热离子体仪

BreathSpec呼气分析仪是一款专用于人体呼气分析的仪器，操作简单，坚固耐用，配备循环气体单元（CGFU），只需要一个电源即可运行。仪器将气相色谱（GC）的高分离度与离子迁移谱（IMS）的高灵敏度相结合，无需任何样品前处理即可检测出高潮湿基质（人体呼出气体）中的痕量挥发性有机物，仅需几分钟即可给出检测结果， 检出限可低至ppbv/pptv级别。软件公司开发的强大功能软件可对待测物中痕量挥发性有机物的指纹谱图进行分析，简单易用，直观方便。软件包括LAV软件和定性分析软件。数据直观的LAV软件Laboratoy Analytical Viewer(LAV)用于气相离子迁移谱图数据分析与信息提取，该软件可与Windows系统的数据提取程序相兼容，如将.mea格式转为.csv格式后使用Windows系统进行数据处理。LAV软件与相关“插件”具有两大用途：气相离子迁移谱图中的每组信号峰对应整个样品的顶空成分，LAV软件安装的“Reporter”插件可对参考样品与待测未知样品进行比对，用户一眼便可看出样品间VOCs的差异。“Gallery-plot”插件在比较样品VOCs差异时更为直观，可用来比较不同样品中各顶空成分的有无及信号峰的强度，据此鉴别样品的相似度、真伪等。据此判断正常群体与阳性群体呼气挥发性物的差异准确便捷的定性软件GC×IMS Library Search软件可简单快速的对待测物中未知挥发性有机化合物（VOCs）进行定性。软件内置NIST气相保留指数数据库和G.A.S.迁移时间数据库，二个数据库相结合使得化合物的定性更加准确。GC×IMS Library Edit软件可不断补充和扩展迁移时间数据库，用户可建立自己行业的数据库，以此引导本行业的发展。 GC×IMS数据库用于定性分析仪器的优势 可移动性：内置计算机，可独立运行内置气源重量：20kg灵活性：具有多种采样模式选择性：可更换GC毛细管柱灵敏度：5KV/10cm TOF-IMSLow ppb级别直接取样：仪器配备检测CO2/O2流量的肺活量计，可快速可靠的取样，从而确保设备能够简单快速的生成数据库，并可用于不同疾病的临床研究。 远程取样—呼吸采样：实际呼吸采样只需一次呼气。待测者呼气进入采样器，在后半部分，将5mL呼气取样到普通的注射器中。拉动注射器的活塞可以由待测者自己完成，或者由护士来帮助完成。如果采样失败，可以立即重复。 远程取样—体腔静态顶空采样：从供试者的口腔或鼻腔中采集气体用于口腔或鼻腔疾病的相关诊断。 远程取样—皮肤采样：通过各种小装置，进行皮肤伤口等部位的采样，将其扣到待测位置，拉动注射器活塞进行取样。 产品特点采样方式灵活多变样品无需前处理、采样后即可分析分析速度快，检出限低可配备CGFU循环气体单元、无需载气钢瓶仪器小巧轻便，便携性能好操作简单，便于上手软件功能强大，数据可视直观化应用领域呼气与肺部疾病的研究呼气中VOCs的大数据收集伤口细菌感染类型的确定ICU中毒病人的毒物判断麻醉剂量与人体呼气的关系研究人体皮肤释放的气体检测药物代谢过程的监控

产品概述谱育科技面对食品药品/环境/第三方检测等领域日益增长的检测需求，在“国家重大科学仪器设备开发专项”支持下研制了SUPEC 7000系列电感耦合等离子体质谱仪，攻克了高温气体流场控制、多级梯度真空、高灵敏的离子接口、分布式碰撞反应池、耐温湿变化的四极杆质量分析器等质谱核心技术难点，拥有卓越的灵敏度、更低的检出限、优异的稳定性和更宽的动态线性范围，满足各类样品中痕量元素分析需求。性能优势出色的灵敏度根据热等离子体和真空交界处的空气动力学仿真设计，优化离子接口，提升了ICP-MS的灵敏度3~5 倍，可轻松应对环境、食品、制药、材料等各种常见样品的定量分析。优异的耐基体性能通过流体仿真的离子接口、两次离轴设计、创新的碰撞反应池、强有力的自激式全固态ICP 离子源和氩气在线稀释等关键技术确保 SUPEC 7000 具有较佳的耐基体能力，可轻松应对各类复杂基质样品的分析。创新的可靠性设计，提升稳定性SUPEC 7000 可车载运行，产品经过专门的减震和全固态化设计，通过针对车载路况的综合路谱测试和长达上万公里的实战演练，具有优秀的可靠性。定制化ICP-MS解决特殊应用难题结合石墨消解/微波消解的全自动重金属分析系统（SUPEC 7020型），提供标准化的样品前处理方法和仪器分析方法，针对不同行业样品可定制开发各种专用应用，性能稳定，数据可靠，较大限度消除人为测量不确定性。丰富的附件系统解决特殊应用难题可搭配全自动石墨/微波、全自动离子交换、高效液相色谱、固体直接进样、大气颗粒物在线进样、快速进样、有机进样、自动进样器等丰富的附件系统，满足各个应用场景的分析需求。

产品概述：EXPEC 7200 是谱育科技在“国家重大科学仪器设备开发专项”支持下研制的高灵敏型ICP-MS产品，该设备结合液相色谱联用、气体在线稀释系统、自动快速进样、加氧燃烧、激光剥蚀、大气直接进样、有机进样等专用技术满足各专业应用需求；同时全中文化的Element V专业质谱软件系统配合标准方法库、自动调谐、向导式操作模式以及随时随地可视化状态监控，极大降低质谱软件系统的操作难度，适合于广大实验室的应用需求。产品特点：1）出色的灵敏度根据热等离子体和真空交界处的空气动力学仿真设计，优化离子接口，极大的提升了ICP-MS的灵敏度3~5倍，低至ppt的检出限更适合做高纯材料、高纯试剂的检测。2）优异的耐基体性能通过流体仿真的离子接口、两次离轴设计、专利的碰撞反应池、强有力的自激式全固态ICP离子源和氩气在线稀释等关键技术确保SUPEC 7000 具有极佳的耐基体能力，10%的高盐样品都可以直接进样。3）独特的可靠性设计，提升稳定性产品经过专门的减震和全固态化设计，通过针对车载路况的综合路谱测试和长达上万公里的实战演练，具有优秀的可靠性。

