等离子体分析

珀金埃尔默全新Avio 500 ICP-OES：专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，完美应对复杂的环境、化学和工业样品 作为原子光谱领域的领导者和创新者，珀金埃尔默公司于2017年7月6日发布全新Avio 500电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-OES）。这款ICP-OES是专为高通量检测实验室打造的多元素无机分析设备，可以应对各个领域的多种类型样品。 作为一款真正的同步检测ICP-OES，Avio 500具备同步背景校正功能，可提供更高的样品通量和数据可靠性；超群的基体耐受性；以及业内最低的氩气消耗量。无论待测元素的种类和浓度范围再宽，Avio 500都可以有效应对，使用户的检测工作符合行业规范。Avio 500的可兼容多个应用领域，包括环境、石化（尤其是润滑油服役情况分析）、地矿、食品、制药、制造业（包括电池制造）等。 以下关键功能使得Avio 500具备卓越的性能：为提升样品通量而设计的同步数据采集功能、为节约使用成本设计的业内最低的氩气消耗量、为缩短样品前处理流程设计的超宽线性范围。无论样品多么复杂，这些功能都可确保检测数据的准确性。 带有快速拆装炬管座的垂直炬焰设计：带来强悍基体耐受性，有效缩短样品预处理时间；平板等离子体™ 技术：仅消耗同类产品一半的氩气就可以生成稳定的等离子体炬，无论样品基体多么复杂；双向观测技术：可同时对等离子体进行全波长轴向和径向观测，高低含量元素一次进样同时分析；全谱全读技术：对全波长进行同步数据采集，无需重复进样就可以获得全部光谱数据；空气刀（PlasmaShear™ ）技术：无需氩气，即可消除等离子体冷尾焰产生的基体干扰，而且完全无需维护；全彩等离子体观测（PlasmaCam™ ）技术：提供全彩色的等离子体实时影像，简化方法开发工作，并使远程诊断成为可能。 此外，Avio 500配备跨平台的Syngistix™ 操作软件，AA、ICP、ICP-MS操作无缝对接。更多有关Avio 500的信息请请访问PerkinElmer官方网站。

Avio™ 200 系统能处理难度最高的、未经稀释的高基体样品，为ICP 带来全新的性能及灵活性。而且，前所未有的性能还带来了无可比拟的易用性。独特的硬件特性与业界最直观易用的软件相结合，使多元素测量变得与单元素分析一样简单。作为市场上最小巧的 ICP，Avio 200 可通过以下性能，提供最高效的操作、最可靠的数据和最低的拥有成本：所有 ICP 中最低的氩气消耗最快的 ICP 启动（从关机状态启动，光谱仪在短短几分钟内即可准备就绪）对所有适用的元素都具有出色的灵敏度与分辨率具有双向观测技术的最宽线性范围性能可靠、功能强大、经济实惠、Avio 200 具备您所寻求的 ICP所具有的一切。既然可以成为开拓者，谁还愿意当操作者？Avio 200 ICP 专为满足最具挑战性的客户需求并超越此类需求而设计，凭借一系列专有独特的功能，可帮助您运行多个样品，所取得的成本效益远超以往任何时候。最低的运行成本借助获得专利的 Flat Plate™ (平板) 等离子体技术，Avio 仅需消耗其他系统一半的氩气量，即可生成强健、耐基体的等离子体，同时赋予您：所有 ICP 中最低的操作成本无需再进行与传统螺旋负载线圈有关的冷却和维护，提供出色的运行时间和生产力另外，为了提高效率，珀金埃尔默仪器具有获得专利的动态波长，稳定功能。可令您从关机状态启动，在短短几分钟内即可进行分析，因而您大可在仪器不使用时随意关掉。强大的双向观测功能与提供轴向和径向观测而牺牲性能的同步垂直双向观测 ICP 系统不同，Avio 200 系统获得专利的双向观测功能，可测量所有波长，不会造成光或灵敏度的损失。即使是波长大于 500 纳米或低于 200 纳米的元素也完全可以测量，即便是在 ppb 的含量水平。该 Avio 系统独特的双向观测设计也提供了可扩展的线性动态范围，确保实现：样品制备和稀释最小化高、低浓度可以在同一运行中进行测量更好的质量控制和更准确的结果减少重复运行集成等离子体观测相机可简化您的开发方法，同时借助 Avio 200 系统的 PlasmaCam™ 技术，尽享远程监控等离子体的便利。作为行业首创，彩色相机可帮助您：实时观测等离子体执行远程诊断查看进样部件革新性 PlasmaShear 系统，可实现无氩干扰消除为了消除轴向观测的干扰，需要消除等离子体的冷尾焰。没有其他同类仪器能比 Avio 200 更有效、更可靠或更经济。其他 ICP 消除尾焰需要消耗高达 4 升/分钟的氩气流量，Avio系统独特的 PlasmaShear™ 技术只需空气即可。无需高维护、高提取系统或锥体。就是一个完全集成的、完全自动化的、能提供无故障轴向分析的干扰消除系统。CCD 检测器，可实现无与伦比的准确度和精密度借助全波长功能，Avio 200 系统的强大电荷耦合器件（CCD）检测器能不断提供正确的答案。Avio 系统的 CCD 检测器可同时测量所选谱线及其谱线附近波长范围，实时扣背景，实现出色的检测精密度。在分析过程中，它还可以同时执行背景校正测量，进一步提高准确度和灵敏度。带有快速转换炬管底座的垂直等离子体，可实现无与伦比的基体灵活性即使 ICP 正在运行，Avio 200 系统的垂直炬管无需工具也能进行简便快捷的调节，可提供更大的样品灵活性并简化维护。炬管底座的设计与众不同，具有以下特点：一个可拆卸的、独立于炬管的中心管，旨在减少维护和破损的可能性自动自对准，即使在拆卸后也能提供一致的深度设置兼容各种雾化器和雾室，可提高灵活性友情提示：根据型号及配置不同，仪器价格会有不同，欲了解详情请与我司联系。

