栅扫描单色仪

哪位用过自动扫描光栅单色仪啊?求帮助啊

大侠们，请问有用过WDP500-D自动扫描光栅单色仪测试气体成份的吗？能否提供一些建议、谢谢

光谱仪简单说来就是通过光栅等分光器件，将光线按不同波长进行分离，形成按波长划分的光线能量分布。光谱仪用于纯光学特性分析，只需要测量和输出被测源的相对光谱能量分布。单色仪和光谱仪其实是一样的，只是根据使用目的不同而有不同的名称。摄谱仪只是在光谱基础上加上了感光底片，便于实时获得光谱图像，在现在电脑普及的情况下，图像已经不需要实时打印出来，摄谱仪不具有应用前景，但在地质勘探等领域仍有很大市场。分光光度计是能从含有各种波长的混合光中，将每一种不连续的单色光分离出来，用作采样反射物体或透射物体，并测量其强度的仪器。由于不同物体分子的结构不同，对不同波长光线的吸收能力也不同，因此，每种物体都具有特定的吸收光谱。可见，分光光度计实际上是包含光谱仪的系统，是光谱分析的应用，需要测量显示被测源光谱光度参数的绝对值。另外，分光光度计是对不同波长的光线进行扫描，速度比光谱仪要慢很多。这几种仪器其实原理基本相同，只是面向不同的使用范围而已。（来自网络，侵删）

本人第一次接触HPLC检测器中单色仪的设计，请各位达人分享一下设计经验。[em0715]

在运行单色仪的时候，底部丝杠会发出很大的声响，也更换过不同尺寸的丝杠，但问题一直也没有解决，希望有这方面经验的达人指点一下，谢谢！[em0715]

忽然想到单色仪分光前置，然后光源使用氙灯等连续光谱光源，那么经过一级单色仪分光校正后得到单谱线光源，然后在经过原子化器，在到达二级单色仪检测.....[em09507]

现在EMCCD的使用越来越多，那么能够与EMCCD联用的单色仪都有哪些呢？价格如何？

大家好！我想请问一下问什么双单色仪能提供比单单色仪更高的光度值测量范围？是不是跟它有更低的杂散光水平有关？

[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=28318]单色仪要求.doc[/url]

各大虾:我想向大家请教一个问题:分子荧光仪器,是采用滤光片的好,还是用单色仪或凌镜的仪器好?这个问题困惑我很长时间了,一直没法解决,望大家指点.谢谢!

3.3um的中红外光谱仪（单色仪）有哪些厂家提供OEM或销售？

http://www.instrument.com.cn/show/Breviary.asp?FileName=C27892%2Ejpg&iwidth=200&iHeight=200 上海科哲生化科技有限公司 的 KH-3100型全能型薄层色谱扫描仪(KH-3100型)已参加“国产好仪器”活动并通过初审。自上市以来，这款产品已经被多家单位采用，如果您使用过此仪器设备或者对其有所了解，欢迎一起聊聊它各方面的情况。您还可以通过投票抽奖、参与调研等方式参与活动，并获得手机电子充值卡。【点击参与活动】 仪器简介： KH-3100型全能型薄层色谱扫描仪 ——中药指纹图谱专家 全球首创含量谱图、图像、相似度判定三者合一 中药是我国的传统优势，中药指纹图谱是中药现代化的重要组成，是中药研究的热点，与使用HPLC-DAD、HPLC-MS的中药指纹研究方法相比，薄层色谱法成本低、速度快、样品前处理少、直观性强，具有巨大的优势，是真正能普及的中药指纹图谱分析方法。上海科哲公司是中国唯一的薄层色谱扫描仪生产商，中国薄层色谱仪器的领导者，KH-3100型全能型薄层色谱扫描仪专为中药指纹图谱分析而打造，是中国第一台具有专业中药指纹图谱功能的薄层色谱扫描仪，创造性的将全波长薄层色谱扫描仪、图像系统、中药指纹图谱软件三者集成在一起，功能在全球处于领先地位，可使中药指纹图谱研究人员独辟蹊径，获得强大的竞争优势，更快地出文章、出标准、出效益； KH-3100中药指纹图谱功能： 1、 可进行薄层板高精度快速定量， 标准样品RSD值≤1%； 2、 可进行图像拍摄，得出薄层板图像，用于快速检测； 3、 扫描仪可任意调用图像数据，进行扫描轨迹跟踪，为全球首创； 4、 具有强大的指纹图谱功能，进行相似度比对，得出中药质量信息； 5、 可将薄层图像转化为三基色色谱曲线，再进行快速相似度判定； 6、 可得出样品成分的紫外-可见光谱，使指纹特征性进一步提高； 7、 带有样品图形同图平行比较功能，使不同批次的产品差异一目了然； 8、 带有薄层点样软件，使点样精确，位置容易确定； KH-3100主要特点 1、 自动光源能量标定，提醒更换能量不足光源； 2、 自动对灯，使光源始终保持最强状态； 3、 自动校正光栅单色仪，保持波长的准确性； 4、 氘灯-卤钨灯自动切换，可进行氮气吹扫避免臭氧干扰； 5、 带有紫外光谱扫描功能，可分析未知物质，优化扫描波长； 6、 USB数据传输，数据传输量大，传输速度快； 7、 工作站性能强大，仪器全计算机控制，自动化程度高； 8、 光源可提供200nm~850nm连续紫外-可见光谱，波长范围宽； 9、 单色仪使用1200条/mm的全息光栅，分辨率与光谱纯度高； 10、 工作站可进行样品、方法、操作者管理，符合GMP/GLP要求； 11、 工作站预置了2000版与2005版所有中药定量分析方法，调出即用； KH-3100主要优点 1、仪器具有光电与图像两个检测器，可同时得到扫描与图像数据，世....【了解更多此仪器设备的信息】

请教各位:ICP单色器吹扫要点火吗?

