的成熟应用）

恒奥德仪器加热型提拉镀膜机 恒温浸渍提拉涂膜机 H18059 主要参数 标温度范围 室温-200℃样行程 150mm提拉速度范围 1um/s-20000um/ss提拉分辨率 1um/s浸渍时间 0-9999S镀膜次数 1-9999次每次镀膜间隔时间 0-9999S额定线性推力 20N控制度 ≤0.5%本公司主营 不锈钢采水器，弯曲测量装置，鼓风干燥箱，色度计，化学试剂沸点测试仪，提取仪，线缆探测仪，溶解氧测定仪，活性炭测定仪，磁导率仪，比浊仪，暗适应仪，旋转仪，酸度计，硅酸根测定仪，过氧化值测定仪，腐蚀率仪，电阻率测定仪，耐压测定仪，污泥比组测试仪，粉体密度测试仪，机械杂质测定仪，运动粘度测试仪，过氧化值酸价测定仪，噪声源，土壤腐蚀率仪，直流电阻测试仪，厌氧消化装置，耐压测试仪，甲醛检测仪，硅酸根测试仪，PH酸度计，测振仪，消解仪，读数仪，空气微生物采样器，，双波长扫描仪，涂层测厚仪，土壤粉碎机，钢化玻璃表面平整度测试仪，腐蚀率仪，凝固点测试仪，水质检测仪，涂层测厚仪，土壤粉碎机，气体采样泵，自动结晶点测试仪，凝固点测试仪，干簧管测试仪，恒温水浴箱，汽油根转，气体采样泵，钢化玻璃测试仪，水质检测仪，PM2.5测试仪，牛奶体细胞检测仪，氦气浓度检测仪，土壤水分电导率测试仪，场强仪，采集箱，透色比测定仪，毛细吸水时间测定仪，氧化还原电位计 测振仪，二氧化碳检测仪，CO2分析仪，示波谱仪，黏泥含量测试仪，汽车启动电源，自动电位滴定仪，，干簧管测试仪，电导率仪，TOC水质分析仪，微电脑可塑性测定仪，风向站，自动点样仪，便携式总磷测试仪，腐蚀率仪，恒温水浴箱，余氯检测仪，自由膨胀率仪，离心杯，混凝土饱和蒸汽压装置，颗粒强度测试仪，斯计，自动涂膜机，，气象站，动觉方位仪，，气味采集器，雨量计，四合气体分析仪，乳化液浓度计，溶解氧仪，温度测量仪，薄层铺板器，温度记录仪，老化仪，噪音检测仪，恒温恒湿箱，分体电阻率测试仪，初粘性和持粘性测试仪，红外二氧化碳分析仪，氢灯，动觉方位仪，冷却风机，油脂酸价检测仪，粘数测定仪，菌落计数器，气象站，雨量计，凯氏定氮仪，荧光增白剂，啤酒泡沫检测仪，发气性测试仪，低频信号发生器，油液质量检测仪，计数器，漏电流测试仪，标准测力仪，毛细吸水时间测定仪，大气采样器，流速仪，继电器保护测试仪，体积电阻率测试仪，侧面光检测仪，照度计，体化蒸馏仪，涂布机，恒温加热器，老化仪，烟气分析仪 本产品价格仅为配件价格，由于检测参数不同对仪器的终要求也不同，所展示的价格并非产品终价格，如给您带来不便请谅解请您在购买前联系我们客服人员，我们会给你确认产品信息，术参数以及报价，我们会以优惠的价格，诚恳的态度为您服务，期待您的来电！ 以上参数资料与图片相对应

产品简介： GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产的单位。镀膜仪在蒸发镀膜过程中样品台可以进行旋转，使蒸发的薄膜材料在样品表面均匀分布。配有两组蒸发单元，一个钨舟，一个钨丝篮；钨舟中可以放粉末状的薄膜材料，钨丝篮中可以放条状或块状薄膜材料。控制屏采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，TFT式显示器具有高响应度、高亮度、高对比度等优点，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。镀膜仪使高真空的蒸发镀膜设备，真空度可达3.0×10-4torr。 产品型号 GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪安装条件本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地2、工作台：落地式，占地面积2m2以上3、通风装置：需要主要特点 1、采用桌面小型一体化结构，将真空腔体、镀膜电源及控制系统进行整合设计，体积与一台A3打印机相仿。 2、采用电阻式双蒸发源结构，可快速实现蒸发源的转换。蒸发单元中装有两组蒸发电极可安装不同的蒸发源，适应相应的镀膜材料。 3、配有0.1%精度蒸发电源，并具有恒流输出功能，对蒸发舟能起到很好的保护作用。 4、可选配石英晶体膜厚控制仪，在镀膜过程中对镀膜速率和膜层厚度进行控制。 5、可将采集到的镀膜数据保存到U盘，便于用户分析控制（选配）。 6、本机将所有功能设计成标准化模块，根据用户不同的需求对相应模块进行组合，以达到优化的镀膜环境，并便于用户维修与维护。 7、操作控制采用7英寸TFT显示屏显示操作界面，触屏操作，实现全图形化界面，易用易懂。技术参数 1、电源：AC220V 1500W 2、蒸发电源功率：1000W 5V 200A 3、蒸发电极有效距离：44mm 4、样品台：?120mm（可旋转） 5、膜厚测量精度：0.1?或0.01?（可选配高精度型） 6、外接真空机组：扩散泵机组（可选配国产110机组或进口机组）（不建议使用扩散泵） 7、极限真空度：3.0×10-3torr（扩散泵）、3.0×10-4torr（分子泵）（不建议使用扩散泵） 8、工作真空度：5.0×10-3torr 9、真空接口：KF40 10、使用环境：温度35℃，湿度75%（相对湿度）不结露，海拔1500m产品规格　尺寸：440mm×240mm×260mm（不包括真空机组）；重量：约47kg（不包括真空泵）

iSpecHyper-Mini-Pro是莱森光学一款采用芯片镀膜渐变薄膜滤光片来实现分光的成像高光谱相机系统。是一款将不同波段的渐变薄膜镶镀在探测器上（CMOS/CCD/InGaAs面阵探测器等），通过对目标成像，可同时快速获取光谱和影像信息的无损检测分析仪器。iSpecHyper-Mini-Pro芯片镀膜成像高光谱相机可根据应用实现400-1000nm或900-1700nm范围内的高光谱成像。该系统结构包括：成像高光谱相机、驱动电源、运动控制模块、数据采集模块等。能够实现自动曝光、自动匹配扫描速度，通过携带的辅助摄像功能对监测范围进行确定等功能。在数据处理方面，实现数据的预处理、数据选择性的导出、不同数据和图像的校准。该系统广泛应用于需要物质分辨的各个领域，如农业、水质检测、材料检测、生物医学、食品加工、废物处理等。iSpecHyper-Mini-Pro芯片镀膜成像高光谱相机利用特殊的镀膜技术，无需分光光谱仪模块，使得在光谱覆盖范围内的数十或数百条光谱波段对目标物体连续成像，在获得物体空间特征成像的同时获得被测物体的光谱信息。其拥有的高速采集能力能够满足客户各种高光谱成像分析要求，同时，因其具有体积小、重量轻、鲁棒性好，以及1.8W低功耗的特性，是工业、无人机或手持设备等移动环境的最佳选择。线性渐变滤光片结构及分光示意图技术原理线性渐变滤光片采用连续镀膜的方式，基于多层楔形薄膜结构实现空间连续变化的滤光特性。可根据色散需求调节薄膜斜率从而获得目标线性变化率。线性渐变滤光片具备高级成度的分光能力，在光谱仪器的小型化、轻量化设中具备不可替代的优势。其广泛应用于轻量化高光谱成像光谱仪、便携式光谱仪、医用内窥镜。 基于线性渐变滤光片的镀膜式高光谱成像相机原理主要技术参数型号iSpecHyper-Mini-Pro光谱范围400-1000nm成像原理芯片渐变滤光片镀膜光谱分辨率1nm@600nm光谱通道数32成像镜头16mm/25mm/35mm探测器CMOS探测器像素尺寸5.5 × 5.5μm像元分辨率2048*2048曝光时间28us-1s数据格式8，10bit RAW数据接口USB 3.0功耗1.8W工作温度0°C ~ 50°C储存温度-20°C ~ 60°C相对湿度80% RH 非冷凝尺寸（mm）/重量（g）96.1mm × 43mm × 46.5mm/200giSpecHyper-Mini-Pro芯片镀膜成像高光谱相机尺寸三视图（单位：mm）应用案例&bull 监测农作物的长势，如农作物的氮含量、叶绿素、生物量等，也可用于监测农作物的病害及土壤肥力情况，从而为农业精细化管理作技术支撑。