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原子层沉积系统

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原子层沉积系统相关的方案

  • 原子层沉积（ALD）在半导体先进制程的应用
    原子层沉积（ALD）是一种可以将物质以单原子膜的形式，一层一层镀在基底表面的先进沉积技术。一个ALD循环包括两个先后进行的半反应。在一定的真空环境下，前驱体和共反应物交替地通入反应腔体，饱和吸附并在衬底表面发生化学反应形成单原子层。每个半反应间通入惰性气体进行清洗，确保完全除去过量的反应物和生成的小分子副产物。理论上，经过一个循环工艺，基底表面便镀上了一层单原子膜。通过增加循环次数，原子层将依次沉积在表面上，形成薄膜。
  • 原子层沉积技术——精准、逐层“3D打印”催化剂！
    原子层沉积技术(ALD)，亦称原子层外延技术(ALE)，是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术。由于ALD沉积的绝大多数金属和氧化物材料本身就是某些反应中的催化剂，因此ALD在催化领域的应用也很早就引起了人们的关注。此外，作为一种自下而上的新方法，ALD独有的三维共形性、高均匀性、原子级精准控制和低生长温度等特点，如同“3D”打印一般实现了高均一性催化剂的精细可控合成。
  • 等离子增强原子层沉积系统沉积高均匀性和高保型性介电薄膜
    ★超薄，纳米尺度介电薄膜与金属／金属性薄膜是MEMS/NEMS器件、其它IC部件，传感器，光学器件或催化剂关键部件★IC业中的高精度30器件， 如高深宽比沟槽与穿透性硅通孔， ALO工艺是唯可以在这些器件上实现高保形，平整，无缺陷，无针孔的薄膜材料。★可规模化生产的ALO工艺， 几种金属／金属性材料与介电材料： Pt, Ir, Ru, Cu, Ag, Au, TiN, AIN, TiAIN, ln203与Al203.★沉积工艺可选：传统热ALO或者等离子增强ALD。
  • 粉末工程的革命—粉末型原子层沉积（PALD）设备选型
    原子层沉积技术（ALD）是一种自限制性的化学气相沉积手段，通过将目标反应拆解为若干个半反应，实现表面涂层的原子层级厚度控制。利用该技术制备的涂层具有：共形，无针孔，均匀的特点，对于复杂的表面界面以及高纵深比样品有较好的沉积效果。
  • 原子层沉积 ALD 在纳米材料方面的应用
    在微纳集成器件进一步微型化和集成化的发展趋势下，现有器件特征尺寸已缩小至深亚微米和纳米量级，以突破常规尺寸的极限实现超微型化和高功能密度化，成为近些年来的热点研究领域。微纳结构器件不仅对功能薄膜本身的厚度和质量要求严格，而且对功能薄膜/基底之间的界面质量也十分敏感，尤其是随着复杂高深宽比和多孔纳米结构在微纳器件中的应用，传统的薄膜制备工艺越来越难以满足其发展需求。ALD 技术沉积参数高度可控，可在各种尺寸的复杂三维微纳结构基底上，实现原子级精度的薄膜形成和生长，可制备出高均匀性、高精度、高保形的纳米级薄膜。
  • 原子层沉积在微电子方面的应用
    自摩尔定律问世以来，微电子器件的特征尺寸一直在不断缩小，以提高集成电路的集成度和性能。由于短沟道效应的限制，鳍式场效应晶体管和环栅场效应晶体管等非平面型器件已逐渐被半导体行业所采用。为了满足制造具有这些复杂结构的芯片的要求，ALD因其可以在三维结构上生长高度均匀的保形薄膜的特点，已被广泛用于集成电路先进制程中的关键步骤。ALD技术在很大程度上依赖于所涉及的表面化学，它可以显著影响沉积膜的特性，如膜厚、形貌、组分和保形性。此外，ALD前驱体对薄膜沉积也起着至关重要的作用。ALD前驱体通常为金属有机化合物，前驱体的挥发性、热稳定性和自限制反应性会显著影响薄膜的ALD生长行为。因此，全面了解ALD的表面化学机制和前驱体化学结构设计是进一步开发和利用ALD技术的关键。在本文中，作者等人对原子层沉积的最新进展进行了详细介绍。
