美国Filmetrics光学膜厚测量仪，测量膜层厚度从15nm到450um。利用反射干涉的原理进行无接触测量，可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率，测量迅速，操作简单，界面友好，是一款高性价比的膜厚测量仪设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线，波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的，透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。Filmetrics光学膜厚测量仪：其可测量薄膜厚度在15nm到450um之间，测量精度高达1埃，测量稳定性高达0.7埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applications)等。 通过Filmetrics膜厚测量仪反射式光谱测量技术,可以测试4层透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用广泛，例如 : 半导体工业 : 光阻、氧化物、氮化物。 LCD工业 : 间距 (cell gaps)，ito电极、polyimide 保护膜。 光电镀膜应用 : 硬化镀膜、抗反射镀膜、过滤片。 极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，在此基础之上，我们推出了操作极其简单的入门型号F20单点膜厚测试仪，可以实现反射、膜厚、n、k值测量。F20 系列膜厚测试仪——一款畅销的台式薄膜厚度测量系统只需按下一个按钮，您在几秒钟同时测量厚度和折射率。设置同样简单, 只需插上设备到您运行Windows&trade 系统计算机的USB端口, 并连接样品平台 , F20已在世界各地有成千上万的应用被使用. 事实上，我们每天从我们的客户学习更多的应用.选择您的F20，主要取决于您需要测量的薄膜的厚度（确定所需的波长范围），下图是不同型号的膜厚测试仪测试的厚度范围以及对应选择的波长范围。图被和谐，请私信或查看纳腾官网F20 的测试原理：一束光入射到薄膜表面时，在薄膜上下表面都会发生反射，而两束反射光之间会产生干涉，干涉条纹的产生又是与薄膜的厚度，折射率等有关的，因此可以依据此来测量薄膜的厚度。F20系列膜厚测试仪的具体的应用实例：1.非晶态多晶硅硅元素以非晶和晶体两种形式存在, 在两级之间是部分结晶硅。部分结晶硅又被叫做多晶硅。非晶硅和多晶硅的光学常数(n和k)对不同沉积条件是独特的，必须有精确的厚度测量。 测量厚度时还必须考虑粗糙度和硅薄膜结晶可能的风化。Filmetrics 设备提供的复杂的测量程序同时测量和输出每个要求的硅薄膜参数， 并且“一键”出结果。测量范例多晶硅被广泛用于以硅为基础的电子设备中。这些设备的效率取决于薄膜的光学和结构特性。随着沉积和退火条件的改变，这些特性随之改变，所以准确地测量这些参数非常重要。监控晶圆硅基底和多晶硅之间，加入二氧化硅层，以增加光学对比，其薄膜厚度和光学特性均可测得。F20可以很容易地测量多晶硅薄膜的厚度和光学常数，以及二氧化硅夹层厚度。Bruggeman光学模型被用来测量多晶硅薄膜光学特性。2.电介质 电解质薄膜测量成千上万的电解质薄膜被用于光学，半导体，以及其它数十个行业, 而Filmetrics的仪器几乎可以测量所有的薄膜。常见的电介质有:二氧化硅 —— 最简单的材料之一, 主要是因为它在大部分光谱上的无吸收性 (k=0)， 而且非常接近化学计量 (就是说，硅：氧非常接近 1:2)。 受热生长的二氧化硅对光谱反应规范，通常被用来做厚度和折射率标准。 Filmetrics能测量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 ——对此薄膜的测量比很多电介质困难，因为硅：氮比率通常不是3：4, 而且折射率一般要与薄膜厚度同时测量。 更麻烦的是，氧常常渗入薄膜，生成一定程度的氮氧化硅，增大测量难度。 