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等离子处理器

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等离子处理器相关的论坛

  • 等离子体废气处理设备的放电等离子体处理

    目前,我国对废气处理的重视程度越来越高,越来越多的企业投资于等离子废气处理设备。   等离子废气处理设备工业尾气的放电等离子体处理因其自身的特点受到企业的青睐。   下面介绍了一种等离子体废气处理设备的放电等离子体处理方法。   等离子废气处理设备   等离子废气处理设备的放电等离子体处理方法是通过高压放电获得非热平衡等离子体;   产生大量的由电子产生的O、OH、N基活性粒子,破坏C-H、C-C等化学键,引起置换反应。   尾气分子中H、Cl、F等的作用,然后产生CO_2和H_2,即工业废气经排放处理以后不再对人的健康有害。   等离子废气处理设备是目前处理有害气体的有效方法之一。   世界对协同催化剂和反应器进行了大量的研究工作。   在等离子体中添加催化剂,可以提高污染物的去除效率,大大降低能耗和副产物。   世界上对这种协同催化剂的研究主要集中在金属氧化物和二氧化钛催化体系。   利用等离子体和催化反应的协同作用,提高有机废气的净化率,使能耗降低是成功的。

  • 【求助】硬水软化处理器的怎么设计啊?

    我是今年才毕业的学生,才工作2个来月,我们厂打算搬迁,新厂那边是自己钻井,取地下水,我们老板要叫我设计个硬水处理器,主要是除钙镁离子,其实市场上也有卖的,可老板要我自己设计.要求处理量达到2吨/小时,在这里向各位GGJJ求助了..

  • 看旁流水处理器为你介绍水质污染原因及归类

    现在水污染现象是比较严重的,但是大多数人们并不太清楚造成水污染的原因有哪些,今天旁流水处理器小编就要简单的向大家介绍一下与这两部分内容相关的问题,他的污染原因主要有下面的几点,以及水污染的种类下面都是有介绍的,希望小编下面的介绍能够帮助大家了解这两部分的内容。  污染原因:  未经人类活动污染的自然界水的物理化学特性及其动态特征。物理特性主要指水的温度、颜色、透明度、嗅和味。水的化学性质由溶解和分散在天然水中的气体、离子、分子、胶体物质及悬浮质、微生物和这些物质的含量所决定。天然水中溶解的气体主要是氧和二氧化碳;溶解的离子主要是钾、钠、钙、镁、氯、硫酸根、碳酸氢根和碳酸根等离子。生物原生质有硝酸根、亚硝酸根、磷酸二氢根和磷酸氢根离子等。此外,还有某些微量元素,如溴、碘和锰等。胶体物质有无机硅酸胶体和腐殖酸类有机胶体。悬浮固体以无机质为主。微生物有细菌和大肠菌群。  基本归类:  饮用水类:饮用水I类:国家级自然保护区,水质未受污染。饮用水II类:较清洁,过滤后可成为饮用水。饮用水III类:过滤清洁后可用作普通工业用水污水类IV类:普通农业用水,灌溉用。V类:普通景观用水。劣V类:无用脏水。

  • ARM发布有史以来功耗效率最高的应用处理器

    2011年10月20日,中国上海——ARM 公司近日发布了有史以来功耗效率最高的应用处理器ARM® CortexTM-A7 MPCoreTM。同时发布的还有big.LITTLE processing,一个重新定义传统功耗-性能关系的灵活的解决方案。Cortex-A7处理器是在 Cortex-A8处理器所代表的低功耗领先工艺基础上进行开发的。当今大多数的智能手机都采用Cortex-A8为内核。相比Cortex-A8,单个Cortex-A7处理器能在同等功耗水平上,带来5倍的性能提升,而尺寸只是前者的五分之一。Cortex-A7处理器为售价不足100美元的入门级智能手机带来丰富的用户体验,从而帮助众多发展中市场用户进行互联。当今科技界面临的一个巨大挑战是如何设计出一款片上系统,能兼顾消费者对高性能及更长的电池续航能力的双重需求。基于Cortex-A7的big.LITTLE processing,将高性能的Cortex-A15 MPCore处理器与超高效率的Cortex-A7处理器进行优化组合,从而达到要求。big.LITTLE processing 从性能要求出发,为每项任务选择最匹配的处理器。重要的是,这一动态选择过程对于在处理器上运行的软件或中间件都完全适用无碍。在支持这些技术的ARM合作伙伴中,包括博通、仁宝、飞思卡尔、海思、LG电子、Linaro、OK Labs、QNX、Redbend、Samsung、Sprint、ST-Ericsson和德州仪器。随着手机功能的巨大变化,如今更多的消费者将智能手机用于互联网生活,其中包括一些高性能任务,如浏览网页、导航和游戏,及一些对性能要求相对较低的、“永远在线”的基本任务,如语音电话、社交网络和邮件收发。由此,对于众多消费者,手机已成为了一个不可替代的计算设备。同时,新诞生的移动设备,如平板电脑,正在响应消费者的需求重新定义计算平台。这些移动设备,不仅为消费者带来一种全新的互动方式,更将曾经只有在网络共享设备上才能获取的信息带到移动世界。通过开发big.LITTLE processing和Cortex-A7处理器,ARM已经为科技界所提出的兼顾高性能和高功耗效率的挑战找到了答案。当更多的消费者将智能手机和平板电脑视为与我们日益互联的世界进行互动的首要平台,ARM两款产品的发布就显得尤为适时。Cortex-A7 – 扩展ARM低功耗领域的领先工艺ARM处理器产品能够实现更低的功耗和更小的尺寸,得益于ARM高效的结构体系。采用28纳米制程技术,Cortex-A7的面积小于0.5平方毫米,却拥有单核或多核构架下出色的性能表现。到2013或2014年,通过使用作为独立处理器的Cortex-A7,100美元以下入门级智能手机将能够提供相当于目前500美元高端智能手机的处理能力。ARM对于入门级智能手机市场的目标,是通过移动设备,为下一个10亿人提供互联网连接服务,从而在发展中世界重新定义手机的使用。big.LITTLE processing — 将处理器匹配到每项任务big.LITTLE processing能够将两个不同但相互兼容的处理器结合在同一个的片上系统,并允许功耗管理软件来为每项任务选择最匹配的单个或多个处理器。而从应用软件的角度看,不同的处理器之间并无区别。 “LITTLE”,最低功耗的处理器,这里指Cortex-A7,通过运行操作系统及某些应用程序来实现“随时随地网络接入”的基本任务,如社交媒体和音频播放。随后,操作系统和应用程序可以迅速切换至更高性能的处理器来满足更高性能需求的任务,比如导航和游戏。这一切换的时间大约为20毫秒的数量级。这个灵活的解决方案,为各项任务选择合适的处理器,使高度优化的处理技术成为可能,从而为常规工作量实现大幅节能。系统IP和工具确保多核处理方案的一致性和优化度两个处理器间工作量的高效无缝切换,离不开领先的ARM系统IP,例如AMBA® 4 ACE一致性扩展。它确保了Cotex-A15和Cotex-A7之间以及整个系统中全缓存、输入输出(I/O)、处理器之间的一致性。由此,软件和应用程序可以在用户不察觉的情况下实现无阻运行,随着任务的重新分配,big.LITTLE用户也将获得最优的用户体验。big.LITTLE功耗管理软件是由ARM生态系统合作伙伴采用ARM DS-5 工具和快速模型虚拟原型技术开发,比处理器的发布还要早几个月的时间。这一目前已向ARM的领先合作伙伴的虚拟平台,包括Cortex-A15和Cortex-A7处理器及能够进行全系统软件开发的缓存一致性互联系统IP。

