切磨抛机

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切磨抛机相关的厂商

  • 东莞市创力研磨科技有限公司是一家专业从事金刚石单晶、多晶微粉、抛光液、研磨盘、抛光皮及微米、纳米尺寸超硬粉体材料、超精密研磨抛光产品的研发设计、生产制造、销售和售后服务于一体的科技型企业,公司拥有雄厚的专业技术力量,精湛的生产工艺和先进的加工设备,拥有国际上最先进的现代化检测仪器设备以及优质的服务得到了国内外高端客户的广泛好评及信赖。自创建以来,公司以提供高端应用的超精密研磨抛光材料,专业为客户提供全系列的研磨材料和全方位的技术服务,产品主要分为:金刚石粉体、研磨抛光液和抛光辅料三大系列,广泛应用于LED蓝宝石晶体、LED芯片、精密光学玻璃、半导体晶片、超硬材料精密工具以及硬盘、磁头、陶瓷、金属的研磨抛光表面加工领域,耐磨工件的表面复合镀领域。公司相继通过严格的ISO9001 /ISO14001和OHSAS18000管理体系,构建合理的运营管理机制,以技术创新为动力,协助客户提高产品性能和科技含量,使客户在其相关行业内长期保持创新优势,为客户创造了良好的经济效益。 公司崇奉“诚信、务实、创新、超越”的团队精神,将及时、有效地为客户提供优质的服务。
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  • 吉林省华洋仪器有限公司隶属于康中集团,是集研发、生产、经营、安装和维护各种试验仪器于一体的专业化公司。产品性能稳定、精度高,主要用于大专院校、科研机关、工矿企业、质检部门、国防航空航天等多种领域,是金属建材、橡胶、塑料、包装胶粘剂、型材、纸张、化纤、石墨等重多企业不可缺少的检测仪器。 公司实力雄厚,拥有一批专业化队伍,并与吉大机械工程学院、材料学院及一汽集团,铁道部科学院,同济大学,上海交通大学,国防科技大学等高等院校和一些外资企业紧密合作,长期从事试验仪器的科研,开发,生产,安装和调试,并可根据客户的不同需要开发标准、非标准设备,受到广大新老客户的一致认可。 公司本着以人为本、客为上、诚为根、创为魂;真正实现公司管理严要求,产品质量高标准,售后服务系统化,使广大用户放心的选购,舒心的使用。我们的动力来自于您的满意,希望与各界朋友和客户成为事业上的合作伙伴,携手并进、共同发展! 弘扬正气、鼓舞斗志、激发活力、与时俱进!公司主营产品:冲击试验机,电子万能试验机,薄膜冲击,塑料球压痕硬度计,材料试验机,电子拉力试验机,液压万能试验机,电压击穿试验仪,维卡热变形温度测定仪,熔体流动速率测定仪(指数仪),落镖(落锤;落球)冲击,泡沫落球回弹仪,液晶冲击,压力,剪切剥离试验机,硬度计,熔融指数仪,耐电压试验仪,简支梁冲击,摆锤冲击,拉力试验机,悬臂梁冲击,冲片机,缺口制样机,哑铃制样机,万能制样机,泡沫压线硬度测定仪,纸箱压力试验机,安全帽冲击,泡沫拉伸试验机,马丁耐热,塑料滑动摩擦,薄膜摩擦系数,非标试验机
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  • 武汉三争机械模具有限公司专业生产压铸模具,铝合金压铸件,应用于灯具铝合金壳体,铝合金汽车配件,通讯电子仪器仪表铝合金外壳,工程机械铝压铸配件,农机支架铝配件,电源铝合金外壳,铝压铸散热器等。我司位湖北武汉市江夏区,是拥有10余年模具生产加工的个人独资企业,可实现一条龙服务:模具设计制造,注塑件,锌合金压铸,铝合金压铸,铣床加工,机械加工,抛丸,喷粉,烤漆等等。我们的服务对象涵盖各大中型工厂,外贸公司,产品主要以出口为主。工厂的设备有:注塑机,180T-800T铝锌合金压铸机,自己的设计团队、压铸、打磨、抛光、模具车间。真正做到从模具制造到产品生产一条龙服务,也可为客户提供单独开模业务。产品品质优良和国内诸多知名汽车部件生产企业长期配套合作。企业具有较强的新产品开发能力,因而深受广大用户的表睐。本公司坚持"质量、信誉至上"的原则,以雄厚的技术实力,齐全的检测社备,完善的质量保证向国内外朋友提供尽善尽美的服务。竭诚希望与国内外企业界朋友进行广泛地经济、技术合作
