长余辉光谱仪

Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的最佳工具。 ELEMENT GD集中了辉光放电和高分辨质谱的优势，在以下方面有杰出表现： 样品测试通量高：ELEMENT GD离子源和样品夹的设计使可缩短换样和分析时间，显著提高生产率； 检测器线性范围宽：检测器线性范围达12个数量级，可一次扫描同时检测基体和痕量元素组成； 具有固定宽度的低、中、高分辨率狭缝，采用高分辨率可直接分析有质谱干扰的同位素。

SSP9511荧光材料余辉特性测试仪一、仪器简介SSP9511荧光材料余晖特性测试仪按照DIN 67 510 标准(德标)和GB/T24981.2（国标）设计制作，主要用于荧光材料余辉特性的测试，功能齐全，性能稳定可靠，测量报表完全与国际接轨。测试范围广泛，包括各种余辉发光材料及制品（如颗粒，薄膜，涂料，瓷砖、搪瓷、铭牌等）。二、主要功能 ◆ 测试各种荧光材料的余辉特性，包括发光亮度、余辉时间及余辉亮度曲线。◆ 通过软件设定测量参数，全自动测量过程，操作简单。◆ 自动生成报表，格式可以和国际对比，可根据需要保存测量数据并打印报表。 三、技术参数 仪器标准： 德国DIN 67 510 Part 1激发光源： D65或UV；50lx～2000lx可调探测器： V(λ)一级校准，HAMAMATSU滨松高精度探测器测量方式： 全自动激发时间设定范围： 0.5min～100min测量时间设定范围： 20min～24hour亮度测量范围： 0.1mcd/m2～200cd/m2报表格式： 中英文可选，国际通用格式工作环境： 室内使用环境温度： 10℃～ 35℃主机机械尺寸： 500*328*250 （mm）主机重量： 18 kg 四、配置说明 基本配置：SSP9511主机、探测器系统、激发光源、系统软件光盘、粉料样品池、粒料样品池、电源线、串口连接线。技术要点问答：1 仪器的设计标准是什么答：德国标准DIN 67510-2-2002 ENG DIN和参考国标GB/T2498.2-20102 科研版本和工业版本的差别在那里X答 工业版本的样品池比较大 按照问题1所提的标准设计 ，科研版本用量比较少 ，样品次为非标小样品池。工业夜光材料比较成熟 亮度比较高，比较容易测试。科研用的探测器会比工业型的更加灵敏。3 激发的光源用的是什么答： 现在标准光源用的是D65标准荧光灯 ，可以根据需要更换成紫外激发或者氙灯激发。4 测试的流程怎么样答 ：大多数测试流程由计算机控制 。测试一次的流程：测试激发光源照度大约在1000lux附近-装入测试样品-设置点亮时间 - 设置测试时间-点击余辉特性测试 -根据程序测试自动的开灯 关灯 采集数据 软件上显示-自动保存数据-结束测试5 有哪些可以材料可以测试答 ：夜光的指示牌 长余辉粉体 长余辉膜 发光陶瓷 夜光纺织品 科研合成夜光材料等 具有蓄光的性能的材料。

GD-OES8000辉光放电光谱仪产品介绍：技术参数：功能方式：DC或RF；波长范围：120-800nm；光谱分辨率：18pm-25pm； 深度分辨率：1~2nm；溅射速率：＞1μm/min；深度剖析的范围：1nm~200μm；焦距：998.8mm元素通道：48探测器：光电倍增管PMT性能特点： 有着较低的检出限。 能够逐层检测样品表面。 十几个元素的含量通过一次监测就能够得到，能够给出较大的信息量。 只需几分钟就能够对一个样品，有着非常快的检测速度。 不需要对样品进行稀释，溶解等处理，能够直接对固体样品进行检测。 有非常广泛的检测范围。 光机电产品一体化整机设计。

我们分析系统的高端产品系列GDOES光谱仪GDA 550 HR和GDA 750 HR是强大的GDOES光谱仪，非常适合研发任务。基于模块化概念，可以设想多种选项组合，因此可以为您的应用实现佳配置。GDA 550 HR主要用于研究您的导电样品。GDA 750 HR也用于分析不导电样品GDA 750 HR通过光电倍增管可检测多达79个可能的元素通道，GDA 750 HR辉光放电光谱仪是您的具有挑战性的应用的理想光谱仪。它提供了大的灵活性，佳的检测限和分析精度，即使是薄的层。可选的高分辨率SPECTRUMA CCD光学元件扩展了GDA 750 HR的功能，能够将几乎无限数量的元素通道集成到您的分析工作中。GDA 750 HR的特点：GDA 750 HR配备了一个可以无碳氢化合物测量的涡旋泵。GDA 750 HR标准设备还包括一个高频辉光放电源。这也允许分析不导电的样品。使用等离子体干扰可以更容易地分析难以刺激的样品。GDA 750 HR的应用领域从热处理到镀锌到复杂的多层系统。由于PMT的快速数据采集，也可以检测到低于100nm的层测量深度达200微米具有快速数据采集的深度剖面，即使对于非导电层（如几纳米厚度的氧化物）也是如此所有金属和金属合金的含量分析分析非导电样品，如陶瓷，玻璃或漆涂层校准曲线的线性可以测量弯曲甚至形状异常的样品。

AstruM ES是一台双聚焦辉光放电质谱仪，一次扫描就可以测定从亚ppb到基体之间所有元素的含量。它被广泛地应用在高纯金属，半导体材料，航空航天材料的杂质检测。