但是幸运的是，我们的系统能在几秒钟内 “一键” 测量氮化硅薄膜完整特征!测量范例氮化硅薄膜作为电介质，钝化层，或掩膜材料被广泛应用于半导体产业。这个案例中，我们用F20-UVX成功地测量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度，折射率，和消光系数。有趣的事，氮化硅薄膜的光学性质与薄膜的分子当量紧密相关。使用Filmetrics专有的氮化硅扩散模型，F20-UVX可以很容易地测量氮化硅薄膜的厚度和光学性质，不管他们是富硅，贫硅，还是分子当量。3.铟锡氧化物与透明导电氧化物液晶显示器，有机发光二极管变异体，以及绝大多数平面显示器技术都依靠透明导电氧化物 (TCO) 来传输电流，并作每个发光元素的阳极。 和任何薄膜工艺一样，了解组成显示器各层物质的厚度至关重要。 对于液晶显示器而言，就需要有测量聚酰亚胺和液晶层厚度的方法，对有机发光二极管而言，则需要测量发光、电注入和封装层的厚度。在测量任何多个层次的时候，诸如光谱反射率和椭偏仪之类的光学技术需要测量或建模估算每一个层次的厚度和光学常数 (反射率和 k 值)。不幸的是，使得氧化铟锡和其他透明导电氧化物在显示器有用的特性，同样使这些薄膜层难以测量和建模，从而使测量在它们之上的任何物质变得困难。Filmetrics 的氧化铟锡解决方案Filmetrics 已经开发出简便易行而经济有效的方法，利用光谱反射率精确测量氧化铟锡。 将新型的氧化铟锡模式和 F20-EXR, 很宽的 400-1700nm 波长相结合，从而实现氧化铟锡可靠的“一键”分析。 氧化铟锡层的特性一旦得到确定，剩余显示层分析的关键就解决了。不管您参与对显示器的基础研究还是制造，Filmetrics 都能够提供您所需要的...测量液晶层-聚酰亚胺、硬涂层、液晶、间隙测量有机发光二极管层发光、电注入、缓冲垫、封装对于空白样品，我们建议使用 F20 系列仪器。 对于图案片，Filmetrics的F40用于测量薄膜厚度已经找到了显示器应用广泛使用。测量范例此案例中，我们成功地测量了蓝宝石和硼硅玻璃基底上铟锡氧化物薄膜厚度。与Filmetrics专有的ITO扩散模型结合的F10-RTA-EXR仪器，可以很容易地在380纳米到1700纳米内同时测量透射率和反射率以确定厚度，折射率，消光系数。由于ITO薄膜在各种基底上不同寻常的的扩散，这个扩展的波长范围是必要的。4.光刻胶成功测量光刻胶要面对一些独特的挑战， 而 Filmetrics 自动测量系统成功地解决这些问题。 这些挑战包括避免测量光源直接照射， 拥有涵盖广泛的光刻胶折射率资料库, 以及有能力处理光刻胶随烘烤和暴露而改变的折射率。测量SU-8 其它厚光刻胶的厚度有特别重要的应用。 因为旋涂 SU-8 的方法虽简便快速，但可能会导致所需厚度不太精确。 而暴露时间取决于光刻胶的厚度, 因此必须进行精确测量。 另外，由于正负光刻胶可以同时用于制造复杂的多层 MEMS 结构, 了解各层的厚度就变得极端重要。Filmetrics 提供一系列的和测绘系统来测量 3nm 到 1mm 的单层、 多层、 以及单独的光刻胶薄膜。 所有的 Filmetrics 型号都能通过精确的光谱反射建模来测量厚度 (和折射率)。 独家的算法使得“一键”分析成为可能，通常在一秒钟内即可得到结果。测量范例测量光刻胶涂层厚度的能力对开发和制造各种半导体器件如MEMS至关重要。Filmetrics提供测量SU-8和其它光刻胶厚度的广泛的解决方案。此案例中，我们演示如何用F20快速有效地测量硅胶上SU-8 涂层单光斑和多点厚度.5.硅晶圆薄膜Filmetrics 提供台式系统, 测绘, 和生产测量 1nm 到 2mm 硅晶片和膜厚仪器系统。6.太阳光伏应用薄膜光伏薄膜光伏 (TFPV) 作为硅基晶圆的较廉价的替代品正在得到开发。 薄膜光伏共有三大类，按照其有效层组成命名: 硅薄膜、II-VI (主要是锑化镉) 和 CIGS (铜铟硒化镓)。 每种有效层薄膜都是用在一层透明导电氧化膜上面，而基板可用玻璃或金属。测量有效层准确了解有效层的厚度和组成是非常重要的。 太薄会影响功效和耐用性，而太厚又会提高成本。 错误的组成会大大降低产品的功效和制造产量。