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切磨抛机相关的仪器

  • 磨抛机适用于对金相试样的预磨、研磨和抛光,是金相制样中必不可少的设备。适应于经过切割,镶嵌后的各种金属试样,如钢、铜和铜合金等试样制备。Chiron 250D金相磨抛机采用单片机控制,集污盘和安全罩为ABS材料整体制作,外形新颖美观。双盘均采用无级调速,也可四速控制,且磨盘转数独立操作;磨抛方向可选择正向或反向旋转,确保了试样的平整与光洁。设备采用高清LCD触摸屏,使操作更加便捷、直观;电机采用直流无刷电机,无需频繁更换电刷,且使用时间长;地盘为精密铸铁所浇铸,可确保设备运行时的回转平衡度及加强稳定性;主轴采用防漏设计,确保轴承不被损坏;设备支持快速换盘,垫板喷涂特氟龙,更换砂纸或抛布确保无残留;噪声低、操作简便、安全。Chiron 250D金相磨抛机技术参数(1) 磨抛盘直径:254mm(2) 砂纸直径:250mm(3) Z周磨削深度:0.1mm,步进0.1mm(4) 磨抛方向:正向/反向(5) 转速:无级调速100~1000r/min(10r/min步进)/也可四档速250 r/min、500 r/min、750 r/min、1000 r/min(6) 供水管外径:6mm(7) 供水压力:40~100psi(8) 电动机:直流无刷电机, 220V, 1.1kw(9) 外形尺寸:725×900×360mm(10) 净重:95kg。
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  • 磨抛机适用于对金相试样的预磨、研磨和抛光,是金相制样中必不可少的设备。适应于经过切割,镶嵌后的各种金属试样,如钢、铜和铜合金等试样制备。 Chiron 300D金相磨抛机采用单片机控制,集污盘和安全罩为ABS材料整体制作,外形新颖美观。双盘均采用无级调速,也可四速控制,且磨盘转数独立操作;磨抛方向可选择正向或反向旋转,确保了试样的平整与光洁。设备采用高清LCD触摸屏,使操作更加便捷、直观;电机采用直流无刷电机,无需频繁更换电刷,且使用时间长;地盘为精密铸铁所浇铸,可确保设备运行时的回转平衡度及加强稳定性;主轴采用防漏设计,确保轴承不被损坏;设备支持快速换盘,垫板喷涂特氟龙,更换砂纸或抛布确保无残留;噪声低、操作简便、安全。Chiron 300D金相磨抛机技术参数(1)磨抛盘直径:300mm (2)砂纸直径:300mm (3)Z周磨削深度:0.1mm,步进0.1mm (4)磨抛方向:正向/反向(5)转速:无级调速100~1000r/min(10r/min步进)/也可四档速250 r/min、500 r/min、750 r/min、1000 r/min(6)供水管外径:6mm(7)供水压力:40~100psi(8)电动机:直流无刷电机, 220V, 1.1kw(9)外形尺寸:725×900×360mm(10)净重:95kg。