仪器简介：Hiden EQP是一台结合质量和能量分析的仪器（Mass and Energy Analyser for Plasma Diagnostics），用于分析等离子过程中阴、阳离子、中性粒子以及自由基。技术参数：应用： 蚀刻 / 沉积作用研究 离子植入 / 激光烧蚀 残余气体分析 / 泄漏检测 等离子体电感耦合，即在操作中遵从电极设定条件 通过视口、接地电极和驱动电极进行分析主要特点： 软件控制的离子汲取光学系统，以使等离子体扰动最小 45°静电扇区分析器，扫描能量增量 0.05 eV / 0.25eV FWHM 所有能量范围内，离子行程的最小扰动，及恒定离子传输 带差式泵的三级过滤四极杆，质量数范围至2500amu 高灵敏度 / 稳定的脉冲离子计数检测器，有7个数量级的动态范围 可调谐的离子源，用于电子附着选件的表观电势质谱分析 Penning规和互锁装置可提供过压保护 信号选通分辨率1μs，用于研究脉冲等离子体或能量、质量分布随时间的变化 1000eV 选配, 漂浮电压可选至10keV, Faraday 杯用于高密度等离子体 Mu-Metal, Radio-metal 屏蔽可选,高压操作可选 通过RS232、RS485或Ethernet LAN，控制软件MASsoft

1 模块功能THA2600型氩等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。2 技术参数 壳体接地、24V-接地适用载气：高纯氩气分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；输出接口： DB9公头； 管脚定义说明1悬空2悬空324V+424V-*5悬空6高压使能与7脚短接时，内置高压电源工作；悬空或接24V时，内置高压电源停止工作。(如果内部已设置跳线，此引脚无作用)7GND*8信号-*9信号+*内部短接氩等离子体发射光谱分析模块24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min～30mL/min；含尘量：≤0.1um；尺寸：170*111*90mm；重量：约1.5kg。3 工作原理氩等离子体发射光谱分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。4 技术特点u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，使用寿命长。5 典型工程应用领域u 空分氩气分析u 高纯气体分析u 环境空气监测u 工业流程中乙炔及碳氢分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱氩等离子体发射光谱分析模块

THA2700氦等离子体发射光谱分析模块仪器功能 THA2700氦等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。工作原理氦等离子体发射光谱分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。技术参数 工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min。技术指标分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；载气：高纯氦气；检出限：≤10×10-9；含尘量：≤0.1um；重量：约1.5kg；尺寸：170*111*90mm。技术优势u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，仪器使用寿命长。典型工程应用领域u 空分氦气分析u 高纯气体分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱

产品信息将光谱学与QCM-D相结合。同时使用纳米等离子体光谱技术（NPS）和耗散监测型石英晶体微天平技术（QCM-D）进行实时测量。 主要特征a、同时获得相同表面上相同样品的干质量（折射率RI）、湿质量（声学）和黏弹性的实时变化。b、使用Insplorion的纳米等离子体光谱技术（NPS）和Q-Sense的耗散监测型石英晶体微天平技术（QCM-D）在完全相同的实验条件下同时测量。c、非常容易使用当配备Q-Sense窗口模块时，Insplorion Acoulyte直接安装在Q-sense Explorer（E1）和Analyzer（E4）仪器上。Insplorion Acoulyte传感器是具有NPS结构的Q-Sensor。技术指标传感器 尺寸直径 14 mm 衬底 SiO2涂层的QCM-D传感器 表面 纳米结构金 标准涂层 Si3N4, SiO2, Al2O3, TiO2 测量特征 光源 卤钨灯 灵敏度* 0.03单分子层 测量点直径 3 mm 时间分辨率 每秒10个采样点 典型噪音 0.01 nm 波长范围 450-1000 nmQCM-D的测量不受Acoulyte的影响。 尺寸(宽度x深度x高度) Acoulyte模块 8x5x3 cm Insplorion光学单元 25x27x9 cm 软件 兼容软件 Insplorer 操作系统 兼容Microsoft Windows操作系统 数据输出格式 ASCII码文本文件格式，直接使用的任何绘图软件都兼容此格式 分析的参数 分析的参数多参数输出(比如：LSPR峰处的共振波长和消光)应用领域NPS和QCM-D的互补性测量 感应深度 NPS干质量 30 nmQCM-D湿质量 300 nmAcoulyte干质量和湿质量深度分析InsplorionNPS技术在纳米等离子体光谱技术（NPS）中，纳米结构传感器的局域表面等离激元共振技术（LSPR）用于探测邻近传感器表面（30 nm）的折射率（与光/干质量有关）的微小变化。它能够极其灵敏地检测发生在传感器/样品界面处的变化过程。分子解吸附（吸附） 时间和深度分辨测量厚膜（~1 mm）的分子解吸附（吸附）。Acoulyte也可以辨别溶胀和吸附/解吸附事件。检测到什么？ NPS 邻近表面（30 nm）的折射率变化QCM-D 整个膜的质量变化。 脂质双层膜 Acoulyte能够更详细地阐释表面薄膜的形成过程。检测到什么？ NPS 囊泡吸附时折射率增大囊泡坍塌时折射率增大QCM-D 囊泡吸附时质量增大囊泡坍塌时质量减小气体吸附/解吸附 通过QCM-D技术和NPS技术的联用，就可以实现深度分析以及研究表面支撑膜内的扩散时间和机制。检测到什么？ NPS传感器/样品界面的折射率变化。QCM-D 整个膜和膜的顶部的质量变化。

1 模块功能THA2600型氩等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。2 技术参数 壳体接地、24V-接地适用载气：高纯氩气分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；输出接口： DB9公头；管脚定义说明1悬空2悬空324V+424V-*5悬空6高压使能与7脚短接时，内置高压电源工作；悬空或接24V时，内置高压电源停止工作。(如果内部已设置跳线，此引脚无作用)7GND*8信号-*9信号+*内部短接24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min～30mL/min；含尘量：≤0.1um；尺寸：170*111*90mm；重量：约1.5kg。3 工作原理分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。4 技术特点u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，使用寿命长。5 典型工程应用领域u 空分氩气分析u 高纯气体分析u 环境空气监测u 工业流程中乙炔及碳氢分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱

PSM是一台差式泵质谱仪（In-Line Plasma Analysers for Neutrals, Radicals and Ion Analysis），分析等离子过程中的二次离子和中性粒子。 差式泵歧管，通过法兰与过程反应室连接 电子附着选件，具有可调谐的离子源，用于表观电势MS Penning规和互锁装置可提供过压保护 信号选通分辨率1μs，用于研究脉冲等离子体或能量、质量分布VS时间 标准分析中性粒子、自由基，+ve / -ve 离子分析可选 灵敏度高 / 极稳定的3级过滤四极杆 质量数范围： 0 ~ 2500amu 脉冲离子计数检测器，7个数量级的动态范围 能量分析选件，标准 ±100eV（1000eV可选 ） Mu-Metal, Radio-metal屏蔽可选， 高压操作可选 通过RS232、RS485或Ethernet LAN ，软件MASsoft 控制

