工艺设备

产品包括实验室加工设备药物制剂工艺设备旋转流变仪粘度计更多信息：请访问赛默飞世尔科技材料表征的展台，展位号：SH100279。或使用简易域名登陆：http://mctc.instrument.com.cn。

Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150一、产品简介德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速热工艺设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。 RTP 150型快速热反应设备，采用紧凑型的真空腔室设计满足多种工艺需要，是一款可用于生产和研发用的单晶圆工艺设备。RTP 150型设备包括一个带集成压力学习控制压力范围在1mbar至50mbar的真空腔室。采用灯管加热系统提供了可调节的加热均匀性控制，采用了CENTROTHERM公司专利技术的温度控制系统。RTP系统可用于6寸晶圆和5寸石墨基板的加热。可在15分钟内更换基板的尺寸和类型。设备用于高性能、小占地面积、低成本高工艺灵活性的工艺场合。 设备特点：压力可控的真空或大气环境下工作高灵活性：最大6寸硅片或其他材料温度范围：20℃~1150℃不限时加热的工艺温度可达 750℃升温速率可达150k/s（即150℃/秒）每个加热灯管独立控制，极高的温度均匀性±0.5℃温度一致性长寿命加热灯管，低维护成本 典型应用：金属接触退火掺杂物活化源极/漏极退火干氧化薄晶圆退火 设备参数：应用： 生产或研发基板材料： 硅片、GaAs、石墨、碳化硅、氮化镓、蓝宝石晶圆尺寸： 最大6寸加热系统： 24组加热灯，PWM控制冷却水： 20 L/分钟排 风： 250 m3/小时 可选件：用于温度曲线调整的温度测量系统用于全自动操作的双机械手臂

半自动快速退火炉RTP-SA-12RTP-SA-12半自动快速退火炉红外卤素灯管加热，灯管功率PID控温，可精准控制温度升温，可测最大样品尺寸为12寸。产品特点：①红外卤素灯管加热，冷却采用风冷；②灯管功率PID控温，可精准控制温度升温，保证良好的重现性与温度均匀性；③采用平行气路进气方式，气体的进入口设置在WAFER表面，避免退火过程中冷点产生，保证产品良好的温度均匀性；④大气与真空处理方式均可选择，进气前气体净化处理；⑤标配两组工艺气体，最多可扩展至6组工艺气体；⑥可测单晶片样品的最大尺寸为12英寸（300*300mm）；⑦采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施，全方位保障仪器使用安全。产品应用范围：其他快速热处理工艺 砷化镓工艺氧化物、氮化物生长 欧姆接触快速合金硅化物合金退火 氧化回流技术参数最大产品尺寸4-12英寸晶圆或者最大支持300*300mm产品，兼容12寸及以下晶圆温度范围室温~1250℃最高升温速度≤25℃/s（Sic载盘）温度均匀度＜500℃温度均匀性：±5℃，＞500℃时温度均匀性：±1%温度控制重复性±1℃温控方式快速PID温控

Plasma-Therm是致力于PECVD/HDPCVD/RIE/ICP/DSE的世界知名设备提供商， 产品涵盖2&rdquo ~ 12&rdquo 主流干法刻蚀/PECVD工艺，广泛应用于半导体、MEMS、三五族(GaAs / SiC / CPV)、LED、SOI及半导体后段TSV领域 仪器简介：2&rdquo ~12&rdquo 手动 / 半自动 / 全自动(片盒对片盒)领域 : 半导体前后段 / MEMS / 三五族(GaAs / SiC / CPV) / LED / SOI / TSV制程 : PECVD / HDPCVD / RIE / ICP / DSE 特点:Plasma-Therm公司有将近40年研发及制造干法刻蚀/PECVD设备的历史Plasma-Therm设备具有高稳定性与高可靠度Plasma-Therm自有的软硬件设计及完善QC系统Plasma-Therm设备配置灵活，包含手动、半自动、全自动(片盒对片盒)型号满足实验室研发及量产客户需求Plasma-Therm设备在行业内高占有率：目前世界范围内装机数量超过1600台Plasma-Therm PECVD设备：具有良好的uniformity(3%)和温度控制技术Plasma-Therm RIE / ICP设备：具有高刻蚀速率，低损伤, 良好的温度均匀性控制(独有的整个反应腔陶瓷加热技术)，方便的腔体清洁技术以及灵敏的刻蚀断点监测技术Plasma-Therm DES设备：应用于MEMS及TSV领域，主要用于高深宽比刻蚀, morphing技术确保侧壁的profile的精确控制,快速气体切换技术（专利）确保刻蚀的侧壁平滑，独有的压力控制技术（专利），高灵敏的刻蚀断点监测技术Plasma-Therm连续15年被VLSI评为10 Best设备供应商应用领域：半导体：三五族(GaAs / SiC / CPV)MEMS / SOILED半导体后段及TSV

Centrotherm 快速退火炉/快速热工艺设备-c.RAPID 150/RTP 150 Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150一、产品简介德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。 Centrotherm测温系统适用于从室温至高温的广泛区间。Centrotherm优化的多区温控系统结合可以独立控制的加热灯，提供了出色的控温精度和控温重复性。此款设备配置手动装载系统，适用于研发以及小型的量产。成熟的真空操作和气体管理系统为多种应用提供了可控的气体环境。出色的性能和高度的灵活性，结合小的占地面积，低的客户拥有成本，使c.RAPID 150成为一款最佳的手动RTP设备。 二、典型应用退火：一般退火、接触层（Contact）退火、源/漏退火、势垒金属退火硅化氧化掺杂活化三、产品特性可在常压或者真空（控压）下工作高度灵活性：适用于最大6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盘升温速率约150 K/s出色的温度均匀性精确的环境控制高的设备可靠性可以并排安装 Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150一、产品简介德国Centrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。Centrotherm RTP 150是一款高性能快速热工艺设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。 RTP 150型快速热反应设备，采用紧凑型的真空腔室设计满足多种工艺需要，是一款可用于生产和研发用的单晶圆工艺设备。RTP 150型设备包括一个带集成压力学习控制压力范围在1mbar至50mbar的真空腔室。采用灯管加热系统提供了可调节的加热均匀性控制，采用了CENTROTHERM公司专利技术的温度控制系统。RTP系统可用于6寸晶圆和5寸石墨基板的加热。可在15分钟内更换基板的尺寸和类型。设备用于高性能、小占地面积、低成本高工艺灵活性的工艺场合。 设备特点：压力可控的真空或大气环境下工作高灵活性：最大6寸硅片或其他材料温度范围：20℃~1150℃不限时加热的工艺温度可达 750℃升温速率可达150k/s（即150℃/秒）每个加热灯管独立控制，极高的温度均匀性±0.5℃温度一致性长寿命加热灯管，低维护成本 典型应用：金属接触退火掺杂物活化源极/漏极退火干氧化薄晶圆退火 设备参数：应用： 生产或研发基板材料： 硅片、GaAs、石墨、碳化硅、氮化镓、蓝宝石晶圆尺寸： 最大6寸加热系统： 24组加热灯，PWM控制冷却水： 20 L/分钟排 风： 250 m3/小时 可选件：用于温度曲线调整的温度测量系统用于全自动操作的双机械手臂