  • 【原创】电子针头处理器---处理用完的针头

    《电子针头处理器》对用完的针头进行瞬间处理。消除针头血迹的扩散污染,根绝艾滋病毒等所有传染性病毒病菌的传染;减少医用垃圾处理的危险性,降低处理费用。咨询:159 4000 8578

  • 发反传统的便携式预处理器在超低排放的应用-气态除湿

    随着“超低排放”限值的实施,这种低浓度SO[sub]2[/sub]的排放现状对各级环境监测部门在执行适用性检测、技术验收以及比对监测过程中使用的现场监测系统的灵敏度、检测限、准确度等指标提出了更高要求。 各级环境监测部门使用的便携式烟气分析仪不断的更新换代,从早期定电位电解法便携式烟气分析仪到现在的非分散红外吸收法(NDIR)便携式烟气分析仪、非分散紫外吸收法(NDUV)便携式分析仪及差分光学吸收法(DOAS)便携式分析仪等。便携式分析仪的SO[sub]2[/sub]检测量程也从早期的0~1000PPM到0~200PPM,再到近年来0~50PPM乃至更低量程,目的都是为了能够在“超低排放”下更好、更稳定准确的测量出烟气中气态污染物的浓度。但常常会遇到在“高湿低硫”的烟气监测中,监测值几乎为0的情况,其主要原因则是监测系统中的便携式预处理器在除湿的过程中析出冷凝液,并与烟气接触,造成烟气中的SO[sub]2[/sub]组分被冷凝液吸收而引起。针对这个问题,我探讨了两种类型的便携式预处理器结构原理以及在“高湿低硫”烟气比对测试中的应用。 1. 便携式烟气预处理系统 烟气预处理系统的主要功能就是将烟气在不影响待测物浓度的情况下处理成接近标准气般的高品质气体,以满足分析仪的准确、稳定的分析要求,这主要就是指烟气的除尘和除湿。便携式烟气预处理系统一般包括过滤器、烟气“除湿”器、采样泵、蠕动泵和相关的控制部件,其中最为核心的就是“除湿”器。目前,最常见的就是冷凝器来对烟气除湿,采用的是冷却除湿法;冷凝器控制冷却温度位于2℃-5℃,将烟气中的水蒸气快速冷凝从而脱除水分,达到“除湿”的目的。另一种,独特技术的Nafion管进行烟气除湿,采用的是Nafion干燥法;Nafion管是以磺酸基的化学亲和力为基础,管内外的湿度差为驱动力进行水分子迁移,达到“除湿”的目的。1.1 基本原理 半导体制冷是由J.C.A.珀耳帖在1834年发现了热电致冷和致热现象-即[url=http://baike.baidu.com/view/2280842.htm][color=windowtext]温差电效应[/color][/url],由N、P型材料组成一对热电偶, 当热电偶通入直流电流后,因直流电通入的方向不同,将在电偶结点处产生吸热和放热现象,称这种现象为[url=http://baike.baidu.com/view/212653.htm][color=windowtext]珀尔帖效应[/color][/url]。通过改变电流的大小即可控制制冷温度,因此电子制冷器具有容易控温、无机械转动部件、无工作噪声、无制冷剂的腐蚀和污染、可小型化等特点应用在便携式烟气预处理器中。 将电子制冷器的冷端与圆柱形薄壁热交换器的外罩上紧密接触,通过制冷器来降低热交换器外壳的温度至设定值,烟气流经热交换器内时被迅速降温,烟气中的水蒸气冷凝,析出冷凝液存于热交换器内的内壁上,并逐渐从内壁上滑落,通过蠕动泵将冷凝液从排水口排出。烟气在通过热交换器后,去除存于烟气中的水蒸气而达到“除湿”的目的。电子冷凝器除湿后烟气的极限露点约为+2℃-+5℃。1.2应用分析 连接便携式采样探头,通电预热,设定冷却温度并待预处理稳定后,将采样探头放入烟道抽取烟气。烟气通过预处理内的取样泵进行抽取,流经采样探头与伴热管线后进入烟气预处理器进行“除湿”和“除尘”,输出干燥洁净的烟气至分析仪进行污染物的浓度分析。在“超低排放”的实际应用中,脱硫后的烟气露点约为45℃-65℃。烟气经过高温采样探头和高温伴热管线后进入便携式烟气预处理器,但由于伴热管线的后端至冷凝器入口端的管线没有任何的加温或者保温措施,烟气中的水蒸气会在此段管路内出现冷凝,造成SO[sub]2[/sub]组分被冷凝液吸收。其次,“高湿低硫”的烟气在热交换器内进行冷却除湿的过程中,同样会接触热交换器内壁上析出的冷凝液而引起SO[sub]2[/sub]组分的损失。研究发现,SO[sub]2[/sub]组分根据不同条件在电子冷凝器中的丢失率约为3%-10%,并随着烟气含水量的增大而增大;而在相同水分含量的烟气中,SO[sub]2[/sub]组分的丢失率随着SO[sub]2[/sub]浓度的降低而增大。 此外,由于电子冷凝器本身的局限性,制冷的效果将受到外部环境的影响。在室温环境25℃下,电子冷凝器可以处理含水量30%左右的烟气至出口露点约5℃~8℃左右,除湿率约为95%;当环境温度升高至35℃以上后,其制冷效率将直线降低,这将直接影响烟气的“除湿”效率,会将含有水蒸气的烟气送入分析仪,进而造成污染物浓度的偏差。因此,便携式电子冷凝预处理适用的烟气条件为“低湿低硫”或“高湿高硫”的情况下使用。2. 便携式烟气预处理器-Nafion干燥法2.1系统结构烟气Nafion干燥的方法主要运用Nafion管这个核心部件,Nafion管内外的湿度差为驱动力进行水分子迁移,进行气态除湿。2、基本原理 Nafion管的干燥原理完全不同于多微孔膜材料,没有物理意义上的小孔,且不会基于气体分子的大小来迁移气体。相反,Nafion管中气体的迁移是以其对磺酸基的化学亲和力为基础的。由于磺酸基具有很高的亲水性,所以Nafion管壁吸收气态水分子,会从一个磺酸基向另一个磺酸基传递,直到最终到达另外一侧的管壁,而气态水分子则会被干燥的反吹气带走。因此,Nafion管除湿的驱动力是管内外的湿度差,而非压力差或温度差。即使Nafion管内压力低于其周围的压力,Nafion管照样能对气体进行干燥。只要管内外湿度差存在,水分子的迁移就始终进行,因此Nafion的“除湿”过程,没有任何机械传动,无能量耗损,除湿反应快速等特点应用于便携式烟气预处理器中。便携式预处理采用了独特的设计方式,使用两根Nafion管来创建湿度差来进行烟气干燥。空气干燥管则是抽取环境空气进行干燥,将产生的干燥、洁净空气作为烟气干燥管的反吹气持续的对烟气进行干燥,将Nafion管内烟气里的水分子通过管壁迁移至管外,再由反吹气将水分子带走,进而达到“除湿”的目的。Nafion管除湿后烟气的露点突破了电子冷凝器的极限,到达0℃乃至-15℃烟气露点。2.3应用分析便携式Nafion干燥预处理器在“超低排放”的应用中,由于采用的是气态除湿将烟气内的水分子迁移走,需要杜绝烟气中水蒸气的冷凝的发生。便携式预处理器内则设立了一个独立的加温区域,通常设定至70℃-75℃,烟气干燥管的一半位于此区域,防止在水分子的迁移的过程中产生冷凝。在实际使用中,便携式的高温采样探头和高温伴热管线连接至预处理器的烟气入口,通电预热并稳定后,采样探头伸入烟道内抽取烟气。伴热管线的末端管线虽然没有加温或保温,但是连接在便携式烟气预处理的烟气入口上,位于预处理的独立加温区,这样就防止了此段管线内冷凝水的出现,同时减少了SO[sub]2[/sub]组分丢失率。另外,其独特的Nafion干燥技术在样气管路内不会产生冷凝水,再次大大降低了SO[sub]2[/sub]组分的丢失率。研究发现,SO[sub]2[/sub]组分根据不同条件在Nafion干燥管中的丢失率约为1%-2%,而且烟气含水量的变化及SO[sub]2[/sub]浓度的变化对此影响不大。便携式Nafion干燥预处理器可以处理含水量在40%左右烟气至出口露点约-5℃~0℃,除湿率约为98%~99%,并且外部环境温度对此影响较小,尤为适用于“高湿低硫”的烟气监测中。尽管Nafion便携式预处理器的除湿性能要优于冷凝便携式预处理器,但是Nafion材质的特性对其使用还有着些许限制。当Nafion管内附着大量颗粒污染物或油类聚集,将导致除湿性能的急速衰减;虽然Nafion可以快速的迁移水分子,但是对于液态水却无法迅速排出从而造成SO[sub]2[/sub]组分丢失; 使用Nafion预处理器的监测系统的监测结果相对于使用电子冷凝预处理器的监测系统更加的接近于CEMS的测量值。其中,二氧化硫的浓度差异相对于氮氧化物和氧含量来说则更加的明显,原因是电子冷凝预处理器在干燥烟气的过程中析出了大量的冷凝液,造成了二氧化硫组分的丢失,但氮氧化物和氧含量不会因冷凝液的产生而被吸收。