原理：等离子体等离子体分析飞行时间质谱仪是一个全新的仪器，它结合了GD等离子体的溅射速度和飞行时间质谱的灵敏度，实现了高分辨率和高灵敏度条件下固体材料的快速化学深度剖析。重点应用领域： 掺杂分析（半导体、光电子、太阳能光伏、传感器、固态光源） 表面和整体污染鉴定（PVD镀层、摩擦层、） 腐蚀科学和技术（示踪物、标记监测、同位素分析） 界面监测 参数： 采集速率：每30μs一张全质谱 质量分辨率：选择高分辨率模式时，在m/z208可达5000 动态范围：107 质量准确度40ppm 灵敏度:103cps/ppm 深度分辨率：nm 正负离子模式 4个离子的灵活消隐功能 简单易用的水平样品装载 产品特点： 样品分析快速无预处理：无需超高压腔 适用于各种材料及镀层分析 全质量覆盖：可提供从H到U元素的完整质谱和分子信息，包括同位素监测 独有3D数据 ，脉冲射频模式(专利) 高深度分辨率：测试薄层可至1nm到厚层：厚层可达100μm 无需校准的半定量分析：溅射和电离过程分离，使得基体效应最小化原理图：应用实例：富含O18氧化钽的同位素分析Si PV的杂质识别 Si中B的定量掺杂 InGaN中Mg的定量分析

产品信息Insplorion提供纳米等离子体传感器，它能够对传感器表面附近（30nm）的折射率变化进行超灵敏测量。传感器可以涂上一系列的材料，可以研究表面化学如何影响分子吸附和薄膜相变等过程。Insplorion还提供各种类型和尺寸的等离子体纳米结构，允许用户对表面形貌/结构如何影响表面过程进行系统研究。a、NPS非常适合研究表面形貌和/或化学对表面过程的影响。b、表面化学、结构和曲率影响分子的吸附以及吸附层的结构和组成。c、有多种传感器涂层可供选择，使得调整表面化学性质。d、Insplorion通过改变等离子体纳米结构的尺寸和形状，提供具有不同表面结构和曲率的传感器。产品应用纳米结构传感器Insplorion的纳米结构传感器是在当前最\高水准的洁净室环境中生产，保证了稳定性、重现性和良好的表面化学控制。纳米结构覆盖整个传感器区域，在表面形成准随机的图案。这些结构具有一致的尺寸和形状。Insplorion的标准传感器的纳米结构由金制成，但根据要求，还可以提供其他金属。纳米结构可以不加涂层或用薄的顶部涂层覆盖。传感器结构传感器结构有两种标准的传感器结构，一种是安装在表面上的圆盘，另一种是嵌在表面上的圆盘，形成一个平面。但应要求也有各种各样的其他结构，如圆锥，截锥，洞穴，球形的分面粒子，环，洞和井。

仪器简介：SPR-Navi ----致力于提供研究者能够支付得起的优质的SPR SPR-NAVI公司是与Janusz Sadowski博士和Ulf Jonsson博士合作成立的，Janusz Sadowski博士有着在VTT公司20年的表面等离子体谐振领域研究经历，Ulf Jonsson博士，为Biacore公司创始人和前任CEO，该公司开辟了表面等离子体谐振技术在蛋白质相互作用研究中的应用。 SPR-Navi是一个具有标准组件且易于使用的系统，该系统基于对分子间相互作用进行实时的，无标记监控的表面等离子体共振技术。 SPR-Navi应用范围: 生物分子研究 制药研究：工业/科学研究 - 药物设计和筛选 - 靶药物的输送 蛋白质工程 生物医学研究 蛋白质吸附 生物相容性研究 表面生物分子的相互作用 生物传感器 LB膜研究，分子自组装，有机单分子层，有机薄膜 结合点分析 吸附过程的动力学研究 SPR-Navi提供的信息： 浓度 折射率变化 厚度变化 相对聚集/解离速率 平衡常数 薄膜中的静电场（EM-SPR） 化学 BioNavis提供了宽范围的细心选择的，高纯度的产品，用于表面修正和自组合单层（SAMs）。对于其它研究表面特性的产品，请联系我们。 用于SAMs的硫醇 功能化硫醇 用于电活性SAMs的硫醇 用于光控开关SAMs的硫醇技术参数：SPR-Navi规格 测量原理 测角计SPR，具有旋转激光 角度分辨率 0.005度 光的波长 670nm，其它波段备选 折射率（RI）范围 1.00-1.45 SPR角度范围 40-80度 探测极限 折射率的3*10-6（蛋白质~3pg/mm2） 液体处理 双通道，试管交换容易 温度控制 8-40度（0.5度增量） 样品装载和注射 手动，通过12端口注射器 尺寸（H× W× D） 38cm× 32cm× 31cm 泵 双通道传导，软件控制 重量 10kg 流动池容量 1&mu l 环境和界面 MS Windows USB 2.0 样品容量 20&mu l和以上 电源要求 150W，100/240V, 50/60Hz SPR-Navi可选组件 可编程的注射器和泵 用于气敏的流动池 适合用户需要的客户化流动池 可达到4束客户选择的波长激光束 可在单点达到4激光波长 温度稳定区域 附件 SPR金制载片 12mm× 20mm 高粘连物可在绝大多数溶剂中由超声波清洗。同样适用于除了金之外的所有金属。 SPR载片架 更换SPR载片简单，与二氧化碳麻醉槽兼容。 专用的dip coater镀膜机 用于SPR 载片的化学表面修正。与SPR载片架兼容。 二氧化碳麻醉槽 小巧，独立的流动池，水平导向，手动吸液，以方便SPR载片的原位作用。对SPR激发相关的折射率（R）范围1.0-1.45保证了在气体和液体环境下使用标准棱镜的同时测量。 折射率的探测极限：3*10-6 相关的通常的蛋白质为3pg/mm2。 SPR-Navi提供具有吸引力的规格和附件供您选择，大量的选件组合将会满足具有最大要求的科学家们的需要。主要特点：易于交换SPR载片 不需要繁杂的相匹配油标记。 方便使用自己的载片 你同样可以使用自己的载片，这种载片通过合并和以数层的方式预涂到仪器的外面。 易于交换的流动池 允许对液体的和包括不同的激光波长的光学通道的组合进行改变。 双液体和双光学通道 使一个通道作为一个参考使用，以进行高灵敏度测量。 温度稳定性测量以及宽的温度范围 包括流动池和样品环的样品区域精确的设定恒温。宽温度范围进一步增加了测量的灵活性。

