扫描发射仪

日立高新热场式场发射扫描电镜SU5000--搭载全新用户界面，向所有用户提供高画质图像-- 日立高新技术公司（以下简称：日立高新）8月4日开始发售的肖特基式场发射扫描电子显微镜"SU5000"，搭载了全新的用户界面和"EM Wizard"，无论用户的操作技巧是否娴熟都可以拍出好的照片。 扫描电子显微镜在纳米技术领域、材料领域、医学生物等领域均被广泛使用。但随着近年来仪器性能的大幅提升，以及用户群体的不断扩大，使得用户对不需要任何经验和技术就能得到好照片的需求迅速扩增。而且，由于观察对象的样品的不断多样化，对样品的大小和性质的无制约观察变得尤为重要。 这次新开发的"SU5000"对用户没有任何操作技巧上的要求，通过”EM Wizard“只要选择好观察目的就可以得到好照片。"EM Wizard"以人为本的设计理念使电镜的操作性大幅上升，对于用户来说，再也不用去讨论该用什么条件进行观察，只要按照观察目的选择”表面细节观察“或是”成分分布“等就可以自动将适合的观察条件设置好。除此之外，使用经验丰富的操作人员也可以像往常一样自由的选择观察条件，按照自己的操作习惯进行设置。”EM Wizard“对于初学者或者使用经验尚浅的客户来说，它独有的操作简易性和各种学习工具可以帮助您迅速成长起来；对使用经验丰富的客户来说，开放了丰富的可设置选项，会令您操作起来更加得心应手。这正是"EM Wizard"的价值所在。 另外"SU5000"的寻找视野功能"3D MultiFinder"更是独一无二的。不但可大幅提高做样速度，更使视野再现性得到大大提高。并且，为了能适应各种分析的需求，最大束流可达到200nA。再加上全新设计的背散射电子探头和低真空二次电子探头等，都使该款电镜无论在是观察样品还是分析都具备了超强的功能与强大的扩展性。 日立高新在8月3日至8月7日在美国康涅狄格州举办的"Microscopy & Microanalysis"，9月3日至9月5日在日本千叶县幕张国际展览中心举办的"JASIS 2014"，9月7日至9月12日在捷克举行的"18th International Microscopy Congress"上都做了实机展出。*：肖特基式场发射电子显微镜：高亮度、大束流、超强稳定性汇聚一身肖特基式场发射电子显微镜。分辨率高和可做各种定量定性分析。 肖特基式场发射电子显微镜"SU5000" "EM Wizard"画面样式【主要参数】 电子枪ZrO/W 肖特基式场发射电子枪加速电压0.5~30kV着陆电压0.1~2kV分辨率2.0nm@1kV（*1）、1.2nm@30kV、3.0nm@15kV 低真空模式（*2）放大倍率底片倍率：10~600000倍、显示倍率：18~1000000倍5轴马达台X：0~100mm、Y：0~50mm、Z：3~65mm、T：-20~90°、R：360° *1：减速模式是选配项 *2：低真空模式是选配项 2014年，日立高新技术公司（以下简称：日立高新） 新型肖特基场发射扫描电镜*"SU5000"作为工业用设备荣获由公益财团法人日本设计振兴会颁发的GOOD DESIGN AWARD 2014”(2014年度最佳设计奖)。

场发射扫描电子显微镜SEM4000ProSEM4000Pro是一款分析型热场发射扫描电子显微镜，配备了高亮度、长寿命的肖特基场发射电子枪。三级磁透镜设计，束流最大可达200 nA，在EDS、EBSD、WDS等应用上具有明显优势。标配低真空模式，以及高性能的低真空二次电子探测器和插入式背散射电子探测器，可观察导电性弱或不导电样品。标配的光学导航模式，以及直观的操作界面，让您的分析工作倍感轻松。产品特点 配备高亮度、长寿命的肖特基场发射电子枪分辨率高，30kV下优于0.9nm的极限分辨率三级磁透镜设计，束流可调范围大，最大支持 200 nA 的分析束流标配低真空模式，以及高性能的低真空二次电子探测器和插入式背散射电子探测器无漏磁物镜设计，可直接观察磁性样品标配的光学导航模式，中文操作软件，让分析工作更轻松应用案例产品参数关键参数高真空分辨率0.9 nm @ 30 kV，SE低真空分辨率2.5 nm @ 30 kV，BSE，30 Pa1.5 nm @ 30 kV, SE, 30 Pa加速电压200 V ~ 30 kV放大倍率1 ~ 1,000,000 x电子枪类型肖特基热场发射电子枪样品室真空系统全自动控制低真空模式最大180 Pa摄像头双摄像头（光学导航+样品仓内监控）行程X=110 mm，Y=110 mm，Z=65 mmT: -10°~+70°，R: 360°探测器和扩展标配旁侧二次电子探测器（ETD）低真空二次电子探测器（LVD）插入式背散射电子探测器（BSED）选配能谱仪（EDS）背散射衍射（EBSD）插入式扫描透射探测器（STEM）样品交换仓轨迹球&旋钮控制板软件语言中文操作系统Windows导航光学导航、手势快捷导航自动功能自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散

场发射扫描电子显微镜SEM5000Pro产品介绍 SEM5000Pro是一款分辨率高、功能丰富的场发射扫描 电子显微镜。先进的镜筒设计，高压隧道技术(SuperTunnel)、 低像差无漏磁物镜设计，实现了低电压高分辨率成像，同时磁 性样品可适用。光学导航、完善的自动功能、精心设计的人机 交互，优化的操作和使用流程，无论经验是否丰富，都可以快 速上手，完成高分辨率拍摄任务。电子枪类型 肖特基场发射电子枪加速电压 20V ~ 30 kV分辨率 0.8 nm @ 15 kV, SE 1.2nm @ 1 kV, SE 样品台 五轴全自动样品台放大倍率 1 ~ 2,500,000 x产品特点分辨率高，低加速电压下实现高分辨成像高压隧道技术(SuperTunnel) ，在隧道中的电子能保持高能量，减少了空间电荷效应，低电压分辨率得到保证电磁复合物镜，减小像差，显著提高低电压下的分辨率，而且可观察磁性样品电子光路无交叉，有效的降低系统像差，提升分辨能力水冷恒温物镜，保证物镜工作的稳定性、可靠性和可重复性磁偏转六孔可调光阑，自动切换光阑孔，无需机械调节，实现高分辨率观察或大束流分析模式快速切换应用领域规格参数关键参数分辨率0.8 nm @15 kV,SE1.2 nm @1.0 kV,SE加速电压20V~30 kV放大倍率1~2,500,000x电子枪类型肖特基场发射电子枪样品室真空系统全自动控制摄像头双摄像头(光学导航+样品仓内监控)样品台行程X=110mm,Y=110 mm,Z=50 mm T:-10°~+70°,R:360°探测器和扩展标配镜筒内电子探测器旁侧二次电子探测器(ETD)选配插入式背散射电子探测器(BSED)插入式扫描透射探测器(STEM)能谱仪(EDS)背散射衍射(EBSD)样品交换仓轨迹球&旋钮控制板软件语言中文操作系统Windows导航光学导航、手势快捷导航自动功能自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散