  • 有了解哈希氨氮预处理器的吗

    我厂安装的哈希在线监控设备是安恒代理的,最近氨氮预处理故障了,分析仪无法自动控制水泵取样,手动状态下能够采样,转到自动状态下,也是一直采样,必须关闭重新开启预处理器才能停止。现在买的分析仪已经出了质保,厂家过来维修,费用很高我想问一下,这个应该自己能维修吧

  • 【讨论】等离子体应用相关仪器

    这些是不是算作等离子体还请高手指正!1、等离子体清洗机/刻蚀/灰化/减薄 通过等离子体与固体表面的相互作用,消除固体表面的有机污染物,或者与样品表面的材料反应生成相应的气体,由真空系统排出反应腔,整个过程在样品表面不产生残留物,固体如: 金属、陶瓷、玻璃、硅片等等,同时可以用等离子处理系统对样品表面进行 处理,改善样品表面的特性,如亲水/疏水特性,表面自由能,以及表面的 吸附/粘附特性等等。 2、离子溅射:氩气充入已被低真空泵抽真空的样品室里。多次充入氩气,使不需要的气体排出,特别是水蒸汽。这样,样品室内充满了尽可能多的纯的氩气。然后调节样品室内工作压力为0.05-0.1mbar,这样就可以开始溅射了。 开始溅射时,在靶(阴极)加上高压,在靶和样品台(阳极)之间产生了一个高压区。空间内的自由电子在磁场作用下进入旋转轨道,与空间内的氩原子碰撞。每次碰撞把氩原子外层中的一个电子撞出,使中性的氩原子带正电。这个雪崩效应激发了辉光放电。 带正电的氩离子被阴极吸引撞向阴极靶,撞出阴极靶上的金属原子。释放的金属原子之间以及金属原子与真空室内的其它气体分子之间的碰撞使金属原子四处发散,形成雾状。这样金属原子从各个方向撞击样品表面然后均匀地凝聚在样品表面,在即使是非常多裂缝的样品表面也能覆盖一层均匀的、有足够导电性的金属薄膜。 由于金和银原子表面的高度扩散性,它们容易在样品表面形成岛状,这样,除非金属镀层有10nm厚,否则达不到所需导电性。白金能产生最细腻的镀层。 溅射镀层的细腻程度取决于靶材、工作距离、气体压力和溅射电流以及反应持续时间3、磁控溅射:电子枪发射的电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径很长,在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,远离靶材,最终沉积在基片上。4、等离子切割机:等离子切割是利用高温等离子电弧的热量使工件切口处的金属  等离子切割机标准图片部份局熔化(和蒸发),并借高速等离子的动量排除熔融金属以形成切口的一种加工方法。等离子切割机配合不同的工作气体可以切割各种氧气切割难以切割的金属,尤其是对于有色金属(不锈钢、铝、铜、钛、镍)切割效果更佳;其主要优点在于切割厚度不大的金属的时候,等离子切割速度快,尤其在切割普通碳素钢薄板时,速度可达氧切割法的5~6倍、切割面光洁、热变形小、几乎没有热影响区。

  • 怎么维修哈希氨氮预处理器

    我厂安装的哈希在线监控设备是安恒代理的,最近氨氮预处理故障了,分析仪无法自动控制水泵取样,手动状态下能够采样,转到自动状态下,也是一直采样,必须关闭重新开启预处理器才能停止。现在买的分析仪已经出了质保,厂家过来维修,费用很高我想问一下,这个应该自己能维修吧

  • 求助-生活饮用水水质处理器卫生安全与功能评价规范

    谁有:生活饮用水水质处理器卫生安全与功能评价规范,请发一份给我,或告知链接,谢谢!我的邮箱:xmqhp@163.com1.生活饮用水输配水设备及防护材料卫生安全评价规范.doc 2.生活饮用水化学处理剂卫生安全评价规范.doc 3.生活饮用水一般水质处理器卫生安全与功能评价规范.doc 4.生活饮用水矿化水器卫生安全与功能评价规范.doc 5.生活饮用水反渗透处理装置卫生安全与功能评价规范.doc

