射频卡水控器

改变人工抄表传统方式具有预付费、远程抄表、断电关阀、阀门自洁等功能采用B/S架构设计，管理人员可在任何可连接互联网的终端设备上进行操作，并不受终端OS平台限制。可对用户水表进行客户建档、充值销售、报表打印等操作具有预付费功能:先买水、后用水、水表中的水量用完后，阀门自动关闭，用户需要到管理部门通过射频卡购水或通过联网购水后才能开阀用水，并且两种方式可同时使用 联网功能:物业管理部门可通过485通讯网络实现给用户充值、抄取表中信息。远程强制开关阀等功能，监控各个用户的用水信息，管理人员足不出户便可为用户充值供水 集中刷卡和显示功能:可单独配备与水表分离的外置刷卡器，通过485线可将多块水表（建议50块以下）连接到一个外置刷卡器上，不同的用户可共用一个刷卡器进行刷卡以将卡内所充数值转储到水表中。GPRS无线远传控制功能﹔物业管理部门可通过GPRSDTU无线数据传输终端给用户进行充值供水、开阀、关阀等操作。采用独特的物理密封设计，密封效果佳。电池仓门设计在水表正面，更换电池极其方便。水表整机功耗低，电池使用寿命可达6年以上。电池电压监控功能:当内置电池电压降至临界电压时，液晶显示器会显示报警，并且水表自动关阀，防止因电池电压低而不能有效关阀。更换新的电池后，刷用户卡后水表会自动开阀供水。

改变人工抄表传统方式具有预付费、远程抄表、断电关阀、阀门自洁等功能采用B/S架构设计，管理人员可在任何可连接互联网的终端设备上进行操作，并不受终端OS平台限制。可对用户水表进行客户建档、充值销售、报表打印等操作具有预付费功能:先买水、后用水、水表中的水量用完后，阀门自动关闭，用户需要到管理部门通过射频卡购水或通过联网购水后才能开阀用水，并且两种方式可同时使用 联网功能:物业管理部门可通过485通讯网络实现给用户充值、抄取表中信息。远程强制开关阀等功能，监控各个用户的用水信息，管理人员足不出户便可为用户充值供水 集中刷卡和显示功能:可单独配备与水表分离的外置刷卡器，通过485线可将多块水表（建议50块以下）连接到一个外置刷卡器上，不同的用户可共用一个刷卡器进行刷卡以将卡内所充数值转储到水表中。GPRS无线远传控制功能﹔物业管理部门可通过GPRSDTU无线数据传输终端给用户进行充值供水、开阀、关阀等操作。采用独特的物理密封设计，密封效果佳。电池仓门设计在水表正面，更换电池极其方便。水表整机功耗低，电池使用寿命可达6年以上。电池电压监控功能:当内置电池电压降至临界电压时，液晶显示器会显示报警，并且水表自动关阀，防止因电池电压低而不能有效关阀。更换新的电池后，刷用户卡后水表会自动开阀供水。

智能机井灌溉控制器设备不仅可以在使用的地方单独运行，也可以通过有线或无线通信由中控远程运行。与中控相比，控制器也被称为“卫星站”。控制器的主要组成由外壳、操作面板部分、电源部分、导出部分、通讯部分等。智能机井灌溉控制器的日常维护对设备的正常使用非常有利，避免突发故障的发生，提高使用周期。设备的日常维护分为日常检查和预防性维护两种。在农业机井灌溉管理体系中机井灌溉控制器是核心设备，不可或缺。机井灌溉控制器不仅可以采集灌溉用电量、用水量和灌溉时间，还可以自动收取水费，可以帮助管理部门实现先收费后灌溉的管理目标，方便农民进行取水计量，可以方便的实现刷卡取水，大大的解决了灌溉收费难，农民取水不方便的难题。产品特点1、采用射频卡，通过无线方式读写卡中信息，无任何机械触点，具备防水、防潮、防攻击、防磨损、防解密、数据传递快速可靠的特点。卡内数据可保存10年不丢失，可使用10万次。2、计量准确：计量电量，精确到0.01度3、下限报警功能：用户在使用时，如果卡内的剩余电量（或水量、时间）小于设定的下限值，控制器会自动发出报警，提示用户卡内余额不足，需要及时购买。4、控制器可供多个用户卡使用，控制器只认卡不认人。5、不同村的IC 卡不能相互使用，一个村的卡不能到另一个村使用。6、完善的电磁兼容性设计和电源电路设计，具有极强的电磁兼容性和极宽的电源工作范围，适合没有零线的现场。7、控制器具有断电保护功能，用户在使用时，如果突然断电，控制器内的数据不会丢失，来电后用户可以继续使用。8、防雷保护功能和防窃电功能，可以确保控制器在雷雨季节安全运行。9、不同功率的电动机及水泵，只需更换不同的电表和交流接触器即可。10、具有电动机综合保护功能 技术参数监测要素：瞬时取水量、累计取水量、取水用电量，及工作状态。监测方式：在线自动监测。监测频次：实时采集。信息存储：保存数据20000条记录。电源电压：380 V交流下正常工作（三相三线制）。消耗功率：待机状态≤5W 通信状态 ≤8W接触电流：≤3.5mA数据传输误码率：≤10-6输入脉冲误差：≤1%环境：适应温度为-25℃～50℃；机泵功率范围：7.5-125kw；功率大于13kw时配备软启动设备或者降压启动柜。计量精度：取水量计量精度：2级；用电量计量精度：1级。工作环境：环境温度：-25～50℃，环境湿度：HP≥90%，无凝露。备用电源：6v/12v免维护高能蓄电池。IC卡控制：射频储存卡，读卡距离≥2厘米，读卡时间＜2-5秒。灌溉刷卡取水，一卡多井、一井多卡，易操作；

VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型)，配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。技术参数输入电源220VAC 50/60Hz, 单相800W (包括真空泵）等离子源配有一13.5MHz,100W的射频电源（采用手动匹配）可选配300W射频电源（自动匹配）注意：100W手动调节的RF（射频）电源价格较低，但是每一次对于不同的靶材，都需要手动设置参数才能产生等离子体，比较耗费时间。300W自动匹配的RF（射频）电源，价格较昂贵，但比较节约时间（点击图片查看详细资料）磁控溅射头三个1英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸: 直径为25.4mm,最大厚度3mm一个快速挡板安装在法兰上溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机） 真空腔体真空腔体：256mm OD x 250mm ID x 276mm H，采用高纯石英制作密封法兰:直径为274mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体（如下图）真空度：1.0×10-2 Torr （采用双极旋片真空泵）,5×10-5 torr （采涡旋分子泵） 载样台载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片）旋转速度：0 - 20 rpm样品台的最高加热温度为700℃(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃控温精度+/- 10℃真空泵我公司有多种真空泵可选，请点击图片，或是致电我公司销售薄膜测厚仪（可选） 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 ? LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据 质保和质量认证一年质保期，终生维护CE认证外形尺寸 使用注意事项这款1英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次，可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内

VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪，针对于高通量MGI（材料基因组计划）薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料，通过5种元素，按16种不同配比组合。 技术参数概念5个溅射头安装5种不同材料通过不同的溅射时间，5种材料可以溅射出不同组分的产物，选择5个等离子射频电源，可在同一时间溅射5种材料真空腔体中安装有旋转样品台，可以制作16个样品电源单相220 VAC, 50 / 60 Hz射频电源一个13.5MHz,300W自动匹配的射频电源安装在仪器上，并与靶头相连接一个旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在真空或等离子体环境中自动切换可选购多个射频电源，同一时间溅射多个靶材。所有的溅射参数，都可由电脑设置直流电源（可选）可选购直流电源，来溅射金属靶材可配置5个直流或射频电源，来同时溅射5中靶材磁控溅射头 5个1英寸的磁控溅射头，带有水冷夹层可在本公司额外购买射频线电动挡板安装在溅射腔体内设备中配有一循环水冷机，水流量为10L/min (1) (2) (3) (4)溅射靶材所要求靶材尺寸：直径为25.4mm,最大厚度3mm溅射距离: 50 – 80 mm（可调）溅射角度: 0 – 25°（可调）配有铜靶和 Al2O3 靶，用于样品测试用可在本公司购买各种靶材实验时，需要将靶材和铜片粘合，可通过导电银浆粘合（可在本公司购买导电银浆）真空腔体 真空腔体采用304不锈钢制作腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L)铰链式腔门，直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口真空度: 4E-5 torr （采用分子泵）样品台直径为150mm的样品台，上面覆盖一旋转台，带有10mm的孔洞，每次露出一个样品接收溅射成膜。样品台尺寸：Φ150mm,可通过程序控制来旋转，可制作16种不同组分的薄膜样品台可以加热，最高温度可达600℃真空泵设备中配有一小型涡旋分子泵真空泵接口为KF40石英振荡测厚仪（可选）可选购精密石英振荡测厚仪，安装在真空腔体内，实时测量薄膜的厚度，精确度为0.1 ?（需水冷）净重60kg质量认证CE认证质保一年质保期，终生维护应用注意事项此款设备设置主要是在单晶基片上制作氧化物薄膜，所以不需要高真空的环境所用气瓶上必须安装减压阀（可在本公司购买），所用Ar气纯度为5N为了得到较好质量的薄膜，可以对基片进行清洗用超声波清洗机，用丙酮或乙醇作为清洗介质，清除基片表面的油脂，然后在N2气或真空环境下对基片干燥等离子清洗机，可使基片表面粗糙化，改变基片表面化学活性，清除表面污染物可在基片表面镀上缓冲层，如Cr, Ti, Mo, Ta,，可改善金属或合金膜的粘附性溅射一些非导电靶材，其靶材背后必须附上铜垫片本公司实验室成功地在Al2O3基片上成功生长出ZnO外延膜因为溅射头连接着高电压，所以用户在放入样品或更换靶材时，必须切断电源不可用自来水作为冷却水，以防水垢堵塞水管。应该用等离子水，或专用冷却介质

智能机井控制器:水电双控射频控制器集成GPRS通讯、RF射频卡刷卡灌溉、计时计电计水于一体的多功能节水灌溉控制器。内置LCD液晶显示屏、语音芯片、基站定位等功能。新型控制器不仅集成计时、计电、计水的多种计费模式，而且预留RS485接口、脉冲接口可配置不同厂家不同型号流量计，本控制器具备扩展采集功能、可接扩展模块有：采集机井管道压力、水位、土壤温湿度。后台可实时查看所有详细信息。

价格电议KRI 射频离子源 RFICP 系列 上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的套装, 套装包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源是制造精密薄膜和表面的有效工具, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.射频离子源 RFICP 系列技术参数:型号RFICP 40RFICP 100RFICP 140RFICP 220RFICP 380Discharge 阳极RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频离子束流100 mA350 mA600 mA800 mA1500 mA离子动能100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V栅极直径4 cm Φ10 cm Φ14 cm Φ20 cm Φ30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm5-30 sccm5-30 sccm10-40 sccm15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr长度12.7 cm23.5 cm24.6 cm30 cm39 cm直径13.5 cm19.1 cm24.6 cm41 cm59 cm中和器LFN 2000射频离子源 RFICP 系列应用:离子辅助镀膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )离子溅镀 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)上海伯东离子源典型应用: 射频离子源 RFICP 325 安装在 1650 mm 蒸镀机中, 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean, 完成 LED-DBR 镀膜生产右图: 在高倍显微镜下检视脱膜测试, 样品无崩边上海伯东离子源典型应用: 安装在离子蚀刻机中的 KRI 射频离子源, 对应用于半导体后端的6寸晶圆进行刻蚀. 右图: 射频离子源 RFICP 安装于腔内 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 欢迎联络上海伯东叶女士,分机109

