随着中国市场的科技技术日新月异,制造业对产品的精度要求越来越高,人为测量已无法满足客户要求,大家都开始借助仪器测量。目前市面上对于尺寸的测量主要是有二次元及三次元等。那么这些测量仪的区别在哪儿呢?目前市面的二次元测量仪、三次元测量仪、测量投影仪与五次元一键式测量仪的区别??? 现在市场的影像尺寸测量仪,有三次元测量仪、二次元测量仪和测量投影仪。而二次元测量仪跟测量投影仪难以区别,都是光学检测仪器,在结构和原 理上二次元测量仪通常是连接PC电脑上同时连同软件一起进行操作,精度在0.002MM以内,测量投影仪内部是自带微型电脑的,因此不需要再连接电脑,但在精度上却没有二次元测量仪那么精准,影像测量仪精度一般只能达0.01MM以内。三次元测量仪是在二次元测量的基础上加一个超声测量或红外测量探头,用于测量被测物体的厚度以及盲孔深度等,这些往往二次元测量仪无法测量,但三次元测量仪也有一定的缺陷:Ø 测高探头采用接触法测量,无法测量部分表面不 能接触的物体;Ø 探头工作时,需频繁移动座标,检测速度慢;Ø 因探头有一定大小,因些无法测量过小内径的盲孔;Ø 探头因采用接触法测量,而接触面有一 定宽度,当检测凹凸不平表面时,测量值会有较大误差,同时一般测量范围都较小。 光纤同轴位移传感器以非接触方式测量高度和厚度,解决了过去三角测距方式中无法克服的误差问题,因此开发出可以同轴共焦非接触式一键测量的3D轮廓测量设备成为亟待解决的热点问题。 针对现有技术的上述不足,提供五次元测量设备及其测量计算方法,具有可以非接触检测、更高分辨率、检测速率更快、一键式测量、更高精度等优点。五次元测量仪通过采用大理石做为检测平台和基座,可获得更高的稳定性;内置软件的自动分析,可一键式测量,只需按一个启动键,既可完成尺寸测量,使用方便;采有非接触式光谱共焦测量具有快速、高精度、可测微小孔、非接触等优点,可测量Z轴高度,解决测高探头接触对部分产品造成损伤的问题;大市场光学系统可一次拍取整个工件图像,可使检测精度更高,速度更快。并且可以概据客户需要,进行自动化扩展,配合机械手自动上下料,完全可做到无人化,并可进行 SPC 过程统计。为客户提供高精度检测的同时,概据 SPC 统计数据,实时对生产数据调整, 提高产品质量,节约成本。
最近几十年不仅仅是我们,乃至全世界都能感受到中国制造的产品质量与效率都有质的飞跃。产品质量和效率的提升离不开生产设备和生产规范的高效管理,在管理过程中,对半成品、成品的合格率检测是必不可少的,以机械零件加工为例,在加工完一个机械零件后,我们对该机械零件的二维尺寸参数并不是很确定。这时,我们就需要通过检测手段,来获取机械零件的二维尺寸参数。传统的检测手段有投影仪、卡尺等,随着技术的进步,最新的二次元影像测量仪逐步替代传统检测手段,成为新的首选测量解决方案。今天我们就来分析一下[b]VX3000系列[color=#333333]二次元影像测量仪[/color][/b]与投影仪的区别。[align=center] [img]http://www.chotest.com/Upload/2019/6/201906149843071.jpg[/img][/align][align=center] [/align][b][color=#e01e2b]1.测量精度:[/color][/b] 投影仪检测工件的精度一般在45μm左右,在现代化的生产加工过程中,已经不能满足生产者的精度需求。二次元影像测量仪的测量精度普遍在±2μm左右,最高可达1μm,是完全可以满足生产者对精度的要求的。[b][color=#e01e2b]2.测量效率:[/color][/b] 用投影仪检测工件单次只可检测一个工件,并且需要在操作软件上定位原点,再进行一定编程工作,才可以测得一个工件的尺寸数据。二次元影像测量仪单次可以测量多个工件,小微型工件甚至可以测量几十个,只要在视场范围内,一次测多少个操作员说了算,二次元影像测量仪不需要定位原点,也不需要进行复杂的编程。只需在测量第一个工件时建立模板,此后测量相同的工件只需按一键测量按钮,即可得出工件的二维尺寸参数,批量测量最多可同时测量512个部位,大大提升了工作效率![b][color=#e01e2b]3.仪器体积:[/color][/b] 投影仪都是比较笨重的仪器,外形体积硕大,重达五六百千克,不方便搬运到不同车间进行检测作业。VX3000系列二次元影像测量仪的体积轻便,重量在30-40千克之间,单人即可搬运到不同的车间生产线上进行测量工作,省时省力省空间。
二次元影像测量仪在工业生产中,有着广泛的应用,对很多行业的工件都可以进行测量,同时,在影像测量仪的测量中,也有着许多的测量方式,通过这些方式,影像测量仪才能顺利的完成测量的任务。 以下介绍精密检测仪器二次元影像测量仪的两个测量方式,他们分别是轮廓测量和表面测量。 1、轮廓测量 顾名思义就是影像测量仪测量工件的轮廓边缘,一般采用底部的轮廓光源,需要时也可加表面光做辅助照明,让被测边线更加清晰,有利于测量。 2、表面测量 表面测量可以说是二次元影像测量仪的主要功能,凡是能看到的物体表面图形尺寸,在表面光源照明下,影像测量仪几乎全部能测量,电路板上的线路铜箔尺寸、IC电路等,当被测物件是黑色塑料、橡胶时,影像测量仪也能轻易测量尺寸。http://www.zhengyekeji.net/include/upload/ckeditor/images/1319709450197084656155029.jpg 二次元影像测量仪(又名影像式测绘仪)是建立在CCD数位影像的基础上,依托于计算机屏幕测量技术和空间几何运算的强大软件能力而产生的。计算机在安装上专用控制与图形测量软件后,变成了具有软件灵魂的测量大脑,是整个PCB实验室解决方案设备的主体。
二次元影像测量仪使用及维护保养事项1、 在测量和归位时,移动工作台要注意不要大力撞击工作台两端,放置在撞击过程中损坏光栅尺。2、 仪器镜头是精密光学部件。在对仪器镜头倍率大小调整时,请注意调整方向和力度,以免损坏。3、 对仪器专用电脑的使用时要尽量避免电脑中毒,在使用杀毒软件是要主要不要将仪器的驱动插件删除。4、 不要擅自输入软件密码,修改软件的校准参数,除非得到我公司专业售后人员的同意和指导。5、 使用完毕后,关闭表面光和透射光的电源,延长LED灯使用寿命。6、 仪器使用完毕后,罩上防尘罩,避免灰尘进入。7、 放置工件时,要轻拿轻放,防止玻璃台面、或大理石台面划伤。8、 工作台导轨,Z轴升降导轨要定期喷涂防锈油,防止生锈,影响机台精度。9、 如果仪器需要搬动,请将工作台固定板和Z轴固定板锁紧,方可进行。10、仪器各紧固件及电气接插件都已经连接牢固,可靠、客户不得自行拆卸。11、请尽量保持仪器放置区域的温度、湿度符合要求,以提高仪器使用寿命和测量精度。本文转发自:http://www.yhyvm.com
请问有同行知道二次元影像量测仪的市场价格是多小吗?
