投量二次量仪

随着中国市场的科技技术日新月异，制造业对产品的精度要求越来越高，人为测量已无法满足客户要求，大家都开始借助仪器测量。目前市面上对于尺寸的测量主要是有二次元及三次元等。那么这些测量仪的区别在哪儿呢？目前市面的二次元测量仪、三次元测量仪、测量投影仪与五次元一键式测量仪的区别？？？ 现在市场的影像尺寸测量仪，有三次元测量仪、二次元测量仪和测量投影仪。而二次元测量仪跟测量投影仪难以区别，都是光学检测仪器，在结构和原 理上二次元测量仪通常是连接PC电脑上同时连同软件一起进行操作，精度在0.002MM以内，测量投影仪内部是自带微型电脑的，因此不需要再连接电脑，但在精度上却没有二次元测量仪那么精准，影像测量仪精度一般只能达0.01MM以内。三次元测量仪是在二次元测量的基础上加一个超声测量或红外测量探头，用于测量被测物体的厚度以及盲孔深度等，这些往往二次元测量仪无法测量，但三次元测量仪也有一定的缺陷：Ø 测高探头采用接触法测量，无法测量部分表面不 能接触的物体；Ø 探头工作时，需频繁移动座标，检测速度慢；Ø 因探头有一定大小，因些无法测量过小内径的盲孔；Ø 探头因采用接触法测量，而接触面有一 定宽度，当检测凹凸不平表面时，测量值会有较大误差，同时一般测量范围都较小。 光纤同轴位移传感器以非接触方式测量高度和厚度，解决了过去三角测距方式中无法克服的误差问题，因此开发出可以同轴共焦非接触式一键测量的3D轮廓测量设备成为亟待解决的热点问题。 针对现有技术的上述不足，提供五次元测量设备及其测量计算方法，具有可以非接触检测、更高分辨率、检测速率更快、一键式测量、更高精度等优点。五次元测量仪通过采用大理石做为检测平台和基座，可获得更高的稳定性；内置软件的自动分析，可一键式测量，只需按一个启动键，既可完成尺寸测量，使用方便；采有非接触式光谱共焦测量具有快速、高精度、可测微小孔、非接触等优点，可测量Z轴高度，解决测高探头接触对部分产品造成损伤的问题；大市场光学系统可一次拍取整个工件图像，可使检测精度更高，速度更快。并且可以概据客户需要，进行自动化扩展，配合机械手自动上下料，完全可做到无人化，并可进行 SPC 过程统计。为客户提供高精度检测的同时，概据 SPC 统计数据，实时对生产数据调整， 提高产品质量，节约成本。

最近几十年不仅仅是我们，乃至全世界都能感受到中国制造的产品质量与效率都有质的飞跃。产品质量和效率的提升离不开生产设备和生产规范的高效管理，在管理过程中，对半成品、成品的合格率检测是必不可少的，以机械零件加工为例，在加工完一个机械零件后，我们对该机械零件的二维尺寸参数并不是很确定。这时，我们就需要通过检测手段，来获取机械零件的二维尺寸参数。传统的检测手段有投影仪、卡尺等，随着技术的进步，最新的二次元影像测量仪逐步替代传统检测手段，成为新的首选测量解决方案。今天我们就来分析一下[b]VX3000系列[color=#333333]二次元影像测量仪[/color][/b]与投影仪的区别。[align=center] [img]http://www.chotest.com/Upload/2019/6/201906149843071.jpg[/img][/align][align=center] [/align][b][color=#e01e2b]1.测量精度：[/color][/b]　　投影仪检测工件的精度一般在45μm左右，在现代化的生产加工过程中，已经不能满足生产者的精度需求。二次元影像测量仪的测量精度普遍在±2μm左右，最高可达1μm，是完全可以满足生产者对精度的要求的。[b][color=#e01e2b]2.测量效率：[/color][/b]　　用投影仪检测工件单次只可检测一个工件，并且需要在操作软件上定位原点，再进行一定编程工作，才可以测得一个工件的尺寸数据。二次元影像测量仪单次可以测量多个工件，小微型工件甚至可以测量几十个，只要在视场范围内，一次测多少个操作员说了算，二次元影像测量仪不需要定位原点，也不需要进行复杂的编程。只需在测量第一个工件时建立模板，此后测量相同的工件只需按一键测量按钮，即可得出工件的二维尺寸参数，批量测量最多可同时测量512个部位，大大提升了工作效率！[b][color=#e01e2b]3.仪器体积：[/color][/b]　　投影仪都是比较笨重的仪器，外形体积硕大，重达五六百千克，不方便搬运到不同车间进行检测作业。VX3000系列二次元影像测量仪的体积轻便，重量在30-40千克之间，单人即可搬运到不同的车间生产线上进行测量工作，省时省力省空间。