  • 微波等离子体高温热处理工艺中真空压力的下游控制技术及其装置

    微波等离子体高温热处理工艺中真空压力的下游控制技术及其装置

    [size=14px][color=#cc0000]  摘要:本文介绍了合肥等离子体所研发的微波等离子高温热处理装置,并针对热处理装置中真空压力精确控制这一关键技术,介绍了上海依阳公司为解决这一关键技术所采用的真空压力下游控制模式及其装置,介绍了引入真空压力控制装置后微波等离子高温热处理过程中的真空压力控制实测结果,实现了等离子体热处理工艺参数的稳定控制,验证了替代进口真空控制装置的有效性。[/color][/size][align=center]~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~[/align][color=#cc0000][b]1. 问题的提出[/b][/color][size=14px]  各种纤维材料做为纤维复合材料的增强体在军用与民用工业领域中发挥着巨大作用,例如碳纤维、陶瓷纤维和玻璃纤维等,而高温热处理是提高这些纤维材料性能的有效手段,通过高温可去除杂质原子,提高主要元素含量,可以得到性能更加优良的纤维材料,因此纤维材料高温热处理的关键是方法与设备。[/size][size=14px]  低温等离子体技术做为一种高温热处理的新型工艺方法,气体在加热或强电磁场作用下电离产生的等离子体可在室温条件下快速达到2000℃以上的高温条件。目前已有研究人员利用高温热等离子体、直流电弧等离子体、射频等离子体等技术对纤维材料进行高温热处理。低温等离子体具有工作气压宽,电子温度高,纯净无污染等优势,且在利用微波等离子体对纤维材料进行高温处理时,可利用某些纤维材料对电磁波吸收以及辐射作用,通过产生的微波等离子体、电磁波以及等离子体产生的光能等多种加热方式,将大量能量作用于纤维材料上,实现快速且有效的高温热处理。同时,通过调节反应条件,可将多种反应处理一次性完成,大大降低生产成本。[/size][size=14px]  中国科学院合肥物质科学研究院等离子体物理研究所对微波等离子体高温热处理工艺进行了大量研究,并取得了突破性进展,在对纤维材料的高温热处理过程中,热处理温度可以在十几秒的时间内从室温快速升高到2000℃以上,研究成果申报了国家发明专利CN110062516A“一种微波等离子体高温热处理丝状材料的装置”,整个热处理装置的原理如图1-1所示。[/size][align=center][size=14px][img=,690,416]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/05/202105202228157595_5464_3384_3.png!w690x416.jpg[/img][/size][/align][align=center][size=14px][color=#cc0000]图1-1 微波等离子体高温热处理丝状材料的装置原理图[/color][/size][/align][size=14px]  等离子体所研制的这套热处理装置,可通过调节微波功率、真空压力等参数来灵活调节温度区间,可在低气压的情况下获得较高温度,但同时也要求这些参数具有灵活的可调节性和控制稳定性,如为了实现达到设定温度以及温度的稳定性,就需要对热处理装置中的真空压力进行精确控制,这是实现等离子工艺平稳运行的关键技术之一。[/size][size=14px]  为了解决这一关键技术,上海依阳实业有限公司采用新开发的下游真空压力控制装置,为合肥等离子体所的高温热处理装置较好的解决了这一技术难题。[/size][size=14px][b][color=#cc0000]2. 真空压力下游控制模式[/color][/b][/size][size=14px]  针对合肥等离子体所的高温热处理装置,真空腔体内的真空压力采用了下游控制模式,此控制模式的结构如图2-1所示。[/size][align=center][color=#cc0000][size=14px][img=,690,334]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/05/202105202229013851_5860_3384_3.png!w690x334.jpg[/img][/size][/color][/align][color=#cc0000][/color][align=center][color=#cc0000]图2-1 下游控制模式示意图[/color][/align][size=14px]  具体到图1-1所示的微波等离子体高温热处理丝状材料的装置,采用了频率为2.45GHz的微波源,包括微波源系统和上、下转换波导,上转换波导连接真空泵,下转换波导连接微波源系统和样品腔,上、下转换波导间设有同轴双层等离子体反应腔管,双层等离子体反应腔管包括有同轴设置的外层铜管和内层石英玻璃管,内层石英玻璃管内为等离子体放电腔,外层铜管与内层石英玻璃管之间为冷却腔,外层铜管的两端设有分别设有冷媒进口和出口以形成循环冷却。真空泵、样品腔分别与等离子体放电腔连通,样品腔设有进气管,工作气体及待处理丝状材料由样品腔进气管进入等离子体放电腔。微波源系统采用磁控管微波源,磁控管微波源包括有微波电源、磁控管、三销钉及短路活塞,微波由微波电源发出经磁控管产生,磁控管与下转换波导之间设置有矩形波导,矩形波导安装有三销钉,下转换波导另一端连接有短路活塞,通过调节三销钉和短路活塞,得到匹配状态和传输良好的微波。[/size][size=14px]  丝状材料由样品腔进入内层石英层玻璃管,从两端固定拉直,安装完毕后真空泵抽真空并由进气管向等离子体放电腔通入工作气体。微波源系统产生的微波能量经三销钉和短路活塞调节,通过下转换波导由TE10模转为TEM模传输进入等离子体放电腔,在放电腔管内表面形成表面波,激发工作气体产生高密度微波等离子体作用于待处理丝状材料,同时等离子体发出的光以及部分泄露的微波也被待处理丝状材料吸收,实现多种手段同时加热。双层等离子体反应腔管外围环绕设有磁场组件,外加磁场可调节微波在等离子体中的传播模式,同时可以使得丝状材料更好的重结晶,提高处理后的丝状材料质量。[/size][size=14px]  装置可以通过调节微波功率、工作气压调节温度,变化范围为1000℃至5000℃间,同时得到不同长度的微波等离子体。为了进行工作气压的调节,在真空泵和上转换波导的真空管路之间增加一个数字调节阀。当设定一定的进气速率后,调节阀用来控制装置的出气速率由此来控制工作腔室内的真空度,采用薄膜电容真空计来高精度测量绝对真空度,而调节阀的开度则采用24位高精度控制器进行PID控制。[/size][size=14px][b][color=#cc0000]3. 下游控制模式的特点[/color][/b][/size][size=14px]  如图2-1所示,下游控制模式是一种控制真空系统内部真空压力的方法,其中抽气速度是可变的,通常由真空泵和腔室之间的控制阀实现。[/size][size=14px]  下游控制模式是维持真空系统下游的压力,增加抽速以增加真空度,减少流量以减少真空度,因此,这称为直接作用,这种控制器配置通常称为标准真空压力调节器。[/size][size=14px]  在真空压力下游模式控制期间,控制阀将以特定的速率限制真空泵抽出气体,同时还与控制器通信。如果从控制器接收到不正确的输出电压(意味着压力不正确),控制阀将调整抽气流量。压力过高,控制阀会增大开度来增加抽速,压力过低,控制阀会减小开度来降低抽速。[/size][size=14px]  下游模式具有以下特点:[/size][size=14px]  (1)下游模式作为目前最常用的控制模式,通常在各种条件下都能很好地工作;[/size][size=14px]  (2)但在下游模式控制过程中,其有效性有时可能会受到“外部”因素的挑战,如入口气体流速的突然变化、等离子体事件的开启或关闭使得温度突变而带来内部真空压力的突变。此外,某些流量和压力的组合会迫使控制阀在等于或超过其预期控制范围的极限的位置上运行。在这种情况下,精确或可重复的压力控制都是不可行的。或者,压力控制可能是可行的,但不是以快速有效的方式,结果造成产品的产量和良率受到影响。[/size][size=14px]  (3)在下游模式中,会在更换气体或等待腔室内气体沉降时引起延迟。[/size][size=14px][b][color=#cc0000]4. 下游控制用真空压力控制装置及其控制效果[/color][/b][/size][size=14px]  下游控制模式用的真空压力控制装置包括数字式控制阀和24位高精度控制器。[/size][size=14px][color=#cc0000]4.1. 数字式控制阀[/color][/size][size=14px]  数字式控制阀为上海依阳公司生产的LCV-DS-M8型数字式调节阀,如图4-1所示,其技术指标如下:[/size][size=14px]  (1)公称通径:快卸:DN10-DN50、活套:DN10-DN200、螺纹:DN10-DN100。[/size][size=14px]  (2)适用范围(Pa):快卸法兰(KF)2×10[sup]?5[/sup]~1.3×10[sup]?-6[/sup]/活套法兰6×10[sup]?5[/sup]~1.3×10[sup]?-6[/sup]。[/size][size=14px]  (3)动作范围:0~90°;动作时间:小于7秒。