功能强大且灵活的仪器，用于日常质量控制GDA 150 HR和GDA 650 HR GDOES光谱仪是用于质量控制和研究的强大工具，旨在处理全天候工作，同时保持良好的可维护性。GDA 150 HR主要用于研究您的导电样品，在分析性能方面丝毫不逊于其兄弟GDA 650 HR。GDA 650 HR还可以分析非导电样品。GDA 150 HR辉光放电质谱仪GDA 150 HR是一款稳定的温度稳定的CCD光谱仪，用于生产区域的深度剖面和平均分析。例如，它针对中小型热处理和涂层公司的需求量身定制 为了在扩散过程之后测试表面， 为了研究电镀涂层工艺， 为了通过PVD或CVD分析硬涂层， 用于评估热镀锌和其他类型的镀锌， 用于导电材料的内容分析 或用于基材进货检验。GDA 150 HR适用于所有导电基体。甚至可以分析轻元素，如C，N和H（也可以选择O）。借助通用测量室，可以直接测量非平面表面，如管道或球体。仪器的简单操作和分析的短测量时间允许在生产过程中进行快速干预，以纠正任何错误 - 这是其他方法的重要优势。高分辨率SPECTRUMA CCD光学元件的优势：通道选择灵活 - 可为未来应用扩展。

GDA 750/GDA 550是高灵敏度、高性能的辉光放电光谱仪，可适用于表面和涂镀层的化学元素含量分析。 多达79个分析通道，采用PMT检测器，GDA 750/GDA 550型辉光放电光谱仪是高分辨率、高灵活性和高分析精度的仪器，同时可安装独有的高分辨率CCD光学系统(选装件)，允许同时分析所有元素，具备全谱功能，也可在现有的方法中添加任一元素的任一谱线。 这种灵活性在实际分析中，尤其对于元素含量和深度测定中至关重要。所有元素，包括轻元素(H，O，N，CI，和C)均可测定。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达1纳米。GDA 750/GDA 550也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达亚ppm级。 GDA 750/GDA 550装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。 GDA 750也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。激发光源-同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率-专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量-最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um-完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-完全程序自动控制的射频光源(RF)，功率最大150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 750有效)-选装件：自动进样器，程序控制100位光学系统-光谱分辨率优于20pm(FWHM)-光谱范围：190nm--800nm-Paschen-Runge光学系统， 焦距750mm-全息原刻光栅，2400线/mm-出射狭缝，预设所有元素通道-可同时安装63个分析通道，选用选装件(400mm)，可再附加16个分析通道-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-优化的检测器高压系统，定量测试时，线性动态范围106-检测器增益自动调节-选装件：高性能CCD光学系统， 光谱范围200nm--800nm。光谱分辨率可达0.02nm(FWHM)。与主光学系统同时工作-CCD光学系统可无限制添加分析通道，真正实现全谱同时测量-选装件：单色仪，光谱范围可扩展至1500nm。可同时安装3个光栅，独立工作。真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析-光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-光源使用无油真空泵，完全免除C，H，O，S，P等元素污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害-选装件：涡轮分子泵WinGDOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换应用-热处理精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析-硬质合金层快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-陶瓷采用RF光源可精确可靠的测量-电镀测量电镀层的复杂结构和过渡界面信息，化学组分含量、层厚、质量分布，也可进行缺陷鉴别和分析-化学组分精确测量化学元素含量高精度、高重复性检测快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%-太阳能电池薄膜检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se2辉光放电光谱仪主要应用领域-汽车制造及零部件-金属加工、制造-冶金-航空、航天-电子工业-玻璃、陶瓷-表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等-电镀-光伏电池、锂电-科学研究

Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的最佳工具。了解如何借助 Thermo Scientific&trade ELEMENT GD&trade PLUS GD-MS 为固体中高级高纯度材料的直接分析定义新的标准。通过最大限度减少校准和样品制备操作，可提高样品处理量并达到超低检测限，从而使 GD-MS 适合整块金属分析和深度剖析应用。陶瓷和其他几种非导电粉末使用二次电极法进行分析，从而提供相同水平的灵敏度和数据质量。这使得 GD-MS 成为痕量金属分析的可靠标准方法。存在于固体样品中的几乎所有元素都可进行常规检测和定量：许多元素的含量低于十亿分率 (ppb) 水平。µ s 脉冲式高流速辉光放电池采用脉冲放电模式的高灵敏度离子源广泛可调的溅射速率适用于快速进行整体分析和高级深度剖析应用使用二级电极进行氧化铝粉末分析双聚焦质谱仪高离子传输率和低背景使得信噪比可达亚 ppb 级检测限高质量分辨率可提供最高水平的选择性和准确度：是无可争议的分析结果的先决条件十二数量级的自动检测系统在一次分析中测定基体和超痕量元素，全自动检测器涵盖 12 数量级动态线性范围直接定量测定基体元素 IBR（离子束比率）高效率和简单易用的软件包所有参数均由计算机控制全自动调谐、分析和数据评估自动 LIMS 连接性远程控制和诊断Windows 7样品周转时间通常少于 10 分钟能够在一次分析中测定基体元素到超痕量元素深度剖析涵盖数百微米到一纳米的层厚度最小化基体效应，便于进行直接定量

解密镀层工艺、解析镀层结构——Profiler 2辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段，可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息，从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳、光学玻璃、核材料等。 GD-Profiler 2 作为超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体和非导体复合镀层的分析，操作简单、便于维护，是镀层材料研发、质控的理想工具。 使用脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。 采用多项技术，如高动态检测器（HDD），可测试ppm-100%的浓度范围，Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。 分析速度快（2-10nm/s） 技术参数：1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑为平坦、等离子体稳定时间短，表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有大的光通量，因而拥有卓越的光效率和灵敏度。5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010。6、宽大的样品室方便各类样品的加载。7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。8、HORIBA独有的单色仪（选配）可大地提高仪器灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。9、适用于ISO14707和16962标准。仪器原理：辉光放电腔室内充满低压氩气，当施加在放电两的电压达到一定值，超过激发氩气所需的能量即可形成辉光放电，放电气体离解为正电荷离子和自由电子。在电场的作用下，正电荷离子加速轰击到（阴）样品表面，产生阴溅射。在放电区域内，溅射的元素原子与电子相互碰撞被激化而发光。更多指标参数请访问HORIBA官网

