氮化装置

用途: 界面直观，再生与反洗简单控制。盐箱箱体由聚乙烯原料吹塑成型，美观坚固。可根据实际情况设置参数，满足不同需求。手动功能，可以强制实现再生。断电参数保护功能。停电三天后只需重设当前时间，其他信息仍旧保存。键盘锁定功能。有效防止误操作。 订购信息: RephiLe 货号产品描述 LAB0200AT 200lph 全自动软化装置（自动再生，全套） LAB0500AT 500lph 全自动软化装置（自动再生，全套） LAB1000AT 1000lph 全自动软化装置（自动再生，全套） LAB1500AT 1500lph 全自动软化装置（自动再生，全套） LABSA1010 软化用盐，10kg/pk

Restek Click-On In-Line 超净气体纯化装置1、确保99.9999%高纯度的纯气输出.2、Click-On装置操作容易,更换密封滤芯 1/4"或者 1/8"的黄铜或不锈钢材质.3、氦气专用的三重气体装置是GC-MS的理想选择—它把氧气、水分和烃的洗脱放在一个滤芯当中完成.4、三重气体捕集装置是纯化载气的理想选择—它把氧气、水分和烃的洗脱放在一个滤芯当中完成.5、燃气纯化装置是净化火焰离子化检测器(FID)燃气的理想选择，他可以同事去除水分和烃类.点击适配器连接器让滤芯进行空气交换，并且不允许带入氧气，水分和烃类.取下报废的捕集器，弹簧阀会自动管壁，知道新的捕集器安装之后，阀门自动打开.注: 超净气体捕集器可被推荐用来纯化含低浓度污染物的腐蚀性气体。在进入氧气净化器的气流中氧气的最大浓度是 0.5%。

流程简述： 化工原理是化工、生物、食品、制药等专业必修课。化工原理实验是大部分学校必做的实验。因此化工原理实验被列为重点实验内容之一。东方仿真使用自主开发平台，利用动态数学模型实时模拟真实实验现象和过程，通过3D仿真实验装置交互式操作，产生和真实实验一致的实验现象和结果。每位学生都能亲自动手做实验，观察实验现象，记录实验数据，验证公式、原理定理。另外，该系统还配备开放的标准实验思考题生成器。该系统分为教师站和学生站。通过网络，教师站上的监控和管理程序方便地对学生站运行的实验仿真软件进行实时的监控和管理。本仿真软件以北京化工大学实验装置为主，兼顾华东理工大学的实验装置。包括了所有典型的化工原理实验装置。培训工艺：1.1 、离心泵特性曲线测定1.2 、流量计的认识和校核1.3 、流体阻力系数测定1.4 、传热（水-蒸汽）实验1.5 、传热（空气-蒸汽）实验1.6 、精馏（乙醇-水）实验1.7 、精馏（乙醇-丙醇）实验1.8 、吸收（氨-水）实验一1.9 、吸收（氨-水）实验二1.10 、丙酮吸收实验1.11 、干燥实验1.12 、板框过滤实验建议配置：学员站：CPU：奔腾E2140或更强的CPU（或AMD Athlon X2 4000）内存：1G以上显卡和显示器：分辨率1024x768以上硬盘空间：至少1G剩余空间操作系统：Windows XP SP2/SP3教师站：CPU：奔腾E5200或更强的CPU（或AMD Athlon X2 5000）内存：1G以上（推荐2G以上）显卡和显示器：分辨率1024x768以上硬盘空间：至少1G剩余空间操作系统：Windows Server 2003 SP2网络要求：网络必须稳定通畅(统一式激活)