  • 且谈石墨负极沥青包覆的替代技术 —— 原子层沉积
    Forge Nano 以其专有的原子层沉积技术实现基底表面可控的涂层材料原位生长。而如何对大规模的粉末材料进行 ALD 包覆，则是行业内的难题。Forge Nano 通过多年的技术积累，是目前掌握解决方案的企业。
  • 利用原子层沉积ALD制备全固态电池界面层材料
    全固态电池由于其具有高能量密度和高安全性能，被认为是具有潜力的下一代电池体系。然而，全固态电池仍有许多挑战亟待解决。其中界面问题（包括界面不匹配、界面副反应和界面空间电荷效应）是影响全固态电池性能的主要因素之一。有效地解决界面问题是攻克全固态电池难关的重中之重。界面修饰及改性是被广泛报道改善界面问题的重要途径。其中，制备界面层材料的技术及界面层材料的性质将是界面层稳定性的决定因素。ALD/MLD技术有望在固态电池界面修饰及改性上扮演重要的角色，包括界面改性材料的制备(图4A)，固态电解质的制备(图4B)，ALD界面材料用于阻隔电与固态电解质副反应(图4C)，改善固态电解质与金属锂的润湿性(图4D)，保护金属负(图4E)以及薄膜/三维固态电池的制备(图4F)等。ALD/MLD有望解决全固态电池的界面问题，满足人们对于高安全性以及高能量密度电池的需求，成为下一代电池的有力竞争者。孙教授团队对近几年ALD/MLD技术在固态电池中的应用作以归纳、总结与分析,并对ALD/MLD在固态电池中的应用作以展望相关工作发表在2018年的Joule上(DOI: 10.1016/j.joule.2018.11.012)。
  • 利用原子层沉积ALD技术制备新型锂离子电池正材料
    传统液态锂电池正材料晶石型LiNi0.5Mn1.5O4 (LNMO)，在电池循环过程中其表面和近表面会发生许多副反应以及不可逆的相变，大的影响电池的循环容量和稳定性。为了解决这一问题，孙学良院士课题组使用美国Arradiance公司生产的型号为GemStar-8 的台式ALD沉积系统，设计了新型多位点Ti掺杂的锂离子电池正材料，将无定形TiO2包覆在晶石型LNMO表面并热处理，实现了Ti元素在晶石结构表面和内部的多位点掺杂，其中表面的Ti部分进入晶石结构四面体配位的位点，其余的Ti替代八面体配位的过渡金属，这种多位点掺杂效应对材料的电化学性能起到了决定性的作用，相比于原始的LNMO，掺杂后的材料表现出了更低的表面阻抗，这是由于四面体配位的Ti能够减缓过渡金属迁移到八面体空位上，保证了锂离子的快速传导。相关工作发表在2017年的Advanced Materials上 (DOl: 10.1002/adma.201703764)。
  • 原子层沉积 ALD 在太阳能电池方面的应用
    应用于光伏太阳能电池的材料可分为硅基材料（单晶，多晶，非晶），CdTe, CuInGaSe和CuInGaS。太阳能电池类型可以分为4大类：a第一代硅基太阳能电池（单晶，多晶）；b第二代薄膜太阳能电池(a-Si，CeTe，CIGS)；c第三代太阳能电池包含量子点太阳能电池，聚合物太阳能电池，染料敏化太阳能电池以及聚光型太阳能电池；d钙钛矿结构太阳能电池。ALD 镀层可以作为表面钝化层，缓冲池，窗户层，吸收层，电子/空穴接触或者透明导电氧化物。
  • 利用原子层沉积系统ALD沉积不同薄膜材料获得周期有序微格结构
    通过高分子网状模板沉积不同薄膜材料（Au, Cu, Ni, SiO2, poly(C8H4F4)）获得周期有序微格结构，其密度在0.5 mg/cm3 to 500 mg/cm3之间。以压力法测得杨氏模量和强度，并且进行了密度定标。在低相对密度的情况下，观察到与微格材料无关的５０％或更高的压力应变恢复。一个分析模型的预测了在可恢复性“伪超弹性”与不可恢复塑性形变之间的转换关系，并适合所有研究材料。此次研究的材料在储能应用，可展开结构，声，冲击，振动阻尼研究方面有着很高的关注度。
  • 粉末原子层沉积的应用