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  • Chiron 250DA的集污盘和安全罩均采用ABS材料一体成形,并且采用单片机控制方式,磨盘可无级调速,高清LCD触摸屏显示并控制磨盘转速,清晰直观而又方便简单;电机为直流无刷电机,电机无需更换电刷,使用时间长,机台烤漆安全无毒,牢固的大型支撑底盘设计确保了精密的回转平衡度,强大的电机扭力带来强大的动力,带来高效的研磨抛光体验,主轴防漏设计,防止轴承受损;设备搭载快速换盘系统,使用弹性好,搭配自动研磨装置,能代替手工进行磨抛的各道工序,可定时设定磨头转速,设备搭载照明系统,提高试样的磨抛质量和制作效率;设备可储存高达十余种磨抛程序,针对不同试样设定不同的磨抛参数,后期调用非常简便,同时先进的静音设计可以给您更佳的使用体验,是比较理想的金相制样设备。Chiron 250DA智能全自动金相磨抛机技术参数(1)磨抛盘直径:254mm(2)砂纸直径:250mm(3)Z周磨削深度:0.1mm,步进0.1mm(4)转速:无级调速100~1000r/min(5)磨抛方向:正向/反向(6)电动机:直流无刷电机, 220V, 1.1kw(7)试样夹持数量:6个(8)试样夹持规格:Φ22mm, Φ30mm, Φ45mm 任一规格(9)加压方式:单点气动加压(10)单点加压:0~50N(11)中心加压:0~160N(12)磨头转速:无级调速20~120r/min(13)定时可调时间:0~99min(14)磨头电动机:步进电机, 26V, 200w(15)外形尺寸:725×1200×760mm(16)净重:134kg。
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切磨抛机相关的资讯

  • 高校科研的泡沫,该挤挤了
    投入全国最多、论文数量全国最强,但大多数却没转化为推动科技发展的动力高校教师搞科研 热衷出“纸上专利”  来自北京教育科学研究院的最新调查显示:虽然北京地区高校的论文产出成果强,但大多数论文却没有真正的转化为推动科技发展的动力,更谈不上对北京经济发展的贡献力。高校教师搞科研创新缘何盛行出“纸上的专利”?为此,记者进行了为期一个多月的调查采访。  记者发现:  高校科研泡沫现象严重,堪比一年前的股市  科研经费投入全国最多、论文数量全国最强的北京高校,对北京经济发展的贡献令人汗颜:大多数论文没有真正的转化为推动科技发展的动力,更谈不上对经济的贡献力。这种“科研创新”被称为“纸上的专利”。  北京师范大学管理学院教授王建民表示,高校科研大量存在“纸上的专利”或称为“科研泡沫”的确是事实。北京理工大学经济学教授胡星斗指出,“我国的科研成果存在着大量的泡沫,堪比一年前的股市。”  北京教育科学研究院最新公布的“北京高校科技创新能力的基本判断及成因分析”结果显示,虽然北京地区高校的论文产出成果强,但北京高校的科研能力与首都经济的发展相关度很低,多年来高校技术转让所带来的经济效益仅占北京GDP的0.04%左右,而房地产收入则占北京地区GDP的20%到30%。  “与全市当年的技术合同量和交易额比较发现,北京高校技术开发与创新在北京的技术市场上占有的地位微乎其微,高校技术转让成交量仅在2%左右徘徊。”北京教科院有关负责人说,“并且从2004年到2006年,高校技术转让合同占全市技术转让合同的份额不断减少,从2.9%下降到1.98%,高校技术转让合同金额占全市的比例从未超过1. 5%。”  据悉,自2000年以来,我国高校专利发明申请量快速增长,但收益情况普遍不佳。据科技部原副部长、中科院自动化所研究员马颂德介绍,目前,我国高校申请的专利占全国总量的11.7%,这些专利几乎没有什么经济效益。相比之下,美国大学在该国专利申请量中只占4%,但专利许可费收入占12%,每年收益超过10亿美元。  目前,北京市共有普通高校83所,其中中央部委属高校36所、市属高校47所 截至2006年底,北京地区高校共建有国家实验室2个、国家重点实验室36个、教育部重点实验室55个等。