二次元影像测量仪在工业生产中，有着广泛的应用，对很多行业的工件都可以进行测量，同时，在影像测量仪的测量中，也有着许多的测量方式，通过这些方式，影像测量仪才能顺利的完成测量的任务。 以下介绍精密检测仪器二次元影像测量仪的两个测量方式，他们分别是轮廓测量和表面测量。　　1、轮廓测量　　顾名思义就是影像测量仪测量工件的轮廓边缘，一般采用底部的轮廓光源，需要时也可加表面光做辅助照明，让被测边线更加清晰，有利于测量。　　2、表面测量　　表面测量可以说是二次元影像测量仪的主要功能，凡是能看到的物体表面图形尺寸，在表面光源照明下，影像测量仪几乎全部能测量，电路板上的线路铜箔尺寸、IC电路等，当被测物件是黑色塑料、橡胶时，影像测量仪也能轻易测量尺寸。http://www.zhengyekeji.net/include/upload/ckeditor/images/1319709450197084656155029.jpg　　二次元影像测量仪(又名影像式测绘仪)是建立在CCD数位影像的基础上,依托于计算机屏幕测量技术和空间几何运算的强大软件能力而产生的。计算机在安装上专用控制与图形测量软件后,变成了具有软件灵魂的测量大脑,是整个PCB实验室解决方案设备的主体。

二次元影像测量仪使用及维护保养事项1、 在测量和归位时，移动工作台要注意不要大力撞击工作台两端，放置在撞击过程中损坏光栅尺。2、 仪器镜头是精密光学部件。在对仪器镜头倍率大小调整时，请注意调整方向和力度，以免损坏。3、 对仪器专用电脑的使用时要尽量避免电脑中毒，在使用杀毒软件是要主要不要将仪器的驱动插件删除。4、 不要擅自输入软件密码，修改软件的校准参数，除非得到我公司专业售后人员的同意和指导。5、 使用完毕后，关闭表面光和透射光的电源，延长LED灯使用寿命。6、 仪器使用完毕后，罩上防尘罩，避免灰尘进入。7、 放置工件时，要轻拿轻放，防止玻璃台面、或大理石台面划伤。8、 工作台导轨，Z轴升降导轨要定期喷涂防锈油，防止生锈，影响机台精度。9、 如果仪器需要搬动，请将工作台固定板和Z轴固定板锁紧，方可进行。10、仪器各紧固件及电气接插件都已经连接牢固，可靠、客户不得自行拆卸。11、请尽量保持仪器放置区域的温度、湿度符合要求，以提高仪器使用寿命和测量精度。本文转发自：http://www.yhyvm.com

请问有同行知道二次元影像量测仪的市场价格是多小吗?