4大特点无创无痛、体感舒适治疗全程体感温热、舒适无创、无电刺激感、无禁欲期全盆底覆盖、整体康复多模块治疗模式，治疗范围更深、更广可实现从外阴、阴道壁、盆底肌肉、筋膜韧带到全盆腔的整体治疗单极射频、双极射频两种能量模式智能切换，触屏一体，操作简易事实监测治疗温度，智能调节输出功率，让治疗安全、高效AI温控、阻抗匹配单双联合、智能切换

概述：农业水价综合改革系统建设是我公司积极响应国家政策要求，为“农业水价综合改革”量身定制的一套解决方案。本平台是集水电双计量智能控制系统，土壤墒情监测系统、智能灌溉系统、智能井房远程灌溉监测控制和水权交易于一体的综合型智能管理平台。秉着准确、可靠、实用、先进的设计理念。本平台不止能够采集灌溉数据，还能接受机井预警信息，平台自动的实时采集使用各种灌溉设备所产生的灌溉数据及平台用户所产生的灌溉数据。对获取的数据进行大数据分析，通过这些数据让农户的用水情况有据可依。智能机井控制器:水电双控射频控制器集成GPRS通讯、RF射频卡刷卡灌溉、计时计电计水于一体的多功能节水灌溉控制器。内置LCD液晶显示屏、语音芯片、基站定位等功能。新型控制器不仅集成计时、计电、计水的多种计费模式，而且预留RS485接口、脉冲接口可配置不同厂家不同型号流量计，本控制器具备扩展采集功能、可接扩展模块有：采集机井管道压力、水位、土壤温湿度。后台可实时查看所有详细信息。

DISCOVERY 635/785 多耙直流/射频磁控溅射台 丹顿真空的Discovery系列在世界许多著名的研究机构得到广泛的应用，是业内公认的灵活、可靠的磁控溅射系统。从15年前开发以来，该系统已经销售超过100台，在国内销售12台。Discovery系列适合于研发及小批量生产。系统采用独特的共焦溅射结构，能够使用较小的磁控溅射靶枪在较大的面积的工件上得到较好的均匀性（例如：采用传统的垂直溅射方式，为了在6英寸工件上得到±5%的均匀性，需要使用8英寸直径靶枪，而采用共焦溅射方式，则可以采用3英寸磁控溅射靶枪，即可达到同样的均匀性指标）。因此在同样的要求下，采用的靶枪及电源相对较小，所以能够降低设备成本及运行成本，同时，丹顿真空也提供传统的垂直溅射方式系统。Discovery 系列都可以安装多个磁控溅射靶枪，可以实现多种溅射模式，包括直流/射频/脉冲溅射，共溅射，射频偏压溅射；可以实现三级加热，最高加热温度可以达到900 °C；可以配置进样室（单片或多片），最大可以处理的工件直径可以达到 250mm ；系统真空室规格从18英寸（457mm）到 35英寸（890mm）可选；高真空采用分子泵或低温泵获得；可以采用PLC触摸屏控制系统或计算机控制系统。 系统主要配置：※ 多耙直流/射频磁控溅射※ 旋转工作台（可以升级为射频偏压工件台）※ 上溅射或下溅射可选※ 不锈钢真空室，带观察窗

VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜 技术参数输入电源220VAC 50/60Hz, 单相800W (包括真空泵）等离子源一个300W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内(点击图片查看详细资料）磁控溅射头一个 2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接靶材尺寸: 直径为50mm,最大厚度6.35mm一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3）溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机）同时可选配1英寸溅射头真空腔体真空腔体：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高纯石英制作密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体真空度：10-3 Torr （采用双极旋片真空泵） 10-5 torr （采涡旋分子泵）载样台载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片）旋转速度：1 - 20 rpm样品的最高加热温度为700℃，(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃控温精度+/- 10℃真空泵我公司有多种真空泵可选，请点击图片，或是致电我公司销售薄膜测厚仪一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监控薄膜的厚度，分辨率为0.10 ? LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据外形尺寸 质保和质量认证一年质保期，终生维护CE认证使用注意事项这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度为了较好地排出真空腔体中的氧气，建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次，可有效减少真空腔体中的氧含量请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后，再导入到真空腔体内

过滤型射频电子水处理器工作原理 过滤型射频电子水处理器是为了解决电子式水处理器与自动排污过滤器功能上的局限性，将二者有机的结合在一起的水处理设备。主要由控制电路、不锈钢滤筒、水流导向阀、排污装置所构成。当水体吸收高频电磁能量后，在不改变原有化学成分的情况下，使腐蚀、结垢、菌藻滋生问题加以综合和分别解决。由于排污过滤器的功能又具备了一定精度的过滤作用，成为一种简便经济的物理法水处理设备。过滤型射频电子水处理器技术指标 1． 输入电源：220V50Hz2． 适应水质：总硬度≤700mg/L（以CaCO3计）水温：≤95℃公称压力：1.0MPa、1.6MPa流速：≤2.8m/s3．使用性能：阻垢率≥95% 杀菌率≥95% 灭藻率≥95%4．有效期：水经处理后保持的有效时间为2小时，半衰期为1小时5.过滤精度：1000-3000μm 过滤型射频电子水处理器产品特点1． 技术先进：共鸣场电子水处理技术即高频电磁场水处理技术，国内首创，代表电子水处理技术新潮流；2． 适应性强：能适应不同的水质，且适应水质的硬度可达700mg/L（以CaCO3计）；3． 机内采用屏蔽技术可提高工作效率30%以上；4． 采用高屏输出端直接插入电极内部，减少功率损耗并使维修更方便；5． 电极材料采用特殊合金材料，寿命长达20年；6． 变压器采用目前国际特制R型变压器,具有磁干扰小,空载电流极低,适应温度、湿度能力均大大优于普通变压器,关键元期间进口；7． 指示灯的设计根据电极释放能量是否充分达到设计标准衡量指示灯的亮与灭；8． 加装排污口，解决用户排污困难；过滤型射频电子水处理器产品适用范围●工业冷却循环水系统 ●空调系统●热交换系统、热采暖系统 ●生产和生活用水供应系统过滤型射频电子水处理器产品参数型号出入口径ABCDE重量功率流量排污口inchmmKgWT/HCLDC-3P38036039379017038048505025CLDC-4P410036039379017038058508040CLDC-5P5125360393950220470668012540CLDC-6P61503864581125270530828018050CLDC-8P8200415458123028058011510032050CLDC-10P10250438488134028064013817549050CLDC-12P12300463488160030080018422571065CLDC-14P14350489488173037088022225097065CLDC-16P164005155701890380980334350140065CLDC-18P1845051566321204001080387425159080 注：1、过滤型射频电子水处理器过滤精度为2mm，若客户有特殊精度，请在定货时特别说明，以便特殊定制。2、安装时水流方向应与设备方向标志一致，不可装反。在立管上安装时，水流应自上而下。3、过滤型射频电子水处理器设置有反冲控制阀，只需在排污口安装排污阀及排污管，无需再接旁通，可实现不停机反冲排污。。