上市时间：2019年10月SPECTROGREEN ICP-OES采用全新研发的DSOI技术，该技术将传统径向系统的灵敏度推高了数倍，非常适合环境及农业等样品的检测，同时适用于消费品安全、药品、石化产品、高盐、金属、化学品和食品等行业。 全新的垂直同步双观测（DSOI）技术，使传统的径向等离子体观测仪器的灵敏度提高了数倍。 • 新推出的GigE读出系统，能够在不到100毫秒的时间内收集、传输光谱及数据，从而加快分析速度，缩短了样品切换的时间，使单位时间内的样品分析数量大大增加。 • 极为灵敏及响应快速的LDMOS发生器，不需要外部冷却：具有分析高重的复杂基体的能力 -- 而无需稀释样品 – 仪器开机速度快（约10分钟）-- 生产率高 • 新的New SPECTRO ICP Analyzer Pro 操作软件采用了简单直观的界面，易于使用 SPECTRO公司新研发的垂直同步双观测DSOI光学系统，为提升ICP-OES的灵密度提供了一种全新解决方案。采用该技术解决了等离子体观测的核心问题。该技术采用全新的视角观测并记录垂直燃烧的等离子体所产生的信号，使用两个光学接口，并用一个增强反射镜来捕获等离子体两侧发出的光，以增加灵敏度，巧妙地解决了困扰垂直炬焰双观测所存在的干扰等诸多问题。因此，DSOI提供的灵敏度是传统径向观测仪器的数倍，同时简单明了地解决了传统垂直双观测所存在的模式复杂、使用成本高等问题。产品简介全新的垂直同步双观测（DSOI）技术，使传统的径向等离子体观测仪器的灵敏度提高了数倍。新推出的GigE读出系统，能够在不到100毫秒的时间内收集、传输光谱及数据，从而加快分析速度，缩短了样品切换的时间，使单位时间内的样品分析数量大大增加。极为灵敏及响应快速的LDMOS发生器，不需要外部冷却：具有分析高重的复杂基体的能力 -- 而无需稀释样品 – 仪器开机速度快（约10分钟）-- 生产率高新的New SPECTRO ICP Analyzer Pro 操作软件采用了简单直观的界面，易于使用 SPECTRO公司新研发的垂直同步双观测DSOI光学系统，为提升ICP-OES的灵密度提供了一种全新解决方案。采用该技术解决了等离子体观测的核心问题。该技术采用全新的视角观测并记录垂直燃烧的等离子体所产生的信号，使用两个光学接口，并用一个增强反射镜来捕获等离子体两侧发出的光，以增加灵敏度，巧妙地解决了困扰垂直炬焰双观测所存在的干扰等诸多问题。因此，DSOI提供的灵敏度是传统径向观测仪器的数倍，同时简单明了地解决了传统垂直双观测所存在的模式复杂、使用成本高等问题。SPECTROGREEN在分析挑战性的高重基体中的痕量元素方面具有显著优势，这类样品包括黑色及有色、石油及化工、污水及废水、土壤及淤泥、高盐和金属等。同时SPECTROGREEN光谱仪是环境、农学、医药、食品、及日用品安全等常规分析的理想选择。 SPECTROGREEN的推出得益于德国斯派克分析仪器公司40年的仪器研发制造及服务经验，集多年电感耦合等离子发射光谱（ICP-OES、ICP-AES及ICP等离子体）技术之大成。SPECTROGREEN ICP-OES光谱仪预制了斯派克公司专有的ICP ANALYZER PRO software软件，简洁直观，易于操作，分析效率高。德国斯派克分析仪器公司生产的其他型号的ICP-OES包括：SPECTRO GENESIS, SPECTROBLUE及 SPECTRO ARCOS

系统配置：■赛默飞IRISIntrepidIIXDL电感耦合等离子体发射光谱仪ICP-OES这台仪器状况良好，已经在SpectraLabScientific进行了测试。所有套件和组件均包含90天保修。仪器实物图：仪器简介：新一代Intrepid全谱直读等离子体发射光谱仪扩展并增强了ThermoElementalIRIS系列业已验证的性能。新的Intrepid拓宽了波长范围，

TI技术带来的高灵敏度，能够实现对痕量元素进行测量，即使在充满挑战性的环境基体也能确保准确度，避免基体干扰。新推出的GigE读出系统，能够在不到100毫秒的时间内收集、传输光谱及数据，从而加快分析速度，缩短了样品切换的时间，使单位时间内的样品分析数量大大增加。灵敏及响应快速的LDMOS发生器，不需要外部冷却：具有分析高重的复杂基体的能力 -- 而无需稀释样品 – 仪器开机速度快（约10分钟）-- 生产率高新的New SPECTRO ICP Analyzer Pro 操作软件采用了简单直观的界面，易于使用 TI技术可自动观测水平和垂直向等离子体，可以观测到整个等离子体的信号，大幅提升了灵敏度、线性动态范围，同时避免了易电离元素 (EIE) 等基体效应。凭借这些特点，SPECTROGREEN TI能避免基体干扰，实现高灵敏度的痕量元素测量，即使在充满挑战性的环境基体也能确保准确度。SPECTROGREEN可提供超可靠的分析性能，广泛适用于诸如：废水, 土壤, 和淤泥及各类水质样品中的痕量元素分析，以及更高浓度元素的分析应用。为常规元素分析应用提供非凡结果，非常适合以下行业的用户群：环境 和 农业消费品安全制药化工食品

使用徕卡 EM RES102，使您的样品具备高水平的灵活性，具有轻薄、清洁、抛光、切割的坡度和结构。独特的离子束研磨系统结合了在一个单工作台面单元上制备TEM、SEM和LM样品的特点。各种样品架可以进行多元化应用。除了高能量的离子铣工艺，徕卡EM RES102也可适于采用低离子能量处理非常柔软的样本。高效并节约成本● TEM，SEM和LM应用功能集于一体● SEM样品制备可达25mm样品直径● TEM样品制备获得的薄区大，有效提高了TEM样品制备效率● 局域网功能方便远程操控安全离子源和样品运动马达驱动，程序化控制，因而可获得重复性制样结果保持样品原生态LN2样品台使得温度敏感型样品可在优化条件下进行离子研磨操作简便● 内置应用参数库 ● 帮助文件帮助初学者以及对设备进行维护

多功能离子减薄仪EM RES102Leica EM RES102 通过离子枪激发获得离子束，以一定入射角度对样品进行轰击，以去除样品表面原子，从而实现对样品的离子束加工。Leica EM RES102主要功能为：对无机薄片样品进行离子减薄，使得薄片样品可被透射电子穿过，从而适宜TEM透射电子显微镜观察；对无机块状样品进行离子束抛光、离子束刻蚀，样品表面离子清洗及斜坡切割，便于SEM扫描电子显微镜观察样品内部结构信息。* 具有2把离子枪，离子束能量为0.8keV-10keV，相对位置，可分别±45°倾斜，样品台倾斜角度-120°至 210°，离子束加工角度0°至90°，样品平面摆动角度360°， 垂直摆动距离±5mm。实际操作参数根据具体应用需要选择（系统备有参考参数，也可自行设置参数并存储）* 可选配样品台：TEM样品台（?3.0mm或?2.3mm），FIB样品清洗台，SEM样品台，斜坡切割样品台（对样品35°或90°斜坡切割）等* SEM样品台可容纳最大样品尺寸：直径25mm，高度12mm* 全无油真空系统，样品室带有预抽室，保证样品交换时间1分钟* 全电脑控制，触摸屏操作界面，内置视频观察系统，可实时观察样品处理过程

Sapphire 是一种基于碰撞/反应池技术的 MC-ICP-MS，含有相互独立的“高能量”离子路径（传统 MC-ICP-MS）和“低能量”离子路径（碰撞/反应池）。该仪器是上述传统同位素系统和非传统同位素系统进行精确的同位素分析的理想解决方案。