主要内容一、臭氧发生器技术及应用简介二、臭氧氧化生活污水二级出水的效果三、臭氧高级氧化技术简介四、《水处理用臭氧发生器》标准介绍五、臭氧发生器的选型路线简介六、选购臭氧发生器的五大误区七、臭氧系统运行中常见的问题及分析八、臭氧工程案例及现场 臭氧发生器技术及应用简介——1.1臭氧性质 1.2臭氧的主要应用领域 1.3臭氧发生机理 1.4臭氧发生器构成 1.4臭氧发生器构成 1.5主要性能指标及曲线 1.6核心技术——放电管技术 1.6核心技术——电源技术 1.6核心技术——整流变频器件 1.6核心技术——高压变压器技术 1.7国际臭氧行业综合比较 1.8评价臭氧发生器品牌的四大要素 1.9臭氧系统及臭氧投加工艺 1.10臭氧系统配套装置 2臭氧氧化生活污水二级出水的效果 在臭氧初始投加一定范围内，TOC与COD的去除率较高，超出此范围，有机物的去除变缓，再增大臭氧量意义不大，如需进一步降低有机物，应该结合其它方法进行处理。 臭氧氧化对UV254及色度的去除效果显著，说明臭氧对苯环、碳碳双键等有机物有明显的分解和破坏作用。 臭氧氧化可分解水中的大分子物质，可明显提高二级出水的可生化性，因此臭氧可作后级为生化处理的预处理手段使用。 pH值及温度对臭氧氧化有较大的影响，在碱性条件下，臭氧氧化有机物的效果明显提高；水温25-35度时，臭氧氧化效果较好。 适合采用臭氧氧化工艺的几种类型污水 水质要求高的再生水——脱色、除臭 一级A提标改造项目——降COD 出水色度较高的污水——脱色 含有大量工业污水——降COD、提高生化性 几种常见的臭氧组合工艺 砂滤+臭氧 MBR+臭氧 臭氧+BAF 臭氧+BAC 臭氧+催化剂 高级氧化技术(Advanced Oxidation Processes,AOPs)是近年发展起来的备受人们关注的一种有机污染物氧化去除新技术，它是指利用反应中产生的强氧化性的羟基自由基OH作为主 要氧化剂，氧化分解和矿化水中有机物的氧化方法。 高级氧化方法及作用机理是通过不同途径产生OH，高级氧化 技术是以产生OH为标志。 下表列出了在水处理过程中通常使用的几种氧化剂的氧化还原电位，很明显， OH具有最强的氧化能力。 臭氧高级氧化技术特点 氧化能力强O3高级氧化产生的OH是一种极强的化学氧化剂(氧化还原电位2.80eV)，除氟外，OH的氧化能力要大大高于普通化学氧化剂。反应速率大。 臭氧高级氧化技术特点（1）选择性小O3会优先与反应速度快的物质进行反应，而OH与不同有机物反应速率常数相差较小，选择性很小，不会出现一种物质得到降解而另一种物质几乎没有反应。（2）寿命短羟基自由基OH是O3高级氧化过程中生成具有高度活性的中间产物，虽然不同环境其存在时间有一定差别，但一般都小于10-4s。（3）处理效率高、不产生二次污染尽管OH的寿命较短，因其反应速率常数大、氧化能力强，处理效率高。不产生三卤甲烷类副产物(THMS)、溴代有机化合物及溴酸盐等致癌物质。 臭氧高级氧化技术的机理 OH与有机物反应生成有机自由基，有机自由基与氧分子碰撞生成过氧化物自由基，这些有机自由基进一步发生分解和反应。反应如下：◆ 脱氢反应RH+OH R+H2O◆双键或三键的加成OH+R2C=CR2 R2(OH)C-CR2◆电子转移RX+OH OH-+RX+上述反应中产生的有机自由基又可能发生如下反应：◆聚合反应R+R R-R◆与氧分子反应R+O2 RO2 高级氧化技术通常包括以工艺:O3/催化剂；O3/H2O2；O3/UV；O3/Fe2+； O3/Fe3+；UV/TiO2；H2O2/ Fe2+(Fe3+)/UV；O3/H2O2/UV；O3/BAC。 O3/催化剂 按催化剂相态，臭氧催化氧化分为均相催化氧化和多相催化氧化。均相催化氧化——向水溶液中加入金属离子以强化臭氧的氧化反应；多相催化氧化——以金属氧化物或附着于载体上的金属/ 金属氧化物为催化剂的氧化反应。 3.臭氧高级氧化技术简介 4.《水处理用臭氧发生器》（CJ/TC22-2010） 4 . 分类和规格 4.1 分类 4.1.1 按臭氧发生单元的结构形式，分为管式和板式。 4.1.2 按介质阻挡放电的频率，分为工频（50Hz，60 Hz）、中频（100 Hz～1000Hz）和高频（＞1000 Hz）。 4.1.3 按供气气源，分为空气型和氧气型。 4.1.4 按冷却方式，分为水冷却和空气冷却。 4.1.5按臭氧产量，分为小型（5g/h～100g/h）、中型（＞100g/h～1000g/h）和大型（＞1kg/h）。 4.2 规格 4.2.1 臭氧发生器额定臭氧产量应符合表1的规定。 4.2.2 生产、订购应优先选用规格系列产品，特殊情况宜按相邻规格中间值选定。 6.1环境条件 6.1.1臭氧发生器额定技术指标检测的环境条件要求： a)环境温度20℃±2℃，相对湿度不高于60%； b) 冷却水进水温度22℃±2℃。 6.1.2臭氧发生器正常工作条件要求： a)环境温度不高于45℃，相对湿度不高于85%； b)冷却水进水温度不大于35℃。 6.2供气气源 6.2.1臭氧发生器对各类气源要求参见表2 6.2.2应在臭氧发生器进气端配置精度不低于0.1μm的过滤装置。 6.3 冷却水 6.3.1 直接冷却臭氧发生器的冷却水应满足以下条件：pH值不小于6.5且不大于8.5，氯化物含量不高于250mg/L，总硬度（以CaCO3计）不高于450mg/L，浑浊度（散射浑浊度单位）不高于1NTU。6.3.2 大型臭氧发生器宜采用闭式循环冷却系统。6.4 额定技术指标臭氧发生器的额定技术指标按标准状态（NTP）计算，应符合表3的规定。 5.臭氧发生器的选型路线 臭氧发生量的确定 臭氧投加浓度——C：g/m3，通过中试或小试 每小时处理水量——Q：m3/h 臭氧发生量：D=C×Q 臭氧发生器选型原则 兼顾安全性、合理性、经济性的原则： 考虑在极端水质、水量下臭氧发生量能够满足要求 考虑在极端工况下臭氧发生量能够满足要求 最低臭氧需求量条件下能在设备性能曲线下可靠调节 设备备用方式——软备用或硬备用 例如臭氧需求量在24kg/h 一用一备： 2Х24kg/h；两用一备：3Х12kg/h；软备：2Х18kg/h6.选购臭氧发生器的五大误区 1）迷信进口设备 （2）以频率高低评判臭氧发生器 a)频率、电压与臭氧产量、电耗的关系 b)决定功耗、效率的因素 放电气隙、放电介质特性、电源频率及电压与负载的匹配c)相关分析 在固定放电电压条件下，提高频率会引起放电功率和臭氧产量增加，其比值才为功耗（效率）指标，因此，“高频臭氧产生效率高”的宣传，属误导市场的欺骗行为。（3）以可控硅和IGBT变频器件评判臭氧设备的优劣 a)可控硅与IGBT各自的特点 b)相关建议 臭氧发生器是涉及机械、电气、材料、结构、加工精度等因素一个复杂的、相互作用的系统，应关注整机的性能，技术指标和稳定性是臭氧发生器优劣的评判标准，而仅关注某一个器件的特点，容易得出狭隘的结论。（4）空气源比氧气源臭氧设备运行费用低 a)概念的根源空气源只耗电，氧气源还要购买氧气，所以空气源运行费用低。真的是这样吗？ b)空气源与氧气源臭氧发生器的比较序号气源1kg臭氧消耗1kg臭氧费用投资稳定性1空气源14kWh+5kWh14.25元大受空气处理系统稳定性、气源质量影响大2氧气源7.5kWh+10kgO312.75元低气源质量稳定 （5）臭氧发生间界区的防爆问题 a)《室外给水设计规范》（GB50013-2006）第9.9.19条“在设有臭氧发生器的建筑内，用电设备必须采用防爆型 ”。 b) 《生活饮用水净化用臭氧系统设备选型指南》， “十一五”项目编写，通过建设部组织专家审查，2013年7月公开发行。《指南》P51 明确说明“臭氧爆炸是被高度关注的问题，只有在臭氧浓度高达225- 300g/m3（15-20%，w/w）爆炸才有可能。对此科学文献早有论述，最近日本标准也已确认。因此，在200g/m3以下浓度，发生器及相关设备应用臭氧不存在爆炸危险也无需按防爆标准设计、生产。” c)设计单位应对：空气源不存在防爆问题；氧气源将臭氧电源柜车间与臭氧发生室车间隔离，臭氧发生室车间照明防爆；氧气为助燃气体， 周围不得有挥发型有机物存在，臭氧用变压器不能采用油浸式（有漏油、燃烧、爆炸风险）。 7.臭氧系统运行中常见的问题及分析 a)控制原理 适用气源：纯氧气源。由于水量水质变化，需要调节臭氧系统的产量，则PLC按照设定浓度计算出氧气流量进行调节，实际浓度出现偏离，则臭氧发生进行功率调节以达到设定浓度。优点：节约氧气用量。 b)存在问题 如果臭氧浓度监测仪出现故障率或产生漂移，则“恒定臭氧浓度，调节氧气流量”控制方式难以实现。 c)解决方式 采用“恒定氧气流量，调节臭氧浓度” 的就地控制方式。缺点：浪费氧气。 d)优化方案 备用“臭氧产量对应功率、氧气流量”的开环控制方式，需对臭氧产量、功率、气量进行曲线测试，并置入PLC，根据经验数据进行调节。在出现臭氧浓度监测仪故障时，采用该备用的控制方式，使臭氧浓度监测仪不参与控制。 （ 2）根据水中余臭氧自动调节臭氧产量难以实现 a)控制原理 根据水中溶解的臭氧浓度，调节臭氧的投加量，即调节臭氧系统的发生量。 b)存在问题 在污水中臭氧反应、分解速度快，难以监测出臭氧浓度；即使在给水处理中，水溶臭氧浓度数值小（0.05-0.2ppm）显示数值波动较大，臭氧设备功率调节频繁；探头易受污染，仪表的精度、快速响应、重复性等出现一定问题，准确性差，需发至国外厂家校正；受臭氧投加点、接触时间、水量等多个参量影响，采用这种方式实现自动控制几乎是不可行的。 c)建议 在设计和运行时，水溶臭氧浓度仅作为查考数值，不参与控制。 （3）外循环冷却水的问题（4）臭氧接触内的泡沫问题 a)泡沫产生的原因 水中磷酸盐、表面活性剂和脂肪酸含量过高，再加上臭氧曝气，在臭氧接触池顶部的空间会产生大量的泡沫。 b)泡沫的危害泡沫进入臭氧尾气破坏器，影响催化剂和加热管的寿命；双向呼吸阀有泡沫溢出，尾气中的臭氧外泄。 c)解决方法根据小试、中式注意泡沫的产生量，增大设计臭氧接触池内水面上的空间；尾气破坏器的进气管道，设置可靠的除泡器。（5）工况条件带来的影响 a)冷却水温度冷却水温度超过30℃，会造成电耗的增高和稳定性降低 b)臭氧设备间温度环境温度40 ℃ ，机柜温度上升到55 ℃以上，造成电气元件的稳定性变差 c)气源露点、粉尘、有机气体发生效率降低，电耗增加，介质管被击穿的几率增加 d)环境中的腐蚀性气体电路控制板、仪器、仪表受到危害，空压机、冷干机易被腐蚀、损坏。（6）空气处理系统的问题采用空气源或现场制氧气源，除增加投资外还存在以下问题： a)潜在故障点增多与纯氧气源比较，空气源或现场制氧气源会增加空气压缩、干 燥、除尘、除油等工艺设备，一旦某一环节出现问题，影响整个臭氧系统运行。 b)压缩机的含油量进口无油压缩机价格昂贵，用户难以接受；国产微油压缩机出气含油量高，较短短时间造成过滤器失效、发生室清洗。 c)环境腐蚀性气体环境中的酸性气体对空压机、冷干机等设备密封性和寿命影响较大。（7）尾气中的酸性气体对臭氧破坏器的腐蚀 a)酸性气体的来源工业园区污水中含大量化工类废水，经臭氧曝气后挥发出大量酸性气体。 b)对臭氧尾气破坏器的危害臭氧尾气破坏器一般采用加热-催化连用的方式，酸性气体会腐蚀加热管和尾气破坏器的叶轮、轴承、密封件，设备频繁出 现故障。 c)解决方法调节水的pH值；或者，在尾气进入破坏器前，设置碱液吸收装 置。8.臭氧工程案例及现场——市政给水处理臭氧的作用：u 分解生物难降解的有机和无机污染物，如苯、酚及其衍生物，氰化物、硫化物、锰、铁和腐殖酸，杀虫剂、除草剂；u 杀灭抗氯性“两虫”、细菌、病毒、藻类；脱色、除臭、降低浊度；u 分解内分泌干扰物，避免卤代烃、氯胺等致癌物质的产生；u 提高水中DO（溶解氧）浓度，将大分子有机物降解为小分子，提高后续BAC 对COD和氨氮的降解效率和持久性。 臭氧氧化工艺：u 一般用于出水末端，进一步降低COD、脱色，确保出水指标。u 一级B到一级A的提标改造， 采用臭氧+过滤工艺可以实现。u 中水回用采用该工艺，用于脱色和除臭。 臭氧的作用：u 进一步降解难生化的有机物；u 降低出水的色度、浊度；u 杀灭水中的大肠杆菌、病毒；u 去除水中的臭味。 8.臭氧工程案例及现场——工业废水处理8.臭氧工程案例及现场——烟气脱硝处理