一、IC卡水表简介1、 产品概述： IC卡水表是以旋翼式水表为基表，由干簧管取信装置、低功耗电控阀门、微电脑控制系统、射频卡信息系统集合而成的智能水表。该产品改变了传统的用水收费方 式，由“先用水后交费”变为“先交费后用水”， 每次售水收款都有准确记录，彻底解决了“收费难、账目乱”这两个水费管理工作中的难题。有远传抄表功能的预 付费水表还可实时统计用水数量，为水费结算提供准确依据。产品符合国家标准GB/T778-2007《封闭满管道中水流量的测量、饮用冷水水表和热水水表》的全部技术要求。2、功能特点：o 精确计量：采用高强度材质机芯，始动流量低，计量精度高。o 预付费功能：先交费、后用水，无费自动关阀，交费重新刷卡后自动通水。o 售水记录存档：每次售水操作都有准确记录，账目清晰，不可随意更改，并有多种统计报表便于查询。o 一卡通功能：若同一用户安装两只以上水表或同时安装我公司的水表、电表、燃气表等，多只智能表可共用一张卡管理，使用方便。o 显示功能：高清液晶屏，可直观查看购水量、剩余水量、累计用水量、阀门状态、电池状态等多项数据。o 报警功能：当剩余水量达到或低于设定报警值时，水表自动关阀一次，提示用户购水，此时用户刷卡还可打开阀门继续用水，剩余量为0时彻底关阀。o 防锈功能：水表阀门定期自动开关，防止阀门锈死。o 防攻击功能：当水表受到强磁或强电攻击时，水表自动关阀，并自动记录本次受攻击信息，只有外界干扰解除后方能开阀。o 低功耗设计：整个控制线路低功耗设计，静态电流小于3uA，电池使用寿命大于6年。o 防水设计：各关键部件经过多重防水处理，防水性能好。阶梯水价功能：有单一水价程序和阶梯水价程序可供选择。

CESAR 射频发生器强大而多功能的 Cesar 平台可提供非常稳定的射频功率输送性能，以及一个多样化的模式选择，每种模式都具有一套独特的功能（2、4、13.56、27.12和40.68 MHz；0.3至5 kW；拥有多种用户界面和输入选择），从而使您能够选择一套特别适合您应用的组件——而无需定制发生器所需的漫长交付期。高质量的组件和较少的零件数量使可靠性和产品生命周期均实现优化，从而使您的投资和制程生产力得到较好的利用。一个全面而灵敏的操作菜单（可在该组件的多功能前面板上找到，并显示在一个大的液晶显示屏上）带来了很好的便利性——提高了操作人员的效率，并使培训成本最小化。优点功能更长的制程正常运行时间更高的操作简易性和灵活性无需定制组件提前期的定制化性能长期的使用简易性，节省成本优质的服务和支持 精簡的流线型设计标准的平台包装高效率——低发热量200和400 VAC 的输入选择两个模拟用户端口选择RS-232、以太网、和 Profibus 通讯多功能前面板便利、全面的操作菜单CEX（相位同步）操作模式遵循 SEMI™ （符合或超过标准）

射频微波同轴连接器屏蔽效能测试系统方案一、测试技术指标被测产品：同轴连接器、电线电缆组件。被测产品最大尺寸：半径 500mm测试频率：1GHz---18GHz被测产品最大屏蔽效能：110dBm测试方法：混响室测试法测 试 使 用 标 准 ： GJB1217A-2009 中 的 3008 方 法 及 MIL-STD-1344A 的 3008 方法二、测试系统组成2.1 系统组成测试系统由混响室、发射天线、参考天线、屏蔽电缆、被测产 品（EUT）、模式搅拌器、模式搅拌器电机、电机控制器、微博信号源、微博放大器、功率计、频谱分析仪、设备控制软件、数据采集软件、数据处理软件、电机控制卡、仪器控制器、计算机、打印机等组成，如下图所示：2.2 测试原理应用混响室测试法，将被测产品（EUT）放在混响室均匀电磁场的测试区内，同时进行参考测量和屏蔽测量。信号源的信号经功率放大器输入到发射天线上，由发射天线入射到混响室。模式搅拌器由电机控制器控制，在一周内进行步进等间隔旋转。当模式搅拌器每步进一次时，参考天线接收来自发射天线辐射信号，这些信号由功率计接收，再由计算机采集得到接收功率。同时，由混响室泄露到连接器中的信号通过同轴电缆传送到频谱分析仪中，再由计算机采集得到被测得射频连接器内泄露的功率。由计算机记录通过通过数据处理得到每个步进位置处的参考天线接收平均功率和被测射频连接器内泄露的平均功率。三、主要测试设备3.1 混响室混响室再屏蔽腔体内应能产生空间均匀、各向同性、随机极化的电磁环境，以便适应受试设备的测量。混响室的屏蔽效能需在 90dB 以上。混响室的测试频率为 1GHz--18GHz,空腔内最低的可用频率是 1GHz，空腔最低谐振频率需要在 175MHz 以上。混响室的最低谐振频率过模条件是产生均匀的一个重要条件，根据美军标规定最低工作频率时至少容纳 100 个模的要求。根据用户被测产品尺寸，混响室体积大于 1 立方米。指标满足ICE-61000-4-21 标准。3.2 发射天线和参考天线发射天线和参考天线工作频率覆盖 1GHz--18GHz 的宽带天线 3.3 微波信号发生器 微波信号发生器的频率覆盖 1GHz--18GHz，发射功率大于15dBm。在 1GHz--18GHz 的频率范围内输出电平差小于 0.5dBm，频率稳定性优于 10-6，具有 GPIB 可控制功能。 3.4 功率放大器功率放大器覆盖 1GHz--18GHz 频率范围，要求功率放大器输出功率要大于 2W 3.5 频谱分析仪测量频率覆盖 1GHz--18GHz，灵敏度优于-140dBm，具有 GPIB 可控制功能。 3.6 模式搅拌机控制器模式搅拌机控制器：在一周内可控 5--450 个等间隔步进，具有 RS485 接口控制功能。 3.7 屏蔽电缆工作频率范围 1GHz--18GHz，在此频率范围内屏蔽效能大于 125dB 以上 3.8 50Ω负载50Ω负载的工作范围为 1GHz--18GHz。要求它泄露少，匹配好。使用频带内电性能一致性好。 3.9 GPIB 控制块和 GPIB 控制电缆GPIB 控制块主要用来进行仪器控制和数据采集，是自动测试不可缺少的设备。GPIB 电缆是连接计算机与被控仪器所用电缆 3.10 计算机和打印机用于设备控制、数据采集、数据处理、数据及图表打印。