求二次元或三次元,说明性能及市场指导价.
请问做标准曲线时线性跟二次方程有什么区别啊?我总觉得二次方程应该是曲线啊?请高手详细解释我的困惑,谢谢。我们用scan扫面正己烷发现好多小峰,碎片离子有147,207,355等,我以为是柱流失,截柱子有用吗?我老化过了不行。
我的3D Family的VMS550的二次元,每次测试前做完校正后就死机。再重启后测试数据完全不对,请教各位大侠有没有碰到过同样的问题,分享一下解决的方法.
目前市面的二次元测量仪、三次元测量仪、测量投影仪与五次元一键式测量仪的区别??? 现在市场的影像尺寸测量仪,有三次元测量仪、二次元测量仪和测量投影仪。而二次元测量仪跟测量投影仪难以区别,都是光学检测仪器,在结构和原 理上二次元测量仪通常是连接PC电脑上同时连同软件一起进行操作,精度在0.002MM以内,测量投影仪内部是自带微型电脑的,因此不需要再连接电脑,但在精度上却没有二次元测量仪那么精准,影像测量仪精度一般只能达0.01MM以内。三次元测量仪是在二次元测量的基础上加一个超声测量或红外测量探头,用于测量被测物体的厚度以及盲孔深度等,这些往往二次元测量仪无法测量,但三次元测量仪也有一定的缺陷:Ø 测高探头采用接触法测量,无法测量部分表面不 能接触的物体;Ø 探头工作时,需频繁移动座标,检测速度慢;Ø 因探头有一定大小,因些无法测量过小内径的盲孔;Ø 探头因采用接触法测量,而接触面有一 定宽度,当检测凹凸不平表面时,测量值会有较大误差,同时一般测量范围都较小。 光纤同轴位移传感器以非接触方式测量高度和厚度,解决了过去三角测距方式中无法克服的误差问题,因此开发出可以同轴共焦非接触式一键测量的3D轮廓测量设备成为亟待解决的热点问题。 针对现有技术的上述不足,提供五次元测量设备及其测量计算方法,具有可以非接触检测、更高分辨率、检测速率更快、一键式测量、更高精度等优点。五次元测量仪通过采用大理石做为检测平台和基座,可获得更高的稳定性;内置软件的自动分析,可一键式测量,只需按一个启动键,既可完成尺寸测量,使用方便;采有非接触式光谱共焦测量具有快速、高精度、可测微小孔、非接触等优点,可测量Z轴高度,解决测高探头接触对部分产品造成损伤的问题;大市场光学系统可一次拍取整个工件图像,可使检测精度更高,速度更快。并且可以概据客户需要,进行自动化扩展,配合机械手自动上下料,完全可做到无人化,并可进行 SPC 过程统计。为客户提供高精度检测的同时,概据 SPC 统计数据,实时对生产数据调整, 提高产品质量,节约成本。
公司要买一台三坐标二次元的投影仪用于测量精密零部件的孔径及一些用游标卡尺不好测量或游标卡尺精度达不到的塑料件,以前没用过,搜了一下,发现有很多种,不知道买什么样的合适,大家有没有推荐的?