&bull 采集不同树种的叶片，通过光谱分析法和纹理分析法，对其高光谱影像数据进行分析，可区分不同树种的叶片和叶片的农学指标分布情况，为航拍区分不同树种作理论依据。 松材线虫病变色松树监测接种链格孢油菜叶的高光谱成像图与光谱曲线&bull 果蔬品质监测可对果蔬的质量进行评估并及时清除低品质的果蔬。果蔬的品质包括水分、糖分、维生素等物质的含量，品质缺陷包括果蔬采摘、运输过程造成的擦伤，害虫咬伤，冷藏过程造成的冻伤等。 不同浓度梯度的叶菜样品的农药荧光光谱曲线 无残留和不同种类农药残留菠菜叶片表面光谱曲线&bull 实时检测水质参数指标，如总磷、总氮、叶绿素a、悬浮物、PH值、化学需氧量、氨氮、溶解氧等10余种水质指标。水环境监测水质指标&bull 应用于烧伤皮肤检测，通过成像图分析不同位置的皮肤烧伤程度，能够有效地辅助医生判断患者病症。皮肤烧伤程度检测&bull 适用于烟草行业的烟丝种类、杂质判别。可用于烟丝生化成分的检测，通过分析高光谱图像中的光谱信息判别烟丝的种类、识别烟丝中的杂质等。检测烟丝生化成分、烟丝种类判别、杂质识别等&bull 将iSpecHyper-Mini系列高光谱成像系统搭载于配备有光源的暗箱系统，可用于不同工业塑料种类的分选，如PE、PP、PS、PC、PA、PU、PET、PVC、POM和ABS等用于工业塑料分选

KSV NIMA Langmuir-Blodgett膜分析仪KSV NIMA Langmuir及Langmuir-Blodgett膜分析仪（以下简称 KSV NIMA LB膜分析仪）是在Langmuir薄膜的制备、表征（包括显微镜）和Langmuir-Blodgett膜的沉积领域方面应用最广泛的一款全球领先仪器。KSV NIMA Langmuir 及Langmuir-Blodgett膜分析仪可用于单分子层膜的制备及表征，并可精确控制分子的横向堆积密度。KSV NIMA LB膜分析仪可研究分子在单分子层时具有的独特性质，并可采用Langmuir-Blodgett或Langmuir-Schaefer沉积技术转移这些单分子层。通过精确控制厚度、分子取向及堆积密度可制备单层或多层分子膜。应用KSV NIMA LB膜分析仪可在气-液，液-液相界面上制备可控制堆积密度的不溶性单层膜（Langmuir膜），并将此有序功能性膜转移到固体表面（Langmuir-Blodgett 膜），这在纳米技术领域有广泛的应用价值:生物膜及生物分子间的相互作用细胞膜模型（如：蛋白质与离子的相互作用）结构变化及反应药物传输及行为有机及无机涂料具有光学、电学及结构特性的功能性材料新型涂料如纳米管、纳米线、石墨烯等表面反应 聚合反应免疫反应、酶-底物反应生物传感器、表面固定催化剂表面吸附和脱附表面活性剂及胶体合成胶体稳定性乳化、分散、泡沫稳定性薄膜的流变性扩张流变界面剪切流变（与KSV NIMA ISR 联用）技术Langmuir-Blodgett膜分析仪Langmuir-Blodgett膜分析仪与Langmuir膜分析仪非常相似，它也可以进行膜的制备和研究。此外，LB膜分析仪配备了镀膜井和镀膜头。在所需的堆积密度下（通常为固相），镀膜头可以用来将Langmuir膜转移到固体基材上。镀膜井可以在Langmuir膜下方为固体样品提供空间。 Langmuir-Blodgett (LB)沉积过程是将样品从单分子层中垂直拉出，而Langmuir-Schaefer (LS)沉积过程是将样品水平地置于界面上（不需要槽上带有镀膜井）。 通过反复沉积技术可制备一定厚度的纳米膜。当采用LB技术，亲水性及疏水性样品均可在液相或气相中沉积为单分子层。 将Langmuir膜转移到样品上，其密度，厚度及均一性等性质将会保留，从而实现了制备不同组分的多分子层结构的可能。与其他有机薄膜沉积技术相比，Langmuir-Blodgett沉积方法受功能性分子的分子结构的限制影响很小。这意味着Langmuir-Blodgett技术是唯一能够进行自下向上的组装方法。在沉积表面上测试可以使用以下方法深入研究沉积表面：界面红外反射吸收光谱仪(KSV NIMA PM-IRRAS)石英晶体微天平(Q-SENSE QCM-D)表面等离子共振仪(SPR)电导率测量仪紫外可见吸收光谱仪原子力显微镜X射线反射器透射电子显微镜椭圆偏振仪X射线光电子能谱仪常规Langmuir-Blodgett系统常规KSV NIMA Langmuir-Blodgett沉积槽的尺寸有小型，中型和大型。小型、中型的LB沉积槽与超小型的Langmuir沉积槽具有相同的框体，但增加了一个镀膜头。不同尺寸和形状的槽体可以使用一个框架。 在基材上沉积的LB膜样品尺寸可从几个平方毫米到几十平方厘米。镀膜井的尺寸限制了基材的尺寸。LB镀膜头可装于LS沉积组件中，进行基材的单侧镀膜。 交替镀膜沉积槽交替镀膜沉积槽可用于两种材料的交替层镀膜，包括两个槽体，两个表面压力传感器和两对滑障。基材可以按照您需要的顺序从任意两种单分子层或水间移动。该槽有两种尺寸，标准型和大型。KSV NIMA表征仪器界面红外反射吸收光谱仪（PM-IRRAS）带偏振模块的红外反射吸收光谱仪主要用来决定分子的取向和化学组成。布鲁斯特角显微镜（BAM）可进行薄膜的均一性、相行为和形貌的单分子层成像和光学观测，并可提供不同的分辨率和其他分析数据选项。表面电位测量仪（SPOT）使用振动盘技术来监测薄膜的电位变化，从而对单分子层的电学性质进行表征。提供诸如堆积密度和取向等信息，可对任何Langmuir等温测试进行补充。界面剪切流变仪（ISR）这种独特的剪切流变仪可以测量界面处的粘弹性。适用于气-液或油-水界面的研究，在控制表面压的同时，可对粘弹性进行分析。KSV NIMA LB软件KSV NIMA LB软件非常直观，操作简单方便。它为客户提供了涵盖经典的Langmuir及Langmuir-Blodgett膜实验在内的各种预编程序。这些程序可根据用户的需求自行修改，可记录大量的数据及参数，并对相关数据进行作图分析。可记录的参数包括数据点的数目、时间、滑障位置、滑障速度、槽体面积、分子面积、浸渍位置、浸渍速度、层数、转移比、累计转移量、温度、pH值及表面电位等。 标准程序包括：压缩/松弛等温线：测量表面压与单位平均分子面积、剩余面积、时间或其他测量参数之间对应的函数关系。分析单分子层动力学（酶动力学、单分子层的水解、聚合或其他零级反应）。分析单分子层的渗透、溶解度、与生物分子（酶、蛋白质、多肽等）的结合。等体积线及等压线：表面压/温度的增大或减小、表面压/时间或表面压/任意需要测量的参数等，均可进行作图分析。剪切流变学：在一定表面压力下，通过振动滑障来检测粘弹性。浸渍：Langmuir-Blodgett及Langmuir-Schaefer模块可控制并监测表面压、浸渍速度、冲程长度、沉积过程、转移比。 当完成一个实验后，用户可在数据还原与分析界面进行进一步的数据分析。选中一个实验后，对应的实验数据也会显示。不同的实验数据可在同一图表中展示并进行比较。软件也可计算出其他相关数据并进行输出。比如有最新材料性质的信息，即可通过查看和编辑实验设置重新进行数据计算。测量实例图1：药物开发该图显示了在空气-缓冲剂溶液界面上，抗寄生虫药物的单分子层的表面压-面积（紫色）及表面电势-面积（浅蓝色）等温线。观察发现，在平均分子面积为140?2处有明显表面压-面积等温线转变，而在表面电势-面积等温线中并没有转变。这就表明此转变并非发生相变，而是该药物在这一平均分子面积时发生了聚合，二聚或构象转变。图2：高压缩单分子层膜该图显示通过传统的KSV NIMA Langmuir中型槽（浅蓝色）和KSV NIMA Langmuir锻带滑障槽（深蓝色）得到的DPPC单分子层的表面压-面积等温线。在两条曲线最大表面压处观测到差异表明KSV NIMA Langmuir锻带滑障槽可以在更高的堆积密度压缩（和保持）单分子膜。 