光谱仪工作原理光谱分析方法作为一种重要的分析手段，在科研、生产、质控等方面都发挥着极大的作用。无论是穿透吸收光谱，还是荧光光谱，拉曼光谱，获得单波长辐射是不可缺少的手段。由于现代单色仪可具有很宽的光谱范围（UV-IR），高光谱分辨率（0.001nm），自动波长扫描，完整电脑控制功能，极易和其它周边设备配合为高性能自动测试系统，使用电脑自动扫描多光栅光谱仪已成为光谱研究的首选。在光谱学应用中，获得单波长辐射是不可缺少的手段。除了用单色光源（如光谱灯、激光器、发光二极管）、颜色玻璃和干涉滤光片外，大都使用扫描选择波长的单色仪。尤其是当前更多地应用扫描光栅单色仪，在连续的宽波长范围（白光）选出窄光谱（单色或单波长）辐射。　　当一束复合光线进入光谱仪的入射狭缝，首先由光学准直镜准直成平行光，再通过衍射光栅色散为分开的波长（颜色）。利用不同波长离开光栅的角度不同，由聚焦反射镜再成像于出射狭缝。通过电脑控制可精确地改变出射波长。光栅基础　　光栅作为重要的分光器件，他的选择与性能直接影响整个系统性能。为更好协助用户选择，在此做一简要介绍。　　光栅分为刻划光栅、复制光栅、全息光栅等。刻划光栅是用钻石刻刀在涂有金属的表面上机械刻划而成；复制光栅是用母光栅复制而成。典型刻划光栅和复制光栅的刻槽是三角形。全息光栅是由激光干涉条纹光刻而成。全息通常包括正弦刻槽。刻划光栅具有衍射效率高的特点，全息光栅光谱范围广，杂散光低，且可作到高光谱分辨率。光栅方程　　反射式衍射光栅是在衬底上周期地刻划很多微细的刻槽，一系列平行刻槽的间隔与波长相当，光栅表面涂上一层高反射率金属膜。光栅沟槽表面反射的辐射相互作用产生衍射和干涉。对某波长，在大多数方向消失，只在一定的有限方向出现，这些方向确定了衍射级次。如图1所示，光栅刻槽垂直辐射入射平面，辐射与光栅法线入射角为α，衍射角为β，衍射级次为m，d为刻槽间距，在下述条件下得到干涉的极大值：mλ=d（sinα+sinβ）　　定义φ为入射光线与衍射光线夹角的一半，即φ=（α-β）/2；θ为相对与零级光谱位置的光栅角，即θ=（α+β）/2,得到更方便的光栅方程：　　mλ=2dcosφsinθ　　从该光栅方程可看出：　　对一给定方向β，可以有几个波长与级次m相对应λ满足光栅方程。比如600nm的一级辐射和300nm的二级辐射、200nm的三级辐射有相同的衍射角。　　衍射级次m可正可负。　　对相同级次的多波长在不同的β分布开。　　含多波长的辐射方向固定，旋转光栅，改变α，则在α+β不变的方向得到不同的波长。如何选择光栅选择光栅主要考虑如下因素：刻槽密度G=1/d，d是刻槽间隔，单位为mm。闪耀波长　　闪耀波长为光栅最大衍射效率点，因此选择光栅时应尽量选择闪耀波长在实际需要波长附近。如实际应用在可见光范围，可选择闪耀波长为500nm。光栅刻线　　光栅刻线多少直接关系到光谱分辨率，刻线多光谱分辨率高，刻线少光谱覆盖范围宽，两者要根据实验灵活选择。光栅效率　　光栅效率是衍射到给定级次的单色光与入射单色光的比值。光栅效率愈高，信号损失愈小。为提高此效率，除提高光栅制作工艺外，还采用特殊镀膜，提高反射效率。光栅光谱仪重要参数：分辨率（resolution）　　光栅光谱仪的分辨率R是分开两条临近谱线能力的度量，根据瑞利判据为：　　R==λ/Δλ　　光栅光谱仪有实际意义的定义是测量单个谱线的半高宽（FWHM）。实际上，分辨率依赖于光栅的分辨本领、系统的有效焦长、设定的狭缝宽度、系统的光学像差以及其它参数等。　　R∝M.F/WM－－光栅线数　　F－－谱仪焦距　　W－－狭缝宽度色散　　光栅光谱仪的色散决定其分开波长的能力。光谱仪的倒线色散可计算得到：沿单色仪的焦平面改变距离χ引起波长λ的变化，即：Δλ/Δχ=dcosβ/nF　　这里d、β、F分别是光栅刻槽的间距、衍射角和系统的有效焦距，n为衍射级次。由方程可见，倒线色散不是常数，它随波长变化。在所用波长范围内，改变化可能超过2倍。根据国家标准，在本样本中，用1200l/mm光栅色散的中间值（典型的为435.8nm）时的倒线色散。带宽　　带宽是忽略光学像差、衍射、扫描方法、探测器像素宽度、狭缝高度和照明均匀性等，在给定波长，从光谱仪输出的波长宽度。它是倒线色散和狭缝宽度的乘积。例如，单色仪狭缝为0.2mm，光栅倒线色散为2.7nm/mm，则带宽为2.7*0.2=0.54nm。波长精度、重复性和准确度　　波长精度是光谱仪确定波长的刻度等级，单位为nm。通常，波长精度随波长变化，本样本中为最坏的情况。　　波长重复性是光谱仪设定一个波长后，改变设定，再返回原波长的能力。这体现了波长驱动机械和整个仪器的稳定性。卓立汉光的光谱仪的波长驱动和机械稳定性极佳，其重复性超过了波长精度。　　波长准确度是光谱仪设定波长与实际波长的差别。每台单色仪都要在很多波长检查波长准确度。F/#　　F/#定义为光谱仪的直径与焦距的比值。这是对光谱仪接收角的度量，这是调整单色仪与光源及探测器耦合的重要参数。当F/#匹配时，可用上光谱仪的全部孔径。但是大多数单色仪应用长方形光学部件。这里F/#定义为光谱仪的等效直径与焦距的比值，长方形光学件的等效直径是具有相同面积的园的直径