另外,北京高校仅科技活动人员就接近5万人,其中不乏中科院和工程院院士、长江学者等高层次人才。  原因探究:  论文多少量化研究成果,促使研究人员制造“科研垃圾”  高校教师搞科研创新为何热衷出纸上的专利?来自北京科技大学、北京师范大学、北京理工大学、北京教科院等研究者一致的观点是,各个科研机构都以论文的多少来量化“研究成果”,不仅造成大量的低水平重复研究和垃圾论文,而且迫使研究者为了讨巧多出早出成果而热衷进行“纸上专利的发明研究”。  北京师范大学管理学院教授王建民指出,主要原因绩效评估的方向性错误所致,“无论职称晋升,各种评奖,各种科研项目、人才计划、创新团体之类名目繁多是申请、申报,都主要是以个人、一个群体有多少科研成果为据——发表多少篇论文?获得几项专利?出版多少本书?承担或主持多少科研项目?名下有多少科研经费?培养了多少名学生?数量越多,绩效水平就被认为是越好!在这样恶劣的量化的绩效考核导向下,自然是要不断追逐成果的数量。”  “许多人为了提职称,四处钻营、托关系、花大价钱发表那些相互抄袭的论文。”北京理工大学经济学教授胡星斗不客气地说,“最近报纸报道,中国的科研论文数量超过美国,居世界第一!但我们看得出来,真正属于‘研究’的百分之一都没有。”据透露,为了发表更多的获得“利益”的论文,一些老师甚至出钱购买发表的机会。  北京技术市场管理办公室对高校专利技术转化率均低于总体专利技术转化率的原因分析认为:一是由于高校以科研为主导方向,不直接面对市场,在研究开始之前就没有考虑市场的需求,所以好多科研成果不适合市场需求 二是高校的考核机制只纳入了专利申请指标,没有纳入专利转化指标,导致科研人员对申请专利热情很高 三是现在高校的专利管理部门与产业化工作部门分离,有不同的人来管理负责,这种管理方式导致专利管理人员只负责专利技术管理,不管专利技术转移 专利产业化工作人员由于不负责任专利管理,很难了解到专利技术的详细情况,一定程度上影响了专利技术转移。  解决对策:  建立科研创新推广平台,让高校“纸上专利下地来”  怎样才能让“纸上的专利”发挥“实际的效益”?北京科技大学、北京教科院等机构的研究人员指出,政府必须建立科研创新推广平台,让高校藏在深闺中的“纸上专利下地来”,与企业联姻产生经济效益。  “产学研合作在促进技术创新方面发挥着十分重要作用,但目前在北京高校产学研合作未能充分展开,北京高校的科研成果的表现形式主要以发表科技论文、出版科技专著,高校的科技人员难以单凭自身力量在从事科研活动的同时进行科研成果转化。”北京教科院研究人员指出,“我们必须要依靠高校甚至社会的科研成果转化配套机制,有人专门为企业家解读这些专利,帮助高校教师与企业联姻。”  北京技术市场管理办公室建议,各级专利管理机关需要加大宣传专利产业化的重要意义,并根据具体情况制定配套政策 要建立和完善专利投融资体系和风险投资机制,为专利产业化解决资金瓶颈 健全专利技术的激励机制,建设有利于专利技术转移的社会环境。  北京师范大学管理学院教授王建民还建议取消“紧逼盯人”式的成果绩效评价。他认为,评估并决定投放科研经费,成果评价交给社会机构,要“历史性”评价,不能紧盯成果,这样做违反科研成果产生的规律。王建民指出,这些制度如果得不到改变,在现行制度下教师只是一种“知识工人”,是生产一线的劳动者。  “高校科研必须去行政化,去数量化。“就北京而言,因为北京聚集了全国最多的科研机构、科研人员,同时几乎拥有全国最少的工厂,所以,为了提职称,需要发表空头论文的人特别多,注重实践、实际的人特别少。”  北京理工大学经济学教授胡星斗说,“未来应当改革职称评定方式,重视科研成果的应用,实行论文匿名评审制,规范学术期刊的版面费。” 