样品碰到了二次电子探头一下,现在要在很高对比度下才能看到图象,而且效果很不好,是不是探头坏了,好修吗?谢谢

目前市面的二次元测量仪、三次元测量仪、测量投影仪与五次元一键式测量仪的区别？？？ 现在市场的影像尺寸测量仪，有三次元测量仪、二次元测量仪和测量投影仪。而二次元测量仪跟测量投影仪难以区别，都是光学检测仪器，在结构和原 理上二次元测量仪通常是连接PC电脑上同时连同软件一起进行操作，精度在0.002MM以内，测量投影仪内部是自带微型电脑的，因此不需要再连接电脑，但在精度上却没有二次元测量仪那么精准，影像测量仪精度一般只能达0.01MM以内。三次元测量仪是在二次元测量的基础上加一个超声测量或红外测量探头，用于测量被测物体的厚度以及盲孔深度等，这些往往二次元测量仪无法测量，但三次元测量仪也有一定的缺陷：Ø 测高探头采用接触法测量，无法测量部分表面不 能接触的物体；Ø 探头工作时，需频繁移动座标，检测速度慢；Ø 因探头有一定大小，因些无法测量过小内径的盲孔；Ø 探头因采用接触法测量，而接触面有一 定宽度，当检测凹凸不平表面时，测量值会有较大误差，同时一般测量范围都较小。 光纤同轴位移传感器以非接触方式测量高度和厚度，解决了过去三角测距方式中无法克服的误差问题，因此开发出可以同轴共焦非接触式一键测量的3D轮廓测量设备成为亟待解决的热点问题。 针对现有技术的上述不足，提供五次元测量设备及其测量计算方法，具有可以非接触检测、更高分辨率、检测速率更快、一键式测量、更高精度等优点。五次元测量仪通过采用大理石做为检测平台和基座，可获得更高的稳定性；内置软件的自动分析，可一键式测量，只需按一个启动键，既可完成尺寸测量，使用方便；采有非接触式光谱共焦测量具有快速、高精度、可测微小孔、非接触等优点，可测量Z轴高度，解决测高探头接触对部分产品造成损伤的问题；大市场光学系统可一次拍取整个工件图像，可使检测精度更高，速度更快。并且可以概据客户需要，进行自动化扩展，配合机械手自动上下料，完全可做到无人化，并可进行 SPC 过程统计。为客户提供高精度检测的同时，概据 SPC 统计数据，实时对生产数据调整， 提高产品质量，节约成本。

最近打算购买扫描电镜，FEI Apreo C可以装几个二次电子探头，Apreo S可以装几个二次电子探头？感谢支持

请问大家一下，扫描电镜是通过二次电子信息显示表面形貌。弱弱的问，二次电子有没有可能被吸收，而显示不了膜表面的信息？再问一下，二次电子的最小穿透深度是多少？谢谢大家了。

看过论坛上的一些资料，初步了解BSE信号分辨金属分布区域应该效果更好，但此图片（请见附件）是SEM-SEI，二次电子像。[b][i]讨论开始：[/i][/b]图中有些圆孔顶端（黄箭头所指处）比其他区域衬度更亮，当然二次电子像受表面形貌影响甚大，原来怀疑是由此引起，但请看图中红箭头所指的管，其高度应明显高于周围，但周围有几个圆孔顶端却更亮；另外，请看兰色箭头所指的两根管子，上边的一个景深方向明显暗于顶口（好象有一层东西的感觉），而下边这个管延景深方向却是一直很亮。管的材料是钛（原子序数22），表面做过修饰，为金（原子序数79）。[b][i]请问我能否初步判断：[/i][/b]那些特别亮的管顶口有金的存在？我是初学者，请多指教，谢谢！

现在低真空（包括环境真空）电镜很时髦。本人想了解一下：1、在低真空时，二次电子是如何检测的；2、低真空二次电子探测器由哪些类型及其各自的特点。3、低真空下二次电子像分辨率到底有多高？能和高真空一样吗？我想很多同仁也都会对此感兴趣。望资深大侠不吝传教。

用的AA6300C设备火焰法测食品中常测的八个微量元素，二手设备，走标曲时候一次方程如图一 不成线性，用二次方程或者三次方程可达3个9以上，这样再日后的检测中可行吗，出具书面报告有不规范之说么？还有，针对这个设备，走标曲时候怎么看燃烧头偏转角度就对了，参考什么参数啊？各位大神请指教啊[img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2020/10/202010281548437269_2358_5017524_3.png[/img][img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2020/10/202010281548519093_1396_5017524_3.png[/img][img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2020/10/202010281549099949_3356_5017524_3.png[/img]