随着变压吸附制氧技术的不断创新，在更多的领域得到了广泛应用，比如在污水处理行业，苏州杜尔制氧微气泡富氧曝气工艺，可为用户提供高效、廉价的富氧气源，同时实现充氧和混合，使供氧能耗低。该项工艺实际应用的主要优点：（1）富氧曝气装置长期运行后或停顿后再次启用时软件不会存在任何堵塞；（2）尤其适合现有污水处理装置的扩容改造工程，无需增建曝气池而实现生物脱氮的升级。这一特点在空余土地紧张的地区是十分可贵的；（3）富氧曝气设备简单，操作安全可靠，易于掌握。整个系统的设备维护费用低。尽管一次性投资比液氧纯氧曝气稍高，但考虑到富氧曝气设备运行费用、操作简单、具有即时启动能力、维护量小、效果明显、特别是在边远城市液氧供应困难时，该工艺的综合经济效益具有相当好的竞争力；（4）该工艺系统不存在挥发性有机物的气提逸散，对污水处理厂邻近周围不会产生不利的环境影响。

产品详情Oxford System 100 等离子刻蚀与沉积设备 该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。具有工艺灵活性，适用于化合物半导体，光电子学，光子学，微机电系统和微流体技术， PlasmalabSystem100可以有很多的配置，详情如下。主要特点 可处理8 "晶片，也具有小批量（6 × 2"）预制和试生产的能力 选择单晶片/批处理或盒式进样，采用真空进样室。 该PlasmalabSystem100可以集成到一个集群系统中，采用中央机械手传送晶片，生产工艺中采用全片盒到片盒晶片传送. 采用一系列的电极进行衬底温度控制，其温度范围为-150 ° C至700° C 用于终端检测的激光干涉和/或光发射谱可安装在Plasmalab System100以加强刻蚀控制 选的6 或12路气箱为工艺流程和工艺气体提供了选择上的灵活性，并可以放置在远端，远离主要工艺设备工艺一些使用Plasmalab System100等离子刻蚀与沉积设备的例子： 低温硅刻蚀，深硅刻蚀和SOI工艺，应用于MEMS ，微流体技术和光子技术 用于激光器端面的III - V族刻蚀工艺，通过刻蚀孔、光子晶体和许多其他应用，材料范围广泛（InP, InSb, InGaAsP, GaAs, AlGaAs, GaN, AlGaN,等） GaN、AlGaN等的预生产和研发工艺，比如HBLED和其它功率器件的刻蚀 高品质，高速率SiO2沉积，应用于光子器件 金属（Nb, W）刻蚀

请联系：张先生Samco是日本半导体工艺设备制造商中获得博世工艺许可的公司。使用我们最新的Tornado ICP专利技术和利用博世工艺，Samco的Si DRIE系统已被证明在研发和生产中的深层、垂直、高速Si深层蚀刻方面非常有效。Samco Si DRIE系统的优势。蚀刻速率超过50微米/分钟。高选择性超过250:1（Si:光刻胶）。均匀度为±5%或更高（4、6和8英寸晶圆）。高长宽比（大于40:1）。低扇形，光滑的侧壁轮廓（小于0.1μm扇形）。双频SOI抗缺口蚀刻技术。具有 "防倾斜 "功能，确保高均匀性。静电夹头和氦气背面冷却(用于晶圆温度控制)ICP源可以修改为SiO2的DRIE。

上海伯东日本 Atonarp Aston™质谱仪设备与工艺协同优化 EPCO: 380亿美元的制造优化机会先进的工艺需要设备和工艺协同优化 EPCO. 麦肯锡公司 McKinsey & Co. 在2021年发表的一篇论文表明, 利用人工智能 AI 和机器学习 ML 进行半导体制造优化, 通过提高产量和吞吐量, 有望节省380亿美元的成本.麦肯锡强调, 帮助企业实现这些好处的干预点是调整工具参数, 使用当前和以前步骤的实时工具传感器数据, 使 AI/ML 算法优化工艺操作之间的非线性关系.成功部署 AI/ML 的关键是可操作的实时数据. 上海伯东 Aston™ 质谱仪的原位实时分子诊断和云连接数据是实现这一能力的关键技术, 从而解锁半导体设备与工艺协同优化的潜力.问题随着工艺节点的缩小, 影响工艺良率的新变量出现, 挑战了已建立的 Copy Exactly！ 方法论. 其中一些可能影响工艺性能的关键变量包括局部虚拟真空泄漏, 细微的反应气体分压变化, 由于泵送性能变化导致的晶片表面饱和, 由于晶片温度变化导致的表面反应性, 腔室清洁终点和腔室老化曲线.其他挑战, 如层间粘附, 300mm 晶圆机械应力, 新的原子级沉积和蚀刻化学, 特殊的低电阻接触和填充金属, 严格的交叉污染协议和提高吞吐量, 都需要更深入地了解工艺和设备的相互作用, 优化诸如此类的先进工艺现在需要更高精度的计量工具, 增加了 Copy Exactly! 方法学协议的原位分子复杂性.上海伯东日本 Atonarp Aston™质谱仪提供设备与工艺协同优化解决方案: 原位,实时数据半导体过程控制 FAB 环境中的数据主要分为三种类型:1. 在工艺工具上实时获取的现场数据2. 处理步骤后测量结果的在线数据（通常立即）3. 参数或 Fab 后数据（用于晶圆生产线良率和晶圆出货验收标准）此外, 这三个主要数据可以进一步分为三个子类型1. 目标数据, 即作为配方一部分的工具所针对的目标, 例如, 目标温度: 327 °C, 目标 SiF4 摩尔浓度: 100 mol/l2. 测量数据, 即在给定情况下测量的数据, 例如, 测量温度 9 °C, 实际 CF4 摩尔浓度: 0.097 mol/l3. 信息数据, 例如晶圆批号: 8F2342G, 设备序列号和腔室: 32FF4567-4在分子水平上测量原位实时数据可以真正洞察过程是如何设置和进行的, 提供丰富, 可操作和有影响力的数据. 反应物, 副产物和分压浓度可以被识别和量化, 允许动态过程控制, 以确保对给定过程模块在运行到运行, 腔室到腔室, 工具到工具之间进行严格的平均和标准偏差控制 -工具, 甚至站点到站点. 管理整体复杂的半导体工艺控制和生产线良率首先要严格控制各个工艺步骤, 并确保低可变性和严格的统计工艺控制 SPC.上海伯东日本 Atonarp Aston™质谱的设计初衷是为了满足原位分子分析的需求, 从而实现 EPCO, Aston 强大的实时原位分子传感器解决方案具有许多先进的性能优势, 包括:• 准确的实时终点检测• 逐次运行和实时 EPCO• 参数调整• 机器学习, 人工智能、• 过程统计过程控制和偏差识别• 生产线良率根本原因分析• 优化的预防性维护• 跟踪重要工具或流程Aston™ 质谱仪特点应用1. 耐腐蚀性气体2. 抗冷凝3. 实时, 可操作的数据4. 云连接就绪5. 无需等离子体6. 功能: 稳定性, 可重复性, 传感器寿命, 质量范围, 分辨率, 最小可检测分压, 最小检测极限 PP,灵敏度 ppb, 检测速率.1. 介电蚀刻: Dielectric Etch2. 金属蚀刻: Metal Etch EPD3. CVD 监测和 EPD: CVD Monitoring and EPD4. 腔室清洁 EPD: Chamber Clean EPD5. 腔室指纹: Chamber Fingerprinting6. 腔室匹配: Chamber Matching7. 高纵横比蚀刻: High Aspect Ratio Etch8. 小开口面积 0.3% 蚀刻: Small Open Area 0.3% Etch9. ALD10. ALE若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

一体化污水处理设备的工艺设计　　一件好的产品，让你叹为观止的往往不是最终的成品，而是它前期的投入，不管是它的设计、工艺、运行等等都是会让你由衷的感觉它的价值所在，当然，现在社会存在的普遍现象为“快节奏”，有的商家为了赶进度，会忽略产品的质量问题，让消费者产生信任危机。一个好的产品一个是从生产材料到售后服务整个流程都不会存在“欺骗”行为，现在人们越来越注重环保、绿色的健康理念，关于环境保护这方面的发展越来越迅速，对应的相关产品也参差不齐，什么才是好的产品，什么才是好的工艺设计，今天我们就来深入了解一下一体化污水处理设备它的工艺设计。　　一体化污水处理设备的设计需特别注意的问题:　　1、设施的组成本法原则上不设初次沉淀池，本法应用于小型污水处理厂的主要原因是设施较简单和维护管理较为集中。　　为适应流量的变化，反应池的容积应留有余量或采用设定运行周期等方法。但是，对于游览地等流量变化很大的场合，应根据维护管理和经济条件，研究流量调节池的设置。　　2、反应池的形式为完全混合型，反应池十分紧凑，占地很少。　　形状以矩形为准，池宽与池长之比大约为1：1～1：2，水深4～6米。　　(1)反应池水深过深，基于以下理由是不经济的：　　①如果反应池的水深大，排出水的深度相应增大，则固液分离所需的沉淀时间就会增加。　　②专用的上清液排出装置受到结构上的限制，上清液排出水的深度不能过深。　　(2)反应池水深过浅，基于以下理由是不希望的：　　①在排水期间，由于受到活性污泥界面以上的至小水深限制，上清液排出的深度不能过深。　　②与其他相同BOD―SS负荷的处理方式相比，其优点是用地面积较少。反应池的数量，考虑清洗和检修等情况，原则上设2个以上。在规模较小或投产初期污水量较小时，也可建一个池。　　3、排水装置 排水系统是SBR处理工艺设计的重要内容，也是其设计中独具特色和关系到系统运行成败的关键部分。　　目前，国内外报道的SBR排水装置大致可归纳为以下几种：　　(1)潜水泵单点或多点排水。这种方式电耗大且容易吸出沉淀污泥 　　(2)池端(侧)多点固定阀门排水，由上自下开启阀门。缺点操作不方便，排水容易带泥 　　(3)专用设备滗水器。