RF 3000射频(RF)发生器用于软组织的热凝固，其电极经美国FDA批准。发生器向电极输送高达200瓦的隔离射频输出。在恒定的RF电压下，在25ω至100ω的阻抗范围内可获得全功率；在此范围之外，可以使用更低的功率。功率可以手动调节；但是，负载阻抗的变化会改变实际输送的功率(这是一个安全特性，在“无源功率限制”中有更详细的描述)。打开电源时，会显示实际传输的射频功率和阻抗。操作和维修手册仅作为指导性指南。 LeVeen针电极系列预期用途/使用适应症LeVeen针电极系列旨在与RF 3000治疗仪配合使用，用于软组织热凝固坏死，包括部分或完全消融不可切除的肝脏病变。这些程序只能由熟悉相关设备和技术的医生和工作人员执行。Soloist单针电极预期用途/使用适应症Soloist单针电极旨在与RF 3000治疗仪配合使用，用于软组织的热凝固坏死，包括部分或完全消融不可切除的肝脏病变。

一、产品简介 激光与原子分子相互作用中，射频（微波）被广泛的使用于超精细能级激发、激光移频、激光锁定、AOM驱动等。这类实验除对微波位相噪声和振幅噪声有极高要求外，还要求微波有程控或触发控制通断、程控或外加信号控制调制以及PID反馈控制等功能。MOGLabs为科学家提供量身定做的敏捷型射频合成器ARF/XRF、四通道射频合成器QRF、AOM驱动器AAD，集成上述功能于一体，并集成功率输出可直接驱动AOM，满足多方面的射频源需求。二、型号参考型号ARF/XRFQRFAAD通道数目241（AADPCB）2（AAD420）最高输出功率+36dBm（421）+16dBm（021）+36dBm（241）+10dBm（041）+36dBm射频源DDS（AD9910）DDS（AD9959）内置可变振荡器或外置震荡源频率范围20 - 400MHz10 - 200MHz70 - 210MHz（内）70 - 350MHz（外）内置参考源20MHz TCXO25MHz TCXONo计算机可控制Ethernet，USBEthernet，USBNo频率控制32-bit（0.23Hz步距）32-bit（0.12Hz步距）10圈电位器振幅控制12-bit10-bit单圈电位器位相控制16-bit14-bit无TTL开关时间40ns40ns 主调制AM/FM/PM，10MHzAM/FM/PM，100kHzAM/FM，500kHz次调制AM/FM/PM，1MHzN/AAM/FM，500kHz内置PIDYesYesNo表格指令间距16ns（XRF）1μs（ARF）10μsN/A数字I/O16路高速I/O无无三、各型号特点及应用1、敏捷型射频合成器ARF/XRF特性l两路独立或同步输出l卓越的模拟调制（AM/FM/PM）带宽：10MHzl用于强度稳定或频率锁定的PID控制l高功率输出：2×4W/ 通道（421型）l宽频谱范围：20 ~ 400MHzl自动执行表格指令，用于复杂序列l16路独立数字信号输出，表格控制l射频输出功率监控及保护l可靠的开路/ 短路保护l数字信号输入控制快速（50ns）射频开/关，以及触发l极低位相噪声l外置时钟输入l三路模拟输出选件l16路数字输入输出（XSMA）l用于噪声抑制及锁频的信号调整（B3121）应用lAOM驱动l噪声抑制及激光频率锁定l金刚石NV量子操控l激光冷却，原子陷俘，光谱lBECl量子光学：压缩场l场致透明与慢光速l时频基准2、四通道射频合成器QRF特性l高功率：通过选件可达2W/ 通道l10 ~ 200MHz宽范围精密调节l每通道独立模拟调制（AM/FM/PM/PID）l表格指令运行模式：顺序产生复杂频率/功率/位相/波形lPID控制，用于强度稳定及漂移补偿l通过网口和USB的简便控制lTTL快速通断控制，40ns延时l牢靠的开路/短路保护应用lAOM驱动l噪声抑制及激光频率锁定l金刚石NV量子操控l激光冷却，原子陷俘，光谱lBECl量子光学：压缩场l场致透明与慢光速l时频基准3、AOM驱动器AAD特性l高功率：可达+36dBm / 通道l70 ~ 200MHz 频率范围l高调制带宽：500kHz（FM、AM）lRF功率输出及监控输出（-22 dBc）lTTL外触发快速通/断控制l十圈频率调节，单圈功率调节l低位相噪声高稳定性VCO如有其它需求，请联系我们。