Filmetrics F20型号为几十家薄膜光伏制造商所使用，用于测量三类有效层的厚度和光学常数。 为了测量透明导电氧化膜上面的有效层薄膜, Filmetrics 已获得了丰富的经验来检测用户自行生产的或专业玻璃生产商提供的单层及多层导电玻璃。其他制程薄膜除了有效层和透明导电氧化物堆以外，还有其他薄膜用于光伏类产品的制造。 这些例子包括用于刻蚀电池和电极的聚酰亚胺和光刻胶，以及减反涂层。 在这些情况下，Filmetrics 有现有的台式, 测绘, 或在线解决方案。测量范例快速可靠地测量多层薄膜是开发制造薄膜太阳能电池的关键。在这个案例中，我们需要测量薄膜光伏上缓冲层（硫化镉）和吸收层（碲化镉）的厚度。F20-NIR 结合准直光束平台，使我们能够从反射光谱测量TEC玻璃上太阳能电池碲化镉和硫化镉层的厚度。7.半导体实践教学已经有五十多台 Filmetrics 的 F20 用于大学半导体制造教学实验室。 这不仅仅是因为它们快速、可靠和价格合理， 还因为它们简明易懂的设计，使它们成为光谱反射原理教学的理想平台。 (如果您想了解如何在教学实验室使用 F20，用关键字 Filmetrics 大学在 Google 内进行搜索）。 同时，由于全世界有几千台 F20 在运行，接受培训的学生们觉得培训对将来就业很有用。Filmetrics 对用于实验室课程的仪器提供特别优惠。8.卷式薄膜涂层Filmetrics 系统在测量聚合物薄膜和涂层厚度领域有广泛应用，我们还有专门为卷式薄膜设计的产品卷式薄膜应用在塑料薄膜的制造中有很多点，它们的厚度对薄膜质量至关重要。 这些点包括: 薄膜的总厚度 (高达400um)、混合挤压分层厚度和涂层在薄膜卷筒上的厚度。 对于特定 PET 上涂层，我们的F20-UV 能测量非常薄的层(~10 nm)， 甚至是高能等离子表面薄膜。 我们标准的 F20 能够测量市面上常见的涂层，例如 0.05 到 50 um 范围内的硬涂层。我们有一个庞大的聚合物薄膜折射率数据库，其中包括 PET、聚碳酸酯、醋酸纤维素和聚烯烃，以及更奇特的材料，诸如导电聚合物。这些应用中的每一项都是独特的挑战，而 Filmetrics 已经开发出软件、硬件和应用知识以便为用户提供合适的解决方案。测量范例用配有200微米小光斑光纤的F20测量厚度。在线实时和台式测量聚氯乙烯（PVC）挤压塑料薄膜。台式测量时SS-3标准平台用于单点连续测量。在线测量时镜头和RKM在卷式薄膜移动时进行测量。利用我们庞大的折射率数据库，PVC厚度很容易测得。F20还可以测量共挤薄膜厚度，以及各种材料，如PET涂层厚度。9.多孔硅近年来， 多孔硅的研发工作大量进行。 众多兴趣的原因是多孔硅在光学器件、气体传感器和生物医疗设备应用中极具发展前途。和大多数新的材料技术一样，多孔硅开发的部分挑战就是要找到确定各种材料参数的工具。 对于多孔硅而言，最基本参数就是薄膜层的厚度和孔隙度。其它参数关系到加工后的薄膜层，例如浸渍材料的比例或传感器内吸收分子的数量。 根据Filmetrics 已经开发出算法，只要单击鼠标就能揭示多孔硅的厚度、折射率和孔隙度。 这一算法在F20, F40, 和 F50 仪器内都是免费提供的。测量范例多孔硅的特点可由许多参数决定，但厚度和孔隙度是最主要的。一般来讲，非破坏性的方法，如重力方法被用来测量孔隙度，但这种方法的准确度非常低。Filmetrics F20, 用非破坏性的方法，测量多孔硅的厚度和光学特性。Filmetrics专有的算法，一键点击，可精确计算薄膜的孔隙率。10.制程薄膜Filmetrics 提供测量非金属半导体制程薄膜的全系列产品。F20是单点测量厚度和折射率的最经济有效的仪器。对于小光斑厚度测量 (1 微米或更小)，可以将F40固定到您的显微镜上。对于空白晶圆薄膜厚度测绘，可选用经济有效的F50。而F80则能测绘产品晶圆上的薄膜厚度。我们专利的厚度成像技术使我们的仪器易于设定、较少配方，并且提供更为可靠的模式识别和比传统薄膜计量工具更低的价格。 有独立或组合到其它设备的机型可供选择。
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