Aston™ 质谱分析仪安全地减少设备停机时间预防性维护是良好晶圆厂管理与安全第一的理念支柱. 刻蚀和沉积设备需要定期脱机进行深度清洁和/或打开工艺室进行部件更换. 考虑到沉积或蚀刻工艺设备的每小时折旧和生产损失可能轻易超过 1000美元/小时, 减少设备停机时间是至关重要的. 但是, 考虑到许多工具都有高度腐蚀性的清洁气体或工艺副产物气体, 如 HCl, NF3, HBr, HF, F, Cl, 如何安全地停机维护是一个挑战.问题在打开腔室进行日常维护之前, 需要安全地清除腔室内的工艺副产品或清洁循环中的残留工艺气体, 然而,挑战在于如何确保腔室在打开之前是安全的并且没有有害残留气体. 已知的一个方法, 确保工艺室不含有害残留气体（包括由表面去吸收产生的残留气体）的方法是运行（过长）长压力循环吹扫气体. 在没有计量或反馈的情况下, 吹扫周期需要足够长以确保腔室没有有害物质, 这会导致效率低下, 周期长和设备停机时间长. 由于灵敏度和等离子体可用性的问题, 不能使用常见的计量解决方案, 例如光学发射光谱. 传统的残余气体分析仪在腐蚀性气体环境中工作时面临挑战, 这可能导致电子冲击灯丝在长吹扫周期中腐蚀和故障.上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱分析仪减少设备停机时间解决方案Aston 原位质谱仪可以进行快速, 化学特异性原位定量气体分析, 以实现准确和快速的腔室吹扫终点检测. 与典型的基于时间的清洗程序相比, 这可以节省大量的设备停机时间。 由于 Aston™ 质谱分析仪可用于加速泄漏检测和腔室老化到已知良好腔室化学指征, 因此可以实现清洁后的进一步停机.在不需要等离子体的情况下, 每秒可以采集数十个样本, 灵敏度低至 100 PPB（十亿分之几）水平. 除了基于灯丝的电子碰撞电离源外, Aston Plasma 还提供内部等离子电离能力. 双电离源支持较宽的工艺压力范围, 等离子电离允许分析较高压力下的苛刻气体, 而不会出现残留气体分析仪中常见的灯丝腐蚀问题.通过减少设备停机时间和重新调试, 可以在不到 12 个月内实现回报, 此外, Aston™ 质谱分析仪还为现场过程监控和管理提供了价值优势.Aston™ 质谱分析仪是一种具有成本效益的解决方案, 可在日常维护和后续维护后投产调试前实现快速, 安全的腔室清洗. 除了 Aston ™ 在沉积和蚀刻过程控制中提供的过程监控优势外, 还可以通过原位测量灵敏度和速度来显着减少设备停机时间.若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗先生

清远医用超纯水机，清远医用超纯水机设备　　提及水处理设备不少人难免会想到超纯水机设备，我在这里为您做一下简略的介绍吧!超纯水机设备又叫超纯水，是指对水处理纯度极高的水，其首要应用在生物、化学化工、冶金、宇航、电力等范畴，超纯水机设备和纯水设备大致来说是都是水处理设备，区别在于纯水的纯度。　　　　接下来就让我为咱们揭晓一下超纯水机设备的神秘面纱!水思源所生产的超纯水机设备首要选用RO反渗透纯水设备加EDI高纯水设备工艺，所选用的EDI模块作为反渗透设备后的二次除盐设备，其EDI模块具有超强的稳定性。能够制取出高达10-18.2MΩ的超纯水，EDI模块是接连电除盐必备的技术。　　其首要是使用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子，同时这些被吸附的离子又在直流电压的效果下，别离透过阴阳离子交换膜而被除去的进程。离子交换树脂是接连再生的，因而不需要使用酸和碱对之再生，这一新技能能够替代传统的离子交换装置，生产出的纯水能够达到18.2MΩ。　　水思源在水处理行业的多年，无论是技术方面还是服务都相当成熟，同时我司拥有独立设计与生产的技术，完全有能力依据客户对水质的需求来进行量身定制，让超纯水机设备的出水水质达到客户需要的标准。清远医用超纯水机，清远医用超纯水机设备　　水思源纯水设备是集实验室水处理设备研发、生产、销售和维修服务为一体的专业化公司，为客户提供：纯水机、超纯水机、实验室超纯水机、医用超纯水机、生化超纯水机 在国内水思源拥有15000套设备安装运作经验，15大技术服务中心，24小时为客户提供产品咨询及技术指导服务。

PECVD设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。设备用途和功能特点1、该设备是高真空单频或双频等离子增强化学气相沉积PECVD薄膜设备，主要用于制备氮化硅和氧化硅薄膜。2、设备保护功能强，具备真空系统检测与保护、水压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护。3、配置尾气处理装置。设备安全性设计1、电力系统的检测与保护2、设置真空检测与报警保护功能3、温度检测与报警保护4、冷却循环水系统的压力检测和流量检测与报警保护设备技术指标 类型参数 样片尺寸 ≤φ6英寸（或3片2英寸） 样片加热台加热温度 室温～ 600℃±0.1℃ 真空室极限真空 ≤7×10-5Pa 工作背景真空 ≤8×10-4Pa 设备总体漏放率 停泵12小时后，真空度≤10Pa 样品、电极间距 5mm ～ 50mm在线可调 工作控制压强 10Pa ～ 1500Pa 气体控制回路 根据工艺要求配置 单频电源的频率 13.56MHz 双频电源的频率 13.56MHz/400KHz工作条件 类型参数 供电 三相五线制 AC 380V 工作环境温度 10℃～ 40℃ 气体阀门供气压力 0.5MPa ～ 0.7MPa 质量流量控制器输入压力 0.05MPa ～ 0.2MPa 冷却水循环量 0.6m3/h 水温18℃～ 25℃ 设备总功率 7kW 设备占地面积 2.0m ～ 2.0mPECVD及太阳能薄膜电池设备1-3-6-3-2-7-5-0-0-1-7

工艺紫外纳米压印光刻设备200mm WLOGL8 MLA Gen2是一种专门为晶圆级光学加工（WLO-Wafer Level Optics）开发的全幅紫外纳米压印设备，可在200mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。GL8 MLA Gen2是一种专门为晶圆级光学加工（WLO-Wafer Level Optics）开发的全幅紫外纳米压印设备，可在200mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。该设备支持从晶圆级母模具表面自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高，寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。内置的点胶系统、APC（主动模具基底平行控制）技术、以及自动脱模功能都保证了大面积晶圆级光学生产的精度、均匀性（TTV）与良率。同时，自动模具基底对位系统还可实现晶圆之间对位堆叠工艺（WLS-Wafer Level Stacking）。GL8 MLA纳米压印设备适用于DOE、匀光片（Diffuser）、微透镜阵列、菲涅尔透镜等产品的研发和量产。主要功能●经过量产验证的200mm晶圆级光学生产（WLO）设备●APC主动模具基底平行控制技术，确保大面积晶圆压印TTV均匀性●设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本●内置自动点胶功能●自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预●标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料●标配设备内部洁净环境与除静电装置●随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括标准示范WLO等工艺流程，帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平设备照片相关参数兼容基底尺寸2inch、100mm、150mm、200mm特殊尺寸可以定制支持基底材料硅片、玻璃、石英、塑料、金属等上下片方式手动上下片晶圆预对位机械夹持预对位，可选装光学巡边预对位纳米压印技术APC主动平行控制技术，适合大面积WLO、WLS等工艺压印精度优于10nm*结构深宽比优于10比1*TTV控制微米级精度（200mm晶圆）紫外固化光源紫外LED（365nm）面光源，光强1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配）设备内部环境控制标配，外部环境Class 100，内部环境可达Class 10*自动压印支持自动脱模支持自动工作模具复制支持模具基底对位功能自动对位（选配）如想了解更多产品信息，可通过仪器信息网和我们取得联系 400-860-5168转6144

系统要求采用离子法常温氧化除臭工艺设备工艺流程如下： 臭气收集 臭气输送 过滤装置 离子-光解一体化发生反应系统装置 离心风机 达标后通过管路排放。 1）、离子除臭工艺是一种安全可靠的处理方法，其原理为离子活化臭气分子发生分解的直接反应与活化其它气体分子再分解臭气分子的间接反应相结合的一种 氧化技术，综合利用了离子对恶臭物质的破坏作用和氧对恶臭物质的氧化去除作用来去除恶臭气体中的硫化氢、氨、甲硫醇等VOC（挥发性有机物）。2）、污水所产生的臭气经臭气收集系统收集后集中送至离子除臭装置处理，经抽风机作用后达标排放，抽风机与除臭装置配合设计选型，并位于同一个土建基础上。3）、卖方提供的离子除臭设备为成套装置，必须是引用 的除臭技术产品。并应全面负责咨询、设计、供货、安装、调试及操作培训、售后服务等。 4）、处理系统的风量设置必须满足同时满足规定的 *小风量的要求。本项目选用离子法除臭设备需具有以下特点：  除臭系统主体部件离子发射装置必须是原产地厂家生产，设备性能先进，质量可靠。  离子发生装置设计科学，风阻小，能耗低；  系统具有结构设计合理简洁、占地面积小、运行成本低等显著特点；  系统运行稳定，抗冲击负荷能力强，并可在确保排放达标的前提下采用经济运行模式，以降低运行成本；  系统运行方式可根据工况采用连续运行或间断运行模式；  对环境无任何形式的二次污染；  系统主体设备使用寿命10年，离子发射管使用寿命大于20000小时。系统可采用自动化控制，无需专人值守；使用操作维护简便。 2.2 系统应满足两种运行模式 ，除臭装置应能采用两种运行模式：  1）24小时连续运行模式；  2）间歇运行模式：按照人工设定的间隔时间实现系统的自动开机与停机；或在操作工人需要时实现简单的开机与停机。在停机时间长达一周后再次开机时，确保除臭装置能在1小时内达到正常的除臭效率。