PELCO easiGlow&trade 91000辉光放电仪是一套价格合理、结构紧凑、使用方便的系统，用于TEM铜网和支持膜清洗及表面处理。如亲油性的TEM碳支持膜经气体辉光放电处理后，表面带负电而呈亲水性，水溶液因此容易被分散。随着TEM工作量增大，使用清洁和结果重现性好的TEM铜网及支持膜较以往变得更为重要。PELCO easiGlow&trade 辉光放电清洁系统值得任何一家TEM实验室拥有，它独特的优点包括：真空设定精确、方便处理周期短 结果重现好自动程序控制与手动模式可选采用触摸屏，显示与控制直观方便支持带正/负电、亲水性/疏水性模式结构紧凑，价格合理 提供两个可选的夹具，用于批量处理铜网或支持膜。当然直接用实验室的玻片承载也可以。 该系统包括两个独立控制的气体进口，真空度通过电控精密比例阀设定，新颖的设计避免了针阀的手动设定。逐步放气程序保证TEM栅网在放气时不被损伤。同时提供两种可选的不同的网格夹具来固定需要清洗的铜网。 工作距离与压力的优化曲线 对于经常进行亲水性和疏水性表面处理的实验室，提供双辉光放电系统以避免在样品室内引起交叉污染。技术参数： 等离子体电流0-30 mA功率30W 辉光放电头极性正极负极可调样品台直径75mm，可存放25 x 75mm玻片样品台高度1-25 mm可调处理延迟时间0-14411 sec.处理时间0-900 sec.样品室大小直径120 x 100mm 高进气孔2 个直径6 mm 进气孔高压真空联锁硬件，软件双重联锁真空控制Pirani 规控制, 真空范围：大气压~0.01 mbar工作真空范围1.1 - 0.20 mbar 系统显示具有LED灯光的3" 触摸，并且有5个功能键操作模式自动编程 (可编4个用户程序)尺寸305 长 x 292 宽 x 230mm 高重量6.26 kgGD4真空泵（可选）337 长 x 138 宽 x 244mm 高重量11 kg 真空泵性能2.5 m3/hr, 极限真空0.03 mbar 电源要求230V 50Hz, 10A

Autoconcept GD90是一个专为高精度元素分析所设计的高分辨辉光放电质谱仪。此辉光放电质谱仪（GDMS）提供了固体金属与绝缘体的直接分析检测。它具有非常宽的元素覆盖范围，可得到超过70种元素的有效数据，灵敏度高，轻元素重元素均可。 GDMS技术使原子化（碎片化）过程与离子化过程分开进行，故而可容易的对ppb至ppt级别的痕量杂质进行测量。此法还使得GDMS技术拥有最小的基体效应且无须特定参照材料。它可对金属与合金进行全扫描分析，可对半导体进行大量的测量分析，可对多层结构与镀层进行深度剖析。是包括金属、合金、半导体以及绝缘体（须配RF源）等高纯材料的生产与质量控制的理想工具。 主要特性：· 高分辨率，特别是对于有干扰离子存在的测定而言十分重要。· 广泛的元素涵盖范围，软件中包括70个元素相关的干扰离子数据。· 由于原子化和离子化过程发生在不同区域，带来可忽略的基体效应。· 低至亚ppb级的定量数据。· 具有深度剖面同位素比值分析能力。· 最少的样品制备过程。

辉光放电仪主要用于透射电子显微镜（TEM）样品载网和支持膜的清洗及表面处理。如亲油性的TEM碳支持膜经气体辉光放电处理后，表面带负电荷而变得具有亲水性，样品水溶液因此很容易分散在其表面，便于样品在TEM下观察。同时可以通过辉光放电产生的离子流，对样品表面进行清洗，除去样品表面的有机物分子，灰尘颗粒等污染物，更加真实的在TEM下反映样品的表面形貌结构。主要功能：1、自动程序设定、手动模式选择2、直观的触摸屏显示与控制3、支持带正/负电表面的亲水性或憎水性处理4、换样时间短，真空抽速高 主要技术参数辉光电流0-30 mA高压功率30W样品台?75mm，25 x 75mm载玻片槽样品台高度1-25 mm工作时间0-900 sec.样品室尺寸?120 x 100mm H真空控制潘宁规,范围从大气到0.01 mbar工作真空度1.1 - 0.20 mbar参数设置3" 触摸屏设置操作模式自动/手动可选外观尺寸305 L x 292 D x 230mm H重量6.26 kg

仪器简介：GDS850辉光放电光谱仪辉光放电光谱法采用低压，冷激发光源，材料被氩离子流均匀地从样品表面剥离溅射。 被溅射出的材料原子在远离样品表面低氩的等离子体内被激发。 GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力，它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分析和表面处理的结果。 仪器检测光谱范围从120到800纳米，最多配置58个通道。特征溅射与激发分离宽动态范围的线性校准曲线更小自吸收和材料再沉积原子线激发少和窄的发射线减少干扰无冶金记忆效应较少的校准标样低氩气消耗两次分析间的自动清扫均匀的溅射其他方法可能只是激发样品表面，所采集的数据并不一定具有代表性。而辉光放电，样品材料均匀地从表面激发溅射， 冷光源的激发为一些困难样品的检测提供了很好的技术。以下为对一个硬盘表面100nm深度每种元素3次分析的结果，可以看到每种元素随深度的分布。 可选件射频光源统计软件包光源套件样品夹持器SMARTLINE远程诊断软件求耗材相关信息gds850参考卡(203-104-039)gds850样本文章：辉光放电-涂层分析的现代方式应用报告：QDP物理气相沉积法（102）应用报告：GDS镍及镍基合金（052）应用报告：GDS深度剖面分析（033）应用报告：镀锌钢（001）应用报告：抛光不锈钢上的薄氧化层（002）应用报告：铝合金基板上的商用硬盘（003）应用报告：玻璃基板上的40GB硬盘在（- 004）应用报告：氧化铝样品中的铬（- 005）应用报告：NIST 2135c（- 006）性能报告：GDS分析基体样品的分析前准备（031）性能报告：GDS ASTM E415真空法（030）性能报告：GDS校准（- 041）性能报告：GDS辉光放电光源（035）性能报告：GDS ASTM E1009（- 044）性能报告：铝膜QDP分析（028）性能报告：镀铝钢的涂层分析（040）性能报告：渗碳钢的QDP分析（036）性能报告：粘弹性钢夹层QDP分析（034）性能报告：磷酸铁涂层QDP分析（043）性能说明：镀锌钢QDP分析（027）性能说明： QDP分析电镀样品（024）性能说明：GDS850硬盘深度剖面-048

GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体（和/或）非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素，其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。 GD-Profiler 2可分析几纳米到200微米的深度，深度分辨率小于1纳米。GD-Profiler 2采用了脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。此外，还采用了多项技术，如高动态检测器（HDD）可测试ppm-的浓度范围，Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。主要应用领域包括镀锌钢板、彩涂板、新型半导体材料、LED晶片、硬盘、有机镀层、锂电池、玻璃、陶瓷等等。技术参数：1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短，表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器高的光通量，因而拥有卓越的光效率和灵敏度。5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏的检测ppm含量的元素。动态范围为5×1010。6、宽大的样品室方便各类样品的加载。7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。8、HORIBA单色仪（选配）可极大地提高仪器灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。9、适用于ISO14707和16962标准。更多指标参数请访问HORIBA官网

Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的最jia工具。ELEMENT GD集中了辉光放电和高分辨质谱的优势，在以下方面有杰出表现：- 样品测试通量高：ELEMENT GD离子源和样品夹的设计使可缩短换样和分析时间，显著提高生产率；- 检测器线性范围宽：检测器线性范围达12个数量级，可一次扫描同时检测基体和痕量元素组成；- 具有固定宽度的低、中、高分辨率狭缝，采用高分辨率可直接分析有质谱干扰的同位素。

GDA Alpha采用最新研发的CCD检测器，使得辉光放电光谱仪技术迈入了一个全新的时代。 GDA Alpha装备有最新一代的CCD固态检测器，与高分辨率光学系统完美匹配。新一代的CCD检测器不但具备传统光电倍增管的低噪声、宽动态范围的特点，而且还具备优异的分辨率和全谱数据采集能力，特别适合同时需要高精度检测和分析灵活性的用户。 高分辨率CCD光学系统使得GDA Alpha具备无限的扩展能力，允许使用者在任何分析方法下任意扩展和增加任何分析通道。 这种灵活性允许进行快速的基体总量和涂镀层分析，所有元素，包括O，N，C等非金属元素均可进行定量分析。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达纳米级。GDA Alpha也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达ppm级。 GDA Alpha装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm，可适应多种类型的样品分析，方便快捷。应用 热处理-精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层 可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。-硬质合金层 快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-化学组分 精确测量化学元素含量 高精度、高重复性检测 快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%辉光放电光谱仪主要应用领域 汽车制造及零部件 金属加工、制造 冶金 航空、航天 表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等 电镀 光伏电池、锂电 科学研究激发光源 同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性-高效的样品直接冷却。可直接分析金属薄膜、热处理层。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率-专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量-最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um-完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-选装件：自动进样器，程序控制100位 光学系统 高性能CCD光学系统，光谱范围120--800nm-光谱分辨率优于20pm(FWHM)-Paschen-Runge光学系统， 焦距400mm-全息原刻光栅，2400线/mm-光室恒温控制，仪器稳定性优异-可无限制的配置分析通道，所有元素同时检测-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-CCD检测器的灵敏度可自动调节真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析-光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-单泵设计，同时运用于光源和光室-特殊的旋片真空泵，可最大限度的减少C，H元素的污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害WinG DOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-基体总量元素测量校准-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换规格电源230V/50Hz/16A工作气体99.999%含量-深度测试和H，N，O检测99.995%基体检测氩气消耗0.05L/min， 待机状态~0.2L/min， 测量状态工作环境温度15℃to28℃相对湿度20%to80%.外观尺寸675mmx390mmx950mm重量约95kg

辉光放电光谱仪GDA150 HR是一款功能强大的分析仪器，非常适合质量控制和研究用途，并且可以全天候高效运行。 GDA150 HR主要实际用于研究导电样品，其分析性能几乎与GDA 650 HR相当。这款功能强大且温度稳定的CCD光谱仪经过热处理以及涂层测试的需求进行了优化，在制造业中广泛应用。它不仅适用于所有导电基体，还可以分析C、N和H等轻元素（也可选择O）。由于操作简单且分析时间快速,GDA150 HR 可以迅速介入生产过程并在测量时纠正任何错误。 应用领域 1. 扩散过程的表面试验。 2. 制造中的深度剖面分析。 3. 涂装工艺研究。 4. 硬质涂层分析。 5. 涂镀层评价。 6. 灵活的信道选择。 7. 测量弯曲和不寻规则形状的样品。 8. 全谱评估。