Apero 2-超高分辨场发射扫描电镜【产品描述】Thermo Scientific Apreo 2 SEM高性能场发射扫描电镜搭载独特的实时元素成像功能和先进的自动光学系统，实现灰色区域解析，让您不再忧心显微镜性能，更加专注于研究本身。 Thermo Scientific Apreo 2 SEM具有多功能性和高质量成像性能，即使是磁性样品或是传统意义上成像非常困难的样品也可以实现极佳成像性能。全新Apreo 2 SEM在原有性能基础之上，进一步优化了超高分辨成像能力，并且增设许多新功能提升其高级功能的易用性。Apreo 2 SEM在耐用的SEM平台上引入了SmartAlign（智能对中）技术，不再需要用户手动进行调整操作，而且，FLASH（闪调）自动执行精细调节工作，只需移动鼠标几次，就可以完成必要的透镜居中、消像散和聚焦校正。此外，Apreo 2 SEM是唯一在10 mm分析工作距离下具有1 nm分辨率的SEM，长工作距离不再意味着低分辨成像，有了Apreo 2 SEM，任何用户都可以自信地得到很好的成像效果。 【特点与应用】 全面解析全面的纳米和亚纳米分辨率性能，适用于纳米颗粒、粉末、催化剂、纳米器件、大块磁性样品等材料； 极佳的灵活性非常灵活的处理范围，样品类型广泛，包括绝缘体、敏感材料和磁性样品，收集最重要的数据； SmartAlign技术使用SmartAlign（智能对中）技术，实现光学系统自动调整，减少维护时间； 先进的自动化先进的自动化用于自动图像微调、撤销、用户向导、Maps成像拼接的FLASH（闪调）技术； 实时定量EDS元素信息触手可及，利用ColorSEM技术，提供实时元素面分布成像定量分析，结果获取更加快速、简便； 长工作距离唯一在长工作距离（10 mm）具有高分辨率的性能(1 nm)和优秀的图像质量的SEM产品参数发射源：高稳定型肖特基场发射电子枪分辨率：型号Apero 2 CApero 2 S末级透镜静电复合高真空15kV0.9nm0.5nm1kV1.0nm0.8nm500V1.2nm0.8nm加速电压范围：200 V ~ 30 kV 着陆电压范围：200 eV ~ 30 keV探针电流范围：1 pA ~ 50 nA，连续可调（可选配400 nA）最大水平视场宽度：10 mm WD时为3 mm（相当于最低放大倍率29倍）X-Ray工作距离：10 mm，EDS检出角35°样品室：从左至右为 340 mm 宽的大存储空间，样品室可拓展接口数量12个，含能谱仪接口3 个（其中2个处于180° 对角位置）样品台：五轴优中心全自动马达驱动X=110 mm,Y=110 mm,Z=65 mm,T=-15o~90o,R=360o （连续旋转）多用途SEM样品安装载物台，可同时放置 18 个标准样品座（φ12 mm）最大样品尺寸，直径122 mm，可沿X、Y轴完全旋转时最大样品高度，到优中心点间隔为85 mm最大样品承重 5 kg探测器系统：样品室二次电子探测器ETD镜筒内背散射电子探测器T1镜筒内二次电子探测器T2镜筒内二次电子探测器T3（选配）样品室内IR-CCD红外相机（观察样品台高度）图像导航彩色光学相机Nav-Cam+&trade 样品室低真空二次电子探测器（选配）可伸缩透镜下背散射探测器（选配）控制系统：操作系统：Windows 10图像显示：24寸LCD显示器，最高显示分辨率1920×1200支持用户自定义的GUI，可同时实时显示四幅图像软件支持Undo和Redo功能

2020年5月25日日本电子株式会社全球同步发布新款场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列。 JSM-IT800的场发射扫描电镜通用性强，可广泛应用于纳米材料、金属材料、半导体材料、化学化工、医学及生物学领域，可高效观察包括非导体样品及强磁性样品等。 JSM-IT800SHL分辨率可达0.5nm,成像能力强大。浸没式电子枪可提供500nA大电流，EDS和EBSD分析速度极快。 2024年7月28日日本电子株式会社全球同步发布场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列升级为JSM-IT810系列，升级后的产品实时功能更强（包括实时能谱、实时3D等的），自动化程度更高，操作更加直观简单，上手更加方便。

Quattro-环境扫描场发射电镜Quattro SEM为具有独特环境真空功能的极灵活、多功能高分辨率扫描电镜，可以将成像和分析全面性能与环境模式（ESEM）相结合，使得样品研究得以在自然状态下进行。Quattro的场发射电子枪（FEG）确保了优异的分辨率，通过不同的探测器选项，可以调节不同衬度信息，包括定向背散射、STEM和阴极荧光信息。来自多个多个探测器和探测器区分的图像可以同步采集和显示，使得单次扫描即可获得样品信息，从而降低电子束敏感样品的束曝光并实现真正额动态试验。Quattro的三种真空模式使得系统极具灵活性，可以容纳最广泛的样品类型，无论样品导电、绝缘、潮湿或是在高温条件下，均可获得可靠的分析结果。Quattro独特的硬件有用户向导支持，不仅可以指导操作者，还可以直接进行交换，轻松缩短结果获取时间。金属及合金、断口、焊点、抛光断面、磁性及超导材料陶瓷、复合材料、塑料薄膜/涂层地质样品断面、矿物软材料：聚合物、药物、滤膜、凝胶、生物组织、植物材料颗粒、多孔材料、纤维水合/脱水/湿润/接触角分析结晶/相变氧化/催化材料生成拉伸（伴随加热或冷却）产品参数发射源：高稳定型肖特基场发射电子枪分辨率：型号Quattro CQuattro S高真空30 kV（STEM）0.8 nm30 kV（SE）1.0 nm1 kV（SE）3.0 nm高真空下减速模式1 kV（BD+BSED）3.0 nm1 kV（BD+ICD）2.1 nm200 V（BD+ICD）3.1 nm低真空30 kV（SE）1.3 nm3 kV（SE）3.0 nm30 kV（BSE）2.5 nm环境扫描模式30 kV（SE）1.3 nm 放大倍率：6 ~ 2,500,000×加速电压范围：200 V ~ 30 kV 着陆电压：20 eV~30 keV，电子束减速可选探针电流范围：1 pA ~ 200 nA，连续可调X-Ray工作距离：10 mm，EDS检出角35°样品室：从左至右为340 mm宽的大存储空间，样品室可拓展接口数量12个，含能谱仪接口3个（其中2个处于180°对角位置），通用9针电气接口样品台和样品：型号Quattro CQuattro S类型优中心测角台，5轴电动X Y轴55×55 mm110×110 mm重复精度3.0 μm（0°倾斜时）电动Z轴65 mm旋转N×360°，连续倾斜-15°/+90°最大样品高度与优中心点（10 mm）间隔85 mm最大样品重量0°倾斜时，最大为5 kg最大样品尺寸可沿X、Y轴完全旋转时的直径为122 mm探测器系统： 同步检测多达四种信号，包括样品室高真空二次电子探测器ETD 低真空二次电子探测器LVD气体SED（GSED，用于环境扫描模式）样品室内IR-CCD红外相机（观察样品台高度） 样品导航彩色光学相机Nav-Cam™ 珀尔帖台集成式STEM，用于观察湿薄样品- WetSTEM™ 控制系统： 操作系统：64位GUI（Windows 7）、键盘、光学鼠标 图像显示：24寸LCD显示器，WUXGA 1920×1200定制化的图像用户界面，可同时激活多达四个视图导航蒙太奇 软件支持Undo和Redo功能可选Joystick操纵杆 可选多功能控制板

