高纯试剂

基准试剂纯度高还是分析纯试剂纯度高！

上周去参加了一个化学试剂会议，会议以高纯试剂为主题，各位专家、厂商高层就高纯试剂的国内发展现状、技术现状、发展中存在的问题等等发表了看法，并做了讨论，如国内高纯试剂市场被进口高纯试剂基本垄断、高纯试剂的提纯工艺、高纯试剂发展过程中制约其发展的包装材料的溶出等等问题。参加了这次会议，真是有些感叹，中国高纯试剂发展的路究竟在何方，如何去发展，企业如何去运作，面对已经高份额占据进口高纯试剂，国内企业又该如何！

对于试剂的分来，常规也就化学纯、分析纯和优级纯。而现在很多文献上也有了色谱纯和农残级，具体晕晕的搞不很清是如何界定的？我的理解色谱纯和农残级都属于优级纯，不知道这样理解对不对？迪马的高纯试剂是指色谱纯吗？希望给位版友讨论一下这个问题

高纯试剂哪家好

“试剂”，你并不陌生，“高纯试剂”你了解多少？？？中国的经济增长带动科学仪器的飞速发展，必然带动了消耗品市场，直接提速高纯试剂市场发展，很多人都将之视为“美味大蛋糕”，意欲分杯羹。进口品牌如西格玛、飞世尔、默克、天地、霍尼韦尔、杰帝贝克等等都在不断的采取措施，宣传自己的产品。国产品牌如安徽时联、上海星可等，也不断的努力去经营。但纵观高纯试剂市场，无论理由是什么，目前看来，进口品牌主导中国是毫无疑问的。国产高纯试剂“路迢迢兮，其漫长”？？？？？到底未来的中国高纯试剂市场会由谁来占领？国产高纯试剂厂商将如何应对中国高纯试剂市场现状？----------------------有感于天地试剂新工厂的建立！——————————————————相关话题————————————————————天地试剂“选择中国、移植技术、放眼世界”——访美国天地试剂公司全球销售与市场总监Chris Dendy先生http://www.instrument.com.cn/news/20111216/071993.shtml

本公司长期供应高纯（色谱纯）试剂，卡尔费休试剂，型号全，价格优。有自己的生产基地。产品质量有保证！

热！热！热！高纯试剂真热，化学试剂会以高纯试剂为主题，BCEIA上天地试剂召开中国工厂新闻发布会，高纯试剂热度增加了吗？高纯试剂离你远吗？高纯试剂你用到了吗？你知道中国实验室都在用那些种类高纯试剂？你知道中国实验室都在用那些品牌的高纯试剂？你知道高纯试剂在试验都是用在哪里了？谈一谈，聊一聊，这个话题你值得拥有！回帖方式：高纯试剂品牌：高纯试剂使用量：高纯试剂的用途：

石墨炉分析中基体改进剂是使用高纯试剂还是优级纯？高纯试剂规格为4N(SP)是什么意思？

高纯试剂选择哪个厂家

国产高纯试剂怎么样

各位好： 有木有用瑞典欧森巴克高纯试剂的，效果如何，价钱怎样？请发表意见。

资料：超净高纯试剂是国家科技部重点支持的领域之一，目前国内芯片行业使用的超净高纯试剂全部依赖进口，急需国产化。 采用电解法制备超净高纯试剂：四甲基氢氧化铵，四乙基氢氧化铵，胆碱和苄基三甲基氢氧化铵。这类产品属于有机强碱，腐蚀性极强，。利用电解法使用原料少，不引入其他杂质的特点制备这类产品是方便的，可行的。在电子行业中广泛用作硅晶片蚀刻剂、清洗剂，IC（集成电路）、ULSI（超大规模集成电路）及TFT-LCD（薄膜晶体管液晶显示器件）正胶显影剂。仅四甲基氢氧化铵全球每年用量大约为5万吨。提高超净高纯试剂制备技术，提升我国电子行业的制造水平，加快芯片等电子产品的研发速度，降低电子产品的生产成本，提高国际竞争力。试剂特别是一些高纯、基准、标准试剂，国产的份额很小，大家如何看待这个问题，对高纯试剂如何国产化有何建议。