氮化硼坩埚 有需求请联系021-35359028/29氮化硼又称白色石墨，其结构与石墨相似，属于 片状六方结构，理论密度2.27克/厘米3，硬度为莫氏2。 氮化硼（BN)具有熔点高、导热、绝缘性能良好，抗弯强度高、抗热冲击性能好、耐化学腐蚀。在高温下仍具有相当稳定的高频介电性能。BN最独特的优点是具有优良的机械加工性能可以加工成形态复杂、精度很高的瓷件。因此广泛应用于复合导电陶瓷蒸发舟、高温坩埚、溅射靶材、高温高频和等离子弧的电绝缘体、电子模块散热装置、行波管收集和散热片、晶体管散热片、半导体封装散热基板、高频感应电炉材料以及原子反应堆结构材料、防光电辐射、化学辐射、核辐射材料和雷达传递窗。 氮化硼坩埚是氮化硼粉末经过热压烧结成制品料块后根据客户所需尺寸规格加工而成。用于熔解铝，锌和其他合金冶炼，代替石墨坩埚。其特点如下：1. 化学性能稳定，与被溶解金属基本不反应，提高合金的纯度。2. 抗氧化性能好，比石墨材料高出400-500度，最高可达900度。3. 使用寿命长。 规格尺寸：按客户要求定做！

货号产品名称规格与型号包装00-000501-15气体净化器 除水30*150mm不锈钢支00-000501-15Y气体净化器 除水30*150mm有机玻璃支00-000502-15气体净化器 除烃30*150mm不锈钢支00-000502-15Y气体净化器 除烃30*150mm有机玻璃支00-000503-15气体净化器 除杂质30*150mm不锈钢支00-000503-15Y气体净化器 除杂质30*150mm有机玻璃支00-000501-30气体净化器 除水30*300mm不锈钢支00-000501-30Y气体净化器 除水30*300mm有机玻璃支00-000502-30气体净化器 除烃30*300mm不锈钢支00-000502-30Y气体净化器 除烃30*300mm有机玻璃支00-000503-30气体净化器 除杂质30*300mm不锈钢支00-000503-30Y气体净化器 除杂质30*300mm有机玻璃支00-000510-01三联过滤器（不含开关）有机玻璃、不锈钢台00-000510-02三联过滤器（含开关）有机玻璃、不锈钢台00-000520-01脱氧过滤器不锈钢支00-000530-01微型过滤器（2100、34系列）不锈钢支00-000530-02载气过滤器34系列34系列支

热解氮化硼坩埚 热解氮化硼（PBN）是特种陶瓷材料，是本公司在特殊设备上用化学气相沉积的工艺制得的。热解氮化硼的沉积过程，宛如“落雪”：氮化硼的六角型小雪片，一片一片的平行地落在石墨基体材料上，达到一定厚度后，最终冷却脱模而制成。 主要特点： ●　产品颜色在牙白至橙棕，无毒、无孔隙、易加工。●　纯度高达99.99％，表面致密，气密性好。●　耐高温，强度随温度升高，2200℃达到最大值。●　耐酸、碱、盐及有机试剂，高温与绝大多数熔融金属、半导体等材料不湿润、不反应。●　抗热震性好，热导性好，热膨胀系数低。●　电阻高，介电强度高，介电常数小，磁损耗角正切低，并具有良好的透微波和红外线性能。●　在力学、热学、电学等等性能上有着明显的各向异性。 产品应用1.半导体单晶及III－V族化合物合成用的坩埚、基座：原位合成GaAs 、InP 、GaP单晶的LEC系列坩埚。分子束外延用的MBE系列坩埚。 VGF、VB法系列坩埚。2.电子束源用的系列坩埚，金属熔炼蒸发坩埚等3.石英坩埚及舟皿等石墨器具上的涂层，MOCVD绝缘板。