GeminiSEM 系列产品高对比度、低电压成像的场发射扫描电子显微镜为对任意样品进行高水准的成像和分析而生蔡司GeminiSEM 系列产品具有出色的探测效率，能够轻松地实现亚纳米分辨成像。无论是在高真空还是在可变压力模式下，更高的表面细节信息灵敏度让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，为您在材料科学研究、生命科学研究、工业实验室或是显微成像平台中获取各种类型样品在微观世界中清晰、真实的图像，提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微镜技术和方案。GeminiSEM 500 具有出色的分辨率，在较低的加速电压下仍可呈现给您更强的信号和更丰富的细节信息，其创新设计的NanoVP可变压力模式，甚至让您在使用时拥有在高真空模式下工作的感觉；更强的信号，更丰富的细节GeminiSEM 500 为您呈现任意样品表面更强的信号和更丰富的细节信息，尤其在低的加速电压下，在避免样品损伤的同时快速地获取更高清晰度的图像。经优化和增强的Inlens探测器可高效地采集信号，助您快速地获取清晰的图像，并使样品损伤降至更低；在低电压下拥有更高的信噪比和更高的衬度，二次电子图像分辨率1 kV达0.9nm，500 V达1.0 nm，无需样品台减速即可进行高质量的低电压成像，为您呈现任意样品在纳米尺度上更丰富的细节信息；应用样品台减速技术-（Tandem decel），可在1 kV下获得高达0.8nm二次电子图像分辨率；创新设计的可变压力模式-NanoVP技术，让您拥有身处在高真空模式下工作的感觉。洞察产品背后的科技Gemini电子光学系统Gemini 1类型镜筒 -延续创新和发展如今，扫描电子显微镜（SEM）在低电压下的高分辨成像能力，已成为其在各项应用领域中的标准配置。低电压下的高分辨率成像能力，在以下应用领域中扮演着尤为重要的角色：电子束敏感样品不导电样品获取样品极表面的真实形貌信息Gemini的革新电子光学设计，应用高分辨率电子枪模式、Nano-twin lens物镜(GeminiSEM 500)、以及Tandem decel样品台减速技术（选配），有效提高了在低电压时的信号采集效率和图像衬度。高分辨率电子枪模式：缩小30%的出射电子束能量展宽，有效地降低像差；获得更小的束斑。Nano-twin lens物镜： 优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率； 提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。Tandem decel样品台减速技术，进一步提高对适用样品在低电压甚至极低电压下的分辨率：Tandem decel减速技术将镜筒内减速和样品台偏压减速技术相结合，有效地实现低着陆电压；使用1 kV及以下更低电压时，镜筒内背散射探测器的检测效率获得更好地增强，低电压下的分辨率得到进一步提高。对适用的样品可以加载高达-5 kV的样品台偏压，在低电压下获得更高质量的图片优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率；提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。技术参数：基本规格蔡司 GeminiSEM 500热场发射电子枪，稳定性优于0.2 %/h加速电压0.02 - 30 kV探针电流3 pA - 20 nA（100 nA配置可选）存储分辨率最高达32k × 24k 像素放大倍率50 – 2,000,000标配探测器镜筒内Inlens二次电子探测器样品室内的Everhart Thornley二次电子探测器可选配的项目NanoVP可变压力模式高效VPSE探测器（包含在NanoVP可变压力选件中）局部电荷中和器镜筒内能量选择背散射探测器环形STEM探测器（aSTEM 4）EDS能谱仪EBSD探测器(背散射电子衍射)可订制特殊功能样品台环形背散射电子探测器阴极射线荧光探测器

[ 产品简介 ]蔡司场发射扫描电子显微镜Gemini系列，具有出色的探测效率，能够轻松实现亚纳米分辨成像，适用于多种材料的高分辨成像与分析。其优异的低电压成像能力与表面细节灵敏度，让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，可获取各类样品在微观世界中清晰、真实的图像。为生命科学研究实验室、工业实验室、成像测试平台、高校或研究机构提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微技术与方案。[ 产品特点 ]&bull 出色的检测效率&bull 优异的低电压分辨率和表面灵敏度&bull 灵活的探测手段获取高分辨的图像&bull 独特的无漏磁镜筒，轻松应对磁性材料表征&bull 丰富的扩展性[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料表征&bull 工业应用，如失效分析，性能分析&bull 生命科学，如大体积细胞高通量成像&bull 电池领域，如老化分析、电池材料表征&bull 电子半导体领域，如半导体器件失效研究与分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复InLens SE探测器磁性FeMn纳米颗粒成像 InLens SE探测器NCM622正极颗粒成像InLens SE 探测器和EsB 探测器同时对包埋在沸石中的银纳米颗粒成像aBSD探测器FinFET结构成像 NanoVP模式下不导电玻璃片上的光刻胶样品成像 小鼠大脑成像

[ 产品简介 ]蔡司新一代场发射扫描电子显微镜Sigma系列，具有高质量的成像和分析能力，将先进的场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验完美结合。利用Sigma系列直观的4步工作流程，在更短的时间内获得更多的数据，提高测试与生产效率。可选配多种探测器，以满足半导体、能源等新材料、磁性样品、生物样品、地质样品等不同的应用需求。结合蔡司原位电镜实验平台，可以实现自动智能化的原位实验工作流程，高效率获取高通量、高质量的原位实验数据。领先的EDS几何设计保证了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、结果可靠。高分辨、全分析、多扩展、强智能、广应用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科学和工业检测等领域的“多面手”。[ 产品特点 ]&bull 独特的Gemini镜筒设计，低电压高分辨，无漏磁&bull 广泛全面的应用场景&bull 丰富灵活的探测手段&bull 智能高效的工作流程&bull 先进可靠的分析系统&bull 强大完善的扩展平台[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料高分辨成像，高分子聚合物等不导电样品成像，电池材料成分衬度成像，二维材料分析&bull 生命科学，如生物样品超微结构成像，冷冻样品高分辨成像&bull 地质矿物学，如地质样品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼联用分析&bull 工业应用，如组件失效分析，工艺诊断&bull 电子半导体行业，如质量控制与分析，6英寸Wafer快速换样，电子束曝光技术（EBL）&bull 钢铁行业，如夹杂物分析，金属材料自动原位成像分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复NanoVP lite模式下断裂的聚苯乙烯表面成像氧化铝颗粒高分辨二次电子成像ETSE探测器氧化锌枝晶成像InLens SE探测器氧化锆&氧化铁复合材料成像Sense BSD探测器刺毛苔藓虫超微结构成像aBSD探测器超导合金成像

秉承飞纳台式扫描电镜系列全自动操作、快速成像、不喷金观看不导电样品、完全防震、性能稳定的特点，荷兰飞纳公司推出采用肖特 基场发射电子源，集背散射电子成像、二次电子成像和能谱分析功能于一体的台式场发射扫描电镜能谱一体机 Phenom Nano G2。 高亮度肖特基场发射电子源，使用户可以轻松获得高分辨率图像。最高放大倍数 100 万倍，分辨率优于 2.5nm肖特基场发射电子源彩色光学显微镜全景导航集成全自动马达样品台内置全自动真空锁，15 秒抽真空无需喷金，直接观察不导电样品无漏磁设计，直接观测磁性样品操作简单，培训 30 分钟即可上手耦合式电子光路设计内置 27 组独立减震单元，完全防震维护成本低飞纳电镜系列产品性能稳定，可以长时间工作，自动化程度高，大量节省了人力成本。飞纳台式场发射扫描电镜的灯丝使用稳定，寿命长，电子光路免维护，后期维护简单。飞纳电镜系列产品加入了硬件防护设计，杜绝人为操作不当引起设备故障；同时，提供终身免费的远程联网检测，实时维护您的电镜。复纳科学仪器（上海）有限公司为您提供飞纳台式场发射扫描电镜 Phenom Pharos G2的参数、价格、型号、原理等信息，飞纳台式场发射扫描电镜 Phenom Pharos G2产地为荷兰、品牌为Phenom，型号为Phenom Pharos G2，价格为面议RMB，更多相关信息可来电咨询，公司客服电话7*24小时为您服务