[/size][size=14px]  (4)阀门漏率(Pa.L/S):≤1.3×10[sup]?-6[/sup]。[/size][size=14px]  (5)适用温度:2℃~90℃。[/size][size=14px]  (6)阀体材质:不锈钢304或316L。[/size][size=14px]  (7)密封件材质:增强聚四氟乙烯。[/size][size=14px]  (8)控制信号:DC 0~10V或4~20mA。[/size][size=14px]  (9)电源供电:DC 9~24V。[/size][size=14px]  (10)阀体可拆卸清洗。[/size][align=center][color=#cc0000][size=14px][img=,315,400]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/05/202105202231249739_6263_3384_3.png!w315x400.jpg[/img][/size][/color][/align][color=#cc0000][/color][align=center][color=#cc0000]图4-1 依阳LCV-DS-M8数字式调节阀[/color][/align][size=14px][color=#cc0000]4.2. 真空压力控制器[/color][/size][size=14px]  真空压力控制器为上海依阳公司生产的EYOUNG2021-VCC型真空压力控制器,如图4-2所示,其技术指标如下:[/size][size=14px]  (1)控制周期:50ms/100ms。[/size][size=14px]  (2)测量精度:0.1%FS(采用24位AD)。[/size][size=14px]  (3)采样速率:20Hz/10Hz。[/size][size=14px]  (4)控制输出:直流0~10V、4-20mA和固态继电器。[/size][size=14px]  (5)控制程序:支持9条控制程序,每条程序可设定24段程序曲线。[/size][size=14px]  (6)PID参数:20组分组PID和分组PID限幅,PID自整定。[/size][size=14px]  (7)标准MODBUS RTU 通讯协议。两线制RS485。[/size][size=14px]  (8)设备供电: 86~260VAC(47~63HZ)/DC24V。[/size][align=center][size=14px][img=,500,500]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/05/202105202232157970_4559_3384_3.jpg!w500x500.jpg[/img][/size][/align][align=center][size=14px][color=#cc0000]图4-2 依阳24位真空压力控制器[/color][/size][/align][size=14px][b][color=#cc0000]5. 控制效果[/color][/b][/size][size=14px]  安装了真空压力控制装置后的微波等离子体高温热处理系统如图5-1所示。[/size][align=center][size=14px][color=#cc0000][img=,690,395]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/05/202105202232573625_5179_3384_3.png!w690x395.jpg[/img][/color][/size][/align][size=14px][/size][align=center][color=#cc0000]图5-1 微波等离子体高温热处理系统[/color][/align][size=14px]  在热处理过程中,先开启真空泵和控制阀对样品腔抽真空,并通惰性气体对样品腔进行清洗,然后按照设定流量充入相应的工作气体,并对样品腔内的真空压力进行恒定控制。真空压力恒定后开启等离子源对样品进行热处理,温度控制在2000℃以上,在整个过程中样品腔内的真空压力始终控制在设定值上。整个过程中的真空压力变化如图5-2所示。[/size][align=center][size=14px][color=#cc0000][img=,690,419]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/05/202105202234216839_5929_3384_3.png!w690x419.jpg[/img][/color][/size][/align][size=14px][/size][align=center][color=#cc0000]图5-2 微波等离子体高温热处理过程中的真空压力变化曲线[/color][/align][size=14px]  为了更好的观察热处理过程中真空压力的变化情况,将图5-2中的温度突变处放大显示,如图5-3所示。[/size][align=center][size=14px][color=#cc0000][img=,690,427]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/05/202105202234347767_4036_3384_3.png!w690x427.jpg[/img][/color][/size][/align][size=14px][/size][align=center][color=#cc0000]图5-3 微波等离子体高温热处理过程中温度突变时的真空压力变化[/color][/align][size=14px]  从图5-3所示结果可以看出,在300Torr真空压力恒定控制过程中,真空压力的波动非常小,约为0.5%,由此可见调节阀和控制器工作的准确性。[/size][size=14px]  另外,在激发等离子体后样品表面温度在几秒钟内快速上升到2000℃以上,温度快速上升使得腔体内的气体也随之产生快速膨胀而带来内部气压的升高,但控制器反应极快,并控制调节阀的开度快速增大,这反而造成控制越有超调,使得腔体内的气压反而略有下降,但在十几秒种的时间内很快又恒定在了300Torr。由此可见,这种下游控制模式可以很好的响应外部因素突变造成的真空压力变化情况。[/size][size=14px]  上述控制曲线的纵坐标为真空计输出的与真空度对应的电压值,为了对真空度变化有更直观的了解,按照真空计规定的转换公式,将上述纵坐标的电压值换算为真空度值(如Torr),纵坐标换算后的真空压力变化曲线如图54所示,图中还示出了真空计电压信号与气压的转换公式。[/size][size=14px]  同样,将图5-4纵坐标放大,如图5-5所示,可以直观的观察到温度突变时的真空压力变化情况。从图5-4中的转换公式可以看出,由于存在指数关系,纵坐标转换后的真空压力波动度为6.7%左右。如果采用线性化的薄膜电容式真空计,即真空计的真空压力测量值与电压信号输出值为线性关系,这种现象将不再存在。[/size][align=center][color=#cc0000][size=14px][img=,690,423]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/05/202105202236297989_3820_3384_3.png!w690x423.jpg[/img][/size][/color][/align][color=#cc0000][/color][align=center][color=#cc0000]图5-4 高温热处理过程中温度突变时的真空压力变化(纵坐标为Torr)[/color][/align][align=center][size=14px][img=,690,421]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/05/202105202236397212_4575_3384_3.png!w690x421.jpg[/img][/size][/align][size=14px][/size][align=center][color=#cc0000]图5-5 高温热处理过程中温度突变时的真空压力变化(纵坐标为Torr)[/color][/align][size=14px][b][color=#cc0000]6. 总结[/color][/b][/size][size=14px]  综上所述,采用了完全国产化的数字式调节阀和高精度控制器,完美验证了真空压力下游控制方式的可靠性和准确性,同时还充分保证了微波等离子体热处理过程中的温度调节、温度稳定性和均温区长度等工艺参数,为微波等离子体热处理工艺的推广应用提供了技术保障。另外,这也是替代真空控制系统进口产品的一次成功尝试。[/size][size=14px]  [/size][size=14px][/size][align=center]=======================================================================[/align][size=14px][/size][size=14px][/size]