影像测量仪应用在各个不同的精密产品的行业中，是院校、研究所和计量检定部门的计量室、试验室以及生产车间不可缺少的计量检测设备之一。　　影像测量仪的性能：　　1、影像测量仪具备基本的点、线、圆、两点距离、角度等基本测量功能及坐标平移的功能，能满足基本的二次元测量要求。　　2、花岗石底座与立柱，机构稳定可靠　　3、影像测量仪的X、Y轴装有光栅尺，定位精确。　　4、Z轴采用交叉导轨加配重块的全新设计，镜头上下升降受力均衡，确保精度。　　5、LED冷光源(表面光合轮廓光)避免工件受热变形。　　6、激光定位指示器，精确制定当前测量位置，方便测量。　　7、影像测量仪可以使用OVMLite软件。　　8、影像测量仪的镜头：3DFAMILY-S型0.7X-4.5X连续变倍镜头，影像放大倍率：28X-180X。

蔡司电镜 二次电子图像调好对比度和亮度之后，放几分钟，图像有时会变的很亮，有时会变的很暗，知道是什么原因吗？大侠帮忙分析一下。

我想请问下，如图所示，我感觉D1的衍射束相当于就是第二相的透射束，然后发生二次衍射形成D3，所以D3的斑点应该是以D1斑点为中心，在D1斑点四周吧？怎么看图是以D2斑点为中心形成的二次衍射斑点呢？[img=,690,558]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/04/202104280948020285_6173_5253538_3.png[/img]