如今三C行业,或者是精密仪器行业,都要求极高精度,我们人为是无法测量0.01以上的精度的,这个时候,问题就来了,我们要如何确保精度质量呢?针对这些需求,市面上推出了很多的测量仪器,有2次元,三次元这这些测量仪已经可以满足很多企业的需求了,但是有些企业的产品,他不仅仅是需要平面尺寸,他甚至还需要测量平整度。这次候就应运而生了一种五次远,这些仪器之间都有些什么区别呢?我们该如何选择适合自己的测量仪器呢?现在就将他们的区别来理一下,也给大家参考一下:现在市场的影像尺寸测量仪,有三次元测量仪、二次元测量仪和测量投影仪。而二次元测量仪跟测量投影仪难以区别,都是光学检测仪器,在结构和原 理上二次元测量仪通常是连接PC电脑上同时连同软件一起进行操作,精度在0.002MM以内,测量投影仪内部是自带微型电脑的,因此不需要再连接电脑,但在精度上却没有二次元测量仪那么精准,影像测量仪精度一般只能达0.01MM以内。三次元测量仪是在二次元测量的基础上加一个超声测量或红外测量探头,用于测量被测物体的厚度以及盲孔深度等,这些往往二次元测量仪无法测量,但三次元测量仪也有一定的缺陷:Ø 测高探头采用接触法测量,无法测量部分表面不 能接触的物体;Ø 探头工作时,需频繁移动座标,检测速度慢;Ø 因探头有一定大小,因些无法测量过小内径的盲孔;Ø 探头因采用接触法测量,而接触面有一 定宽度,当检测凹凸不平表面时,测量值会有较大误差,同时一般测量范围都较小。 光纤同轴位移传感器以非接触方式测量高度和厚度,解决了过去三角测距方式中无法克服的误差问题,因此开发出可以同轴共焦非接触式一键测量的3D轮廓测量设备成为亟待解决的热点问题。 针对现有技术的上述不足,提供五次元测量设备及其测量计算方法,具有可以非接触检测、更高分辨率、检测速率更快、一键式测量、更高精度等优点。五次元测量仪通过采用大理石做为检测平台和基座,可获得更高的稳定性;内置软件的自动分析,可一键式测量,只需按一个启动键,既可完成尺寸测量,使用方便;采有非接触式光谱共焦测量具有快速、高精度、可测微小孔、非接触等优点,可测量Z轴高度,解决测高探头接触对部分产品造成损伤的问题;大市场光学系统可一次拍取整个工件图像,可使检测精度更高,速度更快。并且可以概据客户需要,进行自动化扩展,配合机械手自动上下料,完全可做到无人化,并可进行 SPC 过程统计。为客户提供高精度检测的同时,概据 SPC 统计数据,实时对生产数据调整, 提高产品质量,节约成本。想要了解更多,可联系:15012834563,小周[img=,690,920]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/12/201712291417_2603_3353984_3.jpg!w690x920.jpg[/img]
显微镜是只能观察产品的质量情况,是否出现毛边,是否有杂质,灰尘。二次元不紧可以看出产品的毛边还有品质的问题,还可以根据要求测出产品的一些相关的尺寸精度等等!http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/06/201106270946_301723_2272138_3.jpg 光源分上、下光源只有底光源放大倍数30X~225X10X~100X测量精度(3+L/200)mm(3+L/75)mm可测量工件范围300*200mm250*150mm适应产品PCB、菲林、塑胶件、电子载料带、钟表、齿轮、机械加工、轴承、刀具、电子元器件等精密产品
各位高手,请教一下新合理拟合和二次拟合有什么不同啊,还有跟线性拟合到底那个好!我用的是万里安的机器,面对里面的那么多拟合有点不知所措,凡请高手指点!谢谢
影像式精密测绘仪系列产品,克服了传统 投影仪的不足,能将被测物体影像直接输入到计算机,使其数字化,在电脑或显示屏上生成画面让您更直观、简便、清晰的了解产品的形状、大小及尺寸。同时,您可以将所测得结果输出到Excel或Word软件里面作数据备份和客户所需测量资料传送。产品集绘图、测量、数据转换等功能为一体,功能更强大,操作更简便。它适用于五金、模具、机械、电子、注塑、橡胶等行业,是工程开发,绘图测量,品质检测的必备仪器。 1、CNC 电动桌面:(以软件功能控制工作台面,增加操作人员使用及操作上的方便性)。 2、CNC自动测量:可按客户自行设定的程序自动测量出产品尺寸,测量值可自动转到Excel生成统计报表。 3、SPC 数据转换( 制程能力 分析):能将测量之数据输出至Excel进行分析。 4、辅助 对焦 :由计算机判定每次的对焦面,以保证变换焦距时测量的重线性及精准度。 5、简易测高:搭配辅助对焦功能可测量Z轴高度。 6、图形输出到 AutoCAD :可将实时影像中按实际工件外形所描绘的图形直接输出到AutoCAD中成为工程图。 7、图形输出到AutoCAD并自动摆正:可将按实时影像中研润企业生产按实际工件外形所描绘的图形按实际需要来自行设定基准并在传输过程中摆正。 8、AutoCAD中标准工程制图输入:可把AutoCAD中的标准工程制图直接输入到测绘仪软件的影像中,令AutoCAD工程图兴实际工件外形重叠进行对比,从而找出工件和工程制图的区别。 9、 JPEG 图片输入:可输入先前拍照储存的JPEG图片兴实时影像中的实际工件进行重叠对比。 10、鸟瞰图:可观察工件的全图形研润企业生产并具有类似AutoCAD的缩放功能。 11、在鸟瞰全视图中进行标注:可以在鸟瞰的全图中进行标注尺寸。 12、自定义圆 :可按客户需要自定义标准的图(由客户自行定义圆的圆心坐标、直径、半径)。再以标准的圆和影像中的工件作重叠对比,从而找到工件与标准图形之间的误差。 13、自定义线段 :客户自行定义线段的起点坐标、长度、旋转的角度,再与影像中的工件作重叠对比,从而找到工件与标准图形之间的误差。 14、直接画图:直接移动工作桌,以十字线中心点画线、圆、弧时不仅可以在AutoCAD中直接生成图形同时在测绘仪软件的影像中也生成相同外形及位置的图形。 15、自设客户坐标 :可以根据客户本身的需要在实时影像中的实际工件上自行设定坐标原点(0,0),再以(0,0)点为基准在画面任一点上标示该点X,Y坐标位置。 16、坐标标注:以自己所设定之坐标原点(0,0)为基准,标注图上任意一点的坐标位置。 17、图形自动捕捉:可自行设定参数,研润企业生产对线、圆、弧进行自动扫描边缘并自动取得图形。 18、专利取R角功能:为目前市面上准确的平面取R角方式。19、测量:可测量平面上的任何几何尺寸(角度、直径、半径、点到线的距离、圆的偏心、两圆间距等等)。 20、绘图:可将实时影像中的实际工件外形进行描绘,研润企业生产形成完整的工程图,绘图方式和AutoCAD相似。 21、自动捕捉图形线条的各结点:可以自动捕捉线的起点、中点、终点及两线的交点、圆心及圆周上的三个结点,用于辅助标注绘图等应用功能。 22、标注:可在实时影像中的工件上标注尺寸。有长度、角度标注、坐标标注及连续标注等。 23、拍照:可拍下实物照片,包括所标注的尺寸。 24、自动测量:可以自动重复测量同一产品所要检测的尺寸而不需要每次重复绘图、标注,节省时间。25、描边;用于逆向工程,可将产品外形描边,描出图形可转入AutoCAD形成工程图。 26、形位公差:真圆度,真直度,可计算出产品上圆形真圆度及直线边真直度。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/04/201204161654_361710_2459908_3.jpg
[b]【仪器名称】:[color=#ff0000]轮阔仪[/color]【新旧程度】:不限【价格范围】:0.3万元(可面议)【质保期限】:无要求【交易地点】:江苏【联 系 人】:陈先生【联系方式】:[/b][font=&]15365227956[/font][b]【信息有效性】:[/b][font=&]6个月[/font]
看过论坛上的一些资料,初步了解BSE信号分辨金属分布区域应该效果更好,但此图片(请见附件)是SEM-SEI,二次电子像。[b][i]讨论开始:[/i][/b]图中有些圆孔顶端(黄箭头所指处)比其他区域衬度更亮,当然二次电子像受表面形貌影响甚大,原来怀疑是由此引起,但请看图中红箭头所指的管,其高度应明显高于周围,但周围有几个圆孔顶端却更亮;另外,请看兰色箭头所指的两根管子,上边的一个景深方向明显暗于顶口(好象有一层东西的感觉),而下边这个管延景深方向却是一直很亮。管的材料是钛(原子序数22),表面做过修饰,为金(原子序数79)。[b][i]请问我能否初步判断:[/i][/b]那些特别亮的管顶口有金的存在?我是初学者,请多指教,谢谢!