系统配置：■赛默飞IRISIntrepidIIXSP电感耦合等离子体发射光谱仪ICP-OES这台仪器状况良好，已经在SpectraLabScientific进行了测试。所有套件和组件均包含90天保修。仪器实物图：仪器简介：一、用途及功能

核心参数光学分辨率全光谱范围0.008nm以下稳定性《1.5%重复性《1.5%检出限ppb级波长范围165-770仪器种类全谱直读创新点上市时间：2019年10月创新点：SPECTROGREENICP-OES采用全新研发的DSOI技术，该技术将传统径向系统的灵敏度推高了数倍，非常适合环境及农业等样品的检测，同时适用于消费品安全、药品、石化产品、高盐、金属、化学品和食品等行业。 全新的垂直同步双观测（DSOI）技术，使传统的径向等离子体观测仪器的灵敏度提高了数倍。 新推出的GigE读出系统，能够在不到100毫秒的时间内收集、传输光谱及数据，从而加快分析速度，缩短了样品切换的时间，使单位时间内的样品分析数量大大增加。 极为灵敏及响应快速的LDMOS发生器，不需要外部冷却：具有分析高重的复杂基体的能力--而无需稀释样品–仪器开机速度快（约10分钟）--生产率高 新的NewSPECTROICPAnalyzerPro操作软件采用了简单直观的界面，易于使用 SPECTRO公司新研发的垂直同步双观测DSOI光学系统，为提升ICP-OES的灵密度提供了一种全新解决方案。采用该技术解决了等离子体观测的核心问题。该技术采用全新的视角观测并记录垂直燃烧的等离子体所产生的信号，使用两个光学接口，并用一个增强反射镜来捕获等离子体两侧发出的光，以增加灵敏度，巧妙地解决了困扰垂直炬焰双观测所存在的干扰等诸多问题。因此，DSOI提供的灵敏度是传统径向观测仪器的数倍，同时简单明了地解决了传统垂直双观测所存在的模式复杂、使用成本高等问题。仪器详情注：该仪器未取得中华人民共和国医疗器械注册证，不可用于临床诊断或治疗等相关用途全新的垂直同步双观测（DSOI）技术，使传统的径向等离子体观测仪器的灵敏度提高了数倍。新推出的GigE读出系统，能够在不到100毫秒的时间内收集、传输光谱及数据，从而加快分析速度，缩短了样品切换的时间，使单位时间内的样品分析数量大大增加。极为灵敏及响应快速的LDMOS发生器，不需要外部冷却：具有分析高重的复杂基体的能力 -- 而无需稀释样品 – 仪器开机速度快（约10分钟）-- 生产率高新的New SPECTRO ICP Analyzer Pro操作软件采用了简单直观的界面，易于使用 SPECTRO公司新研发的垂直同步双观测DSOI光学系统，为提升ICP-OES的灵密度提供了一种全新解决方案。采用该技术解决了等离子体观测的核心问题。该技术采用全新的视角观测并记录垂直燃烧的等离子体所产生的信号，使用两个光学接口，并用一个增强反射镜来捕获等离子体两侧发出的光，以增加灵敏度，巧妙地解决了困扰垂直炬焰双观测所存在的干扰等诸多问题。因此，DSOI提供的灵敏度是传统径向观测仪器的数倍，同时简单明了地解决了传统垂直双观测所存在的模式复杂、使用成本高等问题。SPECTROGREEN在分析挑战性的高重基体中的痕量元素方面具有显著优势，这类样品包括黑色及有色、石油及化工、污水及废水、土壤及淤泥、高盐和金属等。同时SPECTROGREEN光谱仪是环境、农学、医药、食品、及日用品安全等常规分析的理想选择。 SPECTROGREEN的推出得益于德国斯派克分析仪器公司40年的仪器研发制造及服务经验，集多年电感耦合等离子发射光谱（ICP-OES、ICP-AES及ICP等离子体）技术之大成。SPECTROGREEN ICP-OES光谱仪预制了斯派克公司专有的ICP ANALYZER PRO software软件，简洁直观，易于操作，分析效率高。德国斯派克分析仪器公司生产的其他型号的ICP-OES包括：SPECTRO GENESIS, SPECTROBLUE及 SPECTRO ARCOS。点击收起售后服务免费上门安装：是保修期：1年是否可延长保修期：是保内维修承诺：保内免费维修报修承诺：48小时抵达现场免费仪器保养：详谈免费培训：1次现场技术咨询：有

RIE反应离子刻蚀机NRE-3500（M）RIE反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持最大到12"的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。NRE-3500（M）RIE反应离子刻蚀机是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制，该系统具有高度的可重复性。NRE-3500（M）RIE反应离子刻蚀机产品特点：铝质腔体或不锈钢腔体不锈钢立柜能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属典型的硅刻蚀速率，400 ?/min高达12"的阳极氧化铝RF样品台水冷及加热的RF样品台大的自偏压淋浴头气流分布极限真空5x10-7Torr，20分钟内可以达到10-6Torr级别涡轮分子泵最多支持5个MFC无绕曲气体管路自动下游压力控制双刻蚀能力：RIE以及PE刻蚀(可选)终点监测气动升降顶盖手动上下载片基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完全的安全联锁可选ICP离子源以及低温冷却样品台，用于深硅刻蚀NRE-3500（M）RIE反应离子刻蚀机产品型号：NRE-4000：基于PC计算机全自动控制的独立式系统，占地面积26“D x 44"WNRE-3500：基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统，占地面积26“D x 26"WNRE-3000：基于PC计算机全自动控制的台式系统，占地面积26“D x 26"WNRP-4000：RIE/PECVD双系统NDR-4000：深RIE刻蚀(深硅刻蚀)系统

RIE反应离子刻蚀机NRE-3000RIE反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持最大到12"的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。NRE-3000RIE反应离子刻蚀机是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制，该系统具有高度的可重复性。NRE-3000RIE反应离子刻蚀机产品特点：铝质腔体或不锈钢腔体不锈钢立柜能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属典型的硅刻蚀速率，400 ?/min高达12"的阳极氧化铝RF样品台水冷及加热的RF样品台大的自偏压淋浴头气流分布极限真空5x10-7Torr，20分钟内可以达到10-6Torr级别涡轮分子泵最多支持4个MFC无绕曲气体管路自动下游压力控制终点监测气动升降顶盖手动上下载片基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完全的安全联锁可选ICP离子源以及低温冷却样品台，用于深硅刻蚀NRE-3000RIE反应离子刻蚀机产品相关型号：NRE-4000：基于PC计算机全自动控制的独立式系统，占地面积26“D x 44"WNRE-3500：基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统，占地面积26“D x 26"WNRE-3000：基于PC计算机全自动控制的台式系统，占地面积26“D x 26"WNRP-4000：RIE/PECVD双系统NDR-4000：深RIE刻蚀(深硅刻蚀)系统