原理：等离子体分析飞行时间质谱仪结合了辉光放电等离子体的溅射速度和时间飞行质谱的快速以及高灵敏度，实现了高分辨率和高灵敏度条件下固体材料的快速化学深度剖析。应用领域：● 掺杂分析（半导体、光电子、太阳能光伏、传感器、固态光源）● 表面和整体污染鉴定（PVD 镀层、摩擦层、电气镀层、光学镀层、磁性镀层）● 腐蚀科学和技术（示踪物、标记监测、同位素标记）● 界面监测技术参数：● 采集速率：每30μs一张全质谱● 质量分辨率：选择高分辨率模式时，在m/z 208可达 5000● 动态范围：107● 质量准确度：40 ppm● 灵敏度：103 cps/ppm● 深度分辨率：nm● 正负离子模式● 4个离子的灵活消隐功能● 简单易用的水平样品装载产品特点：● 样品分析快速无预处理：无需超高压腔● 适用于各种材料及镀层分析● 全质量覆盖：可提供从 H 到U元素的完整质谱和分子信息，包括同位素监测● 3D 数据，脉冲射频模式● 高深度分辨率：测试薄层可至 1nm● 薄层到厚层：层厚可达 100μm● 无需校准的半定量分析：溅射和电离过程分离，降低基体效应

1 模块功能THA2600型氩等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。2 技术参数 壳体接地、24V-接地适用载气：高纯氩气分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；输出接口： DB9公头； 管脚定义说明1悬空2悬空324V+424V-*5悬空6高压使能与7脚短接时，内置高压电源工作；悬空或接24V时，内置高压电源停止工作。(如果内部已设置跳线，此引脚无作用)7GND*8信号-*9信号+*内部短接24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min～30mL/min；含尘量：≤0.1um；尺寸：170*111*90mm；重量：约1.5kg。3 工作原理分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。4 技术特点u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，使用寿命长。5 典型工程应用领域u 空分氩气分析u 高纯气体分析u 环境空气监测u 工业流程中乙炔及碳氢分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等）未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

ICP电感耦合等离子体原子发射光谱仪过程主要分三步，即激发、分光和检测。第一步：激发光源使试样蒸发汽化，离解或分解为原子状态，原子也可能进一步电离成离子状态。原子及离子在光源中激发发光；第二步：利用分光器把光源发射的光色散为按波长排列的光谱；第三步：利用光电器件检测光谱，按所测得的光谱波长对试样进行定性分析，或按发射光强度进行定量分析。1、软件操作系统的特点1.1全中文操作界面，具有绘图功能，简便易用 1.2计算机控制自动寻峰,自动扫描,自动衰减1.3单一及复杂的元素间干扰校正1.4自动背景校正和背景扣除1.5谱线库储存有24000多条分析谱线，可自行添加1.6开机自动诊断调试1.7二次回归和高斯曲线计算含量的测量方式 应用：1、可检测物体分类包括：金属(钢铁,有色金属)、化学、药品、石油、树脂、陶瓷等；生物、医药、食品等环境(自来水,环境水,土壤,大气粉尘)等2、检测范围ICP原子发射光谱仪是一种可以测定试样中的金属元素和部非金属元素的大型分析仪器，可以对试样进行定性、半定量和定量分析。它的测量范围可从微量到常量3、光谱仪可检测元素检出限公司经营产品覆盖电感耦合等离子体发光光谱分析（ICP）、X射线荧光光谱仪（XRF）、离子色谱仪（IC）、高效液相色谱仪（HPLC）、气相色谱仪（GC）、原子吸收光谱仪（AAS）、微波消解仪、纯水机等仪器及其配件。公司秉承“立诚信之本，方品质之规，体科学之道"的企业精神，以“诚信为本，品质至上，客户第一"的经营理念，以专业、全面的技术支持和快捷的售后服务为后盾。公司服务客户群体遍布制药、环保、食品、政府、高校、化工、第三方检测等领域。公司提供优质的产品和服务，得到广大客户的高度认可。公司将与客户一起携手并进，互惠互利、共同发展。

LFMSM-2016 ICP-MS水质自动分析仪基于《水质 65种元素的测定 电感耦合等离子体质谱法》（HJ 700-2014）标准设计，以电感耦合等离子体质谱联用仪为检测器，可满足水中66种元素的在线监测要求。适用于地表水、地下水、生活饮用水以及工业废水等水体中重金属和无机元素的检测。产品概述 LFMSM-2016 ICP-MS水质自动分析仪通过控制单元控制系统实现自动取水，自动完成点火、标定、进样、测试、数据上传等功能。针对现有ICP-MS现场应用方面的制约，LFMSM-2016提供可溶性元素分析和元素总量分析两种工作模式。为应对可溶性元素分析，该系统依照HJ 700-2014 《水质 65 种元素的测定 电感耦合等离子体质谱法》可溶性样品要求，设计全自动化0.45μm 过滤方式，完全依照标准运行。整个系统可实现一键可溶性元素分析和元素总量分析（过滤/消解）测试。功能特点01抛弃式过滤完全依照HJ 700-2014可溶性元素预处理要求，首次实现采用0.45μm抛弃式滤带过滤，单个样品采用单独过滤，前后水样之间不存在任何残样稀释或交叉污染情况。同时采水管道中加滤材方式，很好解决历史高浓度水样对后续监测存在长期残留影响；02检测指标多对超标等异常未知元素快速筛查和准确定性定量，应急监测准确、可靠，可对水中铜、锌、硒、砷、汞、镉、铬、铅、铁、锰、钼、钴、铍、硼、锑、镍、钡、钒、钛、铊、银、铝22种元素同时测定，通过扩展可实现66种元素监测。03线性范围宽部分元素低至ppt级别的元素定量下限，以及出色的抗干扰能力，可满足实际应用过程中痕量、超痕量的分析需求。同时匹配的前处理单元可实现在线稀释，满足不同场景监测需求；04分析速度快单次同时实现样品所有重金属元素的检测分析，单次测量时间3min~5min（分析仪完全预热且连续监测时，不含分析仪重新点火后稳定、测试完后熄火系统冷却时间）；05抗干扰力强通过质荷比进行定性，不受基质、色度、浊度等因素干扰，分析软件内置校正方程以及内标校准算法；06全过程监控运行过程，对工作模式、仪器关键部件状态信息、辅助设备信息实时监控，大幅提高了LFMSM-2016系统的无人化操作运行，并获得极佳的稳定性和可靠性。