产品技术特点说明：[B]光源[/B]垂直安装氙灯，避免水平安装的下垂、受热不稳定和短寿命。非球面反射镜能保证全部波长线形聚焦到狭缝，提高光源能量利用率，避免透镜聚焦的色差。稳态采用连续氙灯，磷光寿命采用变频闪烁氙灯的双光源自动控制灯室，给您最优化的数据。[B]狭缝[/B]软件自动控制，带宽0-30nm， 最小步进0.05nm，保证最大的分辨率和数据再现性。[B]激发单色仪[/B]经典的Czery-turner设计安装，采用非球面的反射镜，保证光栅衍射光斑适应狭缝高度。平面刻线光栅，330nm/750nm闪耀角保证紫外区到红外区（200-1100nm）的最大光能量。最高的杂散光抑制率1E-10，提供最好的固体及散光样品测量信号。双单色器耦合的双光栅单色器，专利的单驱联动控制双光栅技术，软件即可完成双光栅的波长校正。最小扫描步进0.02nm，提供最精细的扫描数据。所有光学元件来自SPEX工厂。它是哈勃望远镜的光学元件供应商。[B]光栅在轴扫描[/B]激发单色仪和发射单色仪都采用光栅在轴扫描设计，光栅表面和旋转轴处在一个平面，保证全波段准确性。[B]参比检测器[/B]一个光电二极管在激发光源到达样品前对光源强度进行监控，实时修正入射能量变化。带有NIST标准光源获取的校正文件。[B]样品仓[/B]样品仓提供几乎所有您需要的附件的安装。采用挡板隔离光学部件，避免粉尘和样品污染，延长仪器使用寿命。[B]发射单色仪[/B]所有激发单色仪的特点同样具备，500nm/1000nm闪耀波长保证可见和红外区的最大效率。采用NIST标准光源获取的校正文件，去除来自光栅和检测器的响应系数。[B]检测器[/B]采用光子计数检测器，保证极微弱信号的采集。出厂的优化设置，提供最大的计数速率，最大消除暗噪声。标准配置为R-928P光电倍增管，满足 200-850nm要求；室温使用，减少由于供电或环境造成的数据波动。红外区采用电子制冷R-10330-75P光电倍增管，满足950-1700nm（瞬态900-1700nm）的测试要求。都能够实现TCSPC荧光寿命的配置升级。[B]数据采集和处理[/B]采用FluoroEssence软件，对于主机可以进行完全的自动控制；整个控制软件耦合在最为著名的ORIGIN软件中，提供最强大的数据处理功能；[B]T型光学系统[/B]具有稳固而且双波长同时测定的特点[B]全反射聚焦光路[/B]：a)对波长无歧视，没有采用透镜造成的色差和波长损失。b)色差对固体样品测量的影响：固体属于表面荧光，由于色差，固体表面的不可移动性，不同波长入射，光斑大小及光学密度有变化，造成被测量样品不同的波长光斑覆盖范围不同，定量的光致发光量子产率会有较大的偏离。而且这种表观的荧光光谱是无法校正的。[B]荧光寿命拟合功能[/B]从2009年起，开放全部的拟合软件功能：软件来自IBH公司享誉全球多年的Datastation数据采集软件 和DAS6拟合软件。a)1-5 exponentialsb)Lifetime Distribution c)Fit to exponential series d)Anisotropy e)Froster-type Energy transfer f)Yokota-Tanimoto energy transfer g)Micellar Quenching h)Globals i)Batch Analysis