记者手记: 高校科研的泡沫,该挤挤了 高校教师科研论文追逐数量到什么程度,在正式写文章之前我在网上进行了搜索,结果怪异地超过了我预想的最大限度。 宁波一所大学的教授,可以在连续三年内,平均不到两周完成一篇论文;东北某大学有一对教授夫妻,平均一天就发表一篇SCI收录论文;某高校的一位院士,10年来发表SCI论文500篇,是名符其实的“SCI大师”……根据统计,我国SCI(科学引文索引)论文的数量已居世界第五。 但是,1994年至2004年10年间,每篇文章的平均索引率却没升反降,仅排在第120位之后。“由于科研活动远离经济与社会实际,以及立项和评估中的问题,出现了大量的科技泡沫,90%以上无实际价值。”全国政协常委张涛说。 国家为科研创新投巨资,最终获得的却是“一纸空文”,这不仅延误了科技的进步,还可能贻误国家经济的发展。如果科研人员拿着国家的投资却搞着没有任何的意义的科技发明,这跟“谋财害命”没有任何区别。 如何渡过目前的金融危机?如何在未来的国际竞争中占得先机? 虚无的“纸上专利”该务实了! 繁荣的“科研的泡沫”,该挤挤了!
  • 飞纳电镜新搭档——1060 离子研磨抛光仪
    离子研磨抛光仪是一台高质量的 sem 样品制备台式精密仪器,满足几乎所有应用材料的制备。离子研磨抛光仪是通过物理科学技术来加强样品表面特性。使用的是惰性气体中具有代表性的氩气,通过加速电压使其电离并撞击样品表面。在控制的范围内,通过这种动量转换的方式,氩离子去撞击样品表面从而达到无应力损伤的 sem 观察样品。1060 ion milling 台式离子研磨抛光仪先进的样品制备技术如今 sem 在快速研究和分析高端材料结构和性能方面被认为是一种非常理想的手段方式,fischione 1060 是一个优秀的样品制备工具,是一台具有目前最先进技术的离子研磨抛光系统,设计精巧,操作方便,性能稳定。1060 离子研磨抛光仪为 sem 呈现样品表面结构和分析样品特性提供了便利,是 sem 样品制备完美的工具,正不断用于制备高质量的 sem 样品,满足苛刻的成像及分析要求。专利的双离子束源fischione 1060 两束专利电磁聚焦离子束源可直接控制作用在样品表面的离子束斑点直径,操作者可以根据需求自己调节。两束离子束可以同时聚焦在样品表面,这样可以大大提高研磨抛光速度。1060 离子束源采用独特的专利电磁聚焦设计,这样的设计可以让离子束斑点直径可调,从而离子撞击的时候是直接撞击样品,且只可以撞击样品,同时样品溅出的材料不会沉积在样品夹具、样品仓或者样品表面上。离子研磨抛光仪有哪些应用sem 样品制备时常常需要研磨抛光。制样时即使再留意,常常一些不理想的形貌也会出现。随着 sem 技术的快速发展,即使一个微不足道的损伤也会限制样品表面的彻底观察分析。通过惰性气体离子研磨抛光解决样品表面之前的损伤是一个非常理想的方法。这是离子研磨的基本功能。块状样品事实上一些无机样品也受益于离子研磨抛光技术。当离子束低入射角度直接作用在样品上时,样品表面剩余的机械应力损伤,氧化层及残留物层均会被溅出,最终显现原始的形貌供 sem 观察和分析。ebsdebsd 是一项非常有用的技术,可以让 sem 获取更多晶体信息,因为通过 sem 获得的背散射电子信息能很好的反应材料晶体结构、晶向和晶体纹理。ebsd 对表面信息非常敏感,任何轻微的表面缺陷均能通过 ebsd 获得比较好的图案信息。因此通过离子研磨抛光来增强表面信息是非常有利的。为了让 ebsd 提高到更好的检测水平,离子研磨抛光能被用来去除精细样品材料的表面材料。使用二维的方法无法得到这一系列的技术产量切片技术。半导体截面观察在半导体行业的很多案例中,离子研磨抛光可以让失效分析快速的得到有用的信息。通常切割或者机械研磨样品会产生样品表面损伤,这些问题可以通过离子研磨抛光来解决,这也得力于多样化的样品夹具来优化了这些操作过程。