PELCO easiGlow™ 91000辉光放电清洁系统是一套价格合理、结构紧凑、使用方便的系统，用于TEM栅网和支持膜清洗及表面处理。如亲油性的TEM碳支持膜经气体辉光放电处理后，表面带负电而呈亲水性，水溶液因此容易被分散。随着TEM工作量增大，使用清洁和结果重现性好的TEM栅网及支持膜较以往变得更为重要。PELCO easiGlow™ 辉光放电清洁系统值得任何一家TEM实验室拥有，它独特的优点包括： 真空设定精确、方便 处理周期短 结果重现好 自动程序控制与手动模式可选 采用触摸屏，显示与控制直观方便 支持带正/负电、亲水性/憎水性模式 结构紧凑，价格合理 该系统包括两个独立控制的气体进口，真空度通过电控精密比例阀设定，新颖的设计避免了针阀的手动设定。逐步放气程序保证TEM栅网在放气时不被损伤。 对于经常进行亲水性和憎水性表面处理的实验室，提供双辉光放电系统（图2）以避免在样品室内引起交叉污染。 技术参数： 等离子体电流0-30 mA功率30W 辉光放电头极性正极负极可调样品台75mm，可存放25 x 75mm玻片样品台高度1-25 mm可调处理延迟时间0-14411 sec.处理时间0-900 sec.样品室大小?120 x 100mm 高进气孔2 个?6 mm 进气孔高压真空联锁硬件，软件双重联锁真空控制Pirani 规控制, 真空范围：大气压~0.01 mbar工作真空范围1.1 - 0.20 mbar 系统显示具有LED灯光的3" 触摸，并且有5个功能键操作模式自动编程 (可编4个用户程序)尺寸305 长 x 292 宽 x 230mm 高重量6.26 kgGD4真空泵（可选）337 长 x 138 宽 x 244mm 高 重量11 kg 真空泵性能2.5 m3/hr, 极限真空0.03 mbar 电源要求230V 50Hz, 10A

QuickGlow是经济实惠、易于使用、放电稳定的一款国产辉光放电仪，其常见的应用之一是用于TEM载网表面的亲水化处理，使得极性悬浮液在载网上更容易扩散，减少颗粒团聚，提高染色剂的附着效果，使样品的对比度更高，图像更清晰，便于分析。经过辉光放电处理的载网更容易捞起和贴合超薄切片样品，很好的提高了重金属染色的均匀性。QuickGlow辉光放电仪也可用于SEM成像分析的前处理，如提升粉末悬浮液在基底的分散效果、液体样品基底的亲水性处理等。同时它对大分子冷冻电镜成像有很好的辅助作用，可以改善冰层质量，提高图像分辨率，亲水性化处理后的表面有助于水分子均匀分布，从而形成均匀的薄冰层。辉光放电处理后的铜网适用于各种类型的样品，包括：生物大分子：如蛋白质、核酸、病毒颗粒等。纳米材料：如纳米颗粒、纳米线、二维材料等。无机样品：如薄膜、微粒等。性能特点易于操作，换样便捷；高效、一致的清洁效果；放电稳定，不损伤样品；处理时间快，从抽真空到辉光放电处理结束，整个过程只需几分钟。搭配25孔载网支架，可实现大批量处理，大大提高效率。 技术参数等离子电流：3-30mA高压电源：50W辉光放电头极性：负极样品台：Ø 63mm，其它规格可定制样品台高度：30-80mm可调处理时间：0-999s可调腔室尺寸：Ø 120 mm x 120mm 高工作真空：0.20 – 1.0mbar可调高压真空联锁：软件联锁系统显示：102mm 长 x 68mm 宽LCD显示设备尺寸：417mm长x 305mm宽 x 280mm 高设备重量：9.6kg电源要求：220V 50Hz效果展示辉光放电处理前辉光放电亲水处理后

GDA 750/GDA 550是高灵敏度、高性能的光谱仪，可适用于表面和涂镀层的化学元素含量分析。 多达79个分析通道，采用PMT检测器，GDA 750/GDA 550型辉光放电光谱仪是高分辨率、高灵活性和高分析精度的仪器，同时可安装独有的高分辨率CCD光学系统(选装件)，允许同时分析所有元素，具备全谱功能，也可在现有的方法中添加任一元素的任一谱线。 这种灵活性在实际分析中，尤其对于元素含量和深度测定中至关重要。所有元素，包括轻元素(H，O，N，CI，和C)均可测定。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达1纳米。GDA 750/GDA 550也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达亚ppm级。 GDA 750/GDA 550装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。 GDA 750也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。激发光源-同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性 高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率-专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量-最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um-完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-完全程序自动控制的射频光源(RF)，功率最大150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 750有效)-选装件：自动进样器，程序控制100位光学系统-光谱分辨率优于20pm(FWHM)-光谱范围：190nm--800nm-Paschen-Runge光学系统， 焦距750mm-全息原刻光栅，2400线/mm-出射狭缝，预设所有元素通道-可同时安装63个分析通道，选用选装件(400mm)，可再附加16个分析通道-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-优化的检测器高压系统，定量测试时，线性动态范围106-检测器增益自动调节-选装件：高性能CCD光学系统， 光谱范围200nm--800nm。光谱分辨率可达0.02nm(FWHM)。与主光学系统同时工作-CCD光学系统可无限制添加分析通道，真正实现全谱同时测量-选装件：单色仪，光谱范围可扩展至1500nm。可同时安装3个光栅，独立工作。真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析-光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-光源使用无油真空泵，完全免除C，H，O，S，P等元素污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害-选装件：涡轮分子泵WinGDOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换应用-热处理 精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层 可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析-硬质合金层 快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-陶瓷 采用RF光源可精确可靠的测量-电镀 测量电镀层的复杂结构和过渡界面信息，化学组分含量、层厚、质量分布，也可进行缺陷鉴别和分析-化学组分 精确测量化学元素含量 高精度、高重复性检测 快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%-太阳能电池薄膜 检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se2辉光放电光谱仪主要应用领域-汽车制造及零部件-金属加工、制造-冶金-航空、航天-电子工业-玻璃、陶瓷-表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等-电镀-光伏电池、锂电-科学研究规格电源230V/50Hz/16A工作气体99.999%含量-深度测试和H，N，O检测99.995%基体检测氩气消耗OL/min， 待机状态~0.2L/min， 测量状态工作环境温度15℃to28℃相对湿度20%to80%外观尺寸1380mmx1440mmx890mm重量约580kg