比如高纯金属和重金属标液。用高纯金属配制的重金属储备液，和标准溶液做原子吸收实验，用标准样品检查两者的准确度没有区别。感觉两者唯一的差别只是有证和没证的区别。是否有现成的规定，对这两种物质的关系进行解释规定？或者要实验室自行规定，把高纯试剂配置的溶液经过标准物质核查，视为已经达到量值溯源，可作为工作标准用。以后自配标液按照已开瓶的标准物质管理，即定期进行期间核查确定其有效期即可。

湿电子化学品制备的关键在于控制并达到所要求的杂质含量和颗粒度。 以半导体领域为例，根据现行通用的 SEMI 标准,根据[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/3p][color=#3333ff] IC [/color][/url]线宽不同，所需超 级高纯试剂可分为 G1-G5 5 个等级，其中 G5 等级要求金属杂质含量达到 10ppt 等级。大家有使用超纯试剂吗？欢迎讨论[img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/09/202209041226042044_5635_2140715_3.png[/img]

高纯试剂一系列参数，也没有一个考查标准，我该如何验收？

CAS:77546-39-5 CAS:481-30-1 这两个标准品或者高纯试剂有人知道哪里有么？最好国内有货的因为进口受限制。要开特殊证明。先感谢大家

超净高纯电子化学试剂———异丙醇制备方法 梁 凯 （黑龙江省化工研究院,黑龙江 哈尔滨 150078） 摘 要：本文介绍了用含量98%的工业级异丙醇经过金属离子络合剂处理、脱水处理、微滤膜过滤、多级精馏、钠滤膜过滤制备超净高纯电子化学试剂———异丙醇的制备方法。该方法制备的超净高纯异丙醇符合半导体技术的芯片及硅园片的清洗和刻蚀的要求。 关键词:超净高纯异丙醇；金属离子络合剂；多级精馏；纳滤膜过滤 中图分类号：TQ224.23 文献标识码：A 文章编号：1002-1124（2011）07-0063-02 随着半导体技术的迅速发展，对超净高纯试剂的要求越来越高。在集成电路（IC）的加工过程中，超净高纯试剂主要用于芯片及硅园片表面的清洗和刻蚀，其纯度和清洁度对集成电路的成品率、电性能及可靠性有着十分重大的影响。超净高纯异丙醇作为一种重要的微电子化学品已经广泛用于半导体、大规模集成电路加工过程中的清洗、干燥等方面。随着 IC的加工尺寸已经进入亚微米、深亚微米时代，对与之配套的超净高纯异丙醇提出了更高的要求，要求颗粒和杂质含量降低 1～3 个数量级，达到国际半导体设备和材料组织制定的SEMI- C12标准，其中金属阳离子含量小于 0.1×10- 9，颗粒大小控制在 0.5μm以下。 目前，超净高纯异丙醇通常是以工业级异丙醇为原料纯化精致而成。精馏是工业化提纯异丙醇的主要方法，包括共沸精馏、萃取精馏等。但是用于微电子化学品工业的超净高纯异丙醇对其中金属杂质，颗粒大小含量和阴离子的要求十分苛刻，精馏工艺已经无法满足要求。 现有文献公布的超净高纯异丙醇的制备方法，以工业异丙醇为原料，以碳酸盐调节 pH 值，加入脱水剂，进行回流反应，经精馏、蒸馏、膜过滤，得到符合国际半导体设备和材料组织制定的SEMI- C12标准的超纯异丙醇。这一公开报道的制备方法无法稳定控制产品质量，特别是产品中金属离子含量以及颗粒杂质大小。

为何国内就没高纯的酸试剂卖呢？现在高纯试剂PPT级别的都是进口购进的，这样存在很多问题:一供货期长，二、价格贵，三、厂家少，往往需求方处于被动。四、如果出现产品不合格，处理比较费事。所以希望版内人士能提供国内的或者能半个月内供上货的厂家信息。希望能长期合作的。谢谢！酸试剂的等级在100ppt、10ppt。如果有代理商或厂家请附上单价和供货期，可站内短信联系！