怎么才算环境检测行业里的二次分包。1、a企业样品送样形式给b检测公司,b公司做不了,然后分包给c公司,这种属于吗?(我觉得是二次分包了)2、a企业跟b签署合同,b检测公司在a企业采样,b公司做不了,然后分包给c公司,这种属于吗?(这种我觉得不算),除非是c公司再分包给D才算
国务院关于开展第二次全国污染源普查的通知 国发〔2016〕59号 各省、自治区、直辖市人民政府,国务院各部委、各直属机构: 根据《全国污染源普查条例》规定,国务院决定于2017年开展第二次全国污染源普查。现将有关事项通知如下: 一、普查目的和意义 全国污染源普查是重大的国情调查,是环境保护的基础性工作。开展第二次全国污染源普查,掌握各类污染源的数量、行业和地区分布情况,了解主要污染物产生、排放和处理情况,建立健全重点污染源档案、污染源信息数据库和环境统计平台,对于准确判断我国当前环境形势,制定实施有针对性的经济社会发展和环境保护政策、规划,不断改善环境质量,加快推进生态文明建设,补齐全面建成小康社会的生态环境短板具有重要意义。 二、普查对象和内容 普查对象是中华人民共和国境内有污染源的单位和个体经营户。范围包括:工业污染源,农业污染源,生活污染源,集中式污染治理设施,移动源及其他产生、排放污染物的设施。 普查内容包括普查对象的基本信息、污染物种类和来源、污染物产生和排放情况、污染治理设施建设和运行情况等。 本次普查的具体范围和内容,由国务院批准的普查方案确定。 三、普查时间安排 本次普查标准时点为2017年12月31日,时期资料为2017年度资料。2016年第四季度至2017年底为普查前期准备阶段,重点做好普查方案编制、普查工作试点以及宣传培训等工作。2018年为全面普查阶段,各地组织开展普查,通过逐级审核汇总形成普查数据库,年底完成普查工作。2019年为总结发布阶段,重点做好普查工作验收、数据汇总和结果发布等工作。 四、普查组织和实施 在全国范围内开展污染源普查,涉及范围广、参与部门多、普查任务重、技术要求高、工作难度大。各地区、各部门要按照“全国统一领导、部门分工协作、地方分级负责、各方共同参与”的原则组织实施普查。同时,按照信息共享和厉行节约的要求,充分利用有关部门现有统计、监测和各专项调查等相关资料,借鉴和采纳国家有关经济普查、农业普查等成果。 为加强组织领导,国务院决定成立第二次全国污染源普查领导小组,负责领导和协调全国污染源普查工作。领导小组办公室设在环境保护部,负责普查的日常工作。领导小组成员单位要按照各自职责协调落实相关工作。 县级以上地方人民政府成立相应的污染源普查领导小组及其办公室,按照全国污染源普查领导小组的统一规定和要求,做好本行政区域内的污染源普查工作。要充分利用报刊、广播、电视、网络等各种媒体,广泛深入地宣传全国污染源普查的重要意义和有关要求,为普查工作的顺利实施营造良好的社会氛围。对普查工作中遇到的各种困难和问题,要及时采取措施,切实予以解决。 军队、武装警察部队的污染源普查工作由中央军委后勤保障部按照国家统一规定和要求组织实施。 新疆生产建设兵团的污染源普查工作由新疆生产建设兵团按照国家统一规定和要求组织实施。 五、普查经费保障 第二次全国污染源普查工作经费,按照分级保障原则,由同级财政予以保障。中央财政负担部分,由相关部门按要求列入部门预算。地方财政负担部分,由同级地方财政根据工作需要统筹安排。 六、普查工作要求 污染源普查对象有义务接受污染源普查领导小组办公室、普查人员依法进行的调查,并如实反映情况,提供有关资料,按照要求填报污染源普查表。任何地方、部门、单位和个人都不得迟报、虚报、瞒报和拒报普查数据,不得伪造、篡改普查资料。 各级普查机构及其工作人员,对普查对象的技术和商业秘密,必须履行保密义务。 附件:国务院第二次全国污染源普查领导小组人员名单 国务院 2016年10月20日 (此件公开发布) 【附件】 国务院第二次全国污染源普查领导小组人员名单 组 长:张高丽 国务院副总理 副组长:陈吉宁 环境保护部部长 宁吉喆 国家统计局局长 丁向阳 国务院副秘书长 成 员: 郭卫民 国务院新闻办副主任 张 勇 国家发展改革委副主任 辛国斌 工业和信息化部副部长 黄 明 公安部副部长 刘 昆 财政部副部长 汪 民 国土资源部副部长 翟 青 环境保护部副部长 倪 虹 住房城乡建设部副部长 戴东昌 交通运输部副部长 陆桂华 水利部副部长 张桃林 农业部副部长 孙瑞标 税务总局副局长 刘玉亭 工商总局副局长 田世宏 质检总局党组成员、国家标准委主任 钱毅平 中央军委后勤保障部副部长 领导小组办公室主任由环境保护部副部长翟青兼任。
我有两个问题想麻烦各位解答一下,1,为什么二次电子显微图像具有很好的立体感?2,为什么气孔边缘的二次电子产额比较大?谢谢大家!!