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等）未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

产品应用等离子体火炬（亦称等离子体发生器或等离子体加热系统）就是依据这一原理研制的专门设备。等离子体火炬通过电弧来产生高温气体，可在氧化、还原或惰性环境下工作，可以为气化、裂解、反应、熔融和冶炼等各种功能的工业炉提供热源。微波等离子体炬就是以微波为激发能量的开放式等离子体技术。产品特点1、微波激发开放式等离子体火炬产品平台，用于等离子状态下，气固液态材料的反应2、支持多种气氛条件的等离子体，3、支持混气和送样4、支持等离子体强度调节5、智能化控制系统，工艺可控技术参数（一）、微波系统1.微波功率：额定功率1000W / 2450MHz，无级非脉冲式连续微波功率输出2.微波等离子体激发腔设计：①中央聚焦强电磁场密度微波腔②内置微波调配系统（二）、功能系统1.等离子体系统：①开放式石英管等离子体反应系统②等离子体强度和主焰高度可调2.温度控制：①温度范围：1000℃，；②采用红外测温方式（700～1700℃），支持选配光学测温系统；3.气氛控制：①支持多种气氛条件的等离子体，②支持混气和流量控制，支持流动送样③支持选配尾气收集系统（三）、控制系统①采用PLC自动化控制：功率、强度、流量、时间可控②支持选配内腔视频系统，进行动态观察（四）、安全系统1.腔体多重联锁结构，开门断电，保护操作人员2.开口采用λ/4高阻抗微波抗流抑制结构，保证操作人员的健康安全，微波泄漏量：5mW/cm2 （优于国标）（五）、整机说明1.设备供电：220Vac / 50Hz，整机能耗：1500W2.设备供水：水冷系统3.外观尺寸：主体约：1400×1600×700mm（宽×高×深）4.设备重量：80kg5.公司产品通过ISO9001质量认证体系　整机质保一年

产品信息Insplorion S2 采用双通道流通池，用于无标记和原位研究分子间相互作用和表面吸附事件。 此系统在表面/样品界面几十纳米范围内实现了真正的纳米级测量，并完美地控制样品和缓冲液的流动。 1、集成和自动化的流体处理具有软件命令队列、6通注射阀和不间断流量注射泵的自动流量操作，并集成了缓冲液更换和冲洗操作。2、精确的温度控制快速和稳定的温度控制，范围在15°C至45°C之间，波动在0.1°C以下。 3、易于操作样品通过集成的流体处理系统输送，具有完全的用户可访问性，易于操作和精确控制。自动化操作通过Insplorion InControl软件实现。单柄的可拆卸流通池带有单独的传感器托盘，易于日常使用和维护。 4、兼容性nsplorion S2 适用于任何生物材料，并可以轻松处理不同类型的生物样品：脂类、蛋白质、核酸、病毒、生物膜、生物矿物、水凝胶。尽管Insplorion S2 设计用于处理生物样品，但这款仪器非常耐用，还可以处理许多其他的材料和化学物质。有关样品的化学兼容性的更多信息，请联系我们。5、多功能由于其无标记、实时和表面灵敏的特性，NPS 技术具有广泛的用途。Insplorion S2 擅长展示NPS技术的最佳特征，并将其用于要求减少样品处理和严格控制温度的生物应用。理论上，可以测量任何改变表面传感器光学环境的现象。这包括许多过程，比如： 分子吸附到不同表面、 脂质双层膜的形成和相互作用、温度依赖的相互作用、构象变化、 生物分子识别、生物矿化、生物膜形成、 加载和卸载动力学。 技术指标流通池 传感器芯片位置 双通道* 注射类型 带样品环的注射泵 样品死体积 20μL 标准注射器体积 250μL** 典型流速 12.5 - 250 μL/min *** 标准样品环 200μL 材料 蓝宝石玻璃、钛 垫圈和管子 PTFE,FPM和硅橡胶 温度范围 15-45℃，稳定性为0.1℃* 串联排列 ** 可以配置 *** 软件控制传感器 尺寸 9.5 x 9.5 mm, 1 mm厚 衬底 熔融石英 表面 纳米结构金 标准涂层** 无涂层, SiO2, Al2O3, TiO2 * 还提供定制的银传感器纳米结构 ** 可以订购带有定制薄膜涂层的传感器。测量特征 测量类型 无标记纳米等离子体传感 光源* 卤钨灯，最低寿命2000小时 测量点直径 1.5mm 时间分辨率 每秒多达10个采样点 典型噪音** 波长0.1nm 探测深度 达30nm* 可提供定制选择和替换 ** 以1 Hz的采样率。系统 尺寸 W65xD42xH36 cm 重量 30kg软件 控制软件 InControl 1.0 操作系统 兼容微软Windows系统 数据输出格式 专有的CSV/TSV输出，易于使用任何其他图形工具包 分析的参数 多参数读出（表面浓度的有效变化）应用领域Insplorion S2 适用于任何生物材料，并可以轻松处理不同类型的生物样品：&bull 脂类&bull 蛋白质&bull 核酸&bull 病毒&bull 生物膜&bull 生物矿物&bull 水凝