使用飞纳台式电镜观察 1060 离子研磨抛光仪制样效果1060 离子研磨抛光仪标准版和专业版1060 离子研磨抛光仪技术参数离子束源两束电磁聚焦离子源加速电压范围: 100 ev - 6.0 kev,连续可调离子束流密度高达 10 ma/cm2可选择单束或者双束离子源工作独立控制两束离子束源加速电压 (仅专业版)样品台离子束入射角 0? 到 +10?最大样品尺寸:直径 25mm,高度 15mm样品高度自动感应360? 样品旋转样品往复摇摆,从 ±40? 到 ±60?真空系统两级真空系统:无油干泵和涡轮分子泵皮拉尼型真空计感应控制真空工作气体99.999% 纯度的氩气每离子束流速约 0.2 sccm,名义上所需压力为 15psi 采用自动气体流量控制技术,实现离子源气流的精密流量控制,含两个流量计气压源气动阀驱动氩气,液氮, 或者干燥空气;所需压力要求名义上 60 psi样品照明用户可选的反射照明自动终止计时器设定自动加工终止用户界面标准版内置触摸屏,包含基本设备功能模块专业版?内置触摸屏,包含基本设备功能模块?基于电脑,加工流程可通过参数编程并实时显示操作状态?操作灯光指示器(选配)辅助光学显微镜可选配一个 7-45 倍的体视显微放在与真空系统内用于直接观察样品;或者选配一个具有 2,000 倍的显微成像系统,用于定点成像并显示在电脑显示屏上尺寸标准版69cm*38cm*74cm*51cm (宽*底端到设备外壳高*底端到显微镜高*深)专业版107cm*38cm*74cm*51cm (宽-含电脑显示器*底端到设备外壳高*底端到显微镜高*深)重量73 kg电源100/120/220/240 vac,50/60 hz,720 w
  • 普锐斯发布PRESI普锐斯-自动研磨抛光机-MECATECH 250 SPI新品
    设备型号:MECATECH 250 SPI设备名称:自动研磨抛光机 设备简介: 自动研磨抛光机,适用于包括大面积和高硬度材料等各类样品的自动化研磨抛光。内置制备方法数据库,可保存多达100种不同材料制备方法。满足对制样结果一致性和可重现性的要求。 技术参数: 1)底盘: 电机功率:750 瓦。 底盘转速:20-700 转/分钟。 底盘转向:顺时针或逆时针。 扭矩补尝:变频电机自动补偿。 工作盘尺寸:200-250 毫米。 工作模式:研发模式(R&D) – 所有参数可调; 程序模式(Program) – 只允许按预定参数工作。 2)自动工作头: 结构:齿轮箱传动。 电机功率:180 瓦。 工作头转速:20-150 转/分钟。 工作头转向:顺时针或逆时针。 压力模式:单点力。 样品数量:单点力时1-4个。 样品压力:1-200牛,设备启停时自动减小。 自动给液:200毫升蠕动泵滴液器2只,流量流速可控。 功能特点:1.电机变频器,充分保证转速/扭矩恒定,满足对大尺寸/高硬度样品的制备。2.7英寸宽大液晶LCD触摸屏装置于设备前端。方便设置转速/转向/水阀开关/工作时间等所有参数。3.分级管理软件功能,通过密码保护使实验室主管对制样工艺参数实现统一管理,以保证各类材料制备结果的一致性和重现性。研发模式与程序模式可供选择:A. 研发模式 — 可对所有制备参数调整及设定。适用于教育、研发等具有材料多样性的使用环境。B. 程序模式 — 按照数据库预先存储的参数进行制备。适用于生产、质量控制等固定材料使用环境。4.自带蠕动泵驱动200 毫升滴液器,可程控抛光液/润滑液自动喷洒数量和频率;另可模块化联接DISTRITECH 5.1自动分液系统,以全面排除人为因素干扰,提高制备结果的一致性和可重现性,并降低样品制备成本。5.