无耗材氮气发生器 AYAN-10L 氮吹仪用制氮设备 ?产品特征：1.韩国进口膜分离，纯度高，使用寿命长，无耗材更换。2. 内置专业除水分离器，确保吸附剂的使用寿命长。3.采用多级超精密高通量压缩空气净化系统，且带过滤单元失效预警提示3. 氮气纯度显示，可清晰观察机器产氮气的纯度，精度高。4. 内置压缩机，无需外配，24小时不间断工作，且采用悬空隔音系统，噪音小。5. 双重压力值可调系统，操作简单方便6. 采用一体式设计，整机集成空压机、净化除水系统、氮气，干燥空分离制备系统，8.程序控制智能化的自诊断功能和服务提示功能，便于维护9.高度集成的模块化结构设计，节省实验室空间10.系统内置贮气罐稳压单元，带国际标准的安全阀设计11.带脚轮可移动式设计，方便移动。 无耗材氮气发生器 AYAN-10L 氮吹仪用制氮设备制氮机可以按照工艺流程进行连接布置。用户只需要提前提出设备安装厂房尺寸图和空气进口、成品氮气出口的位置，上化院会根据实际场地条件规划对整套设备布置连接。　　制氮机通常对场地没有要求，厂房只需要平整就能满足安装条件。不过对于规格较大的空压机、压缩空气干燥设备等，则是按生产厂家的要求实施。为了方便设备维修、清洁，可以在空压机、制氮机、氮气纯化装置安放位置高于地面10cm平整台面好。　　各设备一般沿厂房墙面布置。空压机、冷干机应放在上风口或通风良好的地方，如果空压机后没有空气储罐，则空压机与冷干机之间的距离应尽可能大一些，二者之间的管路长度尽可能长一些，以利通过大气环境降低压缩空气温度。各设备间距离应至少大于1m，各设备与墙的距离应至少大于0.8m，设备的操作面应面向人员方便操作的方位，方便使用者对设备操作和维护、检修。　　设备间的管路连接按设备就位后的实际情况而定，推荐管路连接由用户根据需要制作。所有管路好采用硬连接方式（螺纹连接或焊接），由专业人员施工，避免发生泄漏现象。　　当所有的工艺设备都就位以后，设备管路是可以根据现场情况进行分配。所有管路是用硬连接方式螺纹连接或焊接，注意要让专业人员进行施工，以免发生泄漏现象。成品氮气出口管路可以用铜管或者是不锈钢管好，可以焊接的方式进行连接。无耗材氮气发生器 AYAN-10L 氮吹仪用制氮设备 ?技术参数：型号AYAN-10LAYAN-20L出气量10L/MIN20L/MIN氮吹位数12位24位纯度值99%压力值0-0.6mpa(可调）总功率1600W2600W工作电压220V 50HZAnyan品牌氮气发生器可订制各种流量，纯度分别为99%，99.9%，99.99%，99.999%，99.9999%的氮气发生器，欢迎选购！

重要提示：定制产品，价格务必以我司业务人员报价为准，页面价格仅供产品展示！ T-BD5+sMS2100固体物料水分测试仪 ____蕞佳干燥工艺水分在线测试解决方案原理：非接触式水分场(熵)测试。是当今世界最蕞时髦的解决吸附水测试难题的技术。其特点是依赖于成熟的水分活度技术，加强单片微机的数据模型化处理，以ERH方法为基础的测试方法来表征水分含量情况。这种表征方法能直接地反映许多工农业生产中的水分特性。同时可以换算出特定物质的水分。适合于对水分吸附解吸可逆的任何过程和物质。适用于固体颗粒，粉末，松散叶料，板料常量水分连续不接触分析。北斗星仪器在线微波水分分析仪 干燥工艺水分在线监测设备 应用：l 滚筒干燥器l 牛奶、蔬菜汁、红莓、香蕉l 盘架式真空干燥器l 有限量的生产某些食品 l 连续真空干燥器l 水果和蔬菜 l 连续带式(常压)干燥器l 蔬菜l 流化床干燥器l 蔬菜l 浓缩泡沫干燥器l 果汁l 冷冻干燥器l 肉类l 喷雾干燥器l 全蛋、蛋黄、血清蛋白和牛奶l 旋转式干燥器l 某些肉制品、一般不用于食品干燥l 箱式干燥器l 水果和蔬菜l 窑式干燥器l 苹果、某些蔬菜l 隧道式干燥器l 水果和蔬菜l 热风脱水干燥设备l 各种蔬菜、山野菜、食用菌、茶叶l 蒸汽型蔬菜烘干脱水机l 甘蓝菜、菠菜、大蒜、葱、绿豆芽、南瓜片、萝卜片、土豆片l DWT系列脱水蔬菜干燥机l 根茎叶类条状、块状、片状、大颗粒状等蔬菜物料，干燥的蒜片、 南瓜，胡萝卜、魔芋、山药、竹笋、辣根、洋葱、苹果等l 移动式粮食干燥机l 食品、精细化工、医药品l 真空冷冻干燥设备l 热敏性物料、保健品、果蔬产品、中草药、血浆制品等l 节能型食品真空冻干机l 水果、肉类、水产、牛奶、豆浆、果汁及方便面、汤料、粉末蔬菜、颗粒蔬菜等l 系列新型滚筒干燥机l 液态、带状、膏状和黏稠物料的干燥，如肉制品、l HG滚筒刮扳干燥机l 过热溶剂蒸汽流化床干燥机l 封闭循环带式干燥机l 透气性好的片状、条状、颗粒状，滤饼类的膏状物料l 高速混合制粒干燥机l 食品、医药等行业的压片、胶囊、冲剂颗粒的湿法制粒与干燥等l 多功能包衣干燥机l 食品、医药、化工等行业多品种制粒包衣干燥l 茶叶微波杀青干燥机l 乳制品、营养麦片、酵母、淀粉等 仪器特点：不受物料物理状态影响的水分测试技术，适用于任何形状的物料仪器功能：l 全功能STIM 智能变送器，2×16 LCD 液晶显示，5×4键盘操作；l 数字输出接口：RS232； 支持STIMcom智能变送器协议， 符合IEEE1451.2协议标准；l 同时支持Modbus通信；可配置专业控制功能；l 电流信号输出：0~2.5V，0/4~20mA，可设置输出范围；l 电流输出最大负载RL=(Vs-2.7V)/0.020mA；l 开关报警信号：5V射极输出开关；l 用户有特殊要求可以配1路光电隔离开路380V×1A功率驱动；l 自带声光报警功能；T-BD5报警限值可以设定；在线微波水分分析仪技术参数：l 测试量程： ERH间接固体/液体水分测试范围：100ppm~100.0% 固体/液体水分活度测试范围：0.01~1.00%l 重复精度： ±0.5%FSl 准 确 度： ±2.0% 相对对固体物料；±2.0%FS对固体/液体l 工作温度： 2123N3610：-40 to 85°C (短时间可以在100°C工作)l 工作压力： 0.3Mpa (Max 1.0 Mpa)l 反应速度： 15sec(在25 °C，实际工艺延迟与具体工况有关) 固体粉末测试完全平衡时间3~5分钟。l 环境温度： -30~70℃l 环境湿度： ≤95%RH相对湿度(无冷凝)l 供电电压： DC12V、24V可选l 安装螺纹： T型变送器带G1”连接口，可以订制法兰l 总 功 耗： 100mWl 机箱标准： NEMA 7，NEMA 8，NEMA 9，NEMA 6/6p，IP67l 长期稳定性： ±1% 5年(无严重腐蚀条件下)l 电气防爆等级：Ia本安设计。可用于Class1，Group A/B/C/D；Class II，Group E/F/G环境北斗星仪器在线微波水分分析仪 干燥工艺水分在线监测设备T-BD5-sMS2100 固体水分变送器选型：规格型号性能指标TFA3-BD5CMD+sMS2123N分离式水分活度变送器工作温度： -40 to 85°C；工作压力：0.3Mpa插入深度： 40~130mm可调；安装连接： G1/2” /1/2”NPT；传感器与表头距离： 10 米T001-BD5CMD+sMS2123N插入式水分活度变送器工作温度： -40 ~ 85°C；工作压力：0.3Mpa插入深度： 40~20mm可调安装连接： G1” /1”NPTT001-BD5CMD+sMS2123-02p插入式水分活度变送器工作温度： -40 ~ 85/100°C工作压力：1.0 Mpa插入深度： 260mm安装连接： G1” /1”NPTT001-BD5CMD+MS2110pHT200插入式水分活度变送器工作温度： -40 ~ 180°C；工作压力：1.0 Mpa插入深度： 200mm安装连接： G1” /1”NPTT001-BD5CMD+MS2110pHT300插入式水分活度变送器工作温度： -40 ~ 300°C；工作压力：1.0 Mpa插入深度： 200mm安装连接： G1” /1”NPT备注：因各个用户需求不同产品要求和价格也有差异，具体详情及价格请致电北斗星仪器了解沟通。

ENJET是一家专注于高精度纳米、微米加工工艺设备制造的创新公司，追求成为21世纪绿色环保的企业，不断挑战新技术，以迎合多元化的市场变化。从公司成立以来我们致力于研发核心技术的同时开拓着全球化市场。ENJET的非接触式电流体力学打印创新技术（iEHD）在微纳米加工领域获得了大量的认可以及实践，在韩国也是获得了大量的行业机构奖项以及荣誉，为微纳米加工领域提供了全新的解决方案。 电流体力学（EHD）打印技术是基于电场驱动的打印技术，柱状力使喷嘴端的弯月面变形为锥形（即泰勒锥），在足够大的电场下，锥顶点处的表面电荷排斥超过表面张力，并且液滴或流体被印刷到基板上。在EHD印刷中，液滴/射流由锥形尖端处的电场形成，并且明显小于喷嘴尺寸，这可以克服喷嘴尺寸的限制，从而实现更好的分辨率，用于生产微米和纳米级。 传统的EHD技术，各种形式的喷嘴都无法避免电极与墨水的直接接触，致命的电化学反应导致造成打印过程的不稳定性，无法得到稳定的线宽精度。iEHD技术避免了电极和墨水的直接接触，不仅阻止了电极与墨水的电化学反应，而且有效防止了控制电路中的浪涌电流并限制喷射过程中的电荷量，极大提高了连续作业的稳定性。 基于iEHD电流体打印技术开发的纳米喷涂技术，拥有超高喷涂精度和表面均匀性。我们的喷嘴可以将溶液分散至微米甚至纳米级别的液滴，从而形成均匀性极高的薄膜。相对于传统空气喷涂和超声喷涂iEHD纳米喷涂技术优势明显，已被广泛应用于抗指纹涂层、防眩光涂层等功能层的工业化生产。技术优势：1. 液滴尺寸：200 nm~5 μm2. 超高均匀性3. 更大黏度范围：最大1,000 cps4. 更高生产效率5. 更少液滴飞溅：高电场束缚6. 节约最多50%超材料应用领域：防指纹涂层、防眩光涂层及EMI涂层喷涂（行业内所获相关荣誉）ENJET微纳加工打印相关专利： 更多相关ENJET技术专利名称可查于：（）