  • 【原创】等离子清洗技术

    等离子原理概述:等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下可以以第四中状态存在,如地球大气中电离层中的物质。这类物质所处的状态称为等离子体状态,又称为物质的第四态。等离子体中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;分子解离反应过程中生成的紫外线;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。 等离子清洗/刻蚀技术是等离子体特殊性质的具体应用。等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场,用真空泵实现一定的真空度,随着气体愈来愈稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长,受电场作用,它们发生碰撞而形成等离子体,这些离子的活性很高,其能量足以破坏几乎所有的化学键,在任何暴露的表面引起化学反应。等离子清洗技术在金属行业中的应用:金属表面常常会有油脂、油污等有机物及氧化层,在进行溅射、油漆、粘合、健合、焊接、铜焊和PVD、CVD涂覆前,需要用等离子处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。等离子清洗技术在电子电路及半导体领域的应用:等离子表面处理这门工艺现在正应用于LCD、LED、 IC,PCB,SMT、BGA、引线框架、平板显示器的清洗和蚀刻等领域。等离子清洗过的IC可显著提高焊线邦定强度,减少电路故障的可能性;溢出的树脂、残余的感光阻剂、溶液残渣及其他有机污染物暴露于等离子体区域中,短时间内就能清除。PCB制造商用等离子处理来去除污物和带走钻孔中的绝缘物。对许多产品,不论它们是应用于工业还是电子、航空、健康等行业,其可靠性很大一部分都依赖于两个表面之间的粘合强度。不管表面是金属、陶瓷、聚合物、塑料或是其中的复合物,经过等离子处理以后都能有效地提高粘合力,从而提高最终产品的质量。等离子处理在提高任何材料表面活性的过程中是安全的、环保的、经济的。等离子清洗技术在塑料及橡胶(陶瓷、玻璃)行业中的应用:聚丙烯、PTFE等橡胶塑料材料是没有极性的,这些材料在未经过表面处理的状态下进行的印刷、粘合、涂覆等效果非常差,甚至无法进行。利用等离子技术对这些材料进行表面处理,在高速高能量的等离子体的轰击下,这些材料结构表面得以最大化,同时在材料表面形成一个活性层,这样橡胶、塑料就能够进行印刷、粘合、涂覆等操作。 等离子清洗/刻蚀机处理材料表面时,处理时的工艺气体、气体流量、功率和处理时间直接影响材料表面处理质量,合理选择这些参数将有效提高处理的效果。同时处理时的温度、气体分配、真空度、电极设置、静电保护等因素也影响处理质量。因此,对不同的材料要制定选用不同的工艺参数。等离子表面清洗:金属 陶瓷 塑料 橡胶 玻璃等表面常常会有油脂油污等有机物及氧化层,在进行粘接 绑定 油漆 键合 焊接 铜焊和PVD、CVD涂覆前,需用等离子处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。等离子清洗技术在半导体行业、航空航天技术、精密机械、医疗、塑料、考古、印刷、纳米技术、科研开发、液晶显示屏、电子电路、手机零部件等广泛的行业中有着不可替代的应用

  • ShockMixer-1 脉冲振荡样品前处理器

    ShockMixer-1 脉冲振荡样品前处理器

    https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/04/201304221153_436514_2690_3.jpg不同于拍击式均质器,脉冲震荡样品前处理器采用一种变革性的新技术,用于食品微生物检测时的样品前处理,具有独特的优势。ShockMixer-1 脉冲震荡样品前处理器通过高频率震动内装食品样品的专用胶袋,产生强烈冲击波与高速搅动联合作用,将食品中的微生物驱赶到样品悬液中。经实践显示,对于大部分的食品样品,ShockMixer减轻了对样品的破坏,从而极大地减少了样品碎片的产生。用拍击式均质器处理食品,会产生大量的食品碎片,导致采用某些快速检测新技术检测食源性病原菌时,会产生一些干扰。而ShockMixer-1 脉冲震荡样品前处理器的食品样液澄清度高,可避免以上的缺点,从而与快速检测方法更配套。2007年8月颁布的《ISO7218:2007食品及畜牧微生物检验总则》将ShockMixer-1 脉冲震荡样品前处理器指定为标准的样品前处理方法。产品优点2 《ISO7218:2007食品及畜牧微生物检验总则》指定标准处理方法;2 高效的样品处理方法,微生物的释放效果等同甚至优于其他方法;2 无需打碎样品,不会导致样品处理袋的破裂;2 样品碎片少,样液澄清,易于取样、过滤,节省时间;2 减少食品碎片的产生,最大限度地减少对一些快速检验方法的干扰因素。下面两个曲线表明用ShockMixer-1 脉冲震荡样品前处理器和拍击式均质器处理食品样品时,释放的细菌数量,两者是相当的:https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/04/201304221153_436515_2690_3.jpg

  • 【求助】关于等离子清洗处理时各参数之间的关系

    大家好,我是这里的一名新手,有个问题要在这里跟大家讨教一下,请大家多指导,谢谢!问题如下: 等离子清洗/刻蚀机处理材料表面时,处理时的工艺气体、气体流量、功率和处理时间直接影响材料表面处理质量,合理选择这些参数将有效提高处理的效果。同时处理时的温度、气体分配、真空度、电极设置、静电保护等因素也影响处理质量。因此,对不同的材料要制定选用不同的工艺参数,那这些参数之间的关系如何?实验要怎么安排?请指导!

  • 等离子体抖动

    仪器开机点火,观察等离子体,发现等离子体抖动的厉害,通过检查泵管,清洗雾化器和雾化室等,最后恢复了正常。版友们在测样过程中有遇到等离子体抖动的情况吗?怎么处理的呢?欢迎分享!

  • 【转帖】等离子体应用之--等离子显示器

    等离子显示技术是一种利用气体放电产生射线激发荧光粉发光的显示技术,其工作原理与我们常见的日光灯很相似。这种屏幕采用了等离子腔作为发光元件。大量的等离子腔排列在一起构成屏幕。等离子显示屏的屏体是由相距几百微米的两块玻璃板组成,与空气隔绝,每个等离子腔体内部充有氖氙等惰性气体,密封在两层玻璃之间的等离子腔中的气体会产生紫外光,从而激励平板显示屏上的红绿蓝三基色荧光粉发出可见光。这些像素的明暗和颜色变化组合,产生各种灰度和色彩的图像,而电视彩色图像由各个独立的像素发光综合而成。虽然在通常情况下气体分子是电中性的,但在特殊情况下,气体分子或原子也可以被电离,即原来是电中性的气体分子或原子分离为一个或几个电子和一个带正电的离子。例如等离子电视机随能提供的环境:相当稀薄的气体和足够高的电压。这样的环境可以促使气体中极少的电离产生的电子和正离子产生定向运动,并形成电流。运动的电子和例子和中性气体相碰撞时,可以使中性分子在电离,即所谓碰撞电离。同时,在正离子向阴极运动时,由于以很大的速度撞到阴极上,还可能从阴极表面上打出电子来,这种现象称为二次电子发射。碰撞电离和二次电子发射使气体中在很短的时间内出现了大量的电子和正离子。在外电压作用下这些电子和正离子向相反的方向运动。气体中就有了一定功率的电流通过。 电离生成的电子、正离子一般在短时间内又会再结合,回到中性原子或分子状态。此时,电子、正离子所具有的一部分能量就以电磁波、再结合粒子的动能、或者分子的离解能的形式被消耗。分子离解时往往生成自由基。而一部分电子与中性原子、分子接触,又生成负离子。因此,等离子体是电子,正、负离子,激发态原子、分子以及自由基混杂的状态。 在等离子电视机的显示原理中,最重要的是利用等离子体再结合产生的“电磁波”来轰击荧光粉发光。为了得到合适波长的电磁波往往需要挑选适合的气体分子。等离子电视机采用的氖、氙等混合惰性气体作为工作媒质。这种气体在电离后的再次结合中会产生较强的紫外线。紫外线轰击荧光粉则可以发出可见光线。 等离子显示屏选用不同的荧光粉来产生红绿蓝三种基本色彩的光线。三原色的光线按不同比例混合则可以产生人眼常见的自然界的主要色彩。目前等离子电视机的色彩再现能力能够达到几十亿色,甚至几百亿色。但是这些色彩在根本上是红绿蓝三原色混合呈现。