有些行业允许二次议价,对于采购仪器是否存在二次议价呢?
[size=5][b] [/b][/size] 采用脉冲一次离子源(LMIG, Cs, C60,Au,O2+,Ar+)等轰击样品,然后收集从样品表面激发出来的二次离子,采用质谱检测器(飞行时间、四极杆、扇形磁过滤、离子阱等),来收集这些二次离子,并且根据他们的质荷比(m/z)将它们分离,据此来判断分析材料的成分。 二次离子质谱仪分为静态- 二次离子质谱仪(S-SIMS) 和动态二次离子质谱仪(D-SIMS) ,其区分的标准就是根据入射的一次离子的剂量一般10^12atoms/cm2,成为静态二次离子质谱仪,一般采用飞行时间检测器,主要用于生物医药的有机物分析,半导体材料的污染物分析,存储材料分析,可以坚定有机的分子碎片。在分析过程中,材料表面的吸附物质及化学状态,对谱峰影响巨大。这也就是二次离子质谱中的“基体效应”。静态-二次离子质谱是一种无破坏的表面分析方法。最常见的静态- 二次离子质谱仪是飞行时间二次离子质谱仪。飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS: Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry)利用一次脉冲离子轰击样品,通过表面激发出的二次离子的飞行时间测量其质量(m/z 100,000),以分析样品的表面组成。 动态-二次离子质谱仪,入射的一次离子的剂量一般10^15atoms/cm2,对表面形成大量的溅射作用,是一种破坏性分析,主要用于地质研究,同位素定年分析,半导体掺杂的深度分析。主要采用的一次离子源为气体等离子源(Ar/O2)或Cs离子源,一般要求样品导电性要好。
能力验证活动组织方是否给与第二次机会?不二次缴费再重新做一次结果?
第二次能力验证开始报名了,截至日期为11月3日,组织单位和实施单位跟第一次的一样。第一次的能力验证的结果应该在26号前统计报告结果,但是至今还没有报告出来,估计是因为大家做出来的结果太分散了,结果难统计呀。希望有消息的同仁给出结果。
合肥市二次供水管理办法 合政〔2007〕31号 各县、区人民政府,市政府各部门、各直属机构: 现将《合肥市二次供水管理办法》印发给你们,请认真贯彻执行。二○○七年三月三十日 合肥市二次供水管理办法 第一条 为加强二次供水管理,保证二次供水的水质、水压和供水安全,保障公众身体健康,根据《合肥市城市供水条例》,制定本办法。 第二条 本市城市公共供水区域范围内二次供水设施的设计、施工、监理、管理维护、清洗消毒、使用以及对二次供水的监督管理,适用本办法。 第三条 本办法所称二次供水是指从城市公共供水管道取水后,另行通过贮存、加压等设施为用户提供生活、生产用水。 本办法所称二次供水设施是指为二次供水设置的水箱、储水池、水泵、供水泵房、电机、气压罐、电控装置、水处理设备、消毒设备、供水管道、阀门等设施。 第四条 市、县建设行政主管部门负责二次供水的监督管理工作。卫生行政主管部门负责二次供水的卫生监督管理工作。 规划、房地产、价格、质量技术监督等部门应当按照规定的职责分工,负责二次供水的有关监督管理工作。 第五条 新建、扩建、改建工程项目,水压要求超过国家规定的标准时,应当设置二次供水设施。二次供水设施应当与主体工程同时设计、同时施工、同时交付使用。 二次供水设施的工程建设投资,应当包括在建设工程项目总概算中。 第六条 二次供水设施的设计、施工、监理应当执行国家、省相关技术标准和规范,由具有相应资质的单位承担。 第七条 新建住宅供水工程设计方案中必须包括水表出户、一户一表、计量到户的设计内容。 二次供水设施设计方案中应当包括防止污染的具体措施,确保供水安全。 建设单位应当征求供水企业对二次供水设施设计方案的意见,设计方案应当满足与城市公共供水管网连接的基本条件和管理要求。 第八条 二次供水设施所用材料必须符合国家质量标准,不得使用国家明令禁止和淘汰的管材、配件和设备。 第九条 二次供水工程竣工后,建设单位应当组织供水企业参与验收。 验收合格的二次供水工程,建设单位应当组织冲洗、试压、消毒,经质量技术监督部门认证的水质检测机构检测合格后,方可投入使用。 第十条 二次供水设施由产权人或其委托的管理维护单位管理维护。 新建住宅工程的二次供水设施经验收和水质检测合格后,应当交由供水企业统一管理维护。 第十一条 已建住宅的二次供水设施需要进行更新改造的,在保修期内,由建设单位负责;超过保修期的,由产权人负责。 实行二次供水的已建住宅,其二次供水设施和小区庭院管网经检测合格,并按规定完成水表出户改造的,按照自愿原则,可以移交给供水企业进行统一管理维护,供水企业应当予以接收。 第十二条 二次供水设施移交给供水企业统一管理维护的住宅,其楼面层高16米以上的部分,水价实行全市统一定价,由市价格行政主管部门按照价格法的相关规定确定,水价包括二次供水设施的日常管理维护和运行费用、大修和更新改造费用等。 二次供水设施未移交给供水企业统一管理维护的已建住宅,物业管理维护单位应当公示水费计收的相关成本和费用,价格行政主管部门应当加强监督检查。产权人要求移交的,物业管理维护单位应当予以配合。 第十三条 二次供水设施管理维护单位(以下简称管理维护单位)应当保证二次供水设施完好,符合国家有关标准和技术规范的要求,保证水质、水压合格。在设施发生故障时,管理维护单位应当立即进行抢修。 直接从事二次供水管理维护的人员必须进行专业培训和健康检查,取得体检合格证后方可上岗。 第十四条 管理维护单位应当定期进行水质常规检测,每季度不得少于1次。 