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【品 名】镉柱还原装置（食品、乳品种硝酸盐与亚硝酸盐测定）【材 质】玻璃使用说明： 一、【装置简介】 镉柱还原装置用于食品中亚硝酸盐与硝酸盐的测定，符合GB 5009.33—2010 镉柱法测硝酸盐用的镉柱还原装置，它包括有带毛细管的贮液漏斗、联接塞、镉柱和镉柱玻璃管，镉柱玻璃管的下端有一J形出液毛细管，其特征是：镉柱玻璃管的外壁与J形出液毛细管相平行的外壁之间至少有一个加固联接柱。由于加固联接柱的作用，该装置不易折断，使用寿命长。二、【原理】用镉柱还原法测定亚硝酸盐采用盐酸萘乙二胺法测定试样经沉淀蛋白质、除去脂肪后，在弱酸条件下亚硝酸盐与对氨基苯磺酸重氮化后，再与盐酸萘乙二胺偶合形成紫红色染料，外标法测得亚硝酸盐含量。采用镉柱将硝酸盐还原成亚硝酸盐，测得亚硝酸盐总量，由此总量减去亚硝酸盐含量，即得试样中硝酸盐含量。三、【用法】1 海绵状镉的制备：投入足够的锌皮或锌棒于 500 mL 硫酸镉溶液(200 g/L)中，经过3 h～4 h，当 其中的镉全部被锌置换后，用玻璃棒轻轻刮下，取出残余锌棒，使镉沉底，倾去上层清液，以水用倾泻法多次洗涤，然后移入组织捣碎机中，加500 mL 水，捣碎约2 s，用水将金属细粒洗至标准筛上，取20 目～40 目之间的部分。2 镉柱的装填：如图2。用水装满镉柱玻璃管，并装入2 cm 高的玻璃棉做垫，将玻璃棉压向柱底 时，应将其中所包含的空气全部排出，在轻轻敲击下加入海绵状镉至8 cm～10 cm 高，上面用1 cm 高的玻璃棉覆盖，上置一贮液漏斗，末端要穿过橡皮塞与镉柱玻璃管紧密连接。如无上述镉柱玻璃管时，可以25 mL 酸式滴定管代用，但过柱时要注意始终保持液面在镉层之上。当镉柱填装好后，先用25 mL 盐酸(0.1 mol/L)洗涤，再以水洗两次，每次25 mL，镉柱不用时用水 封盖，随时都要保持水平面在镉层之上，不得使镉层夹有气泡。四、【镉柱还原效率的测定】吸取20 mL 硝酸钠标准使用液，加入5 mL 氨缓冲液的稀释液，混匀后注入贮液漏斗，使流经镉柱还原，以原烧杯收集流出液，当贮液漏斗中的样液流完后，再加5 mL 水置换柱内留存的样液。取10.0 mL 还原后的溶液（相当10 μg 亚硝酸钠）于50 mL 比色管中，以下按11.4自“吸取0.00 mL、0.20 mL、0.40 mL、0.60 mL、0.80mL、1.00mL… … ”起依法操作，根据标准曲线 计算测得结果，与加入量一致，还原效率应大于98%为符合要求。

氮化硅膜主要用于纳米技术研究；支撑强度高，TEM与原子力电镜都可以使用。氮化硅膜极其稳定可以抵抗温度变化上升至1000摄氏度；但是，疏水性，如果需要亲水，建议用刻蚀法：等离子刻蚀，增加电荷。膜厚：100nm、50nm、30nm；孔：1mm×mm 膜粗糙度2nm。型号名称硅框架厚度（μm）窗口尺寸（mm）膜厚（nm）孔厚包装/个产地21505-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm50110美国21500-10氮化硅膜2000.5 x 0.550110美国21502-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm50110美国21525-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm200110美国21522-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm200110美国21524-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国21528-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国4112SN-BA氮化硅膜2001.0 x 1.0200110SPI4120SN-BA氮化硅膜2000.5 x 0.5200110SPI

立方氮化硼锯片中立方结构的氮化硼晶体结构类似金刚石，其硬度略低于金刚石，为HV72000-98000兆帕，应用于高速切削或磨削，可提高产品质量、加工效率，同时缩短加工周期和降低加工成本。主要特点具有优于金刚石的热稳定性和对铁族金属的化学惰性，适于加工既硬又韧的材料，如高速钢、工具钢、模具钢、轴承钢、镍和钴基合金、冷硬铸铁等，且磨削钢材时，大多可获得高的磨削比和加工表面质量。 技术参数Φ101.6mm×Φ12.7mm×0.35mm、Φ127mm×Φ12.7mm×0.60mm、Φ152.4mm×Φ12.7mm×1.0mm、Φ203.2mm×Φ25.4mm×1.3mm