TESCAN--场发射扫描电镜 MIRA zui新一代的MIRA场发射扫描电镜给用户带来了zui新的技术优点（如改进的高性能电子设备使成像过程更快，快速扫描系统包括了动态与静态图像扭曲补偿，有内置的编程软件等），同时保持着zui高的性价比。MIRA3的设计适用于各种各样的SEM应用及当今研究和产业的需求。大电子束流下的高分辨率有利于分析应用，例如：EBSD、WDX等分析。MIRA3场发射扫描电镜可配置LM、XM或GM三种样品室。所有的MIRA样品室（LM、XM或GM）提供you xiu的5轴马达驱动全计算机化优中心样品台，完善的几何设计更适合安装能谱仪（EDS），波谱仪（WDX），电子背散射衍射（EBSD）。XM和GM样品室适用于大样品的分析。现代电子光路 高亮度肖特基电子枪可获得高分辨率/高电流/低噪音图像 独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics&trade ）设计提供了多种工作与显示模式 独特的中间镜的作用就如同软件“光阑转换器”，它以电磁方式有效地改变物镜光阑 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing&trade ），可模拟和优化电子束 可选的In-Beam探头可获得特高分辨率图像 电镜的全自动设置 成像速度快 使用3维电子束技术，实时得到立体图像，三维导航维修简单现在保持电镜处在you xiu的状态很简单，只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率zui大化，操作zui简化。自动操作设备的特点包括了自动设置和众多自动操作。除此之外，电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序，能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言（Python）可进入软件的大多数功能，包括显微镜的控制、样品台的控制、图像采集、处理与分析。通过脚本语言用户还可以编程其自己的自动操作程序。用户界面友好的软件与软件工具 多语言操作界面 多用户界面（包括了EasySEMTM模式）不同账户的权利使常规分析过程更快 图片管理，报告生成 内置的系统检查与系统诊断 网络操作与远程进入/诊断 模块化软件体系结构 标准软件包括了测量、图像处理、对象区域，等模块 可选的软件和包括颗粒度分析标准版/专家版、3维表面重建，等模块MIRA3 GMMIRA3 GM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows&trade 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 XMMIRA3 XM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows&trade 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 LMMIRA3 LM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows&trade 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。 北京亚科电子（山东）欢迎来电咨询 ！

TESCAN--场发射扫描电镜 MIRA zui新一代的MIRA场发射扫描电镜给用户带来了zui新的技术优点（如改进的高性能电子设备使成像过程更快，快速扫描系统包括了动态与静态图像扭曲补偿，有内置的编程软件等），同时保持着zui高的性价比。MIRA3的设计适用于各种各样的SEM应用及当今研究和产业的需求。大电子束流下的高分辨率有利于分析应用，例如：EBSD、WDX等分析。MIRA3场发射扫描电镜可配置LM、XM或GM三种样品室。所有的MIRA样品室（LM、XM或GM）提供you xiu的5轴马达驱动全计算机化优中心样品台，完善的几何设计更适合安装能谱仪（EDS），波谱仪（WDX），电子背散射衍射（EBSD）。XM和GM样品室适用于大样品的分析。现代电子光路 高亮度肖特基电子枪可获得高分辨率/高电流/低噪音图像 独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics™ ）设计提供了多种工作与显示模式 独特的中间镜的作用就如同软件“光阑转换器”，它以电磁方式有效地改变物镜光阑 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing™ ），可模拟和优化电子束 可选的In-Beam探头可获得特高分辨率图像 电镜的全自动设置 成像速度快 使用3维电子束技术，实时得到立体图像，三维导航维修简单现在保持电镜处在you xiu的状态很简单，只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率zui大化，操作zui简化。自动操作设备的特点包括了自动设置和众多自动操作。除此之外，电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序，能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言（Python）可进入软件的大多数功能，包括显微镜的控制、样品台的控制、图像采集、处理与分析。通过脚本语言用户还可以编程其自己的自动操作程序。用户界面友好的软件与软件工具 多语言操作界面 多用户界面（包括了EasySEMTM模式）不同账户的权利使常规分析过程更快 图片管理，报告生成 内置的系统检查与系统诊断 网络操作与远程进入/诊断 模块化软件体系结构 标准软件包括了测量、图像处理、对象区域，等模块 可选的软件和包括颗粒度分析标准版/专家版、3维表面重建，等模块MIRA3 GMMIRA3 GM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 XMMIRA3 XM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 LMMIRA3 LM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。

场发射扫描电镜 MIRA zui新一代的MIRA场发射扫描电镜给用户带来了zui新的技术优点（如改进的高性能电子设备使成像过程更快，快速扫描系统包括了动态与静态图像扭曲补偿，有内置的编程软件等），同时保持着zui高的性价比。MIRA3的设计适用于各种各样的SEM应用及当今研究和产业的需求。大电子束流下的高分辨率有利于分析应用，例如：EBSD、WDX等分析。MIRA3场发射扫描电镜可配置LM、XM或GM三种样品室。所有的MIRA样品室（LM、XM或GM）提供优xiu的5轴马达驱动全计算机化优中心样品台，完善的几何设计更适合安装能谱仪（EDS），波谱仪（WDX），电子背散射衍射（EBSD）。XM和GM样品室适用于大样品的分析。现代电子光路 高亮度肖特基电子枪可获得高分辨率/高电流/低噪音图像 独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics™ ）设计提供了多种工作与显示模式 独特的中间镜的作用就如同软件“光阑转换器”，它以电磁方式有效地改变物镜光阑 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing™ ），可模拟和优化电子束 可选的In-Beam探头可获得特高分辨率图像 电镜的全自动设置 成像速度快 使用3维电子束技术，实时得到立体图像，三维导航维修简单现在保持电镜处在优xiu的状态很简单，只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率zui大化，操作zui简化。自动操作设备的特点包括了自动设置和众多自动操作。除此之外，电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序，能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言（Python）可进入软件的大多数功能，包括显微镜的控制、样品台的控制、图像采集、处理与分析。通过脚本语言用户还可以编程其自己的自动操作程序。用户界面友好的软件与软件工具 多语言操作界面 多用户界面（包括了EasySEMTM模式）不同账户的权利使常规分析过程更快 图片管理，报告生成 内置的系统检查与系统诊断 网络操作与远程进入/诊断 模块化软件体系结构 标准软件包括了测量、图像处理、对象区域，等模块 可选的软件和包括颗粒度分析标准版/专家版、3维表面重建，等模块MIRA3 GMMIRA3 GM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 XMMIRA3 XM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 LMMIRA3 LM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。设备咨询电话：（微信同号）；QQ：；邮箱：欢迎您的来电咨询！

产品介绍：　　日立全新一代热场发射扫描电镜SU5000继承了日立半导体行业扫描电镜CD-SEM高稳定性和易操作的特点，不仅具有强大的观察分析能力，同时具有全新的操作体验。SU5000既满足了专业电镜操作者对高分辨观察和分析的需求，也满足了电镜初学者对高质量图片的需求，是一台操作简便且功能强大的扫描电镜。主要特点：1.　高稳定性热场发射电子枪2.　全新的EM Wizard软件，无需设置参数即可获得高质量图片3.　高分辨率和强大的分析能力4.　样品适用性强：不导电样品直接观察（低真空功能，10-300Pa）5.　全新的multi-finder功能，方便快捷的寻找样品6.　附件功能强大：拉伸台，冷热台，电子束曝光，红外CCD，离子束清洁系统等。