扫描电子显微镜(ScanningElectronMicroscope)基础知识一、 扫描电子显微镜的工作原理 扫描电镜是用聚焦电子束在试样表面逐点扫描成像。试样为块状或粉末颗 粒，成像信号可以是二次电子、背散射电子或吸收电子。其中二次电子是最主要 的成像信号。由电子枪发射的能量为 5 ～ 35keV 的电子，以其交 叉斑作为电子源，经二级聚光镜及物镜的缩小形成具有一定能量、一定束流强度 和束斑直径的微细电子束，在扫描线圈驱动下，于试样表面按一定时间、空间顺 序作栅网式扫描。聚焦电子束与试样相互作用，产生二次电子发射（以及其它物 理信号），二次电子发射量随试样表面形貌而变化。二次电子信号被探测器收集 转换成电讯号，经视频放大后输入到显像管栅极，调制与入射电子束同步扫描的 显像管亮度，得到反映试样表面形貌的二次电子像。二、扫描电镜具有以下的特点(1) 可以观察直径为0 ～ 30mm的大块试样(在半导体工业可以观察更大直径)，制样方法简单。(2) 场深大、三百倍于光学显微镜，适用于粗糙表面和断口的分析观察；图像富有立体感、真实感、易于识别和解释。(3) 放大倍数变化范围大，一般为 15 ～ 200000 倍，对于多相、多组成的非均匀材料便于低倍下的普查和高倍下的观察分析。(4) 具有相当高的分辨率，一般为 3.5 ～ 6nm。(5) 可以通过电子学方法有效地控制和改善图像的质量，如通过调制可改善图像反差的宽容度，使图像各部分亮暗适中。采用双放大倍数装置或图像选择器，可在荧光屏上同时观察不同放大倍数的图像或不同形式的图像。(6) 可进行多种功能的分析。与 X 射线谱仪配接，可在观察形貌的同时进行微区成分分析；配有光学显微镜和单色仪等附件时，可观察阴极荧光图像和进行阴极荧光光谱分析等。(7) 可使用加热、冷却和拉伸等样品台进行动态试验，观察在不同环境条件下的相变及形态变化等。三、扫描电镜的主要结构1.电子光学系统：电子枪；聚光镜（第一、第二聚光镜和物镜）；物镜光阑。2.扫描系统：扫描信号发生器；扫描放大控制器；扫描偏转线圈。3.信号探测放大系统：探测二次电子、背散射电子等电子信号。4.图象显示和记录系统：早期SEM采用显象管、照相机等。数字式SEM采用电脑系统进行图象显示和记录管理。5.真空系统：真空度高于 10 -4 Torr 。常用：机械真空泵、扩散泵、涡轮分子泵6.电源系统：高压发生装置、高压油箱。 四、扫描电镜主要指标1.放大倍数 M=L/l 2.分辨率（本领）影响分辨本领的主要因素：入射电子束斑的大小，成像信号（二次电子、背散射电子等）。 3.扫描电镜的场深扫描电镜的场深是指电子束在试样上扫描时，可获得清晰图像的深度范围。当一束微细的电子束照射在表面粗糙的试样上时，由于电子束有一定发散度，除了焦平面处，电子束将展宽，场深与放大倍数及孔径光阑有关。 五、试样制备1 ．对试样的要求：试样可以是块状或粉末颗粒，在真空中能保持稳定，含有水分的试样应先烘干除去水分，或使用临界点干燥设备进行处理。表面受到污染的试样，要在不破坏试样表面结构的前提下进行适当清洗，然后烘干。新断开的断口或断面，一般不需要进行处理，以免破坏断口或表面的结构状态。有些试样的表面、断口需要进行适当的侵 蚀，才能暴露某些结构细节，则在侵蚀后应将表面或断口清洗干净，然后烘干。对磁性试样要预先去磁，以免观察时电子束受到磁场的影响。试样大小要适合仪器专用样品座的尺寸，不能过大，样品座尺寸各仪器不均相同，一般小的样品座为Φ3～5mm，大的样品座为Φ30～50mm，以分别用来放置不同大小的试样，样品的高度也有一定的限制，一般在5～10mm左右。2 ．扫描电镜的块状试样制备是比较简便的。对于块状导电材料，除了大小要适合仪器样品座尺寸外，基本上不需进行什么制备，用导电胶把试样粘结在样品座上，即可放在扫描电镜中观察。对于块状的非导电或导电性较差的材料，要先进行镀膜处理，在材料表面形成一层导电膜。以避免电荷积累，影响图象质量。并可防止试样的热损伤。 3 、粉末试样的制备：先将导电胶或双面胶纸粘结在样品座上，再均匀地把粉末样撒在上面，用洗耳球吹去未粘住的粉末，再镀上一层导电膜，即可上电镜观察。4 、镀膜：镀膜的方法有两种，一是真空镀膜，另一种是离子溅射镀膜。离子溅射镀膜的原理是：在低气压系统中，气体分子在相隔一定距离的阳极和阴极之间的强电场作用下电离成正离子和电子，正离子飞向阴极，电子飞向阳极，二电极间形成辉光放电，在辉光放电过程中，具有一定动量的正离子撞击阴极，使阴极表面的原子被逐出，称为溅射，如果阴极表面为用来镀膜的材料（靶材），需要镀膜的样品放在作为阳极的样品台上，则被正离子轰击而溅射出来的靶材原子沉积在试样上，形成一定厚度的镀膜层。 离子溅射时常用的气体为惰性气体氩，要求不高时，也可以用空气，气压约为 5 X 10 -2 Torr 。离子溅射镀膜与真空镀膜相比，其主要优点是：（ 1 ）装置结构简单，使用方便，溅射一次只需几分钟，而真空镀膜则要半个小时以上。（ 2 ）消耗贵金属少，每次仅约几毫克。（ 3 ）对同一种镀膜材料，离子溅射镀膜质量好，能形成颗粒更细、更致密、更均匀、附着力更强的膜。