如题，，，实在找不到壬二酸二甲酯的标准品了，只找到了它的高纯试剂,纯度是98%。试问能用它定量吗？？

一家公司说：“我公司专注于化学试剂” 另外一家公司说：“我公司专注于高纯溶剂” ，两种有没有很大的区别？做那种更赚钱？

求助GB 2090-1980 化学试剂 高纯氨水标准

有谁知道光谱试剂规格中，如HEROCHEM高纯试剂－金属序号 产品名称 规格 包装规格 CAS号 钯粉 4N 1g 中4N是什么意思？多谢了！

超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术1 微电子技术的发展微电子技术主要是指用于半导体器件和集成电路(IC)微细加工制作的一系列蚀刻和处理技术,其中集成电路,特别是大规模及超大规模集成电路的微细加工技术又是微电子技术的核心,是电子信息产业最关键、最为重要的基础。微电子技术发展的主要途径之一是通过不断缩小器件的特征尺寸,增加芯片的面积,以提高集成度和速度。自20世纪70年代后期至今,集成电路芯片的发展基本上遵循GordonEM预言的摩尔定律,即每隔1.5年集成度增加1倍,芯片的特征尺寸每3年缩小2倍,芯片面积增加约1.5倍,芯片中晶体管数增加约4倍,也就是说大体上每3年就有一代新的IC产品问世。在国际上,1958年美国首先研制成功集成电路开始,尤其是20世纪70年代以来,集成电路微细加工技术进入快速发展的时期,这期间相继推出了4、16、256K 1、4、16、256M 1、1.3、1.4G的动态存贮器。进入20世纪90年代后期,IC的发展更迅速,竞争更激烈。美国的Intel公司、AMD公司和日本的NEC公司这3个IC生产厂家的竞争尤为激烈,1999年Intel公司、AMD公司均实现了0.25Lm技术的生产化,紧接着Intel公司在1999年底又实现了0.18Lm技术的生产化,AMD公司也在紧追不舍。到2001年上半年,Intel公司实现了0.13Lm技术的生产化,而到2001年的2季度末,日本的NEC公司宣布突破了0.1Lm工艺技术的难关,率先成功研发出0.095Lm的半导体工艺技术,现已开始接受全球各地厂商的订货,并将于2001年的11月开始批量生产。因此,专家们认为世界半导体工艺技术的发展将会加速,半导体制造厂商将会以更先进的技术加快升级换代以适应新的市场要求。我国集成电路的研制开发始于1965年,与日本同时起步,比韩国早10年。现在我国已经有了从双极(5Lm)到CMOS、从2~3Lm到0.8~1.2Lm及0.35~0.5Lm工艺技术,并形成了规模生产,0.25Lm工艺技术生产线目前正在北京和上海同时建设,预计到2002年即可投产。“十五”期间及到2010年北京建设的北方微电子基地将建成20条0.35、0.25和0.18Lm工艺技术生产线,上海在浦东将建成大约40条0.35、0.25及0.18Lm工艺技术生产线,深圳也将建设多条超超大规模集成电路生产线。随着芯片制造技术向亚微米发展,出现了产品“多代同堂”的局面,以满足不同用途的需要。可说在生产技术方面我国几乎已经与国际先进水平同步,但在研发方面,我国与国际先进水平还有较大的差距。2 超净高纯试剂的现状超净高纯试剂(国际上称为ProcessChemi-cals)是超大规模集成电路制作过程中的关键性基础化工材料之一,主要用于芯片的清洗和腐蚀,它的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。超净高纯试剂具有品种多、用量大、技术要求高、贮存有效期短和强腐蚀性等特点。随着IC存储容量的逐渐增大,存储器电池的蓄电量需要尽可能的增大,因此氧化膜变得更薄,而超净高纯试剂中的碱金属杂质(Na、Ca等)会溶进氧化膜中,从而导致耐绝缘电压下降 若重金属杂质(Cu、Fe、Cr、Ag等)附着在硅晶片的表面上,会使P-N结耐电压降低。