管理维护单位不具备自行检测能力的,应当委托质量技术监督部门认证的水质检测机构进行检测。 第十五条 管理维护单位应当根据水质情况定期组织对二次供水设施进行清洗消毒,每半年不得少于1次。 从事二次供水设施清洗消毒的单位应当具备清洗消毒的相应条件,其从事清洗消毒工作的专业人员,必须经卫生知识培训和健康检查,取得体检合格证后方可上岗。 二次供水设施清洗消毒完毕,经检测合格,方可投入使用。检测结果应当向相关用户公布。二次供水水质受到污染时,管理维护单位应当立即组织清洗消毒。 管理维护单位应当建立二次供水设施清洗消毒档案。 第十六条 卫生行政主管部门应当加强对二次供水水质的监督检查,抽检每年不少于1次。 第十七条 管理维护单位应当保证二次供水设施不间断供水。 由于工程施工、设备维修等原因需要停水或降压供水的,管理维护单位应当提前24小时告知用户做好储水准备;因设备故障或紧急抢修不能提前通知的,应当在抢修同时通知用户。 因水质污染或水质不符合国家卫生标准需要停水的,管理维护单位应当及时告知用户,向建设和卫生行政主管部门报告,并在12小时内采取措施及时处理。 超过24小时不能恢复供水的,管理维护单位应当采取应急供水措施,解决居民基本生活用水。 第十八条 管理维护单位有下列行为之一的,由建设行政主管部门责令改正,可以并处500元以上2000元以下的罚款: (一)供水水质、水压不符合国家规定标准的; (二)未按规定检修二次供水设施或在二次供水设施发生故障后不及时采取修复措施的; (三)擅自停水或者未履行停水通知义务、未按规定采取应急供水措施的; (四)未按规定对二次供水设施进行清洗消毒的。 第十九条 管理维护单位安排健康检查不合格的人员直接从事二次供水管理维护的,由卫生行政主管部门责令改正,可以并处200元以上1000元以下的罚款。 第二十条 设计、监理单位未按相关技术标准和规范进行二次供水工程设计、监理的,由建设行政主管部门责令改正,可以并处5000元以上2万元以下的罚款。 施工单位在二次供水工程中使用不符合国家标准的设备、管材、配件的,由建设行政主管部门责令改正,并处以工程合同价款2%以上4%以下的罚款。 第二十一条 自建设施供水区域内二次供水管理可以参照本办法执行。 第二十二条 本办法自2007年4月1日起施行。
一次污染物是有污染源直接排放到空气,且未发生化学变化的污染物质。那么二次污染物,说说你又怎么理解?
欧盟委员会 (EU) 于2010年11月29日 (L313)采纳(EU)No 1103 / 2010法规,建立有关可携式二次电池 (可充电)、汽车电池和蓄电池的容量标签规则 (依据《2006/66/EC指令》制定)。 该法规已于2010年11月30日在《欧盟公报》(European Official Journal) 刊登,并于刊登即日生效,直接适用于所有欧盟成员国。 适用范围 于2012年5月30日后首次推出市场的可携式二次电池 (可充电)、汽车电池和蓄电池。 豁免 所有在出售给最终使用者前已经或预期组装在电器内,而不预期会被移除的可携式二次电池 (可充电)和蓄电池。豁免亦适用于以安全、性能、医疗或数据完整性为理由,必须无间断电力供应,以及跟电池或蓄电池永久连接的装置。(依据《2006/66/EC指令》第11条所定)。 要求 把可携式二次电池(可充电)、汽车电池和蓄电池推出市场时,必须带有标示其容量的标签。 容量 定义: 在一系列特定条件下,电池或蓄电池能够释放的电荷;视乎电池内含有的化学物质,以下列标准为以衡量基础:IEC/EN61951-1、IEC/EN 61951-2、IEC/EN 60622、IEC/EN 61960和IEC/EN 61056-1(适用于可携式二次电池 (可充电) 和蓄电池),以及IEC 60095-1/EN 50342-1 (适用于汽车电池和蓄电池)。 单位 可携式二次电池 (可充电) 和蓄电池的容量以“毫安培小时”(milliampere-hour(s),mAh)或“安培小时”(ampere-hour(s), Ah) 来表示。汽车电池和蓄电池的容量则以“安培小时”(Ah)和“冷车启动安培数”(Cold Cranking Amperes, A) 表示。 容量标签设计 根据电池和蓄电池的种类,决定其标签款式和最小尺寸。 (EU)No 1103 / 2010法规详情参见: http://eur-lex.europa.eu/LexUriServ/LexUriServ.do?uri=OJ:L:2010:313:0003:0007:EN:PDF
飞行时间-二次离子质谱仪,TOF-SIMS, 是一种既能测试有机物,又能测试无机物的一种检测仪器,其质谱的基本原理:使用一次的离子源(Ga,Cs, O2, etc)轰击样品,产生二次离子,激发的二次离子被引入一个无场区(drift tube),自由飞行,飞行时间的长短,与离子的mass-to-charge ratio的二分之一此方成正比;也就是说,质量数越小的离子飞得越快,到达检测器的时间越短,反之,质量数越大的离子飞得越慢,到达检测器的时间越长,这样就可以实现质谱的分离。(未完待续)
