溅射设备

离子溅射仪是对透射电镜及扫描电镜及样品进行离子刻蚀和涂复导电层的设备，主要用于对生物、有机物及金属样品溅射一层均匀而致密的金属膜供扫描电镜观察，亦可对各种样品进行离子刻蚀以及对透射电镜支持膜作亲水处理，以获得理想的实验表面。仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。型号：MSP-10

【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构（可选150mm x 165mm）样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩溅射靶材金（标配），铂，金/钯，铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm x 0.1mm 厚度溅射控制系统微处理器控制，远程电流/电压感应；最大电流40mA，程序化数字控制；提供真空安全联锁装置，配有过流保护；模拟计量真空 Atm - 0.001mb 电流: 0 – 50mA控制方式自动气体换气和放气功能，带有“暂停”控制的数字定时器（0－300s）机械泵2L/s工作媒介气体氩气，纯度最低99.9%工作电压220V, 50/60HZ膜厚监控仪（选配）通过6MHz石英晶体进行原位监控，显示纳米级厚度，可精确到0.1nm适用配套Zeiss, JEOL, Hitachi, FEI, Tescan, Phenom等扫描电镜 【产品详情】Agar 全自动喷金仪（离子溅射仪）为英国进口设备，操作简单，适用于扫描电镜样品制备，可喷金、铂、金/钯、铂/钯、银等。喷金仪使用小贴士：1）需要溅射喷金的样品a)第一类样品是电子束敏感的样品，主要包括生物样品，塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；b)另一类样品是非导电的样品，由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱”，这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应，可在样品表面镀一层金属导电层，镀层作为一个导电通道，将充电电子从材料表面转移走，消除荷电效应。在扫描电镜成像时，溅射材料可以增加信噪比，从而获得更好的成像质量。2)溅射材料常用的溅射材料为金，导电性高。喷金仪的真空度越高，所溅射的金属颗粒越小，可以减少样品表面形貌失真的情况。当需要超高分辨率成像时，首选高真空喷金仪，同时还可以选用其他溅射材料，如：铬，铱等，溅射的晶粒更细小。此外，如果需要做EDS能谱分析的话，建议选择喷碳仪，因碳的X射线峰不会与其他元素的峰值发生冲突。产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

产品说明：该离子溅射镀膜机是对透射电镜及扫描电镜及样品进行离子刻蚀和涂复导电层的设备，主要用于对生物、有机物及金属样品溅射一层均匀而致密的金属膜供扫描电镜观察，亦可对各种样品进行离子刻蚀以及对透射电镜支持膜作亲水处理，以获得理想的实验表面。仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。真空保护：20Pa配有微量充气阀调节工作真空工作室工作媒介气体：空气或氩气，配有氩气专用进气口和微量充气调节

【产品详情】PfeifferP3号油可有效改善真空泵性能，适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵，尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3mbar产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌银靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：银靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：铬靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌钯靶直径57mm x 0.1mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：钯靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铂靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620铂靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：铂靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

为了能更好的对FIB和离子溅射仪的 离子枪的参数进行测试，推出了FIB 和离子溅射仪标样。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外), JEOL型号JFC-1200, JFC-1300, JFC-1400, JFC-1600, JFC-2300HRPolaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金靶直径54mm x 0.1mm厚度直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：金靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌镍靶直径57mm x 0.1mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620镍靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：镍靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铂钯靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620铂钯靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：铂钯靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金/钯靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金/钯靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：金/钯靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