底盘结构:带倾斜角度底盘,方便液体流出;抬高主轴轴承位置,防止液体流入;附带防溅环;结构简单,方便维修。6.可移除式高分子材料承托碗,防污防锈,易于清洗,并方便维修/保养。7.可通过内置网络模块或USB接口导入/导出制备方法。8.磨盘甩干功能,步骤结束后甩干砂纸/磨盘/抛光布,方便储存。9.自动工作头180度旋转,方便内侧样品装夹。10.安全装置:一侧紧急停车按钮;工作状态时,工作头自动位置锁定;全面符合安全标准。创新点:全新设计外观,运行时更加稳定。大功率变频马达给工作头和工作盘充足动力PRESI普锐斯-自动研磨抛光机-MECATECH 250 SPI

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  • 【讨论】预磨机、磨抛机、抛光机区别

    如题,厂家总会死出一系列选择让你选,可是这里我想问问,预磨机、磨抛机、抛光机到底有什么区别。据我所知磨抛机换抛光布或砂纸即可抛光又可磨样,可是看看预磨机也没什么区别呀,是不是也可以这样用呢?大家有什么想法或实践请给小妹指点一二,谢谢啦!

  • 金相抛光机|预磨机|镶嵌机切割机专业供应用户

    一、 用途该机是将试样预磨和抛光操作结合为一体的经济机型,转盘通过带轮的转速比获得不同的转速,从而实现磨抛功能,是中小企业试样制作的理想设备。二、结构特征概述  该机左盘为预磨盘,右盘为抛光盘。预磨时,通过回转水咀将冷却水不断注入旋转的磨盘中,砂纸在大气压的作用下可以紧贴在磨盘上,从而不须将砂纸粘结或夹紧。抛光时,可将抛光织物平铺在抛光盘上,然后用扣圈扣紧织物,再进行抛光,织物和抛光盘都可及时方便的更换。三、技术参数1、磨盘直径: 230mm;抛盘直径: 200mm 2、磨盘/抛盘转速:450r/min、600r/min3、电动机:550W 380V 50Hz4、外型尺寸:690×715×310mm5、净重:55Kg四、主要附件1、磨抛主机 1台2、排水管 1根,3、进水管 1根,4、抛光织物 1片5、金相砂纸 2张 P-2G型金相试样抛光机  在金相试样制备过程中,试样的抛光是一道主要工序,经过磨光的试样,在抛光机上抛光后,可获得光亮如镜的表面,P-2G型金相试样抛光机是采集多方面使用人员的意见和要求设计而成的,它具有传动平稳,噪音小,操作维修方便等优点,能适合更多种材料的抛光要求。该机适用于厂矿企业、大专院校、科研单位的金相试验室,是试样抛光的极佳设备。P-2G型金相试样抛光机主要技术指标1.抛盘直径:∮230mm2.转速:1400r/min,900r/min(订制)3.电源:380v、50Hz,220v、50Hz (订制)4.外形尺寸:810×470×980mm5.净重:74Kg 一、 产品介绍:QG-4A型多能切割机,主要是用来切割圆柱体和多角形及有凸凹等不规则型材的试样,该机是采用全封闭结构,可保证在绝对安全的状态下进行切取试样,为避免在切割中试样因过热而烧伤材料组织,该机除配有强冷却系统外,可避免试样在切落时表面的微烧伤,可增大切割截面,提高切割砂轮的利用率,具有操作使用维护保养方便等优点,是切割不规则型材的极佳设备。二、主要参数: 最大切割截面: Φ65mm 砂轮片规格: 250×2×32mm 转  速: 2800r/min 电 动 机: Y1.5kW-2, 380V,50Hz 外形尺寸: 680×650×540mm 净  重: 100Kg三、产品特点:1、全封闭双罩结构,并配有透明有机玻璃观察窗。保证操作者的安全。2、采用快速加紧装置。可以切割圆柱体、多角形及有凹凸等不规则型的金属试样。3、配有强冷却系统。4、柜式结构,省去用户自己准备工作台的麻烦。5、采用低噪音防水电机,人性化设计,外观美观,噪音低,操作方便。6、冷却液配件1、新型快速夹具。