Drierite气体净化装置 27068 27069这DRIERITE气体净化器是专门为气相色谱法和需要干燥，纯净气体以外的应用而设计。它将干燥，纯化和过滤用于色谱和光谱分析的气体。净化器中装有指示DRIERITE和5A分子筛，用于去除气体管线中的水分，杂质和微粒。使用大多数实验室仪器通用的压缩型管接头，可以轻松安装。该装置可填充500 cc的指示干燥剂用于仅需干燥和过滤的应用。涂有塑料涂层的安装夹可单独购买。 注意： 请勿在含有磷酸酯，合成润滑剂，烃类溶剂，甲醇，丙酮，漆溶剂或其他有机物的蒸气或液体存在的情况下使用此塑料柱。颜色变化 指示干燥剂气体干燥至0.005 mg / l的干燥度。耗尽时颜色从蓝色变为粉红色。 5A分子筛 5A分子筛可去除有效分子直径小于5埃的杂质。应用 应用于气相色谱中，以防止重影峰并改善基线。气体净化器应用于载气以及火焰检测器中的空气和氢气。清洗分光光度计隔室等时，气体净化器还可用于去除气体中的水分和杂质。2706827069

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。六边形氮化硼Hexagonal Boron Nitride (hBN)

TEM用亲水性/疏水性氮化硅窗口 有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29技术参数： 亲水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的亲水涂层 疏水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的疏水涂层 表面能：表面表面能 (mJ/m2)标准偏差氮化硅薄膜46.14.3亲水涂层76.12.2疏水图层24.64.4表面粗糙度：表面表面粗糙度 (nm)标准偏差氮化硅薄膜Rq=0.65Ra=0.450.060.02亲水涂层Rq=0.57Ra=0.400.040.03疏水涂层Rq=0.66Ra=0.400.030.05Rq=表面粗糙度 Ra= 平均粗糙度氮化硅薄膜窗规格 窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm单窗口，500x500μmΦ3mm200μm200 nm单窗口，500x500μmΦ3mm200μm15 nm3x3，9窗口，窗口100x100μmΦ3mm200μm 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

切割片的选择是试样制备取样工序的重要环节，PRESI金刚石和立方氮化硼切割片根据磨料类型、浓度、切割片厚度的不同有40多种类型可供选择。

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

氮化硅膜主要用于纳米技术以及分子生物学的研究。该支持膜具有良好的平整度和疏水性。氮化硅为无定形态，无碳，无杂质；其良好的化学稳定性使图像分辨率和机械强度达到理想的平衡；良好的机械稳定性使同一种薄膜可应用于TEM、SEM、EDX、XPS、AFM等对同一区域的交叉对表征；薄膜和基底耐酸，可满足酸性条件下制备、研究样品；薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗；可应用于1000摄氏度高温环境。产品编号支持膜厚度窗格规格包装（枚/盒）YL-6055200nm0.5×0.5mm10枚/盒 150nm0.5×0.5mm10枚/盒 100nm0.5×0.5mm10枚/盒 200nm0.25×0.25mm 10枚/盒 150nm0.25×0.25mm 10枚/盒 100nm0.25×0.25mm 10枚/盒 150nm0.1×0.1mm10枚/盒 100nm0.1×0.1mm10枚/盒 200nm0.1×0.1mm10枚/盒

基于PELCO® 多孔氮化硅上的石墨烯支持膜这种石墨烯产品是由多孔氮化硅支撑，在0.5x0.5mm的窗口上铺了一层Si3N4，网格的孔径为2.5um，孔间距为4.5um。石墨烯的使用率为75%，可提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯。适合UHR成像，或者作为一种实验平台。Example of nanopatterning of an atomically thin matter-wave beam splitter from a single-layer Graphene on Holey Silicon Nitride product. Ref: C. Brand, et. al. Nature Nanotechnology, Vol. 10, Oct. 2015 货号产品描述包装21712-5基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mm pkg/521712-10基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021712-25基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21722-5基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521722-10基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021722-25基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21742-5基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521742-10基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021742-25基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21772-5基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521772-10基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021772-25基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25