Quorum 耗材，靶材，载物台等附件Quorum提供了一系列消耗品和备件。溅射靶材Quorum为我们当前的Q系列（S和ES版本）和SC7620溅射镀膜机以及以前使用Emscope，Emitech，Polaron，Bio-Rad，Fisons Instruments和Thermo VG品牌制造的型号提供金属溅射靶材。包括E7400-314A TargetGold 0.2 mm, E7400-31C Target Platinum 0.2 mm, E7400-314IR Target Iridium 0.3 mm, SC500-314A Target Gold 60 mm x 0.1 mm thick, SC500-314E Target Silver 60 mm x 0.1 mm thick, SC502-314A Target Gold 57 mm x 0.1 mm, 更多溅射靶点请咨询大连力迪流体控制技术有限公司碳耗材：碳棒和碳纤维供应品有多种尺寸和纯度可供选择，通常用于将碳蒸发到样品上，用于 X 射线微量分析或透射电子显微镜 （TEM）分析。

SBC-12 小型离子溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合中 小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。真空检测：皮氏计；真空保护：20Pa配有微量充气阀调节工作真 空；工作室工作媒介气体：空气或氩气，配有氩气专用进气口和微量充气调节。

最精密的离子溅射标样，用于校准离子枪。提供SiO2、Si3N4、Ta2O5和NiCr-7薄膜

这些德国制造的PVD高纯溅射靶材是全球领先的超高纯度PVD镀膜材料，完全在德国生产，拥有世界一流的产品性能，非常适合PVD溅射靶材和PVD镀膜使用。PVD溅射靶材具有全球最为齐全的种类。Tribological Coatings and FilmsDescription:Targets for the components and tools in mechanical engineering and instrumentation.Example:Cr 99.95% WC 99.5%.Precision OpticsDescription:Targets for lasers, lightings and filters.Example:Ta 99.95%.Transparent Conductive Oxide (TCO) TargetsDescription:ITO, ZnO, SnO2 and ZnO: Al based targets for the photovoltaic, low E-glass and flat panel display industries.Example:ZnO 99.9% (TCO)Reflective MaterialsDescription:Reflective targets for solar applications.Example:Aluminum 6061.Thin Film Battery TargetsDescription:Lithium based targets for solid-state rechargeable batteries.Example:LiCoO2 99.9%Semiconductor TargetsDescription:High k-dielectric, Hafnium, Tantalum and Barium Titanate based targets for thin film capacitors.Example:Barium Titanate 99.9%.Storage MediaDescription:High density Ru targets for perpendicular storageCustom TargetsDescription:Compositions and shapes tailored for your needs.Materials ListingAAg99.99Al99.99 99.999AlN99.9Al2O399.99Al/Cu99.99 99.999Al/Si99.99 99.999Al/Si/Cu99.99 99.999Au99.99 99.999BBaFe12O1999.9BaF299.9BaMnO399.9(Ba,Sr)TiO399.9BaTa2O699.9BaTiO399.9BaZrO399.9Bi99.9 99.999Bi2O399.99Ba4Ti3O1299.9BN99.9CCa99CaF299.95CaTiO399.9CdTe99.995Ce99.9CeO299.9 99.99Cr99.9 99.95 99.99Cr2O399.8CrSiO299.5Co99.95CoO99.5Cu99.997Cu/Ga70/30at.%99.99CuO99.9DDyFeO399.9Dy2O399.9EEr2O399.9FFe99.95Fe2O399.9GGd2O399.9GaN99.99Ge99.999HHfO299.95I-KIn99.99 99.999In2O399.99In2O3/SnO290/10wt%99.99In/Sn99.99Ir99.8 99.9LLa99.9LaAlO399.9LiCoO299.9LiNbO399.9Li3PO499.9MMg99.98MgAl2O499.9MgB299.5MgFe2O499.9MgF299.9MgO99.95Mn99.9Mo99.9 99.95MoS299N-ONd99.9Nd2O399.9Ni99.95 99.98 99.99Ni/Cr99.95Ni/Cr/B99.95Ni/Cr/Si99.95Ni/Fe99.95Ni/V99.9Nb99.95Nb2O599.9P-QPb99.999Pb(Zr,Ti)O399.9Pd99.95Pt99.9 99.99Pr99.9Pr2O399.9RRe99.9Rh99.8Ru99.9RuO299.9SSe99.999Si99.999SiC99.5Si3N499.9SiO99.9SiO299.99Si/Cr99.99Sn99.99SrFe12O1999.9SrRuO399.9SrTiO399.9 99.99T-UTaC99.5Ti99.95 99.995TiB299.5TiC99.5TiN99.5TiO99.9TiO299.9TiSi299.5Ti/Al99.9TiW99,95 99,995VV99.7 99.9VC99.5VN99.5V2O599.9W-XW99.95WC99.5W/Ti99.95YYb2O399.9Y2O399.99ZZn99.99ZnO/Al2O3,98/2wt.%99.9 99.99 99.999ZnO99.9 99.99 99.999ZnS99.99ZnSn99.9Zn/Al99.99Zr99.2ZrB299.9ZrO2+3,8,or10mol.%Y2O399.9