[color=#DC143C][size=6]电气线路火灾中铜导线一次短路与二次短路的显微组织特征[/size][/color]摘 要:对电气线路火灾中铜导线的一次短路与二次短路的显微组织特性进行了对比分析,利用二者之间微结构形态上的差异来分析鉴定火灾的起因,为公安消防部门侦破火灾案件提供了有利的科学证据,可使案件侦破率及破案速度大大提高。因而,将此项工作加以推广有十分重要的意义。与金相显微镜比较,用电镜进行观察分析具有放大倍数连续调节范围大,景深大,分辨率高,同时具有图象更清晰,立体感更明显的特点。关键词:一次短路 二次短路 熔珠 熔痕 柱状晶 等轴晶电镜观察分析是研究金属材料,半导体材料及一切固体材料和生物医学材料的表面形态,内部组织及其结构的一门科学。在上述学科中电镜已得到了广泛的应用。而将它的科学理论,技术方法和仪器设备应用到消防部门,用于电气火灾原因分析中,则是一种比较新的方法。通常,火灾现场的金属残留物很多,在什么部位取样是很重要的。取样部位的恰当与否,直接影响到检查结果的准确性。因而,必须提取带有融化痕迹的物证。由电气线路、设备故障引起的火灾,在故障点高温作用下,绝大多数的铜、铝甚至钢铁及其它合金等,都会出现熔化现象。分析这些金属或导线残留物熔痕的表面形态和其内部的组织结构,对于认定火灾起因才有意义。本文仅对电气线路火灾中铜导线的一次短路与二次短路的显微特征进行比较分析。1 实验部分1.1 导线短路痕迹的形成及其表现形式电气线路中的不同相或不同电位的两根或两根以上的导线不经负载直接接触称为短路。由于短路的瞬时温度可达2000℃以上,而常用的铜导线的熔点为1083℃,因此,短路强烈的电弧高温作用可使铜导线局部金属迅速熔融,气化,甚至造成金属熔滴的飞溅,从而产生了导线短路熔化的痕迹。导线短路形成的熔痕可分为两种:一种是发生在火灾之前的短路,称为一次短路熔痕:另一种是着火后,火灾火焰或火灾热使导线绝缘破坏而形成的短路,称之为二次短路熔痕。由于短路电流的大小及作用时间的不同,因而短路熔痕的外观状态相当复杂,常见的有以下几种:(1)短路熔珠 (2)尖状熔痕 (3)凹坑状熔痕 (4)喷溅熔珠。
什么是一次污染物?什么是二次污染物? 一次污染物又称“原生污染物”,是由污染源直接排放进人环境的,其物理和化学性状未发生变化的污染物质。环境污染主要是由一次污染物造成的,其来源清楚,可以采取措施加以制。 二次污染物也称“次生污染物”,是一次污染物在物理、化学因素或生物作用下发生变化,或与环境中的其他物质发生反应,所形成的物理化学特征与一次污染物不同的新污染物,通常比一次污染物对环境和人体的危害更为严重。如水体中无机汞化合物通过微生物作用,可转变为毒性更大的甲基汞化合物,这种污染物进入人体易被吸收,不易降解,排泄很慢,容易在脑中积累。又如大气中的二氧化硫与氧气和水蒸气反应可生成硫酸,进而生成硫酸雾,其刺激作用比二氧化硫强10倍。
二次离子质谱仪原理简介二次离子质谱仪(Secondary Ion Mass Spectrometry, SIMS)又称离子探针(Ion Microprobe),是一种利用高能离子束轰击样品产生二次离子幵迚行质谱测定的仪器,可 以对固体或薄膜样品迚行高精度的微区原位元素和同位素分析。由于地学样品的复杂性和对 精度的苛刻要求,在本领域内一般使用定量精度最高的大型磁式离子探针。该类型的商业化 仪器目前主要有法国Cameca 公司生产的 IMS1270-1300 系列和澳大利亚ASI 公司的 SHRIMP 系列。最近十年来,两家公司相继升级各自产品,在灵敏度、分辨率及分析精度 等方面指标取得了较大的提升,元素检出限达到ppm-ppb 级,空间分辨率最高可达亚微 米级,深度分辨率可达纳米级。目前,大型离子探针可分析元素周期表中除稀有气体外的几 乎全部元素及其同位素,涉及的研究领域包括地球早期历叱不古老地壳演化、造山带构造演 化、岩石圀演化不地球深部动力学、天体化学不比较行星学、全球变化不环境、超大型矿床 形成机制等。因而国内各大研究机构纷纷引迚大型离子探针(北京离子探针中心的SHRIMP II SHRIMPIIe-MC、中科院地质不地球物理研究所的 Cameca IMS-1280、Cameca IMS-1280HR 和NanoSIMS 50L、中科院广州地球化学研究所的 Cameca IMS-1280HR、 中核集团核工业北京地质研究院的 IMS-1280HR),大大提高了国内微区分析的能力。 本实验室配备了Cameca 公司生产的IMS1280 离子探针和其升级型号 IMS1280HR。 两台仪器的基本原理及设计相同,升级型号IMS1280HR 主要在磁场设计上有所改迚,具 有更高的质量分辨率和传输效率。该型仪器从功能上可分为四部分,如图一所示:一次离子 产生及聚焦光路(黄色部分)、二次离子产生及传输光路(蓝色部分)、双聚焦质谱仪(粉 色部分)和信号接收系统(紫色部分)。Cameca 离子探针可以类比为一台显微镜,离子源 相当于显微镜的光源,传输光路相当于物镜,质谱仪相当于滤镜,而接收器相当于目镜或照 相机。 图一, IMS1280/HR 型离子探针原理示意图 一次离子部分包含了两个离子源分别是可以产生O 离子的双等离子体离子源(Duo Plastron Source)和产生Cs 离子的热电离铯离子源(CsIon Source),一 般分别对应地学领域分析中的正电性元素(如 Pb、U、Th、REE、Li、Ca 等)和负电性元 等)。两个离子源由软件控制选择,所产生的离子通过高压(一般为数千伏特)加速后迚入一次离子质量过滤器(PBMF)迚行质量筛选,常用的一次离子有 16 16O2 133Cs 离子。后续的一次离子光路通过调整离子透镜Lens2,Lens3 和Lens4 电压可以获得两种照明方式:均匀照明(科勒照明或平行光照明)和高斯照明。一次离子光路原理如图二所示。 均匀照明模式使用离子透镜Lens2 将一次离子束调整为“平行光”,幵穿过位于其后 的一次束光阑(PBMF_Aperture),再通过离子透镜Lens4 将该光阑成像到样品表面。