背景介绍：亚硝胺是强致癌物，是最重要的化学致癌物之一，是四大食品污染物之一。食物、化妆品、啤酒、香烟中都含有亚硝胺。在熏腊食品中，含有大量的亚硝胺类物质，某些消化系统肿瘤，如食管癌的发病率与膳食中摄入的亚硝胺数量相关。当熏腊食品与酒共同摄入时，亚硝胺对人体健康的危害就会成倍增加。产品介绍：在亚硝胺检测过程中，样品前处理显得极为重要。当有些样品难以完全除去杂质时，英国Ellutia建议用户使用CTR——冷阱替代过滤器作为防护措施，以改善亚硝胺检测结果的重复性和准确性。冷阱替代过滤器的主要作用是过滤并且去除样品基质中的杂质，除了能够降低待测样品的噪音背景外，还能有效保护热能分析仪（TEA）主机的冷阱免受杂质物质干扰，延长整机的使用寿命。订货号描述数量（pk)32020007热能分析仪冷阱替代过滤装置1

多孔氮化硅TEM载网以高纯单晶硅为基底，超薄氮化硅(10-50nm)为支撑膜，可实现原子级分辨率。具有耐电子束辐照，电子束穿透率高，成像背景均匀和噪音小等优点。载网不含碳元素，避免积碳，尤其适合球差原子分辨表征。可以非常方便在不同分析仪器间转移分析，如TEM， AFM，XRD，EXAFS，Raman等。

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TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性：减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75° 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境： 1000°C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm 多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列，8个窗口250X250μm，1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm200μm50nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm50μm8nm单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；Φ3mm200μm 应用简介： 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性： 该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

基于多孔氮化硅的氧化石墨烯支持膜氧化石墨烯铺在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔径为2.5um，孔间距为4.5um， Si3N4的膜厚为200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。 货号产品描述包装21812-5基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/5 21812-10基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021812-25基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25货号产品描述包装21822-5基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/521822-10基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021822-25 基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25

基于多孔氮化硅的氧化石墨烯支持膜氧化石墨烯铺在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔径为2.5um，孔间距为4.5um， Si3N4的膜厚为200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。 货号产品描述包装21812-5基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/5 21812-10基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021812-25基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25货号产品描述包装21822-5基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/521822-10基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021822-25 基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25

酸纯化器一、 产品简介： NJ-ZH酸纯化器：又称酸纯化系统，高纯酸提纯器，酸试剂提纯器，高纯酸蒸馏纯化器等，实验室工作中常常由于酸的纯度不够，造成分析结果的偏差与错误。市售的纯酸往往由于价格贵，很难满足日常分析中对酸的大量需求。因此，提纯优化酸的质量，为经济可行的途径，我厂的酸纯化器可用于实验室如HNO3、HCl、HF、碱溶液和有机溶剂的纯化，实验后期可配套我单位Teflon特氟龙系列试剂瓶收取高纯酸。二、工作原理：酸纯化器是利用热辐射原理，保持液体温度低于沸点温度蒸发，再将其酸蒸气冷凝从而制备高纯水和高纯试剂，应用于样品处理及分析实验中。温度控制：经实验证明HCl：110℃、HNO₃ +HF：175-180℃温度高、效率高，温度低酸的纯度会较好我厂高纯酸蒸馏纯化器优势：1、密闭环境下提纯酸，不受环境污染，确保酸纯度；2、节约成本、方便实验:较短时间内纯化低成本的酸试剂以达到痕量分析要求；3、可以满足ICP、ICP-MS低的检测限需要及苛刻的分析应用中提供实验室超纯酸，所用容器均采用Teflon耐腐蚀无吸附塑料，可处理如HNO3、HCl、HF等实验室的常用酸；4、实验证明将金属杂质含量约10ppb的酸经过一次蒸馏后，金属杂质含量可以降低到0.01ppb左右。若对酸要求还高，可增加提纯次数；5、可拆卸清洗，避免腔体里面长期提纯，造成金属杂质含量沉积越来越多，影响提纯的质量；

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。氮化硼片状粉末h-BN Flakes Powder

简介：二维晶体材料指的是以石墨烯为代表的单原子层及少数原子层厚度的晶体材料，巨纳集团除了提供石墨烯材料、设备、检测等一体化服务外，还联合美国2D Semiconductors为全球客户提供高质量的二维晶体材料、粉体、溶液、薄膜等材料，并提供定制服务，以满足客户的不同需求。单层氮化硼溶液Monolayer h-BN Solution