南硕DN15射频刷卡式冷水表产品：　一、产品概述：　　预付费刷卡水表具有自动收水费功能，此表为一户一表一卡，用户将水费将给管理部门，管理部门将购水量写入IC卡中，用户将IC中信息输入水表，水表即自动开关阀供水，在用户用水过程中，水表中的微电脑自动核减用水量，所购水量用到报警时，水表自动关阀断水。此时将用户卡贴近感应区打开阀门继续用水，当剩余水量用尽，水表自动关阀断水，用户必须重新购水方能再次开阀供水。　　LXS-IC卡饮用水冷水水表符合国家标准GB/T 778. 1～3-2007、行业标准CJ/T 133-2012、CJ 266-2008，出厂检验依据检定规程JJG 162-2009。　　二、性能特点：　　●预付费功能： 用户先买水后使用，欠费关阀停水。　　●一卡通功能：一张卡实现电表、气表及水表的控制。　　●显示同步功能：液晶显示和机械部分显示同步，即使电路有故障液晶不能　　显示，也可参照机械显示。　　●提示报謦功能：电池欠压、可用水量不足、强磁干扰及其他故障信息，在　　液晶上会提示报警。　　●数据上传功能： 用户每次买水，会把相关信息带回管理系统，让管理方　　了解用户的使水情况及表的状态。　　●阀门自维护功能：阀门定时旋转，及时清掉阀门水垢，保证阀门的灵活性。　　●防囤水功能： 通过软件可灵活设置充值下限，防止用户囤水。　　●防滴水功能： 配合防滴水基表，实现防滴水功能。　　●黑名单查询： 长时间不来买水用户可列入黑名单，督察用户用水情况。　　●更换电池方便：水表底侧有专门设计更换电池的盖子，更换电池特别方便，　　批量换电池不再是管水部门的难题。　　●“泡水”功能： 产品在工艺上采用了整体密封防水工艺，因此可工作在　　潮湿环境或短期泡水的情况下。

高功率射频CO2激光器 功率“永不止息”系列：（350W - 850W）姓名：刘工(Pindy)电话：（微信同号）邮箱：高功率射频CO2激光器产品简介：意大利El.En公司（艾伦集团）自主研发设计生产的功率“永不止息”系列的高功率射频CO2激光器（Blade RF Self-Refilling系列）很特殊。这是一种高效的RF CO2射频激光源，EI.En.独有的射频自充技术可提供激光功率无与伦比的稳定性，使其在长期运营中也能保证工艺参数的绝对一致性，非常适合在塑料，木材，皮革和其他材料上应用。但是，与传统的射频激光源不同，Blade RF Self-Refilling系列几乎“不需要任何工厂维修”。这种不可思议的优势，得益于其手动大小的储气筒，您可以自行填充，每年两次，而且成本非常低。这还不是全部，这款出色的设备可为您节省资源：El.En.提供的Blade RF Self-Refilling系列射频CO2光源在电/光转换方面的效率比竞争对手高25％。Blade RF Self-Refilling系列的射频CO2激光器有多种功率配置，范围从350W到850W，所有配置都具有相同的尺寸，因此非常易于集成。高功率射频CO2激光器主要特性：- 内部储气筒- 半密封操作：无需返厂，自行填充- 高电/光转换效率- 运营成本低- 体积小，易于集成- 集成式安全百叶窗-远程诊断和控制的TCP/IP连接高功率射频CO2激光器的主要应用：- 高性能振镜扫描仪应用- 塑料，木材，皮革切割- 数字转换- 聚丙烯涂层和薄膜切割- 标签吻切高功率射频CO2激光器的主要型号：RF333(P)，RF555，RF777，RF888，RF899高功率射频CO2激光器技术规格：

作为新时代女性，我们经常因为家庭、工作的种种原因，将自己的护理一再搁置，随着年龄的不断增长，皮肤出现一系列的问题，例如：皱纹松弛、毛孔粗大，面色暗沉、痤疮痘坑。想解决衰老问题，就选择V纳斯黄金射频微针美容仪器。V纳斯黄金射频微针作用1、点阵物理微针——紧肤提升，突破表皮屏障，准确靶向目标深层。2、高能恒定射频——饱满物皱纹，皮下胶原层新生重塑，稳定皮肤年轻质地。3、透皮多效给药——亮白莹透，更嫩肤通过微针透皮细微通道，实施个性治疗药物导入。V纳斯黄金射频微针技术原理黄金射频微针结合了微针微创、高温射频以及透皮给药三种技术结合，利用黄金涂层绝电微针探头，当探头里的微针深入皮肤时，会同时释放高温黄金射频能量 。并且仅在底部释放，不会加热表皮，所以可安全、准确、均匀有效的加热深层肌肤的胶原蛋白，促进胶原蛋白变性、重组、凝结。V纳斯 黄金射频微针优势定位准，修复迅速，比传统更准如同导航系统，把原本乱窜的电波准确定位肌肤深层，刺激深层胶原蛋白重组新生。疗效显著 效果维持3~6年精确作用不同深度靶向组织，智能实时阻抗监测，针对祛皱、紧肤、祛痘、疤痕等不同症状，进行个性化设置，使皮肤快速修复到年轻健康的状态。V纳斯黄金射频微针美容仪器，全面激活肌肤新能量，开启肌肤新生密码，让年龄静止，享受青春慢生活。

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 140上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中，射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1200 eV 范围内获得很高的离子密度. 可以输出最大 600 mA 离子流.KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:阳极电感耦合等离子体1kW & 1.8 MHz射频自动匹配最大阳极功率1kW最大离子束流 500mA电压范围100-1200V离子束动能100-1200eV气体Ar, O2, N2,其他流量5-40sccm压力 0.5mTorr离子光学, 自对准OptiBeamTM离子束栅极14cm Φ栅极材质钼, 石墨离子束流形状平行,聚焦,散射中和器LFN 2000高度25.1 cm直径24.6 cm锁紧安装法兰12”CFKRI 射频离子源 RFICP 140 应用领域：预清洗表面改性辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗女士