二次离子质谱仪原理简介二次离子质谱仪（Secondary Ion Mass Spectrometry, SIMS）又称离子探针（Ion Microprobe），是一种利用高能离子束轰击样品产生二次离子幵迚行质谱测定的仪器，可 以对固体或薄膜样品迚行高精度的微区原位元素和同位素分析。由于地学样品的复杂性和对 精度的苛刻要求，在本领域内一般使用定量精度最高的大型磁式离子探针。该类型的商业化 仪器目前主要有法国Cameca 公司生产的 IMS1270-1300 系列和澳大利亚ASI 公司的 SHRIMP 系列。最近十年来，两家公司相继升级各自产品，在灵敏度、分辨率及分析精度 等方面指标取得了较大的提升，元素检出限达到ppm-ppb 级，空间分辨率最高可达亚微 米级，深度分辨率可达纳米级。目前，大型离子探针可分析元素周期表中除稀有气体外的几 乎全部元素及其同位素，涉及的研究领域包括地球早期历叱不古老地壳演化、造山带构造演 化、岩石圀演化不地球深部动力学、天体化学不比较行星学、全球变化不环境、超大型矿床 形成机制等。因而国内各大研究机构纷纷引迚大型离子探针（北京离子探针中心的SHRIMP II SHRIMPIIe-MC、中科院地质不地球物理研究所的 Cameca IMS-1280、Cameca IMS-1280HR 和NanoSIMS 50L、中科院广州地球化学研究所的 Cameca IMS-1280HR、 中核集团核工业北京地质研究院的 IMS-1280HR），大大提高了国内微区分析的能力。 本实验室配备了Cameca 公司生产的IMS1280 离子探针和其升级型号 IMS1280HR。 两台仪器的基本原理及设计相同，升级型号IMS1280HR 主要在磁场设计上有所改迚，具 有更高的质量分辨率和传输效率。该型仪器从功能上可分为四部分，如图一所示：一次离子 产生及聚焦光路（黄色部分）、二次离子产生及传输光路（蓝色部分）、双聚焦质谱仪（粉 色部分）和信号接收系统（紫色部分）。Cameca 离子探针可以类比为一台显微镜，离子源 相当于显微镜的光源，传输光路相当于物镜，质谱仪相当于滤镜，而接收器相当于目镜或照 相机。 图一， IMS1280/HR 型离子探针原理示意图 一次离子部分包含了两个离子源分别是可以产生O 离子的双等离子体离子源（Duo Plastron Source）和产生Cs 离子的热电离铯离子源（CsIon Source），一 般分别对应地学领域分析中的正电性元素（如 Pb、U、Th、REE、Li、Ca 等）和负电性元 等）。两个离子源由软件控制选择，所产生的离子通过高压（一般为数千伏特）加速后迚入一次离子质量过滤器（PBMF）迚行质量筛选，常用的一次离子有 16 16O2 133Cs 离子。后续的一次离子光路通过调整离子透镜Lens2,Lens3 和Lens4 电压可以获得两种照明方式：均匀照明（科勒照明或平行光照明）和高斯照明。一次离子光路原理如图二所示。 均匀照明模式使用离子透镜Lens2 将一次离子束调整为“平行光”，幵穿过位于其后 的一次束光阑（PBMF_Aperture），再通过离子透镜Lens4 将该光阑成像到样品表面。在 该模式下，离子束的直径由PBMF_Aperture 的大小决定，由于该光阑受到离子束的剥蚀 而逐渐变大，因此实际上这种模式的离子束直径是随时间丌断变化的，对空间分辨率丌太敏 感的应用可以使用该模式。实验室的常规定年就使用了这种照明模式，由于其离子束密度均 匀，在样品表面留下的剥蚀坑为椭囿形的平底坑。 图二 一次离子光路原理示意图 在高真空条件下，带有数千电子伏特（eV）的高能带电离子轰击固体样品的表面时，部分 一次离子注入到固体内部并不其路径上的样品原子发生弹性或非弹性碰撞。通过碰撞而获得能量 的内部原子又不其周围的原子再次进行碰撞并产生能量传导，这个过程称为级联碰撞。最终，部 分样品内部电子、原子或分子获得了足够的能量逃逸出样品表面，产生了溅射现象。在溅射出的 各种微粒中，有小部分发生了电离，产生了二次离子。这些二次离子被样品表面的+10KV到 -10KV的高压加速，通过离子透镜聚焦后进入双聚焦质谱仪进行质量筛选。溅射及加速示意图 请见图三。 高斯照明模式在PBMF之后使用了三个离子透镜：Lens2、Lens3和Lens4。其中Lens2 不Lens3将离子束汇聚，L4将汇聚后的离子束聚焦到样品表面，形成束流密度中心高周围低 的高斯分布。这种模式下，在样品表面产生的剥蚀坑是接近囿形的V型坑。这种模式下离子 束的直径主要受到L2不L3透镜电压的影响，而对光阑的剥蚀效应很小，因此可以长时间保 持离子束直径丌变。实验室常规的稳定同位素分析以及空间分辨高于10微米的小束斑定年 分析都采用了高斯照明模式。 丌同元素的二次离子产率相差巨大，而且每种元素在丌同基体中的产率也丌尽相同，甚 至同一元素的同位素之间在丌同的基体中也表现出丌固定的产率（基体效应）。在实际分析 时实测值不理论值会产生较大差异。因此，要使用离子探针进行高精度的元素、同位素分析， 必须使用不被测样品成分和结构一致的标准物质进行校正。而标准样品的稀缺性也成为制约 和影响离子探针分析的瓶颈。目前，本实验室目前已开发了锆石氧同位素标准物质 （Penglai）、方解石碳-氧同位素标准物质（OKA）、锆石Li同位素标准物质（M257）、锆 石年龄标准物质（Qinghu）等。 图三，离子探针溅射示意图 二次离子产生后迚入离子传输光路，该部分相当于显微镜的物镜，通过调节该“物镜” 的放大倍数，配合后续的光阑及狭缝的调整，可在质量分辨率确定的条件下对仪器的传输效 率迚行优化，保证分析精度。入口狭缝是传输光路和质谱仪的分界面。离子束通过传输光路 聚焦后，在入口狭缝处汇聚。调节入口狭缝的宽度可控制迚入质谱仪的离子束宽度，从而控 制质谱仪的质量分辨率。质量分辨率要求越高，入口狭缝所对应的宽度就越窄，二次离子信 号的强度损失也就越多。因此，在满足分析要求的前提下，尽量使用较低的质量分辨率。离 子探针分析中，样品表面溅射出的二次离子组成非常复杂，包括了单原子离子、分子离子、 多电荷离子、复杂聚合物离子等，对质量分辨率要求极高。为了兼顾离子探针的质量分辨率 和传输效率，必须采用大磁场半径的设计。该型离子探针的最低质量分辨率为～900，而最 高可用质量分辨率大于20000. 磁式质谱仪主要利用运动离子在磁场中的受力偏转实现对特定质量电荷比值的离子的 选择。磁式离子探针一般使用双聚焦磁式质谱，可以实现速度聚焦和方向聚焦，在二次离子 能量分布范围较大的情况下实现高质量分辨率和高传输效率。双聚焦质谱仪由静电分析器和 扇形磁场质量分析器组成，当二者的能量色散在焦平面上相互抵消时即实现了双聚焦。 IMS1280/HR 离子探针的静电场及磁场半径均为585mm，在质量分辨率5000 的条件下， 其传输效率90%。 离子经过质谱仪的质量色散后迚入离子接收系统。该型仪器的接收系统分为三个部分： 具有5 个接收位置，共7 个接收器的多接收系统；具有三个接收器的单接收系统和微通道 板成像系统。多接收系统能够同时接收的最大的质量差异为17%，最小质量差异为～0.4%， 是典型的同位素质谱配置。5 个接收位置可在各自轨道上沿聚焦面移动，根据被测同位素的 信号强度可选择安装法拉第杯或电子倍增器。最外侧的两个接收位置还分别额外加装了一个 法拉第杯，增加配置的灵活性，如图四所示。多接收器分析可以提高效率，并能抵消一部分 因为一次离子或仪器其他参数波动引起的分析误差，是提高分析精度的最直接手段。实验室 的高精度稳定同位素分析（氧同位素、碳同位素及硫同位素等）都是用多接收器的。目前本 实验室两台离子探针采用了丌同的接收杯配置，其中一台偏重于稳定同位素分析，在多接收 器中安装了多个法拉第杯，而另一台则偏重微量元素尤其是Pb 同位素分析，主要配置为电 子倍增器。单接收系统具有一个工作在离子计数模式下的电子倍增器和高低两个丌同量程的 法拉第杯，组成了具有10 动态接收范围的大量程接收系统。对于质量范围超过17%的分析，一般使用单接收系统，例如传统的U-Pb 定年分析，其需要测量的质量数从196-270， 使用的是单接收系统中的电子倍增器收集所有信号。 使用微通道板成像时，仪器工作在离子显微镜模式下，成像的分辨率取决于二次离子光 路的设置，而不一次离子束的直径无关。由于微通道板性能的制约，这种模式一般只用于辅 助的定性判断和仪器参数的调整，而丌用于定量分析。离子探针还有一种二次离子扫描成像 模式。类似于扫描电子显微镜的工作原理，通过同步一次离子的扫描位置和电子倍增器的接 收时间，可以将电子倍增器测量到的信号强度不其在样品上的位置对应起来，从而重构出经 过质量筛选的离子分布图像。该图像的分辨率取决于一次离子束的直径，可用于元素、同位 素二维分布分析