工作原理及工艺：物料在洁净的热气流（负压）作用下悬浮形成流化状态，其表面与热空气*接触，受热均匀，达到了蕞佳的热交换状态，从而有着*的效率。配上合适的喷雾系统，以及进一步的结构改进后，流化床即成为一种兼具干燥、造粒、溶液包衣、粉末敷层的多用途工艺设备。Y-PZ型多功能实验室流化床配备“顶喷”、“底喷”、“切线喷”系统，基于一套通用的流化床系统和可更换的工艺模块，采用“顶喷”、 “底喷”、“切线喷”三种工艺操作，即可实现“制粒”、“包衣”、“制丸”、“包裹敷层”等工艺目的。1. 一机多用，可实现干燥、制粒、包衣、等多工艺操作，实用性强。2. 可以对颗粒、微丸、药物粉末进行功能层包衣；也可对颗粒、微丸进行药物敷层包衣。3. 设备装有微米级过滤器无介质粉碎，保证了产品的纯度和理化特性。设备在负压状态下运行无粉尘污染。4. 生产粒度分布超窄的产品时，成品率比传统对喷式、普通气流粉碎机提高1倍以上。5. 设备自带有压缩空气滤水装置，可自动过滤压缩空气中的水分。6. 触摸屏控制，形象化动画操作界面，*可实现在线操作全自动控制，操作简单，运行稳定，设备更加智能化，可以节约大量人力成本。7. 风量由变频风机控制，具有能耗低、噪音低等优点。8. 设备结构紧凑、*、体积较小，可方便移动，易于拆洗、消毒，更换品种方便。9. 精心设计的气流分布结构，气流分布更均匀，生产效率更高，产量更稳定且重现性好。10. 制成的颗粒更均匀、细粉少、流动性更好。11. 实现低温操作，减少热敏性物料有效成分丧失。12. 设备结构简单，拆装方便，*，易于清洗干净，符合GMP规范要求。Y-PZ型多功能实验室流化床广泛应用于化工、电池材料、耐火材料、磨料、非金属矿、粉末冶金、建材、制药、食品、农药、饲料、新材料、环保等行业和各种干粉类物料的超细粉碎、打散及颗粒整形。已做出产品：典型物料：金刚石、碳化硅、磷铁、超细碳酸钙、石英、硅藻土、氢钙、膨润土、滑石、云母、硅灰石；高纯颜料、发光粉、抛光粉、反光材料、手机电池粉；花粉、生长素、食品添加剂、抗生素类药物、造影药物、灵芝、珍珠粉和聚四氟乙烯等。

重庆超滤生活饮用水处理设备 厂家直供1-10T按需定制超滤水处理设备原理:超滤是一种以筛分为分离原理，以压力为动力的膜分离过程，过滤精度在0.005-0.01μm范围内，可有效去除水中的微粒、胶体、细菌、热源及高分子有机物质。可广泛应用于物质的分离、浓缩、提纯。超滤过程无相转化，常温下操作，对热敏性物质的分离尤为适宜，并具有良好的耐温、耐酸碱和耐氧化性能，能在60℃以下，pH为2-11的条件下长期连续使用。超滤水处理设备的特点：1.高精度：彻底滤除水中细菌、铁锈、胶体、大分子有机物等物质。保留对人体健康有益的微量元素，净化水的微生物和浊度等主要指标优于瓶装饮用水卫生标准。2.长寿命：由于超滤机采用垂直交叉过滤原理，自动清洗、不易脏堵，因此在正常使用情况下滤芯寿命为普通净水器的30—50倍。3. 大通量：可同时满足直饮、美容、沐浴、食用、清洁卫生等需要。4.低成本：由于超滤机通量大，寿命长、免维护，因此每吨净化水处理成本仅一元左右，远远低于其它净化装置。一种先进的膜分离技术。利用超滤净化器能有效地去除水中的微粒、胶体、细菌、热源和有机物，适用于以分离、浓缩、净化为目的的各种生产工艺中。广泛地用于轻纺、化工、医药、食品、环保电子等行业。超滤水处理设备产水因素:1、温度对产水量的影响：温度升高水分子的活性增强，粘滞性减小，故产水量增加。反之则产水量减少，因此即使是同一超滤系统在冬天和夏天的产水量的差异也是很大的。2、操作压力对产水量的影响：在低压段时超滤膜的产水量与压力成正比关系，即产水量随着压力升高随着增加，但当压力值超过0.3MPa时，即使压力再升高，其产水量的增加也很小，主要是由于在高压下超滤膜被压密而增大透水阻力所致。3、进水浊度对产水量的影响：进水浊度越大时，超滤膜的产水量越少，而且进水浊度大更易引起超滤膜的堵塞。4、流速对产水量的影响：流速的变化对产水量的影响不像温度和压力那样明显，流速太慢容易导致超滤膜堵塞，太快则影响产水量。超滤水处理设备优点:1、超滤膜元件采用国内著名膜公司产品，确保了客户得到最优质的有机膜元件，从而确保截留性能和膜通量。2、系统回收率高，所得产品品质优良，可实现物料的高效分离、纯化及高倍数浓缩。3、处理过程无相变，对物料中组成成分无任何不良影响，且分离、纯化、浓缩过程中始终处于常温状态，特别适用于热敏性物质的处理，完全避免了高温对生物活性物质破坏这一弊端，有效保留原物料体系中的生物活性物质及营养成分。4、系统能耗低，生产周期短，与传统工艺设备相比，设备运行费用低，能有效降低生产成本，提高企业经济效益。5、系统工艺设计先进，集成化程度高，结构紧凑，占地面积少，操作与维护简便，工人劳动强度6、控制系统可根据用户具体使用要求进行个性设计，结合先进的控制软件，现场在线集中监控重要工艺操作参数，避免人工误操作，多方位确保系统长期稳定运行。

从我们日常的认识中，我们不难看出中国食品存在着严重的安全问题，透过三鹿“毒奶粉”事件，以儿童的生命和健康为代价，给中国上了一堂生动的食品安全教育课，事后，食品安全监管部门、地方政府、乳制品行业等都进行了总结和反思，做出了各种承诺和表态，我国目前的食品安全检测得到了遏制，人们对食品安全意识的认识在提高。公益诉讼快检设备产品介绍： 多功能食品安全检测仪可快速检测200多项目，包含非食用化学物质、滥用食品添加剂、农药残留、兽药残留、重金属、病害肉、营养强化剂、抗生素类残留、激素类残留、真菌毒素类残留、化学类残留等现场的定性定量检测。 该多功能食品安全检测仪为集成化食品安全快速检测分析设备，广泛应用于食药监局、卫生部门、高教院校、科研院所、农业部门、养殖场、屠宰场、食品肉产品深加工企业、检验检疫部门等单位使用。 一、公益诉讼快检设备检测项目： 食品添加剂：二氧化硫、双氧水、亚硝酸盐、硝酸盐、苯甲酸钠、山梨酸、糖精钠、甜蜜素、硫酸镁 有毒有害物质：甲醛、吊白块、硼砂、过氧化苯甲酰、溴酸钾、罗丹明B、三聚氰胺、苏丹红 果蔬中：农药残留，病害肉诊断：组胺、挥发性盐基氮、肉制品酸价、水发产品中组胺 重金属含量：铅、镉、铬、汞、砷、锡、镍、铝。食用油脂检测：过氧化值、酸价、油脂丙二醛。 瘦肉精激素类（兽药）：盐酸克伦特罗、沙丁胺醇、莱克多巴胺、己烯雌酚、喹乙醇等 抗生素残留类（兽药）：四环素类、硝基呋喃类、磺胺类、沙星类、喹诺酮类、庆大霉素、链霉素、阿莫西林、红霉素等 水产品安全类：孔雀石绿、氯霉素、呋喃妥因代谢、呋喃西林代谢、呋喃它酮代谢、呋喃唑酮代谢 真菌毒素类：食用油、粮食及饲料中黄曲霉毒素B1、奶中黄曲霉毒素M1、呕吐毒素、玉米赤霉烯酮、赭曲霉毒素A等 水酒饮品分析：乳品及牛奶中蛋白质，酒中甲醇、乙醇、杂醇油，蜂蜜中果糖和葡萄糖、蔗糖、淀粉酶、酸度，水中氰化物、余氯，饮料中维C 调味品成分：食醋的总酸、酱油的总酸、芝麻油纯度、谷氨酸钠、酱油氨基酸态氮、食盐中亚铁氰化钾、食盐中碘 食用色素类：红色色素（胭脂红、苋菜红）、黄色色素（柠檬黄、日落黄）、蓝色色素（亮蓝） 动物疫病类：猪蓝耳病毒、猪瘟病毒、猪伪狂犬病毒、猪伪狂犬病毒gE蛋白、猪口蹄疫3ABC蛋白、猪口蹄疫病毒IgG、猪细小病毒、鸡禽流感 二、产品性能： 1、安卓智能操作系统，采用更加高效和人性化操作，仪器具有wifi联网上传、4G联网传输、GPRS无线远传、网线连接功能，快速批量上传数据。 2、智能化程度高，仪器具有自检功能：具有开机自检和调零功能，具有自动检测重复性功能。 3、新一代高速热敏打印机，检测完成可自动打印或批量打印检测报告和二维码。 4、仪器带有监管平台，数据可局域网和互联网数据上传，检测结果直接传至食品安全监管平台。进行区域食品安全监管及大数据分析处理与数据统计，检测区域食品安全长短期动态，达到食品安全问题预估、预警 5、一体化主机,包含食品安全检测模块、多通道农药残留检测模块、胶体金免疫层析检测模块。 6、一体化便携式快检设备，满足现场及流动检测使用需求，能够在同一软件下实现所有检测项目的检测，并可通过同一窗口直观显示检测结果。 7、胶体金模块检测方式：轨道式自动传输扫描，检测完成后自动退出检测卡。 8、CT线自动识别，无需手动调整。 9、仪器具有品类多种类样品菜单库，可灵活选择检测样品，不同的检测通道可同时检测不同的样品项目。 10、样品处理简单省力，整体操作快速、安全、便捷。 11、仪器具有自身保护功能，可设置用户名及密码，防止非工作人员操作等。 12、高灵敏度，高检测精度，高重复性精度，扫描式高精度光学传感器。 13、内置强大的数据库，可在仪器上直接选择样品名称、检测指标、送检单位等信息，也可在仪器上直接编辑录入样品名称、检测指标、送检单位等信息并保存进样品数据库。 14、仪器具有重新校准、锁定、恢复出厂设置功能。 15、结果判定线可修改，对照值标定值可保存，断电不丢失数据。 16、兼容市场上所有的胶体金卡，使用耗材不受限制，极大增强用户使用体验。 三、主要参数： 1、主控芯片采用ARMCortex-A7，RK3288/4核处理器，主频1.88Ghz，运转速度更快速，稳定性更强。 2、显示方式：10英寸液晶触摸屏显示，人性化中文操作界面，读数直观、简单。 3、交直流两用，直流12V供电，可连接车载电源，可配6ah大容量充电锂电池，方便户外流动测试。 4、四波长冷光源，24个检测通道，每个通道均配置410、520、590、630nm波长光源，标配先进的光路切换装置，专业光路切换功能可实现最多64波长，并且所有检测项目可实现所有通道同时检测。 5、光源亮度自动调节与校准 6、智能恒流稳压，光强自动校准，长时间连续工作光源无温漂现象。 7、内置新国家限量标准，与所测结果进行现场比对，并持续更新标准。 8、不间断进样，连续检测 9、样本编号自动累加。 10、检测结果为Excel表格，连接电脑即可拷贝。 11、检测结果存储容量20万条 12、支持U盘存储，标准USB接口，免驱动安装。 13、检测项目可扩充，固件可升级 14、仪器尺寸：43×35×20cm,主机净重：5.1kg 四、技术参数： 1、农残：检出下限：抑制率5%，检测范围：抑制率(0～100)% 2、甲醛：检出下限：1mg/kg，检测范围：(0～100)mg/kg 3、亚硝酸盐：检出下限：1mg/kg，检测范围：(0～100)mg/kg 4、二氧化硫：检出下限：1mg/kg；5mg/kg，检测范围：(0～100)mg/kg；(0～500)mg/kg 5、吊白块：检出下限：5mg/kg，检测范围：(0～500)mg/kg 6、蛋白质：检出下限：0.5%，检测范围：(0～50)% 7、硼砂：检出下限：5mg/kg，检测范围：(0～100)mg/kg 8、双氧水：检出下限：5mg/kg；10mg/kg；100mg/kg，检测范围：(0～500)mg/kg；(0～1000)mg/kg；(0～10000)mg/kg 9、硝酸盐：检出下限：10mg/kg；40mg/kg，检测范围：(0～1000)mg/kg；(0～4000)mg/kg 10、重金属铅：检出下限：0.5mg/kg；0.2mg/L，检测范围：(0～50)mg/kg；(0～20)mg/L