追求ji致性能！完成具挑战性的纳米分析工作。TESCAN推出了全新yi代S8000系列扫描电镜，目前包括：S8000型超高分辨场发射扫描电镜和S8000G型镓离子聚焦离子束双束扫描电镜。S8000 FE-SEM全新设计的S8000超高分辨场发射扫描电镜可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，能够满足现今工业研发和科研的所有需求，不仅适用于高端的纳米分析应用，也给操作者带来舒适、高效的使用体验。 S8000 FE-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及S8000G FIB-SEMS8000G是TESCAN新S8000系列扫描电镜的第yi个新成员，是yi款超高分辨双束FIB-SEM系统，它可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，并能以ji佳的精度、效率完成复杂的纳米加工和操作，可满足现今工业研发和学术界研究的所有需求。 S8000G FIB-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-3 S8000 系列（NEW ! ）S8000 FE-SEM全新设计的S8000超高分辨场发射扫描电镜可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，能够满足现今工业研发和科研的所有需求，不仅适用于高端的纳米分析应用，也给操作者带来舒适、高效的使用体验。S8000 FE-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及分析 配置4个新yi代探测器，可实现9种图像观测，对样品信息的采集更加全面 配置大型样品室，有超过20个扩展接口，为原位观测、分析创造了良好的工作环境 可以配置TESCAN自有或第三方的多种扩展分析附件，如EDS、EBSD、CL、EBL，并du家实现与Raman联用S8000 系列（NEW ! ）S8000G FIB-SEM S8000G是TESCAN新S8000系列扫描电镜的第yi个新成员，是yi款超高分辨双束FIB-SEM系统，它可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，并能以ji佳的精度、效率完成复杂的纳米加工和操作，可满足现今工业研发和学术界研究的所有需求。S8000G FIB-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及分析 配置4个新yi代探测器，可实现9种图像观测，对样品信息的采集更加全面 配置大型样品室，有超过20个扩展接口，为原位观测、分析创造了良好的工作环境 可以配置TESCAN自有或第三方的多种扩展分析附件，并du家实现与TOF-SIMS、Raman联用 新yi代操作软件和自动功能，FIB镜筒具有全自动的离子镜筒对中，极大简化了操作北京亚科电子（山东）设备咨询电话：

场发射扫描电镜 MIRA MIRA3 XM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。 概述分析潜力 XM样品室配备有5轴马达驱动的全计算机化优中心样品台，完美的几何设计更适合安装能谱仪（EDS）、波谱仪（WDX）、电子背散射衍射（EBSD） 优化几何设计的许多接口，更适合安装能谱仪（EDS）、波谱仪（WDX）、电子背散射衍射（EBSD）和其他探头 一流YAG闪烁器式探头 可选各种探头和配件 在涡轮分子泵和无油干式泵的工作下，几分钟就可以达到仪器工作需要的真空，电子枪的真空度由离子泵保持 在低真空模式下可以观测不导电的样品，观测磁性样品的效果非常好 可选样品室大小与镜筒防振方式MIRA3配置MIRA3 XMH大样品室高真空式电镜，配备有可选的马达驱动样品台，适合观测导电的样品。MIRA3 XMU可变真空式SEM，体现了高真空模式和低真空模式的优点。在低真空模式下可以观测不导电的样品，不需要喷金。软件：标配： 测量 图象处理 3维扫描 硬度测量 多图像校准 对象区域 自动关机时间 公差 编程软件 定位 投影面积 EasySEMTM 选配：根据实际配置和需求 配件 二次电子探头（SE），ET型二次电子探头（YAG 闪烁体） 可移动式背散射电子探头（RBSE）*，可移动环行闪烁体类（YAG）具有高灵敏度和原子序数分辨率（0.1Z） 低真空二次电子探头 探针电流测量 压差式防碰撞报警装置 可观察样品室内部的红外线摄像头等，各种配件可供选择

Agilent 桌面场发射扫描电镜 安捷伦8500FE-SEM为研究者提供场发射扫描电镜。这个紧凑、创新的系统优化了低电压成像，特别是表面高对比度，可以得到一般在更大，更昂贵的场发射显微镜才能得到的分辨率。8500安装使用很方便，不需特别的场地要求，只需一个接线板。设计紧凑，为实验室中的研究者提供了以前只有传统场发射电镜才能得到的性能。8500经过精心设计，可以提供持续，可重复的性能，成本是业界最低的。 特征和优势：分辨率和成像质量等同于传统的场发射扫描电镜结构优化，核心元件达到晶元尺度，在低压条件下，得到高分辨的成像结果可变低电压可以消除电荷，样品不需要镀膜（不用喷金喷碳直接看不导电样品）程序设计的XYZ样品台确保用户精细调整，扫描和储存信息，操作简单快速静电透镜的设计确保良好的重复性，消除了磁滞现象，不需反复调整机体紧凑确保便于安装，不需特别的场地，不需通冷却水，不需特别隔振维护非常简单，不需频繁更换发射源

仪器简介　　SU8200 系列冷场扫描是日立高新经过多年潜心钻研，巨额投入而研发出来的新一代革新性冷场电镜，此系列扫描电镜在完全秉承以往冷场发射扫描电镜全部优点的同时，将探针电流进行了大幅提高，电流稳定性得到了极大增强，同时避免了灯丝Flash 后的采图等待时间，可以说其弥补了以往冷场电镜的所有弱势，成为一款真正的超高分辨分析型冷场扫描电镜，上演了一部现实版的王者归来!主要特点：　　日立高新新研发的冷场电子枪1.利用电子枪轰击后的高亮度稳定期，束流更大更稳定，高分辨观察和分析兼顾2.大幅提高分辨率(1.1nm/1kV、0.8nm/15kV)3.减轻污染的高真空样品仓4.通过顶部过滤器(选配项)实现多种材料对比度可视化

场发射扫描电镜 MIRA zui新一代的MIRA场发射扫描电镜给用户带来了zui新的技术优点（如改进的高性能电子设备使成像过程更快，快速扫描系统包括了动态与静态图像扭曲补偿，有内置的编程软件等），同时保持着zui高的性价比。MIRA3的设计适用于各种各样的SEM应用及当今研究和产业的需求。大电子束流下的高分辨率有利于分析应用，例如：EBSD、WDX等分析。MIRA3场发射扫描电镜可配置LM、XM或GM三种样品室。所有的MIRA样品室（LM、XM或GM）提供优xiu的5轴马达驱动全计算机化优中心样品台，完善的几何设计更适合安装能谱仪（EDS），波谱仪（WDX），电子背散射衍射（EBSD）。XM和GM样品室适用于大样品的分析。现代电子光路 高亮度肖特基电子枪可获得高分辨率/高电流/低噪音图像 独特的三透镜大视野观察（Wide Field Optics™ ）设计提供了多种工作与显示模式 独特的中间镜的作用就如同软件“光阑转换器”，它以电磁方式有效地改变物镜光阑 结合了完善的电子光学设计软件的实时电子束追踪（In-Flight Beam Tracing™ ），可模拟和优化电子束 可选的In-Beam探头可获得特高分辨率图像 电镜的全自动设置 成像速度快 使用3维电子束技术，实时得到立体图像，三维导航维修简单现在保持电镜处在优xiu的状态很简单，只需要很短的停机时间。每个细节设计得很仔细，使得仪器的效率zui大化，操作zui简化。自动操作设备的特点包括了自动设置和众多自动操作。除此之外，电镜还有样品台自动导航与自动分析 程序，能明显减少操作员的操作时间。通过内置脚本语言（Python）可进入软件的大多数功能，包括显微镜的控制、样品台的控制、图像采集、处理与分析。通过脚本语言用户还可以编程其自己的自动操作程序。用户界面友好的软件与软件工具 多语言操作界面 多用户界面（包括了EasySEMTM模式）不同账户的权利使常规分析过程更快 图片管理，报告生成 内置的系统检查与系统诊断 网络操作与远程进入/诊断 模块化软件体系结构 标准软件包括了测量、图像处理、对象区域，等模块 可选的软件和包括颗粒度分析标准版/专家版、3维表面重建，等模块MIRA3 GMMIRA3 GM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 XMMIRA3 XM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。MIRA3 LMMIRA3 LM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。