金靶、铂靶、钯靶、银靶EMS公司提供多种贵金属溅射靶材，有金靶、铂靶（白金）、钯靶、金钯合金靶60:40、铂钯合金靶80:20,纯度在99.99%以上。EMS公司靶材适合多个厂家的镀膜仪器，Emitech, Emscope, Bio-Rad, Polaron, Edwards, Balzers, Plasma Sciences, Technics Hummers, Denton, Cressington等等。提供的所有靶材均是标准厚度0.1mm，厚度在0.05－6mm之间的厚度靶材，需要特别问询。可以根据你的需求定制合适直径的靶材（4-304.8mm之间）。 1.金靶和铂金靶Gold (Au) and Platinum (Pt) 货号 (Au) 直径 mm货号 (Pt)直径 mm91006-Au20.091006-Pt20.091007-Au20.491007-Pt20.491008-Au32.091008-Pt32.091009-Au39.091009-Pt39.091013-Au42.091013-Pt42.091014-Au50.091014-Pt50.091015-Au50.891015-Pt50.891016-Au54.091016-Pt54.091017-Au57.091017-Pt57.09101060.09101260.091018-Au63.591018-Pt63.591019-Au75.091019-Pt75.091020-Au76.091020-Pt76.02.钯靶和金钯靶Palladium (Pd) and Gold Palladium 60/40(AP)货号 (Pd)直径 mm货号（ AP60/40）直径 mm91006-Pd20.091006-AP20.091007-Pd20.491007-AP20.491008-Pd32.091008-AP32.091009-Pd39.091009-AP39.091013-Pd42.091013-AP42.091014-Pd50.091014-AP50.091015-Pd50.891015-AP50.891016-Pd54.091016-AP54.091017-Pd57.091017-AP57.091010-Pd60.09101160.091018-Pd63.591018-AP63.591019-Pd75.091019-AP75.091020-Pd76.091020-AP76.0

ET型、标准采样设备标准采样设备包括：土壤标准采样设、水质标准采样设备和大气标准采样设备。――《全国辐射环境监测与监察机构建设标准》1、数量：2、技术参数2.1标准采样设备（土壤）2.1.1不锈钢心型壤土钻钻头：不锈钢材质，刀宽4cm，刀间距6cm，一次采样长度20cm，螺纹连接；2.1.2T型手柄：长35cm，螺纹连接；2.1.3延长杆：长50cm，带有刻度，螺纹连接；2.1.4延长杆：长100cm，带有刻度，螺纹连接；2.1.5刮刀：不锈钢材质，宽20mm用于刮取土样；2.1.6扳手：19×22mm，用于拆卸、安装采样钻；2.1.7手套：手背透气性好，牛皮材质；2.1.8钢卷尺：3米；2.1.9便携包：长110cm，用于装上述部件。2.2标准采样设备（大气）2.2.1采样流量范围：0.1-1.0Lmin（可扩充至2.0Lmin），精确度：±2.5%；2.2.2抽气泵负载：在阻力5.3kPa时，流量波动小于5%；2.2.3采样时间设置：0～24h（任意设置）；2.2.4工作电压：DC9V或AC220V±10%，50Hz±1Hz；2.2.5功率：≤10W；2.2.6噪声：2.2.7外型尺寸：约220×160×140mm（长×宽×高）；2.2.8仪器重量：约1.5千克；2.3标准采样设备（水）2.3.1设备配置：2.3.1.1采样杆4根，每根长1米；2.3.1.2采样瓶2个，容积1000ml，透明PVC材质；2.3.1.3控制阀1个；2.3.1.4拉线1根；2.3.2技术参数2.3.1优质铝合金采样杆，4节组成，可延长至4米，不使用情况下可拆卸；2.3.2PVC材料采样瓶。