一、 扫描电子显微镜的工作原理 扫描电镜是用聚焦电子束在试样表面逐点扫描成像。试样为块状或粉末颗 粒，成像信号可以是二次电子、背散射电子或吸收电子。其中二次电子是最主要 的成像信号。由电子枪发射的能量为 5 ～ 35keV 的电子，以其交 叉斑作为电子源，经二级聚光镜及物镜的缩小形成具有一定能量、一定束流强度 和束斑直径的微细电子束，在扫描线圈驱动下，于试样表面按一定时间、空间顺 序作栅网式扫描。聚焦电子束与试样相互作用，产生二次电子发射（以及其它物 理信号），二次电子发射量随试样表面形貌而变化。二次电子信号被探测器收集 转换成电讯号，经视频放大后输入到显像管栅极，调制与入射电子束同步扫描的 显像管亮度，得到反映试样表面形貌的二次电子像。二、扫描电镜具有以下的特点(1) 可以观察直径为0 ～ 30mm的大块试样(在半导体工业可以观察更大直径)，制样方法简单。(2) 场深大、三百倍于光学显微镜，适用于粗糙表面和断口的分析观察；图像富有立体感、真实感、易于识别和解释。(3) 放大倍数变化范围大，一般为 15 ～ 200000 倍，对于多相、多组成的非均匀材料便于低倍下的普查和高倍下的观察分析。(4) 具有相当高的分辨率，一般为 3.5 ～ 6nm。(5) 可以通过电子学方法有效地控制和改善图像的质量，如通过调制可改善图像反差的宽容度，使图像各部分亮暗适中。采用双放大倍数装置或图像选择器，可在荧光屏上同时观察不同放大倍数的图像或不同形式的图像。(6) 可进行多种功能的分析。与 X 射线谱仪配接，可在观察形貌的同时进行微区成分分析；配有光学显微镜和单色仪等附件时，可观察阴极荧光图像和进行阴极荧光光谱分析等。(7) 可使用加热、冷却和拉伸等样品台进行动态试验，观察在不同环境条件下的相变及形态变化等。三、扫描电镜的主要结构1.电子光学系统：电子枪；聚光镜（第一、第二聚光镜和物镜）；物镜光阑。2.扫描系统：扫描信号发生器；扫描放大控制器；扫描偏转线圈。3.信号探测放大系统：探测二次电子、背散射电子等电子信号。4.图象显示和记录系统：早期SEM采用显象管、照相机等。数字式SEM采用电脑系统进行图象显示和记录管理。5.真空系统：真空度高于 10 -4 Torr 。常用：机械真空泵、扩散泵、涡轮分子泵6.电源系统：高压发生装置、高压油箱。 四、扫描电镜主要指标1.放大倍数 M=L/l 2.分辨率（本领）影响分辨本领的主要因素：入射电子束斑的大小，成像信号（二次电子、背散射电子等）。 3.扫描电镜的场深扫描电镜的场深是指电子束在试样上扫描时，可获得清晰图像的深度范围。当一束微细的电子束照射在表面粗糙的试样上时，由于电子束有一定发散度，除了焦平面处，电子束将展宽，场深与放大倍数及孔径光阑有关。 五、试样制备1 ．对试样的要求：试样可以是块状或粉末颗粒，在真空中能保持稳定，含有水分的试样应先烘干除去水分，或使用临界点干燥设备进行处理。表面受到污染的试样，要在不破坏试样表面结构的前提下进行适当清洗，然后烘干。新断开的断口或断面，一般不需要进行处理，以免破坏断口或表面的结构状态。有些试样的表面、断口需要进行适当的侵 蚀，才能暴露某些结构细节，则在侵蚀后应将表面或断口清洗干净，然后烘干。对磁性试样要预先去磁，以免观察时电子束受到磁场的影响。试样大小要适合仪器专用样品座的尺寸，不能过大，样品座尺寸各仪器不均相同，一般小的样品座为Φ3～5mm，大的样品座为Φ30～50mm，以分别用来放置不同大小的试样，样品的高度也有一定的限制，一般在5～10mm左右。2 ．扫描电镜的块状试样制备是比较简便的。对于块状导电材料，除了大小要适合仪器样品座尺寸外，基本上不需进行什么制备，用导电胶把试样粘结在样品座上，即可放在扫描电镜中观察。对于块状的非导电或导电性较差的材料，要先进行镀膜处理，在材料表面形成一层导电膜。以避免电荷积累，影响图象质量。并可防止试样的热损伤。 3 、粉末试样的制备：先将导电胶或双面胶纸粘结在样品座上，再均匀地把粉末样撒在上面，用洗耳球吹去未粘住的粉末，再镀上一层导电膜，即可上电镜观察。4 、镀膜：镀膜的方法有两种，一是真空镀膜，另一种是离子溅射镀膜。离子溅射镀膜的原理是：在低气压系统中，气体分子在相隔一定距离的阳极和阴极之间的强电场作用下电离成正离子和电子，正离子飞向阴极，电子飞向阳极，二电极间形成辉光放电，在辉光放电过程中，具有一定动量的正离子撞击阴极，使阴极表面的原子被逐出，称为溅射，如果阴极表面为用来镀膜的材料（靶材），需要镀膜的样品放在作为阳极的样品台上，则被正离子轰击而溅射出来的靶材原子沉积在试样上，形成一定厚度的镀膜层。 离子溅射时常用的气体为惰性气体氩，要求不高时，也可以用空气，气压约为 5 X 10 -2 Torr 。离子溅射镀膜与真空镀膜相比，其主要优点是：（ 1 ）装置结构简单，使用方便，溅射一次只需几分钟，而真空镀膜则要半个小时以上。（ 2 ）消耗贵金属少，每次仅约几毫克。（ 3 ）对同一种镀膜材料，离子溅射镀膜质量好，能形成颗粒更细、更致密、更均匀、附着力更强的膜。