在 该模式下,离子束的直径由PBMF_Aperture 的大小决定,由于该光阑受到离子束的剥蚀 而逐渐变大,因此实际上这种模式的离子束直径是随时间丌断变化的,对空间分辨率丌太敏 感的应用可以使用该模式。实验室的常规定年就使用了这种照明模式,由于其离子束密度均 匀,在样品表面留下的剥蚀坑为椭囿形的平底坑。 图二 一次离子光路原理示意图 在高真空条件下,带有数千电子伏特(eV)的高能带电离子轰击固体样品的表面时,部分 一次离子注入到固体内部并不其路径上的样品原子发生弹性或非弹性碰撞。通过碰撞而获得能量 的内部原子又不其周围的原子再次进行碰撞并产生能量传导,这个过程称为级联碰撞。最终,部 分样品内部电子、原子或分子获得了足够的能量逃逸出样品表面,产生了溅射现象。在溅射出的 各种微粒中,有小部分发生了电离,产生了二次离子。这些二次离子被样品表面的+10KV到 -10KV的高压加速,通过离子透镜聚焦后进入双聚焦质谱仪进行质量筛选。溅射及加速示意图 请见图三。 高斯照明模式在PBMF之后使用了三个离子透镜:Lens2、Lens3和Lens4。其中Lens2 不Lens3将离子束汇聚,L4将汇聚后的离子束聚焦到样品表面,形成束流密度中心高周围低 的高斯分布。这种模式下,在样品表面产生的剥蚀坑是接近囿形的V型坑。这种模式下离子 束的直径主要受到L2不L3透镜电压的影响,而对光阑的剥蚀效应很小,因此可以长时间保 持离子束直径丌变。实验室常规的稳定同位素分析以及空间分辨高于10微米的小束斑定年 分析都采用了高斯照明模式。 丌同元素的二次离子产率相差巨大,而且每种元素在丌同基体中的产率也丌尽相同,甚 至同一元素的同位素之间在丌同的基体中也表现出丌固定的产率(基体效应)。在实际分析 时实测值不理论值会产生较大差异。因此,要使用离子探针进行高精度的元素、同位素分析, 必须使用不被测样品成分和结构一致的标准物质进行校正。而标准样品的稀缺性也成为制约 和影响离子探针分析的瓶颈。目前,本实验室目前已开发了锆石氧同位素标准物质 (Penglai)、方解石碳-氧同位素标准物质(OKA)、锆石Li同位素标准物质(M257)、锆 石年龄标准物质(Qinghu)等。 图三,离子探针溅射示意图 二次离子产生后迚入离子传输光路,该部分相当于显微镜的物镜,通过调节该“物镜” 的放大倍数,配合后续的光阑及狭缝的调整,可在质量分辨率确定的条件下对仪器的传输效 率迚行优化,保证分析精度。入口狭缝是传输光路和质谱仪的分界面。离子束通过传输光路 聚焦后,在入口狭缝处汇聚。调节入口狭缝的宽度可控制迚入质谱仪的离子束宽度,从而控 制质谱仪的质量分辨率。质量分辨率要求越高,入口狭缝所对应的宽度就越窄,二次离子信 号的强度损失也就越多。因此,在满足分析要求的前提下,尽量使用较低的质量分辨率。离 子探针分析中,样品表面溅射出的二次离子组成非常复杂,包括了单原子离子、分子离子、 多电荷离子、复杂聚合物离子等,对质量分辨率要求极高。为了兼顾离子探针的质量分辨率 和传输效率,必须采用大磁场半径的设计。该型离子探针的最低质量分辨率为~900,而最 高可用质量分辨率大于20000. 磁式质谱仪主要利用运动离子在磁场中的受力偏转实现对特定质量电荷比值的离子的 选择。磁式离子探针一般使用双聚焦磁式质谱,可以实现速度聚焦和方向聚焦,在二次离子 能量分布范围较大的情况下实现高质量分辨率和高传输效率。双聚焦质谱仪由静电分析器和 扇形磁场质量分析器组成,当二者的能量色散在焦平面上相互抵消时即实现了双聚焦。 IMS1280/HR 离子探针的静电场及磁场半径均为585mm,在质量分辨率5000 的条件下, 其传输效率90%。 离子经过质谱仪的质量色散后迚入离子接收系统。该型仪器的接收系统分为三个部分: 具有5 个接收位置,共7 个接收器的多接收系统;具有三个接收器的单接收系统和微通道 板成像系统。多接收系统能够同时接收的最大的质量差异为17%,最小质量差异为~0.4%, 是典型的同位素质谱配置。5 个接收位置可在各自轨道上沿聚焦面移动,根据被测同位素的 信号强度可选择安装法拉第杯或电子倍增器。最外侧的两个接收位置还分别额外加装了一个 法拉第杯,增加配置的灵活性,如图四所示。多接收器分析可以提高效率,并能抵消一部分 因为一次离子或仪器其他参数波动引起的分析误差,是提高分析精度的最直接手段。实验室 的高精度稳定同位素分析(氧同位素、碳同位素及硫同位素等)都是用多接收器的。目前本 实验室两台离子探针采用了丌同的接收杯配置,其中一台偏重于稳定同位素分析,在多接收 器中安装了多个法拉第杯,而另一台则偏重微量元素尤其是Pb 同位素分析,主要配置为电 子倍增器。单接收系统具有一个工作在离子计数模式下的电子倍增器和高低两个丌同量程的 法拉第杯,组成了具有10 动态接收范围的大量程接收系统。对于质量范围超过17%的分析,一般使用单接收系统,例如传统的U-Pb 定年分析,其需要测量的质量数从196-270, 使用的是单接收系统中的电子倍增器收集所有信号。 使用微通道板成像时,仪器工作在离子显微镜模式下,成像的分辨率取决于二次离子光 路的设置,而不一次离子束的直径无关。由于微通道板性能的制约,这种模式一般只用于辅 助的定性判断和仪器参数的调整,而丌用于定量分析。离子探针还有一种二次离子扫描成像 模式。类似于扫描电子显微镜的工作原理,通过同步一次离子的扫描位置和电子倍增器的接 收时间,可以将电子倍增器测量到的信号强度不其在样品上的位置对应起来,从而重构出经 过质量筛选的离子分布图像。该图像的分辨率取决于一次离子束的直径,可用于元素、同位 素二维分布分析