PVA TePla 射频等离子体去胶机——PVA TePla 跨国型企业，50年等离子体设备经验PVA-TePla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。PVA TePla 公司的IoN 40 等离子体设备是为实验室和生产领域设计的全功能的等离子体处理设备。IoN 40等离子体设备是PVA TePla公司推出的具有高性价比的真空等离子体设备。该设备外观简洁，系统高度集成化。其先进的性能提供了出色的工业控制、失效报警系统和数据采集软件。可满足科研、生产等领域严格的控制要求。PVA TePla公司的高品质、高性价比、操作简单的等离子体设备为各种不同应用领域提供了先进的创新解决方案，得到用户的广泛信赖。型号：IoN 40 ( M4L 升级版 )典型应用：光刻胶灰化去除残胶打底膜表面精密清洁去除氧化层去除氮化层表面活化提高表面粘合性改变表面亲水性/疏水性分子接枝涂层规格参数：阳极表面处理铝制腔体，水平抽卸极板/垂直极板/侧壁极板/水冷极板13.56MHz 风冷微波电源（0～600w可调,可选配0～300W，0～1000W），高灵敏快速自动匹配水平抽卸极板/水冷极板/垂直极板/料盒极板不锈钢防腐蚀MFC，多至6路工艺气体，两路辅助气路：回填保护气体，驱动气路兼容8英寸及以下晶圆模块化设计，维护保养简单PC工控机控制，运行数据自动存储，工艺数据严格监控，可自定义工艺警报范围分级密码权限管理图形化可视控制界面外形尺寸：775×723×781 mm重量：157KG可选配置：石英腔体液态单体操作装置可选配温控板可选配法拉第桶可选配压力控制系统认证：CE 认证EN 61010EN 61326Semi E95ISO 9001CISPR 55011NFPA79NFPA70

激光诱导击穿光谱技术(LIBS)，利用脉冲激光产生的等离子体烧蚀并激发样品（通常为固体）中的物质，并通过光谱仪获取被等离子体激发的原子所发射的光谱，以此来识别样品中的元素组成成分，进而可以进行元素鉴定、材料的识别、分类、定性以及定量分析。 CNI生产的激光诱导等离子体光谱仪中，激光器稳定可靠，光谱仪分辨率高，软件分析快速准确，是实验室、工业现场的实用分析仪器。■ 基本组成 脉冲激光器、光纤光谱仪、聚焦透镜、样品、转台、耦合透镜、光纤座、光纤。■ 激光器的选择固态物质LIBS检测金属样品(金属、合金、钢、矿石等组分检测)高能脉冲激光器E:100μJ~10mJ样品导热性好，激光器能量足够高即可非金属多组分样品(土壤中重金属、氮磷钾肥检测、煤质分析等)低频高能脉冲激光器E:10mJ~100mJ样品导热性，高温易化学反应或燃烧液态物质LIBS检测液体样品(海水、工业污水检测等)高能脉冲激光器E:100mJ~500mJ由于等离子体冲击波作用，液面波动影响探测稳定性气态物质LIBS检测气体或气溶胶(空气成分、大气污染物、汽车尾气、工业废气检测等)低频高能脉冲激光器E:100mJ~1000mJ气体击穿阈值大，需要高能激光作为激发光源

THA2700氦等离子体发射光谱分析模块仪器功能 THA2700氦等离子体发射光谱分析模块可以安装于气相色谱分析仪，作为色谱分析的检测器，用于定量分析各种气体成分浓度。由于分析模块具有很高的灵敏度，因此适合不同浓度范围的分析，尤其适合微量或痕量气体分析，并使得色谱分析更加简便，分析结果更加准确。工作原理氦等离子体发射光谱分析模块采用高频高压电源电离气体，产生正电荷离子和自由电子，形成等离子体环境。正电荷离子、自由电子在电场的作用下分别加速移向负极、正极。由于碰撞，离子和电子将自身能量传递给原子，使得气态原子被激发。原子被激发后，其外层电子发生能级跃迁，在返回基态时发射特征光谱。通过对特征光谱的检测，分析出各种气体成分的浓度。技术参数 工作环境温度: (5～40)℃；输出信号：-2.5V～+2.5V；24V直流电源：≥10W，纹波电流≤120mVp-p；气路接口：1/16英寸；流量范围：10mL/min～100mL/min；常规流量：20mL/min。技术指标分析成分：H2,O2,N2,CH4,CO,CO2,H2S,N2O,CNHM等；载气：高纯氦气；检出限：≤10×10-9；含尘量：≤0.1um；重量：约1.5kg；主体尺寸：约170*111*90mm。技术优势u 原子发射光谱，灵敏度高，准确度高。u 高频高压电离源，稳定性好，无辐射、放射性问题。u 无消耗性部件，仪器使用寿命长。典型工程应用领域u 空分氦气分析u 高纯气体分析u 科学实验室气相色谱u 工业在线气相色谱

2019年BCEIA金奖获得者一、产品原理PJ10 是基于原子发射光谱原理研制的高性能光谱仪器。它内置自主研发的高能量密度的等离子体激发源，高温等离子体直接作用于固体样品表面，样品中的元素在高温下被气化、激发，在退激回到基态过程中产生发射光谱，光谱信号通过收集系统进入光谱仪，从而分析得出样品中的元素组成。二、产品特点直接对固体样品中的多种元素进行快速定性和定量分析，无需化学消解:装载高能激发源，灵敏度高，检出限可达ppb级 分析速度快，90秒内可以同时获得190nm-1100 nm波段的全谱信号，覆盖Cd，C，Cu，Pb,Zn，Ca，Fe等多种元素 配备自动样品仓和智能软件，可实现多个待测样品自动检测并输出结果。 三、特色功能 激发源自适应: 根据样品类型自动调节激发源强度，以获取最佳激发效果 自动调节功能: 仪器开机自检，达到最佳检测状态 样品智能定位: 仪器自动识别样品位置 仪器智能保护: 仪器具有自动预警功能，防止突发情况对仪器造成毁坏 智能软件系统: 一键操作完成自动进样及分析，可快速判别异常样品 用户自定义: 用户根据自身需求，自定义元素及检测限量值四、应用领域五、仪器参数屏幕闭合尺寸：400*410*427 mm（长宽高）屏幕展开尺寸：400*410*662 mm（长宽高）重量：32kg功率：200W仪器配置 进样方式：固体直接进样样品前处理：简单混样压片、用时2-3分钟（无需浓酸消解）软件：全自动检测，直接给出测试结果显示：12寸电容式触摸液晶模组存储：128 GB SSD数据接口：4XUSB，1X网口供电：110~260 VAC分析时间： 60 s检测限：镉 Cd 0.01ppm可检测元素：镉Cd，铬Cr，铜Cu，铅Pb，钙Ca，铁Fe，锌Zn等元素光谱范围：190nm-1100 nm （可 根据用户需求选配）光谱分辨率：0.10~0.25nm开机稳定时间：15 min （基于操作环境因素）