请问,分光分度计没有单色光,而光有全波段扫描行不行?或是全波段找描能不能做到定量分析,我个人认为必要有单色光才行,我和上司说了好久了,他们有人认为不增加单色器可以做到定量分析,请各位帮忙解答一下.

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发射谱，通常称为荧光谱。在特定激发波长情况下，一段发射波长和该波长荧光强度对应曲线。如果是扫描光谱仪，激发波长选择后，发射侧光栅扫描，发射单色仪的波长对应检测器强度的曲线；如果是CCD检测器，就是对应像素的波长和强度的关系。光栅可能也需要扫描来侧高分辨率的宽范围的图谱。测量时为了提高信噪比，可以在激发侧加带通滤光片来最大限度抑制杂散光，在发射侧添加高通滤光片（低通，上转换时候）来消除二次散射光。通常设定激发波长后，发射范围设定不要包括激发波长，当然，PLQY特殊测试要求除外。要考虑检测器的响应线性区间。

[align=left][img]https://www.bihec.com/olisclarity/wp-content/uploads/sites/7/2020/04/img_5e95c7819d226.png[/img][/align][align=left]小，现代，模块化。[/align][align=left]DSM 20 CD围绕我们的减法双光栅蜂鸟单色仪构建。对于想要最接近“传统” CD的Olis客户，这是首选模型。[/align][size=24px][b]应用领域：[/b][/size][align=left]蛋白质二级结构分析，蛋白质折叠分析，核酸，RNA和DNA研究，所有手性分子研究。[/align][align=left][b]技术指标：[/b][/align][list][*]直接获取 abs（L）和abs（R）[*]单光束和双光束吸收度和圆二色性[*]标准范围：170 – 700 nm替代范围：500 – 1700 nm[*]无校准，无漂移，基线平坦[*]线性超过5个数量级[*]减法双光栅蜂鸟单色仪用于均匀测量光束（对于异质样品（例如膜蛋白和晶体）更适用）[*]椭圆形镜壳中可产生臭氧的150W氙弧灯；由Olis员工或实验室成员轻松实施的其他来源替代[/list][align=left][b]可升级以支持：[/b][/align][list][*]带有单个或多个位置Peltier电池座的散热研究[*]CD停止流[*]磁性CD使用1.4特斯拉永久磁铁[*]荧光检测CD[*]扫描吸光度和固定波长停止流[*]扫描荧光和固定波长发射停止流[/list]

自己亲自操作电镜三个月了，发现还有好多好多要学。自己也不是聪明的人，大脑不够灵光，希望勤能补拙。自己目前做纳米线的分析，老师说最好在STEM 模式下分析EELS，因为所用的电镜有单色仪（monochromator,用的是wien filter，高中物理的电场和磁场同时加在电子束上），每次操作的时候我都不知所措。上周五又浪费了一天时间，什么都没有得到，觉得自己很失败，把自己的困惑写出来，希望和明白人交流下，希望大家多多指点。1. 不清楚STEM的shutter（快门）是干嘛用的，是不是shutter自动调节电压/电流对电子束进行偏转然后在样品上进行扫描？ 在扫描的时候，如果用HAADF detector（在荧光屏上方，所以不用把荧光屏掀起）采集信息，此时在荧光屏上看到的应该是一条电子束线，有时候这条线很粗，有时候是分成了两段，这时候是不是说明光路没有调正？应该怎样找原因？2. 如果光路不好的时候，不知道怎样把光路调正。虽然知道大概就是一下几个方面。 a. 样品在同心（eucentric）高度 b. 调节聚光镜象散和物镜象散 c. 确定单色仪没有偏转。 d. 直接对中（direct alignment：在Diffraction没有按下的条件下，调节pivot point X and Y， beam shift， rotation center） 但是真正在操作的时候，不清楚原因是什么，不知道什么时候光路是好还是不好。3. 因为有单色仪的存在，光斑在TEM模式下是一个带状（长方形）的光斑，不确定怎样才能调出这个带状光斑，因为我总是得到奇形怪状的光斑。4. 不确定在STEM模式下，什么情况下rotation center是好的。谢谢。