反应离子刻蚀NRE-4000（A）全自动反应离子刻蚀概述：NRE-4000是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持最大到12”的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。该系统是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制，该系统具有高度的可重复性。NRE-4000（A）全自动反应离子刻蚀产品特点：铝质腔体或不锈钢腔体不锈钢立柜能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属典型的硅刻蚀速率，400 ?/min高达12”的阳极氧化铝RF样品台水冷及加热的RF样品台大自偏压淋浴头气流分布极限真空5x10-7Torr，20分钟内可以达到10-6Torr级别涡轮分子泵最多支持8个MFC无绕曲气体管路自动下游压力控制双刻蚀能力支持：RIE以及PE刻蚀（可选）终点监测气动升降顶盖自动上下载片预真空锁基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完全的安全联锁可选ICP离子源以及低温冷却样品台，用于深硅刻蚀NRE-4000（A）全自动反应离子刻蚀 Features：Aluminum or Stainless Steel ChamberStainless Steel CabinetCapable of etching Si compounds (~400 ? /min)and metalsTypical Si etch rate, 400 ?/minUp to 12“ Anodized RF PlatenWater Cooled and Heated RF PlatenLarge Self BiasShower Head gas distributionApproximately 10-6 Torr 20 minutes, ~ 5 x10-7 Torr base pressureTurbomolecular PumpUp to eight MFCsNo flexing of gas linesDown Stream Pressure ControlDual Etch capability: RIE and Plasma Etch（Option）End Point DetectionPneumatically Lifted TopAutomatic loading/unloadingLoad LockPC Controlled with LabVIEWRecipe Driven, Password Protectedully Safety Interlocked Optional ICP source and cryogenic cooling of the platen for deep Si etch

反应离子刻蚀NRE-4000（M）反应离子刻蚀概述：NRE-4000是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持最大到12”的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。该系统是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制，该系统具有高度的可重复性。NRE-4000（M）反应离子刻蚀产品特点：铝质腔体或不锈钢腔体不锈钢立柜能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属典型的硅刻蚀速率，400 ?/min高达12”的阳极氧化铝RF样品台水冷及加热的RF样品台大自偏压淋浴头气流分布极限真空5x10-7Torr，20分钟内可以达到10-6Torr级别涡轮分子泵最多支持8个MFC无绕曲气体管路自动下游压力控制双刻蚀能力支持：RIE以及PE刻蚀（可选）终点监测气动升降顶盖手动上下载片基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完全的安全联锁可选ICP离子源以及低温冷却样品台，用于深硅刻蚀NRE-4000（M）反应离子刻蚀 Features：Aluminum or Stainless Steel ChamberStainless Steel CabinetCapable of etching Si compounds (~400 ? /min)and metalsTypical Si etch rate, 400 ?/minUp to 12“ Anodized RF PlatenWater Cooled and Heated RF PlatenLarge Self BiasShower Head gas distributionApproximately 10-6 Torr 20 minutes, ~ 5 x10-7 Torr base pressureTurbomolecular PumpUp to eight MFCsNo flexing of gas linesDown Stream Pressure ControlDual Etch capability: RIE and Plasma Etch（Option）End Point DetectionPneumatically Lifted TopManual loading/unloadingPC Controlled with LabVIEWRecipe Driven, Password ProtectedFully Safety Interlocked Optional ICP source and cryogenic cooling of the platen for deep Si etch

热引发阳离子型潜伏性环氧固化剂替代CXC1612产品描述JTN 2025 是热引发型阳离子型潜伏性固化剂，它有较高的热稳定性，体系温度超过JTN2025的临界分解温度后，它能快速的引发环氧化合物、乙烯基醚、内酯、缩醛、环醚等聚合。不会改变环氧树脂的TG，柔韧性，耐候等性能。JTN 2025 热引发苯基缩水甘油醚(CAS:122-60-1)的临界热引发温度是70℃，因此，它有良好的热稳定性。JTN 2025 的结构有较长的烷基链，因此，它有非常好的溶解分散能力，可以用碳酸丙烯酯，丙TONG，乙酸乙酯溶解。非黄变性，干燥时性能稳定，不可燃。建议配方添加量为树脂总量的0.5%-3%。JTN 2025 固化剂广泛用于环氧胶粘剂、电子胶、电磁胶、复合材料碳纤预浸料、粉末涂料、油墨、浇涛等复合材料中。产品特性（测试条件：脂环族环氧树脂2021P + JTN 2025 2%)1.固化剂在80℃以上温度时开始对环氧基开环反应，固化时间大约120 min。2.85℃加热1小时可以固化。3.100℃加热半小时，可以固化。备注：1.如所用树脂是双酚A环氧，反应时间要加长。2. 配成胶水、油漆、油墨成品后，要在零下20℃下存储，可存储半年，室温存储约1-2天。包装规格1公斤/瓶储存及运输固化剂存储期为一年，存放于干燥、通风良好的地方或低温冷藏，避免受潮及重力冲击。热引发阳离子型潜伏性环氧固化剂替代CXC1612

RIE反应离子刻蚀机NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持最大到12"的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制，该系统具有高度的可重复性。NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机产品特点：铝质腔体或不锈钢腔体不锈钢立柜能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属典型的硅刻蚀速率，400 ?/min高达12"的阳极氧化铝RF样品台水冷及加热的RF样品台大的自偏压淋浴头气流分布极限真空5x10-7Torr，20分钟内可以达到10-6Torr级别涡轮分子泵最多支持5个MFC无绕曲气体管路自动下游压力控制双刻蚀能力：RIE以及PE刻蚀(可选)终点监测气动升降顶盖自动上下载片预真空锁基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完全的安全联锁可选ICP离子源以及低温冷却样品台，用于深硅刻蚀NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机产品型号：NRE-4000：基于PC计算机全自动控制的独立式系统，占地面积26“D x 44"WNRE-3500：基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统，占地面积26“D x 26"WNRE-3000：基于PC计算机全自动控制的台式系统，占地面积26“D x 26"WNRP-4000：RIE/PECVD双系统NDR-4000：深RIE刻蚀(深硅刻蚀)系统