主要特点 1.快速高效的抽气，同时保证了镀膜的质量和样品无升温；2.标准的手动操作模式，电流和时间可控； 3.标准靶材可快速更换，顶部O圈密封性能优越；4.可冲入惰性气体 5.可选配M10高分辨膜厚检测仪来有效控制膜厚。

NIRS 99 % 反射率和波长标准板，用于工艺进程设备，直径 1 英寸NIRS 99% reflection and wavelength standard process, 1 inch diameter订货号： 6.7450.070NIRS 99％ 反射率和波长标准板，用于工艺进程设备，探针直径为 1 英寸

108型自动镀膜仪适用于对非导电样品进行高质量的镀膜以用于SEM观察。自动镀膜功能可对一系列样品均匀的镀上所需的导电物质。MTM-20高分辨厚度控制仪可以形成统一的膜厚度，达到最优的导电效果。

IBS镀膜激光反射镜IBS 反射镜镀膜具有低损耗、高反射的特点在设计波长下可保证的激光损伤阈值高达 15 J/cm2@1064nm超精密磨光的基片可提供百万分之一级别的水平散射性能Additional Sizes Coming Soon通用规格基底:Fused SilicaTECHSPEC® IBS 镀膜激光反射镜采用离子束溅射 (IBS) 技术镀膜。这些激光反射镜专为要求极其严苛的激光应用设计，这些应用要求在其激光线波长下获得最高的反射量。离子束溅射镀膜使这些镜面的表面粗糙度低于其他镀膜技术，从而减少散射。密集的镀膜使 TECHSPEC® IBS 镀膜激光反射镜具有较高的环境稳定性，性能受温度、湿度等环境因素影响极小。该反射镜专为常用的 Nd:YAG 波长设计，并经过优化，可在其设计波长下提供高损伤阈值。如果您的应用需要定制尺寸的 IBS 激光反射镜或定制的 IBS 反射镜镀膜，请与我们联系.产品信息DWL (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)AOI (°)产品编码35525.406.3545#34-83853225.406.3545#34-842106425.406.3545#34-84526612.706.3545#33-06635525.405.0045#89-45053225.405.0045#89-451106425.405.000#89-452106425.405.0045#89-453

HR直角回射器材质UVFS尺寸公差+0.0/-0.2 mm通光孔径80%90度角公差±30 arcsec塔差表面质量20-10 S-D表面平整度保护性倒角超短脉冲背反射任务需要群延时管理。由于这个原因，普通的后向反射棱镜是不适用的，因为它引入了相当大的群延迟色散，使脉冲的时间形状失真。直角后向反射镜的空心结构，由两个HR涂层反射镜组成，总反射率高于99.6％。此外，HR涂层的群延迟色散（GDD）优化为1）空心配置2）反射率 99.6％每表面3） 镜子沉积在UVFS基材上4） 可忽略的脉冲分散Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内最常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPaAOI, deg半孔径尺寸，毫米设计波长，nmGDD, fs^2材质反射Rs / Rp / Ravg，％产品ID4524 x 19343-355UVFS99,7 /99 /99,41-HRR-2-4020-[1B145]4524 x 191520 - 1580UVFS99,7 /99,2 /99,41-HRR-2-4020-[1V145]4524 x 19515 - 532UVFS99,7 /99,3 /99,51-HRR-2-4020-[1E145]4524 x 19380 - 420UVFS99,5 /98 /991-HRR-2-4020-[1C145]4524 x 19760 - 840UVFS99,7 /99,2 /99,41-HRR-2-4020-[1K145]4524 x 191020 - 1090UVFS99,7 /99,3 /99,51-HRR-2-4020-[1R145]定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