主要特点：特点：表面等离子体共振仪已成为分子结合相互作用研究最受欢迎的工具，包括 DNA,蛋白质和药物研究,尤其适合于亲和力测量及定量浓度分析。此仪器有两个通道，用于提高通量或建立参比。如果需要更高灵敏度，参比通道是一种有效的方法,因为它可降低由于热量，机械及电子所带来的噪音。CP-SPR仪使用了一种创新式的光学技术，可提供小于0.1mDeg（rms）的低噪音基线及可达1ms/point的接受速度以用于研究快速结合相互作用。CP-SPR使用复杂的隔离技术以提高稳定性且可以进行大小多种尺寸分子分析。CP-SPR具备可开口光学传感区的独特设计,可提供无可比拟的灵活性并可促进创造性的研究。CP-SPR结构紧凑，占用操作台空间小。易用软件可提供精准的实时控制和基于windowsXP/VISTA的强大数据分析功能。CP- SPR通过USB连接到电脑上(电脑不包括在本机内)。使用内置的安装和培训DVD教你如何使用仪器。DVD中包含了仪器使用方法的每一个步骤：启动，样品准备，数据采集，数据分析，清洗，维护。它将让这款仪器成为您快速获得所需数据的可靠工具。备注：本仪器需同74900-55注射泵配套使用。 注射泵必须具备，但不包括在本产品内，需要单独订购。主机配置包括：5个Au膜传感器，一个250微升进样注射器，2个10毫升样品注射器，2个废液瓶，高级控制及数据分析软件包，安装培训DVD。订购指南 型号 描述 电源 CP-SPR 200 表面等离子体共振仪 240伏交流 50赫兹7490055 纳升级双通道注射泵其他备件及配件请联系北京中科科尔仪器有限公司

产品信息Insplorion XNano具有一个灵活的测量单元，能够在气体和液体流量测量中实时测量折射率变化。简而言之，整个Insplorion XNano系统提供以下功能：a、传感器表面折射率变化的超灵敏测量b、在液体或气体环境中测量c、使用集成温度控制，温度范围室温至80 Cd、灵活选择样品材料的结构和性能e、基底材料和表面化学的灵活选择f、实时、原位监控纳米颗粒和薄膜内/上的变化过程g、用户友好的仪器和软件技术指标测量单元 芯片上方体积 ~ 4 μL 样品消耗最小量 ~ 100 μL 典型流速 20-100 μL/min 材料* 钛和全氟化橡胶 温度范围** 室温至80oC *可自定义选项。** 通过可选的配置实现250oC的高温。 传感器芯片衬底 熔融石英 尺寸 9.5 mm x 9.5 mm x 1 mm 表面 纳米结构金 表面涂层* Au, SiO2, Si3N4, TiO2, Al2O3*可订购客户化的薄膜涂层传感器。 光学读数特性 光源* 卤钨灯，最低寿命2000小时 测量点尺寸 圆形区域~直径2mm 波长范围** 450 - 1000 nm 时间分辨率 每秒10个采样点 典型噪音*** 0.01 nm *可自定义选项和可替换，**可自定义波长范围，***在液相环境中的采样速率达到1Hz 尺寸 测量单元 31cm x 25cm x 25 cm 光学单元 25 cm x 27 cm x 9 cm 温度控制单元 25 cm x 27cm x 9 cm 软件 操作系统 兼容Windows操作系统 数据输出格式 ASCII码文本文件格式直接使用的任何绘图软件都兼容此格式 分析的参数 多参数输出（如：共振波长、宽度和消光） 应用领域1、分子结合和生物识别Insplorion NPS适用于生物分子相互作用分析。通过监测捕获剂（配体）固定到insplorion传感器，然后通过insplorion仪器的流体系统引入分析物，可以确定作为亲和常数的定量信息。监测脂质双层膜和嚢泡Insplorion的技术和仪器可以进行完整的实验，其中可以监测脂质双层的形成以及与生物分子和纳米颗粒的相互作用。对表面附近光学性质变化的极端敏感性也能获得结构信息，例如关于囊泡形状的信息。对邻近表面光学性质变化的极端敏感性也能获得结构信息，例如关于囊泡形状的信息。药物运输Insplorion NPS技术可用于监测聚合物薄膜（厚度从微米到几纳米）以及多孔网络中的扩散。Insplorion传感器具有极高的表面灵敏度，可以探测到厚膜中隐藏的内部界面。这允许您确定扩散物种到达界面并使薄膜饱和的时间，以及监测释放过程。定量的动力学信息，如扩散系数已经在一个案例中从实验获得。 2、氢气传感/贮存Insplorion NPS技术为储氢和固态反应领域的研究者提供了一种新的、强大的研究工具，以克服众多的实验挑战。NPS的测量集中在一个明确的模型系统上，在“运行”条件下和受控的微环境中使用少量的样品。这导致了各种梯度的最小化，以及广泛的粒径分布的扭曲。高时间分辨率使快速变化过程能够在高温下的固态反应中被监控。成功故事NPS技术已成功地用于解决纳米储存实体储氢领域的以下问题：1、在D5nm尺寸范围内，钯纳米粒子的氢化和脱氢动力学的尺寸依赖性。2、在D5nm尺寸范围内，钯纳米粒子氢化物形成和分解热力学的尺寸依赖性。3、金属纳米粒子中氢化物形成与分解之间的尺寸依赖性滞后现象的研究。4、镁和钯纳米粒子氢化物形成热力学的定量单粒子研究。 3、超薄的聚合物膜和纳米结构/纳米粒子的玻璃化转变温度在超薄聚合物膜中，玻璃化转变温度Tg因近表面层（几纳米厚）的存在而变得尺寸/厚度依赖，其中聚合物片段具有不同的流动性。Insplorion的NPS技术为聚合物薄膜领域的研究者提供了一个研究相变的强大工具。成功故事 NPS技术已成功地用于解决以下现象：1、无规聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）玻璃化转变温度（Tg）薄膜的厚度依赖性。2、聚苯乙烯（PS）纳米粒子中玻璃化转变温度（Tg）的尺寸依赖性。 4、监测多孔膜和衬底之间的隐藏界面即使对于装备精良的实验室，小分子小规模地扩散进出多孔材料也是一项挑战。对于药物输送和其他缓慢释放以及多孔基质中需要最多材料的应用，NPS技术可以证实为一个非常宝贵的工具。成功故事NPS技术已用于追踪下面的变化过程：1、介孔二氧化钛染料浸渍的时间依赖性对染料敏化太阳能电池的优化。2、染料在介孔材料中扩散系数的量化。 5、太阳能电池提高DSSC的性能和知识。Insplorion NPS技术应用于研发，提高太阳能电池的性能。实时传感器技术为光接收涂层的不同涂层提供了可靠和一致的测量。例如，染料敏化太阳能电池的染料浸渍步骤可以使用Insplorion仪器进行详细监测。Insplorion与瑞典洛桑联邦理工学院Prof. Michael Gr?tzel课题组和查尔姆斯理工大学的研究人员一起已经成功地将Insplorion的纳米等离子体传感技术NPS应用于染料敏化太阳能电池的研究。这项研究集中在太阳能电池中二氧化钛薄膜的分子吸附，并且展现在Nano Letters上。提高太阳能电池性能：Michael Gr?tzel作为太阳能电池领域的世界一流的研究者，关于insplorion的技术，他说：“我发现insplorion的技术对于研究染料敏化太阳能电池的染料浸渍非常有趣。它有可能成为改善染料浸渍工艺，从而提高太阳能电池性能的一个有价值的工具。”