产品简介日立高新热场式场发射扫描电镜SU5000--搭载全新用户界面，向所有用户提供高画质图像--日立高新技术公司（以下简称：日立高新）8月4日开始发售的肖特基式场发射扫描电子显微镜"SU5000"，搭载了全新的用户界面和"EM Wizard"，无论用户的操作技巧是否娴熟都可以拍出好的照片。扫描电子显微镜在纳米技术领域、材料领域、医学生物等领域均被广泛使用。但随着近年来仪器性能的大幅提升，以及用户群体的不断扩大，使得用户对不需要任何经验和技术就能得到好照片的需求迅速扩增。而且，由于观察对象的样品的不断多样化，对样品的大小和性质的无制约观察变得尤为重要。 这次新开发的"SU5000"对用户没有任何操作技巧上的要求，通过”EM Wizard“只要选择好观察目的就可以得到好照片。"EM Wizard"以人为本的设计理念使电镜的操作性大幅上升，对于用户来说，再也不用去讨论该用什么条件进行观察，只要按照观察目的选择”表面细节观察“或是”成分分布“等就可以自动将适合的观察条件设置好。除此之外，使用经验丰富的操作人员也可以像往常一样自由的选择观察条件，按照自己的操作习惯进行设置。”EM Wizard“对于初学者或者使用经验尚浅的客户来说，它独有的操作简易性和各种学习工具可以帮助您迅速成长起来；对使用经验丰富的客户来说，开放了丰富的可设置选项，会令您操作起来更加得心应手。这正是"EM Wizard"的价值所在。另外"SU5000"的寻找视野功能"3D MultiFinder"更是独有的。不但可大幅提高做样速度，更使视野再现性得到大大提高。并且，为了能适应各种分析的需求，最大束流可达到200nA。再加上全新设计的背散射电子探头和低真空二次电子探头等，都使该款电镜无论在是观察样品还是分析都具备了超强的功能与强大的扩展性。 日立高新在8月3日至8月7日在美国康涅狄格州举办的"Microscopy & Microanalysis"，9月3日至9月5日在日本千叶县幕张国际展览中心举办的"JASIS 2014"，9月7日至9月12日在捷克举行的"18th International Microscopy Congress"上都做了实机展出。*：肖特基式场发射电子显微镜：高亮度、大束流、超强稳定性汇聚一身肖特基式场发射电子显微镜。分辨率高和可做各种定量定性分析。【主要参数】 电子枪ZrO/W 肖特基式场发射电子枪加速电压0.5~30kV着陆电压0.1~2kV分辨率2.0nm@1kV（*1）、1.2nm@30kV、3.0nm@15kV 低真空模式（*2）放大倍率底片倍率：10~600000倍、显示倍率：18~1000000倍5轴马达台X：0~100mm、Y：0~50mm、Z：3~65mm、T：-20~90°、R：360° *1：减速模式是选配项 *2：低真空模式是选配项 2014年，日立高新技术公司（以下简称：日立高新） 新型肖特基场发射扫描电镜*"SU5000"作为工业用设备荣获由公益财团法人日本设计振兴会颁发的GOOD DESIGN AWARD 2014”(2014年度最佳设计奖)。

日立2005年在中国推出了S-4800型高分辨场发射扫描电镜，由于出色的应用性能、良好的稳定性和简易的维护，收到了各界用户的一致好评。　　日立2011年新推出了它的后续机型----SU8010，它继承了S-4800的优点，性能有进一步提高，1kv使用减速功能后，分辨率提升到1.3nm，相对于S-4800可以在更低的加速电压下呈高分辨像，明显提升了以往很难观测的低原子序数样品的观测效果。特点：1. 优秀的低加速电压成像能力，1kv分辨率可达1.3nm2. 日立专利的ExB设计，不需喷镀，可以直接观测不导电样品3. Upper探头可选择接受二次电子像或背散射电子像4. 可以根据样品类型和观测要求选择打开或关闭减速功能5. 标配有冷指、电子枪内置加热器，物镜光阑具有自清洁功能6. 仪器的烘烤维护及烘烤后的透镜机械对中均可由用户自行完成

场发射扫描电镜 MIRA MIRA3 GM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。配件： 二次电子探头（SE），ET型二次电子探头（YAG 闪烁体） 可移动式背散射电子探头（RBSE）*，可移动环行闪烁体类（YAG）具有高灵敏度和原子序数分辨率（0.1Z） 低真空二次电子探头 探针电流测量 压差式防碰撞报警装置 可观察样品室内部的红外线摄像头等，各种配件可供选择 概述：分析潜力 GM样品室配备有5轴马达驱动的全计算机化优中心样品台，完美的几何设计更适合安装能谱仪（EDS）、波谱仪（WDX）、电子背散射衍射（EBSD） 优化几何设计的许多接口，更适合安装能谱仪（EDS）、波谱仪（WDX）、电子背散射衍射（EBSD）和其他探头 一流YAG闪烁器式探头 可选各种探头和配件 在涡轮分子泵和无油干式泵的工作下，几分钟就可以达到仪器工作需要的真空，电子枪的真空度由离子泵保持 在低真空模式下可以观测不导电的样品，观测磁性样品的效果非常好 可选样品室大小与镜筒防振方式MIRA3配置MIRA3 GMH大样品室高真空式电镜，配备有可选的马达驱动样品台，适合观测导电的样品。MIRA3 GMU可变真空式SEM，体现了高真空模式和低真空模式的优点。在低真空模式下可以观测不导电的样品，不需要喷金。 软件：标配： 测量 图象处理 3维扫描 硬度测量 多图像校准 对象区域 自动关机时间 公差 编程软件 定位 投影面积 EasySEMTM选配：根据实际配置和需求

场发射扫描电镜 MIRA MIRA3 LM是一款完全由计算机控制的场发射扫描电子显微镜，可在高真空和低真空模式下操作，其具有突出的光学性能，清晰的数字化图像，成熟、用户界面友好的操作软件等特点。基于Windows™ 平台的操作软件提供了简易的电镜操作和图像采集，可以保存标准文件格式的图片，可以对图像进行管理、处理和测量，实现了电镜的自动设置和许多其它自动操作。 概述分析潜力 LM样品室配备有5轴马达驱动全计算机化优中心样品台，完美的几何设计更适合安装能谱仪（EDS）、波谱仪（WDX）、电子背散射衍射（EBSD） 优化几何设计的许多接口，更适合安装能谱仪（EDS）、波谱仪（WDX）、电子背散射衍射（EBSD）和其他探头 一流YAG闪烁器式探头 可选各种探头和配件 在涡轮分子泵和无油干式泵的工作下，几分钟就可以达到仪器工作需要的真空，电子枪的真空度由离子泵抽真空保持 在低真空模式下可以观测不导电的样品，观测磁性样品的效果非常好 可选样品室大小与镜筒防振方式MIRA3配置MIRA3 LMH大样品室高真空式电镜，配备有可延长的马达驱动样品台，适合观测导电的样品。MIRA3 LMU可变真空式SEM，体现了高真空模式和低真空模式的优点。在低真空模式下可以观测不导电的样品，不需要喷金。 软件标配： 测量 图象处理 3维扫描 硬度测量 多图像校准 对象区域 自动关机时间 公差 编程软件 定位 投影面积 EasySEMTM选配：根据实际配置和需求 技术规格 配件 二次电子探头（SE），ET型二次电子探头（YAG 闪烁体） 可移动式背散射电子探头（RBSE）*，可移动环行闪烁体类（YAG）具有高灵敏度和原子序数分辨率（0.1Z） 低真空二次电子探头 探针电流测量 压差式防碰撞报警装置 可观察样品室内部的红外线摄像头 等，各种配件可供选择