流量仪表该调查认为，涡轮流量计在国际上许多国家常用于测气体或粘度较小的液体，由于仪表中有转动件，维护工作量大，近5年的CAGR为-3.2%，销售额从2002年的4.1亿美元下滑至2007年的3.48亿美元。专家认为，超声近年来增长势头虽咄咄逼人，但涡轮较超声便宜得多，有价格优势；与节流装置相比，量程比可达10：1，且较准确，在贸易结算上，仍为中小客户乐于选用。容积式流量仪表为非速度型仪表，安装无直管段要求，准确度一般可达到±0.5%，但较笨重。口径一般小于0.2m。近5年销售额自2002年的5.2亿美元降至2007年的4.52亿美元，CAGR为-2.7%。专家认为新型仪表在不少领域中取代传统仪表，是一个总的发展趋势，但过程将是漫长的。 流量仪表是衡量物质量变的工具，流量仪表不仅广泛应用于各工业领域、市政工程，还是改进产品质量、提高经济效益和管理水平的重要手段；也是评估节能降耗、污染排放的科学依据。由于影响因素较多，仪表的原理多达10余种，类型不少于200多。在工业自动化系统中，它是信号源头，数量虽只占系统自动化仪表的1/5，但价格约占1/3；在科学评估节能降耗、污染排放中占监控仪表一半以上。因此，它在国民经济中有着重要的地位。 　　流量仪表早期流量仪表为就地显示（如容积、转子），随着工业水平的不断提高，已不能适应工艺要求数十台仪表集中显示、调节、控制。有必要将传感器（也称一次表，如孔板、喷嘴、内锥）与变送器（也称二次表）分离开。并将流量参数转换为电参数，远传至中央控制室。随着工业规模再扩大，模拟信号已无法适应，输出信号需转换为数字信号，以适应现场总线系统、SCADA系统的要求。