图3：表面反应该图显示，在空气-缓冲液界面处，以壳聚糖溶液作为亚相，将β-乳球蛋白注射到DMPA（醋酸甲孕酮）单分子层后表面压力随时间的变化关系。β-乳球蛋白首先吸附在单分子层上（A部分），随后借助壳聚糖从单分子层移出（B部分）。PM-IRRAS的研究证实了壳聚糖-蛋白质复合物的形成及蛋白质从单分子层上的完全移除。产品优势最优的性能得益于独特的设计专为极度精确测试设计的超敏感表面张力传感器。铂金属板，铂金属棒及纸板都可作为探针，以满足不同的需求。开放性的设计便于槽体在框架上的放置及不同槽体的快速更换，同时便于清洗槽体表面。 当需要清洁或更换新槽体时，槽体在框架上的拆卸和放置都极其方便。Langmuir 及Langmuir-Blodgett槽体是由便于清洁、可靠耐久的整块纯聚四氟乙烯构成，其独特的设计能够防止槽体和镀膜井发生泄漏，同时避免了使用胶水及其他封装材料造成的潜在污染。 滑障由亲水性的迭尔林聚甲醛树酯制成，可提高单分子层的稳定性。可根据客户需要提供疏水性的聚四氟乙烯压缩滑障。坚固的金属构架能够防止滑障随着时间的推移而变形。 薄型框架设计能够实现与PM-IRRAS(红外光谱)，布鲁斯特角显微镜，荧光显微镜，X射线等光学表征技术的联用。对称滑障压缩为标准的均匀压缩方法，而任意仪器均可实现单一滑障压缩。居中的镀膜井有利于单分子层LB沉积的均一性。通过外部循环水浴对铝制底板进行加热/冷却，以控制亚相的温度（水浴为分开销售）。通过调整框架撑脚，可快速而准确地校准槽体水平。当需要放置显微镜时，框架撑脚也可很容易地从槽体上拆除。完全掌控您的实验强大且直观的软件可以满足初学者和经验丰富用户的需求。它是KSV NIMA L和LB的核心组件，该软件能够全程控制并实时显示：表面压力滑障位置滑障速度在沉积过程中（LB）基材位置浸渍速度（LB）温度pH（选件）表面电势（选件）界面单元上的操作按键以及数显功能可帮助用户不使用软件即可做好测量前的准备工作。综合操作手册对设置仪器及进行一些基础实验作了详细介绍。KSV NIMA 公司同样提供大量仪器信息及技术支持以帮助用户更充分的使用仪器。 您的终身合作伙伴独有的可替换性槽体、高度模块化设计，不需要购买新的框架，即可实现KSV NIMA Langmuir及Langmuir-Blodgett膜分析仪各型号之间的灵活切换。客户可根据实验体系的需要进行调整。例如，将Langmuir槽体更换成Langmuir-Blodgett槽体，或者选择不同尺寸的槽体等。 使用大型框架和中型Langmuir槽体搭建的KSV NIMA Langmuir膜分析仪。 除了交替镀膜槽体外，其他所有槽体（直接或使用新槽体升级）都可与KSV NIMA 表面电位传感器，布鲁斯特角显微镜（KSV NIMA BAM 和KSV NIMA MicroBAM）及PM-IRRAS等表征仪器联用。 仪器设计全部采用耐用性组件，在使用了20多年后，一些仪器性能依然良好。 可提供多种配件（如水平浸渍钳夹，表面电位仪，pH探针等）。 灵活性在KSV NIMA，我们理解这种分子尺度的实验，仪器要求会因研究方向而有差异，而我们所提供的标准产品可能不够完全满足您的实验要求。如有特殊实验需求，请与我们联系，以寻求合适的解决方案。

缎带型Langmuir/LB膜分析仪1. 产品简介KSV NIMA为瑞典百欧林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要经营方向为单分子层薄膜的构建与表征工具。缎带型Langmuir/LB（Langmuir-Blodgett）膜分析仪为KSV NIMA自主研发的一款单分子层膜的制备和表征设备。与常规型的L/LB膜分析仪相比，KSV NIMA L/LB缎带型膜分析仪可以提供更高的表面压力。使用缎带取代滑障，可以制备更规整的单分子层膜，同时更高的堆积密度，可以提供许多新的应用前景。缎带型Langmuir/LB膜分析仪主要有两款：缎带型Langmuir膜分析仪和缎带型LB膜分析仪。通过简单的更换槽体，任何KSV NIMA Langmuir或LB膜分析仪均可更换为缎带型膜分析仪，同理也可将缎带型膜分析仪更换为常规型。2. 工作原理位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层可以被压缩。表面压力即堆积密度可以通过Langmuir膜分析仪的压力传感器进行控制。在进行典型的等温压缩测试时，单分子层先从二维的气相(G)转变到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在气相中，分子间的相互作用力比较弱；当表面积减小，分子间的堆积更为紧密，并开始发生相互作用；在固相时，分子的堆积是有序的，导致表面压迅速增大。当表面压达到最大值即塌缩点后，单分子层的堆积不再可控。图1 单分子层膜状态受表面压力增加的影响缎带型Langmuir/LB膜分析仪几乎与常规型的膜分析仪的工作原理一致，唯一的区别是缎带型Langmuir/LB膜分析仪的压缩机理为缎带，而常规型的为滑障。缎带插入亚相中，将单分子层封闭起来，提供完美的膜限制空间。KSV NIMA缎带型膜分析仪的机理如下：图2 缎带型Langmuir/LB膜分析仪工作原理：1. 压缩； 2. 扩张3. 技术参数3.1 缎带式LB膜分析仪（KN 2005）1. 槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口2. 框体特性：33 mm槽体高度调节，天平可XYZ三维定位调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口3. 系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试 4. 总槽体表面积： 322 cm2 5. 最大扩展槽体表面积： 148.4 cm2 6. 最小压缩槽体表面积： 40.5 cm2 7. 滑障速度: 0.1-270 mm/min8. 滑障速度精度: 0.1 mm/min9. 测量范围：0-300 mN/m（铂金板）；0-1000 mN/m（铂金棒）10. 天平最大负荷: 1 g11. 天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）12. 传感精度: 0.1μN/m13. 表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒14. 总亚相容积：387 ml15. 测试槽（过吊带中线）亚相容积：226 ml16. 镀膜井尺寸：20 x56 x 65 mm（长 x 宽 x高）17. 最大基材尺寸：3 x 52 x63 mm或2英寸 18. 最大镀膜冲程： 80 mm19. 镀膜速度：0.1 – 108 mm/min20. 电源： 100...240 VAC21. 频率： 50...60 Hz4. 产品优势及亮点4.1 产品优势1. 专为极度精确测试设计的超敏感表面张力传感器。铂金属板，铂金属棒及纸板都可用作探针以满足不同的需求。2. 开放性的设计便于槽体在框架上的放置及不同槽体的快速更换，同时便于清洗槽体表面。3. 当需要清洁或更换新槽体时，槽体在框架上的拆卸/放置极其方便。4. Langmuir-Blodgett/Langmuir槽体是由便于清洁、可靠耐久的整块纯聚四氟乙烯构成，其独特的设计能够防止槽体和镀膜井发生泄漏，同时避免了使用胶水及其他封装材料造成的潜在污染。5. 对称缎带压缩为标准的均匀压缩方法。6. 居中的镀膜井有利于单分子层LB沉积的均一性。7. 通过外部循环水浴对铝制底板进行加热/冷却，以控制亚相的温度（水浴为分开销售）。8. 通过调整框架撑脚，可快速而准确地校准槽体水平。当需要放置显微镜时，框架撑脚也可很容易地从槽体上拆除。