场发射扫描电子显微镜SEM4000ProSEM4000Pro是一款分析型热场发射扫描电子显微镜，配备了高亮度、长寿命的肖特基场发射电子枪。三级磁透镜设计，束流最大可达200 nA，在EDS、EBSD、WDS等应用上具有明显优势。标配低真空模式，以及高性能的低真空二次电子探测器和插入式背散射电子探测器，可观察导电性弱或不导电样品。标配的光学导航模式，以及直观的操作界面，让您的分析工作倍感轻松。产品特点 配备高亮度、长寿命的肖特基场发射电子枪分辨率高，30kV下优于0.9nm的极限分辨率三级磁透镜设计，束流可调范围大，最大支持 200 nA 的分析束流标配低真空模式，以及高性能的低真空二次电子探测器和插入式背散射电子探测器无漏磁物镜设计，可直接观察磁性样品标配的光学导航模式，中文操作软件，让分析工作更轻松应用案例产品参数关键参数高真空分辨率0.9 nm @ 30 kV，SE低真空分辨率2.5 nm @ 30 kV，BSE，30 Pa1.5 nm @ 30 kV, SE, 30 Pa加速电压200 V ~ 30 kV放大倍率1 ~ 1,000,000 x电子枪类型肖特基热场发射电子枪样品室真空系统全自动控制低真空模式最大180 Pa摄像头双摄像头（光学导航+样品仓内监控）行程X=110 mm，Y=110 mm，Z=65 mmT: -10°~+70°，R: 360°探测器和扩展标配旁侧二次电子探测器（ETD）低真空二次电子探测器（LVD）插入式背散射电子探测器（BSED）选配能谱仪（EDS）背散射衍射（EBSD）插入式扫描透射探测器（STEM）样品交换仓轨迹球&旋钮控制板软件语言中文操作系统Windows导航光学导航、手势快捷导航自动功能自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散

主要参数：用途：场发射环境扫描电镜，配备能谱仪和冷台。扫描电镜和能谱仪，可用于测试各种材料，如金属材料、高分子材料、无机材料（矿物、岩土、甚至含水分材料）等的样品表面二次电子形貌信息，背散射电子组分区分，能谱元素成分分析。结合冷台，可通过控制样品室内温度和湿度，模拟环境测试样品在动态环境中的形貌和组分变化，并记录这些变化的过程。 三 工作环境：1电压：100-240V（-6%，+10%）2工作温度：20±3 ℃3 相对湿度： 80%4 震动和磁场需由厂家装机前测试并给出报告 四 主要技术性能指标：1 电子光学：1.1 发射源：高分辨肖特基场发射电子枪。1.2 加速电压：200V – 30kV。1.3 放大倍数：6× - 2,500,000×。1.4 电镜内设计有压差真空系统，保护低真空/环境真空下电子枪，延长寿命。1.5 大的电子束束流：1pA -200nA 连续可调，保证能谱高效工作。 2 真空系统2.1 1个250 l/s分子涡轮泵+1个机械泵+2个离子泵2.2 集成的离子泵备用电池（用于意外断电保护）2.2 高真空模式：＜6×10-4 Pa （测试导电样品或喷金处理样品）2.3 低真空模式：10 – 200 Pa （直接测试不导电样品）2.4 环境真空模式：10 – 4000 Pa （测试含水分样品）2.5 高真空模式下的换样时间：≤3.5min2.6 环境真空模式下的换样时间：≤4.5min 3 分辨率独立的高真空专用探测器，分辨率指标3.1 高真空分辨率30 kV下1.0 nm (二次电子)3.2 高真空分辨率30 kV下2.5 nm (背散射电子)3.3 高真空分辨率1 kV下3.0 nm (二次电子)独立的低真空专用探测器3.4 低真空分辨率30 kV下1.3 nm (二次电子)3.5 低真空分辨率30 kV下2.5 nm (背散射电子)3.6 低真空分辨率3 kV下3.0 nm (背散射电子)独立环境真空专用探测器3.7环境真空分辨率30 kV下1.3 nm (二次电子) 4 样品室4.1 样品室内宽：340mm4.2 分析工作距离：10 mm4.3 样品室红外CCD相机：1个4.4 最多可升级12个探测器或附件接口 5 样品台5.1 样品台类型：五轴全自动U中心对中样品台，同时保留五轴手动功能5.2 行程：X：110 mm，Y：110 mm ，Z：65 mm，5.4 旋转R=n×360o，倾斜T=-15o/+90o5.3 多功能样品台，存放标准样品台 (?12 mm)平面18个，斜面3个，同时提供2个断面夹具5.4 样品最大安全高度≥85mm6 图象处理及系统控制……7 循环冷却系统……更多详细的技术参数，请与深圳市天禧仪器有限公司销售人员联系。

S8000 系列（NEW ! ） 追求ji致性能！完成具挑战性的纳米分析工作。TESCAN推出了全新yi代S8000系列扫描电镜，目前包括：S8000型超高分辨场发射扫描电镜和S8000G型镓离子聚焦离子束双束扫描电镜。S8000 FE-SEM全新设计的S8000超高分辨场发射扫描电镜可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，能够满足现今工业研发和科研的所有需求，不仅适用于高端的纳米分析应用，也给操作者带来舒适、高效的使用体验。 S8000 FE-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及S8000G FIB-SEMS8000G是TESCAN新S8000系列扫描电镜的第yi个新成员，是yi款超高分辨双束FIB-SEM系统，它可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，并能以ji佳的精度、效率完成复杂的纳米加工和操作，可满足现今工业研发和学术界研究的所有需求。 S8000G FIB-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-S8000 FE-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及分析 配置4个新yi代探测器，可实现9种图像观测，对样品信息的采集更加全面 配置大型样品室，有超过20个扩展接口，为原位观测、分析创造了良好的工作环境 可以配置TESCAN自有或第三方的多种扩展分析附件，如EDS、EBSD、CL、EBL，并du家实现与Raman联用S8000G FIB-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及分析 配置4个新yi代探测器，可实现9种图像观测，对样品信息的采集更加全面 配置大型样品室，有超过20个扩展接口，为原位观测、分析创造了良好的工作环境 可以配置TESCAN自有或第三方的多种扩展分析附件，并du家实现与TOF-SIMS、Raman联用 新yi代操作软件和自动功能，FIB镜筒具有全自动的离子镜筒对中，ji大简化了操作设备咨询电话：（微信同号）；QQ：；邮箱：欢迎您的来电咨询！

1、主要配置及附件：以光电倍增管PMT检测器为基础的单道扫描电感耦合等离子体发射光谱仪，高频发生器，自动调谐，提供具有中英文操作界面的软件；专用自动温控循环冷却水系统；氩气导管；冷却水管；高灵敏度进样系统（高效进口雾化器加双筒型雾化室）。2、主要技术参数：台式,等离子体垂直观测系统。等离子体火焰可进行二维调整（由计算机控制），并利用“仪器诊断”功能，实时观察调整结果。精密度 ：优于国家检定规程A级标准稳定性 ：优于国家检定规程A级标准分辨率 ：在Mn257.610nm处，峰半高宽为≤0.008nm（3600线光栅）。≤0.015 nm（2400线光栅）。所有元素满足国标A级标准，部分元素如Ba检出限远低于国家A级标准谱线灵活性：可对分析元素的谱线进行定性、半定量和定量分析。拥有几千条谱线，可以根据需要与爱好选择适当的谱线，避开可能存在的干扰，为您提供更多的选择，更合理的推荐，让测试变得更加专业与准确。3、进样系统：炬管：一体式。根据中心通道大小有多种型号可选雾化器：高效进口雾化器，多型号可选，高盐、耐HF等雾化室：双筒型雾化室，可以选配旋流式雾化室总氩气消耗量：氩气总消耗量小于14L/min蠕动泵转速可根据需求流量设置调节（即根据进样速度设定，直观，准确）4、射频发生器和等离子体：类型：固态射频发生器，水冷，自动调谐，带有过载、过温各种安全保护。输出功率：800W~1600W，连续可调，调节精度为2W等离子气、辅气、载气开启与流量为软件控制，点火、灭火也均由软件控制。5、光学系统：光学稳定性：与进样系统设计在一个平台上，整个光学系统具有防震措施，一般的地面震动不影响其分析性能。同时仪器稳定脚垫再增加一套防震保护，起到二次防震的目的。温度稳定性：±0.1℃。最小步距为0.0004nm6、控制软件：软件操作方便、直观，具有定性、半定量、定量分析功能，具有仪器诊断优化功能，软件具有全中文，可根据需要选择切换。报告格式输出格式为pdf、excel，电子档或直接打印，且可以为中文模板。控制软件可以在中文版Windows 7下运行、XP下运行。软件带有自动进样器控制接口。分析谱线：具有谱线描迹功能、背景扣除功能 曲线拟合：测量方式有峰高、峰面积两种不同选择 分析参数：针对不同谱线选择不同积分时间、负高压、扫描步距、衰减值。分析参数：每条谱线测量时会自动进行实时波长校正，确保测量峰位准确。自动衰减：每条谱线都可以进行自动衰减。全自动安全保护功能，仪器通讯和控制采用控制卡，观测位置由软件控制并优化，具有控制蠕动泵转速功能。可以与天瑞AS100自动进样器联合使用，控制样品的切换、清洗、进样等过程。仪器诊断软件和网络通讯，数据再处理功能，自动生成测试报告。软件具有数据档案管理功能，支持数据的备份、恢复、删除，支持数据的文本格式输出。格式类可选，也可以打印输出。