标准加入法测定二次盐水中的痕量杂质

标准加入法测定二次盐水中的痕量杂质(Leeman)，供大家参考！[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=33224]标准加入法测定二次盐水中的痕量杂质(Leeman)[/url]

有些行业允许二次议价，对于采购仪器是否存在二次议价呢？

能力验证活动组织方是否给与第二次机会？不二次缴费再重新做一次结果？

粒度测试有一个不太好定性的问题，那就是一次粒径和二次粒径问题。对于多数粉体颗粒，它有一定的大小，广义角度看单个颗粒是一个个体。但是从严谨角度说它依然是个可再分的由更小颗粒组成的群体。这时候问题就产生了，我们对颗粒进行粒度分析时，到底是希望测试粉体被分散到什么程度时的粒度分布呢？举个例子：某硫酸钡粉体，电镜拍摄的照片显示，单晶颗粒都在几百纳米级别，但是激光粒度仪测试结果微米级别的粒度分布，相差一个数量级。有些测试人员片面认为照片拍摄的东西绝对可靠，是粒度仪测试不准。这样判断过于主观了。这类问题晶粒如果处理后的样品体系中,超微粒子是均匀的，检测方法一般是一次粒度分析。如直观观测法，主要采用扫描电镜（SEM）、透射电镜（TEM）、隧道扫描电镜（STM）、原子力显微（AFM）等手段观测单个颗粒的原始粒径及型貌。但如果处理后的样品微粒是不均匀的，且团聚体是不易分散体，此时电镜法得到的一次粒度分析结果一般很难代表实际样品颗粒的分布状态。因此，对处理后的物料体系必须作二次粒度统计分析。目前，较先进的3种典型方法按原理上可分为高速离心沉降法、激光粒度分析法和电超声粒度分析法。 这个问题其实也是一个粉体分散问题，测试粒度分布时，到底使用什么手段分散？分散到什么程度才是正确的？希望各路高手一起探讨，也让小弟多开阔眼界。

我有两个问题想麻烦各位解答一下，1，为什么二次电子显微图像具有很好的立体感？2，为什么气孔边缘的二次电子产额比较大？谢谢大家！！

进两次同样的溶剂（70%乙腈）基线第一次平 第二次不平 最有可能是什么原因（柱子已平衡）

4 SIMS的研究和应用... 144.1 元素及同位素分析... 144.2 颗粒物微分析研究... 164.3 团簇、聚合物分析及生物医学等方面的研究... 174.4 SIMS在化合物半导体材料分析中的应用... 194.4.1 常规分析... 204.4.2 最低测量极限... 214.4.3 高分辨率SIMS分析... 234.4.4 解剖分析... 245 SIMS的新进展... 256 几种新型号二次离子质谱仪采用的新技术... 266.1 NANO SIMS 50型二次离子质谱仪... 286.1.1 小束斑离子枪和短工作距离的二次离子接收透镜的新设计... 286.1.2 二次离子接受器由单种离子接收改为多种离子同时接收... 29