产品特点：Agilent 255 氮化学发光检测器 (NCD)提高性能，使用方便* ppb 级的检测限 * 没有烃的淬灭 * 有机含氮化合物的线性等摩尔响应；还对氨、肼、氢化腈和 NOx 有响应 * 双等离子燃烧室和控制器还提供一个嵌入的硝基胺选项 * 用于 NCD 和 FID 同时操作的适配器订购信息：Agilent 255 氮化学发光检测器 (NCD)说明部件号NCD 双等离子体系统，带干燥泵G6600ANCD 双等离子体系统，带油泵G6601A

基于PELCO® 多孔氮化硅上的石墨烯支持膜这种石墨烯产品是由多孔氮化硅支撑，在0.5x0.5mm的窗口上铺了一层Si3N4，网格的孔径为2.5um，孔间距为4.5um。石墨烯的使用率为75%，可提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯。适合UHR成像，或者作为一种实验平台。Example of nanopatterning of an atomically thin matter-wave beam splitter from a single-layer Graphene on Holey Silicon Nitride product. Ref: C. Brand, et. al. Nature Nanotechnology, Vol. 10, Oct. 2015 货号产品描述包装21712-5基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mm pkg/521712-10基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021712-25基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21722-5基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521722-10基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021722-25基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21742-5基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521742-10基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021742-25基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21772-5基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521772-10基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021772-25基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25

氮化硅窗口Silicon Nitride Window Grids 氮化硅TEM窗口在恶劣的实验室条件下表现良好，硅材料的框架100μm厚，适合标准的3mm支架和大多数双倾斜样品台，氮化硅窗口装在透明的凝胶盒中。l 等离子可清洗-可以耐受强力等离子清洗，移去有机污染层l 场到场的均匀性-整个薄膜厚度的变化小于0.5 nml 可容忍1000°C以上的温度-支持在高温下观察动态过程中使用l 经得起严酷的条件-提供理想的成像分辨率，化学稳定性和机械强度l 氮化硅采用LPCVD法制造，具有平坦，绝缘和疏水表面选择参考High Resolution Imaging:5nm76042-43, 1 square (25x25μm)76042-44, 9 squares (50x50μm)76042-45, 2 slots (50x1500μm)*Robust, Increased High Resolution:10nm76042-46, 9 squares (100x100μm)Everyday Imaging:20nm76042-49, 1 square (500x500μm)76042-50, 9 squares (100x100μm)Demanding Conditions:50nm76042-53, 1 square (100x100μm)76042-52, 1 square (500x500μm) 76042-51, 1 square (1000x1000μm)76042-50, 9 squares (100x100μm)Materials & Cryo-EM Suspension:Microporous76042-41, 1 square (500x500μm)76042-40, 1 square (500x500μm)*Coated with 1 nm of ultrahigh purity carbon to minimize charging产品选购：货号产品描述窗口尺寸厚度规格76042-40Silicon Nitride Microporous TEM Window Grid (2.0 μm pores with labeled grid)500μm sq.20nm10/pk76042-41Silicon Nitride Microporous TEM Window Grid (2.0 μm pores with labeled grid)500μm sq.50nm10/pk76042-42Silicon Nitride Nanoporous TEM Window Grid500μm sq.20nm10/pk76042-43Silicon Nitride TEM Window Grid25μm sq.5nm10/pk76042-44Silicon Nitride TEM Window Grid(8) 50μm sq., (1) 50x100μm 5nm10/pk76042-45Silicon Nitride TEM Window Grid(2) 50x1500μm5nm10/pk76042-46Silicon Nitride TEM Window Grid(8) 100 sq., (1) 100x350μm10nm10/pk76042-47Silicon Nitride TEM Window Grid(8) 250 sq., (1) 250x500μm10nm10/pk76042-48Silicon Nitride TEM Window Grid(8) 100 sq., (1) 100x350μm20nm10/pk76042-49Silicon Nitride TEM Window Grid500μm sq.20nm10/pk76042-50Silicon Nitride TEM Window Grid(9) 100μm sq.50nm10/pk76042-51Silicon Nitride TEM Window Grid1000μm sq.50nm10/pk76042-52Silicon Nitride TEM Window Grid500μm sq.50nm10/pk76042-53Silicon Nitride TEM Window Grid100μm sq.50nm10/pk