GDA 650/GDA 150的成功推出， 意味着以CCD检测器为代表技术的辉光放电光谱仪进入了新的高度。 GDA 650/GDA 150装备有最新一代的CCD固态检测器，与高分辨率光学系统完美匹配。新一代的CCD检测器不但具备传统光电倍增管的低噪声、宽动态范围的特点，而且还具备优异的分辨力和全谱数据采集能力，特别适合同时需要高精度检测和分析灵活性的用户。 高分辨率CCD光学系统使得GDA 650/GDA 150具备无限的扩展能力， 允许使用者在任何分析方法下任意扩展和增加任何分析通道。 这种灵活性允许进行快速的基体总量和涂镀层分析，所有元素，包括O，N，C等非金属元素均可进行定量分析。 在含量-深度测量中，分析深度可达200um以上， 层分辨率可达纳米级。GDA 650/GDA 150也可进行基体总量分析，尤其对于复杂基体，具备优异的线性校准曲线。检出限可达ppm级。 GDA 650/GDA 150装备有最新一代的辉光激发光源，溅射直径从1mm至8mm。采用通用样品夹具(USU)，也可进行小样品和异形样品的分析，无需更换特殊电极。 GDA 650也可选装配置脉冲式射频光源(选装件)，用于分析非导体材料。 采用脉冲式射频光源后，可分析非导体、热敏感样品，如：陶瓷、玻璃、有机涂层、有机薄膜。还可选装配置特殊样品转移室(选装件)，用于分析极薄的薄膜和在空气中易氧化的薄膜。 激发光源 同一激发光源允许安装直径为1mm至8mm电极，从而保证优秀的稳定性和重复性-高效的样品直接冷却。可直接分析热敏感样品、极薄的金属薄膜和有机薄膜。如可直接分析50um的不锈钢薄膜-优化的氩气流量控制，可以同时实现低检出限和高深度分辨率 -专门设计的自动清扫装置，保证了高精度、高重复性测量最大样品分析厚度45mm，最小厚度50um -完全程序自动控制的直流光源(DC)，电压最高可达1500V，电流250mA-完全程序自动控制的射频光源(RF)，功率最大150W，电压、电流自动监控，实时等离子自动调节、脉冲工作模式(选装件、仅GDA 650有效)-选装件：自动进样器，程序控制100位 光学系统 高性能CCD光学系统，光谱范围120--800nm-光谱分辨率优于20pm(FWHM) -Paschen-Runge光学系统， 焦距400mm-全息原刻光栅，2400线/mm-光室恒温控制，仪器稳定性优异-可无限制的配置分析通道，所有元素同时检测-方便易操作的透镜清洁，可立即进行分析-CCD检测器的灵敏度可自动调节 真空系统-全不锈钢壳体，可充分保证痕量元素的分析，尤其对于N元素分析 -光室真空采用二级旋转叶片真空泵，噪音50dB-单泵设计，同时运用于光源和光室-特殊的旋片真空泵，可最大限度的减少C，H元素的污染-内置安全阀设计，以避免突然断电对旋转叶片泵的损害-选装件：涡轮分子泵-选装件：旋转叶片真空泵可用无油真空泵替代 WinG DOES软件-WindowsXP或更高平台运行-使用界面简单、易懂，分级管理和操作-功能强大-方法建立简便，在线指导-校准样品管理，珍稀样品添加-多种校准模式-基体总量元素测量校准-QDP定量分析校准-用户定制测量报告模式-数据处理和再处理功能-多种格式数据输出-分析过程中界面语言切换应用-热处理 精确测量所关心元素的含量-深度分布，定性、定量检测表面污染物、夹杂物和物相比例-涂镀层 可获得涂镀层完整的化学组分信息、层厚度，元素含量-深度分布。非导体涂镀层，如：油漆、釉等可采用RF光源分析-硬质合金层 快速分析硬质合金层和热处理工件的渗层化学组分-陶瓷 采用RF光源可精确可靠的测量-化学组分 精确测量化学元素含量 高精度、高重复性检测 快速分析：60s可分析从H至U的所有元素， 检测范围从ppm至100%-太阳能电池薄膜 检测太阳能光伏电池薄膜中化学元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se，采用RF光源可精确可靠的测量辉光放电光谱仪主要应用领域-汽车制造及零部件-金属加工、制造-冶金-航空、航天-电子工业-玻璃、陶瓷-表面处理：化学气相沉积、物理气相沉积等-电镀-光伏电池、锂电-科学研究规格电源230V/50Hz/16A工作气体99.999%含量-深度测试和H，N，O检测99.995%基体检测氩气消耗0.05L/min， 待机状态~0.2L/min， 测量状态工作环境温度15℃to28℃相对湿度20%to80%外观尺寸1250mmx1440mmx650mm重量约210kg

GVC-100辉光放电仪主要用于铜网的亲水性处理。创 新 点：全自主研发，自主知识产权，操作便利，重复性好应用领域：透射电镜 生物样品制备生物样品在进行TEM观测时，需要将制备好的样品放置于铜网上后放入TEM内进行观测，因此，需要铜网具备良好的亲水性。铜网往往是没有亲水性的，所以需要利用该仪器对铜网进行处理，改变表面特性，实现良好的亲水性。该设备也可以用于TEM样品杆的清洗等。技术参数：放电电流0-30mA 连续可调电源功率Max. 50W处理平台Φ75mm预处理时间1-999 秒处理时间1-9999 秒样品室Φ130×130mm进气接口2 个φ4 快拧接口真空测量皮拉尼真空规极限真空度1Pa工作真空20-100Pa人机界面5 英寸彩色触摸式液晶屏外观尺寸424×271×255mm软件保护真空保护、过流保护等