BreathSpec呼气分析仪是一款专用于人体呼气分析的仪器，操作简单，坚固耐用，配备循环气体单元（CGFU），只需要一个电源即可运行。仪器将气相色谱（GC）的高分离度与离子迁移谱（IMS）的高灵敏度相结合，无需任何样品前处理即可检测出高潮湿基质（人体呼出气体）中的痕量挥发性有机物，仅需几分钟即可给出检测结果， 检出限可低至ppbv/pptv级别。软件公司开发的强大功能软件可对待测物中痕量挥发性有机物的指纹谱图进行分析，简单易用，直观方便。软件包括LAV软件和定性分析软件。数据直观的LAV软件Laboratoy Analytical Viewer(LAV)用于气相离子迁移谱图数据分析与信息提取，该软件可与Windows系统的数据提取程序相兼容，如将.mea格式转化为.csv格式后使用Windows系统进行数据处理。LAV软件与相关“插件”具有两大用途：气相离子迁移谱图中的每组信号峰对应整个样品的顶空成分，LAV软件安装的“Reporter”插件可对参考样品与待测未知样品进行比对，用户一眼便可看出样品间VOCs的差异。“Gallery-plot”插件在比较样品VOCs差异时更为直观，可用来比较不同样品中各顶空成分的有无及信号峰的强度，据此鉴别样品的相似度、真伪等。据此判断正常群体与阳性群体呼气挥发性物的差异准确便捷的定性软件GC×IMS Library Search软件可简单快速的对待测物中未知挥发性有机化合物（VOCs）进行定性。软件内置NIST气相保留指数数据库和G.A.S.迁移时间数据库，二个数据库相结合使得化合物的定性更加准确。GC×IMS Library Edit软件可不断补充和扩展迁移时间数据库，用户可建立自己行业的数据库，以此引导本行业的发展。 GC×IMS数据库用于定性分析仪器的优势 可移动性：内置计算机，可独立运行内置气源重量：20kg灵活性：具有多种采样模式选择性：可更换GC毛细管柱灵敏度：5KV/10cm TOF-IMSLow ppb级别直接取样：仪器配备一次性吹嘴和保温管，取样快速可靠，从而确保设备能够简单快速的生成数据库，并可用于不同疾病的临床研究。 远程取样—呼吸采样：实际呼吸采样只需一次呼气。待测者呼气进入采样器，在后半部分，将5mL呼气取样到普通的注射器中。拉动注射器的活塞可以由待测者自己完成，或者由护士来帮助完成。如果采样失败，可以立即重复。 远程取样—体腔静态顶空采样：从供试者的口腔或鼻腔中采集气体用于口腔或鼻腔疾病的相关诊断。 远程取样—皮肤采样：通过各种小装置，进行皮肤伤口等部位的采样，将其扣到待测位置，拉动注射器活塞进行取样。 产品特点采样方式灵活多变样品无需前处理、采样后即可分析分析速度快，检出限低可配备CGFU循环气体单元、无需载气钢瓶仪器小巧轻便，便携性能好操作简单，便于上手软件功能强大，数据可视直观化应用领域呼气与肺部疾病的研究呼气中VOCs的大数据收集伤口细菌感染类型的确定ICU中毒病人的毒物判断麻醉剂量与人体呼气的关系研究人体皮肤释放的气体检测药物代谢过程的监控 技术参数工作原理气相色谱-离子迁移谱（GC-IMS）电离源β射线源（氚3H）放射性强度300MBq 低于GB18871-2002《电离辐射防护与辐射源安全基本标准》附录A 豁免中规定的豁免界限漂移电压极性正极和负极，可切换采样方式由精准肺活量计控制直接经吹嘴呼气取样、动态取样或静态取样检测限低于ppbv级别动态范围1-3个数量级显示器6.4”TFT屏幕，VGR显示输入单元旋转脉冲编码器 ESC按键处理器400MHz x-Scale数据采集超速ADIO板数据处理X板/主板数据存储2GB闪存通讯接口RS232/USB/以太网电气连接2个D-Sub 9孔（用于调制解调器和控制器）D-Sub 15孔（用于外部设备）RJ45（用于数字调制解调器或SSH) 2个USB-A电源100-240V AC, 50-60Hz（外部）24V（DC）/5A, XLR连接器（内部）耗电量180W尺寸449×375×177mm（长×宽×高）重量15.5kg外壳19英寸、IP20防护级别、EMC（电磁兼容性）认证冷却系统轴流风扇、根据温度调控风速，最大5.5m3/h气体接头3mm不锈钢Swagelok接头，用于漂流气入口，样品气体进口和出口，载气进口及IMS气体出口

智能便捷的使用体验先进的操作界面提供了从初学者到专家用户的最佳操作模式。并且 SEMPrep2 提供了全自动的预设参数，使得用户可以一键进行几乎无需干预的样品制备。用户也可以无限制地创建、编辑、保存和加载众多参数文件（可与您的合作方共享这些参数文件！）。出厂的软件中可根据您的样品需求包含适配的预设参数。“快速且无损”基于 Technoorg Linda 独家的离子枪技术，SEMPrep2 的两支离子枪提供了市面上最广的能量范围。在超高能量范围中(10 keV 以上)，该系统可达到极高的溅射速率。进行快速高能量研磨之后，专利性的低能离子枪可用来轻柔地清洁样品表面，以获得完全光滑无损的样品表面。样品冷却为了满足所有可能存在的需求，SEMPrep2 提供了两种不同的冷却方式选项：建议对热敏感或冷冻样品进行液氮冷却。使用此选项，可以大大降低样品温度并将其控制在零度以下范围内。 珀耳帖冷却（电制冷）是防止过热的轻柔保护，它有助于将样品保持在室温附近。快速自动的换样过程独特的真空锁和电动样品台设计提供了快速、简便的换样操作，且不需要太多的人为操作。 真空锁可保护工作腔中的真空度，从而为用户节省大量时间和精力。独特的样品台范围为了提供最佳的配置便于使用，SEMPrep2 提供了各种各样的样品台。对于截面抛削，可以使用 30°、45° 和 90° 的预倾角样品台。专业用户和特殊应用可使用精度为 2 μm 的电动样品台。新一代的平面抛光样品台可提供令人印象深刻的研磨面积，其研磨面积即使是工业用户也满足需求。

常压室温等离子体（ARTP）同传统的低气压气体放电等离子体源相比，具有等离子体射流温度低、放电均匀、化学活性粒子浓度高等特点，基于ARTP技术，我公司联合清华大学相关团队共同开发了世界上首台利用等离子体的手段对微生物进行诱变育种的专用仪器—ARTP诱变育种仪（ARTP Mutagenesis Breeding Machine）。该仪器突变率高，并且结构紧凑、操作简便、安全性高、诱变速度快，一次诱变操作（数分钟以内）即可获得大容量突变库，极大地提高了菌种突变的强度和突变库容量；ARTP技术结合高通量筛选技术，可实现对生物快速高效的进化育种。非转基因手段，保证生物的安全性使用范围广，突变性能高专有氦气等离子体诱变技术，能量高，基因损伤强度大操作简便安全，易维护、运行费用低 截止到2022年08月29日，中文文献404篇，英文文献167篇，专利230篇，学位论文165篇，共计966篇。分类技术参数整机功率1000W（MAX）放电技术大气压均匀辉光放电，等离子体射流均匀、稳定工作气体99.999%及以上高纯氦气气量控制范围0~15SLM（标准升/分钟）气量控制精度±1.0% F.S.（满量程）有效处理间距2 mm操作室环境洁净室（百级洁净无菌风）样品处理系统7个样品连续处理和自动收集冷却系统内置制冷系统等离子体射流温度≤37℃工作环境要求温度15~25℃，湿度≤60%应用范围原核生物（如细菌、放线菌等）、真核生物（如霉菌、酵母、藻类、高等真菌等)应用案例案例一：应用ARTP筛选耐高盐环境突变菌株经等离子体处理后，阴沟肠杆菌在含有7.5% NaCl的培养基中培养时出现耐盐突变株，对TPH的降解百分数比出发菌株高2.5倍，而且将突变株培养于LB + 9.0% NaCl条件下时，可快速地将K+积聚于细胞内、将EPS积聚于细胞外。（耐盐阴沟肠杆菌的选育及其在油盐污染土壤修复中的应用[D].花秀夫.清华大学 2009）案例二：细菌领域成果多、效果显著筛选到高产L-亮氨酸的突变株，产量达到18.55 mg/g，比出发菌株提高2.91倍。（Nature Communications，9（2018））案例三：霉菌产色素能力大幅度提升突变菌株产橙、黄色素能力比出发菌株分别提高136%、43%。（核农学报，2016,30（4）：654-661）