    粉末技术经过多年的发展，已经形成多样化的制备及加工技术。其中，表面包覆技术作为提升粉末物理化学性能的重要手段，长期以来一直缺乏有效的精密手段。与传统的表面改性不同，粉末原子层沉积技术PALD 是真正可以实现原子级/分子层级控制精度的粉末涂层技术，并保持良好的共形性。
  • 粉末原子层沉积(PALD)技术与吸入式疫苗开发
    有效的包衣涂层可以防止疫苗的活性成分受到环境因素影响，同时实现缓释功能，延长疫苗 的有效时间。制备涂层的方法有很多，但粉末原子层沉积技术(简称 PALD)作为一种精准 可控的纳米包覆技术，近年来被广泛用于新能源，催化，金属粉末的界面改性应用中，但鲜 有应用于药物粉末的研究。
  • 一文了解粉末专用的原子层沉积方案（粉末包覆、材料改性））
    Forge Nano 利用粉末 / 颗粒原子层沉积（PALD）技术在粉末表面构筑涂层，所制备的涂层具有：共形，无针孔，均匀的特点。使用 PALD 方法可以制备金属单质，金属氧化物，氮化物，硫化物，磷酸盐，多元化合物以及有机聚合物等涂层。
  • 原子层沉积ALD在催化领域的应用
    催化剂是一种有效改变反应物反应速率而不改变化学平衡，且本身的质量和化学性质在化学反应前后都没有发生改变的物质。因其能加速或减缓反应，及高度选择性等特点，在化工、生化、能源、环保等领域得广泛应用。然而，由于催化剂尺寸、位置、组成及微环境难以控制，导致制备条件较为苛刻，且在实际使用过程中，催化剂因长期受热、过酸、过碱、化学反应而发生一些不可逆的物理、化学变化，最终导致失活，严重限制了催化剂的推广应用。为此，有必要进一步研发高效、稳定型催化剂，而原子级精确合成是设计先进高性能催化剂的关键。
  • 粉末 ALD 包覆技术为电池穿上铠甲
    随着新能源技术的不断发展，电池已经成为必不可少的工具，在消费电子和日常出行中都得到了广泛的应用。而在电池的使用中，循环使用寿命，能量密度以及安全性是决定其性能的关键指标。这是因为电池在运行过程中，会因为嵌锂，金属溶解，开裂，枝晶生长，放气等问题导致电池性能下降，而在目前的技术方案中，电池电极材料的工艺改善是提升电池整体性能的重中之重，其中 ALD 技术（原子层沉积）具有出色的成膜均匀性，保形性以及精确性，从而备受瞩目。但因为高昂的成本和设备要求，该技术一直停留在实验室阶段。Forge Nano 经过多年研发，已经开发出低成本的规模化原子层沉积粉末包覆技术。
  • 孔隙分布对人为砂质土壤沉积层坍塌的影响
    采用LaVision的StrainMaser应变形变测量系统。测量人类活动造成的岩土沉积层，在含水情况下发生崩塌，崩溃的规律。目的是为了预警防范如泥石流等地质灾害的发生。
  • ALD在锂电池方面的应用
    锂离子电池在充放电过程中，锂离子在正负极之间穿梭。在充电过程中，锂离子从正极脱出经过电解液和隔膜到达负极发生反应。在放电过程中锂离子从负极返回正极嵌入正极材料。在循环过程中，正极材料面临许多的问题如自身体积的变化，晶体结构的改变，界面结构的退化等导致的容量衰减。同样的，负极材料也面临着体积膨胀，枝晶的生长导致的负极材料的粉碎溶解、从集流体表面剥离脱离、电接触变差，短路等一系列问题，这些问题导致材料的容量和循环性能严重下降，甚至电池的起火爆炸。 原子层沉积（ALD）薄膜沉积可以合成具有原子级精度的材料，基于自限的膜纳米级的控制，可以实现多组分膜的化学成分控制、大面积的薄膜/工艺的可重复性，具备低温处理以及原位实时监控等技术特征。该技术在锂离子电池，太阳能电池，燃料电池以及超级电容器中都具有广泛的应用。
  • 氦质谱检漏仪脉冲激光沉积系统 PLD 检漏
    脉冲激光沉积系统 PLD脉冲激光沉积系统 Pulsed laser deposition 是制备高通量多晶薄膜, 外延薄膜和多层异质结构和超晶格结构的物理气相沉积设备, 通常需要保证本底真空度达到 10-8mbar, 同时高真空环境对系统配置的 RHEED 及温控系统等关键设备的寿命也至关重要.