GloQube® Plus是一种性价比高、结构紧凑同时易于使用的辉光放电仪，满足Cryo-TEM实验室样品制备需求。GloQube® Plus的主要应用是对TEM载网表面进行改性，以满足各种大分子冷冻电镜成像的要求，该系统将两个腔室集成在一个系统中，能够同时实现亲水和疏水处理。

GloQubePlus是一种性价比高、结构紧凑同时易于使用的辉光放电仪，满足Cryo-TEM实验室样品制备需求。GloQubePlus的主要应用是对TEM载网表面进行改性，以满足各种大分子冷冻电镜成像的要求，该系统将两个腔室集成在一个系统中，能够同时实现亲水和疏水处理。

仪器简介： GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体（和/或）非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素，其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。 GD-Profiler 2可分析几纳米到150微米的深度，深度分辨率小于1纳米。GD-Profiler 2采用了脉冲式射频辉光源，可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。此外，还采用了多项专利技术，如高动态检测器（HDD）可测试ppm-100%的浓度范围，专利Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。主要应用领域包括镀锌钢板、彩涂板、新型半导体材料、LED晶片、硬盘、有机镀层、锂电池、玻璃、陶瓷等等。 技术参数： 1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短，表面信息无任何失真。 2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。 3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm~800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。 4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有最大的光通量，因而拥有卓越的光效率和灵敏度。 5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5 x 1010。 6、宽大的样品室方便各类样品的加载。 7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。 8、HORIBA独有的单色仪（选配）可极大地提高仪器灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。 9、适用于ISO14707和16962标准。

PELCO easiGlow&trade Glow Discharge 91000辉光放电清洁系统是一套价格合理、结构紧凑、使用方便的系统，用于TEM铜网和支持膜清洗及表面处理。如亲油性的TEM碳支持膜经气体辉光放电处理后，表面带负电而呈亲水性，水溶液因此容易被分散。随着TEM工作量增大，使用清洁和结果重现性好的TEM铜网及支持膜较以往变得更为重要。PELCO easiGlow&trade 辉光放电清洁系统值得任何一家TEM实验室拥有，它独特的优点包括： 真空设定精确、方便 处理周期短 结果重现好 自动程序控制与手动模式可选 采用触摸屏，显示与控制直观方便 支持带正/负电、亲水性/疏水性模式 结构紧凑，价格合理 该系统包括两个独立控制的气体进口，真空度通过电控精密比例阀设定，新颖的设计避免了针阀的手动设定。逐步放气程序保证TEM铜网和支持膜在放气时不被损伤。提供两个可选的夹具，用于批量处理铜网或支持膜。当然直接用实验室的玻片承载也可以。对于经常进行亲水性和疏水性表面处理的实验室，提供双辉光放电系统（图2）以避免在样品室内引起交叉污染。 工作距离与压力的优化曲线 技术参数： 等离子体电流0-30 mA功率30W 辉光放电头极性正极负极可调样品台75mm，可存放25 x 75mm玻片样品台高度1-25 mm可调处理延迟时间0-14411 sec.处理时间0-900 sec.样品室大小?120 x 100mm 高进气孔2 个?6 mm 进气孔高压真空联锁硬件，软件双重联锁真空控制Pirani 规控制, 真空范围：大气压~0.01 mbar工作真空范围1.1 - 0.20 mbar系统显示具有LED灯光的3" 触摸，并且有5个功能键操作模式自动编程 (可编4个用户程序)尺寸305 长 x 292 宽 x 230mm 高重量6.26 kgGD4真空泵（可选）337 长 x 138 宽 x 244mm 高重量11 kg真空泵性能2.5 m3/hr, 极限真空0.03 mbar电源要求230V 50Hz, 10A

细胞融合--迂回融合腔用于微生物、植物、真菌、酵母及哺乳动物细胞的细胞融合The BTX Meander Fusion Chamber is a microslide with a novel designspecifically used for electro cell fusion. This chamber isconstructed of a conductive metal alloy, which has been depositedin a finger-like projection array on a glass microscope slide. Thismethod of manufacturing creates a highly precise working area. Theconfiguration is designed to give direct viewing of a surface area.This can be used for viewing dimer formation during alignment whileunder a microscope. The gaps are set at 0.2mm.ApplicationsThe Meander Fusion Chamber generates an inhomogenous field and isused for cell fusion of microorganisms, plant, fungi, yeast andmammalian cells. It is compatible with most BTX pulse generators.Cao1 used the Meander Fusion Chamber to generate quadromassecreting bifunctional antibodies. He found this method both rapidand economical to produce several quadromas in a short time.Technical SpecificationsStandard Capabilities *Depending on buffer composition andgenerator capabilityVoltage Range: 0 - 480 VdcFrequency: 1 MHzPulse Length/Time Constants Range: 1 µ sec - 99 msecPulse Number Range: 1-99 (depending on voltage)Operating Temperature: 5° - 40° CIntended Use: Indoor UseRelative Humidity: 20-80%Maximum Altitude: 2000m (6562 ft)Pollution Degree: IIInsulation Category: CAT IPhysical CharacteristicsGap size: 0.2 mmElectrode Material: SilverField Type: InhomogeneousCompatibilityGenerators: ECM 630, 830, 2001, 200, 600, & T820.Ordering InformationModel Description Part Number454 Meander Fusion Chamber, pkg. of 4 01-000098-01465 Square-post Micrograbber Cable 06-700044-015343 Coaxial-Banana Connection Cable 06-700042-014001 Enhancer 400 w/ Computer & Printer 01-001483-01ReferenceCao et al., A rapid non-selective method to generate quadromas bymicroelectrofusion, Journal of Immunological Methods, 187: 1-7(1995). BTX Reference ID#3194.