主要特点：1.进水水源：城市自来水2.产水：RO水、去离子水3.控制系统：彩色全触屏4.产水量：5-10L/H 60-120L/D5.产水水质：去离子水：13-17.5MΩ&S226 cm@25℃，离子去除率＞99.9%；细菌去除率＞99%；微生物＜1cfu/ml，重金属离子＜0.1ppb，TOC＜10ppb，完全符合GB6682-2008、ASTM、CAP、CLSI、EP和USP制定的I级水质的高标准；应用领域：超纯水系统进水、玻璃器皿清洗、微生物分析、样品稀释和试机制备、生产工艺用水、普通化学和定性分析、水分析及通用HPLC、分光光谱测量、高压蒸汽灭菌器、清洗机、恒温恒湿箱、盐雾试验箱、老化仪、增湿机等一起的供水等。特点与优势：● 以自来水为源水直接生产纯水和超纯水的一体化系统；● 两行液晶显示，三个触摸式按键，一键式操作；● 纯水、超纯水水质双路在线监测；水温在线检测；● 清洗、循环误操作保护；● 漏水及低压预警保护；● 纯水管路、接头均获 NSF 认证；● 采用美国陶氏 DOW 原装进口 RO 膜，确保 RO 膜的长寿命与高品质产水的结合；● 电导率仪电阻池常数：0.01cm-1，温度灵敏度 ±0.1℃，带温度自动补尝功能；● 采用低压 24VDC 为主电源供电，符合安全规范。ABS 工程塑料机箱，水电分离结构，满足潮湿环境使用，不会对人身造成伤害，超低辐射。采用先进的电磁兼容设计，具有抗干扰能力强，噪音小等特点；● 160*80*390mm一体化两柱纯化组模块。全身柱体采用食品级 PP 材质，热熔设备一次注塑成型，无任何粘接剂，无任何杂质析出。内装3L美国陶氏DOW原装进口纯化精密级树脂，出水水质高可达到13-17.5MΩcm。通用技术参数 产品型号GREEN-Q2-5TGREEN-Q2-10T进水要求*城市自来水：TDS＜200ppm,5-45℃，1.0-4.0Kgf/c㎡(进水TDS＞200ppm时，建议选配外置软化器)系统流程**PP+UDF+UDF+PP+RO+DIDI去离子水指标： 电阻率13-17.5MΩcm@25℃重金属离子0.1ppb颗粒物（0.2um）1/mlRO反渗透指标： 离子截留率99%（使用新RO膜时）有机物截留率＞99%（MV＞200道尔顿时）颗粒和细菌截留率＞99%产水量（25℃）***5L/H10L/H瞬间出水量1.5-2.0L/min（需配压力桶）出水口2个：RO反渗透水，DI去离子水尺寸/重量尺寸：（宽 × 深 × 高 ） 315×440×470mm/ 约 18Kg电源/功率/噪音220V50HZ&S194 /&S194 50~80W/50db标准配置主机（含1套纯化柱）+外置12升压力桶+附件包 进水水质将影响纯水的质量和纯化柱的使用寿命PF:预处理 PP：一体化PP棉 UDF: 一体化活性炭 RO:反渗透 DI：离子交换 UV：紫外灯杀菌器 UF：超滤 TF：终端过滤器进水TDS=200ppm,25℃，50psi和15%回收比例下测得

RMEC MIP600/700系列 Plasma AsherMIP600/700采用了日本WINS株式会社自主研发设计的Balanced ICP (Inductively Coupled Plasma) 高速光刻胶剥离机。MIP600/700具备了高产能，高剥离率和高密度的等离子在运行中可能对硅片表面的伤害的控制系统，从而有效的提高了芯片产品的良率。MIP600/700采用简单，灵活，小型，低污染的硅片运转模块，成功的缩小了设备的面积尺寸。简单的设计大幅度的降低了设备生产和在线运作的成本。MIP600/700综合了日本最先进的等离子光刻胶剥离技术，在中国，日本，台湾，韩国广泛应用并得到了客户的一致好评。睿励微电子设备(上海)有限公司携手日本WINS株式会社将此技术引进中国和在国内生产可以进一步降低设备生产成本和客户的在线生产成本。MIP600/700系列主要性能和功能：下游等离子光刻胶剥离技术 Downstream Plasma Asher300毫米硅片 (300mm wafer)可达到硅片后段芯片生产的低温要求可选用双等离子腔体或单等离子腔体 Two or one process chamber selectable高浓度离子注入后除胶High Dose Ion-Implant Strip (HDIS)高产能 High Throughput高稳定性 High reliability 高光刻胶剥离率 High Ashing Rate高光刻胶剥离均匀度 High Uniformity低设备生产成本和硅片在线应用成本 Low manufacturing and running cost

一、产品简介：常压室温等离子体(ARTP)同传统的低压气体放电等离子体源相比，具有等离子体射流温度低、放电均匀、化学活性粒子浓度高等特点，基于ARTP技术，我公司联合清华大学相关团队共同开发了世界上首台利用等离子体的手段对微生物进行诱变育种的专用仪器—ARTP诱变育种仪(ARTP　Mutagenesis Breeding Machine)。该仪器突变率高，并且结构紧凑、操作简便、安全性高、诱变速度快，一次诱变操作（数分钟以内）即可获得大容量突变库，极大地提高了菌种突变的强度和突变库容量；ARTP技术结合高通量筛选技术，可实现对生物快速高效的进化育种。二、应用领域原核生物（如细菌、放线菌等）、真核生物（如霉菌、酵母、藻类、高等真菌等）及植物细胞。 截止到2022年10月21日，中文文献411篇，英文文献169篇，专利269篇，学位论文176篇，共计1025篇。三、产品参数分类技术参数整机功率300W（MAX）放电技术大气压均匀辉光放电，等离子体射流均匀、稳定工作气体99.999%及以上高纯氦气气量控制范围0~15SLM（标准升/分钟）气量控制精度±1.0% F.S.（满量程）有效处理间距2 mm样品处理系统单样品处理冷却系统外接制冷系统等离子体射流温度≤37℃四、应用案例案例一：放线菌抗生素产量显著提高突变率、正突变率分别为30%、21%，获得一株阿维菌素B1a产量提高23%。（常压室温等离子体对微生物的作用机理及其应用基础研究[D].王立言.清华大学 2009）等离子体诱变前后阿维链霉菌的形态变化（注：W为野生菌株；G1-8为典型突变菌株）案例二：藻类正突变率高、突变库表型丰富总突变率和正突变率在特异增长率上分别达到45%和25%，并且突变库中表型丰富。（PLOS ONE，2013,8（10）：1-12）案例三：应用ARTP诱变大肠杆菌，提高苏氨酸产量获得一株苏氨酸高产菌株，摇瓶产酸达到50.6 g/L，与出发菌相比，提高了99.6%，经50次传代，遗传性稳定。（现代食品科技，2013，29(8)：1888-1892） a1 a2出发菌株与1905#突变菌的菌体形态