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRi 射频离子源 RFICP 系列上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.射频离子源 RFICP 系列技术参数:型号RFICP 40RFICP 100RFICP 140RFICP 220RFICP 380Discharge 阳极RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频离子束流100 mA350 mA600 mA800 mA1500 mA离子动能100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V100-1200 V栅极直径4 cm Φ10 cm Φ14 cm Φ20 cm Φ30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm5-30 sccm5-30 sccm10-40 sccm15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr 0.5m Torr长度12.7 cm23.5 cm24.6 cm30 cm39 cm直径13.5 cm19.1 cm24.6 cm41 cm59 cm中和器LFN 2000 射频离子源 RFICP 系列应用:离子辅助镀膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)离子溅镀 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures) 上海伯东美国考夫曼 KRi 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸离子束刻蚀机, 作为蚀刻机的核心部件, KRI 射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求!1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗女士

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 100上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 400 mA 离子流. 考夫曼型离子源 RFICP 100 源直径19cm 安装在10”CF 法兰, 在离子溅镀时, 离子源配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现完美的薄膜特性. 在离子刻蚀工艺中, 离子源与离子光学配合, 蚀刻更均匀. 标准配置下 RFICP 100 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.KRI 射频离子源 RFICP 100 技术参数型号RFICP 100Discharge 阳极RF 射频离子束流350 mA离子动能100-1200 V栅极直径10 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量5-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr长度23.5 cm直径19.1 cm中和器LFN 2000KRI 射频离子源 RFICP 100 应用领域 预清洗 表面改性 辅助镀膜(光学镀膜) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE客户案例: 超高真空离子刻蚀机 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系统配置如下美国 KRI 射频离子源 RFICP 100美国 HVA 真空闸阀德国 Pfeiffer 分子泵 HiPace 23001978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请联络上海伯东。上海伯东版权所有, 翻拷必究！

v纳斯黄金射频微针美容仪器1、v纳斯黄金射频微针：快速突破表皮屏障密集微针在短时间内制造出标准统一的穿刺通道，突破面部表皮屏障，准确靶向目标深层，有效激发胶原蛋白新生重组，实现肌肤紧致、细腻、Q弹。2、v纳斯黄金射频微针：全面激活肌肤新能量射频能量安全、准确、均匀加热肌肤深层的胶原蛋白，促进胶原蛋白变性、重组、凝结，促进皮肤新陈代谢，激活肌肤新能量，稳固皮肤年轻质地。3、v纳斯黄金射频微针：开启肌肤新生密码通过微针定点穿刺技术准确定位中胚层，轻松实现透皮直达中胚层给药，达到MT(金属硫蛋白)抗自由基的表层+深层作用，可有效解除重金属，清除肌肤自由基，由内而外实现肌肤整体年轻态。v纳斯黄金射频微针美容仪器功效1、提拉紧致提拉收紧下垂松弛的皮肤，提眉、收紧眼袋、提升下颌缘、改善三八线。2、抚平皱纹治疗后促进大量的胶原蛋白再生和重新排列，填平皱纹和组织破裂，包括脸上皱纹和腹部妊娠纹等，恢复皮肤的平滑细腻。3、改善毛孔促进皮肤的血液循环，清理毛孔，激活表皮的新陈代谢，缩小毛孔，减少油脂、使毛孔不在被油脂，脏物等填充。4、修复痘疤刺激、诱导胶原蛋白再生和重组，修复痘坑疤痕，让肌肤不再坑坑洼洼。5、控油祛痘针对活性痤疮的化脓部位和周围皮脂腺选择性地破坏，使皮脂分泌减少，抑制痤疮的炎症反应。6、腋下多汗可以安全且有效地破坏大汗腺(顶浆腺)与小汗腺，以持续降低腋下排汗与减少异味。

全仪的自动测试软件，是一套基于Windows系统的集成开发软件，用于创建测试方案及开发调试。软件GUI界面设计简洁，布局合理，使用方便。根据不同客户的需求，可分为“PCB TDR测试软件“、“天线测试软件”、“射频器件测试软件”等等，还有多种特性共同测试的综合软件......

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRi 射频离子源 RFICP 220上海伯东代理美国原装进口 KRi 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 射频离子源 RFICP 220 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 标准配置下射频离子源 RFICP 220 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 1000 mA.KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:阳极电感耦合等离子体2kW & 2 MHz射频自动匹配最大阳极功率1kW最大离子束流 1000mA电压范围100-1200V离子束动能100-1200eV气体Ar, O2, N2, 其他流量5-50 sccm压力 0.5mTorr离子光学, 自对准OptiBeamTM离子束栅极22cm Φ栅极材质钼离子束流形状平行,聚焦,散射中和器LFN 2000, MHC 1000高度30 cm直径41 cm锁紧安装法兰10”CFKRI 射频离子源 RFICP 220 基本尺寸KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域：预清洗表面改性辅助镀膜 (光学镀膜) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE射频离子源 RFICP 220 集成于半导体设备, 实现 8寸芯片蚀刻1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产宽束离子源, 根据设计原理分为考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 和离子束抛光工艺 IBF 等领域, 上海伯东是美国 KRi 考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗女士

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 40上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内. 离子源 RFICP 40 设计采用创新的栅极技术用于研发和开发应用. 离子源 RFICP 40 无需电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用. 标准配置下 RFICP 40 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.射频离子源 RFICP 40 特性:1. 离子源放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.2. 离子源结构模块化设计, 使用更简单 基座可调节, 有效优化蚀刻率和均匀性.3. 提供聚焦, 发散, 平行的离子束4. 离子源自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行5. 栅极材质钼和石墨,坚固耐用6. 离子源中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性KRI 射频离子源 RFICP 40 技术参数:型号RFICP 40Discharge 阳极RF 射频离子束流100 mA离子动能100-1200 V栅极直径4 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量3-10 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力 0.5m Torr长度12.7 cm直径13.5 cm中和器LFN 2000KRI 射频离子源 RFICP 40 应用领域： 预清洗 表面改性 辅助镀膜 (光学镀膜 ) IBAD,溅镀和蒸发镀膜 PC离子溅射沉积和多层结构 IBSD离子蚀刻 IBE 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 射频离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