  • 首个可进行因式分解的量子处理器研制成功

    中国科技网讯 据物理学家组织网8月20日(北京时间)报道,美国加州大学圣巴巴拉分校的研究人员设计和制造了一个量子处理器,可成功地将合数15分解成3和5的乘积。虽然这只是一个最基本的质因数分解运算,但这项突破是研制可进行更复杂因式分解运算的量子计算机道路上的一个里程碑,对于数字加密和网络安全具有重要意义。研究结果提前发表于《自然·物理》杂志网络版。 “15虽是一个小数字,但重要的是,我们已经证明,我们可以在一个固态量子处理器上运行彼得·肖尔提出的质因数分解算法。这是此前从未进行过的。”论文的第一作者埃里克·卢塞罗说。他目前是IBM公司实验性量子计算的博士后研究员,这项研究是他在加州大学圣巴巴拉分校攻读物理学博士时进行的。 卢塞罗是出于实际应用的目的开展这项研究的。他解释说,大数的因式分解是网络安全协议的核心,比如最常见的RSA加密算法,其目前公开的最大密钥包含超过600个十进制数字,如果利用经典计算机和最知名的经典算法,对这个密钥进行因式分解需要花费的时间可能比宇宙的年龄还要长。而数学家彼得·肖尔于1994年构造了大数的质因数分解算法,证明利用量子计算机能够在多项式时间内对大数进行分解,从而从根本上动摇了当代密钥的安全基础。 因此,如果量子计算使得RSA加密不再安全,那用什么来取代它呢?答案是量子密码。卢塞罗说:“量子密码不仅更难以被破译,而且如果有人试图盗取信息,它就会改变系统,使发送方和接收方都能够察觉。”(记者 陈丹) 总编辑圈点 二战期间,英美两国研发计算机的初衷,是破解轴心国的密码。而量子计算机一开始引起科技界的兴趣,也是因为它能不费吹灰之力破解世界上最可靠的密码,这种加密算法已经历三十多年的考验。如果有一天量子计算机投入实用,它会是一根锐利的矛,能刺透最坚固的盾。而更加坚固的盾牌则是正在研发的量子密钥,它也是银行和网站的运营者期望的理论上不可攻破的终极方案。 《科技日报》(2012-08-21 一版)

  • 【资料】-微波等离子体及其应用

    【资料】-微波等离子体及其应用

    关键词: 化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积 微波等离子体CVD法 微波等离子体热处理仪 金刚石薄膜 微波烧结 新材料 纳米催化剂 一、微波等离子体简介等离子体的研究是探索并揭示物质“第四态” ——等离子体状态下的性质特点和运行规律的一门学科。它是包含足够多的正负电荷数目近于相等的带电粒子的非凝聚系统。等离子体的研究主要分为高温等离子体和低温等离子体。高温等离子体中的粒子温度高达上千万以至上亿度,是为了使粒子有足够的能量相碰撞,达到核聚变反应。低温等离子体中的粒子温度也达上千乃至数万度,可使分子 (原子)离解、电离、化合等。可见低温等离子体温度并不低,所谓低温,仅是相对高温等离子体的高温而言。高温等离子体主要应用于能源领域的可控核聚变,低温等离子体则是应用于科学技术和工业的许多领域。高温等离子体的研究已有半个世纪的历程,现正接近聚变点火的目标;而低温等离子体的研究与应用,只是在近年来才显示出强大的生命力,并正处于蓬勃的发展时期。微波等离子体化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积技术原理是利用低温等离子体(非平衡等离子体)作能量源,工件置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电(或另加发热体)使工件升温到预定的温度,然后通入适量的反应气体,气体经一系列化学反应和等离子体反应,在工件表面形成固态薄膜。它包括了化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积的一般技术,又有辉光放电的强化作用。 金刚石膜具有极其优异的物理和化学性质,如高硬度、低磨擦系数、高弹性模量、高热导、高绝缘、宽能隙和载流子的高迁移率以及这些优异性质的组合和良好的化学稳定性等,因此金刚石薄膜在各个工业领域有极其广泛的应用前景。 1. 在药瓶内镀上金刚石薄膜,可以避免药品在瓶内起反应,延长药品的保 全寿命; 2. 可作为计算机硬盘的保护层。目前的计算机硬盘,磁头在不用时要移到硬盘旁边的位置上,如果硬盘包有金刚石薄膜,则磁头可以始终放在硬盘上,这样就提高了效率; 3. 在切割工具上镀上金刚石薄膜,可以使工具在很长时间内保持锋利; 4. 用于制造带有极薄金刚石谐振器的扬声器; 5. 涂于计算机集成电路块,能抗辐射损坏,而一般硅集成块却易受辐射损坏。它能将工作时产生的热迅速散发掉,使集成块能排列得更紧凑些; 6. 用于分析X射线光谱的仪器,透过X射线的性能较别的材料好。 金刚石膜沉积必须要有两个条件: 1. 含碳气源的活化; 2. 在沉积气氛中存在足够数量的原子氢。 由于粒子间的碰撞,产生剧烈的气体电离,使反应气体受到活化。同时发生阴极溅射效应,为沉积薄膜提供了清洁的活性高的表面。因而整个沉积过程与仅有热激活的过程有显著不同。这两方面的作用,在提高涂层结合力,降低沉积温度,加快反应速度诸方面都创造了有利条件。 微波等离子体金刚石膜系统应由微波功率源,大功率波导元件、微波应用器及传感与控制四部分组成。应用器是针对应用试验的类型而设计,其微波功率密度按需要而设定,并按试验需要兼容各种功能,具有较强的专用性质。微波功率源、大功率波导元件及传感和控制三种类型的部件,是通用的部件,可按需要而选定。反应器必须可以抽成真空;且可置于高压。因此微波传输必须和反应器隔离开来。反应器中可以通入其他气体。下面是一个反应器图。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2006/05/200605221201_18795_1613333_3.jpg[/img]半导体生产工艺中已经采用微波等离子体技术,进行刻蚀、溅射、[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积、氧化硅片;还可用于金属、合金、非金属的表面处理;用于等离子体光谱分析,可检测十几种元素。 二、微波等离子体源 目前国内微波离子体源的研究工作,大部分在2450MHZ这个频段上进行,部分还可能采用915MHZ频段。这两个频段均采用连续波磁控管,并做成连续波功率微波源。但实际情况均具有较大的波纹因素,说得确切一些是三相全波整流或单相全波整流的波形被磁控管锐化了波纹状态。家用微波炉的电路结构实际上是可控的单相半波倍压整流电路,其波纹因素更大。 这种工作状态受电网波动的影响,平均功率不断变化,具有很大的不稳定性,造成功率密度的不确定。在微波等离子体金刚石膜制作系统要求很严格的情况下,会造成实验结果重复性不满意。因此需要稳定且纹波系数小的微波源是系统成功关键。 另外,近来微波等离子体的研究首先发现这些问题,电源的不稳定性会造成等离子体参数的变化。但用毫秒级的脉冲调制连续波磁控管,在许多实验中取得了良好的实验效果。理论分析调制通断时间的选定可以获得改善效果。 1. 物料介电损耗的正温度系数锐化了不均匀的加热效果,造成局部点的热失控现象。必要的周期停顿,利用热平衡的过程,可以缓解这些不均匀因素,抑制热失控现象的建立。 2. 避免了微波辅助催化反应过程中若干不需要副反应的累积。周期性的停顿可以避免这些副反应累积增强,停顿就是副反应的衰落,再从新开始,这样就避免了副反应的过度增长。 三、微波等离子体的应用 微波等离子体的应用技术主要用来制造特种性能优良的新材料、研制新的化学物质,加工、改造和精制材料及其表面,具有极其广泛的工业应用——从薄膜沉积、等离子体聚合、微电路制造到焊接、工具硬化、超微粉的合成、等离子体喷涂、等离子体冶金、等离子体化工、微波源等。等离子体技术已开辟的和潜在的应用领域包括:半导体集成电路及其他微电子设备的制造;工具、模具及工程金属的硬化;药品的生物相溶性,包装材料的制备;表面上防蚀及其他薄层的沉积;特殊陶瓷(包括超导材料);新的化学物质及材料的制造;金属的提炼;聚合物薄膜的印刷和制备;有害废物的处理;焊接;磁记录材料和光学波导材料;精细加工;照明及显示;电子电路及等离子体二极管开关;等离子体化工(氢等离子体裂解煤制乙炔、等离子体煤气化、等离子体裂解重烃、等离子体制炭黑、等离子体制电石等)。 微波等离子体化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积制备纳米催化剂的研究等。 微波等离子体的应用前景广阔。来源于汇研微波