4.2 产品亮点4.2.1 联用或相关分析技术本产品可与界面红外反射吸收光谱仪(PM-IRRAS)，布鲁斯特角显微镜(BAM)，界面剪切流变仪（ISR），荧光显微镜，X射线等光学表征技术联用或对样品进行后续分析。具体如：1. 红外反射吸收光谱(KSV NIMA PM-IRRAS)2. 石英晶体微天平(Q-Sense QCM-D)3. 表面等离子共振仪4. 电导率测量仪5. 紫外可见吸收光谱仪6. 原子力显微镜7. X射线反射器8. 透射电子显微镜9. 椭圆偏振仪10. X射线光电子能谱仪等4.2.2 本公司可提供联用仪器简介1. 界面红外反射吸收光谱仪（PM-IRRAS）带极化模块的界面红外反射吸收光谱仪主要用来决定分子的取向和化学组成。2. 布鲁斯特角显微镜（BAM）可进行薄膜的均一性、相行为和形貌的单分子层成像和光学观测。3. 表面电位测量仪（SPOT）使用无损振荡板式电容技术来监测薄膜的电位变化，从而对单分子层的电学性质进行表征。提供堆积密度和取向等信息，可对任何Langmuir等温测试进行补充。4. 界面剪切流变仪（ISR）这种独特的剪切流变仪可以测量界面处的粘弹性。适用于气-液或油-水的研究，在控制表面压的同时，可对粘弹性进行分析。5. 产品应用5.1 应用范围l 生物膜及生物分子间的相互作用? 细胞膜模型（如：蛋白质与离子的相互作用）? 构象变化及反应? 药物传输及行为l 有机及无机涂料? 具有光学、电学及结构特性的功能性材料? 新型涂料:纳米管、纳米线、石墨烯等l 表面反应? 聚合反应? 免疫反应、酶-底物反应? 生物传感器、表面固定催化剂? 表面吸附和脱附l 表面活性剂及胶体? 配方科学? 胶体稳定性? 乳化、分散、泡沫稳定性l 薄膜的流变性? 扩张流变? 界面剪切流变（与KSV NIMA ISR 联用）5.2 客户发表成果（部分）1. Q. Guo et al., J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (IF= 11.444)2. Kumaki et al., Macromolecules 1988, 21, 749-755. (IF= 5.927)3. S. Sheiko et al., Nature Materials 2013, 12, 735-740. (IF= 36.4)4. Q. Zheng et al., ACS Nano 2011, 5(7), 6039–6051. (IF= 12.033)5. Azin Fahimi et al., CARBON 2013, 64, 435 – 443. (IF=6.16)6. Xiluan Wang et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6338–6342. (IF= 11.444)7. Zhiyuan Zeng et al. Adv. Mater. 2012, 24, 4138–4142. (IF= 15.409)注：相关资料如有变化，恕不另行通知，瑞典百欧林科技有限公司对资料中可能出现的纰漏免责，更多资料欢迎来电询问。

伯东公司授权代理德国普发pfeiffer 镀膜机-灵活设计适合技术研究、开发和生产,可实现高真空蒸发镀膜,磁控溅射镀膜,离子镀.Pfeiffer Classic 系列镀膜机（高真空镀膜系统）经过大量实验和技术知识积累研发设计,通过ISO 9001认证, ISO 14001认证,低能耗主要应用领域: 半导体,光学,微电子学,显示屏,光电工程,表面处理等行业.Pfeiffer 镀膜机主要型号包含:Pfeiffer Classic 250 镀膜机(科研,小型研发)Pfeiffer Classic 500 镀膜机(科研,小规模生产)Pfeiffer Classic 570 镀膜机 (批量生产)Pfeiffer Classic 580 镀膜机 (生产线大批量生产)Pfeiffer Classic 590 镀膜机 (高吞吐量,通用的制造系统,满足最高工业需求)Pfeiffer Classic 620 镀膜机 (最大吞吐量)伯东公司pfeiffer 德国普发镀膜机 Classic 500,选用pfeiffer分子泵 Hipace 700,可定制,我司将竭诚为您服务pfeiffer 德国普发镀膜机 Classic 500 技术参数:真空腔体容量150 l 内部尺寸500 mm高度575 mmDoor OpeningW x H 500 x 575 mm整机漏率1x10-5 mbar x l /s最终压力5x10-7 mbar高真空泵组(标准型)分子泵Hipace 700隔膜泵MD4旋片泵DUO 20真空测量全量程真空计电源电压3 x 400 V频率50/60 HZ水冷Chamber Usage approx (a)500 l/hPump Set Usage approx (a)15 l/h进气温度25 °C压力4 – 6 barIn- and Outlet Nipple3/4"Hot WaterChamber Usage approx (a)500 l/h进气温度70 °C压力4 – 6 barIn- and Outlet Nipple3/8"尺寸占地面积1.4 m2L x W x H1,4 x 1 x 1,9 m重量600 kg最大环境温度40 °C 伯东公司 主要经营产品 德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵 应用于各种条件下的 真空测量(真空计, 真空规管) 氦质谱检漏仪；质谱分析仪；真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站或与市场部: 叶女士联系

交替型LB膜分析仪1. 产品简介KSV NIMA为瑞典百欧林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要经营方向为单分子层薄膜的构建与表征工具。LB（Langmuir-Blodgett）膜分析仪为KSV NIMA自主研发的一款单分子层膜的制备和表征设备，是LB膜的沉积领域应用最广泛的一款全球领先设备。LB膜分析仪配备了镀膜井和镀膜头，在所需的堆积密度下，镀膜头可以用来将Langmuir膜转移到固体基材上，镀膜井可以在Langmuir膜下为固体样品提供空间。将Langmuir膜转移到样品上，密度，厚度及均匀性等性质将会保留，从而实现了制备不同组成的多分子层结构的可能。与其他有机薄膜沉积技术相比，LB沉积方法受功能性分子的分子结构限制影响很小，这意味着LB技术是唯一能够进行自下向上的一种组装方法。交替型LB膜分析仪为我公司LB膜分析仪系列中的一款特色产品。它可用于两种材料的交替层镀膜，包括两个槽体，两个表面压力传感器和两对滑障。该槽有两种尺寸，标准型和大型。2. 工作原理位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层可以被压缩。表面压力即堆积密度可以通过Langmuir膜分析仪的压力传感器进行控制。在进行典型的等温压缩测试时，单分子层先从二维的气相(G)转变到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在气相中，分子间的相互作用力比较弱；当表面积减小，分子间的堆积更为紧密，并开始发生相互作用；在固相时，分子的堆积是有序的，导致表面压迅速增大。当表面压达到最大值即塌缩点后，单分子层的堆积不再可控。图1 单分子层膜状态受表面压力增加的影响LB膜沉积过程是将样品从单分子层中垂直拉出（图2a），通过反复沉积技术可制备多层LB膜（图2b），亲水性及疏水性样品均可在液相或气相中沉积为单分子层。图2 (a). LB沉积过程示意图；(b). 多层单分子膜的制备交替型LB膜分析仪的镀膜过程如图3所示。