NIRS 99％ 反射率和波长标准板，用于工艺进程设备，探针直径为 0.5 英寸NIRS 99% reflection and wavelength standard for process instrument, 0.5 inch probe diameter订货号： 6.7450.080

双激光线反射镜（DHR）直径公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D表面厚度保护性倒角测量反射率R99.5 % @ A OI=0°Rs99.3 % and Rp98.5 % @ A OI=45°涂层附着力和耐用性Per MIL-C-675A激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt这些多层涂层是旨在在正常或45度入射的两个特定激光线波长处实现zui高可能的反射率的叠层。激光线高反射率涂层用于外部光束操纵应用，即使轻微的损失也是不能容忍的。离子束溅射（IBS）或电子束蒸发（带/不带离子辅助涂层技术）提供涂层。1）涂层被设计为在正常或45度入射的两个特定激光线波长处实现zui高可能的反射率Altechna计量实验室应用以下产品检验：目视检查 - 根据MIL 13830和ISO 10110标准进行表面质量评估尺寸 - 测量几何尺寸，如直径，厚度等透射率（分光光度计，激光）*反射（分光光度计，激光）平坦度（干涉仪）波前畸变（干涉仪）平行度（测角仪，干涉仪）*（...）使用的设备Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内最常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa订购信息：AOI, deg基底材料尺寸，mm波长，nm产品编号45UVFS?25.4 x 5355+5321-OS-2-0254-5-[5C45]45UVFS?50.8 x 6510-532 +1020-10701-OS-2-0508-6-[5HJ45]45UVFS?25.4 x 5400+8001-OS-2-0254-5-[5F45]0UVFS?12.7 x 5266+5321-OS-2-0127-5-[5A00]45UVFS?25.4 x 5266+5321-OS-2-0254-5-[5A45]0UVFS?25.4 x 5515+10301-OS-2-0254-5-[5H00]45UVFS?25.4 x 5355+10641-OS-2-0254-5-[5D45]45UVFS?12.7 x 5515+10301-OS-2-0127-5-[5H45]45UVFS?25.4 x 5510-532 +1020-10701-OS-2-0254-5-[5HJ45]45UVFS?12.7 x 5510-532 +1020-10701-OS-2-0127-5-[5HJ45]0UVFS?12.7 x 5343+10301-OS-2-0127-5-[5B00]0UVFS?12.7 x 5355+5321-OS-2-0127-5-[5C00]0UVFS?12.7 x 5355+10641-OS-2-0127-5-[5D00]0UVFS?12.7 x 5400+8001-OS-2-0127-5-[5F00]0UVFS?12.7 x 5515+10301-OS-2-0127-5-[5H00]0UVFS?12.7 x 5532+10641-OS-2-0127-5-[5J00]45UVFS?12.7 x 5266+5321-OS-2-0127-5-[5A45]45UVFS?12.7 x 5343+10301-OS-2-0127-5-[5B45]45UVFS?12.7 x 5355+5321-OS-2-0127-5-[5C45]45UVFS?12.7 x 5355+10641-OS-2-0127-5-[5D45]AOI, deg基底材料尺寸，mm波长，nm产品编号45UVFS?12.7 x 5400+8001-OS-2-0127-5-[5F45]45UVFS?12.7 x 5532+10641-OS-2-0127-5-[5J45]0UVFS?25.4 x 5266+5321-OS-2-0254-5-[5A00]0UVFS?25.4 x 5343+10301-OS-2-0254-5-[5B00]45UVFS?25.4 x 5343+10301-OS-2-0254-5-[5B45]0UVFS?25.4 x 5355+5321-OS-2-0254-5-[5C00]0UVFS?25.4 x 5355+10641-OS-2-0254-5-[5D00]0UVFS?25.4 x 5400+8001-OS-2-0254-5-[5F00]0UVFS?25.4 x 5532+10641-OS-2-0254-5-[5J00]45UVFS?25.4 x 5515+10301-OS-2-0254-5-[5H45]45UVFS?25.4 x 5532+10641-OS-2-0254-5-[5J45]定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