RIE反应离子刻蚀机NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持最大到12"的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制，该系统具有高度的可重复性。NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机产品特点：铝质腔体或不锈钢腔体不锈钢立柜能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属典型的硅刻蚀速率，400 ?/min高达12"的阳极氧化铝RF样品台水冷及加热的RF样品台大的自偏压淋浴头气流分布极限真空5x10-7Torr，20分钟内可以达到10-6Torr级别涡轮分子泵最多支持5个MFC无绕曲气体管路自动下游压力控制双刻蚀能力：RIE以及PE刻蚀(可选)终点监测气动升降顶盖自动上下载片预真空锁基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动，4级密码访问保护完全的安全联锁可选ICP离子源以及低温冷却样品台，用于深硅刻蚀

【产品简介】阴离子洗涤剂快检工具箱RE0037 未清洗干净餐具上残留的洗涤剂与检测试剂发生反应，形成蓝色络合物，从而检测出餐具是否清洗干净。 阴离子洗涤剂快检工具箱RE0037配置清单如下：【试剂用途】检测餐具洁净度 【适用范围】各种餐饮具 【储存及有效期】1.4-30°C密封避光保存；2.本产品有效期为12个月；3.生产日期、有效期及批号见外包装。 阴离子洗涤剂快检工具箱RE0037 注意事项1.本方法用于现场快速测定，对测定结果不符合国家标准规定值或标签标示值的样品应重复测定三次，对于阳性样品建议送样品至实验室或法定检测机构做精确定量。2.如需检测的控制点有肉眼可见的污垢，没有必要浪费试剂去检测洁净度。3.检测管需要用新的离心管。4.达到规定的显色时间后，请及时吸出下层液体与色卡进行比对，否则会导致结果判断不准确。5.实验过程中请做好安全防护措施，佩戴一次性手套和口罩，谨防实验试剂直接接触皮肤。6.检测液B，易挥发，使完后及时盖紧盖子

等离子体监控系统PlasCalc 等离子体监测控制仪，实现200nm-1100nm波段内的等离子体测量，通过高级过程控制系统及精密数据存取算法，只需3ms就可以获得测量结果。特点 1、光学分辨率1.0nm(FWHM)2、光谱范围 200-1100nm3、快速的建模及存储实验方法Recipe编辑器Recipe编辑器有助于简单快捷的配置、构建及存储实验方法。对一些困难的等离子体工序诸如膜沉积测量、等离子体蚀刻监测、表面洁度监测、等离子体室控制及异常污染、排放监测等，能够快速简单的构建模块过程控制。多种工具用于等离子体诊断随PlasCalc配置的操作软件，集成的程式编辑器能够容易实现多种数学算法功能。可选的波长发生器（可以单独购买）用于类型确认，而波长编辑器可以用于优化信噪比。双窗口界面用于显示实际光谱及所有过程控制信息。PlasCalc 配置说明光谱范围:200-1100 nm光学分辨率:1.0 nm (FWHM)D/A 转换:14 bit数字I/O:8 x TTL模拟输出:4 x [0-10V]接口:USB 1.1功耗:12 VDC @ 1.25 A

一体化负氧离子监测站的用途其实有很多，它不但可以监测负氧离子浓度，还可以监测大气温度、大气湿度、风速、风力、气压等多种参数，也可以根据用户的需求或者环境的需要进行定制参数监测。一、产品简介一体化负氧离子监测站可全天候监测空气中负氧离子浓度，同时可根据用户需求扩展监测项目，如：空气温度、空气湿度、PM2.5、PM10、大气压力、氧含量、噪声、风速、风向等气象要素。传感器一体化设计，无机械位移，精度高、使用寿命长一体化负氧离子监测站现场可通过全彩液晶屏读取数据，亦可远程云平台/WEB/微信公众号实时查看数据一体化负氧离子监测站现场用户可自定义添加歌曲，亦可超标语音播报二、应用范围旅游景区、生态庄园、湿地公园、瀑布公园、森林公园、自然保护区、售楼处、学校三、技术参数1、风速：测量原理超声波，0～60m/s（±0.1m/s）分辨率0.01m/s；2、风向：测量原理超声波，0～360°（±2°）分辨率1°；3、空气温度：测量原理二极管结电压法，-40-60℃（±0.3℃）分辨率0.01°4、空气湿度：测量原理电容式，0-100%RH（±0.3%RH）分辨率0.1%RH；5、大气压力：测量原理压阻式，300-1100hpa（±0.25%），分辨率0.1hpa；6、PM2.5：测量原理光散射，0-1000ug/m3（±10%）分辨率1ug/m37、PM10：测量原理光散射，0-1000ug/m3（±10%）分辨率1ug/m38、噪声：测量原理电容式，30-120dB（±1.5dB）分辨率0.1db9、负氧离子：测量原理圆筒式电极吸入式，0-10万个/cm³ （±10%）分辨率1个/cm³ 10、氧含量：测量原理电化学，0～100%uol（±3%uol）分辨率0.1%11、屏幕：分辨率1920(RGB)×1080(FHD)，工作频率120Hz，亮度1500-2500 cd/m212、立杆：碳钢双立柱，可耐受15级强台风13、工作环境：温度-40℃-60℃，湿度0%-100%17、数据存储：可存储一年的原始监测数据18、数据传输：4G/光纤19、供电方式：220V市电20、功耗：500w四、产品特点1、整机采用高集成模组化设计，标准化电器设计，工作状态一目了然，可实现快速维护2、防水：主体结构采用2-3mm碳钢，配合复合密封胶条，实现多角度防水3、防尘：设备底部配备过滤装置，可过滤5μm以上尘埃粒子，同时过滤棉可从外部快速更换，无需专业人员操作4、防雷、防漏电：内有防雷装置及漏电保护器，保护机器及周围人身安全5、采用高透、耐高温高强度钢化玻璃，防火、防划、防爆6、喇叭：户外大功率防水扬声器，双声道设计，声音清晰立体7、内置感光探头，可有效识别光照变化，自动调节屏幕亮度8、显示屏采用LED背光源，寿命达到50000小时，环保节能动态对比度高，显示画面更清晰9、散热系统采用工业级涡流离心风扇，风量大、转速高、噪声小，内置感温探头传感设备，有效识别内部温度变化，同时可根据现场环境调节响应温度及响应速度，实现低能耗精确控温