当使用两个单分子层压缩沉积池和一个空白沉积池时，可实现交替镀膜，浸渍过程可在3个沉积池中选择任意路径多次循环（图3a）；在共同的亚相（浅蓝色）上方，有两种不同的单分子层（紫色和深蓝色）（图3b）；上臂将样品向下通过单分子膜，由下臂接住样品。沉积循环也可从亚相开始，进行第一层镀膜（图3c）；下臂可根据需要旋转到另一单分子层的沉积池或空白沉积池中，改变沉积池（图3d）；下臂提起样品，传递给上臂（样品从任意一侧通过两个单分子层中任意一个），进行第二层镀膜（图3e）。图3 (a). 交替沉积池构造示意；(b). 样品在在夹具上；(c). 第一层镀膜；(d). 改变沉积池；(e). 第二层镀膜3. 技术参数3.1 大型交替LB膜分析仪（KN2004）1. 槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口2. 框体特性：33 mm槽体高度调节，天平可XYZ三维定位调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口3. 系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试4. 槽体表面积： 930 cm2 (*2)5. 槽体内部尺寸：775 x 120 x 10 mm（长 x 宽 x高, *2）6. 温度范围：-10 oC – 60oC7. 滑障速度: 0.1-200 mm/min8. 滑障速度精度: 0.1 mm/min9. 测量范围：0-300 mN/m（铂金板）；0-1000 mN/m（铂金棒）10. 天平最大负荷: 1 g11. 天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）12. 传感精度: 0.1μN/m13. 表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒14. Langmuir-Blodgett测试槽亚相容积：6000 ml15. 镀膜井尺寸：半圆形,半径133mm, 深度128mm16. 最大基材尺寸：3 x 129 x114 mm或4英寸17. 镀膜速度：0.1 – 85 mm/min18. 电源： 100...240 VAC19. 频率： 50...60 Hz4. 产品优势及亮点4.1 产品优势1. 专为极度精确测试设计的超敏感表面张力传感器。铂金属板，铂金属棒及纸板都可用作探针以满足不同的需求。2. 开放性的设计便于槽体在框架上的放置及不同槽体的快速更换，同时便于清洗槽体表面。3. 当需要清洁或更换新槽体时，槽体在框架上的拆卸/放置极其方便。4. Langmuir-Blodgett槽体是由便于清洁、可靠耐久的整块纯聚四氟乙烯构成，其独特的设计能够防止槽体和镀膜井发生泄漏，同时避免了使用胶水及其他封装材料造成的潜在污染。5. 滑障由亲水性的迭尔林聚甲醛树酯制成，可提高单分子层的稳定性。可根据客户需要提供疏水性的聚四氟乙烯压缩滑障。稳健的金属构架能够防止滑障随着时间的推移而变形。6. 对称滑障压缩为标准的均匀压缩方法，但任意仪器均可实现单一滑障压缩。7. 居中的镀膜井有利于单分子层LB沉积的均一性。8. 通过外部循环水浴对铝制底板进行加热/冷却，以控制亚相的温度（水浴为分开销售）。9. 通过调整框架撑脚，可快速而准确地校准槽体水平。当需要放置显微镜时，框架撑脚也可很容易地从槽体上拆除。4.2 产品亮点4.2.1 联用或相关分析技术本产品可与界面红外反射吸收光谱仪(PM-IRRAS)，布鲁斯特角显微镜(BAM)，界面剪切流变仪（ISR），荧光显微镜，X射线等光学表征技术联用或对样品进行后续分析。具体如：1. 红外反射吸收光谱(KSV NIMA PM-IRRAS)2. 石英晶体微天平(Q-Sense QCM-D)3. 表面等离子共振仪4. 电导率测量仪5. 紫外可见吸收光谱仪6. 原子力显微镜7. X射线反射器8. 透射电子显微镜9. 椭圆偏振仪10. X射线光电子能谱仪等4.2.2 本公司可提供联用仪器简介1. 界面红外反射吸收光谱仪（PM-IRRAS）带极化模块的界面红外反射吸收光谱仪主要用来决定分子的取向和化学组成。2. 布鲁斯特角显微镜（BAM）可进行薄膜的均一性、相行为和形貌的单分子层成像和光学观测。3. 表面电位测量仪（SPOT）使用无损振荡板式电容技术来监测薄膜的电位变化，从而对单分子层的电学性质进行表征。提供堆积密度和取向等信息，可对任何Langmuir等温测试进行补充。4. 界面剪切流变仪（ISR）这种独特的剪切流变仪可以测量界面处的粘弹性。适用于气-液或油-水的研究，在控制表面压的同时，可对粘弹性进行分析。5. 产品应用5.1 应用范围l 生物膜及生物分子间的相互作用? 细胞膜模型（如：蛋白质与离子的相互作用）? 构象变化及反应? 药物传输及行为l 有机及无机涂料? 具有光学、电学及结构特性的功能性材料? 新型涂料:纳米管、纳米线、石墨烯等l 表面反应? 聚合反应? 免疫反应、酶-底物反应? 生物传感器、表面固定催化剂? 表面吸附和脱附l 表面活性剂及胶体? 配方科学? 胶体稳定性? 乳化、分散、泡沫稳定性l 薄膜的流变性? 扩张流变? 界面剪切流变（与KSV NIMA ISR 联用）5.2 客户发表成果（部分）1. Q. Guo et al., J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (IF= 11.444)2. Kumaki et al., Macromolecules 1988, 21, 749-755. (IF= 5.927)3. S. Sheiko et al., Nature Materials 2013, 12, 735-740. (IF= 36.4)4. Q. Zheng et al., ACS Nano 2011, 5(7), 6039–6051. (IF= 12.033)5. Azin Fahimi et al., CARBON 2013, 64, 435 – 443. (IF=6.16)6. Xiluan Wang et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6338–6342. (IF= 11.444)7. Zhiyuan Zeng et al. Adv. Mater. 2012, 24, 4138–4142. (IF= 15.409)注：相关资料如有变化，恕不另行通知，瑞典百欧林科技有限公司对资料中可能出现的纰漏免责，更多资料欢迎来电询问。

交替型LB膜分析仪1. 产品简介KSV NIMA为瑞典百欧林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要经营方向为单分子层薄膜的构建与表征工具。LB（Langmuir-Blodgett）膜分析仪为KSV NIMA自主研发的一款单分子层膜的制备和表征设备，是LB膜的沉积领域应用最广泛的一款全球领先设备。LB膜分析仪配备了镀膜井和镀膜头，在所需的堆积密度下，镀膜头可以用来将Langmuir膜转移到固体基材上，镀膜井可以在Langmuir膜下为固体样品提供空间。将Langmuir膜转移到样品上，密度，厚度及均匀性等性质将会保留，从而实现了制备不同组成的多分子层结构的可能。与其他有机薄膜沉积技术相比，LB沉积方法受功能性分子的分子结构限制影响很小，这意味着LB技术是唯一能够进行自下向上的一种组装方法。交替型LB膜分析仪为我公司LB膜分析仪系列中的一款特色产品。它可用于两种材料的交替层镀膜，包括两个槽体，两个表面压力传感器和两对滑障。该槽有两种尺寸，标准型和大型。2. 工作原理位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层可以被压缩。