日本电子JEOL场发射扫描电镜 JSM-IT800SHL, 是JSM-7900F 的升级版 JSM-IT800SHL 是日本电子株式会社（JEOL） 2020 年最新推出的场发射扫描电镜，它秉承 JEOL 热场发射扫描电镜 JSM-7900F 的大束流，高稳定性的传统，同时将分辨率提高到新的极限，全新设计的超级混合型物镜，高分辨率的获得以及磁性样品的观察都可以同时完成，而且标配 JEOL 最新开发的 NEO Engine，使得任何人都可以操作该设备得到高质量的图像，是一款非常适合材料分析研究的设备。 JSM-IT800SHL 场发射扫描电镜主要特点 。超高分辨图像的观察，最大放大倍数 3 百万倍 0.5nm (二次电子,加速电压：15kV) 0.7nm (二次电子,GB 模式，加速电压：1kV) 突出的低压分辨率 。加速电压： 0.01kV~30.0kV, 最低可以到 10V，仍然可以得到高分辨率图像。 。高稳定的大束流强度：日本电子的 JSM-IT800SHL 热场电子枪浸没在聚光镜上半部，发射出的电子束可以全部进入聚光镜，使得分析束流从 15KV 下 10-20nA 提高到 500nA，能谱、波谱等分析效率效果明显改善。与此同时，溅射出的污染明显减少，枪的寿命大幅度延长。分子泵系统：真空系统洁净，抽气速度快，维护简单。 。大束流下保持高分辨率小束流观察时，容易得到小束斑，保证高分辨率。提高束流，束斑尺寸不容易维持，分辨率衰减较快，这也是早期热场电镜无法取得高分辨率的原因。日本电子的 JSM-IT800SHL 在物镜光阑下端多设计了一级磁透镜（最佳光阑角控制透镜 ACL），可以对电子束进行优化，得到大束流下的小束斑。原本 500pA 下就很难获得图像的情况改进到束流 500nA 下依然图像清晰，从根本上解决了大分析束流与高分辨率图像并存的难题。同时给出了一个分析模式下的分辨率保证值，这是其他厂家无法保证的。 。最新开发的超级混合式物镜：应用领域广泛，可以直接做磁性样品，无需任何模式切换 。 NEO Engine：全新开发的 NEO Engine 优化系统，可以简单一键自动聚焦合轴，无需任何操作基础，轻松可以达到高倍下一键聚焦，使得该设备的易用性达到了新的高度。 。五轴马达样品台标准控制：使用极为方便； 。快捷的双换样方式：利用 JSM-IT800SHL 的标准配置气锁加大开门设计，即可装入直径最大为170mm 样品，气锁换样速度快污染小，同时支持侧面大开门换样，这样对于大样品和特种附件的安装就更加方便； 。 新型探测器：Inlens 探头 UHD 探头可以高信噪比的进行二次电子成像。对于表面精细结构更加灵敏，同时适合断口样品分析。 。浸没式热场发射电子枪（专利）：束流稳定性高，电子枪寿命超长，质保期为 3 年。 。最佳光阑角控制透镜（专利）：无须手动切换光阑，束流大小完全由计算机自动控制； 。离子泵的电源支持：停电后最长可以坚持 14 天，电池更换每次只需 200 元左右。 。良好的可操作性：控制界面设计非常友好，使用极为便利； 。稳定的 GB 模式：标准配置。可以有效抑制充电和提高低电压下的分辨率(专利)； 。一体化能谱分析：配合一体化能谱仪（EDS）分析时，可以实时显示图像和成分信息，无需模式切换。 。超长的发射体寿命: 由于采用 In-Lens 技术，我们的束流强度可以达到 500nA，其他厂家只能做到 20nA.我们在做成分分析时，或搭载 EBSD 或 WDS 时，分析速度和结果的精确度远远高于他们。采用了 In-Lens 电子枪技术和完美的气锁换样系统，我们的发射体质保 3 年，用户一般使用在 6 年以上，而其他厂家只能提供质保 1 年的承诺。 。优秀的技术支持和售后服务体系：日本电子株式会社在中国建立独立的维修站已经超过 20 年，拥有经验丰富的技术工程师（包括常驻的外国工程师）60 多人，反应快，技术力量强。 JSM-IT800SHL 场发射扫描电镜系统主要性能参数

2020年5月25日日本电子株式会社全球同步发布新款场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列。 JSM-IT800的场发射扫描电镜通用性强，可广泛应用于纳米材料、金属材料、半导体材料、化学化工、医学及生物学领域，可高效观察包括非导体样品及强磁性样品等。 JSM-IT800SHL分辨率可达0.5nm,成像能力强大。浸没式电子枪可提供500nA大电流，EDS和EBSD分析速度极快。 2024年7月28日日本电子株式会社全球同步发布场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列升级为JSM-IT810系列，升级后的产品实时功能更强（包括实时能谱、实时3D等的），自动化程度更高，操作更加直观简单，上手更加方便。

InTouchScope&trade 热场发射扫描电子显微镜 JSM-IT700HR 发布—一款好用的扫描电镜—日本电子株式会社(代表取締役社長兼COO 大井　泉)宣布：高通量新型扫描电子显微镜JSM-IT700HR于2020年8月3日开始全球销售。【开发背景】扫描电子显微镜广泛应用于纳米技术、金属、半导体、陶瓷、医学和生物学等领域，从基础研究到工厂的品质管理等用途也在不断地扩展。不仅以研究为目的，快速高清晰图像的数据采集和更简便的元素分析的需求也在大大提高。 随着技术的不断创新，观察的样品也越来越小，微小样品的测定已经常态化。 基于此，浸没式热场发射扫描电子显微镜InTouchScope&trade 系列 JSM-IT700HR诞生了。该设备最高分辨率1nm（高分辨）、最大探针电流300nA（是之前的15倍，告诉分析），可提供丰富的观测和分析信息。 触屏式用户界面操作，简单，设计紧凑，代表了现代仪器的使用趋势和发展方向；配备大样品室和更好的防震台，实现了从【能见】-【易见】的转变。 在操作导航GUI里增加了【信号深度显示】功能，实时了解在测样品的分析深度（参考），有效用于元素分析中。该机种有低真空观察型JSM-IT700HR/LV和低真空观察分析型 JSM-IT700HR/LA两种型号。【主要特点】1. 浸没式大束流长寿命热场发射电子枪，可实现高清晰图像观察和高空间分辨率分析2. 光电连用功能（Zeromag），可实现快速的视野搜索3. 实时能谱功能（Live Analysis），实现高效元素分析4. 信号深度显示功能，可实时了解样品的分析深度5. SMILE VIEWTM Lab，易于生成从观察到分析的所有数据报告6. 样品更换导航使样品更换更安全简便7. 电子束自动对中可使电子光学条件维持最佳状态8. 大开门样品室可对应各种形状和大小的样品观察和分析