型号单位TF-SFD-2普通型有效隔板面积m20.2水汽凝结容器量kg/批3装瓶量Φ16mm支770Φ20mm支400装液量L3隔板尺寸宽 mm280长 mm360隔板间距mm70隔板数量块Piece2+1隔板温度范围℃-50~+80水汽凝结器温度℃≤-70极限真空度Pa≤5装机功率kw3整机重量kg3501、原位预冻干燥；2、硅油加热，控温精度高，搁板温差≤1℃,干燥效果均匀；3、搁板温度可调、可控生产工艺；4、可储存5个程序，每个程序可设24段，冷冻干燥机在运行过程中可修改程序参数，5、并在线记录真空干燥曲线及数据；可记录所有操作痕迹；6、可选配在线共晶点测试；7、捕水能力强，干燥时间短；8、触摸屏操作，PLC控制，可设置开机密码，显示干燥曲线；9、方形托盘不易变形，易于操作，便于清洗；10、配置充气阀，可充干燥惰性气体；11、干燥室采用高透光无色透明有机玻璃门，在操作过程中能清晰观察物料的变化过程；上海田枫实业有限公司是注册于上海复旦创业园区集工业、实验室制冷设备的设计开发、制造和销售于一体的高科技公司。 主营冷水机(冷却水循环机)、工业冷水机、冻干机 (冷冻干燥机)、冰水机、冷水机组、制冰机 、恒温槽(恒温循环器)、 超低温冰箱、层析冷柜、冷冻机、喷雾器、低温冰箱等产品。 随着中国经济的迅速发展，田枫引用了德国 的先进技术和管理经验，通过了ISO9001：2000国际质量管理体系标准认证，建全完善了质量管理体系，对产品的设计、开发、生产、检验和服务以及相关的所有过程，进行严格的 管理和控制，持续地提高了公司的产品和服务质量，赢得了顾客的信赖，使田枫产品的供应量在国内各大城市以及国际市场迅猛增长。1、关于价格 本单价仅供参考，最终成交价取决于客户的具体情况，诸如客户所属的行业，具体的设备，自身的资源；本司产品不定期升级，恕不另行通知； 具体价格以咨询客服为准！！2、关于能否定做 支持定做！ 上海田枫拥有多年自主生产经验，我们有专业的工程师为您服务；注：本设备属于精密仪器，建议直接致电咨询，我们24小时为您服务！！3、关于出货 我们所有的商品都是自产直销。一般情况下，下单后5-7个工作日出货， 如有特殊情况影响供货，我们会提前与客户联系协商。4、关于售后 全国范围保修，保修期为一年； 定期回访例查，终身维护服务； 保修期外：提供有偿维修服务。 本司已开通售后电话咨询、上门维修、返厂维修等多种售后渠道，方便客户正常使用！

●Research系列真空热处理炉满足客户特定需求，用于功能材料钎焊、膜层制备、真空退火、真空回火、真空热处理、晶界扩散、其他有机材料热处理制程，设备采用红外辐射加热，良好的人机界面和无油分子泵组，提供稳定、高效和优良耐久性能的低成本钎焊设备，广泛运用于新材料研发和中小批量钎焊工艺制程。

产品信息品牌：湖北微化产地：湖北武汉特点：集成化的碳化硅材质微反应器，集热交换通道和反应通道于一体，具有极佳的的耐化学品腐蚀性和换热效率，是操作常规条件下具有一定风险性的合成反应的理想工具具有强化传热、传质的模块化、占地面积小、集成化的连续流动反应器，用于监测、优化执行液液流动合成反应及纳米颗粒合成反应。 【产品简介】主要特征：1、换热模块和反应模块集成化2、反应温度下预热混合3、良好的传热、传质4、国产碳化硅陶瓷源头生产厂家 【应用范围】1、新反应条件的探索2、工艺参数的优化3、中试及放大工艺验证4、中试及放大工艺的生产 【应用领域】医药、精细化工、染料、香精香料、农业化学、特殊化学品，日用品化工业及科研教学。 常见反应工艺类型：硝化反应、磺化反应、酯化反应、环化反应、缩合反应、叠氮化反应、偶氮化反应、氧化反应、过氧化反应、烷基化反应、胺基化反应、氯化反应、加氢反应、取代反应、贝克曼重排反应、迈克加成反应、催化反应、光照反应，格氏反应等。 【工作原理】连续流动化学：是指通过将两种（或多种）试剂连续的泵入反应器中，在反应器中进行混合、反应，并通过热交换控制器控制反应温度，从而实现化学反应，获得所需的产品。微通道反应器具有比表面积大、传递速率高、接触时间短、副产物少、转化率更高、操作性好、安全性高、快速直接放大等优点，连续流反应的各条件（反应物，产物，副产物，催化剂，溶剂，介质）微量化，温度、压力等反应条件可进行调控，相比传统的批量反应（间歇反应），在反应放大和优化的过程中，具有更高反应效率，更高重现性和稳定性。且连续流反应器热量缓冲需求量低，产量提高，试剂减少，自动化程度极高，大大节省人力资源。 【技术参数】通 量：常规3ml、8ml，支持1~10 m定制压力范围：2MPa温度范围：-25 – 200℃连接管：进出口为1/8PTFE或金属管冷热媒：换热管线并联设计，换热均匀尺 寸：可定制 【售后服务承诺】保修期: 1年是否可延长保修期: 是现场技术咨询: 有免费培训: 现场免费培训免费仪器保养: 1次保内维修承诺: 除耗材外，免费更换报修承诺: 2小时内响应，远程无法解决的，48小时内到达现场

迈安纳纳米药物生产系统利用Genmix技术【载体相和API分别流入微混合器，独特的流体混合技术（混沌，交叉流，对射撞击，涡旋等）， 重复有序控制两相液体混合，几毫秒内完成精确有序混合，引起液体极性的快速改变，从 而引发纳米粒自组装包裹药物。】可用于快速自组装纳米粒子、纳米脂质体、聚合物纳米粒等物料的制备，可适用于核酸、小分子、多肽或蛋白质等药物活性成分包裹。参数：用于处方优化&放大工艺筛选1、0.4-20ml制备量(0.4-60ml制备量）2、快速筛选处方（1min）3、卡盒无菌无酶无热原4、温度控制5、兼容各种品牌注射器6、卡盒不限制使用次数7、2合1，同时支持处方和放大工艺筛选8、≥120ml/min流速可控，多种混合器（混沌、交叉流、对射撞击）可选，适合多种载体类型

洁净工程洁净室净化空调系统　　洁净工程洁净室根据建筑专业提供的建筑平面图，工艺专业提供的工艺设备平面图和工艺对各洁净室的洁净度，温，湿度等环境的要求，即可进行净化空调系统的划分工作。　　净化空调系统的划分原则　　1.洁净度，温湿度及其精度相同或相近的洁净房间宜划为一个净化空调系统，便于洁净度和温湿度的调节和控制。　　2.距离较近的洁净房间宜划为一个系统，可减少系统管道的长度和管道交叉。　　3.有条件时可将4级，5级单向流和6级，7级，8级非单向流组成混合流净化空调系统。　　4.洁净室不宜与一般空调房间合为一个系统。　　5.使用规律和使用时间不相同的洁净室不宜合为一个净化空调系统。　　6.产尘量大，发热量大，有害物多，噪声大的房间宜单独设计为一个系统。　　7.混合后会产生剧毒，引起火灾和爆炸的房间不应合为一个净化空调系统。　　8.有剧毒和易燃易爆的甲乙类房间应单独设系统，而且应为不回风的直流系统。　　9.一个净化空调系统不易过大，一般情况下，净化送风量不宜超过100,000m³ /h，否则空气处理设备过大，噪声大，送回风管道大，占空间和面积大，使用也不灵活。　　10.净化空调系统划分时还应考虑到送风管，回风管，排风管以及水，电，气等管线的布置，尽量作到合理，短捷，使用管理方便，尽量减少交叉和重叠。　　11.净化空调系统新风的热湿和净化处理可集中也可分散设置。北京华旭洁净净化科技提供洁净室净化空调系统安装调试建设工程一站式服务。　　工艺设备局部排风系统的划分原则　　1.工艺设备的局部排风系统不宜过大，每个排风系统的排风点数不宜过多，这样排风管理调节方便，排风效果好。　　2.一个排风系统不宜跨在两个或两个以上的净化空调系统。　　3.混合后产生剧毒，爆炸，火灾，凝水，洁晶和有害物的排风不应合为一个 排风系统。　　4.使用规律不同房间和设备的排风不应合为一个排风系统。