北极星仪器仪表网讯: 又称光谱仪，是进行光谱分析和光谱测量的仪器，是将复色光分离成光谱的光学仪器。 分光仪利用各种原理可以将一束混合光分成多束纯光，一般用于光谱分析。以光电倍增管等光探测器在不同波长位置，测量谱线强度的装置。其构造由一个入射狭缝，一个色散系统，一个成像系统和一个或多个出射狭缝组成。以色散元件将辐射源的电磁辐射分离出所需要的波长或波长区域，并在选定的波长上(或扫描某一波段)进行强度测定。分为单色仪和多色仪两种。分光仪简介：分光仪( Spectroscope)是将成分复杂的光分解为光谱线的科学仪器，由棱镜或衍射光栅等构成，利用分光仪可测量物体表面反射的光线，。阳光中的七色光是肉眼能分的部分(可见光)，但若通过分光仪将阳光分解，按波长排列，可见光只占光谱中很小的范围，其余都是肉眼无法分辨的光谱，如红外线、微波、紫外线、 X射线等等。通过分光仪对光信息的抓取、以照相底片显影，或电脑化自动显示数值仪器显示和分析，从而测知物品中含有何种元素。这种技术被广泛的应用于空气污染、水污染、食品卫生、金属工业等的检测中。分光仪有多种类型，除在可见光波段使用的分光仪外，还有红外分光仪和紫外分光仪。按色散元件的不同可分为棱镜分光仪、光栅分光仪和干涉分光仪等。按探测方法分，有直接用眼观察的分光镜，用感光片记录的摄谱仪，以及用光电或热电元件探测光谱的分光光度计等。单色仪是通过狭缝只输出单色谱线的光谱仪器，常与其他分析仪器配合使用。

求单道扫描和分段扫描光谱仪的区别单道扫描光谱仪中的单道扫描和全谱直读光谱仪中的分段扫描有什么区别现在市场上进口的单道扫描icp主要有哪些厂家，谢谢

雕刻，做为一种古老的手工艺行业，是记录和承载中国灿烂历史文明的一个组成部分。然而，随着科学技术的发展和人们社会生活的变化，这种古老的靠心口相传的手工艺技艺却面临诸多的困难，而与同时，他又被提供了诸多的发展手段和机遇。 在古代，我们的每一件雕刻产品，都是靠人们的双手创造出来。因此， 每一件雕刻产品都饱含了雕刻家的心血，是智慧，文化、艺术乃至人生观和世界观的体现。所以，每一件雕刻产品都是艺术品。 然而，随着现代经济生活的发展， 随着人们生活节奏的加快，肯于钻研雕刻技艺的雕刻师越来月少了。人们在经济利益的冲击下，把科学技术应用在雕刻行业，于是出现了雕刻机。但是， 雕刻机的出现，并没有像人们当初想象的那样，可以代替全部的手工雕刻创造工作。这是为什么呢? 因为目前的雕刻机还只能进行平面雕刻。 就目前市场上的雕刻机而言，我们知道，目前还只是解决了平面雕刻的问题，或着说浮雕的问题。但从这一角度来看，我们可以预计，在不久的将来，我们会看到市场上将会出现真正的三维立体雕刻机(这就好比模具行业的五轴加工中心，六轴加工中心等等)。这种设备可以进行立体的雕刻工作，比如雕刻佛像。 那么，将来出现了三维立体雕刻机，是否就可以代替人们的全部的手工雕刻呢?答案依然是否定的。 我们知道，创造一个立体的雕刻产品。首先这种产品的三维模型是出现在雕刻师的脑子里。当然，现在我们可以把这种存在于脑子里的三维模型通过三维CAD软件转化为电脑里的三维数据模型，然后通过三维立体雕刻机雕刻出产品。但是，由于雕刻机的精度问题，由于雕刻刀的选型问题，面对有些雕刻细节，我们不得不仍然需要手工修改。 所以，我们突然会明白，雕刻机就像雕刻刀一样，说到底其实就是雕刻师的一种工具而已。 但此时我们又会发现一个问题。那就是，我们目前总是感觉雕刻机有时候雕一些高精度的细节不是很好，那是因为我们大多数的雕刻机都使用伺服马达驱动和测量定位。这种定位方法，其精度能达到0.02mm就很高了。由此，我们可以想到，如果市场有需要，将来肯定会出现采用磁栅或光栅测量定位的雕刻机---雕刻机床，定位分辨率:0.001mm。 所以，对于一部分高精度要求的雕刻机，机床的现在式就是高精度雕刻机的未来式。 我们知道，虽然雕刻机不能完全替代雕刻师手里的雕刻刀，但是雕刻机可以实现批量生产，在实现大量利润的同时，把雕刻师从繁重的重复的体力劳动中解放出来，而可以专心的进行新产品开发。 那么，新产品首件开发出来，如何转换为雕刻机的刀径线路呢? 这就需要使用我们的三维扫描仪了，通过三维扫描仪，我们目前完全可以扫描出佛像等立体的雕刻产品的外形数据。但仅仅是因为目前市场上没有三维立体雕刻机，所以，我们无法实现佛像等立体产品的批量的机械化雕刻生产。所以，由于雕刻机的限制，我们目前大多数的扫描工作，还只是满足于浮雕的需要。 关于三维扫描仪的精度，目前市场上出现的低价格的扫描仪，精度在0.1mm以下，能满足一些客户的要求。但也有较高精度的三维扫描仪，如长沙多维测量设备有限公司的雕刻机专用激光线扫描系统，扫描精度为0.045mm。当然该公司还提供模具行业使用的激光线三维扫描系统，扫描精度为0.01mm。 但是，随着高精度三维扫描仪在雕刻行业的应用和普及，也会大大的促进雕刻机的高精度化发展，甚至出现高端产品--三维立体雕刻机的问世。到那时，我们的雕刻师更会得心应手，大量的创造饱含中国文化的雕刻产品，为弘扬我国的古老文明，为世界文明的进步，作出新的更大的贡献。