产品信息将光谱学与QCM-D相结合。同时使用纳米等离子体光谱技术（NPS）和耗散监测型石英晶体微天平技术（QCM-D）进行实时测量。 主要特征a、同时获得相同表面上相同样品的干质量（折射率RI）、湿质量（声学）和黏弹性的实时变化。b、使用Insplorion的纳米等离子体光谱技术（NPS）和Q-Sense的耗散监测型石英晶体微天平技术（QCM-D）在完全相同的实验条件下同时测量。c、非常容易使用当配备Q-Sense窗口模块时，Insplorion Acoulyte直接安装在Q-sense Explorer（E1）和Analyzer（E4）仪器上。Insplorion Acoulyte传感器是具有NPS结构的Q-Sensor。技术指标传感器 尺寸直径 14 mm 衬底 SiO2涂层的QCM-D传感器 表面 纳米结构金 标准涂层 Si3N4, SiO2, Al2O3, TiO2 测量特征 光源 卤钨灯 灵敏度* 0.03单分子层 测量点直径 3 mm 时间分辨率 每秒10个采样点 典型噪音 0.01 nm 波长范围 450-1000 nmQCM-D的测量不受Acoulyte的影响。 尺寸(宽度x深度x高度) Acoulyte模块 8x5x3 cm Insplorion光学单元 25x27x9 cm 软件 兼容软件 Insplorer 操作系统 兼容Microsoft Windows操作系统 数据输出格式 ASCII码文本文件格式，直接使用的任何绘图软件都兼容此格式 分析的参数 分析的参数多参数输出(比如：LSPR峰处的共振波长和消光)应用领域NPS和QCM-D的互补性测量 感应深度 NPS干质量 30 nmQCM-D湿质量 300 nmAcoulyte干质量和湿质量深度分析InsplorionNPS技术在纳米等离子体光谱技术（NPS）中，纳米结构传感器的局域表面等离激元共振技术（LSPR）用于探测邻近传感器表面（30 nm）的折射率（与光/干质量有关）的微小变化。它能够极其灵敏地检测发生在传感器/样品界面处的变化过程。分子解吸附（吸附） 时间和深度分辨测量厚膜（~1 mm）的分子解吸附（吸附）。Acoulyte也可以辨别溶胀和吸附/解吸附事件。检测到什么？ NPS 邻近表面（30 nm）的折射率变化QCM-D 整个膜的质量变化。 脂质双层膜 Acoulyte能够更详细地阐释表面薄膜的形成过程。检测到什么？ NPS 囊泡吸附时折射率增大囊泡坍塌时折射率增大QCM-D 囊泡吸附时质量增大囊泡坍塌时质量减小气体吸附/解吸附 通过QCM-D技术和NPS技术的联用，就可以实现深度分析以及研究表面支撑膜内的扩散时间和机制。检测到什么？ NPS传感器/样品界面的折射率变化。QCM-D 整个膜和膜的顶部的质量变化。

多功能TEM样品杆清洁仪等离子体表面处理仪(SEM及TEM样品/样品杆清洁专用等离子清洁仪)PIE Scientific专注研发先进的实验室用等离子仪器，用于SEM/TEM样品清洁、光刻胶蚀刻、等离子体增强沉积、表面处理与活化。我们的宗旨是：将半导体和核工程研究中开发的等离子技术集成到经济实用的实验室用等离子仪器。专为去除SEM & TEM样品的碳氢污染而设计。特有的双清洗模式（immersion和downstream）能够处理各种不同的样品，从严重污染的电子光学孔径光阑到各种脆弱易损样品，如石墨烯、碳纳米管、类金刚石碳膜以及多孔碳支持膜铜网上的TEM样品。石英样品托板上的孔洞可以安装标准SEM样品托。特别设计的适配器可以清洁不同厂家的TEM样品杆。 可用于煤的灰化。特点：1. 系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化2. 13.56MHz高频射频发生器3. 7英寸触摸屏控制界面，全自动操作4. 标配75W版本，可选150W版本5. 标配2路气体输入，可选第三路气体输入6. 可选与FEI、JEOL、HITACHI等TEM样品杆配套的专用适配器7. AC输入：通用(110~230V, 50/60Hz)除了多功能TEM样品杆清洁仪等离子体表面处理仪之外，PIE还提供Tergeo、Tergeo Plus、Tergeo Pro等一系列台式等离子清洁刻蚀灰化仪。

一体化负氧离子监测站 TH-FZ5是一种安装方便快捷、操作简单高效的负氧离子监测设备。它能够二十四小时自动监测空气中负氧离子浓度，同时也可根据用户需求监测其他数据，如：空气的温度和湿度、PM2.5、PM10、风速、风向、大气压力、噪声等气象要素。一、产品简介在线负氧离子浓度监测站 高智能一体化负氧离子监测站可全天候监测空气中负氧离子浓度，同时可根据用户需求扩展监测项目，如：空气温度、空气湿度、PM2.5、PM10、大气压力、氧含量、噪声、风速、风向等气象要素。传感器一体化设计，无机械位移，精度高、使用寿命长现场可通过全彩液晶屏读取数据，亦可远程云平台/WEB/微信公众号实时查看数据在线负氧离子浓度监测站现场用户可自定义添加歌曲，亦可超标语音播报二、应用范围旅游景区、生态庄园、湿地公园、瀑布公园、森林公园、自然保护区、售楼处、学校三、产品特点1、整机采用高集成模组化设计，标准化电器设计，工作状态一目了然，可实现快速维护2、防水：主体结构采用2-3mm碳钢，配合复合密封胶条，实现多角度防水3、防尘：设备底部配备过滤装置，可过滤5μm以上尘埃粒子，同时过滤棉可从外部快速更换，无需专业人员操作4、防雷、防漏电：内有防雷装置及漏电保护器，保护机器及周围人身安全5、采用高透、耐高温高强度钢化玻璃，防火、防划、防爆6、喇叭：户外大功率防水扬声器，双声道设计，声音清晰立体7、内置感光探头，可有效识别光照变化，自动调节屏幕亮度8、显示屏采用LED背光源，寿命达到50000小时，环保节能动态对比度高，显示画面更清晰9、散热系统采用工业级涡流离心风扇，风量大、转速高、噪声小，内置感温探头传感设备，有效识别内部温度变化，同时可根据现场环境调节响应温度及响应速度，实现低能耗精确控温10、内置时控开关，可设置预定开启和关闭时间11、全彩显示界面，设备开机自动进入气象监测平台（显示画面支持有限定制）12、可选配摄像头，显示界面可同步摄像头画面13、一体化传感器，传感器一体化集成，安装方便，维护简单四、技术参数1、风速：测量原理超声波，0～60m/s（±0.1m/s）分辨率0.01m/s；2、风向：测量原理超声波，0～360°（±2°）分辨率1°；3、空气温度：测量原理二极管结电压法，-40-60℃（±0.3℃）分辨率0.01°；4、空气湿度：测量原理电容式，0-100%RH（±0.3%RH）分辨率0.1%RH；5、大气压力：测量原理压阻式，300-1100hpa（±0.25%），分辨率0.1hpa；6、PM2.5：测量原理光散射，0-1000ug/m3（±10%）分辨率1ug/m37、PM10：测量原理光散射，0-1000ug/m3（±10%）分辨率1ug/m38、噪声：测量原理电容式，30-120dB（±1.5dB）分辨率0.1db9、负氧离子：测量原理圆筒式电极吸入式，0-10万个/cm³ （±10%）分辨率1个/cm³ 10、氧含量：测量原理电化学，0～100%uol（±3%uol）分辨率0.1%11、屏幕：分辨率1920(RGB)×1080(FHD)，工作频率120Hz，亮度1500-2500 cd/m212、立杆：碳钢双立柱，可耐受15级强台风13、工作环境：温度-40℃-60℃，湿度0%-100%17、数据存储：可存储一年的原始监测数据18、数据传输：4G/光纤19、供电方式：220V市电20、功耗：500w五、产品结构图六、产品尺寸图