产品特点： 设备实现2"-12"晶圆 涂胶、显影模块自带暂停/恢复功能 同片盒内每个硅片可分别制定工艺运行 设备和各工位全封闭设计，不受外环境干扰 可独立增加层流罩，提升小环境洁净度 干湿分离，电液分隔 维护省力、简便一、使用领域: IC半导体、LED、Bumping、化合物、光通讯、OLED、MEMS等 Wafer Size 晶圆尺寸：Φ2"-8" Spin motor主轴转速：0-8000rpm±1rpm　 Uniformation膜厚均匀性：＜1％(参考AZ1500）　 Temperation温度均匀性：0-250℃±0.5℃ MTBF：≥1500小时 Uptime95％ 二、涂胶单元 Coater Uint： 胶盘：Teflon，Delrin 　 可编程移动式滴胶　 可配3路喷嘴　 正/背面去边清洗　 主轴电机：伺服电机（高速：8000rpm）　 匀胶温度控制（选配）　 喷嘴预清洗（选配）　 环境温湿度控制（选配）三、显影单元 Developer： 胶盘:Delrin 　 4路喷液（2 spray，1 streaam, 1 Dl water）　 主轴电机：伺服电机（高速：8000rpm）　 背面清洗　 滴液方式：胶泵或压力罐　 液体温度控制（选配）　 排风控制 　 体积尺寸：1400mm（W）×1400mm（D）×1700mm(H)陕西爱姆加电子设备有限公司成立于2011年，注册资本500万元，位于古都西安西咸新区、国际港务区中南高科西安临空产业港7栋2单元，专业从事半导体和显示行业工艺设备的设计、生产，以及半导体和显示行业工艺技术开发、技术服务。所提供的半导体和显示工艺设备产品包括：匀胶机、半自动和全自动匀胶显影机、半导体喷胶机、槽式（Wet Bench）及单片(Single Wafer)的蚀刻-剥离-清洗自动生产线。公司拥有专业的集成电路工艺开发和检测实验室以及半导体设备生产组装车间。公司通过多年技术积累、创新提高，形成自主知识产权体系。建有工艺设备演示培训中心，在提供工艺设备演示和为客户提供技术人员培训服务的同时，可提供半导体及显示相关功能薄膜的工艺技术开发、技术验证和加工技术服务。主要包括：各类金属功能薄膜和ITO透明导电薄膜、光学功能薄膜的沉积和黄光图形化（高精度曝光、显影、刻蚀）工艺相关的开发和加工服务。公司拥有一批多年从事半导体设备的机械、电气、光学、计算机、以及从事半导体工艺线生产的专业的高中级工程技术人员，其中研发部门5人，高级工程师3人，工程师10人,等生产加工人员10人，拥用CAD计算机网络开发系统-FAB的MES等管理软件，各类检测仪器等先进的设计手段。公司先后完成半导体设备100余件，其中半自动和全自动匀胶机、半导体喷胶机62件，半自动和全自动显影机28件，全自动匀胶显影机18台，为企业、研究所提供技术支持500余次。与上海鲲游科技有限公司、上海交通大学 上海泽丰半导体科技有限公司、众芯坚亥半导体技术（安徽）有限公司 山东省赛富电子有限公司、中国电子科技集团第十三研究所、成都泰美克晶体技术有限公司、西安微电子技术研究所(７７１所)、上海光机所、上海泽锋科技有限公司达成了良好的合作关系。多年来，爱姆加电子设备始终坚持“和善互助为贵，争优创先为荣” 的职业道德 坚持“业主第一、质量第一、服务第一”的经营服务理念 在推行现代化管理制度的同时，注重企业文化建设，树立“高技术、专业化”的企业形象，我们愿以精湛的专业技术，卓越的设计质量、完善的服务措施，竭诚和行业内各届朋友、有识之士合作，为城市建设、发展半导体事业做出更大贡献。 专业的设备解决方案产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体、太阳能、MICROLED、MINILED、MEMS、PUMPING工艺、平板显示及PHOTO-MASK等产品的清洗、湿法刻蚀、薄膜旋涂、喷涂、显影、传统后道封装工艺技术服务及生产。

HED-GY1800多功能食品安全检测仪产品介绍： 多功能食品安全检测仪可快速检测200多项目，包含非食用化学物质、滥用食品添加剂、农药残留、兽药残留、重金属、病害肉、营养强化剂、抗生素类残留、激素类残留、真菌毒素类残留、化学类残留等现场的定性定量检测。 公益诉讼食品检验设备该多功能食品安全检测仪为集成化食品安全快速检测分析设备，广泛应用于食药监局、卫生部门、高教院校、科研院所、农业部门、养殖场、屠宰场、食品肉产品深加工企业、检验检疫部门等单位使用。 公益诉讼食品检验设备检测项目： 食品添加剂：二氧化硫、双氧水、亚硝酸盐、硝酸盐、苯甲酸钠、山梨酸、糖精钠、甜蜜素、硫酸镁 有毒有害物质：甲醛、吊白块、硼砂、过氧化苯甲酰、溴酸钾、罗丹明B、三聚氰胺、苏丹红 果蔬中：农药残留，病害肉诊断：组胺、挥发性盐基氮、肉制品酸价、水发产品中组胺 重金属含量：铅、镉、铬、汞、砷、锡、镍、铝。食用油脂检测：过氧化值、酸价、油脂丙二醛。 瘦肉精激素类（兽药）：盐酸克伦特罗、沙丁胺醇、莱克多巴胺、己烯雌酚等 抗生素残留类（兽药）：四环素类、硝基呋喃类、磺胺类、沙星类、磺胺类、喹诺酮类、庆大霉素 水产品安全类：孔雀石绿、氯霉素、呋喃妥因代谢、呋喃西林代谢、呋喃它酮代谢、呋喃唑酮代谢 真菌毒素类：食用油、粮食及饲料中黄曲霉毒素B1、奶中黄曲霉毒素M1、呕吐毒素、玉米赤霉烯酮、赭曲霉毒素A等 水酒饮品分析：乳品及牛奶中蛋白质，酒中甲醇、乙醇、杂醇油，蜂蜜中果糖和葡萄糖、蔗糖、淀粉酶、酸度，水中氰化物、余氯，饮料中维C 调味品成分：食醋的总酸、酱油的总酸、芝麻油纯度、谷氨酸钠、酱油氨基酸态氮、食盐中亚铁氰化钾、食盐中碘 食用色素类：红色色素（胭脂红、苋菜红）、黄色色素（柠檬黄、日落黄）、蓝色色素（亮蓝） 动物疫病类：猪蓝耳病毒、猪瘟病毒、猪伪狂犬病毒、猪伪狂犬病毒gE蛋白、猪口蹄疫3ABC蛋白、猪口蹄疫病毒IgG、猪细小病毒、鸡禽流感 产品性能： 1、安卓智能操作系统，采用更加高效和人性化操作，仪器具有wifi联网上传、4G联网传输、GPRS无线远传、网线连接功能，快速批量上传数据。 2、智能化程度高，仪器具有自检功能：具有开机自检和调零功能，具有自动检测重复性功能。 3、新一代高速热敏打印机，检测完成可自动打印或批量打印检测报告和二维码。 4、仪器带有监管平台，数据可局域网和互联网数据上传，检测结果直接传至食品安全监管平台。进行区域食品安全监管及大数据分析处理与数据统计，检测区域食品安全长短期动态，达到食品安全问题预估、预警 5、一体化主机,包含食品安全检测模块、多通道农药残留检测模块、胶体金免疫层析检测模块。 6、一体化便携式快检设备，满足现场及流动检测使用需求，能够在同一软件下实现所有检测项目的检测，并可通过同一窗口直观显示检测结果。 7、胶体金模块检测方式：轨道式自动传输扫描，检测完成后自动退出检测卡。 8、CT线自动识别，无需手动调整。 9、仪器具有多品类多种类样品菜单库，可灵活选择检测样品，不同的检测通道可同时检测不同的样品项目。也可在仪器上直接编辑录入样品名称、检测指标、送检单位等信息并保存进样品数据库。 10、样品处理简单省力，整体操作快速、安全、便捷。 11、仪器具有自身保护功能，可设置用户名及密码，防止非工作人员操作等。 12、高灵敏度，高检测精度，高重复性精度，扫描式高精度光学传感器。 13、仪器具有重新校准、锁定、恢复出厂设置功能。 14、结果判定线可修改，对照值标定值可保存，断电不丢失数据。 15、兼容市场上所有的胶体金卡，使用耗材不受限制，极大增强用户使用体验。 主要参数： 1、主控芯片采用ARMCortex-A7，RK3288/4核处理器，主频1.88Ghz，运转速度更快速，稳定性更强。 2、显示方式：7英寸液晶触摸屏显示，人性化中文操作界面，读数直观、简单。 3、交直流两用，直流12V供电，可连接车载电源，可配6ah大容量充电锂电池，方便户外流动测试。 4、四波长冷光源，18个检测通道，每个通道均配置410、520、590、630nm波长光源，标配先进的光路切换装置，专业光路切换功能可实现最多64波长，并且所有检测项目可实现所有通道同时检测。 5、光源亮度自动调节与校准 6、智能恒流稳压，光强自动校准，长时间连续工作光源无温漂现象。 7、内置新国家限量标准，与所测结果进行现场比对，并持续更新标准。 8、不间断进样，连续检测 9、样本编号自动累加。 10、检测结果为Excel表格，连接电脑即可拷贝。 11、检测结果存储容量20万条 12、支持U盘存储，标准USB接口，免驱动安装。 13、检测项目可扩充，固件可升级 14、仪器尺寸：43×35×20cm,主机净重：5.1kg

水泥厂除尘器在净化含尘气体方面取得了很大发展，由于清灰技术 ，气布比大幅度提高，故具有处理风量大、占地面积小、净化、工作、结构简单、维修量小，除尘效率可达等特点。水泥厂除尘器是工业中常见的收尘设备，它是治理环境污染的重要设备，可以 地 掉粉尘的污染，要想使一台除尘设备达到理想的使用效果，其维护管理是相当重要的，以下是维护要求：一、除尘器经过初步调整后，再将调节装置固定好，并作出标志，不允许轻易的变动。二、除尘器应当在工艺设备启动之前启动，在工艺设备停止运转几分钟后关闭除尘系统，以防粉尘沉降于除尘管道内。三、使用旋风除尘器的时候，需要特别的注意收尘器下部与集尘箱连接的严密性，以防止漏风，影响到除尘效率。集尘箱的灰尘要定期的清理，清理时将连接管的插板阀关闭。四、要经常的检查除尘器管道连接处、吸风口、清扫孔、密封罩的严密性，发现漏风时要及时的检修。五、除尘器的除尘风管内，经过一段时间运转后会积有粉尘，需要定期的清扫干净。