N5182B MXG X系列射频矢量信号发生器主要特性与技术指标JIANG信号特征9 kHz～ 3 或 6 GHz在 3 GHz 时提供 +24 dBm 指定功率，带有电子衰减器1 GHz和 20 kHz 偏置时，相位噪声为 -146 dBc≤-73 dBc ACP W-CDMA 64 DPCH和 0.4% EVM 160 MHz 802.11ac调制和扫描AM、FM、?M 和窄脉冲10 MHz多功能发生器和低频输出数字步进和列表扫描模式l/Q调制：ASK、FSK、MSK、PSK、QAM 、定制 I/Q基带生成和信号生成160 MHz内置基带发生器（+/- 0.2 dB 平坦度）：任意波形和实时 I/Q 信号1 Gsa回放存储器和 30 GB 内置或 8 GB 外置移动闪存卡任意信号和实时信号：LTE、HSPA+、WLAN、GNSS、DVB 等 –信号生成使用 N5102A 的数字 I/O、MIMO 和射频衰落以及PXB 基带发生器和通道仿真器完成多通道基带生成自动和通信接口1000BaseT LAN、LXI、USB 2.0 和 GPIBSCPI、IVI-COM、MATLAB 驱动器向后兼容 ESG、MXG、PSG 和 8648x 等Keysight USB功率探头可以兼容嵌入式显示和 SCPI 控制

射频消融导管弯曲疲劳试验装置用途射频消融导管弯曲疲劳试验装置是用于评估射频消融导管在使用过程中的弯曲疲劳性能的设备。射频消融导管是一种用于治疗心律失常的医疗器械，通过导管将射频能量传递到心脏组织中，以破坏异常的心脏电路。在实际使用过程中，射频消融导管需要经历反复的弯曲，因为它们需要穿过血管系统到达心脏。这种弯曲过程会对导管的材料和结构产生一定的应力和变形，可能会导致导管的疲劳损伤。射频消融导管弯曲疲劳试验装置能够模拟真实使用条件下导管的弯曲过程，并对导管进行反复弯曲测试。通过施加不同程度的弯曲应力和循环次数，装置可以评估导管的弯曲疲劳性能和耐久性。这种试验装置可以帮助制造商评估射频消融导管在长期使用中是否能够承受预期的弯曲应力，以及它们的寿命和可靠性。这样可以确保导管在临床应用中不会发生损坏或断裂，从而提供更安全和可靠的治疗选项。执行标准YY0778-2018技术参数内槽管尺寸：5MM--透明特氟龙管；水槽：亚克力制造；试验水：生理盐水；具有排水功能；外形尺寸：405*125*90mm 试验步骤将模拟装置平放在盛满生理盐水的容器中 去除模拟装置管内的气泡,使管内充满生理盐水 将导管的头电极端放人模拟装置的人口.慢慢插入导管 推拉手把使导管头端在标记1和标记2范围内来回移动要求的次数后取出

描述 纯净、精密的 MXG 无论您想要线性射频链路还是经过优化的链路预算，MXG 都能满足您的需求：相位噪声、ACPR、通道编码等。利用 MXG 最大程度地提升您的器件和设计性能。 利用优异的硬件性能生成您所需的信号 ?利用无与伦比的相位噪声和杂散性能，以测试雷达接收机的灵敏度、表征 ADC 或混频器信噪比、查找接收机带外抑制 ?利用业界领先的 ACPR 和输出功率，驱动功率放大器并表征非线性特性 - 利用唯一的、均衡的 160 MHz 射频带宽综合解决方案，以测试宽带接收机和元器件（例如 802.11ac WLAN） 使用最复杂的应用来测试广泛的信号 ?使用 Signal Studio 软件，支持针对蜂窝通信、无线连通性、视频和跟踪/导航应用的多种技术 ?使用实时功能仿真 LTE、GNSS 和 DVB 等实际信号 ?充分利用 1 GSa 回放存储器，使用独有的波形执行长时间、随时间变化的接收机功能测试 利用低拥有成本实现资源最大化 ?以第一代 MXG 的高平均故障间隔时间（MTBF）为基础，增加正常运行时间 ?自我维护策略和低成本维修可把停机时间和费用降至最低 N5182B MXG X 系列射频矢量信号发生器主要特性与技术指标 信号特征 ?9 kHz ～ 3 或 6 GHz ?在 3 GHz 时提供 +24 dBm 指定功率，带有电子衰减器 ?1 GHz 和 20 kHz 偏置时，相位噪声为 -146 dBc ?≤-73 dBc ACP W-CDMA 64 DPCH 和 0.4% EVM 160 MHz 802.11ac 调制和扫描 ?AM、FM、?M 和窄脉冲 ?10 MHz 多功能发生器和低频输出 ?数字步进和列表扫描模式 ?l/Q 调制：ASK、FSK、MSK、PSK、QAM 、定制 I/Q 基带生成和信号生成 ?160 MHz 内置基带发生器（+/- 0.2 dB 平坦度）：任意波形和实时 I/Q 信号 ?1 Gsa 回放存储器和 30 GB 内置或 8 GB 外置移动闪存卡?使用 N5102A 的数字 I/O、MIMO 和射频衰落以及 PXB 基带发生器和通道仿真器完成多通道基带生成 自动和通信接口 ?1000BaseT LAN、LXI、USB 2.0 和 GPIB ?SCPI、IVI-COM、MATLAB 驱动器 ?向后兼容 ESG、MXG、PSG 和 8648x 等 ?Keysight(原Agilent) USB 功率探头可以兼容嵌入式显示和 SCPI 控制