  • 供电线路要符合电感耦合等离子体光谱仪的要求

    为了保证电感耦合等离子体光谱仪的安全运行,供电线路必须要有足够大的容量,否则仪器运行时线路的电压降过大,影响仪器寿命。作为一台精密测量仪器,它还需要有相对稳定的电源,供电电压的变化一般不超过+百分之5,如超过这个范围,需要使用自动调压器或磁饱和稳压器,不能使用电子稳压器,由于电子稳压器在电压高时产生削波,造成电脉冲,影响电子计算机、微处理器及相敏放大器的工作,引起误动作。连续正弦波电源才能保证这些电子电路的正常工作,仪器供电线路最好单独从供电变压器的配电盘上得到,尽量不与大电机,大的通风机,空调机,马弗炉等大的用电设备共用一条供电线路,以免在这些用电设备起动时,供电线路的电压大幅度的波动,造成仪器工作不稳定。允许电流大于30安培的仪器要单独接地。一般光谱仪地线电阻要小于5欧姆,计算机地线电阻要小于0.25欧姆(ASTM)标准,以防相互干扰。  在仪器的使用中,应经常注意电源的变化,不能长期在过压或欠压下工作,根据资料介绍,当仪器在过压下工作会造成高颇发生器功率大管灯丝过度的蒸发和老化,电子管的寿命将会大大的缩短(是正常寿命的五分之~一六分之一)。如果在欠压下工作,电子管灯丝温度过低,电子发射不好,也容易造成电子发射材料过早老化,同样也缩短电子管的寿命 仪器运行中供电电压的较大波动同样也会造成高频发生器输出功率的不稳定,对测定结果的好坏影响极大,因此,应当注意供电电源的质量。

  • 【资料】等离子清洗机(Plasma Cleaner)常见三种用途

    Harrick等离子清洗机(Plasma Cleaner)常见三种用途 一、金属表面去油污并清洗  金属表面常常会有油脂、油污等有机物及氧化层,在进行溅射、油漆、粘合、键合、焊接、铜焊和PVD、CVD涂覆前,需要用等离子处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。在这种情况下的等离子处理会产生以下效果:1.1灰化表面有机层  -表面会受到物理轰击和化学处理(氧 下图)   -在真空和瞬时高温状态下,污染物部分蒸发  -污染物在高能量离子的冲击下被击碎并被真空泵抽出  -紫外辐射破坏污染物  因为等离子处理每秒只能穿透几个纳米的厚度,所以污染层不能太厚。指纹也适用。1.2氧化物去除  金属氧化物会与处理气体发生化学反应(下图)   这种处理要采用氢气或者氢气与氩气的混合气体。有时也采用两步处理工艺。第一步先用氧气氧化表面,第二步用氢气和氩气的混合气体去除氧化层。也可以同时用几种气体进行处理。1.3焊接  通常,印刷线路板(PCB)在焊接前要用化学助焊剂处理。在焊接完成后这些化学物质必须采用等离子方法去除,否则会带来腐蚀等问题。1.4键合  好的键合常常被电镀、粘合、焊接操作时的残留物削弱,这些残留物能够通过等离子方法有选择地去除。同时氧化层对键合的质量也是有害的,也需要进行等离子清洗。二、等离子刻蚀物的处理  在等离子刻蚀过程中,通过处理气体的作用,被刻蚀物会变成[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url](例如在使用氟气对硅刻蚀时,下图)。处理气体和基体物质被真空泵抽出,表面连续被新鲜的处理气体覆盖。不希望被刻蚀部分要使用材料覆盖起来(例如半导体行业用铬做覆盖材料)。  等离子方法也用于刻蚀塑料表面,通过氧气可以灰化填充混合物,同时得到分布分析情况。刻蚀方法在塑料印刷和粘合时作为预处理手段是十分重要的,如POM 、PPS和PTFE。等离子处理可以大大地增加粘合润湿面积提高粘合强度。三、刻蚀和灰化处理聚四氟(PTFE)刻蚀  聚四氟(PTFE)在未做处理的情况下不能印刷或粘合。众所周知,使用活跃的钠碱性金属可以增强粘合能力,但是这种方法不容易掌握,同时溶液是有毒的。使用等离子方法不仅仅保护环境,还能达到更好效果。(下图)     等离子结构可以使表面最大化,同时在表面形成一个活性层,这样塑料就能够进行粘合、印刷操作。     聚四氟(PTFE)混合物的刻蚀  PTFE混合物的刻蚀必须十分仔细地进行,以免填充物被过度暴露,从而削弱粘合力。       处理气体可以是氧气、氢气和氩气。可以应用于PE、PTFE、TPE、POM、ABS和PP等。四、塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和清洗  塑料、玻璃、陶瓷与聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚四氟(PTFE)等等一样是没有极性的,因此这些材料在印刷、粘合、涂覆前要进行处理。同时,玻璃和陶瓷表面的轻微金属污染也可以用等离子方法清洗。等离子处理与灼烧处理相比不会损害样品。同时还可以十分均匀地处理整个表面,不会产生有毒烟气,中空和带缝隙的样品也可以处理。   不需要用化学溶剂进行预处理   所有的塑料都能应用   具有环保意义   占用很小工作空间   成本低廉  等离子表面处理的效果可以简单地用滴水来验证,处理过的样品表面完全被水润湿。长时间的等离子处理(大于15分钟),材料表面不但被活化还会被刻蚀,刻蚀表面具有极小的表面接触角和最大润湿能力。五、等离子涂镀聚合      在涂镀中两种气体同时进入反应舱,气体在等离子环境下会聚合。这种应用比活化和清洗的要求要严格一些。典型的应用是保护层的形成,应用于燃料容器、防刮表面、类似聚四氟(PTFE)材质的涂镀、防水镀层等。涂镀层非常薄,通常为几个微米,此时表面的疏水性非常好。常用的有3种情况   防水涂镀—环己物   类似PTFE材质的涂镀---含氟处理气体   亲水涂镀---乙烯醋酸 MYCRO(迈可诺)供稿

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