杂质分子或离子的附着又是造成腐蚀或漏电等化学故障的主要原因。因此,随着微电子技术的飞速发展,对超净高纯试剂的要求也越来越高,不同级别超净高纯剂中的金属杂质和颗粒的含量要求各不相同,而配套于不同线宽的IC工艺技术。超净高纯试与IC发展的关系见表1。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2006/08/200608011544_22431_1634962_3.gif[/img]国外20世纪60年代便开始生产电子工业用试剂,并为微细加工技术的发展而不断开发新的产品。到目前为止,在国际上以德国E.Merck公司的产量及所占市场份额为最大,其次为美国Ashland、Olin公司及日本的关东株式会社,另外还有美国的MallinckradtBaker公司、英国的B.D.H.公司、前全苏化学试剂和高纯物质研究所、三菱瓦斯化学、伊期曼化学公司、AlliedSig-nal公司、Chemtech公司、PVS化学品公司、日本化学工业公司及德山公司等。近年来,新加坡、台湾地区也相继建立了5000~10000t级的超净高纯试剂生产基地。由于世界超净高纯试剂市场的不断扩大,从事超净高纯试剂研究与生产的厂家及机构也在增多,生产规模不断扩大,但各生产厂家所生产的超净高纯试剂的标准各不相同。为了能够规范世界超净高纯试剂的标准,国际半导体设备与材料组织(SEMI)于1975年成立了SEMI化学试剂标准委员会,专门制定超净高纯试剂的国际标准。目前国际SEMI标准化组织将超净高纯试剂按应用范围分为4个等级:(1)SEMI-C1标准(适用于1.2Lm IC工艺技术的制作) (2)SEMI-C7标准(适用0.8~1.2Lm IC工艺技术的制作) (3)SEMI-C8标准(适用于0.2~0.6Lm IC工艺技术的制作) (4)SEMI-C12标准(适用于0.09~0.2Lm IC工艺技术的制作)。我国超净高纯试剂的研制起步于20世纪70年代中期,1980年由北京化学试剂研究所(以下简称试剂所)在国内率先研制成功适合中小规模集成电路5Lm技术用的22种MOS级试剂。随着集成电路集成度的不断提高,对超净高纯试剂中的可溶性杂质和固体颗粒的控制越来越严,同时对生产环境、包装方式及包装材质等提出了更高的要求。为了满足我国集成电路发展的需求,国家自“六五”开始至“八五”,将超净高纯试剂的研究开发列入了重点科技攻关计划,并由试剂所承担攻关任务。到目前为止,试剂所已相继推出了BV-Ⅰ级、BV-Ⅱ级和BV-Ⅲ级超净高纯试剂,其中BV-Ⅲ级超净高纯试剂达到国际SEMI-C7标准的水平,适用于0.8~1.2Lm工艺技术(1~4M)的加工制作,并在“九五”末期形成了500t年的中试规模。目前试剂所正在进行用于0.2~0.6Lm工艺技术的BV-Ⅳ级超净高纯试剂的研究开发。

想请教一下各位:如何测定高纯试剂中的杂质元素含量?如99.99%的碳酸钠和硼砂,Mos级的HCl,HNO3,H2SO4,HF等等.多谢指教!

rt，我对国内外化学试剂公司不熟悉，想购买一些无机高纯试剂，麻烦大家推荐一下国内外的化学试剂大公司，质量有保证，价格合理的。谢谢了。

DikmaPure 色谱级及农残级高纯试剂是迪马的主打产品，目前已经有多少个品种

ppt级别的超纯水或高纯试剂，、为减少前处理引入的污染，一般是用标准加入法直接进样，那么此时的仪器空白如何处理？若要扣，如何通过测试扣除？

情大家指教：测试高纯化学试剂（氨水，盐酸，双氧水）中的金属，化学试剂的浓度稀释到百分之多少比较合适？原浓度为30%--50%, 有人说测试氨水的稀释倍数是5倍，盐酸的稀释倍数是10倍，双氧水不稀释。请大家指教啊？

请问工作基准试剂和优级纯试剂哪个纯度高！