[url=http://www.f-lab.cn/spectrophotometers/97xp.html][b]高精度荧光分光光度计Spectro-97[/b]XP[/url]是新一代的高性能分子荧光[b][b]分析仪器[/b][/b]。产品结构精美，具有检测灵敏度高、扫描速度快、光谱测量范围宽、动态范围大、三维扫描快等特点。特别适合用于材料研究、药物分析、生化与临床试验、水质分析与控制、食品安全检测（乳制品、水产品、维生素C、硒、黄曲霉毒素等）等领域。[b]高精度荧光分光光度计Spectro-97[/b]XP特点●高灵敏度：基于高效率的光学设计和微弱信号检测技术，水拉曼峰信噪比可达200（P-P）以上，达到国内外很高水平。●高速扫描速度：高速数字信号处理单元，扫描速度48000nm/min，1秒内即可获得经典荧光光谱，1分钟获得高质量的三维荧光光谱。●宽光谱测量范围：采用双单色仪设计，激发和发射波长范围覆盖200-900nm，满足大多数荧光分析的需要。●激发光路监测系统：仪器配备有激发光双光束比监测系统，保证荧光信号高而稳定。●高质量保证：使用滨松公司的高质量氙光源和光电倍增管探测器和仪器，提供足够的光强信号和检测灵敏度。内置光门：内置光闸，可以适用于不稳定样品。[img=荧光分光光度计]http://www.f-lab.cn/Upload/spectro-97.jpg[/img]更多分光光度计请浏览官网：[url]http://www.f-lab.cn/spectrophotometers.html?pagesize=20&p=2[/url]

光谱学是测量紫外、可见、近红外和红外波段光强度的一种技术。光谱测量被广泛应用于多种领域，如颜色测量、化学成份的浓度检测或电磁辐射分析等。光谱仪器一般都包括入射狭缝、准直镜、色散元件（光栅或棱镜）、聚焦光学系统和探测器。而在单色仪中通常还包括出射狭缝，让整个光谱中一个很窄的部分照射到单象元探测器上。单色仪中的入射和出射狭缝往往位置固定而宽度可调，可以通过旋转光栅来对整个光谱进行扫描。 　 在九十年代，微电子领域中的多象元光学探测器迅猛发展，如 CCD 阵列、光电二极管（ PDA ）阵列等，使生产低成本扫描仪和 CCD 相机成为可能。****公司的光谱仪使用的是CCD探测器，可以对整个光谱进行快速扫描而不必移动光栅。由于光通信技术对光纤的需求大大增长，从而开发了低损耗的石英光纤。该光纤同样可以用于测量光纤，把被测样品产生的信号光传导到光谱仪的光学平台中。由于光纤的耦合非常容易，所以可以很方便地搭建起由光源、采样附件和光纤光谱仪组成的模块化测量系统。 光纤光谱仪的优点在于系统的模块化和灵活性。****公司的微小型光纤光谱仪的测量速度非常快，使得它可以用于在线分析。而且由于它选用低成本的通用探测器，所以光谱仪的成本也大大降低，从而大大扩展了它的应用领域。****生产的****型工业级光纤光谱仪是工业级别专用的光纤光谱仪，其可测量近紫外、可见光、近红外等光谱，采用世界最先进的光学技术，综合了多项创新和技术专利、MS-2100的测量范围可从300nm～1000nm之间选择，光谱分辨率＜1.0nm，适用于工业上的应用，具有性价比高、操作简易、稳定性好等优点，可为客户提供OEM的产品定制选择，是目前市面上最新款、最精准、最高性价比的工业级光纤光谱仪。MS-2100具有小型化、模块化、操作简易、性能稳定等特点，从科研领域的应用到生产在线设备安全检测等的工业应用，都能让客户更快速有效的整合成一个新的光谱测量产品。目前该产品已经广泛用于工业和科研等领域，诸如LED产业、电子产业、生化检测、环境科技、食品安全、化学材料、医疗药物检测等方面。规格型号：***file:///C:\Users\asus\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps_clip_image-4274.pngfile:///C:\Users\asus\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps_clip_image-17811.pngfile:///C:\Users\asus\AppData\Local\Temp\ksohtml\wps_clip_image-14514.png 波长范围:300nm～1000nm 波长范围:200nm～400nm 波长范围:800nm～1000nm产品性能：产品型号：**** ***** *******探测器规格：探测器 SONY 2048 Hamamatsu (UV增强型) Hamamatsu (NIR增强型)光学参数：光谱范围300nm～1000nm 200nm～[font='Microsoft JhengHei'