表面压力即堆积密度可以通过Langmuir膜分析仪的压力传感器进行控制。在进行典型的等温压缩测试时，单分子层先从二维的气相(G)转变到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在气相中，分子间的相互作用力比较弱；当表面积减小，分子间的堆积更为紧密，并开始发生相互作用；在固相时，分子的堆积是有序的，导致表面压迅速增大。当表面压达到最大值即塌缩点后，单分子层的堆积不再可控。图1 单分子层膜状态受表面压力增加的影响LB膜沉积过程是将样品从单分子层中垂直拉出（图2a），通过反复沉积技术可制备多层LB膜（图2b），亲水性及疏水性样品均可在液相或气相中沉积为单分子层。图2 (a). LB沉积过程示意图；(b). 多层单分子膜的制备交替型LB膜分析仪的镀膜过程如图3所示。当使用两个单分子层压缩沉积池和一个空白沉积池时，可实现交替镀膜，浸渍过程可在3个沉积池中选择任意路径多次循环（图3a）；在共同的亚相（浅蓝色）上方，有两种不同的单分子层（紫色和深蓝色）（图3b）；上臂将样品向下通过单分子膜，由下臂接住样品。沉积循环也可从亚相开始，进行第一层镀膜（图3c）；下臂可根据需要旋转到另一单分子层的沉积池或空白沉积池中，改变沉积池（图3d）；下臂提起样品，传递给上臂（样品从任意一侧通过两个单分子层中任意一个），进行第二层镀膜（图3e）。图3 (a). 交替沉积池构造示意；(b). 样品在在夹具上；(c). 第一层镀膜；(d). 改变沉积池；(e). 第二层镀膜3. 技术参数3.1 常规交替型LB膜分析仪（KN2006）1. 槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口2. 框体特性：33 mm槽体高度调节，天平可XYZ三维定位调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口3. 系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试 4. 槽体表面积：587 cm2 (*2)5. 槽体内部尺寸：782 x 75 x 5 mm（长 x 宽 x高, *2）6. 滑障速度: 0.1-200 mm/min7. 滑障速度精度: 0.1 mm/min8. 测量范围：0-300 mN/m（铂金板）；0-1000 mN/m（铂金棒）9. 天平最大负荷: 1 g10. 天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）11. 传感精度: 0.1μN/m12. 表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒13. Langmuir-Blodgett测试槽亚相容积：1400 ml14. 镀膜井尺寸：半圆形,半径75 mm, 深度74 mm 15. 最大基材尺寸：3 x 30 x 50 mm 16. 镀膜速度：0.1 – 85 mm/min17. 电源： 100...240 VAC18. 频率： 50...60 Hz4. 产品优势及亮点4.1 产品优势1. 专为极度精确测试设计的超敏感表面张力传感器。铂金属板，铂金属棒及纸板都可用作探针以满足不同的需求。2. 开放性的设计便于槽体在框架上的放置及不同槽体的快速更换，同时便于清洗槽体表面。3. 当需要清洁或更换新槽体时，槽体在框架上的拆卸/放置极其方便。4. Langmuir-Blodgett槽体是由便于清洁、可靠耐久的整块纯聚四氟乙烯构成，其独特的设计能够防止槽体和镀膜井发生泄漏，同时避免了使用胶水及其他封装材料造成的潜在污染。5. 滑障由亲水性的迭尔林聚甲醛树酯制成，可提高单分子层的稳定性。可根据客户需要提供疏水性的聚四氟乙烯压缩滑障。稳健的金属构架能够防止滑障随着时间的推移而变形。6. 对称滑障压缩为标准的均匀压缩方法，但任意仪器均可实现单一滑障压缩。7. 居中的镀膜井有利于单分子层LB沉积的均一性。8. 通过外部循环水浴对铝制底板进行加热/冷却，以控制亚相的温度（水浴为分开销售）。9. 通过调整框架撑脚，可快速而准确地校准槽体水平。当需要放置显微镜时，框架撑脚也可很容易地从槽体上拆除。4.2 产品亮点4.2.1 联用或相关分析技术本产品可与界面红外反射吸收光谱仪(PM-IRRAS)，布鲁斯特角显微镜(BAM)，界面剪切流变仪（ISR），荧光显微镜，X射线等光学表征技术联用或对样品进行后续分析。具体如：1. 红外反射吸收光谱(KSV NIMA PM-IRRAS)2. 石英晶体微天平(Q-Sense QCM-D)3. 表面等离子共振仪4. 电导率测量仪5. 紫外可见吸收光谱仪6. 原子力显微镜7. X射线反射器8. 透射电子显微镜9. 椭圆偏振仪10. X射线光电子能谱仪等4.2.2 本公司可提供联用仪器简介1. 界面红外反射吸收光谱仪（PM-IRRAS）带极化模块的界面红外反射吸收光谱仪主要用来决定分子的取向和化学组成。2. 布鲁斯特角显微镜（BAM）可进行薄膜的均一性、相行为和形貌的单分子层成像和光学观测。3. 表面电位测量仪（SPOT）使用无损振荡板式电容技术来监测薄膜的电位变化，从而对单分子层的电学性质进行表征。提供堆积密度和取向等信息，可对任何Langmuir等温测试进行补充。4. 界面剪切流变仪（ISR）这种独特的剪切流变仪可以测量界面处的粘弹性。适用于气-液或油-水的研究，在控制表面压的同时，可对粘弹性进行分析。5. 产品应用5.1 应用范围l 生物膜及生物分子间的相互作用? 细胞膜模型（如：蛋白质与离子的相互作用）? 构象变化及反应? 药物传输及行为l 有机及无机涂料? 具有光学、电学及结构特性的功能性材料? 新型涂料:纳米管、纳米线、石墨烯等l 表面反应? 聚合反应? 免疫反应、酶-底物反应? 生物传感器、表面固定催化剂? 表面吸附和脱附l 表面活性剂及胶体? 配方科学? 胶体稳定性? 乳化、分散、泡沫稳定性l 薄膜的流变性? 扩张流变? 界面剪切流变（与KSV NIMA ISR 联用）5.2 客户发表成果（部分）1. Q. Guo et al., J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (IF= 11.444)2. Kumaki et al., Macromolecules 1988, 21, 749-755. (IF= 5.927)3. S. Sheiko et al., Nature Materials 2013, 12, 735-740. (IF= 36.4)4. Q. Zheng et al., ACS Nano 2011, 5(7), 6039–6051. (IF= 12.033)5. Azin Fahimi et al., CARBON 2013, 64, 435 – 443. (IF=6.16)6. Xiluan Wang et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6338–6342. (IF= 11.444)7. Zhiyuan Zeng et al. Adv. Mater. 2012, 24, 4138–4142. (IF= 15.409)注：相关资料如有变化，恕不另行通知，瑞典百欧林科技有限公司对资料中可能出现的纰漏免责，更多资料欢迎来电询问。