GD-Profiler HR拥有高光谱分辨率，为解决复杂基体中的疑难问题提供了适宜、便利的方法。技术参数：1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短、表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道（同时）光谱仪可全谱覆盖，光谱范围从110nm-800nm，可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有高光通量，因而拥有卓越的光效率GD敏度。5、高动态检测器（HDD）可快速、高灵敏地检测ppm含量的元素。动态范围为5×1010。6、宽大的样品室方便各类样品的加载。7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。8、HORIBA单色仪（选配）可极大的提高仪器的灵活性，可实现固定通道外任意一个元素的同步测试，称为n+1。9、适用于ISO14707和16962标准。10、GD-Profiler HR多色仪焦距为1米，光谱分辨率可达14pm，最多可同时分析60种元素。11、GD-Profiler HR可选配焦距为1米的单色仪，光谱分辨率达9pm。更多指标参数请访问HORIBA官网

半自动氩气净化机一、概述 RZ-YA-4C型氩气净化机为本公司精心设计制造的一款应用广泛的实验室微型氩气净化机，选材精良，采用精巧的外观设计，合理的销售价格，恒定的质量保障，热诚的服务，实为质优价廉之精品。二、技术参数： 1、处理气量： 1-4Nm3/h 2、原料气要求： 一般的瓶装纯氩、液氩或者较好的管道氩均可使用 3、工作压力0.2-0.8MPa可调 4、(氩气净化器)净化效能：纯化后符合并高于GB/T4842-2017的99.9999%要求 气体 纯度(%)H2(ppm)O2(ppm)N(ppm)CO2(ppm)CH4(ppm)露点 (H2O)精氩 99.9999≤0.1≤0.2≤0.2≤0.2≤0.2≤0.5 三、设备特点： 1、净化剂则采用了世界很先进的净化材料。其特点有吸附深度好，吸收杂质气体量大的特点，纯度可达99.9999%以上 2、净化器采用特殊结构和装料方法，流速设计合理，气流分布均匀 3、对原料氩气要求不高，一般的瓶装纯氩、液氩或者较好的管道氩均可使用； 4、净化器的活化程序，严格按照活化程序执行，根据现场实际情况适当调整 5、外形尺寸小：宽450*深600*高1200mm，人性化的高度设计，增加了可控性及整体协调感 6、电源：50H 220V，无需拉专线，一般的电源插座就可满足使用 7、额定功率：1.6Kw，大大减低了能耗 8、重量：≈130Kg，重量轻，移动方便，增加脚轮，便于推动 9、全BA级内外精拉管管路。采用进口卡套式球阀。杜绝了气体流经管路的再次污染，一次安装终身使用，真正做到零泄漏及无故障运行。 10、本机干燥部分属“可再生式”，当杂质吸附饱和后,可通过再生恢复活性反复使用,寿命长，再生过程自动完成。 11、本机再生采用原气吹扫的流程,不用氢气,无安全隐患,不需专用机房。四、应用领域该系列氩气纯化机用于激光器、溅射、电子、半导体生产，科研、气体分析、医学、冶金，可与美国热电，德国斯派克、OBFL；瑞士ARL，日本岛津，意大利纳克，英国阿朗，北京利曼、英国牛津、烟台东方、无锡英之城、杭州聚光科技、江苏天瑞集团等多家光谱仪公司生产的直读光谱仪、荧光光谱仪、辉光光谱仪、的直读光谱仪、荧光光谱仪、等离子光谱仪、辉光光谱仪、定氢仪配套使用，以超纯的气体质量保证分析数据的可靠性和稳定性，效果都很好，同时可以较大的节省购买高纯氩气的成本，获得用户好评。

ZURO 发射光谱监控光谱仪25000:1 动态范围 / 小于 1nm 分辨率 / 超过 10000h 验证 ZURO 系列光纤光谱仪 针对集成电路制造工艺设备研发，能在半导体 Fab 环境下长期稳定工作。包含 ZURO-ND 和 ZURO-SM 共 2 款型号产品，适用于不同场景下的刻蚀、去胶、镀膜等工艺的监控。同时，光谱仪可配备 ideaEPD 工业软件，为客户提供全面的刻蚀终点检测解决方案。典型应用领域： 栅极工艺 栅极工艺的多晶硅刻蚀，需要一套高灵敏、高信噪比和大动态范围的光谱仪。 沟槽工艺 IGBT 器件刻蚀要控制深度，需要 in-situ 刻蚀深度监控方案，提高良率。 博世工艺 MEMS 器件加工中，刻蚀与钝化工艺反复交替进行，需要较为强大的复杂过程监控算法。 去胶工艺 Wafer 图形化后去胶，需要多套联用和高通量清洗方案，降低客户 COO 成本。 ZURO 光谱仪 具有以下显著特点： 1 小于 1nm 光学分辨率 ZURO 系列光谱仪采用特殊光路设计，实现较高光学分辨率，能区分间隔相邻的谱线，满足客户的大部分工业监控需求； 2 25000:1 大动态范围 ZURO 系列光谱仪采用了复享光学研发的信号调制方法能获得较大动态范围，实现客户在高强度辉光下测到微弱信号谱线的苛刻要求； 3 超过 10000 小时长期验证 ZURO 系列光谱仪经过半导体厂商长期测试，不掉线且数据稳定，保障客户稳定在线生产； 4 宽波段等离子体谱分析 ZURO 系列光谱仪探测器响应波段覆盖 200~1100nm，安装定制滤光片，保证客户在复杂等离子体信号中能获得正确与真实的元素特征光谱信号，消除虚假特征信号。此外，复享光学深入半导体设备厂商应用，研制用于刻蚀终点检测行业软件 ideaEPD，实现多达 10 腔同时采样监控、自定义终点判断算法、历史数据再查询等功能，并可提供 SDK 开发包，兼容 MES 系统。