全自动金相镶嵌机ZXQ-2S一、用途   试样镶嵌机是为了使那些形状或尺寸不适合的试样通过镶嵌以便满足随后的制样步骤,获得要求的检测平面;或是为了保护边缘或预防制备过程造成的表面缺陷。在现代金相实验室中,广泛使用的半自动或自动研磨/抛光机对试样尺寸有规格要求,为了适应这种要求,必须对试样进行镶嵌,因此镶嵌机已成为金相实验室中必备的设备之一。  本机属于全自动金相试样镶嵌机,具有进出水冷却的功能,适用于所有材料(热固性和热塑性)的热镶嵌,设定好加热温度、保温时间、作用力等镶嵌参数后,放入试样和镶嵌料,盖上压盖,按下工作按钮,可自动完成镶嵌工作,无需操作人员在机器旁值守。可根据不同要求的试样任意选择置换4种规格的模具,亦可同时压制二个试样,制备能力翻了一番。二、主要技术指标1.模具规格:φ22mmφ30mmφ45mm2.电源:220V 50HZ3.最大耗电量:1800W4.系统压强设定范围:0~2MPa(相对应制样压强范围:0~72MPa)5.温度设定范围:0~300℃6.保温时间设定范围:0~99分99秒7.外形尺寸:400×380×450mm8.重量:100KG9.冷却方式:水冷

切磨抛机相关的耗材

  • 预切单抛硅片
    预切单抛硅片常用于SEM和SPM中,硅片的一些参数如下,大硅片直径100mm,基片厚度525un:l Orientation: l Resistance: 1-30 Ohmsl Type: P (Boron)l Wafer thickness: 18-21 mil (460-530μm)l Roughness: 2nm, polished on one side材料科学方面:当用FESEM研究纳米离子时,硅片具有玻璃盖玻片一样的光滑性能,而且具有高分辨率测试所需要的导电性。因为硅衬底有点导电,人们可以减少对金属涂层的需要(涂层有可能掩饰材料样本的特点)。生物学方面:非常理想的衬底来生长细胞,表面光滑,完全等同玻璃盖玻片。由于是硅材料,人们不用担心样本受到玻璃的腐蚀,还有硅的惰性,完全可以高压灭菌。产品选购:货号产品名称规格4136SC-ABSilicon Chip Substrates 5x5 mm x 525 um Thick269 Chips4137SC-ABSilicon Chip Substrates 5x7 mm x 525 um Thick186 Chips
  • 金相抛光布(金相磨抛机用)
    抛光布简介一、产品特点: 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机,尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成,其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机: Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机; Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机; Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类:
  • Pikal?金属抛光剂
    用于金属表面最后抛光,清除真空抛光后表面残余物。比普通抛光剂拥有更好的抛光性能。磨料颗粒小,并且对精密表面更平和。其配方中的磨料在超真空(UHV)中,不会刮伤任何抛光表面。此外,抛光剂中含有一种易挥发媒介(如悬浮液),以确保金属表面重置于超真空(UHV)中时能够立即抽气。
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