商品说明 工业生产过程中的品质控制，高压隔离开关触头镀银层检测仪，铜镀银，镀锡等厚度快速测试，同时满足金属成分的元素分析。K8000T镀层厚度分析仪专业无损检测作为生产过程中的品质控制与管理，确保材料品质；船舶制造、航空航天等高技术行业中合金成分的识别，从而保障产品质量与安全；电力电站等有关国计民生行业中，鉴定设备零部件成分是否达标，保证设备安全。 隔离开关触头作为高压配电设备中的重要电子电力器件，其中隔离开关触头上的镀银层，有耐磨耐腐蚀的性，能降低接触电阻，需如果用不镀银的铜触头，铜触头经过氧化后电阻会明显增加，就会产生电弧烧蚀触点的可能，而使用铜镀银触头就可以大大减少电弧烧蚀触点的可能。所以按照国家电网公司“关于高压隔离开关订货的有关规定”的要求，高压隔离开关主触头：镀银层厚度应不小于20um，一般触头镀银层厚度应不小于8um，硬度应不小于120韦氏。高压隔离开关主触头镀银层也是验收设备的重要指标之一。 而对于电镀厂家来说，电镀镀银的成本里多的就是贵金属银的使用量，所以镀层越厚，对电镀厂家的成本越高，所以一部分不良电镀厂家，就对电镀镀银厚度采用以次充好，以薄充厚，严重影响了高压配电设备的验收工作，甚至使的一部分高压配电设备厂家被国网一而再，再而三的被通报不良产品，轻则被禁止半年到两年的国网系统招标资格，重则直接被国网招标拉入黑名单。目前，隔离开关触头镀银层厚度测量方法主要用手持X射线射线镀层厚度分析仪现场测试和X射线台式镀层测厚仪测试。 隔离开关触头镀银层测厚仪，是一种X射线光谱仪，通过X射线对对银层的照射后然后的X荧光，可以分析检测出开关触头上镀银层厚度的仪器，仪器分为手持式和台式两种，都可以快速、无损的通过照射几十秒就可以测出镀银层的厚度，方便、快捷是电力设备生产厂家和电镀及表面处理企业对产品镀层厚度检测的重要仪器。 K8000T镀层厚度分析仪手持式镀层测厚分析仪配有专门针对镀层厚度分析的专业应用软件，具有智能化、高灵敏度、测试时间短、自动判断是否超标、操作简易、可实现边测边打功能等特点。全新的智能软件，一键智能操作检测合金成分和镀层厚度； K8000T镀层厚度分析仪合金分析仪也可快速检测并鉴别出各种金属的种类、含量以及杂质成分；能快速检测并鉴别出各种高低合金钢、不锈钢、工具钢、铬/钼钢、镍合金、钴合金、镍/钴耐热合金、钛合金等各种金属的牌号及元素含量；仪器预装多基体标准合金库，合金库中包括400余种合金牌号，用户也可自己建立合金牌号库。 功能如下：（1）智能识别基材种类的功能:立足于为用户快速实现投资回报，提高生产率，自动识别基材种类，无需手动选择样品类型，然后再测试；降低操作难度，节省测试时间，不管操作人员是否有经验，都可以在几秒钟内获得合金甚至是铝合金的牌号。（2）完善的合金数据库: K系列合金分析仪配有完善的合金数据库，标准牌号库包括500多种独特的合金牌号，用户可以轻易添加客户独特的元素和牌号。（3）检测范围广:无与伦比的轻元素分析功能，可以快速准确的分析常规金属元素Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Se, Y, Zr, Nb, Mo, W, Ta, Hf, Re, Au, Pb, Bi, Ru, Pd, Ag, Cd, Sn, Sb等。商品参数镀层厚度分析方法：能量色散X射线荧光分析方法测量镀层范围：0-50um检测镀层种类：铜镀银、铜镀锡分析精度：单层电镀相对误差不超过10%检测时间：15-20秒检测窗口：12mm合金测试元素范围：Ti，V，Cr，Mn，Fe，Co，Ni，Cu，Zn，Hf，Ta，W，Re，Pb，Bi，Zr，Nb，Mo，Cd，Sn，Sb等23元素仪器参数：1、激发源：大功率微型直板电子X射线管，激发电压为35kV；无高压电缆、无射频噪声、更好的X射线屏蔽、更好的散热。 固定电压35kV,电流100uA（美国Moxtek),标配Ag靶，无电机、1个滤光片2、探测器：Si-pin探测器(6 mm2 能量分辨率190eV FWHM)3、运算方法：KMX-FP无标样测试法4、标配1个电池

真空镀膜降温制冷设备 真空镀膜降温制冷设备适用范围：广泛应用于各种工业生产（塑胶工业、电子工业、电镀工业、食品工业、医药工业、印刷工业、汽车工业、航天工业等等）。详细介绍真空镀膜降温制冷设备简单介绍：从事制冷行业及塑机自动化多年，主要研发制造，水冷式水循环工业制冷机系列、冷风机系列、空调系列、冷油机系列、恒温恒湿机等温（湿）度控制设备系列解决方案。水冷式水循环工业制冷机是现代工业先进的制冷设备，是现代工业发展的一款重要的辅助制冷设备，是一门科学的物理设备。是宝驰源公司根据各厂家的需要诚意推出的一系列崭新设计的产品其规格有几十种，制冷范围从1315大卡到1892000大卡，冷冻出水温度范围3℃—30℃。配置说明：主机采用欧美日进口品牌压缩机，运行可靠，效率高，噪音低。意大利进口水泵，压力大，稳定性高，恒久耐用；台湾邦普电脑板控制器，精度高，使用范围广；完善的电气保护系统，具有缺相、相序保护、电流过载保护、高低压保护等，确保机组的正常运行。产品出厂时已调试好，用户只需按使用说明书进行电气线路和冷却水冷冻水管路连接，即可投入使用。运用范围：广泛应用于各种工业生产（塑胶工业、电子工业、电镀工业、食品工业、医药工业、印刷工业、汽车工业、航天工业等等）。 1，UV固化机：　 特点：无级调光+水冷却+金属卤素灯=节能+低温+高效，灯室内采用水冷+风冷式排热，灯管下方加装隔热石英玻璃，有效降低被照物表面温度，保护干燥物品不会受热变形，延长灯管使用寿命；CJW水冷系列 适合：胶印机、凹印机、柔印机、上光涂布机等国内外印刷设备。胶印机如：德国曼罗兰、海德堡、高宝、日本小森、良明、三菱、樱井、北人等。凹印机如：瑞士博斯特、意大利赛鲁迪、西安黑牛、中山松德 2、超声波清洗机：　 经研究证明：超声波作用于液体中时，液体中每个气泡的破裂会产生能量极大的冲击波，相当于瞬间产生几十度的高温和高达上千个大气压，这种现象被称之为“空化作用”，超声波清洗正是用液体中气泡破裂所产生的冲击波来达到清洗和冲刷工件内外表面的作用。超声波在液体中传播，使液体，与清洗槽在超声波频率下一起振动，液体与清洗槽振动时有自己固有频率，这种振动频率是声波频率，所以人们就听到嗡嗡声。　 水清洗液最适宜的清洗温度为40-60℃，尤其在天冷时若清洗液温度低，空化效应差，清洗效果也差。因此有部分清洗机在清洗缸外边绕上加热电热丝进行温度控制，当温度升高后空化易发生，所以清洗效果较好。当温度继续升高以后，空泡内气体压力增加，引起冲击声压下降，反应出这两因素的相乘作用。　　综合经上因素，宝驰源牌工业制冷机降低清洗剂温度，冷凝气态清洗剂，有效防止清洗剂的挥发 3，塑胶业注塑、 挤塑、 吹瓶、 压塑、 吹膜压延膜 ，标准型工业均能适用于上述行业。A，注塑 模具冷却　 塑胶粒经加热溶化后注入模具中，凝结后，开模顶出成型塑胶工件，在连续生产过程中有需用对模具进行冷却，以缩短塑胶凝结时间，提高工件尺寸精度，成型质量、表面质量。冻水温度要求：6～18℃冻水温差要求：±2K 或 ±0.5K机组制冷能力与注塑机注塑量（通常称“安士”）相关，注塑量越大，所需制冷能力亦大。注塑机通常以锁模力标称，这就需要将吨数转换成安士，但吨数与安士并非一一对应，下面的对照表仅为一般情况的下的转换关系，并有一定的上下偏差。 ４．激光 制冷系统元件均采用国际品牌元件,无盘管纯不锈钢材料水箱,具有持久稳定的制冷效果,温度控制精度为±1℃ 带超高、低温度显示及信号输出保护,配置常开和常闭输出以供选择 冷冻水循环系统采用不锈钢多级泵及不锈钢泵,PVC材料连接,无锈蚀之忧,可直接使用纯净水或去离子水 在激光（镭射）系统中的激光发生源、光束控制器和电控柜都可能需要额外冷却。对冻水温度要求通常在15… 22℃之间，对冻水精度要求通常为±1K 或 ±2K。部分设备可能要求±0.5K，另外部分设备对冻水电导率，耐腐蚀等有一定的要求。因此对水质要求非常高，管材采用不锈钢或PVC管。对于激光系统中的特殊应用，都能专门设计工业以满足不同的要求，激光冷冻机主要应用于激光打标机，激光雕刻机，激光焊接机，激光喷码机，激光切割机等等激光加工设备，它能精确控制激光设备所要求的温度，从而保证了激光设备的正常工作。产品特点:采用进口品牌日本松下压缩机，内置安全保护，噪音低，省电耐用，以增加设备的使用寿命。