  • 电泳沉积制备临床应用电极纳米涂层的机械稳定性
    涂层的机械稳定性对于医疗批准和临床应用至关重要。在这里，电泳沉积（EPD）是一种多用途的涂层技术，先前已显示其可显著降低脑刺激铂电极的术后阻抗。然而，前人很少系统地研究所得涂层的机械稳定性。在这项工作中，对Pt基底上由激光生成的铂纳米颗粒（PtNP）的脉冲直流电泳沉积，进行3D神经电极检测，并使用琼脂糖凝胶、胶带和基于超声的应力测试检查体外机械稳定性。EPD生成的涂层在琼脂糖凝胶测试以及体内刺激实验代表模拟大脑环境中高度的稳定。通过循环伏安法，对NP改性表面的电化学稳定性测试，多次扫描可以提高涂层稳定性，这可以通过高侵入性胶带应力测试后更高的信号稳定性来证明。通过激光剥蚀电感耦合等离子体质谱（LA-ICP-MS）分析大鼠神经刺激后的脑切片。测量显示，与未涂覆的对照相比，涂覆电极刺激区域附近的Pt水平更高。尽管植入电极附近的局部浓度升高，但发现的总铂质量低于系统毒理学相关浓度。大鼠脑内4周DBS后Pt的生物分布：a）用无涂层和PDC涂层电极刺激的脑切片的光学显微镜和LA-ICP-MS叠加图像；和b）注射Pt-NPs的脑切片的光学显微镜和LA-ICP-MS叠加图像。比例尺为2mm。在叠加图片中，红色信号表示磷的强度，绿色信号表示铂的浓度。
  • 电热蒸发-直接进样-冷原子吸收光谱法测定土壤以及沉积物中汞
    电热蒸发-直接进样-冷原子吸收光谱法测定土壤以及沉积物中汞电热蒸发-直接进样-冷原子吸收光谱法测定土壤以及沉积物中汞电热蒸发-直接进样-冷原子吸收光谱法测定土壤以及沉积物中汞
  • 普罗米修斯助力 Air Liquid 开发新型 ALD 前驱体
    ALD 反应依赖于多种前驱体化学物质得到最终产物的一种气相沉积技术。由于 ALD 反应的自限制特性，前驱体通常是过量的，从而保证表面的饱和化学吸附，实现均匀包覆。在半导体工艺中，ALD 技术已经得到广泛应用。
  • 天津兰力科：稀土化学沉积数据库系统设计与应用研究
    在科技日新月异的今天，新材料的发展水平已经成为衡量一个国家高科技水平和综合国力强弱的重要标志，化学镀是在材料领域中发展起来的一类新兴技术，化学沉积钻基合金不需要电流，可在各种基体材料上沉积以及具有优异的磁学性能，但它存在镀液稳定性差、沉积速度和均镀能力不理想等问题。由于稀土元素在电镀、表面化学热处理中能有效提高镀液稳定性、沉积速度和渗速，可以改善材料的可焊性、硬度和耐磨性等功能特性作用，所以展开了稀土元素介入化学沉积钻基合金的尝试。稀土元素介入化学沉积钻基合金是一个具有良好发展前景的研究方向，为了加速其实际应用的步伐，对在试验过程中获得大量数据，以中文VisualFoxPro6.O为工具，开发出化学沉积数据库系统应用软件。该软件系统分别建立了镀覆工艺、显微硬度和磁学性能三个数据库。以此为基础，开发了六个应用模块，分别为文件管理模块、编辑处理模块、数据管理模块、图片管理模块、打印管理模块、退出系统模块。通过该软件，我们可以方便的管理所有的试验数据。根据试验数据，用数值分析的方法进行数据处理，拟合出试验数据的近似函数表达式。用正交表对基础配方进行分析，得到最佳配方，并进行相应方差分析 用样条函数和最小二乘法分析镀覆工艺试验数据，绘制出三次样条函数和三次近似多项式的图形，获得化学沉积速度最大时各因素浓度所在的区间。本文的研究是对试验数据处理的一种探讨，为稀土化学沉积数据库系统的建立探索出一条途径，为获得最佳的钻基合金镀层性能奠定了基础，具有较大的理论和现实意义。
  • 土壤和沉积物 六价铬的测定 碱溶液提取-火焰原子吸收分光光度法+土壤和沉积物+六价铬
    本本方案参考HJ 1082-2019 《土壤和沉积物 六价铬的测定 碱溶液提取-火焰原子吸收分光光度法》利用恒奥科技HMT-15水浴多功能磁力搅拌器处理样品，再用原子吸收分光光度计进行测定六价铬。
  • MA-3000直接燃烧法在环保行业测定沉积物中总汞的应用
    MA-3000直接燃烧法在环保行业测定沉积物中总汞的应用沉积物中的汞是嵌入水生生态系统底层的汞。汞通过火山活动和岩石随时间的矿物风化以及工业和城市资源（如燃煤发电厂或危险废物焚烧）自然进入水体。释放到空气中的汞最终可能会沉入水中或被冲入水中，在那里它沉积在湖底、河床、湿地和潮间带上，并与底部基质融为一体。沉积物汞可被微生物转化为甲基汞，这是一种剧毒化学物质，会在鱼类、贝类和吃鱼的动物体内积聚。汞对自然生态系统和人类都是危险的，因为它具有剧毒，特别是因为它能够破坏中枢神经系统。汞对子宫内和儿童早期的人类发展构成特别威胁。因此，为了防止汞中毒或评估污染问题的可能性，有必要准确量化沉积物中的总汞。NIC公司 MA-3000是一款专用的直接汞分析仪，通过热分解、金汞齐化和冷原子吸收光谱有选择地测量几乎任何样品基质(固体、液体和气体)的总汞。MA-3000提供快速测试的结果，没有任何繁琐、耗时和复杂的样品制备过程。这是一个理想的解决方案，以满足当今实验室对简单，快速和准确的汞测量的需求.