NIRS 99% 反射率和波长标准板，用于工艺进程设备，1 英寸直径，45° 度倾斜NIRS 99% reflection and wavelength standard for process instrument, 1 inch diameter, 45° bevel订货号： 6.7450.090

低GDD超快反射镜材料UVFS直径公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D表面厚度反射GDD为S偏振光-10 fs2 to 10 fs2用于p偏振的反射GDD-20 fs2 to 20 fs2保护性倒角涂层附着力和耐用性Per MIL-C-675A激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt低GDD超快反射镜专为飞秒应用而设计，可在特定的波长和入射角（AOI）下提供优化的性能。这是通过仔细选择涂层堆叠来实现的，其将高反射率和低GDD值（在设计带宽下从-10fs2到10fs2）结合起来。这种涂层被用于脉冲展宽效应不理想的外部光束操纵应用。低GDD超快反射镜适用于飞秒工作的钛蓝宝石，钕玻璃，铒：玻璃或镱掺杂基于主机的激光器。目录组件的种类允许为基本波长和谐波选择正确的反射镜。1）其他尺寸和波长可以小批量生产2）设计带宽的GDD值范围为-10 fs2到10 fs2Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内最常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPaAOI，dog反射率（平均）%尺寸，mm波长，nm产品编号099.5?12.7 x 5380-4201-OS-2-0127-5-[1C00-GDD]4599.5?12.7 x 5340-3701-OS-2-0127-5-[1B45-GDD]4599.5?25.4 x 5500-5321-OS-2-0254-5-[1E45-GDD]099.5?50.8 x 6500-5321-OS-2-0508-6-[1E00-GDD]099.5?12.7 x 5760-8401-OS-2-0127-5-[1K00-GDD]099.0?25.4 x 5250-2701-OS-2-0254-5-[1A00-GDD]4599.0?12.7 x 5250-2701-OS-2-0127-5-[1A45-GDD]099.0?12.7 x 5250-2701-OS-2-0127-5-[1A00-GDD]099.5?25.4 x 51000-10601-OS-2-0254-5-[1P00-GDD]099.5?25.4 x 5760-8401-OS-2-0254-5-[1K00-GDD]099.5?25.4 x 5500-5321-OS-2-0254-5-[1E00-GDD]099.5?25.4 x 5340-3701-OS-2-0254-5-[1B00-GDD]4599.5?12.7 x 5500-5321-OS-2-0127-5-[1E45-GDD]4599.5?25.4 x 5340-3701-OS-2-0254-5-[1B45-GDD]4599.5?12.7 x 5760-8401-OS-2-0127-5-[1K45-GDD]4599.0?25.4 x 5250-2701-OS-2-0254-5-[1A45-GDD]099.5?25.4 x 5380-4201-OS-2-0254-5-[1C00-GDD]4599.5?25.4 x 5380-4201-OS-2-0254-5-[1C45-GDD]4599.5?25.4 x 5760-8401-OS-2-0254-5-[1K45-GDD]4599.5?25.4 x 51000-10601-OS-2-0254-5-[1P45-GDD]AOI，dog反射率（平均）%尺寸，mm波长，nm产品编号099.5?12.7 x 51000-10601-OS-2-0127-5-[1P00-GDD]099.5?12.7 x 5500-5321-OS-2-0127-5-[1E00-GDD]4599.5?12.7 x 5380-4201-OS-2-0127-5-[1C45-GDD]099.5?12.7 x 5340-3701-OS-2-0127-5-[1B00-GDD]099.5?12.7 x 5380-4201-OS-2-0127-5-[1C00-GDD]4599.5?12.7 x 5340-3701-OS-2-0127-5-[1B45-GDD]099.5?12.7 x 5760-8401-OS-2-0127-5-[1K00-GDD]4599.0?12.7 x 5250-2701-OS-2-0127-5-[1A45-GDD]099.0?12.7 x 5250-2701-OS-2-0127-5-[1A00-GDD]4599.5?12.7 x 5500-5321-OS-2-0127-5-[1E45-GDD]4599.5?12.7 x 5760-8401-OS-2-0127-5-[1K45-GDD]4599.5?12.7 x 51000-10601-OS-2-0127-5-[1P45-GDD]定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