采用高效翅片式冷凝器，具有换热效率高, 外加高效外转子风机，无需接驳冷却塔系统等优点。采用工业纯钛和敞开式不锈钢水箱蒸发器，内置水位保护等装置，以方便客户加水和清洗维护。采用不锈钢多级泵和水路管道，能防止纯水在输送过程中产生固体和其它金属杂质。采用液晶显示微电脑控制器，能精确控制水温，中文界面，操作简单方便, 控制功能齐全。采用德国施耐德电气产品，具有完善的电气保护系统。采有静电喷涂外壳，美观大方，外表板采用快速安装形式，方便使用和维修保养。５．电镀工业-氧化工业 电镀工业产品特点：宝驰源公司生产工业，为满足电镀,氧化,电泳行业对腐蚀的要求，特别设计采用钛材料做的热交换器，可安全有效的在生产中提供高效的辅助！在电镀业氧化、电泳行业，有助把金属与非金属离子稳定下来，使金属离子迅速附上电镀件，氧化件,电泳件,不但增加密度及平滑，并可减少电镀次数，提高生产率。 ６．反应釜工业 反应釜专用工业产品特点：采用欧洲原装进口中低温压缩机，全自动电脑控制器，高效能换热器，还采用国际知名品牌附件，温度控制范围为-40℃～－80℃，广泛应用于精细化工、食品添加剂、玉米深加工(淀粉)、 制药、医药储存等。 ７．水冷螺杆式工业 水冷螺杆式产品特点： （1），高效的半封闭式压缩机，机组的心脏—进口优质螺杆压缩机，其5 :6超高效螺旋转子压缩机，比一般压缩机能效高20-30%.运行可靠效率高、维护容易、精确的容量控制、应用范围广。 非对称转子齿形. 四段或无段式容量控制系统. 内建压差式供油润滑系统. 低振动、低噪音. （2），微机准确控制温度，机组微电脑控制器采用超大萤幕点阵液晶显示，具有良好的全中文人机对话介面实现全功能自动化控制.液晶显示幕即时显示机器工作状况，精确监控组运行在更佳状态，其轻触面板密封好，防水，防尘，抗腐蚀，按键寿命长。分级与无极能量控制，用于一般的空调系统，装备有百分%、75%、50%、25%分级能量控制系统.此确保机组在部分负荷时发挥节能效果.但如需精确控制水温，可按用户要求，所有机型均可装配无级能量控制. （3）运行效率高，换热器采用了高效波纹管，外加高效的螺杆式压缩机，保证了机组的高效率运行.可靠的保护和辅助部件. （4）组具有下列部件以防止任何运转故障：压缩机保护设计时器、过电流继电器、压缩机电机温感器、防冻结温控器、视液镜、油加热器、压缩机逆相保护继电器，高、低压保护，排气高温保护，安全阀，易溶塞. ８，镀膜机专用工业中频真空镀膜机一般要配一台作为镀膜机（主要是圆柱靶）的冷却设备中频设备必须加冷却水，原因是它的频率高电流大。电流在导体流动时有一个集肤效应，电荷会聚集在电导有表面积，这样使电导发热所以采用中孔管做导体中间加水冷却。 ９．低温型工业（零下5- 零下40度）制冷量大，采用世界品牌进口压缩机，低温性能卓越，可靠耐用，产品根据工业应用特点设计，内置低温循环水泵及不锈钢冷冻水箱，使用极为方便，所有与水接触的材料均采用防腐蚀材料，有效防止生锈，腐蚀；微电脑LED数显控制器，具备温度显示，设定温度，自动调节冻水温度及压缩机延时保护功能，选用品牌接触器，继电器等电器元件，配备完善的指示灯，开关，操作一目了然，内置电子水位指示及报警，操作人员通过控制面板就能掌握冻水箱的水位情况，及时补水，独有的模块式设计，每台压缩机的系统安全独位，既使一个系统出现问题，亦不会影响其它系统的正常工作。应用范围广，具体咨询我司销售人员{维护与保养} 1、清洗水塔 使用水冷式必需注重冷却水源的清洁，当冷却水很脏或杂物太多，冷却水流经冷凝器时杂质会附着在铜管内壁，时间一长，铜管内壁会产生很多水垢，这样冷却水与制冷剂之间的热交换明显下降，冷却水从制冷剂带走的热量减少，这就造成散热不良，影响制冷效果。 因此，必须定期清洗冷却水塔，一般至少1周清洗1次冷却水塔（具体情况视环境而定），当出现清洗冷却水塔还会出现高压故障时,那就要考虑清洗冷凝器，才能保证制冷效果。 2、压缩机压缩机运转累计1000小时以后，要对其检查：压缩机冷冻油是否正常压缩机运转时电流是否正常压缩机运转时是否有异常声音 3、其它机器使用一定时间后，由于各方面因素，有必要进行如下事项：对压力开关进行性测试，是否可高低压力报警。对电控箱，要定期把里面灰尘吹干净，同时查看螺丝是否松动，避免机器损坏，以防事故发生。以上如有异常，请尽快通知公司派维修人员处理。售后服务承诺1，本公司维修服务提供全天候服务，即本公司所出售之设备质保期内如出现故障，我公司在接到用户通知后，派出技术及维修人员到场予以处理，保证用户正常工作，至设备故障完全排除为止。2，全天24小时服务咨询

SD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的镀膜技术之一。SD-800C型热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发碳。使用超纯的碳纤维绳为严格的高分辨扫描电镜、透射电镜、EBSD及探针分析提供高质量的镀膜处理。因为碳原子能够直接沉积在样品表面而不发生横向移动，所以碳能够形成小于1nm的颗粒。参数： 仪器尺寸 ： 340mm×390mm×300mm（W×D×H） 真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 170mm×130mm（D×H） 蒸发材料: 碳纤维双丝可A\B分别选择 操作真空： 4×10-2mbar 工作电压： 0-30V /AC 蒸碳电流： 0-100A 蒸碳时间： 0-1s 真空泵： 2升两级机械旋转泵(国产飞越VRD-8)特点：1、简单、经济、可靠、外观精美。2、真空保护可避免真空过低造成设备短路。3、碳纤维绳更加细腻均匀、快速，更有利于分析材料结构。

低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项，如石英晶体测量、行星旋转、辉光放电和可交换屏蔽共同构成这台低真空镀膜机。 特点理想重现的结果运行自动化的进程，并协助参数设置。小巧紧凑设计紧凑，占地面积小节省了实验室空间。容易清洗具备可拆卸门、卷帘、内部屏蔽、光源、载物台。操作简便直观的触摸屏和一键式操作。

溅射镀膜设备SMD系列（立式）SMD 系列是镀金属膜、ITO、IGZO、诱电体膜等的枚叶式溅射镀膜设备。仅SMD系列就有超过1000台的丰富的采用实绩，在各种各样的生产环境下运转。及时反映从生产现场听取的意见，进一步提高设备的可靠性。产品特性 / Product characteristics&bull 仅基板搬送和侧面镀膜的方式，低particle&bull 节约空间的设计&bull 可以轻松的完成单独基板管理，如成膜条件&bull 根据镀膜物不同选择不同的阴排列&bull 丰富的经验和数据支持，广泛的镀膜工艺对应产品应用 / Product application&bull Display（TFT、智能手机、平板电视（2K、4K）、OLED）产品参数 / Product parameters1、公司介绍深圳市矢量科学仪器有限公司成立于 2020年，由武汉大学团队孵化，致力泛半导体实验线、中试线、生产线装备及工艺和厂务技术服务于一体的国家高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业。公司主要业务如下:装备销售:半导体道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试装备、半导体光电测试仪表。设备服务:驻场或者 oncall，装备维护、保养、售后技术支持。厂务服务:驻场或者 oncall，人力服务及厂务二次配工程。经历五年高速发展，2023 年营业额达 3.2 亿，连年复合增长率达 300%，现处于稳定扩张期。2、成长历程&bull 2020年（公司成立年）&bull 2300万订单额2021年 7000万订单额2022年 2.5亿订单额2023年3.2亿订单额