  • 吉天AFS-930原子荧光光谱法测定土壤和沉积物中铋
    建立了王水沸水浴消解－原子荧光光度法测定土壤和沉积物中铋。 优化了仪器参数、 载流及还原剂浓度， 比较了水浴消解、 微波消解和电热板消解三种前处理方式处理土壤／沉积物中铋的优劣。 实验表明 ，上佳的消解方式为水浴消解，该方法操作简单方便，结果准确 ，可靠。 采用王水沸水浴消解土壤或沉积物试样，方法的检出限为0.01 mg/kg（取样量为0.5000 g, 定容体积为50 mL）检出下限为0.04 mg/kg。该方法测定土壤标准样品，测定值都在标准范围之内，相对误差为-4.4%~-20.%。该方法用于测定土壤和沉积物实际样品的相对标准偏差分别为2.5%-3.4%和3.1%-3.4%，加标回收率分别为97.6%-102%和99.5%-104%。
  • 电化学原子力显微镜（EC-AFM）实时监测铜在金表面的电沉积
    近年来，对电化学过程的理解如电沉积（也称电镀）在各种科学技术中的作用变得非常凸显，包括括微电子、纳米生物系统、太阳能电池、化学等其他广泛应用。〔1，2〕电沉积是一种传统方法，利用电流通过一种称为电解质的溶液来改变表面特性，无论是化学的还是物理的，使得材料可适合于某些应用。基于电解原理，它是将直流电流施加到电解质溶液中，用来减少所需材料的阳离子，并将颗粒沉积到材料的导电衬底表面上的过程[3 ]。此项技术会普遍增强导电性，提高耐腐蚀性和耐热性，使产品更美观。良好的沉积主要取决于衬底表面形貌〔4〕。因此，一项可以在纳米等级上测量，表征和监测电沉积过程的技术是非常必要的。有几种方法被应用到了这种表面表征。例如像扫描电子显微镜（SEM）和扫描隧道显微镜（STM）。这些技术可以进行纳米级结构的测量，但是，其中一些为非实时下的，一些通常需要高真空，而另一些则由于其耗时的图像采集而不适用于监测不断变化的过程。[2，5] 为了克服这些缺点，电化学结合原子力显微镜（通常称为EC-AFM）被引入进来。 这种技术允许用户进行实时成像和样品表面形貌变化的观测，并可以在纳米级的特定的电化学环境下实现。[ 6 ]在此次研究中，成功地验证了铜颗粒在金表面的沉积和溶解。利用Park NX10 AFM在反应过程中观察铜颗粒的形态变化，并在实验过程中使用恒电位仪同时获得电流-电压（CV）曲线。
  • 稀土La对化学沉积Co-Ni-B合金镀层的改性作用
    为了得到性能优良的钴基软磁薄膜，利用等离子发射光谱仪、电子能谱仪、显微硬度计等考察和分析了引入稀土金属La时化学沉积Co—Ni—B的合金镀层成分、显微硬度和磁性能。 只做学术交流，不做其他任何商业用途！版权归原作者所有！
  • 天津兰力科：稀土La 对电沉积Ni2P 电磁屏蔽镀层组织结构的影响
    借助等离子发射光谱仪、电子能谱仪、X2射线衍射仪、透射电子显微镜和扫描电子显微镜等分析了稀土La对电沉积Ni2P 合金镀层的化学成分、晶体结构和表面形貌的影响。结果表明:在电沉积镀液中添加少量稀土La ,改变了电极界面双电层结构,使镀层表面更为平整 稀土元素La 进入镀层后,微晶态结构的Ni2P 合金转变成了非晶态结构的Ni2P2La 合金。
  • 全新原子吸收光谱仪iCE 3500测定土壤和沉积物中铍的应用
    实验采用 Thermo Scientific iCE 3500 石墨炉原子吸收进行了土壤和沉积物中铍元素的测定。方法定量下限低，灵敏度高，同时具有较高的分析精密度和测量结果准确度。另外，原子吸收方法运行成本低、分析速度较快，因此该方法能很好满足环境、农业、地质行业中对铍元素检测的要求。
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