电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）应用领域各级疾控中心理化所/科,职业卫生技术服务机构理化分析；职业病监测理化分析；职业病诊断-职业医学检验疾控中心理化分析。电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）◇ 高效进样系统：分体式炬管，自准直装配，直观简单。◇ 稳定的ICP离子源：自激式全固态射频电源，采用频率匹配调谐，调谐速率高，可直接分析有机样品，无运动部件，稳定可靠；平衡驱动，无需屏蔽炬即可获得离子动能平衡。◇ 可靠的双锥接口设计：高效率传输待分析离子，保持分析物组份的代表性，专门离子接口设计大幅度提升灵敏度；提手是换锥接口，稳固可靠，操作便利。◇ 复合离子传输系统：前后两次离轴，良好消除中性粒子干扰；采用复合电场多极杆导引技术、复合透镜偏轴离子传输技术，在消除光子和中性粒子干扰之外大幅度的提升离子传输效率。◇ 高速动态碰撞反应池：分布式碰撞/反应气扩散方式，大大提高碰撞效率，提升灵敏度；采用离子动能歧视技术，结合喷碰撞和动态反应两种模式的优点；高效碰撞模式，可直接稀释到测试血液样品。◇ 四极杆质量分析器：纯钼四极杆，超高稳定性；抗温湿度变化的RF电源，确保在普通实验室条件下也有良好的稳定性。◇ 高灵敏电子倍增器：专有的数字/模拟双模式检测器，具有9~10个数量级的动态范围。电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）◇ 自主研发的国产ICP-MS替代进口产品，完全满足疾控客户水、食品、土壤、环境等检测需求，成为各级疾控中心理化采购热点；◇ 满足ICP-OES替代方法，检出限可到ppq，四级杆质量分析器，全数字频率调谐射频发生器。

等离子体热处理炉为德国生产，具有等离子清洗、表面处理、材料表面修饰、材料热处理的功能。 仪器特点及基本参数：具有等离子体清洗、表面修饰、表面处理、表面活化的功能；具有真空能力(10-5mbar)；芯片倒装凸点(Bump)；凸点焊接；键合；功率器件焊接；样品尺寸：170X200mm，或300x300mm；温度：650摄氏度；24支红外灯加热；2路MFC气路；

等离子体监控系统PlasCalc 等离子体监测控制仪，实现200nm-1100nm波段内的等离子体测量，通过高级过程控制系统及精密数据存取算法，只需3ms就可以获得测量结果。特点 1、光学分辨率1.0nm(FWHM)2、光谱范围 200-1100nm3、快速的建模及存储实验方法Recipe编辑器Recipe编辑器有助于简单快捷的配置、构建及存储实验方法。对一些困难的等离子体工序诸如膜沉积测量、等离子体蚀刻监测、表面洁度监测、等离子体室控制及异常污染、排放监测等，能够快速简单的构建模块过程控制。多种工具用于等离子体诊断随PlasCalc配置的操作软件，集成的程式编辑器能够容易实现多种数学算法功能。可选的波长发生器（可以单独购买）用于类型确认，而波长编辑器可以用于优化信噪比。双窗口界面用于显示实际光谱及所有过程控制信息。PlasCalc 配置说明光谱范围:200-1100 nm光学分辨率:1.0 nm (FWHM)D/A 转换:14 bit数字I/O:8 x TTL模拟输出:4 x [0-10V]接口:USB 1.1功耗:12 VDC @ 1.25 A

ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-230iPC量产设备概要RIE-230iPC是以电感耦合等离子体为放电方式，高速进行各种材料的超精细加工的盒式ICP蚀刻系统。该系统通过采用独特的龙卷风式线圈电极，高效地产生稳定的高密度等离子体，实现了对硅、各种金属薄膜和化合物半导体的高精度各向异性蚀刻。此外，ø 230mm的托盘可同时处理多种化合物半导体。主要特点和优点龙卷风线圈电极　它能有效地产生稳定的高密度等离子体，使蚀刻具有高选择性、高精度和良好的均匀性。低损伤工艺　通过ICP产生高密度的等离子体，实现了低偏置、低损伤的工艺。温度控制　电调和He冷却的平台和反应室内侧壁的温度控制使蚀刻在稳定的条件下进行应用GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。铁电材料和电极材料的加工。

ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-230iP多功能负载锁设备概要RIE-230iP是以电感耦合等离子体为放电方式，高速进行各种材料的超精细加工的负载锁定型ICP蚀刻系统。该系统通过采用独特的龙卷风式线圈电极，高效地产生稳定的高密度等离子体，可对硅及各种金属薄膜和化合物半导体进行高精度的各向异性蚀刻。此外，ø 230mm的托盘可同时处理多种化合物半导体。主要特点和优点龙卷风线圈电极　它能有效地产生稳定的高密度等离子体，使蚀刻具有高选择性、高精度和良好的均匀性。低损伤工艺　通过ICP产生高密度的等离子体，实现了低偏置、低损伤的工艺。温度控制　电调和He冷却的平台和反应室内侧壁的温度控制使蚀刻在稳定的条件下进行。应用GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。铁电材料、电极材料等难蚀材料的加工。