高性能低 GDD 超快反射镜?设计具有高反射率以实现超快波束转向?离子束溅射镀膜可降低散射率和吸收率?设计波长范围下的 GDD 为 0±20fs2通用规格镀膜类型:Dielectric基底:Fused Silica入射角 (°):45产品介绍TECHSPEC® 低 GDD 超快反射镜在 45° 入射角下具有高反射率，是超快激光束转向应用的理想选择。这些反射镜具有通过精密 IBS 工艺获得的色散补偿镀膜，与传统镀介质膜激光反射镜相比，散射率和吸收率更低。TECHSPEC 低 GDD 超快反射镜在设计波长范围内的群延迟色散 (GDD) 为接近 0，最大限度地减少了反射光束的散射。典型的应用包括飞秒激光脉冲的传输。注意:如果您的应用需要具有自定义波长、角度或大小的TECHSPEC® 低 GDD 超快反射镜，请与我们联系.技术数据产品信息DWL (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)产品编码26612.706.35#11-73426625.406.35#11-73534312.706.35#12-46334325.406.35#12-46434350.809.52#12-46551525.406.35#12-83480012.706.35#62-76580025.406.35#62-766

45° AOI 超快啁啾反射镜具有高反射率和负群延迟色散 (GDD)非常适用于在 45° AOI 时进行散射补偿和光束压缩专为飞秒激光（包括 Ti:sapphire）而设计45° AOI 超快啁啾反射镜专为在光束传播过程中以 45° 入射角对超快光束进行压缩或散射补偿而设计。这些超快反射镜采用已进行优化的多层磁控溅射镀膜，可在 725 到 1000nm 波长范围内提供负群延迟色散 (GDD) 和高反射率。此外，它们采用的激光等级基片具有很高的表面质量，可最大限度减少光散射，同时具有很低的不规则度，因此反射的超快脉冲可以保持其光学功率和强度。45° AOI 超快啁啾反射镜非常适用于在光束传输过程中对飞秒激光（例如 Ti:sapphire）的超快脉冲进行脉冲压缩和散射补偿。若您的应用需要具有自定义角度、尺寸或设计波长的超快啁啾反射镜，请与我们联系。通用规格设计波长 DWL (nm):800入射角 (°):45波长范围 (nm):725 - 1000DWL时的反射 (%) :99.8厚度 (mm):6.35 ±0.2镀膜类型:Dielectric基底:Fused Silica涂层规格:Ravg99.8% @ 725 - 1000nm (P-Polarization)GDD Specification:-70fs2@ 725 - 1000nm (P-Polarization)有效孔径 (%):80后表面:Commercial Polish涂层:Ultrafast Chirped (725-1000nm)表面质量:10-5Irregularity (P-V) @ 632.8nm:λ/10典型应用:Pulse Compression @ 45° of Ti:sapphire Ultrafast LasersWedge (arcmin):产品信息Dia. (mm)产品编码12.70#12-42025.40#12-421技术数据